TWI747599B - 交換機台及測試系統 - Google Patents

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TWI747599B
TWI747599B TW109138876A TW109138876A TWI747599B TW I747599 B TWI747599 B TW I747599B TW 109138876 A TW109138876 A TW 109138876A TW 109138876 A TW109138876 A TW 109138876A TW I747599 B TWI747599 B TW I747599B
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Inventor
陳泳任
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健鼎科技股份有限公司
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Abstract

本發明揭露一種交換機台及測試系統。交換機台包含基座、處理裝置、旋轉機構、旋轉支架、兩個夾持裝置及連接機構。旋轉機構設置於基座,旋轉支架與旋轉機構相連接,兩個夾持裝置設置於旋轉支架的兩端。連接機構與旋轉支架相連接,連接機構包含兩個輔助夾持裝置。兩個夾持裝置與兩個輔助夾持裝置能共同夾持多個料管組件及金屬載台。處理裝置能控制旋轉機構作動,而使旋轉支架旋轉,據以使位於多個料管組件中的多個晶片移動至金屬載台中。

Description

交換機台及測試系統
本發明涉及一種交換機台及測試系統,特別是一種用以使位於多個料管組件中的晶片移動金屬載台中,以待測試機台對晶片進行測試的交換機台及測試系統。
常見的各式晶片,在出廠前必須通過各種檢測。一般來說,晶片在運送過程中是設置於料管組件中。在現有的技術中,相關人員必須利用人工的方式,將裝在料管組件中的晶片,移動至金屬載台中,而後再使承載有多個晶片的金屬載台放入相關的測試機台中進行測試。利用人工的手動取出晶片,並將晶片設置於金屬載台的方式,不但費時、費工且容易造成晶片的損傷。
本發明公開一種交換機台及測試系統,主要用以改善習知利用人工手動的方式將晶片由料管組件中取出後,再將晶片設置於金屬載台中的流程,所帶來的費時、費工等問題。
本發明的其中一實施例公開一種交換機台,其用以使設置於多個料管組件中的多個晶片,移動至一金屬載台的多個承載通道中,交換機台包含:一基座;一處理裝置;一旋轉機構,其固定設置於基座,處理裝置電性連接旋轉機構;一旋轉支架,其與旋轉機構相連接,處理裝置能控制旋轉機構作動,以使旋轉支架相對於基座旋轉一預定角度;兩個夾持裝置,其固定設置於旋轉支架的兩端;各個夾持裝置包含一前後移動模組、一夾持模組及兩個夾具,前後移動模組與旋轉支架相連接,夾持模組與前 後移動模組相連接,前後移動模組能受處理裝置控制而使夾持模組向前或向後移動,兩個夾具與夾持模組相連接,夾持模組能受處理裝置控制,而使兩個夾具向彼此相互靠近或相互遠離的方向移動,據以夾持或不再夾持多個料管組件或金屬載台;其中,處理裝置能控制前後移動模組作動,以使兩個夾具推抵多個料管組件的一端;一連接機構,其固定設置於旋轉支架的中間位置;連接機構包含兩個輔助夾持裝置及一轉接載台,轉接載台包含多個轉接通道;其中一個輔助夾持裝置與其中一個夾持裝置能受處理裝置控制,而共同固持金屬載台時,轉接載台的多個轉接通道與金屬載台的多個承載通道相互連通;另一個輔助夾持裝置及另一個夾持裝置能受處理裝置控制,而共同固持多個料管組件;其中,當多個料管組件及金屬載台被兩個夾持裝置及兩個輔助夾持裝置固持時,處理裝置能控制旋轉機構作動,而使旋轉支架相對於基座旋轉,以使位於各個料管組件中的晶片通過多個轉接通道,進入多個承載通道。
本發明的其中一實施例公開一種測試系統,其用以對多個料管組件所承載的多個晶片進行一測試,各個料管組件包含一料管本體及兩個塞體,料管本體為中空結構,而料管本體內能容置多個晶片,兩個塞體設置於料管本體的兩端,測試系統包含:一拔塞機台及一交換機台,拔塞機台用以將各個料管組件的至少一個塞體拔離料管本體;一測試機台,其鄰近於交換機台設置,測試機台用以對設置於各個金屬載台中的多個晶片進行測試。交換機台包含:一基座;一處理裝置;一旋轉機構,其固定設置於基座,處理裝置電性連接旋轉機構;一旋轉支架,其與旋轉機構相連接,處理裝置能控制旋轉機構作動,以使旋轉支架相對於基座旋轉一預定角度;兩個夾持裝置,其固定設置於旋轉支架的兩端;一連接機構,其固定設置於旋轉支架的中間位置;連接機構包含兩個輔助夾持裝置及一轉接載台,轉接載台包含多個轉接通道;其中一個輔助夾持裝置與其中一個夾持裝置能受處理裝置控 制,而共同固持金屬載台時,轉接載台的多個轉接通道與金屬載台的多個承載通道相互連通;另一個輔助夾持裝置及另一個夾持裝置能受處理裝置控制,而共同固持多個料管組件;其中,當多個料管組件及金屬載台被兩個夾持裝置及兩個輔助夾持裝置固持時,處理裝置能控制旋轉機構作動,而使旋轉支架相對於基座旋轉,以使位於各個料管組件中的晶片通過多個轉接通道,進入多個承載通道。
綜上所述,本發明的交換機台及測試系統,可以自動化地使位於多個料管組件中的多個晶片移動至金屬載台,且也可自動化地使位於金屬載台中的多個晶片移動至料管組件中,而本發明的交換機台及測試系統相較於習知利用人工手動的方式,可以大幅地節省時間及人力。
為能更進一步瞭解本發明的特徵及技術內容,請參閱以下有關本發明的詳細說明與附圖,但是此等說明與附圖僅用來說明本發明,而非對本發明的保護範圍作任何的限制。
100:測試系統
1:交換機台
A:基座
B:處理裝置
C:旋轉機構
D:旋轉支架
D1:定位孔
E:第一夾持裝置
E1:承載結構
E11:穿孔
E2:前後移動模組
E21:驅動器
E22:移動件
E3:夾持模組
E31:滑軌
E32:滑塊
E4:夾具
F:第二夾持裝置
G:連接機構
G1:第一輔助夾持裝置
G11:夾持模組
G12:夾具
G121:穿孔
G2:第二輔助夾持裝置
G3:轉接載台
G31:轉接通道
G32:限位結構
G4:承載結構
G5:連接構件
G51:晶片通道
G52:限位結構
G53:限位通道
H:金屬載台
H1:本體
H2:承載通道
H3:限位結構
K:轉動限制裝置
K1:驅動器
K2:鎖固組件
K21:桿體
M:料管限位裝置
M1:驅動器
M2:桿體
N1:載台限位裝置
N11:驅動器
N12:桿體
P:偵測裝置
2:料管組件
21:料管本體
211:開口
22:塞體
3:晶片
4:拔塞機台
5:測試機台
L:方向
圖1 為本發明的交換機台的示意圖。
圖2 為料管組件及晶片的分解示意圖。
圖3 為本發明的交換機台的金屬載台的示意圖。
圖4 為本發明的交換機台的側面示意圖。
圖5 為本發明的交換機台的旋轉架體旋轉後的側面示意圖。
圖6 為本發明的交換機台的其中一個夾持裝置的示意圖。
圖7 為本發明的交換機台的其中一個夾持裝置夾持多個料管本體的示意圖。
圖8 為本發明的交換機台的連接機構的局部示意圖。
圖9 為本發明的交換機台的連接機構的第一輔助夾持裝置夾持多個料管組件的示意圖。
圖10 為本發明的交換機台的連接機構的轉接載台、承載結構及連接構件的示意圖。
圖11 為本發明的交換機台的連接機構的連接構件與多個料管組件相互卡合的示意圖。
圖12 為本發明的交換機台的連接機構的局部示意圖。
圖13 為本發明的交換機台的連接機構的第二輔助夾持裝置夾持金屬載台的示意圖。
圖14 為本發明的交換機台的第二夾持裝置的示意圖。
圖15 為本發明的測試系統的示意圖。
於以下說明中,如有指出請參閱特定圖式或是如特定圖式所示,其僅是用以強調於後續說明中,所述及的相關內容大部份出現於該特定圖式中,但不限制該後續說明中僅可參考所述特定圖式。
請參閱圖1至圖5,圖1顯示為本發明的交換機台1的示意圖,圖2顯示為料管組件及晶片的分解示意圖,圖3顯示為本發明的交換機台的金屬載台的示意圖,圖4顯示為本發明的交換機台1的側面示意圖,圖5顯示為本發明的交換機台的旋轉架體旋轉後的側面示意圖。如圖1至圖3所示,本發明的交換機台1包含:一基座A、一處理裝置B、一旋轉機構C、一旋轉支架D、兩個夾持裝置及一連接機構G。交換機台1是用來固持多個料管組件2及金屬載台H,並使多個料管組件2中所承載的多個晶片3,移動至金屬載台H中。
如圖2所示,各個料管組件2包含一料管本體21及兩個塞體22,料管本體21為中空結構,料管本體21內用以設置多個晶片3,料管本體21的兩端形成有兩個開口211,兩個塞體22卡合於兩個開口211。如圖3所示,金屬載台H包含一本體H1、多個承載通道H2及多個限位結構H3,本體H1為 金屬材質(例如可以是各式高導熱金屬材質,如銅、鋁等)製成,多個承載通道H2形成於本體H1,且多個承載通道H2彼此間隔地並排形成於本體H1。各個承載通道H2用以承載多個晶片3。多個限位結構H3形成於本體H1,且各個限位結構H3鄰近於各個承載通道H2設置。設置於各個承載通道H2中的多個晶片3,將被相鄰的兩個限位結構H3限制,而無法由各個承載通道H2的正上方的方向L離開本體H1。
如圖1、圖4及圖5所示,基座A用以固定設置於廠房中,基座A主要是用來作為支撐旋轉機構C、旋轉支架D、兩個夾持裝置及連接機構G的結構。處理裝置B可以是設置於基座A,但不以此為限。處理裝置B例如可以是各式電腦、伺服器、微處理器等。
旋轉機構C設置於基座A,旋轉機構C電性連接處理裝置B。旋轉支架D與旋轉機構C相連接。處理裝置B能控制旋轉機構C作動,而使旋轉支架D相對於基座A旋轉一預定角度。在實際應用中,處理裝置B可以是能控制旋轉機構C向逆時針旋轉預定角度且亦能控制旋轉機構C順時針旋轉預定角度;或者,處理裝置B可以是僅能控制旋轉機構C向單一方向旋轉預定角度。旋轉機構C例如可以是包含有馬達等電子零組件,以用來帶動旋轉機構C相對於基座A旋轉。
兩個夾持裝置分別定義為一第一夾持裝置E及一第二夾持裝置F。第一夾持裝置E及第二夾持裝置F可以是完全相同的裝置,但不以此為限。第一夾持裝置E及第二夾持裝置F固定設置於旋轉支架D的兩端。當旋轉支架D相對於基座A旋轉時,第一夾持裝置E及第二夾持裝置F將隨著旋轉支架D一同相對於基座A旋轉。第一夾持裝置E及第二夾持裝置F分別電性連接處理裝置B,處理裝置B能控制第一夾持裝置E,而使其夾持或不再夾持多個料管組件2的一端;處理裝置B能控制第二夾持裝置F,而使其夾持或不再夾持金屬載台H的一端。
連接機構G固定設置於旋轉支架D的中間位置,而連接機構G是位於第一夾持裝置E及第二夾持裝置F之間。當旋轉支架D相對於基座A旋轉時,連接機構G將隨著旋轉支架D一同相對於基座A旋轉。連接機構G包含兩個輔助夾持裝置及一轉接載台G3。兩個輔助夾持裝置分別定義為一第一輔助夾持裝置G1及一第二輔助夾持裝置G2。第一輔助夾持裝置G1及第二輔助夾持裝置G2可以是大致相同的裝置。第一輔助夾持裝置G1面對第一夾持裝置E設置,第二輔助夾持裝置G2面對第二夾持裝置F設置。轉接載台G3位於第一輔助夾持裝置G1及第二輔助夾持裝置G2之間。第一輔助夾持裝置G1及第二輔助夾持裝置G2分別電性連接處理裝置B,處理裝置B能控制第一輔助夾持裝置G1,而使其夾持多個料管組件2的一端;處理裝置B能控制第二輔助夾持裝置G2,而使其夾持金屬載台H的一端。
依上所述,處理裝置B能控制第一夾持裝置E及第一輔助夾持裝置G1一同或是先後作動,而使其共同固持多個料管組件2;處理裝置B還能控制第二夾持裝置F及第二輔助夾持裝置G2一同或是先後作動,而使其共同固持金屬載台H。
如圖5所示,處理裝置B控制第一夾持裝置E、第一輔助夾持裝置G1、第二夾持裝置F及第二輔助夾持裝置G2共同夾持多個料管本體21及金屬載台H後,處理裝置B可以接著控制旋轉機構C作動,以使旋轉支架D相對於基座A旋轉,從而使多個料管本體21及金屬載台H能相對於基座A呈現為傾斜狀態,藉此,位於各個料管本體21中的多個晶片3,將在通過轉接載台G3後進入金屬載台H。於此所指的預定角度是大於25度,但不以此為限,較佳地,可以是30~35度。當然,在不同的實施例中,處理裝置B也可以是控制旋轉機構C向相反於圖5中所示的方向旋轉,而使多個晶片3由金屬載台H移動至多個料管本體21中。
請一併參閱圖6及圖7,圖6顯示為第一夾持裝置的示意圖,圖7顯示為第一夾持裝置夾持多個料管組件的示意圖。第一夾持裝置E可以包含一承載結構E1、一前後移動模組E2、一夾持模組E3及兩個夾具E4。承載結構E1與旋轉支架D相連接,承載結構E1用來承載多個料管組件2。
夾持模組E3與前後移動模組E2相連接。前後移動模組E2能受處理裝置B(如圖1所示)控制,而使夾持模組E3向前或向後移動。具體來說,前後移動模組E2可以是包含一驅動器E21及一移動件E22,驅動器E21固定於旋轉支架D,移動件E22與驅動器E21相連接,驅動器E21能受處理裝置B控制,而使移動件E22向靠近第一輔助夾持裝置G1(如圖1所示)的方向移動或向遠離第一輔助夾持裝置G1(如圖1所示)的方向移動。在實際應用中,驅動器E21例如可以是各式油壓缸、氣壓缸等,但不以此為限;在不同的實施例中,前後移動模組E2也可以是利用滑軌及滑塊,來使夾持模組E3向前或向後移動。
兩個夾具E4與夾持模組E3相連接,夾持模組E3能受處理裝置B控制,而使兩個夾具E4向彼此相互靠近或相互遠離的方向移動,以夾持或不再夾持多個料管組件2的一端。夾持模組E3例如可以是包含一滑軌E31及兩個滑塊E32,各個滑塊E32與其中一個夾具E4相連接,處理裝置B能控制兩個滑塊E32於滑軌E31上向彼此相互靠近或遠離的方向移動。
如圖1及圖6所示,交換機台1還可以包含兩個轉動限制裝置K。各個轉動限制裝置K固定設置於基座A,且兩個轉動限制裝置K鄰近於旋轉支架D的兩端設置。各個轉動限制裝置K可以包含一驅動器K1及一鎖固組件K2。驅動器K1電性連接處理裝置B,鎖固組件K2與驅動器K1相連接,處理裝置B能控制驅動器K1作動,而使鎖固組件K2與相鄰的旋轉支架D相互連接或不再相互連接。當鎖固組件K2與旋轉支架D相互連接時,旋轉支架D將無法相對於基座A旋轉。舉例來說,各個轉動限制裝置K的鎖固組件K2可以 包含一桿體K21,驅動器K1能帶動桿體K21作動,以使桿體K21的一部分伸入旋轉支架D的一定位孔D1,或使桿體K21的一部分由定位孔D1中縮回。當桿體K21的一部分伸入旋轉支架D的定位孔D1時,旋轉支架D將無法相對於基座A旋轉。
通過轉動限制裝置K的設置,可以使旋轉支架D無法相對於基座A旋轉,如此,當多個料管組件2的一部分設置於承載結構E1上,而第一夾持裝置E尚未夾持多個料管組件2時,多個料管組件2將可以穩定地設置於承載結構E1上。關於各個轉動限制裝置K具體包含的構件不以上述說明為限,任何可以被處理裝置B控制而選擇性地限制旋轉支架D旋轉的裝置,都屬於在此所指的轉動限制裝置K可實施的範圍。
如圖6及圖7所示,在較佳的實施例中,交換機台1還可以包含一料管限位裝置M。料管限位裝置M與旋轉支架D相連接。料管限位裝置M電性連接處理裝置B。處理裝置B能控制料管限位裝置M作動,以限制被設置於第一夾持裝置E的承載結構E1的多個料管組件2相對於旋轉支架D的活動範圍。
具體來說,料管限位裝置M可以是包含一驅動器M1及多個桿體M2,驅動器M1連接多個桿體M2。承載結構E1具有多個穿孔E11。各個桿體M2的一部分能於其中一個穿孔E11中穿梭。處理裝置B能控制驅動器M1作動,以使多個桿體M2的一部分通過相對應的穿孔E11而突出於承載結構E1。突出於承載結構E1的多個桿體M2,將是對應位於設置在承載結構E1上的各個料管本體21的兩側,而各個料管本體21相對於承載結構E1的活動範圍,將被位於其兩側的桿體M2所限制。簡單來說,處理裝置B能控制驅動器M1,而使多個桿體M2於多個料管組件21之間伸縮作動。
依上所述,在實際應用中,處理裝置B可以是在多個料管組件2被設置於承載結構E1之前,先控制轉動限制裝置K作動,而使旋轉支架D 無法相對於基座A旋轉;接著,當多個料管組件2被設置於承載結構E1上時,處理裝置B則可以先控制料管限位裝置M作動,以限制多個料管組件2相對於承載結構E1的活動範圍,最後,處理裝置B將控制第一夾持裝置E作動,而使第一夾持裝置E夾持多個料管組件2的一端。
在較佳的實施例中,處理裝置B在控制第一夾持裝置E夾持設置於承載結構E1上的多個料管組件2前,處理裝置B可以是先控制前後移動模組E2及夾持模組E3作動,而使兩個夾具E4在不夾持多個料管組件2的情況下,推抵多個料管組件2的一端,藉此使多個料管組件2的一端為相互齊平的狀態。通過使多個料管組件2的一端先為齊平的狀態後,再控制第一夾持裝置E夾持多個料管組件2的設計,可以確保第一夾持裝置E能夠正確地夾持設置於承載結構E1上的所有料管組件2。
在較佳的應用中,交換機台1可以是包含有多個偵測裝置,其中一個偵測裝置(圖未示)可以是鄰近於第一夾持裝置E設置,該偵測裝置例如可以是用來偵測第一夾持裝置E是否正確地夾持設置於承載結構E1上的多個料管組件2;偵測裝置也可以是用來偵測承載結構E1上是否設置有正確數量的料管組件2。處理裝置B電性連接偵測裝置,而處理裝置B能依據偵測裝置所偵測的結果,對應控制第一夾持裝置E作動,或是對應控制相關警示裝置作動,以提示使用者偵測裝置所偵測到的狀況。
請一併參閱圖8及圖9,圖8顯示為連接機構的局部示意圖,圖9顯示為第一輔助夾持裝置夾持多個料管組件的示意圖。連接機構G還可以包含一承載結構G4。承載結構G4的一部分用以承載轉接載台G3。第一輔助夾持裝置G1可以包含一夾持模組G11及兩個夾具G12,夾持模組G11電性連接處理裝置B,夾持模組G11可以是與其中一個夾具G12相連接,另一個夾具G12可以是固定於承載結構G4,固定於承載結構G4上的夾具G12用來承載多個料管組件2。處理裝置B能控制夾持模組G11,而使兩個夾具G12共同夾 持或不再夾持設置於其中一個夾具G12上的多個料管組件2。在不同的實施例中,夾持模組G11也可以是能控制兩個夾具G12向彼此相互靠近或向彼此相互遠離的方向作動。
在較佳的應用中,交換機台1可以是包含兩個料管限位裝置M,其中一個料管限位裝置M與承載結構G4相連接。處理裝置B能控制料管限位裝置M作動,以限制設置於連接機構G的多個料管組件2相對於旋轉支架D的活動範圍。具體來說,處理裝置B能控制料管限位裝置M的驅動器M1作動,以使多個桿體M2穿出夾具G12的多個穿孔G121。如圖9所示,當處理裝置B控制料管限位裝置M作動,而使多個桿體M2穿出夾具G12的多個穿孔G121時,多個桿體M2將是對應位於各個料管本體21的兩側,而各個料管本體21相對於夾具G12的活動範圍則將被限制。
如圖8及圖9所示,在較佳的實施例中,交換機台1可以是包含多個偵測裝置P,多個偵測裝置P設置於承載結構G4,各個偵測裝置P用以偵測其周圍是否設置有料管組件2。舉例來說,承載結構G4可以是設置有5個偵測裝置P,5個偵測裝置P分別用來偵測其上方是否設置有料管組件2,處理裝置B電性連接各個偵測裝置P。如圖9所示,當夾具G12上設置有5個料管組件2時,處理裝置B將可以通過5個偵測裝置P所回傳的偵測訊號,來判斷夾具G12上設置有5個料管組件2;相對地,當夾具G12上設置的料管組件2的數量少於5個時,處理裝置B將能由5個偵測裝置P所傳遞的偵測訊號,來判斷出夾具G12上少了一個料管組件2,而處理裝置B則能據以發出相關的警示資訊,提示使用者。
請一併參閱圖10及圖11,圖10顯示為連接機構的轉接構件的示意圖,圖11顯示為多個料管組件與轉接構件相互卡合的示意圖。如圖10所示,連接機構G還可以是包含有一連接構件G5,連接構件G5設置於承載結構G4上,連接構件G5用以輔助多個料管組件2與轉接載台G3相連接。連 接構件G5可以是包含有多個晶片通道G51及多個限位結構G52,各個晶片通道G51用以容置晶片3,多個限位結構G52共同形成多個限位通道G53,各個限位通道G53用以與單一個料管組件2相互卡合。
在實際應用中,各個限位通道G53的寬度可以是略小於料管組件2的寬度,而各個料管組件2設置於各個限位通道G53時,各個料管組件2可以是略微被相鄰的兩個限位結構G52夾持。各個晶片通道G51與轉接載台G3的其中一個轉接通道G31相互連通;當料管組件2與限位通道G53相互卡合時,位於料管組件2中的晶片3能通過晶片通道G51進入轉接通道G31。如圖6、圖7、圖10及圖11所示,當多個料管組件2設置於第一夾持裝置E時,處理裝置B可以是先控制前後移動模組E2作動,而使多個料管組件2的一端對應設置於多個限位通道G53中,而後,處理裝置B才再控制第一夾持裝置E及第一輔助夾持裝置G1夾持多個料管組件2的兩端。
如圖2及圖10所示,轉接載台G3可以是與金屬載台H為相同的構件。轉接載台G3包含多個轉接通道G31,多個轉接通道G31彼此間隔地設置,各個轉接通道G31用以設置多個晶片3。轉接載台G3具有多個限位結構G32,多個限位結構G32用以限制設置於轉接通道G31中的晶片3無法由各個轉接通道G31的正上方的方向L離開轉接載台G3。
如圖11所示,值得一提的是,在交換機台1包含多個偵測裝置的實施例中,部分的偵測裝置P可以是用來偵測各個轉接通道G31中是否設置有晶片3。具體來說,該些偵測裝置P可以是間隔地設置於轉接載台G3的上方,且每一個偵測裝置P可以是同時偵測位於其下方的多個轉接通道G31中是否設置有晶片3。通過該些偵測裝置P的設置,在旋轉機構C旋轉預定角度時,處理裝置B可以據以得知各個轉接通道G31中是否還設置有晶片3。
若是處理裝置B通過該些偵測裝置P,判斷各個轉接通道G31中還有晶片3,則處理裝置B可以是控制旋轉機構C再次旋轉另一預定角度, 而使轉接載台G3呈現為更傾斜的狀態;當然,處理裝置B也可以是直接發出相關資訊,以提示使用者部分的晶片3可能卡在轉接通道G31中。
請一併參閱圖12及圖13,圖12顯示為第二輔助夾持裝置的示意圖,圖13顯示為第二輔助夾持裝置夾持金屬載台的示意圖。如圖12所示,第二輔助夾持裝置G2可以是包含夾持模組G11及兩個夾具G12。夾持模組G11及夾具G12的連接關係及其作動方式,與前述說明相同,於此不再贅述;第二輔助夾持裝置G2與第一輔助夾持裝置G1不同之處在於:第二輔助夾持裝置G2的其中一個夾具G12是用來承載金屬載台H,兩個夾具G12是用來共同固持金屬載台H的一端。
如圖12所示,在交換機台1具有多個偵測裝置的實施例中,其中一個偵測裝置P可以是鄰近於第二輔助夾持裝置G2設置,該偵測裝置P用以偵測金屬載台H是否位於夾具G12上;當處理裝置B依據該偵測裝置P的偵測結果,判斷金屬載台H未設置於夾具G12上時,處理裝置B則能發出相關資訊以提示使用者。
在較佳的實施例中,交換機台1還可以包含一載台限位裝置N1,載台限位裝置N1鄰近第二輔助夾持裝置G2設置。載台限位裝置N1包含一驅動器N11及兩個桿體N12。驅動器N11電性連接處理裝置B,且驅動器N11與兩個桿體N12相連接,驅動器N11能受處理裝置B控制,而使兩個桿體N12穿出於夾具G12的穿孔G121,穿出夾具G12的穿孔G121的兩個桿體N12將是對應位於金屬載台H的兩側,而兩個桿體N12能用來限制位於夾具G12上的金屬載台H的活動範圍。簡單來說,處理裝置B能控制載台限位裝置N1作動,而使兩個桿體N12於金屬載台H的兩側伸縮作動,據以限制或不再限制所述金屬載台H的活動範圍。
請一併參閱圖14及圖15,圖14顯示為第二夾持裝置的示意圖,圖15顯示為第二夾持裝置夾持金屬載台的示意圖。第二夾持裝置F可以 是包含承載結構E1、前後移動模組E2、夾持模組E3及兩個夾具E4;承載結構E1、前後移動模組E2、夾持模組E3及兩個夾具E4彼此間的連接關係及作動關係,與前述說明相同,於此不再贅述;第二夾持裝置F與第一夾持裝置E不同之處在於:第二夾持裝置F是用來夾持金屬載台H的一端。
在較佳的實施例中,交換機台1所包含的其中一個載台限位裝置N1及其中一個轉動限制裝置K,可以是鄰近於第二夾持裝置F設置,關於載台限位裝置N1及轉動限制裝置K的詳細介紹,請參閱前述說明,於此不再贅述。處理裝置B能控制鄰近於第二夾持裝置F設置的載台限位裝置N1,而使兩個桿體N12穿出於承載結構E1,據以限制設置於承載結構E1的金屬載台H的活動範圍。轉動限制裝置K能受處理裝置B控制,而使鎖固組件K2的桿體K21伸入旋轉支架D鄰近於第二夾持裝置F的定位孔D1,據以限制旋轉支架D旋轉。
依上所述,本發明的交換機台1可以自動化地使位於多個料管組件2中多個晶片3,移動至金屬載台H中,且交換機台1也可以使金屬載台H中的多個晶片3移動至多個料管組件2中,而本發明的交換機台1可以大幅地節省人力及時間。
請一併參閱圖2及圖15,圖15顯示為本發明的測試系統的示意圖。測試系統100包:一交換機台1、一拔塞機台4及一測試機台5。拔塞機台4用以將各個料管組件2的至少一個塞體22拔離料管本體21。拔塞機台4鄰近於交換機台1設置。在實際應用中,拔塞機台4可以是包含有一移載機構(圖未標示),移載機構用以使通過拔塞機台4的多個料管組件2,移動至交換機台1。關於交換機台1的詳細說明,請參閱前述說明,於此不再贅述。
測試機台5鄰近於交換機台1設置,測試機台5用以對設置於各個金屬載台H中的多個晶片3進行測試(例如是對晶片3進行高溫測試)。在實際應用中,測試機台5可以是包含有烤箱,而設置於金屬載台H中的多個晶 片3,可以是先被送入溫度介於120度~130的烤箱中烘烤2~6小時後,再接續進行高溫測試。依上所述,本發明的測試系統100可以快速、大量且自動化地,將多個料管中的晶片3,移載至金屬載台H中,並對設置於金屬載台H中的多個晶片3進行相關測試。
以上所述僅為本發明的較佳可行實施例,非因此侷限本發明的專利範圍,故舉凡運用本發明說明書及圖式內容所做的等效技術變化,均包含於本發明的保護範圍內。
A:基座
C:旋轉機構
E:第一夾持裝置
F:第二夾持裝置
G1:第一輔助夾持裝置
G2:第二輔助夾持裝置
G4:承載結構
H:金屬載台
K:轉動限制裝置
M:料管限位裝置
N1:載台限位裝置
P:偵測裝置
2:料管組件

Claims (9)

  1. 一種交換機台,其用以使設置於多個料管組件中的多個晶片,移動至一金屬載台的多個承載通道中,所述交換機台包含:一基座;一處理裝置;一旋轉機構,其固定設置於所述基座,所述處理裝置電性連接所述旋轉機構;一旋轉支架,其與所述旋轉機構相連接,所述處理裝置能控制所述旋轉機構作動,以使所述旋轉支架相對於所述基座旋轉一預定角度;兩個夾持裝置,其固定設置於所述旋轉支架的兩端;其中,各個所述夾持裝置包含一前後移動模組、一夾持模組及兩個夾具,所述前後移動模組與所述旋轉支架相連接,所述夾持模組與所述前後移動模組相連接,所述前後移動模組能受所述處理裝置控制而使所述夾持模組向前或向後移動,兩個所述夾具與所述夾持模組相連接,所述夾持模組能受所述處理裝置控制,而使兩個所述夾具向彼此相互靠近或相互遠離的方向移動,據以夾持或不再夾持多個所述料管組件或所述金屬載台;其中,所述處理裝置能控制所述前後移動模組作動,以使兩個所述夾具推抵多個所述料管組件的一端;一連接機構,其固定設置於所述旋轉支架的中間位置;所述連接機構包含兩個輔助夾持裝置及一轉接載台,所述轉接載台包含多個轉接通道;其中一個所述輔助夾持裝置與其中一個所述夾持裝置能受所述處理裝置控制,而共同固持所述金屬載台時,所述轉接載台的多個所述轉 接通道與所述金屬載台的多個所述承載通道相互連通;另一個所述輔助夾持裝置及另一個所述夾持裝置能受所述處理裝置控制,而共同固持多個所述料管組件;其中,當多個所述料管組件及所述金屬載台被兩個所述夾持裝置及兩個所述輔助夾持裝置固持時,所述處理裝置能控制所述旋轉機構作動,而使所述旋轉支架相對於所述基座旋轉,以使位於各個所述料管組件中的所述晶片通過多個所述轉接通道,進入多個所述承載通道。
  2. 如請求項1所述的交換機台,其中,所述連接機構還包含一承載結構及一連接構件,所述連接構件設置於所述承載結構,所述轉接載台設置於所述承載結構,所述連接構件包含多個晶片通道及多個限位結構,各個所述晶片通道用以容置至少一個所述晶片,多個所述限位結構共同形成多個限位通道,各個所述限位通道用以與單一個所述料管組件相互卡合;各個所述晶片通道與其中一個所述轉接通道相互連通;當所述料管組件與所述限位通道相互卡合時,位於所述料管組件中的所述晶片能通過所述晶片通道進入所述轉接通道。
  3. 如請求項2所述的交換機台,其中,所述處理裝置是先控制所述前後移動模組作動,以推抵多個所述料管組件的一端,而使多個所述料管組件的一端與多個所述限位通道相互卡合後,再控制兩個所述夾具夾持多個所述料管組件。
  4. 如請求項1所述的交換機台,其中,所述交換機台還包含至少一轉動限制裝置,其固定設置於所述基座,所述轉動限制裝置包含一驅動器及一鎖固組件,所述驅動器能受所述處理裝置控制而使所述鎖固組件與所述旋轉支架相互固定或不再相互固定。
  5. 如請求項4所述的交換機台,其中,所述鎖固組件包含一桿體,所述處理裝置能控制所述驅動器,而使所述鎖固組件的所述桿體的一部分伸入所述旋轉支架的一定位孔,或由所述定位孔中縮回。
  6. 如請求項1所述的交換機台,其中,所述交換機台還包含至少一料管限位裝置,其設置於所述旋轉支架,所述料管限位裝置電性連接所述處理裝置,所述料管限位裝置包含一驅動器及多個桿體,所述處理裝置能控制所述驅動器,而使多個所述桿體於多個所述料管組件之間伸縮作動;位於各個所述料管組件兩側的兩個所述桿體,能用來限制所述料管組件的活動範圍。
  7. 如請求項1所述的交換機台,其中,所述交換機台還包含至少一載台限位裝置,其設置於所述旋轉支架,所述載台限位裝置電性連接所述處理裝置,所述載台限位裝置包含一驅動器及多個桿體,所述處理裝置能控制所述驅動器,而使多個所述桿體於所述金屬載台的兩側伸縮作動;位於所述金屬載台的兩側的兩個所述桿體,能用來限制所述所述金屬載台的活動範圍。
  8. 如請求項1所述的交換機台,其中,所述交換機台包含至少一偵測裝置,所述偵測裝置電性連接所述處理裝置,所述偵測裝置用以偵測其周圍是否設置有所述料管組件,所述處理裝置能依據所述偵測裝置的偵測結果,控制所述旋轉機構作動,而使所述旋轉支架相對於所述基座旋轉。
  9. 一種測試系統,其用以對多個料管組件所承載的多個晶片進行一測試,各個所述料管組件包含一料管本體及兩個塞體,所述料管本體為中空結構,而所述料管本體內能容置 多個所述晶片,兩個所述塞體設置於所述料管本體的兩端,所述測試系統包含:一拔塞機台及如請求項1至8中任一項所述的交換機台,所述拔塞機台用以將各個所述料管組件的至少一個所述塞體拔離所述料管本體;一測試機台,其鄰近於所述交換機台設置,所述測試機台用以對設置於各個所述金屬載台中的多個所述晶片進行所述測試。
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