TWI747546B - 積層體、有機薄膜太陽電池、積層體之製造方法及有機薄膜太陽電池之製造方法 - Google Patents
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Abstract
本發明所提供的積層體,係可獲得具優異輸出特性與穿透性的有機薄膜太陽電池。上述積層體係配置於將成為透光性電極層的構件上,具有將成為電子輸送層的氧化鈦層。氧化鈦層的厚度係1.0nm以上且200.0nm以下。氧化鈦層係含有氧化銦與金屬銦,將鈦元素含量設為Ti、氧化銦含量設為InOx、金屬銦含量設為InM時,InOx/Ti之原子比係0.50以上且20.00以下,InM/Ti之原子比係未滿0.100。
Description
本發明係關於積層體、有機薄膜太陽電池、積層體之製造方法及有機薄膜太陽電池之製造方法。
習知有機薄膜太陽電池已知有依序設有:透光性電極層、電洞輸送層、有機半導體層、電子輸送層及集電極層的「正型(normal type)」有機薄膜太陽電池。
再者,近年就從耐久性提升等觀點,有提案:依序設有透光性電極層、電子輸送層、有機半導體層、電洞輸送層及集電極層的「反式」有機薄膜太陽電池(參照專利文獻1)。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2009-146981號公報
(發明所欲解決之問題)
如上所述,有機薄膜太陽電池係例如依序設有:透光性電極層、電子輸送層、有機半導體層、電洞輸送層及集電極層。
當在實際生活環境下使用此種有機薄膜太陽電池時,其被要求可發揮良好的輸出特性。
專利文獻1係使用溶膠-凝膠法形成作為電子輸送層的氧化鈦層。使用溶膠-凝膠法所形成的氧化鈦層係成為非晶質、且包含氧缺陷,被判斷藉此可降低電子遷移電阻。
但是,經本發明人等的檢討,發現使用溶膠-凝膠法形成電子輸送層的有機薄膜太陽電池,會有輸出特性不足的情況。
再者,近年有提案將住宅、車輛等所使用的玻璃窗,改為具良好穿透性的有機薄膜太陽電池。在此情況下,對成為電子輸送層的氧化鈦層被要求有優異的穿透性。
緣是,本發明之目的在於提供:針對依序設有:透光性電極層、電子輸送層、有機半導體層、電洞輸送層及集電極層之反式有機薄膜太陽電池,將成為透光性電極層與電子輸送層的積層體,而可獲得具有優異輸出特性與穿透性之有機薄膜太陽電池的積層體。
再者,本發明目的在於提供:製造上述積層體的新穎方法。
(解決問題之技術手段)
本發明人等經深入鑽研的結果,發現藉由採用下述構成便可達成上述目的,遂完成本發明。
即,本發明係提供以下的[1]~[7]。
[1]一種積層體,係成為有機薄膜太陽電池中之透光性電極層與電子輸送層的積層體,上述有機薄膜太陽電池依序設有:上述透光性電極層、上述電子輸送層、有機半導體層、電洞輸送層及集電極層;上述積層體具備有:成為上述透光性電極層的構件、以及氧化鈦層,其配置於成為上述透光性電極層的構件上,而成為上述電子輸送層;上述氧化鈦層的厚度係1.0nm以上且200.0nm以下;上述氧化鈦層含有氧化銦與金屬銦,將鈦元素含量設為Ti、氧化銦含量設為InOx、金屬銦含量設為InM時,InOx/Ti之原子比係0.50以上且20.00以下,InM/Ti之原子比係未滿0.100。
[2]一種有機薄膜太陽電池,其使用上述[1]所記載積層體,依序設有透光性電極層、電子輸送層、有機半導體層、電洞輸送層及集電極層。
[3]一種積層體之製造方法,係製造上述[1]所記載積層體的方法,在含有Ti成分的處理液中,將成為上述透光性電極層的構件施行陰極極化,接著再施行陽極極化,藉此在成為上述透光性電極層的構件上形成上述氧化鈦層。
[4]如上述[3]所記載的積層體之製造方法,其中,上述處理液中的Ti含量係0.004mol/L以上且1.300mol/L以下。
[5]如上述[3]或[4]所記載的積層體之製造方法,其中,上述Ti成分係從六氟化鈦氫酸、六氟鈦酸鉀、六氟鈦酸鈉、六氟鈦酸銨、草酸鈦醯銨(Ammonium titanyl Oxalate)、草酸鈦醯鉀二水合物、硫酸鈦、及乳酸鈦所構成之群組中選擇至少1種。
[6]如上述[3]~[5]中任一項所記載的積層體之製造方法,其中,以成為上述透光性電極層的構件為陰極,依0.01A/dm2
以上且5.00A/dm2
以下的電流密度通電,接著再以成為上述透光性電極層的構件為陽極,依0.01A/dm2
以上且5.00A/dm2
以下的電流密度通電。
[7]一種有機薄膜太陽電池之製造方法,係使用上述[1]所記載的積層體,製造依序設有:透光性電極層、電子輸送層、有機半導體層、電洞輸送層及集電極層的有機薄膜太陽電池。
(對照先前技術之功效)
根據本發明可提供依序設有透光性電極層、電子輸送層、有機半導體層、電洞輸送層及集電極層的有機薄膜太陽電池中,將成為透光性電極層與電子輸送層的積層體,能獲得具有優異輸出特性與穿透性有機薄膜太陽電池的積層體。
再者,根據本發明可提供製造上述積層體的新穎方法。
[有機薄膜太陽電池]
首先,根據圖1,針對有機薄膜太陽電池1進行說明。
圖1所示係有機薄膜太陽電池1的示意剖視圖。有機薄膜太陽電池1係例如依序設有:透光性電極層2、電子輸送層3、有機半導體層4、電洞輸送層5及集電極層6。
透光性電極層2的厚度係根據後述構件8(參照圖2)的厚度。
電子輸送層3的厚度係根據後述氧化鈦層9(參照圖2)的厚度。
有機半導體層4、電洞輸送層5及集電極層6的厚度係適當設定。
透光性電極層2較佳係可舉例如:ITO(Indium Tin Oxide,氧化銦錫)膜等導電性金屬氧化物之膜。透光性電極層2亦可配置於例如:玻璃基板、樹脂薄膜等透明性基板上。
電子輸送層3係可舉例如:含有n型半導體之氧化鈦(TiO2
)的氧化鈦層。
有機半導體層4係可舉例如:含有屬於聚噻吩衍生物之聚-3-己基噻吩(P3HT)、與屬於富樂烯衍生物之[6,6]-苯基-C61
-丁酸甲酯(PCBM)的層。
P3HT與PCBM的質量比(P3HT:PCBM)較佳係5:3~5:6、更佳係5:3~5:4。
此種有機半導體層4亦可更進一步含有導電性材料、色素等添加劑。
導電性材料係可舉例如:聚乙炔系、聚吡咯系、聚噻吩系、聚對伸苯系、聚對伸苯乙烯系、聚伸噻吩維尼綸系、聚(3,4-二氧伸乙基噻吩)系、聚茀系、聚苯胺系、多並苯系的導電性材料(但,後述PEDOT/PSS除外)。
色素係可例如:花青素系、部花青素系、酞菁系、萘酞菁系、偶氮系、醌系、醌亞胺系、喹吖酮系、方酸菁(squarylium)系、三苯甲烷系、二苯并哌喃系、卟啉系、苝系、靛藍系的色素。
添加劑的含量係相對於P3HT與PCBM合計100質量份,較佳係1~100質量份、更佳係1~40質量份。
電洞輸送層5的材料係可舉例如:PEDOT/PSS、V2
O5
、MoO3
等,較佳係PEDOT/PSS。
PEDOT/PSS係由PEDOT(聚-3,4-二氧伸乙基噻吩)、與PSS(聚磺酸苯乙烯)一體化的高分子化合物,亦有記為「PEDOT:PSS」的情況。
集電極層6係可舉例如:Au電極層、Ag電極層、Al電極層、Ca電極層等,其中,較佳係Au電極層。
[積層體]
其次,根據圖2,針對成為有機薄膜太陽電池1(參照圖1)之透光性電極層2與電子輸送層3的積層體7進行說明。
圖2所示係積層體7的示意剖視圖。積層體7係設有:成為透光性電極層2(參照圖1)的構件8、與配置於構件8上且成為電子輸送層3(參照圖1)的氧化鈦層9。
<成為透光性電極層的構件>
成為透光性電極層2(參照圖1)的構件8,較佳係具有導電性的構件,更佳係含有氧化銦的構件。
當構件8係含有氧化銦的構件時,更佳係含有氧化銦錫(ITO)的構件,特佳係ITO膜。
構件8亦可配置於玻璃基板、樹脂薄膜等透明性基板上。
例如屬於ITO膜的構件8之厚度,係配合所獲得有機薄膜太陽電池1(參照圖1)再行適當設定,較佳係20nm以上、更佳係80nm以上、特佳係150nm以上。另一方面,較佳係500nm以下、更佳係400nm以下、特佳係300nm以下。
構件8的厚度係利用聚焦離子束形成構件8的截面,再針對所形成的截面,使用掃描式電子顯微鏡進行測定而獲得的數值。
<氧化鈦層>
氧化鈦層9係含有氧化鈦的層。
再者,氧化鈦層9係如後述,含有:氧化銦及金屬銦。
《厚度》
氧化鈦層9的厚度係1.0nm以上。若氧化鈦層9的厚度在該範圍內,便不易因氧化鈦層9的缺陷而發生漏電流,使用積層體7的有機薄膜太陽電池1呈現優異的輸出特性。
就從輸出特性更優異的理由,氧化鈦層9的厚度較佳係2.0nm以上、更佳係3.0nm以上、特佳係4.0nm以上。
另一方面,氧化鈦層9的厚度係在200.0nm以下。若氧化鈦層9的厚度在該範圍內,便可抑制電阻增加,使有機薄膜太陽電池1的輸出特性優異。又,氧化鈦層9的穿透性亦優異。又,可縮短後述通電時間,且積層體7的生產性亦優異。
就從輸出特性、穿透性及生產性更優異的理由,氧化鈦層9的厚度較佳係100.0nm以下、更佳係50.0nm以下、特佳係30.0nm以下。
氧化鈦層9的厚度係依如下述求取。
首先,針對氧化鈦層9的任意部位,使用X射線光電子能譜分析裝置(XPS裝置),依照下述條件,重複施行Ti3s及In3d的窄域光電子光譜測定、以及利用氬離子(Ar+
)施行的濺鍍。藉此,求得氧化鈦層9在濺鍍深度方向的元素組成比(單位:原子%)。在求取元素組成比時,使用相對感度係數法。窄域光電子光譜各尖峰面積的相對感度係數,分別係使用Ti3s:0.150、In3d:4.530。將從開始測定位置氧化鈦層9的最表面起,至鈦(Ti)元素組成比成為最大值之1/10值的深度位置,設為氧化鈦層9的厚度。
(使用XPS裝置的測定條件)
・XPS裝置:Quantera SXM(ULVAC-PHI公司製)
・X射線源:單色化Al-Kα線(電壓:15kV、輸出:25.0W)
・X射線光束直徑:100μmφ
・測定區域:100μmφ
・窄域光電子光譜測定Pass Energy:140eV
・窄域光電子光譜測定Energy Step:0.125eV
・濺鍍速率:5.4nm/min(SiO2
換算)
・Ar+
加速能量:1keV
・帶電中和:電子束+Ar+
・光電子起飛角:試料面法線方向的45°(X射線入射角係試料面法線方向)
《原子比(InOx/Ti)》
氧化鈦層9係含有氧化銦。
將鈦元素含量設為「Ti」、氧化銦含量設為「InOx」時,氧化鈦層9係原子比(InOx/Ti)為0.50以上且20.00以下。
此種氧化鈦層9係利用後述方法便可獲得,此情況,相較於習知使用溶膠-凝膠法(例如參照專利文獻1)形成的氧化鈦層之下,判斷存在較多的In3+
,且亦導入較多的氧缺陷。所以,利用氧缺陷生成過剩電子,其中一部分會成為載子,有助於導電性。
依此,使用設有氧化鈦層9的積層體7之有機薄膜太陽電池1,係輸出特性優異。
但,即使除此以外的機制仍屬本發明範圍內。
就從輸出特性更優異的理由,原子比(InOx/Ti)較佳係5.00以上、更佳係8.00以上、特佳係超過10.00、最佳係11.00以上。
另一方面,關於上限,原子比(InOx/Ti)較佳係18.00以下、更佳係16.00以下、特佳係14.00以下。
《原子比(InM/Ti)》
氧化鈦層9係更進一步含有金屬銦。
將鈦元素含量設為「Ti」、金屬銦含量設為「InM」時,原子比(InM/Ti)係未滿0.100。藉此,氧化鈦層9(電子輸送層3)的穿透性優異。
就從穿透性更優異的理由,原子比(InM/Ti)較佳係0.050以下、更佳係0.030以下、特佳係0.010以下。
另一方面,關於下限,原子比(InM/Ti)較佳係0.001以上。
原子比(InOx/Ti)與原子比(InM/Ti)係依如下求取。
首先,針對氧化鈦層9,依照與上述方法同樣,使用XPS裝置施行測定。其次,將所獲得In3d的窄域光電子光譜,尖峰分離為氧化物成分與金屬成分。更詳言之,尖峰分離時,係使用軟體MultiPak(Ver.8.2C),施行函數配適。
針對氧化物使用高斯-勞侖茲函數。針對金屬成分使用非對稱函數(Tail Length:14.85±3.00、Tail Scale:0.23±0.10)。
另外,氧化銦與金屬銦係尖峰位置相互靠近。所以,固定於下述範圍,將尖峰高度、半值寬及高斯函數比率設為可變參數,依與實測光譜的殘差平方和成為最小方式,執行收斂計算。
・氧化銦:444.6±0.5eV
・金屬銦:443.8±0.5eV
鈦(Ti)、氧化銦、及金屬銦的元素組成比(單位:原子%),係將從氧化鈦層9最表面起,至鈦(Ti)元素組成比成為最大值之1/10值的深度位置施行積分,而獲得的積分值。
將氧化銦的積分值(InOx)、與金屬銦的積分值(InM),分別除以鈦的積分值(Ti)。藉此求得原子比(InOx/Ti)與原子比(InM/Ti)。
[積層體之製造方法]
為製造上述積層體7,在含Ti成分的處理液中,將構件8施行陰極極化,接著將構件8施行陽極極化。另外,對向電極係使用白金電極等不溶性電極。構件8的陰極極化與陽極極化係例如在後述電解處理槽中實施。
更詳之,首先以ITO膜等構件8為陰極施行通電。藉此,在構件8上形成氧化鈦層9。隨此陰極極化,推測在氧化鈦層9內部、及氧化鈦層9與ITO膜等構件8的界面處會析出金屬銦。
另外,氧化鈦層9係推測依如下形成。首先,構件8的表面會隨氫生成使pH上升。結果,例如當處理液中的Ti成分係六氟化鈦氫酸及/或其鹽的情況,處理液中的六氟鈦酸離子便會一邊脫F、一邊生成氫氧化鈦。該氫氧化鈦附著於構件8的表面,經由後續的洗淨、乾燥等脫水縮合,判斷將形成氧化鈦層9。但,除此以外的機制亦隸屬本發明範圍內。
其次,以構件8為陽極進行通電。藉此,使在氧化鈦層9上析出的金屬銦進行氧化,俾提升穿透性。
構件8係如上述,較佳係具有導電性的構件,例如:ITO膜等導電性金屬氧化物之膜。
構件8係如上述,亦可配置於玻璃基板、樹脂薄膜等透明性基板上。此情況,將具構件8的透明性基板(例如具ITO膜之玻璃基板)施行陰極極化,接著再施行陽極極化。此情況,所獲得積層體亦更進一步具有該透明性基板。
處理液係含有供對所形成氧化鈦層9供應Ti(鈦元素)的Ti成分(Ti化合物)。
Ti成分較佳係從六氟化鈦氫酸(H2
TiF6
)、六氟鈦酸鉀(K2
TiF6
)、六氟鈦酸鈉(Na2
TiF6
)、六氟鈦酸銨((NH4
)2
TiF6
)、草酸鈦醯銨((NH4
)2
[TiO(C2
O4
)2
])、草酸鈦醯鉀二水合物(K2
[TiO(C2
O4
)2
]・2H2
O)、硫酸鈦(Ti(SO4
)2
)、及乳酸鈦(Ti(OH)2
[OCH(CH3
)COOH]2
)所構成群組中選擇至少1種。
該等之中,就從處理液安定性、取得容易性等觀點,較佳係六氟化鈦氫酸及/或其鹽(六氟鈦酸鉀、六氟鈦酸鈉、六氟鈦酸銨)。
處理液中的Ti含量較佳係0.004mol/L以上、更佳係0.010mol/L以上、特佳係0.020mol/L以上。
另一方面,處理液中的Ti含量較佳係1.300mol/L以下、更佳係1.000mol/L以下、特佳係0.700mol/L以下、最佳係0.300mol/L以下、最最佳係0.150mol/L以下。
處理液的溶劑係使用水。
處理液的pH並無特別的限定,例如:pH2.0~5.0。pH調整時可使用公知的酸成分(例如:磷酸、硫酸等)、或鹼成分(例如:氫氧化鈉、氨水等)。
處理液中,視需要亦可含有:月桂基硫酸鈉、乙炔二醇等界面活性劑。就從附著行為的經時安定性觀點,在處理液中亦可含有焦磷酸鹽等縮合磷酸鹽。
處理液的液溫較佳係20~80℃、更佳係40~60℃。
處理液亦可更進一步含有傳導助劑。
傳導助劑係可舉例如:硫酸鉀、硫酸鈉、硫酸鎂、硫酸鈣等硫酸鹽;硝酸鉀、硝酸鈉、硝酸鎂、硝酸鈣等硝酸鹽;氯化鉀、氯化鈉、氯化鎂、氯化鈣等氯化物鹽等等。
處理液中的傳導助劑含量,較佳係0.010~1.000mol/L、較佳係0.020~0.500mol/L。
施行陰極極化時的電流密度較佳係0.01A/dm2
以上、更佳係0.10A/dm2
以上、特佳係0.20A/dm2
以上。
另一方面,施行陰極極化時的電流密度較佳係5.00A/dm2
以下、更佳係4.00A/dm2
以下、特佳係3.00A/dm2
以下。
通電時間係為能獲得所需氧化鈦層9的厚度可適當設定。
施行陽極極化時的電流密度較佳係0.01A/dm2
以上、更佳係0.10A/dm2
以上、特佳係0.20A/dm2
以上。
另一方面,施行陽極極化時的電流密度較佳係5.00A/dm2
以下、更佳係4.00A/dm2
以下、特佳係3.00A/dm2
以下。
通電時間係為將析出於氧化鈦層9內部等之金屬銦施行氧化(In→In3+
)可適當設定。
經陰極極化及/或陽極極化後,亦可施行水洗。
水洗的方法並無特別的限定,例如:在陰極極化及/或陽極極化後浸漬於水中的方法等。水洗係例如在後述水洗槽中實施。水洗時所使用水的溫度(水溫)較佳係40~90℃。
水洗時間較佳係超過0.5秒、更佳係1.0~5.0秒。
再者,亦可取代水洗、或經水洗後,施行乾燥。乾燥時的溫度與方式並無特別的限定,可適用例如使用普通乾燥機或電爐的乾燥方式。乾燥溫度較佳係100℃以下。
製造積層體7的方式較佳係批次式或連續式。
該方式係配合例如配置構件8的透明性基板(玻璃基板、樹脂薄膜等)種類與形狀,再行適當選擇。
例如在玻璃基板上配置構件8時(即使用具構件8之玻璃基板的情況),較佳係批次式。
此情況,只要例如準備洗淨處理槽、電解處理槽及水洗槽,使設有構件8的玻璃基板浸漬於各槽中施行處理便可。
陰極極化及陽極極化亦可在單一電解處理槽中實施,亦可分別在2個電解處理槽中實施。
再者,例如在呈捲筒狀捲繞的樹脂薄膜上配置構件8時(即,使用具構件8之樹脂薄膜時),就從生產性的觀點,較佳係連續式。
此情況,例如在回捲用張力捲取機與捲取用張力捲取機之間,配置洗淨處理槽、電解處理槽、水洗槽及乾燥裝置,並設置適當的輥,使具構件8之樹脂薄膜連續式通過各槽。
陰極極化及陽極極化亦可在單一電解處理槽中實施,亦可分別在2個電解處理槽中實施。後者的情況,亦可在2個電解處理槽之間更進一步設置水洗槽。
[有機薄膜太陽電池之製造方法]
使用上述積層體7,製造依序設有:透光性電極層2、電子輸送層3、有機半導體層4、電洞輸送層5及集電極層6的有機薄膜太陽電池1。
例如在積層體7的氧化鈦層9上,依序形成成為有機半導體層4、電洞輸送層5及集電極層6的層。
有機半導體層4係例如:在成為電子輸送層3的氧化鈦層9上,旋塗經溶解P3HT與PCBM的溶液,經乾燥而形成。溶液的溶劑係可舉例如:2,6-二氯甲苯、氯仿、氯苯、該等2種以上的混合物等。
電洞輸送層5係例如:在有機半導體層4上,旋塗PEDOT/PSS的水分散液,經乾燥而形成。
集電極層6係例如:在電洞輸送層5上,藉由蒸鍍Au等金屬而形成。
形成各層的方法並不僅侷限於該等方法,亦可適當使用習知公知的方法。
[實施例]
以下,舉實施例針對本發明進行具體說明。惟,本發明並不僅侷限於以下實施例。
<成為透光性電極層的構件之準備>
在玻璃基板(30mm×35mm、厚度0.7mm、無鹼玻璃)一側之面上,利用濺鍍積層ITO(Indium Tin Oxide)膜,而準備具ITO膜之玻璃基板(片電阻值:10Ω/sq、Ideal Star公司製)。ITO膜的厚度係150nm。該具ITO膜之玻璃基板係使用為具成為透光性電極層之構件的透明性基板。
<成為透光性電極層與電子輸送層的積層體之製作>
使用所準備具ITO膜之玻璃基板(具將成為透光性電極層之構件的透明性基板),依如下述製作將成為透光性電極層與電子輸送層的積層體。
首先,調製含有0.040mol/L六氟鈦酸鉀(K2
TiF6
)與0.10mol/L硫酸鉀(K2
SO4
),且經利用氫氧化鉀調整pH為4.0的處理液(以下簡稱「處理液」)。
其次,將所準備的具ITO膜之玻璃基板,浸漬於由Semi Clean M4(橫濱油脂工業公司製)經離子交換水稀釋20倍的洗淨液中,施行10分鐘超音波洗淨。然後,從洗淨液中取出具ITO膜之玻璃基板,浸漬於離子交換水中,施行10分鐘超音波洗淨。
將經洗淨的具ITO膜之玻璃基板浸漬於所調製的處理液(液溫:50℃)中。在處理液中,將具ITO膜之玻璃基板,依下表1所示條件施行陰極極化,接著再施行陽極極化。然後,在25℃水槽中浸漬2.0秒鐘而施行水洗後,使用鼓風機於室溫中施行乾燥。藉此,在具ITO膜之玻璃基板的ITO膜上,形成將成為電子輸送層的氧化鈦層。依此,製得已形成氧化鈦層的具ITO膜之玻璃基板(將成為透光性電極層與電子輸送層的積層體)。
<比較用積層體之製作>
首先,在2-甲氧基乙醇12.5mL中添加6.25mmol的四異丙醇鈦鹽,再於冰浴中施行10分鐘冷卻。接著,添加12.5mmol的乙醯丙酮,再於冰浴中攪拌10分鐘,獲得混合溶液。所獲得混合溶液依80℃加熱2小時,然後迴流1小時。最後,將混合溶液冷卻至室溫,獲得氧化鈦前驅物溶液。各步驟的氣體環境全部均設為氮氣環境。
其次,在已洗淨的具ITO膜之玻璃基板之ITO膜上,將氧化鈦前驅物溶液依旋轉速度2000rpm、旋轉時間60秒的條件,施行旋塗形成塗膜。然後,放置於空氣中,使塗膜中的氧化鈦前驅物水解。接著,依150℃施行1小時加熱處理,獲得厚度30nm的氧化鈦層。
依此所製作的積層體(比較用積層體)係使用於後述No.9。
<氧化鈦層之厚度與原子比>
依照上述方法,求取氧化鈦層的厚度、原子比(InOx/Ti)、及原子比(InM/Ti)。結果如下表1所示。
<積層體之可見光穿透率>
針對所製作積層體的可見光穿透率(單位:%),依下述條件測定。結果如下表1所示。可見光穿透率的值越大,則可評價為穿透性越優異。
・測定裝置:分光色彩計SD7000(日本電色工業公司製)
・測定區域:5mmφ
・測定波長:600nm
<有機薄膜太陽電池之製作>
使用所製作的積層體,依如下述,製作4mm×25mm(即具有1.0cm2
光電轉換面積)的有機薄膜太陽電池。
《有機半導體層之形成》
將2,6-二氯甲苯與氯仿依體積比1:1混合,獲得混合溶液。在該混合溶液中,使P3HT(Aldrich公司製)與PCBM(Frontier Carbon公司製)依質量比5:4溶解成為合計濃度3.9質量%。
在氧化鈦層上,將上述混合溶液依1500rpm、60秒的條件施行旋塗,再於室溫下施行約10分鐘乾燥,形成厚度250nm的有機半導體層。
《電洞輸送層之形成》
準備含有十三醇聚氧乙烯醚(C13
H27
(OCH2
CH2
)6
OH)1質量%與二甲苯1質量%、且以水與異丙醇為溶劑的非離子性界面活性劑(Aldrich公司製)。相對於1.3質量%PEDOT/PSS水分散液(Aldrich公司製)100質量份,混合該非離子性界面活性劑0.5質量份,調製成含PTE之PEDOT/PSS水分散液。
將含PTE之PEDOT/PSS水分散液,加溫至50~90℃,將其依6000rpm、60秒的條件旋塗於有機半導體層上,於室溫中施行自然乾燥,形成厚度80nm的電洞輸送層。
《集電極層之形成》
在電洞輸送層上利用真空蒸鍍,形成厚度約100nm的Au電極層(集電極層)。
更詳言之,對應4mm×25mm電極形狀的遮罩、與已形成至電洞輸送層的玻璃基板,設置於處理室內。使用旋轉泵與渦輪分子泵,將處理室內施行減壓,使處理室內壓力在2×10-3
Pa以下。在該處理室內將金線施行電阻加熱,而隔著遮罩將金在電洞輸送層上形成100nm的膜。成膜速度設為10~15nm/min,成膜時的壓力係1×10-2
Pa以下。
將依此所獲得之在其中一面上,已形成ITO膜(透光性電極層)、氧化鈦層(電子輸送層)、有機半導體層、電洞輸送層及集電極層的玻璃基板,依150℃施行5分鐘加熱,更依70℃保持1小時。然後,於大氣中施行密封。依此製得有機薄膜太陽電池。
<有機薄膜太陽電池之評價(輸出特性)>
針對所製作的有機薄膜太陽電池施行下述評價。
使用模擬太陽光源裝置(SAN-EI Electric公司製、XES-502S),將具有AM1.5G(IEC規格 60904-3)光譜分佈、且具有100mW/cm2
光強度的模擬太陽光,從ITO膜側照射有機薄膜太陽電池。在此狀態下,使用線性掃描伏安(LSV)測定裝置(Hokuto Denko公司製、HZ-5000),測定有機薄膜太陽電池的光電流-電壓分佈。從所獲得分佈求取最大輸出,並依以下基準施行評價。結果如下表1所示。最大輸出值越大,便可評價為輸出特性越優異。
A:最大輸出 2.40mW/cm2
以上
B:最大輸出 1.70mW/cm2
以上且未滿2.40mW/cm2
C:最大輸出 未滿1.70mW/cm2
[表1]
表1 | |||||||||||
No. | 成為透光 性電極層 的構件 | 陰極極化條件 | 陽極極化條件 | 氧化鈦層 | 可見光 穿透率 [%] | 輸出 特性 | 備註 | ||||
電流 密度 [A/dm2 ] | 電解 時間 [s] | 電流 密度 [A/dm2 ] | 電解 時間 [s] | 厚度 [nm] | InOx/Ti | InM/Ti | |||||
1 | ITO膜 | 0.50 | 13 | 0.50 | 10 | 4.0 | 11.50 | 0.001 | 88.5 | A | 發明例 |
2 | ITO膜 | 0.50 | 20 | 0.50 | 10 | 17.0 | 8.50 | 0.001 | 87.0 | B | 發明例 |
3 | ITO膜 | 0.50 | 23 | 0.50 | 15 | 26.7 | 5.20 | 0.001 | 85.0 | B | 發明例 |
4 | ITO膜 | 0.50 | 23 | 0.10 | 100 | 21.8 | 7.10 | 0.001 | 86.0 | B | 發明例 |
5 | ITO膜 | 0.50 | 23 | 1.00 | 10 | 16.8 | 8.40 | 0.001 | 87.0 | B | 發明例 |
6 | ITO膜 | 5.00 | 0.4 | 0.50 | 3 | 4.0 | 11.20 | 0.001 | 88.0 | A | 發明例 |
7 | ITO膜 | 0.50 | 120 | 0.50 | 80 | 200.0 | 0.50 | 0.001 | 82.0 | B | 發明例 |
8 | ITO膜 | 0.50 | 16 | - | - | 30.0 | 3.50 | 0.180 | 62.3 | B | 比較例 |
9 | ITO膜 | - | - | - | - | 30.0 | 0.40 | 0.000 | 85.0 | C | 比較例 |
<評價結果整理>
如上表1所示,原子比(InOx/Ti)為0.50以上且20.00以下的No.1~No.7,相較於未滿足該原子比(InOx/Ti)的No.9之下,輸出特性較良好。
若將No.1~No.7進行比對,則原子比(InOx/Ti)值較No.2~No.5及No.7更大的No.1及No.6,輸出特性更優異。
再者,原子比(InM/Ti)未滿0.100的No.1~No.7,相較於未滿足該原子比(InM/Ti)的No.8,可見光穿透率的值越大,則穿透性越良好。
所以,No.1~No.7係輸出特性與穿透性均為良好。
1:有機薄膜太陽電池
2:透光性電極層
3:電子輸送層
4:有機半導體層
5:電洞輸送層
6:集電極層
7:積層體
8:成為透光性電極層的構件
9:氧化鈦層
圖1係有機薄膜太陽電池的示意剖視圖;以及
圖2係積層體的示意剖視圖。
Claims (8)
- 一種積層體,係成為有機薄膜太陽電池中之透光性電極層與電子輸送層的積層體,上述有機薄膜太陽電池依序設有:上述透光性電極層、上述電子輸送層、有機半導體層、電洞輸送層及集電極層;上述積層體具備有:成為上述透光性電極層的構件、以及氧化鈦層,其配置於成為上述透光性電極層的構件上,而成為上述電子輸送層;上述氧化鈦層的厚度係1.0nm以上且200.0nm以下;上述氧化鈦層含有氧化銦與金屬銦,將鈦元素含量設為Ti、氧化銦含量設為InOx、金屬銦含量設為InM時,InOx/Ti之原子比係0.50以上且20.00以下,InM/Ti之原子比係0.001以上且未滿0.100。
- 一種有機薄膜太陽電池,其使用請求項1之積層體,依序設有透光性電極層、電子輸送層、有機半導體層、電洞輸送層及集電極層。
- 一種積層體之製造方法,係製造請求項1之積層體的方法,在含有Ti成分的處理液中,將成為上述透光性電極層的構件施行陰極極化,接著再施行陽極極化,藉此在成為上述透光性電極層的構件上形成上述氧化鈦層。
- 如請求項3之積層體之製造方法,其中,上述處理液中的Ti含量係0.004mol/L以上且1.300mol/L以下。
- 如請求項3或4之積層體之製造方法,其中,上述Ti成分係從六氟化鈦氫酸、六氟鈦酸鉀、六氟鈦酸鈉、六氟鈦酸銨、草酸鈦醯銨(Ammonium titanyl Oxalate)、草酸鈦醯鉀二水合物、硫酸鈦、及乳酸鈦所構成之群組中選擇至少1種。
- 如請求項3或4之積層體之製造方法,其中,以成為上述透光性電極層的構件作為陰極,依0.01A/dm2以上且5.00A/dm2以下的電流密度通電,接著再以成為上述透光性電極層的構件作為陽極,依0.01A/dm2以上且5.00A/dm2以下的電流密度通電。
- 如請求項5之積層體之製造方法,其中,以成為上述透光性電極層的構件作為陰極,依0.01A/dm2以上且5.00A/dm2以下的電流密度通電,接著再以成為上述透光性電極層的構件作為陽極,依0.01A/dm2以上且5.00A/dm2以下的電流密度通電。
- 一種有機薄膜太陽電池之製造方法,係使用請求項1之積層體,製造依序設有:透光性電極層、電子輸送層、有機半導體層、電洞輸送層及集電極層的有機薄膜太陽電池。
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