TWI737791B - 彩色濾光片、其製造方法，以及包含其的顯示設備 - Google Patents

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Abstract

本發明揭露一種彩色濾光片，其包含一基板、一第一色轉換層、一第二色轉換層、一障壁以及一光阻擋層。基板包含相分隔的一第一畫素區以及一第二畫素區。第一色轉換層位在第一畫素區上用以將入射光轉換成第一顏色的光。第二色轉換層位在第二畫素區上用以將入射光轉換成第二顏色的光。障壁位於基板上的第一色轉換層及第二色轉換層之間。光阻擋層在障壁的底表面以及一側面上連續延伸形成，而該底表面係面對基板。

Description

彩色濾光片、其製造方法，以及包含其的顯示設備 相關申請之交互參照
此申請書主張於2016年8月11日所提交之韓國申請案號第10-2016-0102443的優先權，此韓國申請案的名稱為”彩色濾光片及包含其的顯示裝置”，其本發明已包含上述申請案之內容。
本發明之至少一實施例係有關於一種彩色濾光片以及包含有此彩色濾光片的顯示設備。
液晶顯示器(LCD)是目前世界上最廣泛使用的顯示器中的其中一種。液晶顯示器包含一液晶層，其設置在畫素以及共同電極之間。當一電壓施加在畫素以及共同電極之間時，會產生電場，其可控制液晶層中的液晶分子的方位。當有背光通過液晶層時，可形成影像。
有一種液晶顯示器是使用彩色濾光片以產生彩色光。此些彩色濾光片會降低影像中1/3的光量。因此，彩色濾光片會降低光效能。
另一種光致發光液晶螢幕(PL-LCD)可用於補償低光效能，且增加顏色重現性。PL-LCD設備使用一量子點色轉換層(QD-CCL)以產生彩色光，藉此取代彩色濾光片。例如，當低波段光(例如由發光源產生且受一液晶層控制的紫外光或是藍光)照射在色轉換層(CCL)上時，所產生的可見光可用於形成一彩色影像。
CCL會產生與發光源發出的光不同的波長的光，以取代像是彩色濾光片傳遞發光源發出的光。亦即，CCL發出的光是射向不同方向。所以，不同顏色的相鄰CCL發出的光可混光，對顯示影像的顏色重現有不利影響。
根據一實施例，本發明提供一種彩色濾光片，其包含：一基板，包含相分隔的一第一畫素區以及一第二畫素區；一第一色轉換層，位於第一畫素區上且用以將入射光轉換第一顏色的光；一第二色轉換層，位於第二畫素區上且用以將入射光轉換第二顏色的光；一障壁，位於基板上的第一色轉換層以及第二色轉換層之間；以及一光阻擋層，在障壁的一底表面以及一側面上連續延伸，而障壁的底表面是面對基板。
根據一實施例，光阻擋層包含：一黑矩陣層，位於障壁以及基板之間，以及一反射層，位於障壁以及第一色轉換層之間，以及障壁以及第二色轉換層之間。反射層包含與黑矩陣層相同的材料且從黑矩陣層連續延伸出。障壁的截面形狀為一倒錐形，且倒錐形形狀的寬度在遠離基板的方向上增加。
根據一實施例，第一色轉換層包含第一量子點，當第一量子點被入射光激發時發出第一顏色的光；第二色轉換層包含第二量子點，當第二量子點被入射光激發時發出第二顏色的光。第一色轉換層包含：一第一量子點色轉 換層，其包含第一量子點，以及一第一彩色濾光層，用以反射入射光，且位於基板以及第一量子點色轉換層之間。第二色轉換層包含：一第二量子點色轉換層，其包含第二量子點，以及一第二彩色濾光層，用以反射入射光，且第二彩色濾光層位於基板以及第二量子點色轉換層之間。
根據一實施例，第一彩色濾光層用以選擇性傳遞從第一量子點色轉換層發出的第一顏色的光，且第二彩色濾光層用以選擇性傳遞從第二量子點色轉換層發出的第二顏色的光。第一色轉換層包含一選擇性傳遞入射光的帶通濾光層，且帶通濾光層在第一量子點色轉換層上。入射光是藍光或是紫外光，第一顏色是紅色，以及第二顏色是綠色。
根據一實施例，光阻擋層包含在障壁的底表面與側面上連續堆疊複數層，其中光阻擋層的一部分是位於基板以及障壁的底表面之間，以及複數層的至少一層包含一連續延伸的金屬層。光阻擋層包含一第一層、一位在第一層上的第二層、以及一位在第二層上的第三層，其中第一層以及第三層包含一透明金屬氧化物，而該第二層包含一金屬。
根據一實施例，該基板包含一與該第一畫素區及該第二畫素區相分隔的第三畫素區，以及該彩色濾光片包含一位於該第三畫素區上的穿透層，且該穿透層傳遞該入射光。基板包含一與該第一畫素區及該第二畫素區相分隔的第三畫素區，以及彩色濾光片包含一在該第三畫素區上的第三色轉換層，且該第三色轉換層將入射光轉換成一第三顏色的光。該第一色轉換層及該第二色轉換層的每一個的厚度是小於或是相同於該基板至該障壁頂面的一高度。該第一色轉換層包含一第一量子點色轉換層，該第一量子點色轉換層包含第一量子點、散射粒子以及一光敏樹脂層，而第一量子點以及散射粒子分散在光敏樹脂層中。
根據一實施例，本發明提供一種彩色濾光片的製造方法，包含下列步驟：形成一暴露一第一畫素區以及一第二畫素區之間的一遮光區域的犧牲層，第一畫素區及第二畫素區在一基板上彼此相分隔；在基板上形成一反射材料層以覆蓋基板的遮光區域及犧牲層，以及形成一對應遮光區域且受反射材料層限制的一溝槽；形成一嵌入溝槽的有機材料圖樣；使用有機材料圖樣作為一遮罩進行蝕刻反射材料層，以暴露出犧牲層，以及在基板的遮光區域上以及犧牲層一側面上形成一反射層；移除犧牲層以暴露出基板的第一畫素區及第二畫素區；在第一畫素區上形成一第一色轉換層，用以將射入的入射光轉換成一第一顏色的光；以及在第二畫素區上形成一第二色轉換層，用以將射入的入射光轉換成一第二顏色的光。
根據一實施例，形成第一色轉換層及第二色轉換層的步驟是使用一噴墨塗佈法進行。此方法更包含：形成一嵌入受反射層限制的溝槽的障壁，其中形成障壁包含移除有機材料圖樣的一部分。溝槽的寬度在遠離基板的方向上增加。形成反射材料層的步驟包含：在基板上連續堆疊複數層。
根據一實施例，本發明提供一種顯示設備，包含：一顯示器，其包含第一畫素及第二畫素；以及一彩色濾光片，位於顯示器上且包含分別重疊第一畫素及第二畫素的第一畫素區及第二畫素區。彩色濾光片包含：一基板，其包含第一畫素區及第二畫素區；一第一色轉換層，其位於基板的第一畫素區上，用以將入射光轉換成一第一顏色的光；一第二色轉換層，位在基板的第二畫素區上，用以將入射光轉換成一第二顏色的光；一障壁，位在基板上的第一色轉換層以及第二色轉換層之間；以及一光阻擋層，在障壁的一底表面上以及障壁的一側面上連續延伸形成，底表面係面對基板。顯示器包含一背光元件以及一在背光元件上的液晶顯示面板。第一畫素及第二畫素中的每一個包含一有 機發光裝置。
100,100a,100b,100c:彩色濾光片
1000,2000:顯示設備
110,410:基板
111:第一表面
112:犧牲層
120:光阻擋層
120a:第一層
120b:第二層
120c:第三層
121:黑矩陣層
122:反射層
123:反射材料層
130:障壁
131:有機材料層
132:有機材料圖樣
132a:第一部分
132b:第二部分
140,140a:第一色轉換層
141:光敏樹脂
142:散射粒子
143:量子點
144:第一彩色濾光層
145:帶通濾光層
150,150a:第二色轉換層
160:穿透層
160a:第三色轉換層
170:平坦化層
200:液晶顯示面板
210:下基板
220:畫素電路單元
230,440:畫素電極
240:液晶層
250:共同電極
300:背光設備
400:機發光顯示面板
420:畫素電路層
430:畫素定義層
450:中間層
460:對向電極
C1,C2,C3:畫素區
Lu:UV光
Lb,Lr,Lg:光
PX1,PX2,PX3:畫素
OLED:有機發光裝置
以下將配合圖式及實施例來詳細說明本發明之實施方式，藉此對本發明如何應用技術手段來解決技術問題並達成技術功效的實現過程能充分理解並據以實施。
第1圖描述本發明的一彩色濾光片的一實施例。
第2圖描述本發明的彩色濾光片的一放大圖。
第3A圖至第3E圖描述本發明的彩色濾光片製造方法的一實施例的各個階段。
第4圖描述本發明的一彩色濾光片的另一實施例。
第5圖描述本發明的彩色濾光片的再一實施例。
第6圖描述本發明的彩色濾光片的再一實施例。
第7圖描述本發明的顯示設備的一實施例。
第8圖描述本發明的顯示設備的另一實施例。
下文中係參考附圖以更完整地描述例示性實施例；然而，此些實施例可用不同的形式來體現而不應解釋成受上述實施例限制。相反地，提供此些實施例是為了使揭露徹底完全，且可將其範圍完整地傳達給熟悉此領域之技術者。
為了清楚說明而誇張呈現，層與區域等等的尺寸係為誇張顯示。應當理解的是，當一層或是一元件係指在另一層或是基板"上(on)"時，其可為直 接在另一層或是基板上，或是有中介層位於其中。進一步，應當理解的是，應當理解的是一層係指在另一層“下方(under)"時，其可直接位於其下方，或其間存在有至少一中介層。除此之外，應當理解的是，當層係指在兩層"之間(between)"時，其可為兩層之間的唯一層，或是其間存在有至少一中介層。文中類似的元件符號意指類似的元件。
當一元件係指在另一元件「連接(connected to)」或「耦接(coupled to)」另一元件時，其可以是直接連接或直接耦接，或或者其間可存在中介元件而間接連接或間接耦接。除此之外，當一元件係指"包含"一部件時，除非文中有不同的揭露內容，否則表示此元件更可包含另一部件。
第1圖描述本發明的彩色濾光片的一實施例的剖面圖。圖中，彩色濾光片100包含一基板110、一光阻擋層120、一障壁130、一第一色轉換層140以及一第二色轉換層150。彩色濾光片100更可包含一平坦化層170。
基板110具有相分隔的一第一畫素區C1以及一第二畫素區C2。第一色轉換層140位於第一畫素區C1上且用以將入射光Lb轉換成第一顏色的光Lr。第二色轉換層150位於第二畫素區C2上且用以將入射光Lb轉換成第二顏色光Lg。障壁130位於基板110上且用以界定第一畫素區C1以及第二畫素區C2。障壁130位於第一色轉換層140以及第二色轉換層150之間。在一實施例中，光阻擋層120可在障壁130的底表面以及一側面上連續形成，其中底表面是面對基板110。
基板110為透明基板，第一色轉換層140及第二色轉換層150發出的光Lr以及光Lg可穿透此透明基板。例如，基板110可為一包含玻璃或是石英的無機材料透明基板，一包含聚乙二醇對苯二甲酸酯、聚醚碸、聚醯亞胺或是聚碳酸酯的塑膠透明材料，或是任何類型的透明膜。
基板110具有一第一表面111，其上形成光阻擋層120、障壁130、第一色轉換層140以及第二色轉換層150。基板110可具有複數個畫素區，其包含第一畫素區C1及第二畫素區C2。複數個畫素區可彼此分隔且以矩陣形式排列。複數個畫素區更可包含一第三畫素區C3(如第4圖所示)，其發出與第一畫素區C1及第二畫素區C2發出光不同顏色的光。
障壁130位於第一畫素區C1及第二畫素區C2之間的一遮光區域上，且用以界定第一畫素區C1及第二畫素區C2。障壁130位於基板110的多個畫素區之間的遮光區域上，例如，在基板110上以網格形狀排列。障壁130是位於第一色轉換層140及第二色轉換層150之間。例如，障壁130的截面可為有均勻寬度的矩形形狀，如第1圖所示。在一實施例中，障壁130的截面可倒錐形形狀，其寬度在遠離基板110的方向上增加。
障壁130可包含一有機材料，例如聚醯亞胺樹脂、壓克力樹脂或是抗蝕材料。障壁130可包含感光有機材料，例如光阻。例如，障壁130可由使用濕式方法(例如，狹縫塗佈法或是旋轉塗佈法)或是乾式方法(例如，化學氣相沉積法或是真空沉積法)塗佈障壁材料層的方式形成，然後在障壁材料層上進行一光刻製程。障壁130可包含一無機材料，例如氧化矽、氮化矽、或是氧化鉭。在另一實施例中，可用不同的材料及/或方法形成障壁130。
當第一色轉換層140及第二色轉換層150透過噴墨塗佈方法形成時，障壁130厚度(例如，從基板110的第一表面111到障壁130頂面的距離)可預先決定以避免色轉換材料流動到第一畫素區C1及第二畫素區C2上。障壁130厚度(例如，從基板110的第一表面111到障壁130頂面的距離)可相同或是大於第一色轉換層140及第二色轉換層150的厚度。障壁130的底表面面對基板110的第一表面，而此側面係面對第一色轉換層140及第二色轉換層150。
光阻擋層120遮擋入射光Lb到達基板110，遮擋從第一色轉換層140發出的光Lr以避免其照射到第二色轉換層150，以及遮擋從第二色轉換層150發出的光Lg以避免其照射到第一色轉換層140。光阻擋層120可連續延伸超過障壁130的底部以及側面。
光阻擋層120包含黑矩陣層121以及反射層122。黑矩陣層121位於障壁130的底表面上以及位於障壁130與基板110之間。反射層122位於障壁130的側面上。黑矩陣層121遮擋入射光Lb，避免其射入基板110。反射層122可透過反射在一側方向上從第一色轉換層140射出的光Lr，以增加光效能，且可遮擋光Lr以避免其照射到第二色轉換層150。反射層122亦可透過反射在一側方向上從第二色轉換層150射出的光Lg，以增加光效能，且可遮擋光Lg以避免其照射第一色轉換層140。反射層122可使用與黑矩陣層121相同製程以及相同材料同步形成，且可從黑矩陣層121連續延伸出。
光阻擋層120可包含高光反射性質的金屬層。金屬層可為包含有，例如銀(Ag)、鎂(Mg)、鋁(Al)、鉑(Pt)、鈀(Pd)、金(Au)、鎳(Ni)、釹(Nd)、銥(Ir)、鉻(Cr)或其合金、或其混合物的層。在一實施例中，光阻擋層120可包含一具有銀的層。光阻擋層120可為具有連續堆疊複數層的一多層結構。此些堆疊層中的至少一層可為一金屬層。例如，光阻擋層120可包含一銦錫氧化物(ITO)形成的透明金屬氧化層，以及一銀層。在一實施例中，光阻擋層120可包含連續堆疊在彼此上的第一透明金屬氧化層、金屬層(例如，銀層)以及第二透明金屬氧化層。
第一色轉換層140位於第一畫素區C1上，而障壁130環繞第一色轉換層140的一側面。第一色轉換層140將入射光Lb轉換成第一顏色的光Lr。
第二色轉換層150位於第二畫素區C2上，且障壁環繞第二色轉換層150的一側面。第二色轉換層150將入射光Lb轉換成第二顏色的光Lg。例如， 除了一些差異之外，第二色轉換層150可與第一色轉換層140的結構相似。以下將根據第2圖所示的第一色轉換層140與第二色轉換層150的差異，描述第二色轉換層150的一實施例。
根據一實施例，入射光Lb可為藍光，而第一顏色的光Lr可為紅光，而第二顏色的光Lg可為綠光。藍光的峰值波長相同或是高於400nm且低於495nm。綠光的峰值波長可相同或是高於495nm且低於580nm。紅光的峰值波長可相同或是高於580nm且低於750nm。根據另一實施例，入射光Lb可為紫外光(UV)，例如，其峰值波長可相同或是高於200nm且低於400nm。
平坦化層170可位於基板110上以覆蓋光阻擋層120、障壁130、第一色轉換層140以及第二色轉換層150。平坦化層170可為透明使得入射光Lb能照射到第一色轉換層140及第二色轉換層150。平坦化層170可包含透明有機材料，例如聚醯亞胺樹脂、壓克力樹脂或是抗蝕材料。平坦化層170可使用濕式方法(例如，狹縫塗佈法或是旋轉塗佈法)或是乾式方法(例如，化學氣相沉積法或是真空沉積法)形成。在另一實施例中，用於形成平坦化層170的材料及/或方法可為不同。
第2圖描述第1圖所示之彩色濾光片100的一部分的範例的放大剖面圖。請參閱第2圖，光阻擋層120可包含第一層120a、第二層120b以及第三層120c。第一層120a直接環繞障壁130的底面與側面。第二層120b直接形成在第一層120a上。第三層120c直接形成在第二層120b上。第三層120c直接形成在基板110的頂面、第一色轉換層140及第二色轉換層150的側面上。第二層120b直接設置在第一層120a以及第三層120c之間。
第一層120a以及第三層120c可包含，例如透明金屬氧化物。第二層120b可包含，例如具有高光反射率的金屬，例如銀(Ag)。在另一實施例中，第一層120a、第二層120b、第三層120c的材料及/或結構可為不同的。
第一色轉換層140可包含第一量子點色轉換層，其包含光敏樹脂141，而量子點143以及散射粒子142擴散於光敏樹脂141中。量子點143受到入射光Lb激發而發出光Lr。量子點143可吸收入射光Lb並發出波段比入射光Lb波長還長的光Lr。
量子點143可包含矽(Si)基奈米晶體、二六族基化合物半導體奈米晶體、三五族基化合物半導體奈米晶體、四六族基化合物半導體奈米晶體、或是其混合物。二六族基化合物半導體奈米晶體可為CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、HgS、HgSe、HgTe、CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HgZnSe、HggZnTe、CdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe、以及HgZnSTe中的其中一個。
三五族基化合物半導體奈米晶體可為GaN、GaP、GaAs、AlN、AlP、AlAs、InN、InP、InAs、GaNP、GaNAs、GaPAs、AlNP、AlNAs、AlPAs、InNP、InNAs、InPAs、GaAlNP、GaAlNAs、GaAlPAs、GaInNP、GaInNAs、GaInPAs、InAlNP、InAlNAs、以及InAlPAs中的其中一種。四六族基化合物半導體奈米晶體可為SbTe。
散射粒子142可將量子點143未吸收的入射光Lb散射，使得更多量子點143被入射光Lb激發。第一量子點色轉換層的色轉換率可透過使用散射粒子142而增加。散射粒子142可為，例如氧化鈦(TiO2)或是金屬粒子。
光敏樹脂141可為矽樹脂或是環氧樹脂，且可有光穿透性。第一色轉換層140可包含一將入射光Lb轉換成第一顏色光Lr的螢光物質。
第一色轉換層140更可包含一第一彩色濾光層144，其在第一量子點色轉換層以及基板110之間反射入射光Lb。第一彩色濾光層144可反射入射光 Lb，使得更多量子點143被激發。同時，第一彩色濾光層144可遮擋入射光Lb，使其不穿透基板110射向外部，藉此提高色純度以及顏色重現性。
根據一實施例，第一彩色濾光層144可為擋藍光的濾光片。根據另一實施例，第一彩色濾光層144可為紅光可穿透的濾光片，用以選擇性讓第一顏色的光穿透。當入射光Lb包含第二顏色的光Lg(例如，綠光)時，第一彩色濾光層144可不僅遮擋入射光Lb，更遮擋光Lg，使得光Lg無法射入第一畫素區C1。
在第一量子點色轉換層上，第一色轉換層140可包含一選擇性傳遞入射光Lb的帶通濾光層145。當入射光Lb包含光Lg時，光Lg無法在第一色轉換層140激發量子點143，且可經由基板110射向外部。在此情況下，第一顏色的光Lr以及第二顏色的光Lg都會射向外部。因此，第一畫素區C1中的色純度可能會降低，進而造成顏色重現性降低。帶通濾光層145可選擇性只讓入射光Lb(例如，藍光)通過，藉此增加色純度以及顏色重現性。在另一實施例中，帶通濾光層145可省略不用。
在一實施例中，第二色轉換層150亦可包含光敏樹脂141，而量子點143以及散射粒子142分散在光敏樹脂141中。而包含量子點143與散射粒子142分散於其中的光敏樹脂141的層可稱為一第二量子點色轉換層。
藉由被入射光Lb激發，第二色轉換層150中的量子點143發出第二顏色的光Lg。量子點143可吸收入射光Lb並發出波段比入射光Lb之波長還長的光Lg。量子點143可包含矽基奈米晶體、二六族基化合物半導體奈米晶體、三五族基化合物半導體奈米晶體、四六族基化合物半導體奈米晶體、或其混合物中的至少一種奈米晶體。
第二色轉換層150中的量子點143以及第一色轉換層140中的量子點143可包含相同材料。然而，第二色轉換層150中的量子點143的尺寸可不同於在第一色轉換層140中的量子點143的尺寸。
當發出的光的波長增加，足以誘發表面等離子共振的量子點143的尺寸也趨向增加。因此，由於綠光波長比紅光波長短，所以在第二色轉換層150中的量子點143尺寸可小於在第一色轉換層140中的量子點143尺寸。散射粒子142的尺寸可小於在第二色轉換層150中的量子點143的尺寸。
在第二色轉換層150中的光敏樹脂141以及散射粒子142可與在第一色轉換層140中的光敏樹脂141以及散射粒子142相同。
與第一色轉換層140類似，第二色轉換層150亦可包含一第二彩色濾光層，其反射在第二量子點色轉換層以及基板110之間的入射光Lb。第二彩色濾光層可反射入射光Lb，使得更多量子點143被激發。第二彩色濾光層可遮擋入射光Lb，使其無法穿透基板110射向外部，藉此以增加色純度以及顏色重現性。第二彩色濾光層可為一遮藍光濾光片。
根據一實施例，第二色轉換層150更可包含綠光可穿透的濾光層，其選擇性傳遞第二顏色的光Lg。綠光可穿透的濾光層可位於第二量子點色轉換層以及基板110之間。當入射光Lb包含光Lr(例如，紅光)，則綠光可穿透的濾光層不僅可遮擋入射光Lb，也能遮擋光Lr使其不能射入第二畫素區C2。與第一色轉換層140類似，第二色轉換層150亦可包含位於第二量子點色轉換層上的帶通濾光層145，其選擇性傳遞入射光Lb。
第3A圖至第3E圖是本發明的彩色濾光片製造方法的一實施例的多個階段的示意圖。請參閱第3A圖。犧牲層112形成在基板110的第一表面111上，其由第一畫素區C1及第二畫素區C2所界定。犧牲層112形成在第一畫素區C1及第二畫素區C2上，且在第一畫素區C1及第二畫素區C2之間暴露出一遮光區域。遮光區域可為基板110(例如第一畫素區C1及第二畫素區C2)上光可射入的區域以外的區域。遮光區域可在多個畫素區，例如第一畫素區C1及第二畫素區C2，之間。
犧牲層112可包含一光敏有機材料。例如，可使用狹縫塗佈法或是旋轉塗佈法將光敏有機材料層塗佈在基板110上。然後，可用光刻製程形成暴露基板110之遮光區域的犧牲層112。
請參閱第3B圖。反射材料層123形成在基板110的第一表面111上，以覆蓋基板110的遮光區域以及犧牲層112。由於反射材料層123在平坦的第一表面111上凸起，所以在第3B圖中形成一溝槽。溝槽對應至遮光區域且受到反射材料層123的限制。如第3B圖所示，溝槽的寬度可隨著遠離基板110而增加。因此，如第3E圖所示，障壁130的截面可為倒錐形形狀，其寬度在遠離基板110的方向上增加。
反射材料層123可包含一具有光反射特性的金屬層。反射材料層123可具有一包含彼此堆疊之多個材料層的堆疊結構。在一實施例中，如第2圖所示，反射材料層123可具有由第一透明金屬氧化層、金屬層以及第二透明金屬氧化層連續堆疊形成的三層結構。例如，反射材料層123可用化學氣相沉積製程形成。
有機材料層131可形成在基板110上，反射材料層123也形成在基板110。例如，有機材料層131可包含一光敏有機材料，其不同於犧牲層112之光敏有機材料。如第3B圖所示，有機材料層131可嵌在受反射材料層123侷限的溝槽中。
請參閱第3C圖。當透過光刻製程將一部分有機材料層131移除後，便可形成嵌入溝槽的有機材料圖樣132。有機材料圖樣132可包含嵌入溝槽的第一部分132a以及凸出於溝槽外的第二部分132b。可暴露出在犧牲層112上的一部分反射材料層123。第一部分132a及第二部分132b之間的交界處可與位於犧牲層112上的反射材料層123的一部分的上表面在同一平面上。
反射材料層123的一部分可使用作為蝕刻遮罩的有機材料圖樣132來移除。因此，暴露出犧牲層112。反射材料層123未移除的一部分是用作為光阻擋層120。光阻擋層120是提供在基板110的遮光區域以及犧牲層112的一側面上。
請參閱第3D圖，其顯示暴露的犧牲層112被移除。因此，如第3D圖所示，暴露出基板110的第一畫素區C1及第二畫素區C2。同樣地，有機材料圖樣132的第二部分132b被移除而只保留嵌在溝槽中的第一部分132a。第一部分132a亦可稱為障壁130。在第3D圖中的障壁130具有平坦上表面，且其高度相同於光阻擋層光阻擋層之最高部分。在一實施例中，障壁130的上表面可非平坦，例如，可為凹陷狀、凸起狀或是其他形狀。
請參閱第3E圖。第一色轉換層140可形成在由障壁130以及光阻擋層120限定且在第一畫素區C1上方的空間中。例如，第一色轉換層140可使用噴墨塗佈法形成。可設計障壁130以及光阻擋層120的高度，使得當使用噴墨塗佈法形成第一色轉換層140時，第一色轉換層140不會流到相鄰畫素區(例如，第二畫素區C2)上。
請再次參閱第2圖。第一色轉換層140可包含第一彩色濾光層144。根據一實施例，在第一彩色濾光層144形成在第3D圖所示的基板110的第一畫素區C1後，才形成第一量子點色轉換層。根據一實施例，在犧牲層112形成在基板110上之前，第一彩色濾光層144可形成在第一畫素區C1上。
與第一色轉換層140相似，第二色轉換層150亦可形成在由障壁130以及光阻擋層限定且在第二畫素區C2上方的空間。例如，第二色轉換層150亦可使用噴墨塗佈法形成。
由於使用噴墨塗佈法來形成第一色轉換層140及第二色轉換層150，所以可不額外進行光刻製程。因此，可降低製造成本且簡化製程。
第4圖是本發明的彩色濾光片的另一實施例的剖面示意圖。圖中，彩色濾光片100a包含基板110、光阻擋層120、障壁130、第一色轉換層140、第二色轉換層150以及平坦化層170。
基板110具有彼此相分隔第一畫素區C1、第二畫素區C2以及第三畫素區C3。第一色轉換層140位於第一畫素區C1上且將入射光Lb轉換成第一顏色的光Lr。第二色轉換層150位於第二畫素區C2上且將入射光Lb轉換成第二顏色的光Lg。障壁130位於基板110上，用以界定第一畫素區C1至第三畫素區C3，且位於第一畫素區C1及第二畫素區C2之間，以及位於第二畫素區C2以及第三畫素區C3之間。光阻擋層120在障壁130之面對基板110的底表面以及障壁130的側面上連續形成。平坦化層170可位在基板110上以覆蓋光阻擋層120、障壁130、第一色轉換層140以及第二色轉換層150。
除了以下說明的不同處之外，基板110、光阻擋層120、障壁130、第一色轉換層140、第二色轉換層150以及平坦化層170可分別對應第1圖以及第2圖中的相同元件。
請參閱第4圖。平坦化層170位於第三畫素區C3上而不需有色轉換層在基板110上。例如，平坦化層170可包含具有光穿透性的透明有機材料。因此，入射光Lb可經由基板110的第三畫素區C3射出外部。例如，入射光Lb可為第三顏色，例如是藍色。
第一顏色的光Lr可從第一畫素區C1射出，而第二顏色的光Lg可從第二畫素區C2射出，而入射光Lb(例如，藍光)可從第三畫素區C3射出。因此，包含此彩色濾光片100a的顯示設備可顯示一彩色影像。
根據一實施例，選擇性傳遞入射光Lb的帶通濾光層可位在第三畫素區C3上。例如，此帶通濾光層可與第2圖中的帶通濾光層145相同。如果未使用帶通濾光層，但是入射光Lb包含有光Lr及/或光Lg射入時，光Lr及/或光Lg可能 會從第三畫素區C3射出。在此情況下，入射光Lb(例如，藍光)以及光Lr及/或光Lg均會射出。因此，第三畫素區C3的色純度可能會降低，進而造成顏色重現性下降。帶通濾光層可選擇性傳遞入射光Lb(例如，藍光)，使得只有藍光可從第三畫素區C3射出，藉此提高色純度以及顏色重現性。
第5圖描述本發明之彩色濾光片的另一實施例。圖中，彩色濾光片100b包含基板110、光阻擋層120、障壁130、第一色轉換層140、第二色轉換層150、穿透層160以及平坦化層170。
基板110具有彼此相分隔的第一畫素區C1、第二畫素區C2以及第三畫素區C3。第一色轉換層140位在第一畫素區C1上且將入射光Lb轉換成第一顏色的光Lr。第二色轉換層150位在第二畫素區C2上且將入射光Lb轉換成第二顏色的光Lg。障壁130位在基板110上，用以第一畫素區C1、第二畫素區C2以及第三畫素區C3，且位於第一畫素區C1及第二畫素區C2之間，以及第二畫素區C2以及第三畫素區C3之間。光阻擋層120連續形成在障壁130之面對基板110的底表面以及障壁130的側壁上。穿透層160不轉換入射光Lb的顏色，但是會傳遞入射光Lb。平坦化層170可位在基板110上以覆蓋光阻擋層120、障壁130、第一色轉換層140、第二色轉換層150以及穿透層160。
除了以下說明的差異處之外，基板110、光阻擋層120、障壁130、第一色轉換層140、第二色轉換層150以及平坦化層170可對應第1圖以及第2圖所示的相同元件。
請參閱第5圖。穿透層160位在基板110的第三畫素區C3上，且傳遞入射光Lb而不會轉換入射光Lb的顏色。例如，穿透層160可包含具有光穿透性的透明有機材料。穿透層160可包含散射粒子，其散射入射光Lb而未進行色轉換。因此，第三顏色(例如，藍)的入射光Lb可經由基板110的第三畫素區C3向外部射出。
穿透層160可包含一選擇性傳遞入射光Lb的帶通濾光層。帶通濾光層可直接形成在基板110上。帶通濾光層會遮擋從第三畫素區C3射入的入射光Lb中的光Lr及/或光Lg。因此，只有入射光Lb(例如，藍光)能從第三畫素區C3射出，藉此增加色純度以及顏色重現性。
第一顏色(例如，紅光)的光的可從第一畫素區C1射出，第二顏色(例如，綠光)的光Lg可從第二畫素區C2射出，而入射光Lb(例如，藍光)可從第三畫素區C3射出。因此，包含彩色濾光片的顯示設備可顯示一彩色影像。
第6圖描述本發明的彩色濾光片的另一實施例的示意圖。圖中，彩色濾光片100c包含基板110、光阻擋層120、障壁130、第一色轉換層140a、第二色轉換層150a、第三色轉換層160a以及平坦化層170。
基板110具有彼此相分隔的第一畫素區C1、第二畫素區C2以及第三畫素區C3。第一色轉換層140a位於第一畫素區C1上且將入射的紫外(UV)光Lu轉換成第一顏色的光Lr。第二色轉換層150a位於第二畫素區C2上且將入射的UV光Lu轉換成第二顏色的光Lg。第三色轉換層160a位於第三畫素區C3上且將入射的UV光Lu轉換成第三顏色的光Lb。障壁130位於基板110上以界定第一畫素區C1、第二畫素區C2以及第三畫素區C3，且位於第一色轉換層140a及第二色轉換層150a之間，以及第二色轉換層150a以及第三色轉換層160a之間。光阻擋層120在障壁130之面對基板110的底表面以及障壁130的側面上連續形成。平坦化層170可位在基板110上以覆蓋光阻擋層120、障壁130、第一色轉換層140a、第二色轉換層150a以及第三色轉換層160a。
除了以下內容描處的差異處之外，基板110、光阻擋層120、障壁130以及平坦化層170可對應第1圖以及第2圖中的相同元件。
第一色轉換層140a將入射UV光Lu轉換成第一顏色的光Lr，例如紅光。第一色轉換層140a可包含一具有光敏樹脂的第一量子點色轉換層，而第 一量子點以及散射粒子是分散在光敏樹脂中。第一量子點受到入射UV光Lu激發而發出光Lr。第一量子點可發出波段比入射UV光Lu的波長更長的光Lr。第一量子點可包含在矽基奈米晶體、二六族基化合物半導體奈米晶體、三五族基化合物半導體奈米晶體、四六族基化合物半導體奈米晶體以及其混合物之中的其中一種奈米晶體。
第一色轉換層140a更可包含一遮UV光濾光層，其在第一量子點色轉換層以及基板110之間反射入射UV光。根據一實施例，第一色轉換層140a更可包含一第一帶通濾光層，其在第一量子點色轉換層以及基板110之間選擇性傳遞光Lr。
第二色轉換層150a將入射UV光Lu轉換成第二顏色的光Lg，例如綠光。第二色轉換層150a可包含一具有光敏樹脂的第二量子點色轉換層，而第二量子點以及散射粒子是分散在光敏樹脂中。第二量子點會受到入射UV光Lu激發而發出光Lg。第二量子點可發出波段比入射UV光Lu的波長更長的光Lg。第二量子點可包含在矽基奈米晶體、二六族基化合物半導體奈米晶體、三五族基化合物半導體奈米晶體、四六族基化合物半導體奈米晶體、及其混合物之中的其中一種奈米晶體。
第二色轉換層150a更可包含一遮UV光濾光層，其在第二量子點色轉換層以及基板110之間反射入射UV光Lu。根據一實施例，第二色轉換層150a更可包含一第二帶通濾光層，其選擇性在第二量子點色轉換層以及基板110之間傳遞光Lg。
第三色轉換層160a將入射UV光Lu轉換成光Lb，例如藍光。第三色轉換層160a可包含一具有光敏樹脂的第三量子點色轉換層，第三量子點以及散射粒子是分散在光敏樹脂中。第三量子點會受入射UV光Lu激發而發出光Lb。第三量子點可發出波段比入射UV光Lu的波長更長的光Lb。第三量子點可包含在 矽基奈米晶體、二六族基化合物半導體奈米晶體、三五族基化合物半導體奈米晶體、四六族基化合物半導體奈米晶體、以及其混合物之中的其中一種奈米晶體。
第三色轉換層160a更可包含一遮UV光濾光層，其在第三量子點色轉換層以及基板110之間反射入射UV光Lu。根據另一實施例，第三色轉換層160a更可包含一第三帶通濾光層，其在第三量子點色轉換層以及基板110之間選擇性傳遞光Lb。
例如，第一量子點、第二量子點以及第三量子點可用相同材料形成。當發出的光波長增加時，足以誘發表面等離子共振的量子點尺寸趨向於增加。因此，第一量子點的尺寸可大於第二量子點的尺寸。第二量子點的尺寸可大於第三量子點的尺寸。第三量子點的尺寸可大於散射粒子的尺寸。散射粒子可散射入射UV光Lu而不會改變入射UV光Lu的波長。
第一顏色的光Lr(例如，紅光)可從第一畫素區C1射入。第二顏色的光Lg(例如，綠光)可從第二畫素區C2射入。第三顏色的光Lb(例如，藍光)可從第三畫素區C3射入。因此，包含彩色濾光片100c的顯示設備可顯示一彩色影像。
第7圖是本發明的顯示設備的一實施例的剖面圖。圖中，顯示設備1000包含一背光設備300、一液晶顯示面板200以及彩色濾光片100b。彩色濾光片100b可為第5圖描述的彩色濾光片。
背光設備300可提供在液晶顯示面板200上形成影像的光。背光設備300可包含一發光源，其發出第三顏色的光Lb，例如藍光。根據一實施例，背光設備300可包含發出UV光的發光源。在此情況下，彩色濾光片100b可用第6圖的彩色濾光片100c取代。
液晶顯示面板200包含一下基板210、一在下基板210上方的畫素電路單元220、一畫素電極230、一液晶層240以及一共同電極250。畫素電路單 元220包含第一畫素PX1、第二畫素PX2以及第三畫素PX3。第一畫素PX1、第二畫素PX2以及第三畫素PX3中的每一個控制位於其上的畫素電極230。
彩色濾光片100b透過部分轉換背光設備300發出且穿透液晶顯示面板200的光Lb的顏色，藉此向外部發出光Lr以及光Lg。因此，光Lb可射向外部而不經顏色改變。
例如，下基板210可用玻璃或是透明塑膠材料形成。在一實施例中，一下偏光板，其對背光設備300發出的光中只會傳遞特定偏振光，可提供在下基板210的底表面。例如，下偏光板可為一只傳遞在第一方向上線性偏極的偏光板。
畫素電路單元220可包含複數個薄膜電晶體、以及分別用於施加閘極訊號以及資料訊號至每一薄膜電晶體的一閘極導線以及一資料導線。為了接收一數據電壓，畫素電極230可電性連接至畫素電路單元220中的薄膜電晶體的源極電極或是汲極電極。
共同電極250可位在平坦化層170上。一上偏光板可位於平坦化層170以及共同電極250之間。上偏光板可為一傳遞在第二方向上線性偏極的光的偏光板，第二方向是垂直第一方向。在一實施例中，上下偏光板皆可傳遞相同偏振的光。
液晶層240位於畫素電極230以及共同電極250之間。可根據施加在畫素電極230以及共同電極250之間的電壓，以調整液晶層240中的液晶分子排列。例如，可根據施加在畫素電極230以及共同電極250之間的電壓，以控制畫素電極230以及共同電極250之間的液晶層240的區域。因此，液晶層240分別被控制在改變入射光偏振的模式(on)或是未改變入射光偏振的模式(off)。同樣的，入射光的偏振改變程度也可調整，因此可表現一中間灰度。
受第一畫素PX1上方的液晶層240控制的光Lb會被第一色轉換層140轉換成光Lr且透過基板110射向外部。受第二畫素PX2上方的液晶層240控制的光Lb會被第二色轉換層150轉換成光Lg且透過基板110射向外部。受第三畫素PX3上方的液晶層240控制的光Lb不經色轉換便經由穿透層160而透過基板110射向外部。
彩色濾光片100b包含用以形成不同顏色的第一畫素區C1、第二畫素區C2以及第三畫素區C3，以及用以界定第一畫素區C1、第二畫素區C2以及第三畫素區C3的障壁130。彩色濾光片100b包含光阻擋層120，其在障壁130之面對基板110的底表面上以及障壁130的側面上連續形成。
請參閱第5圖。第一畫素區C1、第二畫素區C2及第三畫素區C3可分別發出紅光、綠光以及藍光。第一色轉換層140可形成在第一畫素區C1中，用以將光Lb轉換成光Lr。第二色轉換層150可形成在第二畫素區C2中，用以將光Lb轉換成光Lg。傳遞光Lb的穿透層160是位在第三畫素區C3中。
當背光設備300發出的光Lb穿過液晶顯示面板200，而在液晶顯示面板200中根據影像資訊以及畫素區進行調變且射向彩色濾光片100b上而被轉換成轉換成光Lr、光Lg以及光Lb時，可顯示影像。
由於光阻擋層120以及障壁130位於第一色轉換層140、第二色轉換層150以及穿透層160之間，所以可避免顏色混合，藉以增加顏色重現性。同時，可增加光效能，藉此降低功耗。
在第7圖中，液晶顯示面板200位在背光設備300以及彩色濾光片100b之間。在一實施例中，彩色濾光片100b可位在背光設備300以及液晶顯示面板200之間。同樣地，在第7圖中，第5圖的彩色濾光片100b經過翻轉後而設置在液晶顯示面板200上。在一實施例中，彩色濾光片100b可不翻轉，而基板110可位於液晶顯示面板200上方。
第8圖是本發明的顯示設備的一實施例的剖面圖。顯示設備2000包含一有機發光顯示面板400以及彩色濾光片100b。有機發光顯示面板400包含第一畫素PX1、第二畫素PX2及第三畫素PX3，且包含分別受第一畫素PX1、第二畫素PX2及第三畫素PX3控制的多個有機發光裝置(OLED)。每一OLED可受第一畫素PX1、第二畫素PX2及第三畫素PX3控制而發出一光量的光Lb(例如，藍光)。
彩色濾光片100b可藉由部分轉換OLED發出的光Lb的顏色，而對外部發出光Lr以及光Lg。光Lb可射向外部不須色轉換。
根據一實施例，OLED可發出UV光。在此情況下，可使用第6圖的彩色濾光片100c以取代彩色濾光片100b。
例如，基板410可用透明材料形成，例如玻璃、金屬或是有機材料。
包含第一畫素PX1、第二畫素PX2及第三畫素PX3的畫素電路層420位於基板410上。第一畫素PX1、第二畫素PX2及第三畫素PX3中的每一個包含複數個薄膜電晶體以及至少一儲存電容。除了第一畫素PX1、第二畫素PX2及第三畫素PX3以外，用於傳送訊號以及驅動電壓至第一畫素PX1、第二畫素PX2及第三畫素PX3的多條訊號線以及一電源供應線是在畫素電路層420中。
薄膜電晶體可包含一半導體層、一閘極電極、一源極電極以及一汲極電極。例如，半導體層可包含非晶矽或是多晶矽。半導體層可包含一氧化物半導體。半導體層可包含一通道區域、以及摻雜有雜質的源極與汲極區。
多個畫素電極440位在畫素電路層420上。畫素電極440可連接至薄膜電晶體的源極電極與汲極電極。畫素定義層430的一開孔會暴露出畫素電極440，而畫素定義層430可覆蓋畫素電極440的邊緣。
中間層450位於畫素定義層430所暴露的畫素電極440上。中間層450包含以低分子有機材料或是高分子有機材料形成的有機發光層。除了有機發光層，進一步可選地，中間層450可包含，例如電洞轉移層(HTL)、電洞注入層(HIL)、電子轉移層(ETL)、以及電子注入層(EIL)中的至少一層。
對向電極460覆蓋中間層450以及畫素定義層430。對向電極460可為透明電極或是半透明電極。例如，對向電極460可包含具有低功函數的金屬。對向電極460可包含透明導電氧化物(TCO)。
畫素電極440、中間層450以及對電極460形成OLED。受第一畫素PX1控制的OLED發出的光Lb會經由第一色轉換層140被轉換成光Lr，並從經由基板110射向外部。受第二畫素PX2控制的OLED發出的光Lb會經由第二色轉換層150被轉換成光Lg，並從經由基板110射向外部。受第三畫素PX3控制的OLED發出的光Lb不經色轉換，而經由穿透層160以及基板110射向外部。
彩色濾光片100b包含用以形成不同顏色的第一畫素區C1、第二畫素區C2及第三畫素區C3、以及界定第一畫素區C1、第二畫素區C2及第三畫素區C3的障壁130。彩色濾光片100b包含在障壁130之面對基板110的底表面上以及障壁130的側面上連續形成。
如同先前第5圖所述，第一畫素區C1、第二畫素區C2及第三畫素區C3可分別發出紅光、綠光以及藍光。第一色轉換層140位於第一畫素區C1中，將光Lb轉換成光Lr。第二色轉換層150位於第二畫素區C2中，將光Lb轉換成光Lg。穿透層160位於第三畫素區C3中，傳遞光Lb。
當有機發光顯示面板400發出的光Lb射入彩色濾光片100b，然後光Lb轉換成光Lr、光Lg以及光Lb，則可顯示一彩色影像。
由於光阻擋層120以及障壁130位於第一色轉換層140、第二色轉換層150以及穿透層160之間，所以可避免混色以提高顏色重現性。同時，也可提高光效能，藉此降低功耗。
在第8圖中，第5圖的彩色濾光片100b被翻轉而設置在有機發光顯示面板400上方。在一實施例中，彩色濾光片100b可以不翻轉，而基板110可位於有機發光顯示面板400上方。
根據前述實施例的至少一個，可透過噴墨塗佈法形成色轉換層。因此，可以簡化製程。此外，當障壁形成在相鄰色轉換層之間時，反射層可形成在障壁的一側面上。因此，可避免相鄰色轉換層之間產生混色，而且反射層可提高光效能。因此，本發明可提供容易製造且具有高顏色重現性的顯示設備。
雖然本發明以前述之實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習相像技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之專利保護範圍須視本說明書所附之申請專利範圍所界定者為準。
100:彩色濾光片
110:基板
111:第一表面
120:光阻擋層
121:黑矩陣層
122:反射層
130:障壁
140:第一色轉換層
150:第二色轉換層
170:平坦化層
C1,C2:畫素區
Lb,Lr,Lg:光

Claims (23)

  1. 一種彩色濾光片，其包含：一基板，包含與一第二畫素區相分隔的一第一畫素區；一第一色轉換層，係位於該第一畫素區上且用以將入射光轉換成一第一顏色的光；一第二色轉換層，係位於該第二畫素區上且用以將該入射光轉換成一第二顏色的光；一障壁，係位於該基板上的該第一色轉換層以及該第二色轉換層之間；以及一光阻擋層，係在該障壁的一底面以及一側面上連續延伸，該底面係面對該基板，其中該光阻擋層係遮擋該入射光、從該第一色轉換層發出的該第一顏色的光、以及從該第二色轉換層發出的該第二顏色的光。
  2. 如請求項1所述之彩色濾光片，其中該光阻擋層包含：一黑矩陣層，係位於該障壁以及該基板之間，以及一反射層，係位於該障壁以及該第一色轉換層之間，以及該障壁以及該第二色轉換層之間。
  3. 如請求項2所述之彩色濾光片，其中該反射層包含與該黑矩陣層相同的材料且從該黑矩陣層連續延伸。
  4. 如請求項1所述之彩色濾光片，其中：該障壁的截面為一倒錐形形狀，以及該倒錐形形狀的寬度在遠離該基板的方向上增加。
  5. 如請求項1所述之彩色濾光片，其中：該第一色轉換層包含第一量子點，當被該入射光激發時發出該第一顏色的光，以及該第二色轉換層包含第二量子點，當被該入射光激發時發出該第二顏色的光。
  6. 如請求項5所述之彩色濾光片，其中：該第一色轉換層包含：一第一量子點色轉換層，其包含該第一量子點；以及一第一彩色濾光層，用以反射該入射光，該第一彩色濾光層位於該基板以及該第一量子點色轉換層之間；且該第二色轉換層包含：一第二量子點色轉換層，其包含該第二量子點；以及一第二彩色濾光層，用以反射該入射光，該第二彩色濾光層位於該基板以及該第二量子點色轉換層之間。
  7. 如請求項6所述之彩色濾光片，其中：該第一彩色濾光層用以選擇性傳遞從該第一量子點色轉換層發出的該第一顏色的光，以及該第二彩色濾光層用以選擇性傳遞從該第二量子點色轉換層發出的該第二顏色的光。
  8. 如請求項6所述之彩色濾光片，其中該第一色轉換層包含用以選擇性傳遞該入射光的一帶通濾光層，且該帶通濾光層在該第一量子點色轉換層上。
  9. 如請求項1所述之彩色濾光片，其中：該入射光是藍光或是紫外光，該第一顏色是紅色，以及該第二顏色是綠色。
  10. 如請求項1所述之彩色濾光片，其中：該光阻擋層包含在該障壁的該底面與該側面上連續堆疊的複數個層，其中該光阻擋層的一部分是位於該基板以及該障壁的該底面之間，以及該複數個層的至少一層包含一連續延伸金屬層。
  11. 如請求項1所述之彩色濾光片，其中該光阻擋層包含一第一層、位在該第一層上的一第二層、以及位在該第二層上的一第三層，其中該第一層以及該第三層包含一透明金屬氧化物，而該第二層包含一金屬。
  12. 如請求項1所述之彩色濾光片，其中：該基板包含與該第一畫素區及該第二畫素區相分隔的一第三畫素區，以及該彩色濾光片包含位於該第三畫素區上的一穿透層，且該穿透層傳遞該入射光。
  13. 如請求項1所述之彩色濾光片，其中：該基板包含與該第一畫素區及該第二畫素區相分隔的一第三畫素區，以及該彩色濾光片包含在該第三畫素區上的一第三色轉換層，且該第三色轉換層將該入射光轉換成一第三顏色的光。
  14. 如請求項1所述之彩色濾光片，其中該第一色轉換層及該第 二色轉換層的每一個的厚度是小於或是相同於該基板至該障壁之一頂面的一高度。
  15. 如請求項1所述之彩色濾光片，其中該第一色轉換層包含一第一量子點色轉換層，該第一量子點色轉換層包含第一量子點、散射粒子以及一光敏樹脂層，而該第一量子點以及該散射粒子分散在該光敏樹脂層中。
  16. 一種彩色濾光片的製造方法，其包含：形成暴露在一第一畫素區以及一第二畫素區之間的一遮光區域的一犧牲層，該第一畫素區及該第二畫素區在一基板上彼此相分隔；在該基板上形成一反射材料層，以覆蓋該基板的該遮光區域及該犧牲層，以及形成對應於該遮光區域且受該反射材料層限制的一溝槽；形成嵌入該溝槽的一有機材料圖樣；使用該有機材料圖樣作為一遮罩進行蝕刻該反射材料層，以暴露出該犧牲層，以及在該基板的該遮光區域上以及該犧牲層的一側面上形成一反射層；移除該犧牲層以暴露出該基板的該第一畫素區及該第二畫素區；在該第一畫素區上形成一第一色轉換層，用以將該第一色轉換層上的入射光轉換成一第一顏色的光；以及在該第二畫素區上形成一第二色轉換層，用以將該第二色轉換層上的該入射光轉換成一第二顏色的光， 其中該反射層係反射該入射光、從該第一色轉換層發出的該第一顏色的光、以及從該第二色轉換層發出的該第二顏色的光。
  17. 如請求項16所述之方法，其中形成該第一色轉換層及該第二色轉換層的步驟是使用一噴墨塗佈法進行。
  18. 如請求項16所述之方法，更包含：形成嵌入受該反射層限制的該溝槽的一障壁，其中形成該障壁包含移除該有機材料圖樣的一部分。
  19. 如請求項16所述之方法，其中該溝槽的寬度在遠離該基板的方向上增加。
  20. 如請求項16所述之方法，其中形成該反射材料層包含在該基板上連續堆疊複數個層。
  21. 一種顯示設備，其包含：一顯示器，其包含第一畫素及第二畫素；以及一彩色濾光片，係位於該顯示器上且包含分別重疊該第一畫素及該第二畫素之第一畫素區及第二畫素區，其中該彩色濾光片包含：一基板，其包含該第一畫素區及該第二畫素區；一第一色轉換層，係位於該基板的該第一畫素區上，用以將入射光轉換成一第一顏色的光；一第二色轉換層，係位在該基板的該第二畫素區上，用以將該入射光轉換成一第二顏色的光；一障壁，係位在該基板上的該第一色轉換層以及該第二色轉換層之間；以及 一光阻擋層，係在該障壁的一底面上以及該障壁的一側面上連續延伸，該底面係面對該基板，其中該光阻擋層係遮擋該入射光、從該第一色轉換層發出的該第一顏色的光、以及從該第二色轉換層發出的該第二顏色的光。
  22. 如請求項21所述之顯示設備，其中該顯示器包含一背光元件以及在該背光元件上的一液晶顯示面板。
  23. 如請求項21所述之顯示設備，其中該第一畫素及該第二畫素中的每一個包含一有機發光裝置。
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