CN111580301B - 一种彩膜基板、其制作方法及显示装置 - Google Patents

一种彩膜基板、其制作方法及显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种彩膜基板、其制作方法及显示装置，由于量子点彩膜层一般经过溶液加工、旋涂或喷墨印刷、UV固化成膜后形成，本发明通过在黑矩阵侧壁与量子点彩膜层侧壁之间设置光转换结构，这样在对量子点溶液进行UV固化(紫外光照射，如395nm的紫外光)时，光转换结构可以将395nm的紫外光转换为波长更短、能量更高的紫外光(如365nm)，由于光转换结构设置在黑矩阵侧壁与量子点彩膜层侧壁之间，因此该波长更短、能量更高的紫外光可以从侧边发出照射至量子点彩膜层，解决了量子点彩膜层UV固化不均匀的问题，从而提高了显示器件的发光性能。

Description

一种彩膜基板、其制作方法及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板、其制作方法及显示装置。
背景技术
随着显示技术的不断发展，人们对显示装置的显示质量要求也越来越高。量子点材料作为一种新型发光材料，具有发光光谱集中，色纯度高、且发光颜色可通过量子点材料的尺寸、结构或成分进行简易调节等优点；量子点墨水经过溶液加工、旋涂或喷墨印刷，进一步固化成膜后形成量子点彩膜，是应用于固态照明和全色平板显示的新一代发光材料。
发明内容
本发明实施例提供的一种彩膜基板、其制作方法及显示装置，用以提高量子点彩膜层UV固化的均匀性。
因此，本发明实施例提供了一种彩膜基板，包括：
衬底基板；
黑矩阵，位于所述衬底基板一侧，所述黑矩阵具有多个像素开口；
量子点彩膜层，位于所述像素开口内，所述量子点彩膜层包括紫外光固化型量子点材料；
光转换结构，位于所述黑矩阵侧壁与所述量子点彩膜层侧壁之间，所述光转换结构用于将第一波长的紫外光转换为第二波长的紫外光，所述第一波长大于所述第二波长。
可选地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，所述第一波长小于400nm。
可选地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，所述光转换结构沿垂直于所述衬底基板厚度方向上的截面具有预设宽度，沿所述光转换结构中远离衬底基板的表面指向靠近所述衬底基板的表面方向，所述预设宽度相同。
可选地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，所述光转换结构沿垂直于所述衬底基板厚度方向上的截面具有预设宽度，沿所述光转换结构远离衬底基板的表面指向靠近所述衬底基板的表面方向，所述预设宽度逐渐增大。
可选地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，沿垂直于所述衬底基板厚度的方向，所述黑矩阵中远离所述衬底基板的表面的宽度小于靠近所述衬底基板的表面的宽度。
可选地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，所述光转换结构内具有散射粒子。
可选地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，所述光转换结构包括：基体，以及掺杂在所述基体内的上转换材料；其中，
所述基体的材料为光刻胶；
所述上转换材料包括：Sc的硫酸盐、Y的硫酸盐、La的硫酸盐、Gd的硫酸盐、Lu的硫酸盐其中之一或组合，以及活化剂。
可选地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，所述活化剂包括Bi3+、Pr3+、Nd3+其中之一或组合，所述活化剂的质量占所述上转换材料质量的0.1％-10％。
相应地，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括：显示基板，以及位于所述显示基板出光侧的彩膜基板，所述彩膜基板为本发明实施例提供的上述彩膜基板。
可选地，在本发明实施例提供的上述显示装置中，所述显示基板包括依次层叠设置的反射层、背光模组、保护层、第一偏光片、驱动基板、液晶层、第二偏光片和封装层，所述封装层与所述黑矩阵、所述量子点彩膜层和所述光转换结构接触设置。
可选地，在本发明实施例提供的上述显示装置中，所述显示基板包括：驱动基板，位于所述驱动基板上的多个微型LED，位于所述微型LED背离所述驱动基板一侧的平坦层，以及位于所述平坦层背离所述驱动基板一侧的封装层，所述封装层与所述黑矩阵、所述量子点彩膜层和所述光转换结构接触设置。
可选地，在本发明实施例提供的上述显示装置中，所述显示基板包括依次层叠设置的驱动基板、阳极、有机发光层、阴极和封装层，所述封装层与所述黑矩阵、所述量子点彩膜层和所述光转换结构接触设置。
相应地，本发明实施例还提供了一种本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法，包括：
在所述衬底基板上形成具有多个像素开口的黑矩阵；
形成附着于所述像素开口侧壁上的光转换结构；
在形成有所述光转换结构的像素开口内旋涂或喷墨印刷包括紫外光固化型量子点材料的量子点混合溶液；
采用第一波长的紫外光对所述量子点混合溶液进行紫外光照射，以形成量子点彩膜层；其中，所述光转换结构用于将所述第一波长的紫外光转换为第二波长的紫外光，所述第一波长大于所述第二波长。
可选地，在本发明实施例提供的上述制作方法中，采用波长小于400nm的紫外光对所述量子点混合溶液进行紫外光照射。
可选地，在本发明实施例提供的上述制作方法中，形成附着于所述像素开口侧壁上的光转换结构，具体包括：
在所述黑矩阵背离所述衬底基板一侧涂覆掺杂有上转换材料的光刻胶；
对所述光刻胶进行曝光显影，形成附着于所述像素开口内壁上的光转换结构。
本发明实施例的有益效果：
本发明实施例提供的一种彩膜基板、其制作方法及显示装置，由于量子点彩膜层一般经过溶液加工、旋涂或喷墨印刷、UV固化成膜后形成，本发明通过在黑矩阵侧壁与量子点彩膜层侧壁之间设置光转换结构，这样在对量子点溶液进行UV固化(紫外光照射，如395nm的紫外光)时，光转换结构可以将395nm的紫外光转换为波长更短、能量更高的紫外光(如365nm)，由于光转换结构设置在黑矩阵侧壁与量子点彩膜层侧壁之间，因此该波长更短、能量更高的紫外光可以从侧边发出照射至量子点彩膜层，可以防止量子点彩膜层因UV光照不够，未完全固化，造成量子点彩膜层固化不均匀的问题。因此本发明实施例中在黑矩阵侧壁与量子点彩膜层侧壁之间设置光转换结构，能够使量子点彩膜层固化更充分，解决了量子点彩膜层UV固化不均匀的问题，从而提高了显示器件的发光性能。
附图说明
图1为本发明实施例提供的彩膜基板的一种结构示意图；
图2为本发明实施例提供的彩膜基板的又一种结构示意图；
图3为本发明实施例提供的显示装置的一种结构示意图；
图4为本发明实施例提供的显示装置的又一种结构示意图；
图5为本发明实施例提供的显示装置的又一种结构示意图；
图6为本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法流程图之一；
图7为本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法流程图之二；
图8A-图8D为本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法在执行每一步骤之后的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的，技术方案和优点更加清楚，下面结合附图，对本发明实施例提供的彩膜基板、其制作方法及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。
附图中各层薄膜厚度和形状不反映彩膜基板的真实比例，目的只是示意说明本发明内容。
目前，采用量子点墨水制作量子点彩膜层需要的膜厚较厚，这对量子点墨水固化性能提出来更高要求。本案的发明人发现，在UV固化型量子点墨水固化时会出现表层膜已经固化，而下层墨水因UV光照不够导致未完全固化，造成量子点彩膜层固化不均匀，影响发光性能。
为了解决上述问题，本发明实施例提供了一种彩膜基板，如图1和图2所示，包括：
衬底基板1；
黑矩阵2，位于衬底基板1一侧，黑矩阵2具有多个像素开口21；
量子点彩膜层(如包括红色量子点彩膜层31、绿色量子点彩膜层32和蓝色量子点彩膜层33)，位于像素开口21内，量子点彩膜层包括紫外光固化型量子点材料；
光转换结构4，位于黑矩阵2侧壁与量子点彩膜层侧壁之间，光转换结构4用于将第一波长λ1的紫外光转换为第二波长λ2的紫外光，第一波长λ1大于第二波长λ2。
本发明实施例提供的上述彩膜基板，由于量子点彩膜层一般经过溶液加工、旋涂或喷墨印刷、UV固化成膜后形成，本发明通过在黑矩阵侧壁与量子点彩膜层侧壁之间设置光转换结构，这样在对量子点溶液进行UV固化(紫外光照射，如395nm的紫外光)时，光转换结构可以将395nm的紫外光转换为波长更短、能量更高的紫外光(如365nm)，由于光转换结构设置在黑矩阵侧壁与量子点彩膜层侧壁之间，因此该波长更短、能量更高的紫外光可以从侧边发出照射至量子点彩膜层，可以防止量子点彩膜层因UV光照不够，未完全固化，造成量子点彩膜层固化不均匀的问题。因此本发明实施例中在黑矩阵侧壁与量子点彩膜层侧壁之间设置光转换结构，能够使量子点彩膜层固化更充分，解决了量子点彩膜层UV固化不均匀的问题，从而提高了显示器件的发光性能。
在具体实施时，上述紫外光固化型量子点材料包括量子点、紫外光引发剂和紫外光固化材料，该紫外光固化型量子点材料可以在第一波长的紫外光和第二波长的紫外光的照射下固化，本发明的光转换结构可以将吸收的第一波长的紫外光转换为波长更短的第二波长的紫外光。
在具体实施时，衬底基板可以为玻璃衬底。
在具体实施时，由于目前的发光器件大多采用红绿蓝三基色混合发出白色的光，由于本发明在彩膜基板中设置了能够将吸收的紫外光转换为波长更短的紫外光的光转换结构，为了防止在发光过程中，光转换结构吸收红绿蓝三基色的光，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，第一波长小于400nm，即光转换结构只能吸收波长小于400nm的光，因此本发明实施例提供的方案可以在不影响发光的基础上提高量子点彩膜层UV固化的均匀性。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，如图1所示，光转换结构4沿垂直于衬底基板1厚度方向上的截面具有预设宽度W，沿光转换结构4中远离衬底基板1的表面41指向靠近衬底基板42的表面方向，预设宽度W相同。
在具体实施时，由于靠近衬底基板一侧的量子点彩膜层较远离衬底基板一侧的量子点彩膜层固化不完全，为了使得靠近衬底基板一侧的量子点彩膜层固化完全，这就需要使靠近衬底基板一侧的量子点彩膜层照射更多转换后的UV光，因此在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，如图2所示，光转换结构4沿垂直于衬底基板1厚度方向上的截面具有预设宽度W，沿光转换结构4中远离衬底基板1的表面41指向靠近衬底基板42的表面方向，预设宽度W逐渐增大。这样靠近衬底基板一侧的光转换结构4可以转换更多的UV光，从而可以使得靠近衬底基板一侧的量子点彩膜层得到更多的波长更短、能量更高的UV光照射，进一步提高量子点彩膜层UV固化的均匀性。
在具体实施时，为了保证更多的第一波长的紫外光转换为第二波长的紫外光，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，如图1和图2所示，沿垂直于衬底基板1厚度的方向，黑矩阵2中远离衬底基板1的表面22的宽度小于靠近衬底基板1的表面23的宽度，即将黑矩阵2的截面呈正梯形结构，这样可以形成面积更大的光转换结构4，因此可以实现将更多的第一波长的紫外光转换为第二波长的紫外光，进一步提高量子点彩膜层UV固化的均匀性。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，如图1和图2所示，光转换结构4内可以具有散射粒子。具体地，通过将散射粒子掺杂在光转换结构4内，散射粒子可以实现UV光线的散射，以增强出光均匀性，可以更加有效的实现量子点彩膜层UV固化的均匀性。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，光转换结构可以包括：基体，以及掺杂在基体内的上转换材料。具体地，上转换发光材料是一种能吸收多个低能量光子而发射高能量光子的材料，即吸收光的波长大于发射光波长。另外，上转换发光材料为颗粒状，具有散射作用，故波长转换后的光为各个方向的散射光，可以提高量子点彩膜层UV固化的均匀性。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，基体的材料可以为光刻胶，上转换材料可以包括：Sc的硫酸盐、Y的硫酸盐、La的硫酸盐、Gd的硫酸盐、Lu的硫酸盐其中之一或组合，以及活化剂。这样可以将上转换材料掺杂在光刻胶内，通过曝光显影的工艺形成本发明中的光转换结构。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，活化剂可以包括Bi3+、Pr3+、Nd3+其中之一或组合。
在具体实施时，为了保证光转换结构能够有效的将吸收的第一波长的光转换为第二波长的光，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，活化剂的质量可以占上转换材料质量的0.1％-10％，本发明对此不作限定。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，如图3-图5所示，包括：显示基板100，以及位于显示基板100出光侧的彩膜基板200，彩膜基板200为本发明实施例提供的上述彩膜基板。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述显示装置中，如图3所示，显示基板100可以包括依次层叠设置的反射层01、背光模组02、保护层03、第一偏光片04、驱动基板05、液晶层06、第二偏光片07和封装层08，封装层08与黑矩阵2、量子点彩膜层和光转换结构4接触设置。具体地，图3所示的显示装置是液晶显示装置，背光模组02为侧入式，该背光模组02包括背光源021和位于背光源021出光侧的导光板022，该背光源021为发蓝光的LED芯片，量子点彩膜层中就不需要设置蓝色量子点彩膜层33，而是将原本要设置蓝色量子点彩膜层33的位置填充散射材料以形成散射层33’，可以均匀量子点彩膜层的发光均匀性。
需要说明的是，图3是本发明实施例列举的其中一种采用量子点彩膜层作为彩膜的液晶显示装置结构，当然还可以为本领域技术人员熟知的其它液晶显示装置，只要彩膜基板采用本发明实施例提供的彩膜基板均可以解决量子点彩膜层UV固化不均的问题。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述显示装置中，如图4所示，显示基板100可以包括：驱动基板05，位于驱动基板05上的多个微型LED09，微型LED09四周设置挡墙10以防止混光现象，还包括位于微型LED09背离驱动基板05一侧的平坦层11，以及位于平坦层11背离驱动基板05一侧的封装层08，封装层08与黑矩阵2、量子点彩膜层和光转换结构4接触设置。
具体地，如图4所示，该微型LED09为发蓝光的LED芯片，量子点彩膜层中就不需要设置蓝色量子点彩膜层33，而是将原本要设置蓝色量子点彩膜层33的位置填充散射材料以形成散射层33’，可以均匀量子点彩膜层的发光均匀性。
需要说明的是，图4是本发明实施例列举的一种采用量子点彩膜层作为彩膜的微型LED显示装置结构，其中彩膜基板采用本发明实施例提供的彩膜基板，因此可以解决量子点彩膜层UV固化不均的问题。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述显示装置中，如图5所示，显示基板100可以包括依次层叠设置的驱动基板05、阳极12、有机发光层13、阴极14和封装层08，封装层08与黑矩阵2、量子点彩膜层和光转换结构4接触设置。具体地，有机发光层13的材料为发蓝光的材料，因此原本要设置蓝色量子点彩膜层33的位置填充散射材料以形成散射层33’，可以均匀量子点彩膜层的发光均匀性。
需要说明的是，图5是本发明实施例列举的一种采用量子点彩膜层作为彩膜的有机发光显示装置结构，其中彩膜基板采用本发明实施例提供的彩膜基板，因此可以解决量子点彩膜层UV固化不均的问题。
在具体实施时，如图3-图5所示，驱动基板05包括玻璃衬底以及位于玻璃衬底上的驱动电路，驱动电路用于驱动发光显示。封装层08可以为TFE封装，即可以包括相互交替设置的无机层-有机层-无机层。
在具体实施时，本发明实施例提供的图3-图5所示的显示装置还可以包括本领域技术人员熟知的其它功能性膜层，在此不做详述。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法，如图6所示，可以包括：
S601、在衬底基板上形成具有多个像素开口的黑矩阵；
S602、形成附着于像素开口侧壁上的光转换结构；
S603、在形成有光转换结构的像素开口内旋涂或喷墨印刷包括紫外光固化型量子点材料的量子点混合溶液；
S604、采用第一波长的紫外光对量子点混合溶液进行紫外光照射，以形成量子点彩膜层；其中，光转换结构用于将第一波长的紫外光转换为第二波长的紫外光，第一波长大于第二波长。
本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法，通过在黑矩阵侧壁与量子点彩膜层侧壁之间形成光转换结构，这样在对量子点溶液进行UV固化(紫外光照射，如395nm的紫外光)时，光转换结构可以将395nm的紫外光转换为波长更短、能量更高的紫外光(如365nm)，由于光转换结构设置在黑矩阵侧壁与量子点彩膜层侧壁之间，因此该波长更短、能量更高的紫外光可以从侧边发出照射至量子点彩膜层，可以防止量子点彩膜层因UV光照不够，未完全固化，造成量子点彩膜层固化不均匀的问题。
在具体实施时，为了防止在发光过程中，光转换结构吸收红绿蓝三基色的光，在本发明实施例提供的上述制作方法中，采用波长小于400nm的紫外光对量子点混合溶液进行紫外光照射。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述制作方法中，形成附着于像素开口侧壁上的光转换结构，如图7所示，具体可以包括：
S701、在黑矩阵背离衬底基板一侧涂覆掺杂有上转换材料的光刻胶；
S702、对光刻胶进行曝光显影，形成附着于像素开口内壁上的光转换结构。
下面以图2所示的彩膜基板为例对本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法进行详细阐述：
(1)在衬底基板1上涂覆黑矩阵材料，对黑矩阵材料进行曝光显影以形成具有多个像素开口21的黑矩阵2，如图8A所示。
(2)在形成有黑矩阵2的衬底基板1上涂覆掺杂有上转换材料的光刻胶，对该光刻胶进行曝光显影，通过控制不同位置的曝光量，以形成预设宽度W逐渐增大的光转换结构4，如图8B所示。
(3)在形成有光转换结构4的像素开口21内旋涂或喷墨印刷包括紫外光固化型量子点材料的量子点混合溶液，如图8C所示。
(4)采用第一波长λ1的紫外光对量子点混合溶液进行紫外光照射，在照射过程中，该光转换结构4将第一波长λ1的紫外光转换为小于第一波长λ1的第二波长λ2的紫外光，以形成固化均匀的不同颜色的量子点彩膜层，如图8D所示。
在后续采用本发明实施例制作得到的彩膜基板形成显示装置时，可以将形成的显示基板与本发明实施例中的彩膜基板对位贴合形成需要的显示装置。
在具体实施时，本发明实施例提供的上述显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该触控彩膜基板的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本发明的限制。该彩膜基板的实施可以参见上述彩膜基板的实施例，重复之处不再赘述。
本发明实施例提供的一种彩膜基板、其制作方法及显示装置，由于量子点彩膜层一般经过溶液加工、旋涂或喷墨印刷、UV固化成膜后形成，本发明通过在黑矩阵侧壁与量子点彩膜层侧壁之间设置光转换结构，这样在对量子点溶液进行UV固化(紫外光照射，如395nm的紫外光)时，光转换结构可以将395nm的紫外光转换为波长更短、能量更高的紫外光(如365nm)，由于光转换结构设置在黑矩阵侧壁与量子点彩膜层侧壁之间，因此该波长更短、能量更高的紫外光可以从侧边发出照射至量子点彩膜层，可以防止量子点彩膜层因UV光照不够，未完全固化，造成量子点彩膜层固化不均匀的问题。因此本发明实施例中在黑矩阵侧壁与量子点彩膜层侧壁之间设置光转换结构，能够使量子点彩膜层固化更充分，解决了量子点彩膜层UV固化不均匀的问题，从而提高了显示器件的发光性能。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (15)

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：
衬底基板；
黑矩阵，位于所述衬底基板一侧，所述黑矩阵具有多个像素开口；
量子点彩膜层，位于所述像素开口内，所述量子点彩膜层包括紫外光固化型量子点材料；
光转换结构，位于所述黑矩阵侧壁与所述量子点彩膜层侧壁之间，所述光转换结构用于将第一波长的紫外光转换为第二波长的紫外光，所述第一波长大于所述第二波长。
2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一波长小于400nm。
3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述光转换结构沿垂直于所述衬底基板厚度方向上的截面具有预设宽度，沿所述光转换结构中远离衬底基板的表面指向靠近所述衬底基板的表面方向，所述预设宽度相同。
4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述光转换结构沿垂直于所述衬底基板厚度方向上的截面具有预设宽度，沿所述光转换结构中远离衬底基板的表面指向靠近所述衬底基板的表面方向，所述预设宽度逐渐增大。
5.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，沿垂直于所述衬底基板厚度的方向，所述黑矩阵中远离所述衬底基板的表面的宽度小于靠近所述衬底基板的表面的宽度。
6.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述光转换结构内具有散射粒子。
7.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述光转换结构包括：基体，以及掺杂在所述基体内的上转换材料；其中，
所述基体的材料为光刻胶；
所述上转换材料包括：Sc的硫酸盐、Y的硫酸盐、La的硫酸盐、Gd的硫酸盐、Lu的硫酸盐其中之一或组合，以及活化剂。
8.如权利要求7所述的彩膜基板，其特征在于，所述活化剂包括Bi3+、Pr3+、Nd3+其中之一或组合，所述活化剂的质量占所述上转换材料质量的0.1％-10％。
9.一种显示装置，其特征在于，包括：显示基板，以及位于所述显示基板出光侧的彩膜基板，所述彩膜基板为如权利要求1-8任一项所述的彩膜基板。
10.如权利要求9所述的显示装置，其特征在于，所述显示基板包括依次层叠设置的反射层、背光模组、保护层、第一偏光片、驱动基板、液晶层、第二偏光片和封装层，所述封装层与所述黑矩阵、所述量子点彩膜层和所述光转换结构接触设置。
11.如权利要求9所述的显示装置，其特征在于，所述显示基板包括：驱动基板，位于所述驱动基板上的多个微型LED，位于所述微型LED背离所述驱动基板一侧的平坦层，以及位于所述平坦层背离所述驱动基板一侧的封装层，所述封装层与所述黑矩阵、所述量子点彩膜层和所述光转换结构接触设置。
12.如权利要求9所述的显示装置，其特征在于，所述显示基板包括依次层叠设置的驱动基板、阳极、有机发光层、阴极和封装层，所述封装层与所述黑矩阵、所述量子点彩膜层和所述光转换结构接触设置。
13.一种如权利要求1-8任一项所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：
在所述衬底基板上形成具有多个像素开口的黑矩阵；
形成附着于所述像素开口侧壁上的光转换结构；
在形成有所述光转换结构的像素开口内旋涂或喷墨印刷包括紫外光固化型量子点材料的量子点混合溶液；
采用第一波长的紫外光对所述量子点混合溶液进行紫外光照射，以形成量子点彩膜层；其中，所述光转换结构用于将所述第一波长的紫外光转换为第二波长的紫外光，所述第一波长大于所述第二波长。
14.如权利要求13所述的制作方法，其特征在于，采用波长小于400nm的紫外光对所述量子点混合溶液进行紫外光照射。
15.如权利要求13所述的制作方法，其特征在于，形成附着于所述像素开口侧壁上的光转换结构，具体包括：
在所述黑矩阵背离所述衬底基板一侧涂覆掺杂有上转换材料的光刻胶；
对所述光刻胶进行曝光显影，形成附着于所述像素开口内壁上的光转换结构。
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