CN108267883A - 一种彩膜基板、其制作方法及显示面板 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种彩膜基板、其制作方法及显示面板，包括：衬底基板，位于衬底基板上像素区域内的量子点彩膜，并且量子点彩膜的侧表面上设置有反射结构。由于量子点彩膜的侧表面上设置有反射结构，使得照射至量子点彩膜侧表面的光线可被反射结构所反射，增大了经出光面出射的显示用光线强度，从而提高了显示面板的亮度。

Description

一种彩膜基板、其制作方法及显示面板

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板、其制作方法及显示面板。

背景技术

现有彩色显示技术中，一般采用白色背光通过红绿蓝三基色的传统彩膜的方式获得相应颜色的光，但这种彩色显示技术的发光亮度偏低。为提高发光亮度，出现了一种量子点彩膜。具体地，量子点彩膜是一种在传统彩膜中加入量子点，然后通过蓝光激发量子点产生相应颜色光的新型彩膜，发光亮度比较高。然而，量子点彩膜的侧表面出射光亮度比用于显示的正面出射光的亮度更强，导致在实际应用过程中，显示面板的亮度提高有限。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供一种彩膜基板、其制作方法及显示面板，可以提高显示面板的亮度。

因此，本发明实施例提供了一种彩膜基板，包括：衬底基板，位于所述衬底基板上像素区域内的量子点彩膜；并且所述量子点彩膜的侧表面上设置有反射结构。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，所述反射结构为沉积在所述量子点彩膜的侧表面上的金属膜。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，还可以包括：位于所述量子点彩膜下面的树脂层；所述反射结构延伸至所述树脂层，并覆盖所述树脂层的侧表面。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，所述量子点彩膜的侧表面为在背离所述衬底基板的方向上曲率逐渐增大的弧面，以使得所述反射结构沉积在所述弧面上。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，所述量子点彩膜的侧表面为与背离所述衬底基板的方向呈锐角的斜面，以使得所述反射结构沉积在所述斜面上。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，还可以包括：设置在所述像素区域之间的黑矩阵，所述黑矩阵覆盖所述反射结构。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，在所述反射结构的间隙处通过沉积和构图工艺形成所述黑矩阵。

相应地，本发明实施例还提供了一种上述彩膜基板的制作方法，包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板的像素区域内形成量子点彩膜；

在所述量子点彩膜的侧表面上形成反射结构。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，在所述衬底基板的像素区域内形成量子点彩膜之前，还包括：在所述衬底基板的像素区域内形成树脂层；所述在所述量子点彩膜的侧表面上形成反射结构，具体包括：

通过曝光、显影、刻蚀工艺使所述树脂层的侧表面和所述量子点彩膜的侧表面一体成型为在背离所述衬底基板的方向上曲率逐渐增大的弧面；在所述量子点彩膜所在层上沉积金属膜，并对所述金属膜进行刻蚀，以保留所述弧面上的所述金属膜；

或者通过曝光、显影、刻蚀工艺使所述树脂层的侧表面和所述量子点彩膜的侧表面一体成型为与背离所述衬底基板的方向呈锐角的斜面；在所述量子点彩膜所在层上沉积金属膜，并对所述金属膜进行刻蚀，以保留所述斜面上的所述金属膜。

本发明实施例还提供了一种显示面板，包括上述彩膜基板。

本发明有益效果如下：

本发明实施例提供了一种彩膜基板、其制作方法及显示面板，该彩膜基板包括：衬底基板，位于衬底基板上像素区域内的量子点彩膜；并且量子点彩膜的侧表面上设置有反射结构。通过在量子点彩膜的侧表面上设置反射结构，使得照射至量子点彩膜侧表面的光线可被反射结构所反射，增大了经出光面出射的显示用光线强度，从而提高了显示面板的亮度。

附图说明

图1为本发明实施例提供的彩膜基板的结构示意图；

图2a至图2c分别为本发明实施例提供的量子点彩膜可提高显示亮度的原理示意图；

图3为本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法的流程图；

图4至图8分别为本发明实施例提供的制作方法中各步骤对应的彩膜基板的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图，对本发明实施例提供的彩膜基板、其制作方法及显示面板的具体实施方式进行详细的说明。需要说明的是本说明书所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例；并且在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合；此外，基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

附图中各膜层的形状和大小不反映彩膜基板的真实比例，目的只是示意说明本发明内容。

具体地，本发明实施例提供的一种彩膜基板，如图1所示，包括：衬底基板101，位于衬底基板101上像素区域内的量子点彩膜102；且量子点彩膜102的侧表面上设置有反射结构103。

在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，通过在量子点彩膜102的侧表面上设置反射结构103，使得照射至量子点彩膜102侧表面的光线L被反射结构103所反射，反射光线L’向显示面的正前方聚集，如图2a至图2c所示，从而增大了经出光面出射的显示用光线强度，提高了显示面板的亮度。

在具体实施时，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，反射结构103可以有多种实现方式，例如反射结构103可以为金属膜，当然还可以为其他可以反光的元件，在此不做具体限定。

一般地，显示用光线的发散角度较大，为了使显示用光线向显示面的正前方聚集，以增强显示画面的清晰度，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，如图1所示，还可以包括：位于量子点彩膜102下面的树脂层104；反射结构103延伸至树脂层104，并覆盖树脂层104的侧表面。这样设置，如图2a至图2c所示，使得量子点彩膜102的四周被反射结构103完全包围，如此位于光线S与光线L范围内的光线也可以被反射结构103反射后向显示面的正前方聚集。

具体地，如图2a所示，照射至量子点彩膜102侧表面的光线L经反射结构103作用后的反射光线L’向显示面中心区域的正前方聚集，可能会造成显示面中心区域的亮度比边缘区域亮度大。于是为了提高显示亮度的均一性，具体地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，可以使量子点彩膜102的侧表面为在背离衬底基板101的方向上曲率逐渐增大的弧面，从而使得反射结构103具有弧面形状，如图2b所示；或者，还可以使量子点彩膜102的侧表面为与背离衬底基板101的方向呈锐角的斜面，以使得反射结构103具有斜面形状，如图2c所示。当然，在实际应用时，并不限于弧面形状和斜面形状，还可以为其他任意形状的结构，在此不做具体限定。

具体地，为防止相邻量子点彩膜102的出射光线相互串扰，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，如图1所示，还可以包括设置在像素区域之间的黑矩阵105，并且黑矩阵105覆盖反射结构103。具体地，可在反射结构103的间隙处通过沉积和构图工艺形成黑矩阵105的图形。

相应地，本发明实施例还提供了一种彩膜基板的制作方法，如图3所示，具体可以包括以下步骤：

S301、提供一衬底基板；

S302、在衬底基板的像素区域内形成量子点彩膜；

S303、在量子点彩膜的侧表面上形成反射结构。

在具体实施时，为了使显示用光线向显示面的正前方聚集，以增强显示画面的清晰度，在本发明实施例提供的上述制作方法中，在执行步骤S302在衬底基板的像素区域内形成量子点彩膜之前，还可以执行以下步骤：在衬底基板的像素区域内形成树脂层，从而可以在树脂层与黑矩阵的接触面也设置反射结构，使得量子点彩膜被反射结构完全包围，进而可使照射至量子点彩膜侧表面的全部光线被反射，同时位于光线S与光线L范围内的光线也可以被反射结构103反射后向显示面的正前方聚集，这样就减小了显示用光线的发散角度，提高了显示效果。

在具体实施时，为了减小提高显示亮度的均一性，在本发明实施例提供的上述制作方法中，步骤S303在量子点彩膜的侧表面上形成反射结构，具体可以包括以下步骤：

通过曝光、显影、刻蚀等工艺使树脂层的侧表面和量子点彩膜的侧表面一体成型为在背离衬底基板的方向上曲率逐渐增大的弧面；在量子点彩膜所在层上沉积金属膜，并对金属膜进行刻蚀，以保留弧面上的金属膜；

或者，通过曝光、显影、刻蚀等工艺使树脂层的侧表面和量子点彩膜的侧表面一体成型为与背离衬底基板的方向呈锐角的斜面；在量子点彩膜所在层上沉积金属膜，并对金属膜进行刻蚀，以保留斜面上的金属膜。

需要说明的是，在本发明实施例提供的上述制作方法中，形成各膜层结构涉及到的构图工艺，不仅可以包括沉积、光刻胶涂覆、掩模板掩模、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等部分或全部的工艺过程，还可以包括其他工艺过程，具体以实际制作过程中形成所需构图的图形为准，在此不做限定。例如，在显影之后和刻蚀之前还可以包括后烘工艺。

其中，沉积工艺可以为化学气相沉积法、等离子体增强化学气相沉积法或物理气相沉积法，在此不做限定；掩膜工艺中所用的掩膜板可以为半色调掩膜板(Half ToneMask)、单缝衍射掩模板(Single Slit Mask)或灰色调掩模板(Gray Tone Mask)，在此不做限定；刻蚀可以为干法刻蚀或者湿法刻蚀，在此不做限定。

为了更好地理解本发明的技术方案，本发明实施例提供了采用上述制作方法制备如图1所示的彩膜基板的详细过程，具体实施步骤如下：

提供一衬底基板101，例如玻璃基板，塑料基板或其他透明基板；

在衬底基板101的像素区域内依次制作树脂层104和量子点彩膜102，如图4所示；

通过光罩曝光刻蚀等工艺使树脂层104和量子点彩膜102的四个侧表面均呈弧面，如图5所示；

在量子点彩膜102上沉积金属103’或其他可以反光的材料，如图6所示；

对金属103’进行刻蚀，产生金属膜构成的反射结构103，如图7所示；

在反射结构103的间隙处构图形成黑矩阵105，如图1所示。

至此，制作出了具有如图1所示结构的彩膜基板。

在具体实施时，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，如图8所示，一般还会具有平坦层106等其他膜层结构，在此不做具体限定。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示面板，包括本发明实施例提供的上述彩膜基板。对于显示面板的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本发明的限制。该显示面板的实施可以参见上述彩膜基板的实施例，重复之处不再赘述。

本发明实施例提供的上述彩膜基板、其制作方法及显示面板，该彩膜基板包括：衬底基板，位于衬底基板上像素区域内的量子点彩膜；并且量子点彩膜的侧表面上设置有反射结构。通过在量子点彩膜的侧表面设置反射结构，使得照射至量子点彩膜侧表面的光线可被反射结构所反射，增大了经出光面出射的显示用光线强度，从而提高了显示面板的亮度。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种彩膜基板，包括：衬底基板，位于所述衬底基板上像素区域内的量子点彩膜；其特征在于，所述量子点彩膜的侧表面上设置有反射结构。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述反射结构为沉积在所述量子点彩膜的侧表面上的金属膜。

3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：位于所述量子点彩膜下面的树脂层；所述反射结构延伸至所述树脂层，并覆盖所述树脂层的侧表面。

4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述量子点彩膜的侧表面为在背离所述衬底基板的方向上曲率逐渐增大的弧面，以使得所述反射结构沉积在所述弧面上。

5.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述量子点彩膜的侧表面为与背离所述衬底基板的方向呈锐角的斜面，以使得所述反射结构沉积在所述斜面上。

6.如权利要求1-5任一项所述的彩膜基板，其特征在于，还包括：设置在所述像素区域之间的黑矩阵，所述黑矩阵覆盖所述反射结构。

7.如权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，在所述反射结构的间隙处通过沉积和构图工艺形成所述黑矩阵。

8.一种如权利要求1-7任一项所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板的像素区域内形成量子点彩膜；

在所述量子点彩膜的侧表面上形成反射结构。

9.如权利要求8所述的制作方法，其特征在于，在所述衬底基板的像素区域内形成量子点彩膜之前，还包括：在所述衬底基板的像素区域内形成树脂层；所述在所述量子点彩膜的侧表面上形成反射结构，具体包括：

通过曝光、显影、刻蚀工艺使所述树脂层的侧表面和所述量子点彩膜的侧表面一体成型为在背离所述衬底基板的方向上曲率逐渐增大的弧面；在所述量子点彩膜所在层上沉积金属膜，并对所述金属膜进行刻蚀，以保留所述弧面上的所述金属膜；

或者通过曝光、显影、刻蚀工艺使所述树脂层的侧表面和所述量子点彩膜的侧表面一体成型为与背离所述衬底基板的方向呈锐角的斜面；在所述量子点彩膜所在层上沉积金属膜，并对所述金属膜进行刻蚀，以保留所述斜面上的所述金属膜。

10.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-7任一项所述的彩膜基板。