TWI736321B - 觸控面板 - Google Patents

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Abstract

本揭露提供一種觸控面板包含基板、第一導線結構、以及第二導線結構。基板包含可視區與周邊區，周邊區圍繞在可視區外。第一導線結構包含第一觸媒層、第一金屬層、以及第一透明導電層。第一觸媒層設置於周邊區之上，第一金屬層設置於第一觸媒層上，以及第一透明導電層設置於第一金屬層上。其中，第一導線結構區分為至少一第一導線區與至少一第一接地線區相鄰於第一導線區。第二導線結構，設置於周邊區之下，第二導線結構包含至少一第二接地線區，其中，第一導線區垂直投影方向對應第二接地線區，以提升觸控準確度。

Description

觸控面板
本揭露是有關於一種觸控面板，且特別是有關於一種具有觸媒層與上下相對應之導線區與接地線區的觸控面板。
傳統觸控面板，是將基板整面塗佈導電層後，再利用乾式蝕刻或濕式蝕刻製程將不要的地方去除，以形成電路圖形。
然而，不論是乾式蝕刻或濕式蝕刻製程，製程時間較長且工序繁多，即使是塗佈較薄的基板，仍然無法降低時間與工序。再者，由於靶材或塗料的費用高昂，傳統製程需大面積塗覆於基板，使得成本無法降低。此外，X軸方向與Y軸方向的導電線路若重疊，會產生訊號互相干擾而導致觸控位點不精準的情形。有鑑於此，現有技術仍有待改進之處。
本揭露之一實施方式之一目的在於提出一種可解決上述問題的觸控面板。
為了達到上述目的，本揭露之一實施方式是提供了一種觸控面板包含基板、第一導線結構、以及第二導線結構。基板包含第一可視區與第一周邊區，第一周邊區圍繞在第一可視區外。第一導線結構包含第一觸媒層、第一金屬層、以及第一透明導電層。第一觸媒層設置於基板的第一周邊區之上，第一金屬層設置於第一觸媒層上，以及第一透明導電層設置於第一金屬層上。其中，第一導線結構區分為至少一第一導線區與至少一第一接地線區相鄰於第一導線區。第二導線結構，設置於基板的第一周邊區之下，第二導線結構包含至少一第二接地線區，其中，第一導線區的垂直投影方向對應第二接地線區。
在一些實施方式中，第一導線結構更包含區分為第一導線區以及兩個第一接地線區，且第一導線區介於這些第一接地線區之間。
在一些實施方式中，第二導線結構更包含第二觸媒層、第二金屬層以及第二透明導電層。第二觸媒層設置於基板的第一周邊區之下，第二金屬層設置於第二觸媒層下，以及第二透明導電層設置於第二金屬層下。其中，第二導線結構區分為至少一第二導線區與至少一第二接地線區相鄰於第二導線區。
在一些實施方式中，第二導線區的垂直投影方向對應第一接地線區。
在一些實施方式中，第二導線結構更包含區分為第二導線區以及兩個第二接地線區，且第二導線區介於這些第二接地線區之間。
在一些實施方式中，第一觸媒層與第二觸媒層具有不同的圖形。
在一些實施方式中，第二導線結構更包含下基板，第二觸媒層、第二金屬層以及第二透明導電層。下基板設置於基板下，下基板包含第二可視區與第二周邊區，第二周邊區圍繞在第二可視區外；第二可視區的垂直投影方向對應第一可視區，第二周邊區的垂直投影方向對應第一周邊區。第二觸媒層設置於下基板的第二周邊區之上，第二金屬層設置於第二觸媒層上，以及第二透明導電層設置於第二金屬層上。其中，第二導線結構區分為至少一第二導線區與至少一第二接地線區相鄰於第二導線區。
在一些實施方式中，第二導線區的垂直投影方向對應第一接地線區。
在一些實施方式中，第二導線結構更包含區分為第二導線區以及兩個第二接地線區，且第二導線區介於些第二接地線區之間。
在一些實施方式中，基板更包含連接區，連接區係與第一周邊區的一側邊相連接；其中，位於連接區的第一導線區與第二導線區，第一導線區的垂直投影方向對應第二導線區。
在一些實施方式中，基板更包含連接區，連接區係與第一周邊區的一側邊相連接；其中，位於連接區的第一導線區與第二導線區，第一導線區的垂直投影方向不會對應到第二導線區。
在一些實施方式中，觸控面板以滿版印刷或圖案化印刷製程製備。
為使本揭露的敘述更加詳盡與完備，下文針對本揭露的實施態樣與具體實施例提出說明性的描述，但這並非實施或運用本揭露具體實施例的唯一形式。以下所揭露的各實施例，在有益的情形下可相互組合或取代，也可在一實施例中附加其他的實施例，而無須進一步的記載或說明。在以下描述中，將詳細敘述許多特定細節，以使讀者能夠充分理解以下的實施例。然而，亦可在無此等特定細節之情況下實踐本揭露之實施例。
另外，空間相對用語，如「下」、「上」、「底」、「頂」等，是用以方便描述一元件或特徵與其他元件或特徵在圖式中的相對關係。這些空間相對用語旨在包含除了圖式中所示之方位以外，裝置在使用或操作時的不同方位。裝置可被另外定位（例如旋轉90度或其他方位），而本文所使用的空間相對敘述亦可相對應地進行解釋。
於本文中，除非內文中對於冠詞有所特別限定，否則『一』與『該』可泛指單一個或多個。將進一步理解的是，本文中所使用之『包含』、『包括』、『具有』及相似詞彙，指明其所記載的特徵、區域、整數、步驟、操作、元件與/或組件，但不排除其它的特徵、區域、整數、步驟、操作、元件、組件，與/或其中之群組。
以下列舉數個實施例及實驗例以更詳盡闡述本揭露之觸控面板，然其僅為例示說明之用，並非用以限定本發明，本發明之保護範圍當以後附之申請專利範圍所界定者為準。
本揭露之一態樣是提供一種觸控面板，藉由觸媒層結構，以縮短製程時間與減少工序；亦藉由上下相對應之導線區與接地線區，以提升觸控位點的準確度。第1圖繪示本揭露之一實施方式之觸控面板的正面視圖，第2圖繪示本揭露之一實施方式之觸控面板的背面鏡像視圖，以利理解上下兩層線路的相對位置。本揭露之一實施方式提供一種觸控面板10，包含基板100、第一導線結構200、第二導線結構300。
基板100包含可視區VA、周邊區PA與連接區BA，周邊區PA圍繞在可視區VA外，連接區BA與周邊區PA的一側邊相連接。在一實施方式中，可視區VA是位於基板100的中心，可做為觸控感應電極(圖未示)設置的位置。在一實施方式中，周邊區PA是位於基板100的周緣，可做為觸控感應電極導線設置的位置。周邊區PA設置於可視區VA的側邊，例如周邊區PA則可為設置於可視區VA的四周(即涵蓋右側、左側、上側及下側)的框型區域，但在其他實施例中，周邊區PA可為一設置於可視區VA的左側及下側的L型區域。在一實施方式中，連接區BA為周邊區PA控感應電極導線匯出之處，並耦接一軟性電路板(圖未示)，藉以和顯示控制電路、觸控控制電路(未顯示)傳輸訊號。
在一實施方式中，基板100的材質為係透明或不透明。適宜剛性基板包含(例如)聚碳酸酯、丙烯酸系物及諸如此類。適宜撓性基板包含(但不限於)：聚酯(例如，聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸酯及聚碳酸酯)、聚烯烴(例如，直鏈、具支鏈及環狀聚烯烴)、聚乙烯(例如，聚氯乙烯、聚二氯亞乙烯、聚乙烯醇縮醛、聚苯乙烯、聚丙烯酸酯及諸如此類)、纖維素酯基底(例如，三乙酸纖維素、乙酸纖維素)、聚碸(例如聚醚碸)、聚醯亞胺、聚矽氧及其他習用聚合膜。適宜基板之其他實例可參見(例如)美國專利第6,975,067號。基板100厚度可介於15微米(μm)~150 μm。
第3圖繪示第1圖AA’線段的剖面圖，第4圖繪示第1圖BB’線段的剖面圖。在一實施方式中，第一導線結構200為連接第一電極(圖未示)的導線結構，第二導線結構300為連接第二電極(圖未示)的導線結構。在一實施例中，第一與第二電極可以分別是X軸與Y軸電極或Y軸與X軸電極。
第一導線結構200包含第一觸媒層210、第一金屬層220、以及第一透明導電層230。第一觸媒層210設置於基板100的周邊區PA之上。第一觸媒層210的材質為含鈀、銀等導電金屬的油墨或光阻材料，例如，奈米銀絲(silver nanowire/SNW)、碳奈米管(carbon nanotube/CNT)、氧化銦錫(indium tin oxide/ITO)、導電高分子(如PEDOT:PSS)、石墨(graphene)等。第一金屬層220設置於第一觸媒層210上。第一金屬層220的材質為銅(Cu)、銅鎳合金(Cu-Ni)、銅鈀合金(Cu-Pd)、銀(Ag)、銀鎳合金(Ag-Ni)、銀鈀合金(Ag-Pd)等。第一觸媒層210的黏度約100~5000cp，固含量約10~100%。第一觸媒層210印刷寬度可介於2 μm~50 mm，印刷厚度可介於100 nm~10 μm。第一透明導電層230設置於第一金屬層220上。在一實施方式中，第一透明導電層230為透明導電材料。於一實施例中，第一透明導電層230為含有奈米銀絲或奈米銀顆粒等含金屬銀的透明導電材料。
在一實施方式中，第一導線結構200經曝光微影製程，將第一金屬層220與第一透明導電層230圖案化。因此，第一導線結構200區分為至少一第一導線區201與至少一第一接地線區202相鄰於第一導線區201。在一實施例中，第一導線結構200區分為第一導線區201以及兩個第一接地線區202，且第一導線區201介於這些第一接地線區202之間，亦及，這些第一接地線區202分別位於第一導線區201的兩側。在一實施例中，第一導線區201的寬度為約10 μm至約50 μm，例如，約15 μm、約20 μm、約25 μm、約30 μm、約35 μm、約40 μm、約45μm，或者此等值中任意兩者之間的任何值。在一實施例中，第一導線區201具有複數條導線，其中各導線寬度大於1 μm，例如，約1.2 μm、約1.4 μm、約1.6μm、約1.8 μm、約2μm，或者此等值中任意兩者之間的任何值。
第二導線結構300包含第二觸媒層310、第二金屬層320、以及第二透明導電層330。第二觸媒層310設置於基板100的周邊區PA之下。詳細而言，基板100的周邊區PA有相對兩面，其中第一觸媒層210設置於上表面，第二觸媒層310設置於下表面。第二觸媒層310的材質為含鈀、銀等導電金屬的油墨或光阻材料，例如，奈米銀絲(silver nanowire/SNW)、碳奈米管(carbon nanotube/CNT)、氧化銦錫(indium tin oxide/ITO)、導電高分子(如PEDOT:PSS)、石墨(graphene)等。第二金屬層320設置於第二觸媒層310下。第二金屬層320的材質為銅(Cu)、銅鎳合金(Cu-Ni)、銅鈀合金(Cu-Pd)、銀(Ag)、銀鎳合金(Ag-Ni)、銀鈀合金(Ag-Pd)等。第二觸媒層310的黏度約100~5000cp，固含量約10~100%。第二觸媒層310印刷寬度可介於2 μm~50 mm，印刷厚度可介於100 nm~10 μm。第二透明導電層330設置於第二金屬層320下。在一實施方式中，第二透明導電層330為透明導電材料。於一實施例中，第二透明導電層330為含有奈米銀絲或奈米銀顆粒等含金屬銀的透明導電材料。在一實施方式中，第一觸媒層210與第二觸媒層310具有不同的圖形。
在一實施方式中，第二導線結構300經曝光微影製程，將第二金屬層320與第二透明導電層330圖案化。因此，第二導線結構300區分為至少一第二導線區301與至少一第二接地線區302相鄰於第二導線區301。在一實施例中，第二導線結構300區分為第二導線區301以及兩個第二接地線區302，且第二導線區301介於這些第二接地線區302之間，亦及，這些第二接地線區302分別位於第二導線區301的兩側。在一實施例中，第二導線區301的寬度為10微米(μm)至50 μm。在一實施例中，第二導線區301具有複數條導線，其中各導線寬度大於1 μm。
在一實施方式中，如第3圖繪示第1圖AA’線段的剖面圖所示，第一導線區201垂直投影方向對應第二接地線區302。在一實施方式中，如第4圖繪示第1圖BB’線段的剖面圖所示，第4圖的右側(即第1圖在觸控面板10的下側)中，第一接地線區202垂直投影方向對應第二導線區301。關於導線區的設計，藉由上下相對應之導線區與接地線區，避免上相對應都是導線區產生之訊號干擾，導致手指觸控與實際反應位點不同，以提升觸控位點的準確度。至於接地線區的設計，並不限只能對應導線區，例如，第4圖的左側(即第1圖在觸控面板10的上側)中，第一接地線區202垂直投影方向對應第二接地線區302。
第5圖繪示第1圖CC’線段的剖面圖。位於連接區BA的第一導線區201與第二導線區301，第一導線區201垂直投影方向對應第二導線區301。換言之，在連接區BA中，導線區不需要對應接地線區。
第6圖繪示本揭露之另一實施方式之觸控面板10’的正面視圖，第7圖繪示第6圖CC’線段的剖面圖。第6圖與第1圖的實施方式差異在於，位於連接區BA的第一導線區201與第二導線區301，第一導線區201垂直投影方向不對應第二導線區301。換言之，從第5圖與第7圖兩種實施方式中可知，在連接區BA中，導線區可以對應導線區，也可以不對應導線區。
雖然下文中利用一系列的操作或步驟來說明在此揭露之方法，但是這些操作或步驟所示的順序不應被解釋為本揭露的限制。例如，某些操作或步驟可以按不同順序進行及/或與其它步驟同時進行。此外，並非必須執行所有繪示的操作、步驟及/或特徵才能實現本揭露的實施方式。此外，在此所述的每一個操作或步驟可以包含數個子步驟或動作。
第8-13圖繪示本揭露之第1至5圖之一實施方式之觸控面板的製備方法中各製程階段的剖面示意圖，以第1圖AA’剖面線作為例示。如第8圖所示，提供基板100。接著如第9圖所示，在基板100上先將第一觸媒層210印刷在基板100上表面金屬走線區域及靶標位置後再進行紫外線(UV)固化。接著如第10圖所示，將第二觸媒層310印刷在基板100下表面金屬走線區域及靶標位置後再進行UV固化。接著如第11圖所示，將具有第一觸媒層210與第二觸媒層310的基板100放入金屬化鍍液槽同時進行氧化還原反應，以形成第一金屬層220與第二金屬層320。接著如第12圖所示，塗佈奈米銀材料於第一金屬層220與第二金屬層320上，再進行固化，以形成第一透明導電層230與第二透明導電層330。接著如第13圖所示，分別對基板100上表面的第一金屬層220與第一透明導電層230、及基板100下表面的第二金屬層320與第二透明導電層330以曝光微影製程進行圖形化。
第14-25圖為本揭露之其他實施方式之觸控面板的製備方法中各製程階段的剖面示意圖，以類似於第1圖AA’剖面線作為例示。如第14圖所示，提供基板100。如第15圖所示，將第一觸媒層210印刷在基板100上表面金屬走線區域及靶標位置後再進行UV固化。如第16圖所示，將具有第一觸媒層210的基板100放入金屬化鍍液槽同時進行氧化還原反應，以形成第一金屬層220。如第17圖所示，塗佈奈米銀材料於第一金屬層220上，再進行固化，以形成第一透明導電層230。接著如第18圖所示，對基板100上表面的第一金屬層220與第一透明導電層230以曝光微影製程進行圖形化。如第19圖所示，提供基板100’。如第20圖所示，將第二觸媒層310’印刷在基板100’上表面金屬走線區域及靶標位置後再進行UV固化。如第21圖所示，將具有第二觸媒層310’的基板100’放入金屬化鍍液槽同時進行氧化還原反應，以形成第二金屬層320’。如第22圖所示，塗佈奈米銀材料於第二金屬層320’上，再進行固化，以形成第二透明導電層330’。接著如第23圖所示，對基板100’上表面的第二金屬層320’與第二透明導電層330’以曝光微影製程進行圖形化。接著如第24圖所示，將光學膠400 (optically clear adhesive，OCA)塗覆於第二導線結構300’與基板100’。 接著如第25圖所示，將第18圖的結構黏合於第24圖的結構上。具體而言，基板100包含可視區(或稱第一可視區)VA與周邊區(或稱第一周邊區)PA，基板100’ (或稱下基板)設置於基板100下，基板100’包含第二可視區與第二周邊區(圖未示)，第二周邊區圍繞在第二可視區外；第二可視區的垂直投影方向對應第一可視區，第二周邊區的垂直投影方向對應第一周邊區。第一觸媒層210設置於基板100的上表面，第二觸媒層310’設置於基板100’的上表面。其中，第一導線區201垂直投影方向對應第二接地線區302’。
本揭露的觸控面板利用柔版印刷將催化層印在基板上再進行化鍍製程，優點包括：1.減少原先整面噴塗靶材或塗料至少90%；2.本揭露可以圖形化印刷，線寬可以從單一線寬2 μm到滿版印刷；3.本揭露可以印刷較薄的產品，以減低疊層及搭接厚度；4.藉由上下相對應之導線區與接地線區，以提升觸控位點的準確度。
雖然本揭露已以實施方式揭露如上，然其並非用以限定本揭露，任何熟習此技藝者，在不脫離本揭露之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本揭露之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
10、10’:觸控面板 100、100’:基板 200:第一導線結構 201:第一導線區 202:第一接地線區 210:第一觸媒層 220:第一金屬層 230:第一透明導電層 300、300’:第二導線結構 301:第二導線區 302、302’:第二接地線區 310、310’:第二觸媒層 320、320’:第二金屬層 330、330’:第二透明導電層 400:光學膠 VA:可視區 PA:周邊區 BA:連接區 AA’:AA’線 BB’:BB’線 CC’:CC’線
為讓本揭露之上述和其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之說明如下： 第1圖繪示本揭露之一實施方式之觸控面板的正面視圖。 第2圖繪示本揭露之一實施方式之觸控面板的背面鏡像視圖。 第3圖繪示第1圖AA’線段的剖面圖。 第4圖繪示第1圖BB’線段的剖面圖。 第5圖繪示第1圖CC’線段的剖面圖。 第6圖繪示本揭露之另一實施方式之觸控面板的正面視圖。 第7圖繪示第6圖CC’線段的剖面圖。 第8-13圖繪示本揭露之一實施方式之觸控面板的製備方法中各製程階段的剖面示意圖。 第14-25圖為本揭露之其他實施方式之觸控面板的製備方法中各製程階段的剖面示意圖。
100:基板
200:第一導線結構
201:第一導線區
202:第一接地線區
210:第一觸媒層
220:第一金屬層
230:第一透明導電層
300:第二導線結構
302:第二接地線區
310:第二觸媒層
320:第二金屬層
330:第二透明導電層
VA:可視區
PA:周邊區
AA’:AA’線

Claims (11)

  1. 一種觸控面板，包含：一基板，其中該基板包含一第一可視區與一第一周邊區，該第一周邊區圍繞在該第一可視區外；一第一導線結構，包含：一第一觸媒層，設置於該基板的該第一周邊區之上；一第一金屬層，設置於該第一觸媒層上；以及一第一透明導電層，設置於該第一金屬層上；其中，該第一導線結構包含區分為一第一導線區以及兩個第一接地線區，且該第一導線區介於該些第一接地線區之間；以及一第二導線結構，設置於該基板的該第一周邊區之下，該第二導線結構包含至少一第二接地線區，其中，該第一導線區的垂直投影方向對應該第二接地線區。
  2. 如請求項1所述之觸控面板，其中該第二導線結構更包含：一第二觸媒層，設置於該基板的該第一周邊區之下；一第二金屬層，設置於該第二觸媒層下；以及一第二透明導電層，設置於該第二金屬層下；其中，該第二導線結構區分為至少一第二導線區與至少一第二接地線區相鄰於該第二導線區。
  3. 如請求項2所述之觸控面板，其中該第二導線區的垂直投影方向對應該第一接地線區。
  4. 如請求項2所述之觸控面板，其中該第二導線結構更包含區分為一第二導線區以及兩個第二接地線區，且該第二導線區介於該些第二接地線區之間。
  5. 如請求項2所述之觸控面板，其中該第一觸媒層與該第二觸媒層具有不同的圖形。
  6. 如請求項1所述之觸控面板，其中該第二導線結構更包含：一下基板，設置於該基板下，該下基板包含一第二可視區與一第二周邊區，該第二周邊區圍繞在該第二可視區外；該第二可視區的垂直投影方向對應該第一可視區，該第二周邊區的垂直投影方向對應該第一周邊區；一第二觸媒層，設置於該下基板的該第二周邊區之上；一第二金屬層，設置於該第二觸媒層上；以及一第二透明導電層，設置於該第二金屬層上；其中，該第二導線結構區分為至少一第二導線區與至少一第二接地線區相鄰於該第二導線區。
  7. 如請求項5所述之觸控面板，其中該第二導線區的垂直投影方向對應該第一接地線區。
  8. 如請求項5所述之觸控面板，其中該第二導線結構更包含區分為一第二導線區以及兩個第二接地線區，且該第二導線區介於該些第二接地線區之間。
  9. 如請求項1所述之觸控面板，其中該基板更包含一連接區，該連接區係與該第一周邊區的一側邊相連接，其中，位於該連接區的該第一導線區與該第二導線區，該第一導線區的垂直投影方向對應該第二導線區。
  10. 如請求項1所述之觸控面板，其中該基板更包含一連接區，該連接區係與該第一周邊區的一側邊相連接，其中，位於該連接區的該第一導線區與該第二導線區，該第一導線區的垂直投影方向不會對應到該第二導線區。
  11. 如請求項1所述之觸控面板，其中該觸控面板以滿版印刷或圖案化印刷製程製備。
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