TWI733886B - 雷射泵腔室裝置及雷射振盪裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種能夠取出高輸出且高品質的雷射光之雷射泵腔室。本發明的雷射泵腔室裝置(1)具備：雷射介質(10)；激發光源元件(2)，圍繞雷射介質(10)的中心軸(10P)以等間隔被配置，且具有與中心軸(10P)交叉之光軸；照射光學系統(3)，被配置於光軸上，將從激發光源元件(2)射出之激發光進行聚光並照射到雷射介質；及框體(4)，支撐雷射介質(10)的端部，並且支撐照射光學系統(3)和激發光源元件(2)，框體(4)由熱傳導性構件構成，在框體(4)的外表面配置有溫度調整構件(5)。

Description

雷射泵腔室裝置及雷射振盪裝置

本發明係有關一種雷射泵腔室裝置者。

為了確保振盪穩定性，高輸出的固體雷射振盪裝置(例如，YAG雷射振盪裝置)中雷射介質的冷卻係不可缺少的。先前，高輸出的固體雷射振盪裝置使用作為雷射介質之YAG桿和作為激發光源之閃光燈密閉之水冷套式雷射泵腔室，藉由使冷卻水循環而進行冷卻來保持雷射泵腔室的熱穩定性。 相對於此，在水的使用或水的產生被嚴禁之(禁水)場所，需要使用高輸出的固體雷射振盪裝置，正在開發出代替前述水冷式而以氣冷式應對高輸出之雷射泵腔室。該種雷射泵腔室的先前例已知有如下等，其具備：YAG桿；閃光燈；楕圓形反射光學系統，用於將從閃光燈射出之光聚光在YAG桿並進行照射；及水套，包圍該等，並且具備：溫度調整機構，將配置有雷射泵腔室之雷射振盪裝置的框體內的空氣的溫度調整為恆定；及送風機構，將該框體內的空氣送入雷射泵腔室內(參照下述專利文獻1)。 [先行技術文獻] [專利文獻] 專利文獻1：日本專利公開2012-156435號公報

[發明所欲解決之問題] 前述先前例雖然能夠得到可在禁水場所使用之氣冷式的雷射泵腔室，但難以進行與水冷式同等水平的冷卻，無法得到水冷式程度的高輸出。並且，另一方面，要求一種能夠取出高輸出且呈現軸對稱的輸出分佈之高品質的雷射光之雷射泵腔室，但在前述先前技術中存在無法應對該種要求之問題。 本發明係為了應付該種問題而提出者。亦即，本發明的課題為提供一種能夠取出高輸出且高品質的雷射光之雷射泵腔室等。 [解決問題之技術手段] 為了解決該種課題，本發明之雷射泵腔室係具備以下構成者。 一種雷射泵腔室裝置，其特徵在於具備：雷射介質；激發光源元件，圍繞前述雷射介質的中心軸以等間隔被配置，且具有與前述中心軸交叉之光軸；照射光學系統，被配置於前述光軸上，將從前述激發光源元件射出之激發光進行聚光而照射於雷射介質；及框體，支撐前述雷射介質的端部，並且支撐前述照射光學系統和前述激發光源元件，前述框體由熱傳導性構件構成，且於該框體的外表面配置有溫度調整構件。

以下，參照圖式說明本發明的實施形態。以下說明中，不同圖式中之相同符號表示相同功能的部位，適當省略各圖式中之重複說明。 如圖1及圖2所示，雷射泵腔室裝置1具備雷射介質10、激發光源元件2、照射光學系統3及框體4。雷射介質10例如係YAG桿，係具有中心軸10P之圓柱狀的雷射桿，以與中心軸10P正交之端面10A、10B開放之狀態被支撐於框體4上。 激發光源元件2例如係雷射二極體，具有與雷射介質10的中心軸10P交叉之光軸。圍繞中心軸10P以等間隔配置有複數個激發光源元件2。在圖示的例子中，以120°間隔，圍繞中心軸10P配置有3個激發光源元件2，並以各激發光源元件2的光軸與中心軸10P正交之方式被配置。 照射光學系統3被配置於激發光源元件2的光軸上，將從激發光源元件2射出之光進行聚光並照射到雷射介質10。在圖示的例子中，照射光學系統3使用柱面透鏡，其將從激發光源元件2射出之具有發散角之光(雷射光)設為平行光並照射到雷射介質10。為了以高效率將激發光照射到雷射介質10，使用包括柱面透鏡之照射光學系統3，其將從激發光源元件2射出之光聚光成與雷射介質10的桿徑相同直徑的平行光並照射到雷射介質10。 框體4係支撐雷射介質10的端部，並且支撐照射光學系統3和激發光源元件2者，在圖示的例子中，由複數個塊構成。具體而言，框體4具備端部支撐塊40、41、內部塊42、43、44及外周塊45，並且具備端部塊51、52。 端部支撐塊40、41係個別地支撐雷射介質10的長度方向端部者，具有能夠使雷射介質10的端部插入之開口40A、41A。在圖示的例子中，在開口40A、41A內配置有Ｏ型圈53，插入到開口40A、41A內之雷射介質10的端部經由Ｏ型圈53被支撐於端部支撐塊40、41。 在圖示的例子中，端部支撐塊40、41上連接有端部塊51、52，端部塊51、52的開口51A、52A與端部支撐塊40、41的開口40A、41A被配置於同軸上。藉此，雷射介質10的端面10A經由開口51A被開放，端面10B經由開口52A被開放。在圖示的例子中，將端部支撐塊40、41和端部塊51、52設為不同之塊，但該等亦可以設為一體的塊。 內部塊42、43、44藉由該等而形成雷射介質10的周圍空間4A和照射光學系統3及激發光源元件2的支撐空間4B。周圍空間4A為與雷射介質10的中心軸10P同軸的圓筒狀，其內表面成為與中心軸10P同軸狀的圓筒反射面4C。具體而言，藉由在內部塊42、43、44的內表面實施鍍金等反射塗層來形成圓筒反射面4C。 外周塊45以包圍內部塊42、43、44的周圍之方式被配置，其中一部分支撐激發光源元件2。外周塊45可以係被分割成複數個之塊，亦可以係一體的塊。 構成框體4之塊(端部支撐塊40、41、內部塊42、43、44、外周塊45)全部由熱傳導性構件(銅等熱傳導性高的構件)構成，並且彼此密合而被連結。各塊的密合面之間的接合中使用熱傳導性高的黏接材料(金屬糊劑)為較佳。並且，在框體4的外表面，具體而言在外周塊45的一部分外表面配置有帕耳帖(Peltier)元件等溫度調整構件5。 該種雷射泵腔室裝置1能夠藉由基於溫度調整構件5之溫度調整而使支撐激發光源元件2之框體4成為均勻的溫度，從而將所有激發光源元件2的發光波長維持為恆定。由於構成框體4之塊(端部支撐塊40、41、內部塊42、43、44、外周塊45)全部由熱傳導性構件構成，因此藉由在框體4的外表面的一部分配置溫度調整構件5，能夠使框體4整體成為均勻的溫度。 當使用雷射二極體作為激發光源元件2時，發光波長根據雷射二極體的溫度而發生變化，但為了進行高效的激發，要求被照射到雷射介質10之激發光的波長維持為容易由雷射介質10吸收之一定的波長。例如，當採用釹YAG桿作為雷射介質10時，能夠藉由將激發光的波長維持在798nm至808nm來進行高效的激發。雷射泵腔室裝置1能夠藉由溫度調整構件5將作為激發光源元件2之雷射二極體的溫度維持在於798nm至808nm處發光之溫度(例如，25℃)，因此當採用釹YAG桿作為雷射介質10時，能夠進行高效的激發。 由框體4的塊構成之照射光學系統3及激發光源元件2的支撐空間4B，圍繞雷射介質10的中心軸10P以等間隔被配置。在圖示的例子中，圍繞中心軸10P以120°間隔在3處配置有支撐空間4B。在支撐空間4B的一部分，在外周塊45上固定有激發光源元件2的基板2A，激發光源元件2以其光軸與雷射介質10的中心軸10P正交之方式被支撐。並且，在支撐空間4B的一部分配置有作為照射光學系統3之柱面透鏡和透鏡支撐構件3A，照射光學系統3被配置於激發光源元件2的光軸上。由框體4的塊構成之雷射介質10的周圍空間4A係與支撐空間4B連通而其中心與中心軸10P成為同軸狀。 被支撐於支撐空間4B之複數個激發光源元件2從軸對稱的3個方向(其他方向)向雷射介質(YAG桿)10的側方照射激發光。並且，在照射光學系統3中被聚光成與雷射介質10的桿徑大略相同的直徑之激發光高效地被照射到雷射介質10，在雷射介質10的表面上被反射之光被形成於周圍空間4A的內表面之圓筒反射面4C反射並再次被照射到雷射介質10的側面，因此激發光更高效地被照射到雷射介質10。藉此，能夠從雷射介質10得到具有軸對稱的輸出分佈之高品質的發光，並且藉由高效的激發光的照射而得到高輸出的發光。 框體4上設置有冷媒流入路4D和冷媒流出路4F，藉此雷射泵腔室裝置1能夠有效地對雷射介質10進行冷卻。在圖示的例子中，冷媒流入路4D係沿與雷射介質10的中心軸10P交叉之方向被延長設置之直線流路，圍繞中心軸10P均等地配置有3條(複數條)，其被形成於端部支撐塊40。並且，冷媒流出路4F係沿中心軸10P之直線流路，其被形成於端部支撐塊41和端部塊52。 氣冷式的雷射泵腔室裝置1中，在框體4中之一方的端部塊51設置有與冷媒流入路4D連通之連接部4E，在連接部4E連接有搬送壓縮空氣之送氣管50。並且，經由被形成於端部塊52和端部支撐塊41之冷媒流出路4F，已與雷射介質10接觸之壓縮空氣被排氣。 如此，雷射泵腔室裝置1在雷射介質10的側面具備使壓縮空氣從多個方向接觸之冷媒流入路4D，且沿著中心軸10P具備將已與雷射介質10接觸之壓縮空氣進行排氣之冷媒流出路4F，因此能夠有效地對雷射介質10進行冷卻。藉此，即使是氣冷式，亦能夠得到高輸出的發光。並且，該種構造的雷射泵腔室裝置1中，形成將前述冷媒流入路4D和冷媒流出路4F進行連接之循環水流路來確保周圍空間4A內的密封性，藉此能夠轉用為水冷式。 圖3表示具備雷射泵腔室裝置1之雷射振盪裝置20。雷射振盪裝置20能夠藉由在框體20A內以與雷射泵腔室裝置1的中心軸10P對面之方式配置包括輸出鏡21和反射鏡22之諧振鏡，且視需要將包括1/4波長板23A、勃克爾斯盒23B、偏光鏡23C等之Q開關23配置於諧振鏡內而得到。 該種雷射振盪裝置20能夠藉由氣冷式的雷射泵腔室裝置1使軸對稱的輸出分佈的光從雷射介質10射出，能夠有效地對雷射介質10進行冷卻，因此係氣冷式，並且能夠取出高輸出且高品質的雷射光。並且，藉由確保雷射泵腔室裝置1的框體4中之周圍空間4A的密封性，還能夠轉用為水冷式的雷射泵腔室裝置1，因此在禁水以外的使用條件下，能夠藉由設為水冷式來得到更高的輸出。 以上，參照圖式詳述了本發明的實施形態，但具體的構成並不限於該等實施形態，即使進行不脫離本發明的要旨之範圍的設計變更等，亦包含於本發明中。並且，上述各實施形態只要其目的及構成等沒有特別的矛盾或問題，則能夠將彼此的技術沿用並組合。

1‧‧‧雷射泵腔室裝置2‧‧‧激發光源元件(雷射二極體)2A‧‧‧基板3‧‧‧照射光學系統(柱面透鏡)3A‧‧‧透鏡支撐構件4‧‧‧框體4A‧‧‧周圍空間4B‧‧‧支撐空間4C‧‧‧圓筒反射面4D‧‧‧冷媒流入路4E‧‧‧連接部4F‧‧‧排氣流出路5‧‧‧溫度調整構件(帕耳帖元件)10‧‧‧雷射介質(YAG桿)10P‧‧‧中心軸10A、10B‧‧‧端面20‧‧‧雷射振盪裝置20A‧‧‧框體21‧‧‧輸出鏡22‧‧‧反射鏡23‧‧‧Q開關23A‧‧‧1/4波長板23B‧‧‧勃克爾斯盒23C‧‧‧偏光鏡40、41‧‧‧端部支撐塊40A、41A‧‧‧開口42、43、44‧‧‧內部塊45‧‧‧外周塊50‧‧‧送氣管51、52‧‧‧端部塊51A、52A‧‧‧開口53‧‧‧Ｏ型圈

圖1係表示本發明的實施形態之雷射泵腔室裝置之斷面圖(圖2中之B-B斷面圖)。 圖2係表示本發明的實施形態之雷射泵腔室裝置之斷面圖(圖1中之A-A斷面圖)。 圖3係表示具備雷射泵腔室裝置之雷射振盪裝置之說明圖。

1‧‧‧雷射泵腔室裝置

2‧‧‧激發光源元件(雷射二極體)

2A‧‧‧基板

3‧‧‧照射光學系統(柱面透鏡)

3A‧‧‧透鏡支撐構件

4‧‧‧框體

4A‧‧‧周圍空間

4B‧‧‧支撐空間

4C‧‧‧圓筒反射面

4D‧‧‧冷媒流入路(帕耳帖元件)

5‧‧‧溫度調整構件

10‧‧‧雷射介質(YAG桿)

10P‧‧‧中心軸

42、43、44‧‧‧內部塊

45‧‧‧外周塊

Claims (8)

1. 一種雷射泵腔室裝置，其特徵在於具備：雷射介質；激發光源元件，其等圍繞上述雷射介質之中心軸等間隔地配置，且具有與上述中心軸交叉之光軸；照射光學系統，其配置於上述光軸上，將自上述激發光源元件出射之激發光聚光而照射於雷射介質；及框體，其支持上述雷射介質之端部，並且支持上述照射光學系統與上述激發光源元件；且上述框體由導熱性構件構成，且於該框體之外表面配置有溫度調整構件；上述框體係由端部支持塊、內部塊及外周塊密接而成，上述端部支持塊支持上述雷射介質之端部，上述內部塊形成上述雷射介質之周圍空間與上述照射光學系統及上述激發光源元件之支持空間，上述外周塊支持上述激發光源元件且包圍上述內部塊之外周。
2. 如請求項1之雷射泵腔室裝置，其中上述框體具備冷媒流入路及冷媒流出路，上述冷媒流入路沿與上述雷射介質之上述中心軸交叉之方向延伸設置，上述冷媒流出路沿著上述中心軸。
3. 如請求項1之雷射泵腔室裝置，其中上述周圍空間之內表面係與上述 中心軸同軸狀之圓筒反射面。
4. 如請求項1或2之雷射泵腔室裝置，其中上述照射光學系統係使自上述激發光源元件出射之光成為與上述雷射介質之桿徑同徑之平行光之柱面透鏡。
5. 如請求項1或2之雷射泵腔室裝置，其中上述溫度調整構件係帕耳帖元件。
6. 如請求項1或2之雷射泵腔室裝置，其中上述激發光源元件係雷射二極體。
7. 如請求項1或2之雷射泵腔室裝置，其中上述雷射介質係YAG桿。
8. 一種雷射振盪裝置，其具備請求項1或2之雷射泵腔室裝置，且以與上述中心軸相對之方式配置有諧振鏡。

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