TWI733492B - 半導體裝置之製造方法、基板處理裝置及程式 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題在於，一面使形成在基板上之膜成為低介電係數膜，一面抑制基底之氧化。 本發明具有如下步驟：(a) 對於導電性之含金屬元素膜及氮化膜中之至少一者之基底露出於表面的基板，供給不含氧化氣體之第一處理氣體，藉此，於基底上以第一厚度形成包含矽、碳及氮之不含氧的第一膜的步驟；及(b) 對於基板供給包含氧化氣體之第二處理氣體，藉此，於第一膜上以較第一厚度更厚之第二厚度形成包含矽、氧及氮之第二膜的步驟；於(b)中，藉由第一膜吸收源自從第一膜表面朝向基底擴散之氧化氣體的氧原子，以使第一膜改質。

Description

半導體裝置之製造方法、基板處理裝置及程式
本發明係關於半導體裝置之製造方法、基板處理裝置、及程式。
作為半導體裝置之製造步驟的一步驟，有進行在基底露出之基板上形成膜的步驟之情形(例如參照專利文獻1)。 [先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本專利特開2017-028171號公報
(發明所欲解決之問題)
本發明之目的在於提供一種技術，其可一面使形成在基板上之膜成為低介電係數膜，一面抑制基底之氧化。 (解決問題之技術手段)
根據本發明之一態樣，提供一種技術，其具有如下步驟：(a) 對於導電性之含金屬元素膜及氮化膜中之至少一者之基底露出於表面的基板，供給不含氧化氣體之第一處理氣體，藉此，於上述基底上以第一厚度形成包含矽、碳及氮之不含氧的第一膜的步驟；及(b) 對於上述基板供給包含氧化氣體之第二處理氣體，藉此，於上述第一膜上以較上述第一厚度更厚之第二厚度形成包含矽、氧及氮之第二膜的步驟；於(b)中，藉由上述第一膜吸收源自從上述第一膜表面朝向上述基底擴散之上述氧化氣體的氧原子，以使上述第一膜改質。 (對照先前技術之功效)
根據本發明，可提供一種技術，其可一面使形成在基板上之膜成為低介電係數膜，一面抑制基底之氧化。
＜本發明之第一態樣＞ 以下，對於本發明之第一態樣，主要使用圖1~圖5、圖6(a)~圖6(c)進行說明。
(1)基板處理裝置之構成 如圖1所示，處理爐202係具有作為加熱機構(溫度調整部)之加熱器207。加熱器207為圓筒形狀，藉由被保持板支撐而被垂直地裝設。加熱器207亦作為利用熱而使氣體活性化(激發)的活性化機構(激發部)而發揮功能。
於加熱器207之內側，與加熱器207呈同心圓狀地配設有反應管203。反應管203係例如由石英(SiO2 )或碳化矽(SiC)等之耐熱性材料所構成，且形成為上端封閉而下端開口之圓筒形狀。於反應管203之下方，與反應管203呈同心圓狀地配設有分歧管(manifold)209。分歧管209係例如由不鏽鋼(SUS)等金屬材料所構成，且形成為上端及下端開口之圓筒形狀。分歧管209之上端部係卡合於反應管203之下端部，而構成為支撐反應管203。於分歧管209與反應管203之間設置有作為密封構件之O形環220a。反應管203係與加熱器207同樣地被垂直裝設。處理容器(反應容器)係主要由反應管203與分歧管209所構成。於處理容器之筒中空部形成有處理室201。處理室201係構成為可收容作為基板的晶圓200。在該處理室201內進行對晶圓200的處理。
於處理室201內，作為第一供給部、第二供給部之噴嘴249a、249b分別設置為貫通分歧管209之側壁。亦將噴嘴249a、249b分別稱為第一噴嘴、第二噴嘴。噴嘴249a、249b分別由石英或SiC等之耐熱性材料即非金屬材料所構成。噴嘴249a、249b係分別構成為用於供給複數種氣體之共用噴嘴。
於噴嘴249a、249b分別連接有作為第一配管、第二配管之氣體供給管232a、232b。氣體供給管232a、232b分別構成為用於供給複數種氣體之共用配管。於氣體供給管232a、232b，自氣體流之上游側起依序分別設置有流量控制器(流量控制部)即質量流量控制器(MFC)241a、241b及開閉閥即閥243a、243b。於氣體供給管232a之較閥243a更下游側連接有氣體供給管232f。於氣體供給管232f，自氣體流之上游側起依序設置有MFC 241f、閥243f。於氣體供給管232b之較閥243b更下游側分別連接有氣體供給管232c~232e、232g。於氣體供給管232c~232e、232g，自氣體流之上游側起依序分別設置有MFC 241c~241e、241g；閥243c~243e、243g。氣體供給管232a~232g係例如由SUS等金屬材料所構成。
如圖2所示，噴嘴249a、249b係分別設置為，在反應管203之內壁與晶圓200之間於俯視時呈圓環狀之空間，沿著自反應管203之內壁之下部至上部，朝向晶圓200之排列方向上方而立起。即，於排列有晶圓200的晶圓排列區域之側邊水平地包圍晶圓排列區域的區域內，沿著晶圓排列區域分別設置噴嘴249a、249b。於噴嘴249a、249b之側面，分別設置有供給氣體的氣體供給孔250a、250b。氣體供給孔250a、250b各自係於俯視時朝向晶圓200之中心開口，而可朝向晶圓200供給氣體。氣體供給孔250a、250b係自反應管203之下部遍及上部而設置有複數個。
自氣體供給管232a，作為原料氣體，將例如包含作為構成膜之主元素(既定元素)的Si及鹵素元素之鹵矽烷系氣體經由MFC 241a、閥243a、噴嘴249a而朝處理室201內供給。原料氣體係指氣體狀態之原料，例如為藉由將常溫常壓下呈液體狀態之原料氣化而得之氣體、或常溫常壓下呈氣體狀態之原料等。鹵矽烷係指包含鹵素元素之矽烷。鹵素元素包含氯(Cl)、氟(F)、溴(Br)、碘(I)等。作為鹵矽烷系氣體，例如可使用包含Si及Cl之原料氣體，即氯矽烷系氣體。作為氯矽烷系氣體，例如可使用六氯二矽烷(Si2 Cl6 ，簡稱：HCDS)氣體。HCDS氣體係作為Si源而發揮作用。
自氣體供給管232b，作為反應氣體，將含氮(N)氣體之一者即含N及碳(C)之氣體經由MFC 241b、閥243b、噴嘴249b而朝處理室201內供給。作為含N及C之氣體，例如可使用胺系氣體即三乙胺((C2 H5 )3 N，簡稱：TEA)氣體。TEA氣體係作為N源還有C源而發揮作用。
自氣體供給管232c，作為反應氣體，將含氧(O)氣體經由MFC 241c、閥243c、氣體供給管232b、噴嘴249b而朝處理室201內供給。作為含O氣體，例如可使用氧氣(O2 )。O2 氣體係作為氧化氣體即O源而發揮作用。
自氣體供給管232d，作為反應氣體，將含N氣體之一者即含N及氫(H)之氣體經由MFC 241d、閥243d、氣體供給管232b、噴嘴249b而朝處理室201內供給。作為含N及H之氣體，例如可使用氮化氫系氣體即氨氣(NH3 )。NH3 氣體係作為氮化氣體即N源而發揮作用。
自氣體供給管232e，作為反應氣體，將含C氣體經由MFC 241e、閥243e、氣體供給管232b、噴嘴249b而朝處理室201內供給。作為含C氣體，例如可使用碳化氫系氣體即丙烯(C3 H6 )氣體。C3 H6 氣體係作為C源而發揮作用。再者，氣體供給管232e、MFC 241e、閥243e等係於後述之其他態樣中，在使用C3 H6 氣體時使用。
自氣體供給管232f、232g，作為惰性氣體，將例如氮氣(N2 )分別經由MFC 241f、241g、閥243f、243g、氣體供給管232a、232b、噴嘴249a、249b而朝處理室201內供給。N2 氣體係作為沖洗氣體、載體氣體、稀釋氣體等而發揮作用。
主要由氣體供給管232a、MFC 241a、閥243a構成原料氣體供給系統(Si源供給系統)。主要由氣體供給管232b~232e、MFC 241b~241e、閥243b~243e構成反應氣體供給系統(N及C源供給系統、O源供給系統、N源供給系統、C源供給系統)。主要由氣體供給管232f、232g、MFC 241f、241g、閥243f、243g構成惰性氣體供給系統。
將在後述之第一成膜中使用之原料氣體及反應氣體統合而亦稱為第一處理氣體。此外，將在第一成膜中使用之原料氣體供給系統及反應氣體供給系統統合而亦稱為第一處理氣體供給系統。此外，將在後述之第二成膜中使用之原料氣體及反應氣體統合而亦稱為第二處理氣體。此外，將在第二成膜中使用之原料氣體供給系統及反應氣體供給系統統合而亦稱為第二處理氣體供給系統。
上述各種供給系統中之任一者或全部之供給系統亦可構成為聚集有閥243a~243g、MFC 241a~241g等而成的聚集型供給系統248。聚集型供給系統248係構成為，連接於氣體供給管232a~232g之各者，並藉由後述之控制器121而控制朝氣體供給管232a~232g內供給各種氣體之供給動作，即閥243a~243g之開閉動作、藉由MFC 241a~241g而進行之流量調整動作等。聚集型供給系統248係構成為一體型或分割型之聚集單元，並構成為能夠以聚集單元單位對於氣體供給管232a~232g等而進行裝卸，而能夠以聚集單元單位進行聚集型供給系統248之維護、交換、增設等。
於反應管203之側壁下方設置有對處理室201內之環境氣體進行排氣的排氣口231a。排氣口231a亦可沿著自反應管203之側壁之下部至上部，即沿著晶圓排列區域而設置。於排氣口231a連接有排氣管231。於排氣管231，經由壓力感測器245及APC(Auto Pressure Controller，自動壓力控制器)閥244而連接有真空泵246，其中，該壓力感測器245係作為檢測處理室201內之壓力的壓力檢測器(壓力檢測部)，該APC閥244係作為壓力調整器(壓力調整部)，該真空泵246係作為真空排氣裝置。APC閥244係構成為，在使真空泵246運作之狀態下對閥進行開閉，藉此可進行處理室201內之真空排氣及真空排氣停止，進而，在使真空泵246運作之狀態下，基於藉由壓力感測器245所檢測出的壓力資訊而調節閥開度，藉此可調整處理室201內之壓力。主要由排氣管231、APC閥244、壓力感測器245構成排氣系統。亦可考慮將真空泵246包含在排氣系統。
於分歧管209之下方，設置有密封蓋219，該密封蓋219係作為可氣密地封閉分歧管209之下端開口的爐口蓋體。密封蓋219係例如由SUS等金屬材料所構成，而形成為圓盤狀。於密封蓋219之上表面，設置有O形環220b，該O形環220b係作為與分歧管209之下端抵接的密封構件。於密封蓋219之下方設置有使後述之晶舟217旋轉的旋轉機構267。旋轉機構267之旋轉軸255係例如由SUS等金屬材料所構成，貫通密封蓋219而連接於晶舟217。旋轉機構267係構成為藉由使晶舟217旋轉而使晶圓200旋轉。密封蓋219係構成為藉由晶舟升降機115而於垂直方向上升降，其中，該晶舟升降機115係作為設置在反應管203之外部的升降機構。晶舟升降機115係構成為藉由使密封蓋219升降而將晶圓200搬入及搬出(搬送)至處理室201內外的搬送系統(搬送機構)。
於分歧管209之下方，設置有閘門219s，該閘門219s係作為在使密封蓋219降下且將晶舟217自處理室201內搬出的狀態下，可氣密地封閉分歧管209之下端開口的爐口蓋體。閘門219s係例如由SUS等金屬材料所構成，而形成為圓盤狀。於閘門219s之上表面設置有O形環220c，該O形環220c係作為與分歧管209之下端抵接的密封構件。閘門219s之開閉動作(升降動作、轉動動作等)係藉由閘門開閉機構115s所控制。
作為基板支撐器的晶舟217係構成為，使複數片例如25~200片之晶圓200以水平姿勢且以相互地對齊中心之狀態於垂直方向上排列並多段地加以支撐，即隔開間隔而排列。晶舟217係例如由石英、SiC等之耐熱性材料所構成。於晶舟217之下部，例如由石英、SiC等之耐熱性材料所構成的隔熱板218係多段地被支撐。
於反應管203內，設置有溫度感測器263，該溫度感測器263係作為溫度檢測器。基於藉由溫度感測器263所檢測之溫度資訊，調整對加熱器207的通電狀況，藉此使處理室201內之溫度成為所期望之溫度分佈。溫度感測器263係沿著反應管203之內壁而設置。
如圖3所示，控制部(控制手段)即控制器121係構成為電腦，該電腦係具備有CPU(Central Processing Unit，中央處理單元)121a、RAM(Random Access Memory，隨機存取記憶體)121b、記憶裝置121c、I/O埠121d。RAM 121b、記憶裝置121c、I/O埠121d係構成為經由內部匯流排121e而可與CPU 121a交換資料。於控制器121，連接有例如構成為觸控面板等的輸入輸出裝置122。
記憶裝置121c係例如由快閃記憶體、HDD(Hard Disk Drive，硬碟驅動器)等所構成。於記憶裝置121c內，可讀出地存放有控制基板處理裝置之動作的控制程式、記載有後述之基板處理之程序、條件等的製程配方等。製程配方係以使控制器121執行後述之基板處理中之各程序並可獲得既定之結果之目的組合而成者，其係作為程式而發揮功能。以下，亦對控制程式、製程配方等加以統合而簡稱為程式。此外，亦將製程配方簡稱為配方。於本說明書中使用程式一詞之情形時，存在有僅包含配方單體的情形、僅包含控制程式單體的情形、或包含該等兩者的情形。RAM 121b係構成為暫時地保持由CPU 121a讀出之程式、資料等的記憶體區域(工作區)。
I/O埠121d係連接於上述之MFC 241a~241g、閥243a~243g、壓力感測器245、APC閥244、真空泵246、溫度感測器263、加熱器207、旋轉機構267、晶舟升降機115、閘門開閉機構115s等。
CPU 121a係構成為自記憶裝置121c讀出控制程式而加以執行，並且因應來自輸入輸出裝置122的操作指令之輸入等而自記憶裝置121c讀出配方。CPU 121a係構成為，照著讀出之配方內容而控制由MFC 241a~241g所進行之各種氣體之流量調整動作、閥243a~243g之開閉動作、APC閥244之開閉動作及基於壓力感測器245之由APC閥244所進行之壓力調整動作、真空泵246之啟動及停止、基於溫度感測器263之加熱器207之溫度調整動作、由旋轉機構267所進行之晶舟217之旋轉及旋轉速度調節動作、由晶舟升降機115所進行之晶舟217之升降動作、由閘門開閉機構115s所進行之閘門219s之開閉動作等。
控制器121可藉由將被存放於外部記憶裝置123的上述程式安裝至電腦而構成。外部記憶裝置123例如包含有HDD等之磁碟、CD等之光碟、MO等之磁光碟、USB記憶體等之半導體記憶體等。記憶裝置121c、外部記憶裝置123係構成為電腦可讀取之記錄媒體。以下，亦將該等總合而簡稱為記錄媒體。於本說明書中使用記錄媒體一詞之情形時，存在有僅包含記憶裝置121c單體的情形，僅包含外部記憶裝置123單體的情形，或包含該等兩者的情形。再者，對電腦之程式提供亦可不使用外部記憶裝置123而是使用網路、專用線路等通信手段而進行。
(2)基板處理步驟 主要使用圖4、圖5、圖6(a)~圖6(c)而對下述基板處理時序例進行說明，該基板處理時序例係使用上述之基板處理裝置，於晶圓200上一面抑制基底之氧化，一面形成低介電係數膜，以作為半導體裝置之製造步驟的一步驟，其中，晶圓200係作為導電性之含金屬元素膜(以下亦簡稱為含金屬膜)及氮化膜中之至少一者之基底露出於表面的基板。於以下之說明中，構成基板處理裝置之各部分的動作係由控制器121所控制。
在本態樣之基板處理時序中，進行如下步驟：對於作為導電性之含金屬元素膜的鎢膜(W膜)及作為氮化膜的氮化矽膜(SiN膜)中之至少一者(於此為兩者)之基底露出於表面的晶圓200，供給HCDS氣體及TEA氣體作為不含氧化氣體之第一處理氣體，藉此，於基底上以第一厚度形成碳氮化矽膜(SiCN膜)而作為包含Si、C及N之不含O的第一膜的步驟(第一成膜)；及對於晶圓200，供給HCDS氣體、TEA氣體及O2 氣體而作為包含氧化氣體之第二處理氣體，藉此，於SiCN膜上以較第一厚度更厚之第二厚度形成包含Si、O、C及N之膜即氧碳氮化矽膜(SiOCN膜)作為包含Si、O及N之第二膜的步驟(第二成膜)；於第二成膜中，藉由SiCN膜而吸收源自從SiCN膜表面朝向基底擴散之氧化氣體的O原子，以使SiCN膜改質。
再者，在上述之第一成膜中，將對晶圓200供給HCDS氣體及TEA氣體之循環進行既定次數。圖4所示之氣體供給時序係表示，於第一成膜中，將對晶圓200間歇且不同時地供給HCDS氣體及TEA氣體之循環進行m次(m為1以上且3以下之整數)的時序例。
此外，在上述之第二成膜中，將對晶圓200供給HCDS氣體、TEA氣體及O2 氣體之循環進行既定次數。圖5所示之氣體供給時序係表示，於第二成膜中，將對晶圓200間歇且不同時地供給HCDS氣體、TEA氣體及O2 氣體之循環進行n次(n為1以上之整數)的時序例。
在本說明書中，為了方便，亦有將圖4所示之第一成膜的氣體供給時序及圖5所示之第二成膜的氣體供給時序分別以如下形式表示之情形。於以下之其他態樣的說明中亦使用相同之記述。
(HCDS→TEA) ×m
Figure 02_image001
SiCN
(HCDS→TEA→O2 ) ×n
Figure 02_image001
SiOCN
於本說明書中使用「晶圓」一詞之情形時，存在有意指晶圓本身的情形、或意指晶圓與在其表面形成之既定之層或膜的積層體的情形。於本說明書中使用「晶圓之表面」一詞之情形時，存在有意指晶圓本身之表面的情形、或意指形成在晶圓上的既定之層等之表面的情形。於本說明書中記載「於晶圓上形成既定之層」之情形時，存在有意指於晶圓本身之表面上直接形成既定之層的情形、或意指於在晶圓上形成之層等之上形成既定之層的情形。於本說明書中使用「基板」一詞之情形亦與使用「晶圓」一詞之情形同義。
(晶圓充填、晶舟裝載) 當複數片之晶圓200裝填(晶圓充填)於晶舟217時，藉由閘門開閉機構115s而使閘門219s移動，分歧管209之下端開口開放(閘門開啟)。其後，如圖1所示，支撐複數片之晶圓200的晶舟217係藉由晶舟升降機115而被抬起，並朝處理室201內搬入(晶舟裝載)。於該狀態下，密封蓋219係成為經由O形環220b而密封分歧管209之下端的狀態。
作為晶圓200，例如可使用由單晶Si構成的Si基板、或於表面形成有單晶Si膜的基板。如圖6(a)所示，於晶圓200之表面之至少一部分，作為基底預先設有導電性之含金屬元素膜即W膜、及氮化膜即SiN膜之各者。W膜中之至少一部分、及SiN膜中之至少一部分分別成為露出之狀態。
(壓力・溫度調整步驟) 藉由真空泵246而進行真空排氣(減壓排氣)，以使處理室201內，即晶圓200所存在之空間成為所期望之壓力(真空度)。此時，處理室201內之壓力係由壓力感測器245所測量，基於該測量的壓力資訊而對APC閥244進行反饋控制(壓力調整)。此外，藉由加熱器207進行加熱，以使處理室201內之晶圓200成為所期望之溫度。此時，基於溫度感測器263所檢測出的溫度資訊而對朝加熱器207的通電狀況進行反饋控制(溫度調整)，以使處理室201內成為所期望之溫度分佈。此外，開始由旋轉機構267所進行之晶舟217及晶圓200之旋轉。真空泵246之運作、晶圓200之加熱及旋轉均至少於至對晶圓200的處理結束為止的期間持續地進行。
(第一成膜) 其後，依序執行如下之步驟A1、A2。
[步驟A1] 在該步驟中，對於處理室201內之晶圓200供給HCDS氣體(HCDS氣體供給)。具體而言，開啟閥243a，使HCDS氣體朝氣體供給管232a內流動。HCDS氣體係藉由MFC 241a而進行流量調整，經由噴嘴249a而朝處理室201內供給，並自排氣口231a排出。此時，對晶圓200供給HCDS氣體。此時，亦可開啟閥243f、243g，使N2 氣體經由噴嘴249a、249b而朝處理室201內供給。
作為本步驟中之處理條件，例示有， HCDS氣體供給流量：0.01~2slm，較佳為0.1~1slm N2 氣體供給流量(每氣體供給管)：0~10slm 各氣體供給時間：1~120秒，較佳為1~60秒 處理溫度：400~800℃，較佳為600~700℃ 處理壓力：1~2666Pa，較佳為67~1333Pa。
再者，本說明書中之「1~2666Pa」般之數值範圍的記述係意指下限值及上限值包含在該範圍。因而，例如「1~2666Pa」意指「1Pa以上且2666Pa以下」。對於其他數值範圍亦相同。
藉由在上述條件下對晶圓200供給HCDS氣體，而於晶圓200的最表面上形成包含Cl的含Si層。包含Cl的含Si層係藉由HCDS朝晶圓200之最表面的物理吸著或化學吸著、HCDS之一部分分解之物質(以下稱Six Cly )朝晶圓200之最表面的化學吸著、由HCDS之熱分解所致之Si朝晶圓200之最表面的堆積等而形成。包含Cl的含Si層可為HCDS或Six Cly 的吸著層(物理吸著層或化學吸著層)，亦可為包含Cl的Si之堆積層。在本說明書中，亦將包含Cl的含Si層簡稱為含Si層。
於形成含Si層之後，關閉閥243a，停止HCDS氣體朝處理室201內之供給。接著，對處理室201內進行真空排氣，將殘留於處理室201內的氣體等從處理室201內排除(沖洗)。此時，開啟閥243f、243g，朝處理室201內供給N2 氣體。N2 氣體係作為沖洗氣體而發揮作用。
作為原料氣體，除HCDS氣體之外，還可使用：單氯矽烷(SiH3 Cl，簡稱：MCS)氣體、二氯矽烷(SiH2 Cl2 ，簡稱：DCS)氣體、三氯矽烷(SiHCl3 ，簡稱：TCS)氣體、四氯矽烷(SiCl4 ，簡稱：STC)氣體、八氯三矽烷(Si3 Cl8 ，簡稱：OCTS)氣體等氯矽烷系氣體；四氟矽烷(SiF4 )氣體等氟矽烷系氣體；四溴矽烷(SiBr4 )氣體等溴矽烷系氣體；四碘矽烷(SiI4 )氣體等碘矽烷系氣體。針對此點，在後述之步驟B1等中亦相同。
作為惰性氣體，除N2 氣體之外，還可使用：Ar氣體、He氣體、Ne氣體、Xe氣體等稀有氣體。針對此點，在後述各步驟中亦相同。
[步驟A2] 於步驟A1結束之後，對於處理室201內之晶圓200，即對於形成在晶圓200上之含Si層供給TEA氣體(TEA氣體供給)。具體而言，開啟閥243b，使TEA氣體朝氣體供給管232b內流動。TEA氣體係藉由MFC 241b而進行流量調整，經由噴嘴249b而朝處理室201內供給，並自排氣口231a排出。此時，對晶圓200供給TEA氣體。此時，亦可開啟閥243f、243g，使N2 氣體經由噴嘴249a、249b而朝處理室201內供給。
作為本步驟中之處理條件，例示有， TEA氣體供給流量：0.1~10slm TEA氣體供給時間：1~120秒，較佳為1~60秒 處理壓力：1~4000Pa，較佳為1~3000Pa。其他處理條件設為與步驟A1中之處理條件相同之處理條件。
藉由在上述條件下對晶圓200供給TEA氣體，而使形成在晶圓200上之含Si層與TEA氣體反應，將TEA氣體所包含之N成分及C成分分別取入於含Si層中，而可使含Si層改質。結果，作為包含Si、C及N且不含O之層，於晶圓200上形成有碳氮化矽層(SiCN層)。再者，在本步驟中，藉由使用胺系氣體即TEA氣體以作為反應氣體，而可使C成分朝SiCN層中之添加量變多，例如可使其較N成分朝SiCN層中之添加量更多。結果，可使SiCN層中之C濃度較該層中之N濃度更高。
於形成SiCN層時，含Si層所包含之Cl等雜質係在由TEA氣體所進行之含Si層之改質反應的過程中，構成至少包含Cl之氣體狀物質，而自處理室201內排出。藉此，相較於在步驟A1形成之含Si層，SiCN層成為Cl等雜質較少之層。
於形成SiCN層之後，關閉閥243b，停止TEA氣體朝處理室201內之供給。接著，藉由與步驟A1中之沖洗相同之處理程序，將殘留於處理室201內的氣體等從處理室201內排除(沖洗)。
作為反應氣體(含N及C氣體)，除TEA氣體之外，例如可使用：二乙胺((C2 H5 )2 NH，簡稱：DEA)氣體、單乙胺(C2 H5 NH2 ，簡稱：MEA)氣體等乙胺系氣體；三甲胺((CH3 )3 N，簡稱：TMA)氣體、二甲胺((CH3 )2 NH，簡稱：DMA)氣體、單甲胺(CH3 NH2 ，簡稱：MMA)氣體等甲胺系氣體等。此外，作為含N及C氣體，除了胺系氣體以外，還可使用：三甲基聯胺((CH3 )2 N2 (CH3 )H，簡稱：TMH)氣體、二甲基聯胺((CH3 )2 N2 H2 ，簡稱：DMH)氣體、單甲基聯胺((CH3 )HN2 H2 ，簡稱：MMH)氣體等有機聯胺系氣體。針對此點，在後述之步驟B2等中亦相同。
[實施既定次數] 對不同時地，即不使其同步地進行上述步驟A1、A2的循環進行既定次數(m次，m為1以上且3以下之整數)，藉此，如圖6(b)所示，於晶圓200上，即在露出於晶圓200表面之W膜及SiN膜各者之上，形成有既定組成及既定膜厚之SiCN膜。
如上述，在第一成膜中，可使形成於晶圓200上之SiCN膜中之C濃度較該膜中之N濃度更高。於第一成膜完畢之時間點，可使SiCN膜中之C濃度成為例如30~50at%範圍內之既定濃度。藉由使SiCN膜中之C濃度如此地變高，而可適當地獲得後述之氧化阻擋效果。
再者，若SiCN膜中之C濃度變得未滿30at%，則後述之O原子捕捉效果變得不充分，藉此使後述之氧化阻擋效果變得不充分，而於後述之第二成膜中，有基底(W膜或SiN膜)之一部分被氧化之情形。藉由使SiCN膜中之C濃度成為30at%以上，可充分地獲得O原子捕捉效果，而可充分地獲得氧化阻擋效果，並可於第二成膜中避免基底之氧化。
此外，若SiCN膜中之C濃度超過50at%，則於後述之第二成膜中，殘留於經改質後之SiCN膜(SiOCN膜或SiON膜)上之C的量變多，而有漏電流增大之情形。藉由使SiCN膜中之C濃度成為50at%以下，可減低殘留於改質後之SiCN膜(SiOCN膜或SiON膜)上之C的量，而可抑制漏電流。
SiCN膜之厚度(第一厚度)例如設為0.05nm以上且0.15nm以下之範圍內的厚度。
若SiCN膜之厚度成為未滿0.05nm，則後述之氧化阻擋效果變得不充分，而於後述之第二成膜中，有基底(W膜或SiN膜)之一部分被氧化之情形。藉由使SiCN膜之厚度成為0.05nm以上之厚度，可充分地獲得氧化阻擋效果，而於第二成膜中，可避免基底之氧化。
若SiCN膜之厚度成為超過0.15nm，則有後述之積層膜之整體介電係數增加之情形。藉由使SiCN膜之厚度為0.15nm以下之厚度，而可抑制後述之積層膜之整體介電係數之增加。
上述循環較佳為重複複數次。即，較佳為，使進行上述循環一次時所形成之SiCN層的厚度成為較期望之膜厚更薄，至藉由積層SiCN層而形成之SiCN膜的膜厚成為期望之膜厚為止，重複複數次上述循環。藉由將上述循環之實施次數設為一次以上且三次以下之既定次數，而可使SiCN膜之厚度成為上述範圍內之厚度。
(第二成膜) 其後，依序執行如下之步驟B1~B3。
[步驟B1] 在該步驟中，藉由與上述步驟A1中之處理程序、處理條件相同之處理程序、處理條件，對於處理室201內之晶圓200供給HCDS氣體(HCDS氣體供給)。藉此，於晶圓200上，即在形成於晶圓200上之SiCN膜上，形成有含Si層。於形成含Si層之後，停止HCDS氣體朝處理室201內之供給，藉由與步驟A1中之沖洗相同之處理程序，將殘留於處理室201內的氣體等從處理室201內排除(沖洗)。
[步驟B2] 於步驟B1結束之後，藉由與上述步驟A2中之處理程序、處理條件相同之處理程序、處理條件，對於處理室201內之晶圓200供給TEA氣體(TEA氣體供給)。藉此，利用TEA氣體對在步驟B1中形成之含Si層進行改質，而於晶圓200上，即在形成於晶圓200上之SiCN膜上，形成有SiCN層。於形成SiCN層之後，停止TEA氣體朝處理室201內之供給，藉由與步驟A1中之沖洗相同之處理程序，將殘留於處理室201內的氣體等從處理室201內排除(沖洗)。
[步驟B3] 於步驟B2結束之後，對於處理室201內之晶圓200，即對於形成在晶圓200上之SiCN膜上之SiCN層供給O2 氣體(O2 氣體供給)。具體而言，開啟閥243c，使O2 氣體朝氣體供給管232c內流動。O2 氣體係藉由MFC 241c而進行流量調整，經由氣體供給管232b、噴嘴249b而朝處理室201內供給，並自排氣口231a排出。此時，對晶圓200供給O2 氣體。此時，亦可開啟閥243f、243g，使N2 氣體經由噴嘴249a、249b而朝處理室201內供給。
作為本步驟中之處理條件，例示有， O2 氣體供給流量：0.1~10slm O2 氣體供給時間：1~120秒，較佳為1~60秒 處理壓力：1~4000Pa，較佳為1~3000Pa。其他處理條件設為與步驟A1中之處理條件相同之處理條件。
藉由在上述之條件下對晶圓200供給O2 氣體，形成在晶圓200上之SiCN膜上的SiCN層之至少一部分被氧化(改質)。結果，於晶圓200上，即在形成於晶圓200上之SiCN膜上，作為包含Si、O及N之層形成有包含Si、O、C及N之層即氧碳氮化矽層(SiOCN層)。於形成SiOCN層時，SiCN層所包含之Cl等雜質係在由O2 氣體所進行之SiCN層之改質反應的過程中，構成至少包含Cl之氣體狀物質，而自處理室201內排出。藉此，相較於在步驟B1形成之含Si層或在步驟B2形成之SiCN層，SiOCN層成為Cl等雜質較少之層。
於形成SiOCN層之後，關閉閥243c，停止O2 氣體朝處理室201內之供給。接著，藉由與步驟A1中之沖洗相同之處理程序，將殘留於處理室201內的氣體等從處理室201內排除(沖洗)。
作為反應氣體(含O氣體)，除了O2 氣體以外，例如可使用：臭氧(O3 )氣體、水蒸氣(H2 O氣體)、一氧化氮(NO)氣體、一氧化二氮(N2 O)氣體等。
[實施既定次數] 對不同時地，即不使其同步地進行上述步驟B1~B3的循環進行既定次數(n次，n為1以上之整數)，藉此，於晶圓200上，即在藉由進行第一成膜而形成於晶圓200上之SiCN膜上，形成有既定組成及既定膜厚之SiOCN膜。
再者，在第二成膜中，於形成SiOCN膜之過程中，亦可對成為第二成膜之基底的SiCN膜供給源自氧化氣體(於此為O2 氣體)之O原子，例如為對晶圓200供給之氧化氣體所包含之O成分的一部分、或形成於晶圓200上之SiOCN層所包含之O成分的一部分。藉此，使成為第二成膜之基底的SiCN膜所包含之C原子的至少一部分置換為O原子，於該膜中使O成分擴散而進行添加，可使該膜改質(氧化)為介電係數較SiCN膜更低之SiOCN膜。此時，依據條件，亦可使該膜改質為O濃度較N濃度高之SiOCN膜。此外，依據條件，亦可使該膜改質為不含C之氧氮化矽膜(SiON膜)，進而，亦可使其改質為O濃度較N濃度高之SiON膜。
此外，在第二成膜中，於第二成膜完畢之時間點，可成為使SiCN膜整體改質為SiOCN膜或SiON膜之狀態。藉此，如圖6(c)所示，可於晶圓200上，即在露出於晶圓200上之W膜及SiN膜各者之上，形成有依序積層介電係數分別較低之第一膜(SiOCN膜或SiON膜)與第二膜(SiOCN膜)而成的積層膜。該積層膜成為所謂之低介電係數膜(Low-k膜)。
再者，於進行第二成膜時，欲朝形成SiCN膜即積層膜時之基底側(W膜側、SiN膜側)擴散之源自氧化氣體的O原子(O成分)係藉由SiCN膜本身被氧化而被捕捉，朝基底側之擴散被阻擋。如此，藉由SiCN膜限制O成分朝基底側之擴散，藉此，可抑制作為基底之W膜及SiN膜各者的氧化。在本說明書中，將由SiCN膜獲得之阻擋該O成分朝基底擴散的效果，即基底的氧化抑制效果，亦稱為氧化阻擋效果。再者，如上所述般，於第一成膜中，可使SiCN膜中之C濃度較N濃度更高。藉此，可使第二成膜中之SiCN膜所致之O原子的捕捉效果提升，而更加提高在第二成膜獲得之基底的氧化阻擋效果，可更加抑制基底之氧化。
再者，較佳為在第二成膜形成之SiOCN膜之厚度(第二厚度)設為較在第一成膜形成之SiCN膜之厚度(第一厚度)更厚。即，較佳為，在第一成膜形成之SiCN膜之厚度設為較在第二成膜形成之SiOCN膜之厚度更薄。藉此，於進行第二成膜時，可使在第一成膜形成之SiCN膜整體氧化，而改質為SiOCN膜或SiON膜，而可使在第一成膜形成之SiCN膜整體改質為低介電係數膜。結果，可使積層第一膜與第二膜而成之積層膜之整體介電係數降低。此外，積層膜之整體膜厚中，使介電係數有變得較第一膜之介電係數更低之傾向之第二膜所佔的厚度比例變大，即，使介電係數有變得較第二膜之介電係數更高之傾向之第一膜所佔的厚度比例變小，藉此，可使積層膜之平均介電係數更加降低。
上述循環較佳為重複複數次。即，較佳為，使進行上述循環一次時所形成之SiOCN層的厚度成為較期望之膜厚更薄，至藉由積層SiOCN層而形成之SiOCN膜的膜厚成為期望之膜厚為止，重複複數次上述循環。
(後沖洗及大氣壓恢復) 於作為第二膜之SiOCN膜之形成、及作為第一膜而形成之SiCN膜朝SiOCN膜或SiON膜之改質分別結束之後，自噴嘴249a、249b之各者朝處理室201內供給作為沖洗氣體的N2 氣體，而自排氣口231a進行排氣。藉此，處理室201內被沖洗，將殘留於處理室201內之氣體或反應副產物自處理室201內除去(後沖洗)。其後，將處理室201內之環境氣體置換為惰性氣體(惰性氣體置換)，使處理室201內之壓力恢復至常壓(大氣壓恢復)。
(晶舟卸載、晶圓卸除) 藉由晶舟升降機115而使密封蓋219下降，分歧管209之下端開口。接著，處理完畢之晶圓200係在被晶舟217支撐的狀態下自分歧管209之下端搬出至反應管203之外部(晶舟卸載)。於晶舟卸載之後，使閘門219s移動，分歧管209之下端開口經由O形環220c而由閘門219s密封(閘門關閉)。處理完畢之晶圓200係於被搬出至反應管203之外部之後，從晶舟217取出(晶圓卸除)。
(3)本態樣所致之效果 根據本態樣，可獲得以下所示之一個或複數個效果。
(a) 藉由於進行第二成膜前進行第一成膜，可於進行第二成膜時，阻擋欲朝較SiCN膜更下方擴散之源自氧化氣體的O原子(O成分)，即阻擋欲到達基底之O成分。藉由該SiCN膜所致之O成分的擴散阻擋作用，而可抑制基底之氧化。再者，若基底即W膜之表面被氧化，則有W膜之電阻上升之情形，但根據本態樣，可避免該課題。此外，若基底即SiN膜之表面被氧化，則有SiN膜所具有之電荷捕捉特性劣化之情形，但根據本態樣，可避免該課題。
(b) 在第一成膜中，可使SiCN膜中之C濃度較N濃度更高，藉此，可更加提高在第二成膜獲得之基底的氧化阻擋效果，而更加抑制基底的氧化。
(c) 在第二成膜中，藉由使用包含氧化氣體之第二處理氣體，而可於晶圓200上形成介電係數低之SiOCN膜。此外，藉由進行第二成膜，使在第一成膜形成之SiCN膜氧化，而可使其改質為介電係數低之SiOCN膜或SiON膜。藉此，可使積層第一膜與第二膜而成之積層膜成為低介電係數膜。
(d) 將在第二成膜形成之SiOCN膜之厚度設為較在第一成膜形成之SiCN膜之厚度更厚，藉此，可促進SiCN膜之氧化，而可使積層第一膜與第二膜而成之積層膜的介電係數更加降低。此外，積層膜之整體膜厚中，使介電係數有變得較第一膜之介電係數更低之傾向之第二膜所佔的厚度比例變大，即，使介電係數有變得較第二膜之介電係數更高之傾向之第一膜所佔的厚度比例變小，藉此，可使積層膜之平均介電係數更加降低。
(e) 如以上所述，根據本態樣，可使形成於基底(W膜及SiN膜)上之氧化膜(第一膜與第二膜之積層膜)成為低介電係數膜，且可抑制基底之氧化。藉由本態樣之方法而形成之積層膜例如可適合地應用於MPU(Micro Processing Unit，微處理單元)等之邏輯裝置、DRAM(Dynamic Random Access Memory，動態隨機存取記憶體)或3D NAND等記憶體裝置中之側壁隔板、硬質遮罩或蝕刻擋件等。
(f) 藉由在第一成膜與第二成膜中將溫度條件設為相同，而不需要在第一成膜與第二成膜之間設置變更晶圓200溫度之步驟(升溫步驟或降溫步驟)，而可使基板處理之產出量提升。
(g) 於使用HCDS氣體以外之原料氣體的情形、使用TEA氣體以外之含N及C氣體的情形、使用O2 氣體以外之含O氣體的情形、使用N2 氣體以外之惰性氣體的情形時，皆可相同地獲得本態樣之效果。
＜本發明之第二態樣＞ 以下，對於本發明之第二態樣，主要使用圖7(a)~圖7(c)進行說明。
如圖7(a)所示，於本態樣中之晶圓200之表面之至少一部分，預先設有氮化膜即SiN膜，而作為基底。SiN膜中之至少一部分係於晶圓200之表面上成為露出之狀態。
(第一成膜) 如以下所示之成膜時序般，與上述態樣中之第一成膜相同地進行第一成膜。其結果，如圖7(b)所示，於晶圓200上，即在露出於晶圓200表面之SiN膜上，形成有既定組成及既定膜厚之SiCN膜。
(HCDS→TEA) ×m
Figure 02_image001
SiCN
(第二成膜) 在第二成膜中，如以下所示之成膜時序般，依序進行如下之步驟C1~C3。
(HCDS→NH3 →O2 ) ×n
Figure 02_image001
SiON
[步驟C1] 在步驟C1中，藉由與上述步驟A1中之處理程序、處理條件相同之處理程序、處理條件，對於處理室201內之晶圓200供給HCDS氣體(HCDS氣體供給)。藉此，於晶圓200上，即在形成於晶圓200上之SiCN膜上，形成有含Si層。於形成含Si層之後，停止HCDS氣體朝處理室201內之供給，藉由與步驟A1中之沖洗相同之處理程序，將殘留於處理室201內的氣體等從處理室201內排除(沖洗)。
[步驟C2] 於步驟C1結束之後，對於處理室201內之晶圓200，即對於形成在晶圓200上之SiCN膜上的含Si層供給NH3 氣體(NH3 氣體供給)。具體而言，開啟閥243d，使NH3 氣體朝氣體供給管232d內流動。NH3 氣體係藉由MFC 241d而進行流量調整，經由氣體供給管232b、噴嘴249b而朝處理室201內供給，並自排氣口231a排出。此時，對晶圓200供給NH3 氣體。此時，亦可開啟閥243f、243g，使N2 氣體經由噴嘴249a、249b而朝處理室201內供給。
作為本步驟中之處理條件，例示有， NH3 氣體供給流量：0.1~10slm NH3 氣體供給時間：1~120秒，較佳為1~60秒 處理壓力：1~4000Pa，較佳為1~3000Pa。其他處理條件設為與上述態樣之步驟A1中之處理條件相同之處理條件。
藉由在上述之條件下對晶圓200供給NH3 氣體，形成在晶圓200上之SiCN膜上的含Si層之至少一部分被氮化(改質)。藉由含Si層被改質，於晶圓200上，形成有包含Si及N之層即氮化矽層(SiN層)。於形成SiN層時，含Si層所包含之Cl等雜質係在由NH3 氣體所進行之含Si層之改質反應的過程中，構成至少包含Cl之氣體狀物質，而自處理室201內排出。藉此，相較於在步驟C1形成之含Si層，SiN層成為Cl等雜質較少之層。
於形成SiN層之後，關閉閥243d，停止NH3 氣體朝處理室201內之供給。接著，藉由與步驟A1中之沖洗相同之處理程序，將殘留於處理室201內的氣體等從處理室201內排除(沖洗)。
作為反應氣體(含N及H之氣體)，除了NH3 氣體以外，例如可使用：二亞胺(N2 H2 )氣體、聯胺(N2 H4 )氣體、N3 H8 氣體等氮化氫系氣體。
[步驟C3] 於步驟C2結束之後，藉由與上述步驟B3中之處理程序、處理條件相同之處理程序、處理條件，對於處理室201內之晶圓200，即對於形成在晶圓200上之SiCN膜上的SiN層，供給O2 氣體(O2 氣體供給)。藉此，形成在晶圓200上之SiCN膜上的SiN層之至少一部分被氧化(改質)，於晶圓200上，即在晶圓200上之SiCN膜上，形成有氧氮化矽層(SiON層)，而作為包含Si、O及N之層。於形成SiON層時，SiN層所包含之Cl等雜質係在由O2 氣體所進行之SiN層之改質反應的過程中，構成至少包含Cl之氣體狀物質，而自處理室201內排出。藉此，相較於在步驟C1形成之含Si層或在步驟C2形成之SiN層，SiON層成為Cl等雜質較少之層。
於在SiCN膜上形成SiON層之後，停止NH3 氣體朝處理室201內之供給，藉由與步驟A1中之沖洗相同之處理程序，將殘留於處理室201內的氣體等從處理室201內排除(沖洗)。
[實施既定次數] 對不同時地，即不使其同步地進行步驟C1~C3的循環進行既定次數(n次，n為1以上之整數)，藉此，可於晶圓200上，即在藉由進行第一成膜而形成於晶圓200上之SiCN膜上，形成有既定組成及既定膜厚之SiON膜。
再者，在第二成膜中，於形成SiON膜之過程中，亦可對成為第二成膜之基底的SiCN膜供給源自氧化氣體(於此為O2 氣體)之O原子，例如為對晶圓200供給之氧化氣體所包含之O成分的一部分、或形成於晶圓200上之SiON層所包含之O成分的一部分。藉此，使成為第二成膜之基底的SiCN膜所包含之C原子的至少一部分置換為O原子，於該膜中使O成分擴散而進行添加，可使該膜改質(氧化)為介電係數較SiCN膜更低之SiOCN膜。此時，依據條件，亦可使該膜改質為O濃度較N濃度高之SiOCN膜。此外，依據條件，亦可使該膜改質為不含C之SiON膜，進而，亦可使其改質為O濃度較N濃度高之SiON膜。
此外，在第二成膜中，於第二成膜結束之時間點，可成為使SiCN膜整體改質為SiOCN膜或SiON膜之狀態。藉此，如圖7(c)所示，可於晶圓200上，即在露出於晶圓200上之SiN膜之上，形成有依序積層介電係數分別較低之第一膜(SiOCN膜或SiON膜)與第二膜(SiON膜)而成的積層膜。該積層膜成為所謂之Low-k膜。
於本態樣中，亦可獲得與上述態樣相同之效果。
即，藉由於進行第二成膜前進行第一成膜，可於進行第二成膜時，阻擋欲朝較SiCN膜更下方擴散之源自氧化氣體的O原子(O成分)，即阻擋欲到達基底之O成分。藉由該SiCN膜所致之O成分的擴散阻擋作用，而可抑制基底之氧化。
此外，在第一成膜中，可使SiCN膜中之C濃度較N濃度更高，藉此，可更加提高在第二成膜獲得之基底的氧化阻擋效果，而更加抑制基底的氧化。
此外，在第二成膜中，藉由使用包含氧化氣體之第二處理氣體，而可於晶圓200上形成介電係數低之SiON膜。
此外，藉由進行第二成膜，使在第一成膜形成之SiCN膜氧化，而可使其改質為介電係數低之SiOCN膜或SiON膜。藉此，可使積層第一膜與第二膜而成之積層膜成為低介電係數膜。
此外，將在第二成膜形成之SiON膜之厚度設為較在第一成膜形成之SiCN膜之厚度更厚，藉此，可促進SiCN膜之氧化，而可使積層第一膜與第二膜而成之積層膜的介電係數更加降低。此外，積層膜之整體膜厚中，使第二膜所佔的厚度比例變大，藉此，可使積層膜之平均介電係數接近第二膜之介電係數。
如此，於本態樣中，亦可使形成於基底(SiN膜)上之氧化膜(第一膜與第二膜之積層膜)成為低介電係數膜，且可抑制基底之氧化。
此外，於本態樣中，亦藉由在第一成膜與第二成膜中將溫度條件設為相同，而可使基板處理之產出量提升。
再者，於使用HCDS氣體以外之原料氣體的情形、使用NH3 氣體以外之含N氣體的情形、使用O2 氣體以外之含O氣體的情形、使用N2 氣體以外之惰性氣體的情形時，皆可相同地獲得本態樣之效果。
＜本發明之其他態樣＞ 以上，已具體地說明本發明之態樣。然而，本發明並不限定於上述態樣，在不脫離其主旨之範圍內可進行各種變更。
例如，於上述態樣中，已對於下例進行說明，即，準備於表面預先形成有基底(W膜或SiN膜)之晶圓，並將該晶圓朝處理室內搬入而進行第一成膜與第二成膜，亦即，在個別之處理室內(於ex-situ(異地))進行基底之形成、及積層膜朝基底上之形成(第一成膜、第二成膜)。然而，例如亦可為，以如下所示之成膜時序般，在同一處理室內(於in-situ(原地))進行作為基底之SiN層的形成、及積層膜朝基底上之形成。再者，以下之成膜時序中之l、n分別表示1以上之整數，m表示1以上且3以下之整數。
(HCDS→NH3 ) ×l → (HCDS→TEA) ×m→(HCDS→NH3 →O2 ) ×n
此外，例如亦可為，以如下所示之成膜時序般，於in-situ進行基底之形成與第一成膜，於ex-situ進行第一成膜與第二成膜。
(HCDS→NH3 ) ×l → (HCDS→TEA) ×m (HCDS→NH3 →O2 ) ×n
此外，例如亦可為，以如下所示之成膜時序般，於ex-situ進行基底之形成與第一成膜，於ex-situ進行第一成膜與第二成膜。
(HCDS→NH3 ) ×l (HCDS→TEA) ×m (HCDS→NH3 →O2 ) ×n
於該等情形中，皆可獲得與上述態樣相同之效果。再者，於in-situ進行基底之形成、及積層膜朝基底上之形成的情形時，變得容易將基底與第一膜之介面及第一膜與第二膜之介面保持為潔淨之狀態。
此外，例如亦可為，於進行第二成膜之後，以與第一成膜相同之處理程序、處理條件進行成膜處理，藉此，於第二膜上，即於積層膜之最表面上，作為包含Si、C及N且不含O之第三膜(蓋層)而形成SiCN膜。藉此，可平衡性良好地提升包含蓋層之積層膜的耐灰化性及耐濕蝕刻性。再者，由於避免增加包含蓋層之積層膜中之整體介電係數，因而較佳為，第三膜之厚度(第三厚度)設為較第二膜之厚度(第二厚度)更薄。
在上述之態樣中，已例示金屬單體膜即W膜，而作為露出於基板表面之導電性的含金屬膜，但本發明並不限定於如此態樣。例如，露出於基板表面之導電性的含金屬膜可為氮化鈦膜(TiN膜)、氮化鎢膜(WN膜)等氮化金屬膜，亦可為鋁膜(Al膜)、鈷膜(Co膜)、鎳膜(Ni膜)、鉑膜(Pt膜)、銅膜(Cu膜)等金屬單體膜。於該等情形中，皆可獲得與上述態樣相同之效果。再者，在本說明書中，將TiN膜或W膜等導電性的含金屬膜亦簡稱為金屬膜。
在第一成膜中，作為第一處理氣體(原料氣體)，除了HCDS氣體等之上述各種鹵矽烷系氣體以外，亦可使用1,1,2,2-四氯-1,2-二甲基二矽烷((CH3 )2 Si2 Cl4 ，簡稱：TCDMDS)氣體等烷基鹵矽烷系氣體、六甲基二矽烷((CH3 )3 -Si-Si-(CH3 )3 ，簡稱：HMDS)氣體等烷基矽烷系氣體、1,4-二矽丁烷(Si2 C2 H10 ，簡稱：DSB)氣體等伸烷基矽烷系氣體。此外，作為第一處理氣體(反應氣體)，除了TEA氣體等之上述各種含N及C之氣體以外，亦可使用NH3 氣體等之含N氣體或C3 H6 氣體等之含C氣體。接著，亦可為，藉由以下所示之氣體供給時序，於導電性的含金屬膜及氮化膜中之至少一者的基底露出於表面之晶圓上，形成SiCN膜作為第一膜。於該等情形中，皆可獲得與上述態樣相同之效果。再者，烷基鹵矽烷系氣體、烷基矽烷系氣體及伸烷基矽烷系氣體各者係作為Si源及C源而發揮作用之氣體。
(TCDMDS→NH3 ) ×m
Figure 02_image001
SiCN (HMDS→NH3 ) ×m
Figure 02_image001
SiCN (DSB→NH3 ) ×m
Figure 02_image001
SiCN (HCDS→C3 H6 →NH3 ) ×m
Figure 02_image001
SiCN
在第二成膜中，作為第二處理氣體(原料氣體)，除了HCDS氣體等之上述各種鹵矽烷系氣體以外，亦可使用TCDMDS氣體等烷基鹵矽烷系氣體、HMDS氣體等烷基矽烷系氣體、DSB氣體等伸烷基矽烷系氣體。此外，作為第二處理氣體(反應氣體)，除了TEA氣體、NH3 氣體、O2 氣體等之上述各種含N及C氣體、含N氣體、含O氣體以外，亦可使用C3 H6 氣體等之含C氣體。接著，亦可為藉由以下所示之氣體供給時序，於晶圓200上，即於第一膜上形成SiOCN膜或SiON膜作為第二膜。於該等情形中，皆可獲得與上述態樣相同之效果。
(HCDS→O2 →TEA) ×n
Figure 02_image001
SiOCN (HCDS→C3 H6 →NH3 →O2 ) ×n
Figure 02_image001
SiOCN (HCDS→C3 H6 →O2 →NH3 ) ×n
Figure 02_image001
SiOCN (TCDMDS→NH3 →O2 ) ×n
Figure 02_image001
SiOCN (TCDMDS→O2 →NH3 ) ×n
Figure 02_image001
SiOCN (HCDS→O2 →NH3 ) ×n
Figure 02_image001
SiON (DCS→NH3 →O2 ) ×n
Figure 02_image001
SiON (DCS→O2 →NH3 ) ×n
Figure 02_image001
SiON
較佳為，用於各處理之配方係因應處理內容而個別地準備，並經由電性通信線路或外部記憶裝置123而預先存放於記憶裝置121c內。接著，較佳為於開始各處理時，CPU121a自存放於記憶裝置121c內之複數個配方中，因應處理內容而適宜選擇適當之配方。藉此，可利用一台基板處理裝置而再現性良好地形成各種膜種、組成比、膜質、膜厚之膜。此外，可減低操作員之負擔，避免操作失誤，且可迅速地開始各處理。
上述配方不限於新製作之情形，例如亦可為，藉由變更已安裝在基板處理裝置之現存的配方而進行準備。於變更配方之情形時，亦可為，將變更後之配方經由電性通信線路或記錄該配方之記錄媒體而安裝在基板處理裝置。此外，亦可為，操作現存的基板處理裝置所具備之輸入輸出裝置122，直接變更已安裝在基板處理裝置之現存的配方。
在上述態樣中，對於使用一次處理複數片基板之批次式基板處理裝置而形成膜之例進行說明。本發明不限定於上述態樣，例如亦可適當地應用於使用一次處理一片或數片基板之單片式基板處理裝置而形成膜之情形。此外，在上述態樣中，對於使用具有熱壁型之處理爐的基板處理裝置而形成膜之例進行說明。本發明不限定於上述態樣，亦可適當地應用於使用具有冷壁型之處理爐的基板處理裝置而形成膜之情形。
於使用該等基板處理裝置之情形中，皆可以與上述態樣相同之處理程序、處理條件進行各處理，而可獲得與上述態樣相同之效果。
此外，上述態樣可適宜組合而使用。此時之處理程序、處理條件例如可設為與上述態樣之處理程序、處理條件相同。
115:晶舟升降機 115s:閘門開閉機構 121:控制器 121a:CPU 121b:RAM 121c:記憶裝置 121d:I/O埠 121e:內部匯流排 122:輸入輸出裝置 123:外部記憶裝置 200:晶圓(基板) 201:處理室 202:處理爐 203:反應管 207:加熱器 209:分歧管 217:晶舟 218:隔熱板 219:密封蓋 219s:閘門 220a~220c:O形環 231:排氣管 231a:排氣口 232a~232g:氣體供給管 241a~241g:質量流量控制器(MFC) 243a~243g:閥 244:APC閥 245:壓力感測器 246:真空泵 248:聚集型供給系統 249a、249b:噴嘴 250a、250b:氣體供給孔 255:旋轉軸 263:溫度感測器 267:旋轉機構
圖1係本發明之以一態樣適宜地使用之基板處理裝置之縱型處理爐的概略構成圖，且為以縱剖視圖表示處理爐部分的圖。 圖2係本發明之以一態樣適宜地使用之基板處理裝置之縱型處理爐的概略構成圖，且為以圖1之A-A線剖視圖表示處理爐部分的圖。 圖3係本發明之以一態樣適宜地使用之基板處理裝置之控制器的概略構成圖，且為以方塊圖表示控制器之控制系統的圖。 圖4係表示本發明之一態樣中之在第一成膜時的氣體供給時序的圖。 圖5係表示本發明之一態樣中之在第二成膜時的氣體供給時序的圖。 圖6(a)係於表面分別露出有W膜及SiN膜之處理對象的晶圓之表面的剖面局部放大圖，圖6(b)係實施第一成膜而於W膜及SiN膜上個別形成SiCN膜後的晶圓之表面的剖面局部放大圖，圖6(c)係實施第二成膜而於SiCN膜上形成SiOCN膜，且使在第一成膜時形成之SiCN膜改質為SiOCN膜或SiON膜後的晶圓之表面的剖面局部放大圖。 圖7(a)係於表面露出有SiN膜之處理對象的晶圓之表面的剖面局部放大圖，圖7(b)係實施第一成膜而於SiN膜上形成SiCN膜後的晶圓之表面的剖面局部放大圖，圖7(c)係實施第二成膜而於SiCN膜上形成SiON膜，同時將在第一成膜時形成之SiCN膜改質為SiOCN膜或SiON膜後的晶圓之表面的剖面局部放大圖。

Claims (21)

  1. 一種半導體裝置之製造方法，其具有如下步驟： (a)對於導電性之含金屬元素膜及氮化膜中之至少一者之基底露出於表面的基板，供給不含氧化氣體之第一處理氣體，藉此，於上述基底上以第一厚度形成包含矽、碳及氮之不含氧的第一膜的步驟；及 (b)對於上述基板供給包含氧化氣體之第二處理氣體，藉此，於上述第一膜上以較上述第一厚度更厚之第二厚度形成包含矽、氧及氮之第二膜的步驟； 於(b)中，藉由上述第一膜吸收源自從上述第一膜表面朝向上述基底擴散之上述氧化氣體的氧原子，以使上述第一膜改質。
  2. 如請求項1之半導體裝置之製造方法，其中，使於(a)中形成之上述第一膜中之碳濃度較氮濃度更高。
  3. 如請求項2之半導體裝置之製造方法，其中，上述第一處理氣體包含：含矽氣體、含氮及碳之氣體， 在(a)中，對於上述基板不同時地供給上述含矽氣體、上述含氮及碳之氣體，藉此，形成碳氮化矽膜作為上述第一膜。
  4. 如請求項3之半導體裝置之製造方法，其中，上述含矽氣體包含鹵矽烷系氣體，上述含氮及碳之氣體包含胺系氣體及有機聯胺系氣體中之至少一者。
  5. 如請求項1之半導體裝置之製造方法，其中，將上述第一厚度設為0.05nm以上且0.15nm以下。
  6. 如請求項1之半導體裝置之製造方法，其中，上述第二處理氣體包含：含矽氣體、含氮氣體、含氧氣體， 在(b)中，對於上述基板不同時地供給上述含矽氣體、上述含氮氣體、上述含氧氣體，藉此，形成氧碳氮化矽膜或氧氮化矽膜而作為上述第二膜。
  7. 如請求項6之半導體裝置之製造方法，其中，上述含氮氣體包含：含氮及碳之氣體， 在(b)中，形成氧碳氮化矽膜作為上述第二膜。
  8. 如請求項7之半導體裝置之製造方法，其中，上述含矽氣體包含鹵矽烷系氣體，上述含氮及碳之氣體包含胺系氣體及有機聯胺系氣體中之至少一者。
  9. 如請求項6之半導體裝置之製造方法，其中，上述含氮氣體包含：含氮及氫氣體， 在(b)中，形成氧氮化矽膜作為上述第二膜。
  10. 如請求項9之半導體裝置之製造方法，其中，上述含矽氣體包含鹵矽烷系氣體，上述含氮及氫氣體包含氮化氫系氣體。
  11. 如請求項1之半導體裝置之製造方法，其中，在(b)中，使上述第一膜所包含之碳原子的至少一部分置換為氧原子。
  12. 如請求項1之半導體裝置之製造方法，其中，在(b)中，使上述第一膜改質為氧碳氮化矽膜或氧氮化矽膜。
  13. 如請求項1之半導體裝置之製造方法，其中，在(b)中，使上述第一膜改質為氧濃度較氮濃度更高之氧碳氮化矽膜或氧氮化矽膜。
  14. 如請求項1之半導體裝置之製造方法，其中，於(b)完畢之時間點，成為使上述第一膜整體改質為氧碳氮化矽膜或氧氮化矽膜之狀態。
  15. 如請求項1之半導體裝置之製造方法，其中，在(b)中，使上述第一膜改質為不含碳之氧氮化矽膜。
  16. 如請求項1之半導體裝置之製造方法，其中，將(a)及(b)在同一處理室內進行。
  17. 如請求項1之半導體裝置之製造方法，其中，進而具有如下步驟：(c) 於進行(a)之前，在上述基板之表面形成上述氮化膜而作為上述基底的步驟； 至少將(c)及(a)依序在同一處理室內進行。
  18. 如請求項1之半導體裝置之製造方法，其中，在與(c)及(a)不同之處理室內進行(b)。
  19. 如請求項1之半導體裝置之製造方法，其中，進而具有如下步驟：(d) 於進行(b)之後，供給上述第一處理氣體，藉此，於上述第二膜上以較上述第二厚度更薄之第三厚度形成包含矽、碳及氮之不含氧的第三膜的步驟。
  20. 一種基板處理裝置，其具有： 處理室，其處理基板； 第一處理氣體供給系統，其對於上述處理室內之基板供給不含氧化氣體之第一處理氣體； 第二處理氣體供給系統，其對於上述處理室內之基板供給包含氧化氣體之第二處理氣體；及 控制部，其構成為可控制上述第一處理氣體供給系統及上述第二處理氣體供給系統，以使其於上述處理室內進行如下處理：(a) 對於導電性之含金屬元素膜及氮化膜中之至少一者之基底露出於表面的基板，供給上述第一處理氣體，藉此，於上述基底上以第一厚度形成包含矽、碳及氮之不含氧的第一膜的處理；及(b) 對於上述基板供給上述第二處理氣體，藉此，於上述第一膜上以較上述第一厚度更厚之第二厚度形成包含矽、氧及氮之第二膜的處理；於(b)中，藉由上述第一膜吸收源自從上述第一膜表面朝向上述基底擴散之上述氧化氣體的氧原子，以使上述第一膜改質。
  21. 一種程式，其藉由電腦而使基板處理裝置在上述基板處理裝置之處理室內執行以下程序： (a)對於導電性之含金屬元素膜及氮化膜中之至少一者之基底露出於表面的基板，供給不含氧化氣體之第一處理氣體，藉此，於上述基底上以第一厚度形成包含矽、碳及氮之不含氧的第一膜的程序； (b)對於上述基板供給包含氧化氣體之第二處理氣體，藉此，於上述第一膜上以較上述第一厚度更厚之第二厚度形成包含矽、氧及氮之第二膜的程序；及 於(b)中，藉由上述第一膜吸收源自從上述第一膜表面朝向上述基底擴散之上述氧化氣體的氧原子，以使上述第一膜改質的程序。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7175210B2 (ja) * 2019-02-04 2022-11-18 東京エレクトロン株式会社 排気装置、処理システム及び処理方法
JP6946374B2 (ja) * 2019-06-20 2021-10-06 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ 半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム
JP7460676B2 (ja) 2022-03-24 2024-04-02 株式会社Kokusai Electric 基板処理方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置、および、プログラム
JP7461396B2 (ja) 2022-03-24 2024-04-03 株式会社Kokusai Electric 基板処理方法、半導体装置の製造方法、プログラム、および基板処理装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150243499A1 (en) * 2014-02-25 2015-08-27 Hitachi Kokusai Electric Inc. Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium
TWI602942B (zh) * 2013-01-29 2017-10-21 東京威力科創股份有限公司 成膜方法及成膜裝置
TW202015130A (zh) * 2018-09-13 2020-04-16 日商國際電氣股份有限公司 半導體裝置之製造方法、基板處理裝置及記錄媒體

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003142579A (ja) * 2001-11-07 2003-05-16 Hitachi Ltd 半導体装置の製造方法および半導体装置
JP4142941B2 (ja) 2002-12-06 2008-09-03 株式会社東芝 半導体装置の製造方法
US7091133B2 (en) * 2003-01-27 2006-08-15 Asm Japan K.K. Two-step formation of etch stop layer
JP2006135363A (ja) 2006-02-14 2006-05-25 Renesas Technology Corp 半導体装置および半導体装置の製造方法
JP5806612B2 (ja) 2011-12-27 2015-11-10 東京エレクトロン株式会社 シリコン酸炭窒化膜の形成方法
JP2014075491A (ja) * 2012-10-04 2014-04-24 Hitachi Kokusai Electric Inc 半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置、およびプログラム
JP6035166B2 (ja) * 2013-02-26 2016-11-30 株式会社日立国際電気 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム
JP5883049B2 (ja) * 2014-03-04 2016-03-09 株式会社日立国際電気 半導体装置の製造方法、基板処理装置、プログラムおよび記録媒体
US9607825B2 (en) * 2014-04-08 2017-03-28 International Business Machines Corporation Hydrogen-free silicon-based deposited dielectric films for nano device fabrication
JP6086934B2 (ja) * 2015-01-14 2017-03-01 株式会社日立国際電気 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム
JP6523091B2 (ja) 2015-07-24 2019-05-29 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム
US10153351B2 (en) * 2016-01-29 2018-12-11 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Semiconductor device and a method for fabricating the same
US9735005B1 (en) * 2016-03-11 2017-08-15 International Business Machines Corporation Robust high performance low hydrogen silicon carbon nitride (SiCNH) dielectrics for nano electronic devices
JP6568508B2 (ja) 2016-09-14 2019-08-28 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ 半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム
JP6817845B2 (ja) * 2017-02-22 2021-01-20 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム
KR102379950B1 (ko) 2017-03-02 2022-03-29 주성엔지니어링(주) 반도체 소자 및 그 제조 방법
US10355111B2 (en) * 2017-04-26 2019-07-16 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Deposition selectivity enhancement and manufacturing method thereof
JP6842988B2 (ja) * 2017-05-19 2021-03-17 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム
JP6853116B2 (ja) 2017-05-31 2021-03-31 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム
US10629496B2 (en) * 2017-07-31 2020-04-21 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Methods for forming transistor gates with hafnium oxide layers and lanthanum oxide layers
JP6653308B2 (ja) 2017-11-15 2020-02-26 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ 半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム
US11417566B2 (en) * 2018-07-31 2022-08-16 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Semiconductor device structure with interconnect structure and method for forming the same
WO2020178973A1 (ja) 2019-03-05 2020-09-10 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ 半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム
JP6946374B2 (ja) * 2019-06-20 2021-10-06 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ 半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI602942B (zh) * 2013-01-29 2017-10-21 東京威力科創股份有限公司 成膜方法及成膜裝置
US20150243499A1 (en) * 2014-02-25 2015-08-27 Hitachi Kokusai Electric Inc. Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium
TW202015130A (zh) * 2018-09-13 2020-04-16 日商國際電氣股份有限公司 半導體裝置之製造方法、基板處理裝置及記錄媒體

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