JP2021002556A - 半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム - Google Patents
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Abstract
Description
(a)導電性の金属元素含有膜および窒化膜のうち少なくともいずれかの下地が表面に露出した基板に対して、酸化ガス非含有の第1処理ガスを供給することで、前記下地上に、シリコン、炭素、および窒素を含み酸素非含有の第1膜を第1厚さで形成する工程と、
(b)前記基板に対して、酸化ガスを含む第2処理ガスを供給することで、前記第1膜上に、シリコン、酸素、および窒素を含む第2膜を前記第1厚さよりも厚い第2厚さで形成する工程と、
を有し、(b)において、前記第1膜の表面から前記下地へ向かって拡散する前記酸化ガス由来の酸素原子を、前記第1膜により吸収し、前記第1膜を改質させる技術が提供される。
以下、本開示の第1態様について、主に、図1〜図5、図6(a)〜図6(c)を用いて説明する。
図1に示すように、処理炉202は加熱機構(温度調整部)としてのヒータ207を有する。ヒータ207は円筒形状であり、保持板に支持されることにより垂直に据え付けられている。ヒータ207は、ガスを熱で活性化(励起)させる活性化機構(励起部)としても機能する。
上述の基板処理装置を用い、半導体装置の製造工程の一工程として、導電性の金属元素含有膜(以下、単に金属含有膜ともいう)および窒化膜のうち少なくともいずれかの下地が表面に露出した基板としてのウエハ200上に、下地の酸化を抑制しつつ低誘電率膜を形成する基板処理シーケンス例について、主に、図4、図5、図6(a)〜図6(c)を用いて説明する。以下の説明において、基板処理装置を構成する各部の動作はコントローラ121により制御される。
導電性の金属元素含有膜としてのタングステン膜(W膜)および窒化膜としてのシリコン窒化膜(SiN膜)のうち少なくともいずれか(ここでは両方)の下地が表面に露出したウエハ200に対して、酸化ガス非含有の第1処理ガスとして、HCDSガスおよびTEAガスを供給することで、下地上に、Si、C、およびNを含みO非含有の第1膜として、シリコン炭窒化膜(SiCN膜)を第1厚さで形成するステップ(第1成膜)と、
ウエハ200に対して、酸化ガスを含む第2処理ガスとして、HCDSガス、TEAガス、およびO2ガスを供給することで、SiCN膜上に、Si、O、およびNを含む第2膜として、Si、O、C、およびNを含む膜であるシリコン酸炭窒化膜(SiOCN膜)を第1厚さよりも厚い第2厚さで形成するステップ(第2成膜)と、
を行い、第2成膜において、SiCN膜の表面から下地へ向かって拡散する酸化ガス由来のO原子を、SiCN膜により吸収し、SiCN膜を改質させる。
複数枚のウエハ200がボート217に装填(ウエハチャージ)されると、シャッタ開閉機構115sによりシャッタ219sが移動させられて、マニホールド209の下端開口が開放される(シャッタオープン)。その後、図1に示すように、複数枚のウエハ200を支持したボート217は、ボートエレベータ115によって持ち上げられて処理室201内へ搬入(ボートロード)される。この状態で、シールキャップ219は、Oリング220bを介してマニホールド209の下端をシールした状態となる。
処理室201内、すなわち、ウエハ200が存在する空間が所望の圧力(真空度)となるように、真空ポンプ246によって真空排気(減圧排気)される。この際、処理室201内の圧力は圧力センサ245で測定され、この測定された圧力情報に基づきAPCバルブ244がフィードバック制御される(圧力調整)。また、処理室201内のウエハ200が所望の温度となるようにヒータ207によって加熱される。この際、処理室201内が所望の温度分布となるように、温度センサ263が検出した温度情報に基づきヒータ207への通電具合がフィードバック制御される(温度調整)。また、回転機構267によるボート217およびウエハ200の回転を開始する。真空ポンプ246の稼働、ウエハ200の加熱および回転は、いずれも、少なくともウエハ200に対する処理が終了するまでの間は継続して行われる。
その後、次のステップA1,A2を順次実行する。
このステップでは、処理室201内のウエハ200に対してHCDSガスを供給する(HCDSガス供給)。具体的には、バルブ243aを開き、ガス供給管232a内へHCDSガスを流す。HCDSガスは、MFC241aにより流量調整され、ノズル249aを介して処理室201内へ供給され、排気口231aより排気される。このとき、ウエハ200に対してHCDSガスが供給される。このとき、バルブ243f,243gを開き、ノズル249a,249bを介して処理室201内へN2ガスを供給するようにしてもよい。
HCDSガス供給流量:0.01〜2slm、好ましくは0.1〜1slm
N2ガス供給流量(ガス供給管毎):0〜10slm
各ガス供給時間:1〜120秒、好ましくは1〜60秒
処理温度:400〜800℃、好ましくは600〜700℃
処理圧力:1〜2666Pa、好ましくは67〜1333Pa
が例示される。
ステップA1が終了した後、処理室201内のウエハ200、すなわち、ウエハ200上に形成されたSi含有層に対してTEAガスを供給する(TEAガス供給)。具体的には、バルブ243bを開き、ガス供給管232b内へTEAガスを流す。TEAガスは、MFC241bにより流量調整され、ノズル249bを介して処理室201内へ供給され、排気口231aより排気される。このとき、ウエハ200に対してTEAガスが供給される。このとき、バルブ243f,243gを開き、ノズル249a,249bを介して処理室201内へN2ガスを供給するようにしてもよい。
TEAガス供給流量:0.1〜10slm
TEAガス供給時間:1〜120秒、好ましくは1〜60秒
処理圧力:1〜4000Pa、好ましくは1〜3000Pa
が例示される。他の処理条件は、ステップA1における処理条件と同様な処理条件とする。
上述したステップA1,A2を非同時に、すなわち、同期させることなく行うサイクルを所定回数(m回、mは1以上3以下の整数)行うことにより、図6(b)に示すように、ウエハ200上、すなわち、ウエハ200の表面に露出したW膜およびSiN膜のそれぞれの上に、所定組成および所定膜厚のSiCN膜が形成される。
その後、次のステップB1〜B3を順次実行する。
このステップでは、上述のステップA1における処理手順、処理条件と同様の処理手順、処理条件により、処理室201内のウエハ200に対してHCDSガスを供給する(HCDSガス供給)。これにより、ウエハ200上、すなわち、ウエハ200上に形成されたSiCN膜上にSi含有層が形成される。Si含有層が形成された後、処理室201内へのHCDSガスの供給を停止し、ステップA1におけるパージと同様の処理手順により、処理室201内に残留するガス等を処理室201内から排除する(パージ)。
ステップB1が終了した後、上述のステップA2における処理手順、処理条件と同様の処理手順、処理条件により、処理室201内のウエハ200に対してTEAガスを供給する(TEAガス供給)。これにより、ステップB1で形成されたSi含有層がTEAガスにより改質され、ウエハ200上、すなわち、ウエハ200上に形成されたSiCN膜上にSiCN層が形成される。SiCN層が形成された後、処理室201内へのTEAガスの供給を停止し、ステップA1におけるパージと同様の処理手順により、処理室201内に残留するガス等を処理室201内から排除する(パージ)。
ステップB2が終了した後、処理室201内のウエハ200、すなわち、ウエハ200上のSiCN膜上に形成されたSiCN層に対してO2ガスを供給する(O2ガス供給)。具体的には、バルブ243cを開き、ガス供給管232c内へO2ガスを流す。O2ガスは、MFC241cにより流量調整され、ガス供給管232b、ノズル249bを介して処理室201内へ供給され、排気口231aより排気される。このとき、ウエハ200に対してO2ガスが供給される。このとき、バルブ243f,243gを開き、ノズル249a,249bを介して処理室201内へN2ガスを供給するようにしてもよい。
O2ガス供給流量:0.1〜10slm
O2ガス供給時間:1〜120秒、好ましくは1〜60秒
処理圧力:1〜4000Pa、好ましくは1〜3000Pa
が例示される。他の処理条件は、ステップA1における処理条件と同様な処理条件とする。
上述したステップB1〜B3を非同時に、すなわち、同期させることなく行うサイクルを所定回数(n回、nは1以上の整数)行うことにより、ウエハ200上、すなわち、第1成膜を行うことでウエハ200上に形成されたSiCN膜上に、所定組成および所定膜厚のSiOCN膜が形成される。
第2膜としてのSiOCN膜の形成、および、第1膜として形成されたSiCN膜のSiOCN膜またはSiON膜への改質がそれぞれ終了した後、ノズル249a,249bのそれぞれから、パージガスとしてのN2ガスを処理室201内へ供給し、排気口231aから排気する。これにより、処理室201内がパージされ、処理室201内に残留するガスや反応副生成物が処理室201内から除去される(アフターパージ)。その後、処理室201内の雰囲気が不活性ガスに置換され(不活性ガス置換)、処理室201内の圧力が常圧に復帰される(大気圧復帰)。
ボートエレベータ115によりシールキャップ219が下降され、マニホールド209の下端が開口される。そして、処理済のウエハ200が、ボート217に支持された状態でマニホールド209の下端から反応管203の外部に搬出(ボートアンロード)される。ボートアンロードの後は、シャッタ219sが移動させられ、マニホールド209の下端開口がOリング220cを介してシャッタ219sによりシールされる(シャッタクローズ)。処理済のウエハ200は、反応管203の外部に搬出された後、ボート217より取り出される(ウエハディスチャージ)。
本態様によれば、以下に示す一つ又は複数の効果が得られる。
以下、本開示の第2態様について、主に、図7(a)〜図7(c)を用いて説明する。
第1成膜は、以下に示す成膜シーケンスのように、上述の態様における第1成膜と同様に行う。その結果、図7(b)に示すように、ウエハ200上、すなわち、ウエハ200の表面に露出したSiN膜の上に、所定組成および所定膜厚のSiCN膜が形成される。
第2成膜では、以下に示す成膜シーケンスのように、次のステップC1〜C3を順に行う。
ステップC1では、上述のステップA1における処理手順、処理条件と同様の処理手順、処理条件により、処理室201内のウエハ200に対してHCDSガスを供給する(HCDSガス供給)。これにより、ウエハ200上、すなわち、ウエハ200上に形成されたSiCN膜上にSi含有層が形成される。Si含有層が形成された後、処理室201内へのHCDSガスの供給を停止し、ステップA1におけるパージと同様の処理手順により、処理室201内に残留するガス等を処理室201内から排除する(パージ)。
ステップC1が終了した後、処理室201内のウエハ200、すなわち、ウエハ200上のSiCN膜上に形成されたSi含有層に対してNH3ガスを供給する(NH3ガス供給)。具体的には、バルブ243dを開き、ガス供給管232d内へNH3ガスを流す。NH3ガスは、MFC241dにより流量調整され、ガス供給管232b、ノズル249bを介して処理室201内へ供給され、排気口231aより排気される。このとき、ウエハ200に対してNH3ガスが供給される。このとき、バルブ243f,243gを開き、ノズル249a,249bを介して処理室201内へN2ガスを供給するようにしてもよい。
NH3ガス供給流量:0.1〜10slm
NH3ガス供給時間:1〜120秒、好ましくは1〜60秒
処理圧力:1〜4000Pa、好ましくは1〜3000Pa
が例示される。他の処理条件は、上述の態様のステップA1における処理条件と同様な処理条件とする。
ステップC2が終了した後、上述のステップB3における処理手順、処理条件と同様の処理手順、処理条件により、処理室201内のウエハ200、すなわち、ウエハ200上のSiCN膜上に形成されたSiN層に対してO2ガスを供給する(O2ガス供給)。これにより、ウエハ200上のSiCN膜上に形成されたSiN層の少なくとも一部が酸化(改質)され、ウエハ200上、すなわち、ウエハ200上のSiCN膜上に、Si、O、およびNを含む層として、シリコン酸窒化層(SiON層)が形成される。SiON層を形成する際、SiN層に含まれていたCl等の不純物は、O2ガスによるSiN層の改質反応の過程において、少なくともClを含むガス状物質を構成し、処理室201内から排出される。これにより、SiON層は、ステップC1で形成されたSi含有層やステップC2で形成されたSiN層に比べて、Cl等の不純物が少ない層となる。
ステップC1〜C3を非同時に、すなわち、同期させることなく行うサイクルを所定回数(n回、nは1以上の整数)行うことにより、ウエハ200上、すなわち、第1成膜を行うことでウエハ200上に形成されたSiCN膜上に、所定組成および所定膜厚のSiON膜を形成することが可能となる。
以上、本開示の態様を具体的に説明した。しかしながら、本開示は上述の態様に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
(HCDS→NH3→O2)×n
(HCDS→TEA)×m
(HCDS→NH3→O2)×n
(HMDS→NH3)×m ⇒ SiCN
(DSB→NH3)×m ⇒ SiCN
(HCDS→C3H6→NH3)×m ⇒ SiCN
(HCDS→C3H6→NH3→O2)×n ⇒ SiOCN
(HCDS→C3H6→O2→NH3)×n ⇒ SiOCN
(TCDMDS→NH3→O2)×n ⇒ SiOCN
(TCDMDS→O2→NH3)×n ⇒ SiOCN
(HCDS→O2→NH3)×n ⇒ SiON
(DCS→NH3→O2)×n ⇒ SiON
(DCS→O2→NH3)×n ⇒ SiON
以下、好ましい態様について付記する。
本開示の一態様によれば、
(a)導電性の金属元素含有膜および窒化膜のうち少なくともいずれかの下地が表面に露出した基板に対して、酸化ガス非含有の第1処理ガスを供給することで、前記下地上に、シリコン、炭素、および窒素を含み酸素非含有の第1膜を第1厚さで形成する工程と、
(b)前記基板に対して、酸化ガスを含む第2処理ガスを供給することで、前記第1膜上に、シリコン、酸素、および窒素を含む第2膜を前記第1厚さよりも厚い第2厚さで形成する工程と、
を有し、(b)において、前記第1膜の表面から前記下地へ向かって拡散する前記酸化ガス由来の酸素原子を、前記第1膜により吸収し、前記第1膜を改質させる半導体装置の製造方法、または、基板処理方法が提供される。
付記1に記載の方法であって、
(a)において形成する前記第1膜における炭素濃度を窒素濃度よりも高くする。
付記2に記載の方法であって、
前記第1処理ガスは、シリコン含有ガスと、窒素及び炭素含有ガスと、を含み、
(a)では、前記シリコン含有ガスと、前記窒素及び炭素含有ガスと、を前記基板に対して非同時に(交互に)供給することで、前記第1膜として、シリコン炭窒化膜を形成する。
付記3に記載の方法であって、
前記シリコン含有ガスはハロシラン系ガスを含み、前記窒素及び炭素含有ガスはアミン系ガスおよび有機ヒドラジン系ガスのうち少なくともいずれかを含む。
付記1〜4のいずれか1項に記載の方法であって、
前記第1厚さを0.05nm以上0.15nm以下とする。
付記1〜5のいずれか1項に記載の方法であって、
前記第2処理ガスは、シリコン含有ガスと、窒素含有ガスと、酸素含有ガスと、を含み、
(b)では、前記基板に対して、前記シリコン含有ガスと、前記窒素含有ガスと、前記酸素含有ガスと、を非同時に供給することで、前記第2膜として、シリコン酸炭窒化膜またはシリコン酸窒化膜を形成する。
付記6に記載の方法であって、
前記窒素含有ガスは窒素及び炭素含有ガスを含み、
(b)では、前記第2膜として、シリコン酸炭窒化膜を形成する。
付記7に記載の方法であって、
前記シリコン含有ガスはハロシラン系ガスを含み、前記窒素及び炭素含有ガスはアミン系ガスおよび有機ヒドラジン系ガスのうち少なくともいずれかを含む。
付記6に記載の方法であって、
前記窒素含有ガスは窒素及び水素含有ガスを含み、
(b)では、前記第2膜として、シリコン酸窒化膜を形成する。
付記9に記載の方法であって、
前記シリコン含有ガスはハロシラン系ガスを含み、前記窒素及び水素含有ガスは窒化水素系ガスを含む。
付記1〜10のいずれか1項に記載の方法であって、
(b)では、前記第1膜に含まれる炭素原子の少なくとも一部を酸素原子に置換させる。
付記1〜11のいずれか1項に記載の方法であって、
(b)では、前記第1膜を、シリコン酸炭窒化膜またはシリコン酸窒化膜に改質させる。
付記1〜12のいずれか1項に記載の方法であって、
(b)では、前記第1膜を、酸素濃度が窒素濃度よりも高いシリコン酸炭窒化膜またはシリコン酸窒化膜に改質させる。
付記1〜13のいずれか1項に記載の方法であって、
(b)が完了した時点において、前記第1膜の全体を、シリコン酸炭窒化膜またはシリコン酸窒化膜に改質させた状態とする。
付記1〜14のいずれか1項に記載の方法であって、
(b)では、前記第1膜を、炭素非含有のシリコン酸窒化膜に改質させる。
付記1〜15のいずれか1項に記載の方法であって、
(a)および(b)を、同一処理室内で(in−situにて)行う。
付記1〜15のいずれか1項に記載の方法であって、
(c)(a)を行う前に、前記基板の表面に、前記下地として、前記窒化膜を形成する工程を更に有し、
少なくとも(c)および(a)を、この順に、同一処理室内で(in−situにて)行う。
付記17に記載の方法であって、
(b)を、(c)および(a)とは異なる処理室内で(ex−situにて)行う。
付記1〜17のいずれか1項に記載の方法であって、
(d)(b)を行った後に、前記第1処理ガスを供給することで、前記第2膜上に、シリコン、炭素、および窒素を含み酸素非含有の第3膜を前記第2厚さよりも薄い第3厚さで形成する工程を更に有する。
本開示の他の態様によれば、
基板が処理される処理室と、
前記処理室内の基板に対して酸化ガス非含有の第1処理ガスを供給する第1処理ガス供給系と、
前記処理室内の基板に対して酸化ガスを含む第2処理ガスを供給する第2処理ガス供給系と、
前記処理室内において、付記1の各処理(各工程)を行わせるように、前記第1処理ガス供給系および前記第2処理ガス供給系を制御することが可能なよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置が提供される。
本開示のさらに他の態様によれば、
基板処理装置の処理室内において、付記1の各手順(各工程)をコンピュータによって前記基板処理装置に実行させるプログラム、または、該プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される
201 処理室
Claims (5)
- (a)導電性の金属元素含有膜および窒化膜のうち少なくともいずれかの下地が表面に露出した基板に対して、酸化ガス非含有の第1処理ガスを供給することで、前記下地上に、シリコン、炭素、および窒素を含み酸素非含有の第1膜を第1厚さで形成する工程と、
(b)前記基板に対して、酸化ガスを含む第2処理ガスを供給することで、前記第1膜上に、シリコン、酸素、および窒素を含む第2膜を前記第1厚さよりも厚い第2厚さで形成する工程と、
を有し、(b)において、前記第1膜の表面から前記下地へ向かって拡散する前記酸化ガス由来の酸素原子を、前記第1膜により吸収し、前記第1膜を改質させる半導体装置の製造方法。 - (a)において形成する前記第1膜における炭素濃度を窒素濃度よりも高くする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1厚さを0.05nm以上0.15nm以下とする請求項1または2に記載の半導体装置の製造方法。
- 基板が処理される処理室と、
前記処理室内の基板に対して酸化ガス非含有の第1処理ガスを供給する第1処理ガス供給系と、
前記処理室内の基板に対して酸化ガスを含む第2処理ガスを供給する第2処理ガス供給系と、
前記処理室内において、(a)導電性の金属元素含有膜および窒化膜のうち少なくともいずれかの下地が表面に露出した基板に対して、前記第1処理ガスを供給することで、前記下地上に、シリコン、炭素、および窒素を含み酸素非含有の第1膜を第1厚さで形成する処理と、(b)前記基板に対して、前記第2処理ガスを供給することで、前記第1膜上に、シリコン、酸素、および窒素を含む第2膜を前記第1厚さよりも厚い第2厚さで形成する処理と、を行わせ、(b)において、前記第1膜の表面から前記下地へ向かって拡散する前記酸化ガス由来の酸素原子を、前記第1膜により吸収し、前記第1膜を改質させるように、前記第1処理ガス供給系および前記第2処理ガス供給系を制御することが可能なよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - 基板処理装置の処理室内において、
(a)導電性の金属元素含有膜および窒化膜のうち少なくともいずれかの下地が表面に露出した基板に対して、酸化ガス非含有の第1処理ガスを供給することで、前記下地上に、シリコン、炭素、および窒素を含み酸素非含有の第1膜を第1厚さで形成する手順と、
(b)前記基板に対して、酸化ガスを含む第2処理ガスを供給することで、前記第1膜上に、シリコン、酸素、および窒素を含む第2膜を前記第1厚さよりも厚い第2厚さで形成する手順と、
(b)において、前記第1膜の表面から前記下地へ向かって拡散する前記酸化ガス由来の酸素原子を、前記第1膜により吸収し、前記第1膜を改質させる手順と、
をコンピュータによって前記基板処理装置に実行させるプログラム。
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