TWI721064B - 附黏著劑層的光學膜及光學積層體 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題為提供即便在嚴苛的耐久條件下，亦顯示出優異的耐久性之附黏著劑層的光學膜及包含該光學膜之光學積層體。

本發明之解決手段為一種附黏著劑層的光學膜，其係包含光學膜、及積層於該光學膜的至少一面之黏著劑層，其中，前述黏著劑層係由包含(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、交聯劑(B)、及矽烷化合物(C)之黏著劑組成物的反應生成物所構成，前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)係包含源自下述式(a1)及下述式(a2)所示之含有羥基的(甲基)丙烯酸酯之構成單元。

Description

附黏著劑層的光學膜及光學積層體
本發明係關於耐久性優異、有用於作為利用於液晶顯示裝置等之光學構件之附黏著劑層的光學膜、以及包含該等之光學積層體。
將透明樹脂膜積層貼合於偏光片的單面或兩面而成之偏光板所代表之光學膜係廣泛用作構成液晶顯示裝置等影像顯示裝置之光學構件。諸如偏光板之光學膜大多經由黏著劑層貼合於其他構件(例如液晶顯示裝置中之液晶胞等)而使用(參照專利文獻1)。因此，作為光學膜，係已知在其中一面預先設有黏著劑層之附黏著劑層的光學膜。
〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕
〔專利文獻1〕日本專利特開2010-229321號公報
近年來，液晶顯示裝置已擴展至智慧型手機或平板型終端所代表之行動機器用途或汽車導航系統所代表之車載用機器用途。在此等用途中，會有暴露於相較於習知的屋內用TV用途而言更嚴苛的環境之可能性，因而裝置的耐久性提升係成為課題。
在構成液晶顯示裝置等之附黏著劑層的光學膜中亦同樣地要求耐久性。即，組裝於液晶顯示裝置等之黏著劑層係時而置於高溫或高溫高濕環境下，時而置於高溫及低溫反覆之環境下，對於附黏著劑層的光學膜，係要求即便在此等環境下，亦可抑制在黏著劑層與其所貼合之光學構件之界面之浮起或剝落、黏著劑層的發泡等不良情形，此外，亦要求光學特性不會劣化。尤其在光學膜為偏光板之情況，為了在高溫環境下之較強的收縮應力，對於黏著劑層係要求相較於一般的光學膜而言更高的耐久性能。由於上述液晶顯示裝置的耐久性提升之要求提高，因而最近對黏著劑層所要求之耐久性變得非常嚴格。
從而，本發明之目的係在於提供即便在此等嚴苛的耐久條件下，亦顯示出優異的耐久性之附黏著劑層的光學膜及包含該等之光學積層體。
本發明者為了解決上述課題而致力檢討之結果，便完成本發明。
即，在本發明中，係包含下列者。
〔1〕一種附黏著劑層的光學膜，其係包含光學膜、及 積層於該光學膜的至少一面之黏著劑層，前述黏著劑層係由包含(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、交聯劑(B)、及矽烷化合物(C)之黏著劑組成物的反應生成物所構成，前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)係包含源自下述式(a1)所示之含有羥基的(甲基)丙烯酸酯之構成單元、及源自下述式(a2)所示之含有羥基的(甲基)丙烯酸酯之構成單元，
Figure 105140824-A0202-12-0003-12
(式中，n表示1~4之整數，A1表示氫原子或烷基，X1表示可具有取代基之亞甲基，n為2以上時，前述取代基可相同或相異)；
Figure 105140824-A0202-12-0003-13
(式中，m表示5以上之整數，A2表示氫原子或烷基，X2表示可具有取代基之亞甲基，前述取代基可相同或相異)。
〔2〕如〔1〕所記載之附黏著劑層的光學膜，其中，相對於構成(甲基)丙烯酸系樹脂之所有構成單元100重量份而言，源自式(a1)所示之含有羥基的(甲基)丙烯酸酯之構成單元的比例為1.5~4.5重量份，源自式(a2) 所示之含有羥基的(甲基)丙烯酸酯之構成單元的比例為0.25~1.0重量份。
〔3〕如〔1〕或〔2〕所記載之附黏著劑層的光學膜，其中，(甲基)丙烯酸系樹脂係包含源自丙烯酸烷酯(a3)之構成單元，該源自丙烯酸烷酯(a3)之構成單元係含有源自均聚物的玻璃轉移溫度為未達0℃之丙烯酸烷酯(a3-1)之構成單元、及源自均聚物的玻璃轉移溫度為0℃以上之丙烯酸烷酯(a3-2)之構成單元。
〔4〕如〔3〕所記載之附黏著劑層的光學膜，其中，源自均聚物的玻璃轉移溫度為未達0℃之丙烯酸烷酯(a3-1)之構成單元、與源自均聚物的玻璃轉移溫度為0℃以上之丙烯酸烷酯(a3-2)之構成單元之比例(重量比)為(a3-1)/(a3-2)=20/80~95/5。
〔5〕如〔1〕~〔4〕中任一項所述之附黏著劑層的光學膜，其中，(甲基)丙烯酸系樹脂的重量平均分子量以聚苯乙烯換算為6.0×105~2.5×106。
〔6〕如〔1〕~〔5〕中任一項所述之附黏著劑層的光學膜，其中，交聯劑(B)為芳香族異氰酸酯化合物及/或該芳香族異氰酸酯化合物之經由多元醇化合物之加成體。
〔7〕如〔1〕~〔6〕中任一項所述之附黏著劑層的光學膜，其中，交聯劑(B)的比例係相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份而言為0.01~10重量份。
〔8〕如〔1〕~〔7〕中任一項所述之附黏著劑層的光 學膜，其中，矽烷化合物(C)為下述式(c1)所示之矽烷化合物，
Figure 105140824-A0202-12-0005-24
(式中，B表示碳數1~20的烷二基或碳數3~20的二價脂環式烴基，構成前述烷二基及前述脂環式烴基之-CH2-可置換成-O-或-CO-，R1表示碳數1~5的烷基，R2、R3、R4、R5及R6各自獨立地表示碳數1~5的烷基或碳數1~5的烷氧基)。
〔9〕如〔8〕所記載之附黏著劑層的光學膜，其中，式(c1)之B為碳數1~10的烷二基，R1為碳數1~5的烷基，R2、R3、R4、R5及R6各自獨立地為碳數1~5的烷氧基。
〔10〕如〔1〕~〔9〕中任一項所述之附黏著劑層的光學膜，其中，矽烷化合物(C)的比例係相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份而言為0.01~10重量份。
〔11〕如〔1〕~〔10〕中任一項所述之附黏著劑層的光學膜，其中，黏著劑層的凝膠分率為50~95%。
〔12〕如〔1〕~〔11〕中任一項所述之附黏著劑層的光學膜，其中，將前述黏著劑層貼合於玻璃基板，在溫度23℃、相對濕度50%之條件下，24小時後之前述黏著劑層的黏著力在剝離速度300mm/分鐘時，為0.5~10N/25mm。
〔13〕一種光學積層體，其係包含〔1〕~〔12〕中任 一項所述之附黏著劑層的光學膜。
在本說明書中，「(甲基)丙烯酸系」係意味丙烯酸系或甲基丙烯酸系，針對「(甲基)丙烯酸酯」或「(甲基)丙烯醯基」等，亦同樣地分別表示丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯、丙烯醯基或甲基丙烯醯基。
本發明之附黏著劑層的光學膜、及包含該等之光學積層體係即便在嚴苛的耐久條件下亦具有優異的耐久性。
1、1a、1b‧‧‧附黏著劑層的光學膜
2‧‧‧偏光片
3‧‧‧第1樹脂膜
4‧‧‧第2樹脂膜
5、6、7、8、9‧‧‧光學積層體
10‧‧‧光學膜
10a、10b‧‧‧偏光板
20‧‧‧黏著劑層
30‧‧‧金屬層
40‧‧‧基板
50‧‧‧樹脂層
〔第1圖〕第1圖為示出本發明所涉及之附黏著劑層的光學膜之一例之概略斷面圖。
〔第2圖〕第2圖為示出偏光板的層構成之一例之概略斷面圖。
〔第3圖〕第3圖為示出偏光板的層構成之其他例之概略斷面圖。
〔第4圖〕第4圖為示出本發明所涉及之光學積層體之一例之概略斷面圖。
〔第5圖〕第5圖為示出本發明所涉及之光學積層體之其他例之概略斷面圖。
〔第6圖〕第6圖為示出本發明所涉及之光學積層體之再其他例之概略斷面圖。
〔第7圖〕第7圖為示出本發明所涉及之光學積層體 之另一例之概略斷面圖。
〔第8圖〕第8圖為示出本發明所涉及之光學積層體之再另一例之概略斷面圖。
<附黏著劑層的光學膜>
本發明之附黏著劑層的光學膜係包含光學膜、及積層於該光學膜的至少一面之黏著劑層。
第1圖為示出本發明所涉及之附黏著劑層的光學膜之一例之概略斷面圖。第1圖所示之附黏著劑層的光學膜1為光學膜10、及在該光學膜的單面積層黏著劑層20而成之光學膜。黏著劑層20係通常直接積層於光學膜10的表面，並由包含(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、交聯劑(B)、及矽烷化合物(C)之黏著劑組成物的反應生成物所構成。該黏著劑層20亦可積層於光學膜的兩面。
〔1〕光學膜
構成附黏著劑層的光學膜1之光學膜10可為可組裝於液晶顯示裝置等影像顯示裝置之各種光學膜(具有光學特性之膜)。該光學膜10可為單層構造(例如偏光片、相位差膜、亮度提升膜、防眩膜、抗反射膜、擴散膜、集光膜等光學機能性膜等)，亦可為多層構造(例如偏光板、相位差板等)。光學膜10較佳為偏光板、偏光片、相位差板或相位差膜，特佳為偏光板或偏光片。另外，在本說明書中， 光學膜係意味發揮機能用以顯示影像(顯示畫面等)之膜(例如發揮機能用以提升影像的能見度之膜)。此外，在本說明書中，偏光板係意味在偏光片的至少一面積層樹脂膜或樹脂層而成者，相位差板係意味在相位差膜的至少一面積層樹脂膜或樹脂層而成者。
〔1-1〕偏光板
第2圖及第3圖為示出偏光板的層構成之例之概略斷面圖。第2圖所示之偏光板10a為在偏光片2的一面積層(或積層貼合)第1樹脂膜3而成之單面保護偏光板，第3圖所示之偏光板10b為在偏光片2的另一面進一步積層(或積層貼合)第2樹脂膜4而成之兩面保護偏光板。第1、第2樹脂膜3、4可經由未圖示之接著劑層或黏著劑層而貼合於偏光片2。另外，偏光板10a、10b亦可包含第1、第2樹脂膜3、4以外之其他膜或層。
偏光片2為具有吸收擁有平行於其吸收軸之振動面之直線偏光，並穿透擁有正交於吸收軸(與穿透軸平行)之振動面之直線偏光之性質之膜，可使用例如使二色性色素吸附配向於聚乙烯醇系樹脂膜而成之膜。作為二色性色素，可列舉例如碘或二色性有機染料等。
聚乙烯醇系樹脂可藉由將聚醋酸乙烯酯系樹脂進行皂化而獲得。作為聚醋酸乙烯酯系樹脂，可列舉例如屬於醋酸乙烯酯之均聚物之聚醋酸乙烯酯、能夠與醋酸乙烯酯共聚之單體(例如不飽和羧酸、烯烴、乙烯醚、不 飽和磺酸、具有銨基之(甲基)丙烯醯胺等)與醋酸乙烯酯之共聚物等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85~100莫耳%，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂亦可經改質，例如可為經醛類改質之聚乙烯甲醛或聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度通常為1000~10000，較佳為1500~5000。另外，聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度可按照JIS K 6726求出。
通常，使用對聚乙烯醇系樹脂進行製膜而成者作為偏光片2之坯膜。聚乙烯醇系樹脂可以公知的方法進行製膜。坯膜的厚度通常為1~150μm，若考慮到延伸的容易度等，較佳為10μm以上。
偏光片2係例如對坯膜實施單軸延伸之步驟、以二色性色素將膜染色並使該二色性色素進行吸附之步驟、以硼酸水溶液對膜進行處理之步驟、以及將膜進行水洗之步驟，最後予以乾燥而製造。偏光片2的厚度通常為1~30μm，從附黏著劑層的光學膜1的薄膜化之觀點而言，較佳為20μm以下，更佳為15μm以下，特佳為10μm以下。
使二色性色素吸附配向於聚乙烯醇系樹脂膜而成之偏光片2係除了1)使用聚乙烯醇系樹脂膜的單獨膜作為坯膜，並對此膜實施單軸延伸處理及二色性色素的染色處理之方法以外，藉由2)對基材膜塗覆含有聚乙烯醇系樹脂之塗覆液(水溶液等)，使其乾燥而獲得具有聚乙 烯醇系樹脂層之基材膜後，將其連同基材膜進行單軸延伸，對延伸後之聚乙烯醇系樹脂層實施二色性色素的染色處理，接著將基材膜剝離去除之方法亦可獲得。作為基材膜，可使用包含與後述之可構成第1、第2樹脂膜3、4之熱可塑性樹脂同樣的熱可塑性樹脂之膜，較佳為包含聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、三乙醯基纖維素等纖維素系樹脂、降莰烯系樹脂等環狀聚烯烴系樹脂、聚苯乙烯系樹脂等之膜。若利用上述2)之方法，則薄膜的偏光片2的製作變得容易，例如厚度7μm以下的偏光片2的製作亦變得容易。
第1、第2樹脂膜3、4可各自獨立地為包含具有透光性且較佳係光學上透明的熱可塑性樹脂，例如鏈狀聚烯烴系樹脂(聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)等聚烯烴系樹脂；纖維素系樹脂(纖維素酯系樹脂等)；聚酯系樹脂(聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等)；聚碳酸酯系樹脂(例如由2,2-雙(4-羥苯基)丙烷等雙酚所衍生之聚碳酸酯等)；(甲基)丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚醚醚酮系樹脂；聚碸系樹脂、或此等之混合物、共聚物等之膜。此等之中，第1、第2樹脂膜3、4較佳係各自為由環狀聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、及(甲基)丙烯酸系樹脂等所構成之膜，特佳為由纖維素系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂等所構成之膜。
作為鏈狀聚烯烴系樹脂，可列舉例如聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂等鏈狀烯烴之均聚物、由2種以上的鏈狀烯烴所組成之共聚物等。
環狀聚烯烴系樹脂為包含以降莰烯或四環十二烯(別名：二甲橋八氫萘)或該等之衍生物為代表例之環狀烯烴作為聚合單元之樹脂的總稱。作為環狀聚烯烴系樹脂，可列舉環狀烯烴之開環(共)聚合物及其氫化物、環狀烯烴之加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯等鏈狀烯烴或與具有乙烯基之芳香族化合物之共聚物、以及此等經不飽和羧酸或其衍生物改質之改質(共)聚合物等。此等之中，較佳為使用降莰烯、多環降莰烯系單體等降莰烯系單體作為環狀烯烴之降莰烯系樹脂。
纖維素系樹脂較佳為纖維素酯系樹脂，即，纖維素之部分或完全酯化物等，可列舉例如纖維素之醋酸酯、丙酸酯、酪酸酯、該等之混合酯等。此等之中，較佳為三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、纖維素醋酸酯丙酸酯、纖維素醋酸酯丁酸酯等。
聚酯系樹脂為具有酯鍵之上述纖維素酯系樹脂以外之樹脂，一般為包含多元羧酸或其衍生物與多元醇之聚縮合物者。作為聚酯系樹脂，可列舉例如聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚萘二甲酸丙二酯、聚對苯二甲酸環己烷二甲酯、聚萘二甲酸環己烷二甲酯等。
聚碳酸酯系樹脂為由碳酸與二醇或雙酚所形成之聚酯。此等之中，從耐熱性、耐候性及耐酸性之觀點而言，較佳為在分子鏈具有二苯基烷之芳香族聚碳酸酯。作為聚碳酸酯，可列舉例如由2,2-雙(4-羥苯基)丙烷(別名雙酚A)、2,2-雙(4-羥苯基)丁烷、1,1-雙(4-羥苯基)環己烷、1,1-雙(4-羥苯基)異丁烷、1,1-雙(4-羥苯基)乙烷等雙酚所衍生之聚碳酸酯等。
可構成第1、第2樹脂膜3、4之(甲基)丙烯酸系樹脂可為以源自甲基丙烯酸酯之構成單元為主體(例如包含此等50重量%以上)之聚合物，較佳為於其中共聚有其他共聚成分之共聚物。
(甲基)丙烯酸系樹脂亦可包含2種以上源自甲基丙烯酸酯之構成單元。作為甲基丙烯酸酯，可列舉甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯等甲基丙烯酸之C1~C4烷酯。
作為可與甲基丙烯酸酯共聚之共聚成分，可列舉丙烯酸酯。丙烯酸酯較佳為丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己酯等丙烯酸之C1~C8烷酯。作為其他共聚成分之具體例，可列舉(甲基)丙烯酸等不飽和酸類；苯乙烯、鹵化苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯等芳香族乙烯系化合物；(甲基)丙烯腈等乙烯系氰化合物；馬來酸酐、檸康酸酐等不飽和酸酐；苯基馬來醯亞胺、環己基馬來醯亞胺等不飽和醯亞胺等在分子內具有1個聚合性碳-碳雙鍵之丙烯酸酯以外之化合物。亦 可使用在分子內具有2個以上聚合性碳-碳雙鍵之化合物作為共聚成分。共聚成分可單獨或組合二種以上使用。
(甲基)丙烯酸系樹脂就可提高膜的耐久性之方面而言，亦可在高分子主鏈具有環構造。環構造較佳為環狀酸酐構造、環狀醯亞胺構造、內酯環構造等雜環構造。作為環狀酸酐構造之具體例，可列舉戊二酸酐構造、琥珀酸酐構造等，作為環狀醯亞胺構造之具體例，可列舉戊二醯亞胺構造、琥珀醯亞胺構造等，作為內酯環構造之具體例，可列舉丁內酯環構造、戊內酯環構造等。
(甲基)丙烯酸系樹脂，從成為膜之製膜性或膜的耐衝擊性等之觀點而言，亦可含有丙烯酸系橡膠粒子。丙烯酸系橡膠粒子係指將以丙烯酸酯為主體之彈性聚合物作為必要成分之粒子，可列舉實質上僅包含此彈性聚合物之單層構造者、或以彈性聚合物作為1個層之多層構造者。作為彈性聚合物之例，可列舉以丙烯酸烷酯作為主成分，並與能夠共聚至其中之其他乙烯系單體及交聯性單體共聚之交聯彈性共聚物。作為成為彈性聚合物之主成分之丙烯酸烷酯，可列舉例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己酯等丙烯酸之C1~C8烷酯。烷基的碳數較佳為4以上。
作為能夠與丙烯酸烷酯共聚之其他乙烯系單體，可列舉在分子內具有1個聚合性碳-碳雙鍵之化合物，更具體而言，可列舉諸如甲基丙烯酸甲酯之甲基丙烯酸酯、諸如苯乙烯之芳香族乙烯系化合物、諸如(甲基) 丙烯腈之乙烯系氰化合物等。作為交聯性單體，可列舉在分子內具有至少2個聚合性碳-碳雙鍵之交聯性化合物，更具體而言，可列舉乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯等多元醇之(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯等(甲基)丙烯酸之烯酯、二乙烯基苯等。
丙烯酸系橡膠粒子的含量係相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100重量份而言，較佳為5重量份以上，更佳為10重量份以上。若丙烯酸系橡膠粒子的含量太多，則膜的表面硬度降低，此外，在對膜實施表面處理之情況，對表面處理劑中之有機溶劑之耐溶劑性可能降低。從而，丙烯酸系橡膠粒子的含量係相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100重量份而言，通常為80重量份以下，較佳為60重量份以下。
第1、第2樹脂膜3、4可含有本發明之技術領域中之通常的添加劑。作為添加劑，可列舉例如紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、有機系染料、顏料、無機系色素、抗氧化劑、抗靜電劑、界面活性劑、潤滑劑、分散劑、熱安定劑等。作為紫外線吸收劑，可列舉水楊酸酯化合物、二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、三
Figure 105140824-A0202-12-0014-25
化合物、氰基(甲基)丙烯酸酯化合物、鎳錯鹽等。
第1、第2樹脂膜3、4係各自為未經延伸之膜、或經單軸或雙軸延伸之膜皆可。第1樹脂膜3及/或第2樹脂膜4可為擔任保護偏光片2之角色之保護膜，亦可為諸如後述之相位差膜般兼具光學機能之保護膜。另 外，第1樹脂膜3及第2樹脂膜4可為相同或相異的膜。
此外，第1樹脂膜3及/或第2樹脂膜4亦可在其外面(與偏光片2相反側的表面)具備硬塗層、防眩層、抗反射層、光擴散層、抗靜電層、防污層、導電層等表面處理層(塗層)。該第1樹脂膜3及第2樹脂膜4的厚度可各自通常為1~150μm，較佳為5~100μm(例如5~60μm)，更佳為50μm以下(例如1~40μm)，再佳為30μm以下(例如5~25μm)。
特定而言，在智慧型手機或平板型終端之類的中小型取向偏光板中，由於薄膜化的要求，大多使用厚度30μm以下的較薄者作為第1樹脂膜3及/或第2樹脂膜4，但此種偏光板係壓抑偏光片2的收縮力之力較弱，耐久性容易變得不充分。即便在使用此種偏光板作為光學膜10之情況，本發明之附黏著劑層的光學膜1亦具有良好的耐久性。另外，在本說明書中，附黏著劑層的光學膜1及光學積層體的耐久性係指例如在高溫環境下、高溫高濕環境下、高溫及低溫反覆之環境下等，可抑制在黏著劑層20與其所鄰接之光學構件之界面之浮起或剝落之特性(有時稱為耐剝落性)、及可抑制黏著劑層20的發泡等不良情形之特性(有時稱為耐發泡性)。另外，在本發明中，耐凝集破壞性係指可抑制黏著劑層的凝集破壞(或破損)之特性。
第1、第2樹脂膜3、4可經由接著劑層或黏著劑層而貼合於偏光片2。作為形成接著劑層之接著劑， 可使用水系接著劑或活性能量線硬化性接著劑。
作為水系接著劑，可列舉慣用的水系接著劑(例如包含聚乙烯醇系樹脂水溶液之接著劑、水系二液型胺基甲酸酯系乳膠接著劑、醛化合物、環氧化合物、三聚氰胺系化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯化合物、胺化合物、多價金屬鹽等交聯劑等)。此等之中，可適宜地使用包含聚乙烯醇系樹脂水溶液之水系接著劑。另外，在使用水系接著劑之情況，將偏光片2與第1、第2樹脂膜3、4進行貼合後，較佳係實施使其乾燥之步驟用以去除水系接著劑中所包含之水。乾燥步驟後，亦可設置在例如20~45℃左右之溫度進行熟化之熟化步驟。
上述活性能量線硬化性接著劑係指藉由照射紫外線或電子線等活性能量線而進行硬化之接著劑，可列舉例如含有聚合性化合物及光聚合起始劑之硬化性組成物、含有光反應性樹脂之硬化性組成物、含有黏結劑樹脂及光反應性交聯劑之硬化性組成物等，較佳為紫外線硬化性接著劑。
在使用活性能量線硬化性接著劑之情況，將偏光片2與第1、第2樹脂膜3、4進行貼合後，視需要施行乾燥步驟，接著施行藉由照射活性能量線而使活性能量線硬化性接著劑硬化之硬化步驟。活性能量線的光源並無特別限定，較佳為在波長400nm以下具有發光分佈之紫外線。
作為將偏光片2與第1、第2樹脂膜3、4進 行貼合之方法，可列舉對此等之至少任一者的貼合面實施皂化處理、電暈處理、電漿處理等表面活性化處理之方法等。在樹脂膜貼合於偏光片2的兩面之情況，用於貼合此等樹脂膜之接著劑可為同種接著劑，亦可為異種接著劑。
偏光板10a、10b可進一步包含其他膜或層。其具體例為後述之相位差膜，除此以外，亮度提升膜、防眩膜、抗反射膜、擴散膜、集光膜、黏著劑層20以外之黏著劑層、塗層、保護膜等。保護膜為在保護偏光板等光學膜10的表面免於損傷或髒污之目的下使用之膜，慣例係將附黏著劑層的光學膜1貼合於例如金屬層或基板上後，予以剝離去除。
保護膜通常係由基材膜、及積層於其上之黏著劑層所構成。基材膜可由熱可塑性樹脂，例如聚烯系樹脂、聚丙烯系樹脂等聚烯烴系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂等所構成。
〔1-2〕相位差板
相位差板中所包含之相位差膜係如上述，為顯示出光學異向性之光學膜，其可為藉由將包含在作為可用於第1、第2樹脂膜3、4者上所例示之熱可塑性樹脂，除此以外，例如聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚偏二氟乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、液晶聚酯系樹脂、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物皂化物、 聚氯乙烯系樹脂等所組成之樹脂膜延伸至1.01~6倍左右所獲得之延伸膜。此等之中，較佳為將聚碳酸酯系樹脂膜或環狀烯烴系樹脂膜、(甲基)丙烯酸系樹脂膜或纖維素系樹脂膜進行單軸延伸或雙軸延伸而成之延伸膜。此外，在本說明書中，零延遲膜亦包含在相位差膜內(惟，亦可用作保護膜)。除此以外，被稱為單軸性相位差膜、廣視角相位差膜、低光彈性率相位差膜等之膜亦能夠應用作相位差膜。
零延遲膜係指面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth皆為-15~15nm之膜。此相位差膜適宜用於IPS模式的液晶顯示裝置。面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth較佳係皆為-10~10nm，更佳係皆為-5~5nm。在此處所謂的面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth為在波長590nm之值。
面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth係各自以下述式定義：Re=(nx-ny)×d
Rth=〔(nx+ny)/2-nz〕×d。
式中，nx為膜面內之遲相軸方向(x軸方向)的折射率，ny為膜面內之進相軸方向(在面內正交於x軸之y軸方向)的折射率，nz為膜厚度方向(垂直於膜面之z軸方向)的折射率，d為膜的厚度。
在零延遲膜中，可使用例如包含纖維素系樹脂、鏈狀聚烯烴系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂等聚烯烴系樹 脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂或(甲基)丙烯酸系樹脂之樹脂膜。特定而言，從容易調控相位差值，且亦容易取得而言，較佳係使用纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂或(甲基)丙烯酸系樹脂。
此外，藉由液晶性化合物的塗佈/配向而表現出光學異向性之膜、或藉由無機層狀化合物的塗佈而表現出光學異向性之膜亦可用作相位差膜。在此種相位差膜中，有被稱為溫度補償型相位差膜者，此外，由JX日鑛日石ENERGY(股)以「NH膜」之商品名販售之棒狀液晶傾斜配向而成之膜、由富士FILM(股)以「WV膜」之商品名販售之圓盤狀液晶傾斜配向而成之膜、由住友化學(股)以「VAC膜」之商品名販售之完全雙軸配向型膜、相同地由住友化學(股)以「new VAC膜」之商品名販售之雙軸配向型膜等。另外，積層於相位差膜的至少一面之樹脂膜可例如為上述保護膜。
〔2〕黏著劑層
積層於本發明之光學膜的至少一面之黏著劑層(前述黏著劑層20)係由包含(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、交聯劑(B)、矽烷化合物(C)之黏著劑組成物的反應生成物所構成。
〔2-1〕(甲基)丙烯酸系樹脂(A)
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)為以源自(甲基)丙烯酸系單體之構成單元作為主成分(較佳係包含50重量%以 上)之聚合物或共聚物，其係包含源自下述式(a1)及(a2)所示之含有羥基的(甲基)丙烯酸酯之構成單元。
Figure 105140824-A0202-12-0020-15
(式中，n表示1~4之整數，A1表示氫原子或烷基，X1表示可具有取代基之亞甲基，n為2以上時，前述取代基可相同或相異)
Figure 105140824-A0202-12-0020-16
(式中，m表示5以上之整數，A2表示氫原子或烷基，X2表示可具有取代基之亞甲基，前述取代基可相同或相異)
即，由於本發明之(甲基)丙烯酸系樹脂(A)在側鏈具有不同碳鏈長(n及m)的羥烷基，推定在黏著劑層(黏著劑組成物的反應生成物)中，可將(甲基)丙烯酸系樹脂間之交聯密度予以最適化。藉由該交聯密度的最適化，可形成硬度與柔軟度之平衡優異(或具有最適的硬度)的黏著劑層，故可提升耐久性，即便在高溫環境，亦可有效地抑制界面的剝落(或浮起)及發泡。而且，即便產生較強的收縮應力，黏著劑層亦可有效地緩和該應力，故可防止光學膜(例如偏向板)的收縮所伴隨之漏白。再者，藉由該交聯密度的最適化，亦可提升再加工性(剝 離性)。
在式(a1)及式(a2)中，X1及X2表示可具有取代基之亞甲基。作為該取代基，可列舉例如鹵素原子(氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、烷基(例如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、己基等C1-10烷基，較佳為C1-6烷基，更佳為C1-3烷基)、環烷基(環戊基、環己基等)、芳基〔苯基、烷基苯基(甲苯基、二甲苯基等)〕、芳烷基(苄基等)、烷氧基(例如甲氧基、乙氧基等C1-4烷氧基)、聚氧伸烷基(例如二氧伸乙基等)、環烷氧基(例如環己氧基等C5-10環烷氧基等)、芳氧基(例如苯氧基等)、芳烷氧基(例如苄氧基等)、烷硫基(例如甲硫基、乙硫基等C1-4烷硫基等)、環烷硫基(例如環己硫基等)、芳硫基(例如硫苯氧基等)、芳烷硫基(例如苄硫基等)、醯基(例如乙醯基等)、硝基、氰基等。此等之中，較佳為鹵素原子、烷基、烷氧基、芳氧基等，特佳為烷基(例如甲基、乙基等)。
A1及A2係各自表示氫原子或烷基，烷基可為X1及X2中例示之烷基(較佳為甲基等)。
在式(a1)中，n表示1~4之整數，較佳為1~3之整數，更佳為2。此外，在式(a2)中，m為5以上之整數(例如5~20之整數)，較佳為5~15(例如5~11之整數)，更佳為5~9(例如5~7之整數)，特佳為5。此外，m可為5以上之偶數(例如6、8、10、12等)，亦可為5以上之奇數(例如5、7、9、11等)。
作為含有羥基的(甲基)丙烯酸酯(a1)之具體例，可列舉(甲基)丙烯酸1-羥甲酯、(甲基)丙烯酸1-羥乙酯、(甲基)丙烯酸1-羥庚酯、(甲基)丙烯酸1-羥丁酯、(甲基)丙烯酸1-羥戊酯等(甲基)丙烯酸1-羥C1-8烷酯；(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥戊酯、(甲基)丙烯酸2-羥己酯等(甲基)丙烯酸2-羥C2-9烷酯；(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥戊酯、(甲基)丙烯酸3-羥己酯、(甲基)丙烯酸3-羥庚酯等(甲基)丙烯酸3-羥C3-10烷酯；(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥戊酯、(甲基)丙烯酸4-羥己酯、(甲基)丙烯酸4-羥庚酯、(甲基)丙烯酸4-羥辛酯等(甲基)丙烯酸4-羥C4-11烷酯；(甲基)丙烯酸2-氯-2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯等。此等之中，從耐久性之觀點而言，較佳為丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯等n為2之含有羥基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥戊酯等n為3之含有羥基的(甲基)丙烯酸酯。特佳為該n為2之含有羥基的(甲基)丙烯酸酯，此等之中，較佳為(甲基)丙烯酸2-羥乙酯。
作為含有羥基的(甲基)丙烯酸酯(a2)之具體例，可列舉(甲基)丙烯酸5-羥戊酯、(甲基)丙烯 酸5-羥己酯、(甲基)丙烯酸5-羥庚酯、(甲基)丙烯酸5-羥辛酯、(甲基)丙烯酸5-羥壬酯等(甲基)丙烯酸5-羥C5-12烷酯；(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸6-羥庚酯、(甲基)丙烯酸6-羥辛酯、(甲基)丙烯酸6-羥壬酯、(甲基)丙烯酸6-羥癸酯等(甲基)丙烯酸6-羥C6-13烷酯；(甲基)丙烯酸7-羥庚酯、(甲基)丙烯酸7-羥辛酯、(甲基)丙烯酸7-羥壬酯、(甲基)丙烯酸7-羥癸酯、(甲基)丙烯酸7-羥十一酯等(甲基)丙烯酸7-羥C7-14烷酯；(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸8-羥壬酯、(甲基)丙烯酸8-羥癸酯、(甲基)丙烯酸8-羥十一酯、(甲基)丙烯酸8-羥十二酯等(甲基)丙烯酸8-羥C8-15烷酯；(甲基)丙烯酸9-羥壬酯、(甲基)丙烯酸9-羥癸酯、(甲基)丙烯酸9-羥十一酯、(甲基)丙烯酸9-羥十二酯、(甲基)丙烯酸9-羥十三酯等(甲基)丙烯酸9-羥C9-16烷酯；(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸10-羥十一酯、(甲基)丙烯酸10-羥十二酯、丙烯酸10-羥十三酯、(甲基)丙烯酸10-羥十四酯等(甲基)丙烯酸10-羥C10-17烷酯；(甲基)丙烯酸11-羥十一酯、(甲基)丙烯酸11-羥十二酯、(甲基)丙烯酸11-羥十三酯、(甲基)丙烯酸11-羥十四酯、(甲基)丙烯酸11-羥十五酯等(甲基)丙烯酸10-羥C11-18烷酯；(甲基)丙烯酸12-羥十二酯、(甲基)丙烯酸12-羥十三酯、(甲基)丙烯酸12-羥十四酯等(甲基)丙烯酸12-羥C12-19烷酯；(甲基)丙烯酸13-羥十五酯、(甲 基)丙烯酸13-羥十四酯、(甲基)丙烯酸13-羥十五酯等(甲基)丙烯酸13-羥C13-20烷酯；(甲基)丙烯酸14-羥十四酯、(甲基)丙烯酸14-羥十五酯等(甲基)丙烯酸14-羥C14-21烷酯；(甲基)丙烯酸15-羥十五酯、(甲基)丙烯酸15-羥十七酯等(甲基)丙烯酸15-羥C15-22烷酯等。此等之中，從耐久性之觀點而言，較佳為(甲基)丙烯酸5-羥戊酯、(甲基)丙烯酸5-羥己酯、(甲基)丙烯酸5-羥庚酯、(甲基)丙烯酸5-羥辛酯、(甲基)丙烯酸5-羥壬酯等n為5之含有羥基的(甲基)丙烯酸酯，特佳為(甲基)丙烯酸5-羥戊酯。
相對於構成(甲基)丙烯酸系樹脂之所有構成單元100重量份而言，源自式(a1)所示之含有羥基的(甲基)丙烯酸酯之構成單元的比例較佳為1.5~4.5重量份，源自式(a2)所示之含有羥基的(甲基)丙烯酸酯之構成單元的比例較佳為0.25~1.0重量份。此外，源自式(a1)所示之含有羥基的(甲基)丙烯酸酯之構成單元、與源自式(a2)所示之含有羥基的(甲基)丙烯酸酯之構成單元之比例(重量比)只要在上述範圍即無特別限定，可較佳為(a1)/(a2)=13/1~3/1(例如11/1~3/1)，更佳為9/1~4/1，特佳為7/1~5/1。若在上述範圍，則有利於形成最適的交聯構造，再者，可提升耐久性等特性。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)亦可包含源自丙烯酸烷酯(a3)之構成單元及源自含有取代基的丙烯酸烷 酯(a4)之構成單元。
作為丙烯酸烷酯(a3)之中，均聚物的玻璃轉移溫度(Tg)未達0℃之丙烯酸烷酯(a3-1)，可列舉例如丙烯酸乙酯、丙烯酸正及異丙酯、丙烯酸正及異丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸正及異己酯、丙烯酸正庚酯、丙烯酸正及異辛酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正及異壬酯、丙烯酸正及異癸酯、丙烯酸正十二酯等烷基的碳數為2~12左右之直鏈狀或分枝鏈狀丙烯酸烷酯等。丙烯酸烷酯(a3)亦可為具有脂環式構造之丙烯酸烷酯(丙烯酸環烷酯)，從對光學膜之追從性(或者柔軟性或黏著性)等之觀點而言，較佳係丙烯酸碳數為2~10之烷酯，較佳為丙烯酸碳數為3~8之烷酯，更佳為丙烯酸碳數為4~6之烷酯，特佳為丙烯酸正丁酯。若使用丙烯酸正丁酯，則可提高追從性，有利於例如耐剝落性等。此等丙烯酸烷酯(a3-1)可單獨或組合二種以上使用。
作為均聚物的Tg為0℃以上之丙烯酸烷酯(a3-2)，可列舉丙烯酸甲酯、丙烯酸環烷酯(例如丙烯酸環己酯、丙烯酸異莰酯)、丙烯酸硬脂醯酯、丙烯酸第三丁酯等，特佳為丙烯酸甲酯。若使用丙烯酸甲酯，則可提高強度，對於例如凝集破壞而言較有利。此等丙烯酸烷酯(a3-2)可單獨或組合二種以上使用。另外，丙烯酸烷酯之均聚物的Tg可參照例如POLYMER HANDBOOK(Wiley-Interscience)等之文獻值。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)中之源自丙烯酸 烷酯之構成單元的比例，從附黏著劑層的光學膜的耐久性及再加工性之觀點而言，係相對於構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之所有構成單元100重量份而言，例如為40重量份以上(例如50~98重量份)，較佳為60重量份以上(例如70~95重量份)，更佳為70重量份以上(例如80~90重量份)。
若併用均聚物的Tg為未達0℃之丙烯酸烷酯、及均聚物的Tg為0℃以上之丙烯酸烷酯，則可兼顧耐凝集破壞性及追從性(耐發泡性及耐剝落性)，可提升對光學膜(例如偏光板)的尺寸變化之耐久性。
源自均聚物的玻璃轉移溫度為未達0℃之丙烯酸烷酯(a3-1)之構成單元、與源自玻璃轉移溫度為0℃以上之丙烯酸烷酯(a3-2)之構成單元之比例(重量比)為(a3-1)/(a3-2)=20/80~95/5(例如30/70~90/10)，較佳為40/60~85/15，更佳為55/45~75/25。若在上述範圍，則可進一步提升耐久性。源自玻璃轉移溫度為未達0℃之丙烯酸烷酯(a3-1)之構成單元的比例越大，追從性越提升。源自玻璃轉移溫度為0℃以上之丙烯酸烷酯(a3-2)之構成單元的比例越大，耐凝集破壞性越提升。
作為含有取代基的丙烯酸烷酯(a4)，可列舉例如對前述丙烯酸烷酯(a3-1)中之烷基導入取代基(烷基之氫原子經取代基置換)而成之丙烯酸烷酯。該取代基可例如為芳基(苯基等)、芳氧基(苯氧基)、烷氧基(例 如甲氧基、乙氧基等)等。作為含有取代基的丙烯酸烷酯(a3-3)，可列舉例如丙烯酸烷氧基烷酯(例如丙烯酸2-甲氧基乙酯、丙烯酸乙氧基甲酯等)、丙烯酸芳氧基烷酯(例如丙烯酸苯氧基乙酯等)、芳氧基聚烷二醇單丙烯酸酯、聚烷二醇單丙烯酸酯等。此等丙烯酸烷酯(a3-3)可單獨或組合2種以上使用。藉由包含含有芳基或芳氧基等芳香環之丙烯酸烷酯，可改善耐久試驗時之偏光板的漏白。此外，芳氧基聚烷二醇單丙烯酸酯及聚烷二醇單丙烯酸酯之伸烷基可例如為亞甲基、伸乙基、伸丙基等C1-6伸烷基(較佳為伸乙基等)等，氧伸烷基的重複單元從黏著層的耐久性之觀點而言，例如可為2~7，較佳為2~5(特佳為2)。在本發明中，在黏著劑組成物中包含(甲基)丙烯酸系樹脂(A)及後述之交聯劑(B)，並可形成最適的交聯構造(或交聯密度)，故即便氧伸烷基的重複單元數比較小，亦顯示出良好的再加工性。具體而言，可列舉例如苯氧基二乙二醇丙烯酸酯等苯氧基二至七C1-3伸烷基二醇丙烯酸酯、二乙二醇單丙烯酸酯等二至七C1-3伸烷基單丙烯酸酯等。
源自含有取代基的丙烯酸烷酯之構成單元的比例係相對於構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之所有構成單元100重量份而言，例如為0~30重量份(例如1~25重量份)，較佳為3~20重量份，更佳為5~15重量份。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)可包含源自含有羥基的(甲基)丙烯酸酯(a1)及(a2)、丙烯酸烷酯(a3) 及含有取代基的丙烯酸烷酯(a4)以外之其他單體(a5)之構成單元。其他單體可單獨或組合2種以上使用。作為其他單體(a5)，可列舉具有羥基以外之極性官能基之單體(a5-1)、丙烯醯胺系單體(a5-2)、甲基丙烯酸酯(甲基丙烯酸之酯)(a5-3)、甲基丙烯醯胺系單體(a5-4)、苯乙烯系單體(a5-5)、乙烯系單體(a5-6)、在分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基之單體(a5-7)等。
作為具有羥基以外之極性官能基之單體(a5-1)，可列舉具有羧基、經取代或未經取代之胺基、環氧基等雜環基等取代基之(甲基)丙烯酸酯。具體而言，可列舉丙烯醯基嗎啉、乙烯基己內醯胺、N-乙烯基-2-吡咯啶酮、乙烯基吡啶、(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲酯、己內酯改質丙烯酸四氫呋喃甲酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧基環己基甲酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯、2,5-二氫呋喃等具有雜環基之單體；(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基丙酯等具有經取代或未經取代之胺基之單體；(甲基)丙烯酸、馬來酸、馬來酸酐、富馬酸、巴豆酸、(甲基)丙烯酸羧烷酯(例如(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯)等具有羧基之單體。此等單體可單獨或組合二種以上使用。另外，從防止能夠積層於黏著劑層之隔離膜的剝離性降低之觀點而言，較佳係實質上不含源自具有胺基之單體之構成單元。另外，實質上不含係指相對於構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之所有構成單元100重量份而言，未 達1.0重量份。
在本發明中，即便未含有被認為會使ITO腐蝕性增大之源自具有羧基之單體之構成單元(源自含有羧基的(甲基)丙烯酸酯之構成單元)，亦顯示出較高的耐久性，故可兼顧耐久性及耐ITO腐蝕性。
另一方面，若含有源自具有羧基之單體之構成單元〔源自含有羧基的(甲基)丙烯酸酯之構成單元〕，則可進一步提升耐久性。在本發明中，即便源自含有羧基的(甲基)丙烯酸酯之構成單元的比例較少，亦可有效地提升耐久性，故能夠抑制ITO的腐蝕，同時使耐久性提升。
源自含有羧基的(甲基)丙烯酸酯之構成單元的比例係相對於源自(甲基)丙烯酸酯之構成單元100重量份而言，例如為5.0重量份以下(例如0~3重量份)，較佳為1.0重量份以下(例如0~0.8重量份)，更佳為0.5重量份以下(例如0.001~0.5重量份)，再佳為0.3重量份以下(例如0.005~0.3重量份)，特佳為0.2重量份以下(例如0.01~0.2重量份)，尤佳為0.15重量份以下(例如0.05~0.15重量份)。若為上限值以下，則可抑制ITO腐蝕性，若為下限值以上，則可提升耐久性。
作為丙烯醯胺系單體(a5-2)，可列舉例如N-羥甲基丙烯醯胺、N-(2-羥乙基)丙烯醯胺、N-(3-羥丙基)丙烯醯胺、N-(4-羥丁基)丙烯醯胺、N-(5-羥戊基)丙烯醯胺、N-(6-羥己基)丙烯醯胺、N,N-二甲基丙烯醯胺、N,N-二乙基丙烯醯胺、N-異丙 基丙烯醯胺、N-(3-二甲基胺基丙基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基-3-側氧基丁基)丙烯醯胺、N-〔2-(2-側氧基-1-咪唑啶基)乙基〕丙烯醯胺、2-丙烯醯基胺基-2-甲基-1-丙磺酸、N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺〔別名：N-(異丁氧基甲基)丙烯醯胺〕、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-乙氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-丙氧基乙基)丙烯醯胺、N-〔2-(1-甲基乙氧基)乙基〕丙烯醯胺、N-〔2-(1-甲基丙氧基)乙基〕丙烯醯胺、N-〔2-(2-甲基丙氧基)乙基〕丙烯醯胺〔別名：N-(2-異丁氧基乙基)丙烯醯胺〕、N-(2-丁氧基乙基)丙烯醯胺、N-〔2-(1,1-二甲基乙氧基)乙基〕丙烯醯胺等。此等之中，較佳為N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺等。
作為甲基丙烯酸酯(甲基丙烯酸之酯)(a5-3)，可列舉例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸月桂酯等甲基丙烯酸直鏈狀烷酯；甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸異辛酯等 甲基丙烯酸分枝鏈狀烷酯；甲基丙烯酸異莰酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸二環戊酯、甲基丙烯酸環十二酯、甲基丙烯酸甲基環己酯、甲基丙烯酸三甲基環己酯、甲基丙烯酸第三丁基環己酯、甲基丙烯酸環己基苯酯等甲基丙烯酸單或二環烷酯；甲基丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲基丙烯酸乙氧基甲酯等甲基丙烯酸烷氧基烷酯；甲基丙烯酸苄酯等甲基丙烯酸芳烷酯等。
作為甲基丙烯醯胺系單體(a5-4)，可列舉例如(a5-2)所記載之丙烯醯胺系單體所對應之甲基丙烯醯胺系單體等。
作為苯乙烯系單體(a5-5)，可列舉例如苯乙烯；甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯等烷基苯乙烯；氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯等鹵化苯乙烯；硝基苯乙烯；乙醯基苯乙烯；甲氧基苯乙烯；二乙烯基苯等。
作為乙烯系單體(a5-6)，可列舉例如醋酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、酪酸乙烯酯、2-乙基己酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等脂肪酸乙烯酯；氯乙烯、溴乙烯等鹵化乙烯；偏二氯乙烯等偏二鹵化乙烯；乙烯基吡啶、乙烯基吡咯啶酮、乙烯基咔唑等含氮芳香族乙烯基；丁二烯、異戊二烯、氯丁二烯等共軛二烯單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等不飽和腈等。
作為在分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基之單體(a5-7)，可列舉例如1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等在分子內具有2個(甲基)丙烯醯基之單體；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等在分子內具有3個(甲基)丙烯醯基之單體等。
此外，從附黏著劑層的光學膜1的再加工性之觀點而言，(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳係源自甲基丙烯酸酯(甲基丙烯酸之酯)(a5-3)、甲基丙烯醯胺系單體(a5-4)等甲基丙烯酸系單體之構成單元的比例(或含量)較小。即，該構成單元的比例係相對於構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之所有構成單元100重量份而言，可較佳為10重量份以下，更佳為5重量份以下，特佳為1重量份以下。
此外，源自其他單體(a5)之構成單元的比例係相對於構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之所有構成單元100重量份而言，可例如為0~20重量份，較佳為0~10重量份(例如0.001~10重量份)，更佳為0~5重量份(例如0.01~3重量份)左右。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)經由凝膠滲透層析GPC之標準聚苯乙烯換算之重量平均分子量(Mw)係例如為6.0×105~2.5×106(例如8.0×105~2.5×106)，較佳為 1.0×106~2.0×106，更佳為1.2×106~1.8×106(例如1.3×106~1.6×106)之範圍。若Mw為上限值以下，則從將黏著劑組成物塗覆於基材時之塗覆性之觀點而言較有利，若Mw為下限值以上，則有利於提升黏著劑層對光學膜的尺寸變化之追從性。以重量平均分子量Mw與數量平均分子量Mn之比(Mw/Mn)表示之分子量分佈通常為2~10，較佳為3~8，更佳為4~6。
此外，(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳係在GPC中之排出曲線上之Mw為1.0×103~2.5×106之範圍中具有單一的尖峰。若使用該尖峰數為1之(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，則有利於提升附黏著劑層的光學膜及包含該等之積層體的耐久性。
在所獲得之排出曲線之上述範圍中「具有單一的尖峰」係意味在Mw 1.0×103~2.5×106之範圍中僅持有1個極大值。在本說明書中，將在GPC排出曲線中，S/N比為30以上者定義為尖峰。另外，GPC排出曲線的尖峰數及(甲基)丙烯酸系樹脂(A)的Mw及Mn可藉由實施例之段落所記載之GPC測定條件予以求出。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)在溶解於醋酸乙酯中並製成濃度20重量%的溶液時，於25℃之黏度較佳為20Pa‧s以下，更佳為0.1~7Pa‧s。若為該範圍之黏度，則從將黏著劑組成物塗覆於基材時之塗覆性之觀點而言較有利。另外，黏度可藉由布氏黏度計(Brookfield viscometer)予以測定。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)的玻璃轉移溫度(Tg)可例如為-60~0℃(例如-50~-10℃)，較佳為-50~-20℃，更佳為-40~-20℃(例如-40~-25℃)。若為該範圍，則有利於提升耐久性。另外，玻璃轉移溫度可藉由示差掃描熱量計(DSC)予以測定。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)可藉由例如溶液聚合法、塊狀聚合法、懸浮聚合法、乳化聚合法等公知的方法予以製造，特佳為溶液聚合法。作為溶液聚合法，可列舉例如將單體及有機溶媒進行混合，於氮環境下，添加熱聚合起始劑，在40~90℃(較佳為50~80℃)左右之溫度條件下，攪拌3~15小時左右之方法。為了進行反應調控，可在聚合中連續或間歇地添加單體或熱聚合起始劑。該單體或熱起始劑亦可為添加至有機溶媒中之狀態。
作為聚合起始劑，係使用熱聚合起始劑或光聚合起始劑等。作為光聚合起始劑，可列舉例如4-(2-羥乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮等。作為熱聚合起始劑，可列舉例如2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1，1’-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基-2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)、2,2’-偶氮雙(2-羥甲基丙腈)等偶氮系化合物；過氧化月桂基、氫過氧化第三丁基、過氧化苄醯、過氧化苄酸第三丁酯、氫過氧化異丙苯、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸二丙酯、過氧化新癸酸第三丁 酯、過氧化特戊酸第三丁酯、過氧化(3,5,5-三甲基己醯基)等有機過氧化物；過硫酸鉀、過硫酸銨、過氧化氫等無機過氧化物等。此外，亦可使用併用過氧化物與還原劑之氧化還原系起始劑等。
聚合起始劑的比例係相對於構成(甲基)丙烯酸系樹脂之單體的總量100重量份而言為0.001~5重量份左右。(甲基)丙烯酸系樹脂的聚合亦可使用經由活性能量線(例如紫外線等)之聚合法。
作為有機溶媒，可列舉例如甲苯、二甲苯等芳香族烴類；醋酸乙酯、醋酸丁酯等酯類；丙醇、異丙醇等脂肪族醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類等。
〔2-2〕交聯劑(B)
黏著劑組成物係包含交聯劑(B)。該交聯劑(B)係與(甲基)丙烯酸系樹脂(A)中之含羥基之極性官能基進行反應。在本發明中，導入至(甲基)丙烯酸系樹脂(A)的側鏈之具有不同碳鏈(n及m)之羥烷基的OH基(羥基)與交聯劑(B)進行反應，形成有利於耐久性及再加工性之交聯構造。
作為交聯劑(B)，可列舉慣用的交聯劑(例如異氰酸酯化合物、環氧化合物、氮雜環丙烷化合物、金屬螯合化合物、過氧化物等)，特定而言，從黏著劑組成物的適用期及附黏著劑層的光學膜的耐久性、交聯速度等之 觀點而言，較佳為異氰酸酯系化合物。
作為異氰酸酯系化合物，較佳為在分子內具有至少2個異氰酸酯基(-NCO)之化合物，可列舉例如脂肪族異氰酸酯系化合物(例如六亞甲基二異氰酸酯等)、脂環族異氰酸酯系化合物(例如異佛酮二異氰酸酯)、芳香族異氰酸酯系化合物(例如甲苯二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等)等。此外，交聯劑(B)亦可為前述異氰酸酯化合物之經由多元醇化合物之加成體(加成物)〔例如經由甘油、三羥甲基丙烷等之加成體〕、異三聚氰酸酯化物、縮二脲型化合物、與聚醚多元醇、聚酯多元醇、丙烯酸系多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等進行加成反應而成之胺基甲酸酯預聚物型異氰酸酯化合物等衍生物。交聯劑(B)可單獨或組合二種以上使用。此等之中，就代表性而言，可列舉芳香族異氰酸酯系化合物(例如甲苯二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯)、脂肪族異氰酸酯系化合物(例如六亞甲基二異氰酸酯)或此等之經由多元醇化合物(甘油、三羥甲基丙烷)之加成體。由於若交聯劑(B)為芳香族異氰酸酯系化合物及/或此等之經由多元醇化合物之加成體，則有利於形成最適的交聯密度(或交聯構造)，故可提升附黏著劑層的光學膜的耐久性。特定而言，若為甲苯二異氰酸酯系化合物及/或此等之經由多元醇化合物之加成體，則亦可進一步提升耐久性 (例如將附黏著劑層的光學膜應用於ITO基板之情況等之耐久性)。
交聯劑(B)的比例係相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份而言，可例如為0.01~10重量份(例如0.05~5重量份)，較佳為0.1~3重量份(例如0.1~2重量份)，更佳為0.2~1重量份(例如0.3~0.8重量份)。若為上限值以下，則有利於提升追從性(或耐剝落性)，若為下限值以上，則有利於提升耐凝集性(或耐發泡性)或再加工性。
〔2-3〕矽烷化合物(C)
黏著劑組成物係包含矽烷化合物(C)。藉由包含該矽烷化合物(C)，可提升黏著劑層、與金屬層、透明電極、玻璃基板等之密著性(或接著性)。作為矽烷化合物(C)，只要是能夠與(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之反應性基(例如羥基的OH基)結合之矽烷化合物即可，可列舉例如乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基參(2-甲氧基乙氧基)矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙氧基二甲基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷、1,3-雙(3’-三甲氧基丙基)脲等。
此外，矽烷化合物(C)亦可為聚矽氧寡聚物類型之化合物，若將該聚矽氧寡聚物以單體彼此之組合進行標記，則可列舉例如3-巰基丙基二或三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基甲基二或三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基二或三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基甲基二或三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有巰基烷基的寡聚物；將該含有巰基烷基的寡聚物之巰基烷基置換成其他取代基〔3-環氧丙氧基丙基、(甲基)丙烯醯氧基丙基、乙烯基、胺基等〕而成之寡聚物等。
矽烷化合物(C)較佳可為下述式(c1)所示之矽烷化合物。若黏著劑組成物包含下述式(c1)所示之矽烷化合物，則可進一步提升密著性(或接著性)，故可形成耐剝落性優異的黏著劑層。再者，該黏著劑層係再加工性亦優異。特定而言，即便在於高溫環境下，將黏著劑層應用(或積層)於透明電極(例如ITO基板等)之情況，亦可維持密著性(或接著性)，並可顯示出較高的耐久性。
Figure 105140824-A0202-12-0038-17
(式中，B表示碳數1~20的烷二基或碳數3~20的二價脂環式烴基，構成前述烷二基及前述脂環式烴基之-CH2-可置換成-O-或-CO-，R1表示碳數1~5的烷 基，R2、R3、R4、R5及R6各自獨立地表示碳數1~5的烷基或碳數1~5的烷氧基)
在式(c1)中，B表示亞甲基、伸乙基、三亞甲基、四亞甲基、六亞甲基、七亞甲基、八亞甲基等碳數1~20的烷二基；伸環丁基(例如1,2-伸環丁基)、伸環戊基(例如1,2-伸環戊基)、伸環己基(例如1,2-伸環己基)、伸環辛基(例如1,2-伸環辛基)等碳數3~20的二價脂環式烴基；或構成此等烷二基及前述脂環式烴基之-CH2-置換成-O-或-CO-而成之基。較佳的B為碳數1~10的烷二基。R1表示甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、戊基等碳數1~5的烷基，R2、R3、R4、R5及R6各自獨立地表示前述R1所例示之碳數1~5的烷基；或甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基等碳數1~5的烷氧基。較佳的R2、R3、R4、R5及R6為碳數1~5的烷氧基。此等矽烷化合物(C)可單獨或組合二種以上使用。
作為具體的矽烷化合物(c1)，可列舉例如(三甲氧基矽基)甲烷、1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,2-雙(三乙氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,3-雙(三乙氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,4-雙(三乙氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,5-雙(三乙氧基矽基)戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,6-雙(三乙氧基矽基)己烷、1,6-雙(三丙氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基) 辛烷、1,8-雙(三乙氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三丙氧基矽基)辛烷等雙(三C1-5烷氧基矽基)C1-10烷；雙(二甲氧基甲基矽基)甲烷、1,2-雙(二甲氧基甲基矽基)乙烷、1,2-雙(二甲氧基乙基矽基)乙烷、1,4-雙(二甲氧基甲基矽基)丁烷、1,4-雙(二甲氧基乙基矽基)丁烷、1,6-雙(二甲氧基甲基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基乙基矽基)己烷、1,8-雙(二甲氧基甲基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基乙基矽基)辛烷等雙(二C1-5烷氧基C1-5烷基矽基)C1-10烷；1,6-雙(甲氧基二甲基矽基)己烷、1,8-雙(甲氧基二甲基矽基)辛烷等雙(單C1-5烷氧基-二C1-5烷基矽基)C1-10烷等。此等之中，較佳為1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷等雙(三C1-3烷氧基矽基)C1-10烷，特佳為1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷。
矽烷化合物(C)的比例係相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份而言，例如為0.01~10重量份(例如0.03~5重量份)，較佳為0.05~3重量份，更佳為0.1~1重量份(例如0.2~0.5重量份)。若為上限值以下，則有利於抑制矽烷化合物(C)自黏著劑層滲出，若為下限值以上，則變得易於提升黏著劑層、與金屬層或玻璃基板等之密著性(或接著性)，有利於提升耐剝落性等。
〔2-4〕抗靜電劑
黏著劑組成物亦可進一步包含抗靜電劑。藉由包含抗靜電劑，可提升附黏著劑層的光學膜的抗靜電性(例如抑制將離型膜、保護膜等進行剝離時所產生之靜電所引發之不良情形等)。作為抗靜電劑，可列舉慣用者，較適宜為離子性抗靜電劑。作為構成離子性抗靜電劑之陽離子成分，可列舉有機陽離子、無機陽離子等。作為有機陽離子，可列舉例如吡啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、銨陽離子、鋶陽離子、鏻陽離子等。作為無機陽離子，可列舉例如鋰陽離子、鉀陽離子、鈉陽離子、銫陽離子等鹼金屬陽離子，鎂陽離子、鈣陽離子等鹼土族金屬陽離子等。作為構成離子性抗靜電劑之陰離子成分，無機陰離子及有機陰離子皆可，就抗靜電性能優異之方面而言，較佳為含氟原子之陰離子成分。作為含氟原子之陰離子成分，可列舉例如六氟磷酸根陰離子(PF6-)、雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子〔(CF3SO2)2N-〕、雙(氟磺醯基)亞胺陰離子〔(FSO2)2N-〕、四(五氟苯基)硼酸根陰離子〔(C6F5)4B-〕等。此等抗靜電劑可單獨或組合二種以上使用。特定而言，較佳為雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子〔(CF3SO2)2N-〕、雙(氟磺醯基)亞胺陰離子〔(FSO2)2N-〕、四(五氟苯基)硼酸根陰離子〔(C6F5)4B-〕。
就黏著劑組成物的抗靜電性能之經時安定性優異之方面而言，較佳為於室溫為固體之離子性抗靜電劑。
抗靜電劑的比例係相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份而言，可例如為0.01~10重量份，較佳為0.1~5重量份，更佳為1~3重量。
〔2-5〕其他成分
黏著劑組成物可包含單獨或2種以上之溶劑、交聯觸媒、紫外線吸收劑、耐候安定劑、賦黏劑、可塑劑、軟化劑、染料、顏料、無機填料、光散射性微粒子等添加劑。此外，將紫外線硬化性化合物摻合至黏著劑組成物中，在形成黏著劑層後照射紫外線並使其硬化，而製成更硬的黏著劑層亦屬有用。作為交聯觸媒，可列舉例如六亞甲二胺、伸乙二胺、聚伸乙亞胺、六亞甲四胺、二伸乙三胺、三伸乙四胺、異佛酮二胺、三亞甲二胺、聚胺基樹脂及三聚氰胺樹脂等胺系化合物等。
黏著劑組成物從提高附黏著劑層的光學膜、及包含該等之光學積層體的耐金屬腐蝕性之觀點而言，可包含防鏽劑。作為防鏽劑，可列舉例如苯并三唑系化合物等三唑系化合物；苯并噻唑系化合物等噻唑系化合物；苄基咪唑系化合物等咪唑系化合物；咪唑啉系化合物；喹啉系化合物；吡啶系化合物；嘧啶系化合物；吲哚系化合物；胺系化合物；脲系化合物；苄酸鈉；苄基巰基系化合物；二第二丁基硫醚；及二苯基亞碸等。
〔3〕附黏著劑層的光學膜的構成及製造方法
如第1圖所示，附黏著劑層的光學膜1係包含光學膜10及積層於其至少一面之黏著劑層20。黏著劑層20係積層於光學膜10的單面或兩面。將黏著劑層20積層於光學膜10的表面時，較佳係在光學膜10的貼合面及/或黏著劑層20的貼合面形成底塗層、或實施表面活性化處理(例如電漿處理、電暈處理等)，特佳為實施電暈處理。
在光學膜10係如第2圖所示為單面保護偏光板之情況，黏著劑層20通常係積層(較佳為直接積層)於偏光片面，即，偏光片2中之與第1樹脂膜3相反側之面。在光學膜10係如第3圖所示為兩面保護偏光板之情況，可將黏著劑層20積層於第1、第2樹脂膜3、4之任一者的外面，亦可積層於兩者的外面。
在光學膜10與黏著劑層20之間亦可另行設置抗靜電層。作為抗靜電層，可使用聚矽氧烷等矽系材料、錫摻雜氧化銦、錫摻雜氧化銻等無機金屬系材料、聚噻吩、聚苯乙烯磺酸、聚苯胺等有機高分子系材料。
附黏著劑層的光學膜1亦可包含積層於黏著劑層20的外面之隔離膜(剝離膜)。此隔離膜通常係在黏著劑層20使用時(例如積層至透明導電極或玻璃基板時)予以剝離去除。隔離膜例如亦可為對形成有包含聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚碳酸酯、聚芳酯等各種樹脂之膜的黏著劑層20之面，實施聚矽氧處理等離型處理者。
附黏著劑層的光學膜1可藉由將構成上述黏 著劑組成物之各成分溶解或分散於溶劑中而製成含有溶劑的黏著劑組成物，接著，將其塗佈/乾燥於光學膜10的表面而形成黏著劑層20而獲得。此外，附黏著劑層的光學膜1亦可藉由在隔離膜的離型處理面依與上述同樣之方式形成黏著劑層20，並將該黏著劑層20積層(轉印)於光學膜10的表面而獲得。
黏著劑層的厚度通常為2~40μm，從附黏著劑層的光學膜、及包含該等之光學積層體的耐久性或附黏著劑層的光學膜的再加工性等之觀點而言，較佳為5~30μm，更佳為10~25μm。若為上限值以下，則黏著劑層對光學膜的尺寸變化之追從性(或追隨性)變得良好，若為下限值以上，則再加工性變得良好。
黏著劑層係較佳為在23~80℃之溫度範圍中顯示出0.1~5Mpa之儲藏彈性模數者。藉此，可更有效地提高附黏著劑層的光學膜、及包含該等之光學積層體的耐久性。「在23~80℃之溫度範圍顯示出0.1~5Mpa之儲藏彈性模數」係意味在此範圍之任何溫度，儲藏彈性模數皆為上述範圍內之值。因儲藏彈性模數通常係隨著溫度上升而漸減，故只要在23℃及80℃之儲藏彈性模數皆在上述範圍內，即可假定為在此範圍之溫度顯示出上述範圍內之儲藏彈性模數。黏著劑層的儲藏彈性模數可使用市售的黏彈性測定裝置，例如REOMETRIC公司製之黏彈性測定裝置「DYNAMIC ANALYZER RDA II」予以測定。
可使用凝膠分率作為交聯密度之一指標。本 發明之黏著劑層係具有既定的交聯密度，故顯示出既定的凝膠分率。即，本發明之黏著劑層的凝膠分率可例如為50~95重量%(例如55~93重量%)，較佳為60~90重量%(例如65~90重量%)，更佳為70~85重量%(例如80~85重量%)。若凝膠分率為下限值以上，則有利於黏著劑層的耐發泡性(耐凝集破壞性)或再加工性，若凝膠分率為上限值以下，則有利於耐剝落性。另外，凝膠分率可藉由實施例之段落所記載之方法予以測定。
本發明之黏著劑層係具有既定的黏著力。即，將前述黏著劑層貼合於玻璃基板，在溫度23℃、相對濕度50%之條件下，24小時後之前述黏著劑層的黏著力在剝離速度300mm/分鐘時，可例如為0.5~25N(例如0.5~20N)，較佳為0.5~10N(例如1~10N)，更佳為1~8N。若黏著力為下限值以上，則黏著性(或接著性)提升，有利於耐剝落性等，若黏著力為上限值以下，則有利於再加工性。另外，黏著力可藉由實施例之段落所記載之方法予以測定。
<光學積層體>
第4圖~第8圖為示出本發明所涉及之光學積層體之例之概略斷面圖。
第4圖所示之光學積層體5為將積層於基板40上之金屬層30(或金屬配線層30)，經積層於前述附黏著劑層的光學膜1a(或附黏著劑層的偏光板1a)的黏著劑層側之面之光學積層體。前述附黏著劑層的光學膜1a為將黏著劑層 20經積層於前述偏光板10a的偏光片2側之面者。
第5圖所示之光學積層體6為將經積層於基板40上之金屬層30，經積層於附黏著劑層的光學膜1b(或附黏著劑層的偏光板1b)的黏著劑層側之面的光學積層體。前述附黏著劑層的光學膜1b為將黏著劑層20經積層於前述偏光板10b的第2樹脂膜4側之面的光學膜。
光學積層體5、6可藉由將附黏著劑層的光學膜(1a、1b)經由黏著劑層20貼合於經積層於基板40上之金屬層30而獲得。
作為在基板40上形成金屬層30之方法，可列舉例如濺鍍法等。基板40可為構成觸控輸入元件所包含之液晶胞之透明基板，較佳為玻璃基板。作為該玻璃基板的材料，可使用鹼石灰玻璃、低鹼玻璃、無鹼玻璃等。金屬層30可在基板40的整面形成，亦可在其一部分形成。
金屬層30可例如為包含選自鋁、銅、銀、鐵、錫、鋅、鎳、鉬、鉻、鎢、鉛及含此等之2種以上金屬之合金之至少1種金屬元素之層。此等之中，從導電性之觀點而言，較佳可為包含選自鋁、銅、銀及金之至少1種金屬元素之層，從導電性及成本之觀點而言，更佳可為包含鋁元素之層，再佳可為包含鋁元素作為主成分(構成金屬層30之所有金屬成分之50重量%以上)之層。
金屬層30例如可為ITO(錫摻雜氧化銦)等之透明電極層，亦可連同金屬層30，具有包含ITO等金屬氧化物之透明電極層。另外，亦可使用將細線的金屬配線 層經配置於基板上之金屬篩網或將金屬奈米粒子、金屬奈米導線經添加至黏結劑中之層。
金屬層30之調製方法並無特別限定，可為金屬箔，亦可為藉由真空蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍法、噴墨印刷法、凹版印刷法所形成者，較佳為藉由濺鍍法、噴墨印刷法、凹版印刷法所形成之金屬層，更佳為藉由濺鍍所形成之金屬層。金屬層30的厚度並無特別限定，通常為3μm以下，較佳為1μm以下，更佳為0.8μm以下，通常為0.01μm以上。再者，在金屬層30為金屬配線層(例如金屬篩網)之情況，該金屬配線的線寬通常為10μm以下，較佳為5μm以下，更佳為3μm以下，通常為0.5μm以上。
第6圖所示之光學積層體7為將前述附黏著劑層的光學膜1之黏著劑層20經積層於基板40上之光學積層體。
第7圖所示之光學積層體8為將在經積層於基板40上之金屬層30之面上(與基板40相反側之面上)，將進一步經積層之樹脂層50，經積層於前述附黏著劑層的光學膜1的黏著劑層20側之面之光學積層體。作為形成樹脂層50之樹脂，可列舉例如前述例示之構成第1或第2樹脂膜之樹脂等。
第8圖所示之光學積層體9，除了複數個金屬層30於縱橫方向相隔既定間隔積層於基板40上，樹脂層50形成(或積層)於該複數個金屬層30之間(或間隙) 及該金屬層30之面上(與基板40相反側之面上)以外，係與光學積層體7相同。在為該光學積層體8之形態(金屬層30圖案化成既定形狀之形態)之情況，金屬層30例如可為具有觸控輸入式液晶顯示裝置之觸控輸入元件之金屬配線層(即，電極層)。
在光學積層體8中，複數個金屬層30可整體或部分接觸至黏著劑層20，亦可未進行接觸。此外，金屬層30亦可為包含上述金屬或合金之連續膜。另外，樹脂層50亦可省略。
將附黏著劑層的光學膜(1、1a、1b)、與基板40(玻璃基板、透明基板等)或金屬層30(透明電極層)進行貼黏而製作光學積層體後，在有任何不良情形之情況，會有需要進行將附黏著劑層的光學膜自基板40或金屬層30剝離，並將另一附黏著劑層的光學膜1重貼於基板40或金屬層30之所謂的再加工作業之情形。本發明所涉及之附黏著劑層的光學膜1係不易在剝離後之玻璃基板或透明電極的表面發生模糊不清或殘膠等，再加工性優異。
<液晶顯示裝置>
本發明所涉及之液晶顯示裝置為包含上述本發明所涉及之附黏著劑層的光學膜1者，更典型地為包含上述光學積層體者。因此，本發明所涉及之液晶顯示裝置具有優異的耐久性。
本發明所涉及之液晶顯示裝置可為具有觸控 面板機能之觸控輸入式液晶顯示裝置。觸控輸入式液晶顯示裝置係具備包含液晶胞之觸控輸入元件、及背光。觸控面板的構成可為公知的方式(例如胞外型、胞上型、胞內型等)，此外，觸控面板的動作方式亦可為公知的方式〔例如電阻膜方式、靜電電容方式(表面型靜電電容方式、投影型靜電電容方式)等〕。本發明所涉及之附黏著劑層的光學膜1可配置於觸控輸入元件(液晶胞)的視覺辨認側，亦可配置於背光側，亦可配置於兩者。液晶胞的驅動方式可為TN方式、VA方式、IPS方式、多區域方式、OCB方式等以往公知的任何方式。另外，在本發明所涉及之液晶顯示裝置中，具有光學積層體之基板40可為上述液晶胞中所包含之基板(典型地為玻璃基板)。
〔實施例〕
以下，示出實施例及比較例來進一步具體說明本發明，但本發明不受此等例所限定。以下，表示使用量、含量之份及%，在沒有特別斷定之前提下，為重量基準。
<製造例1：黏著劑層用(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)的製造>
在具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌機之反應容器中，裝填將表1所示之組成(表1之數值為重量份)的單體與醋酸乙酯81.8份進行混合所獲得之溶液。將反應容器內之空氣以氮氣置換後，使內溫成為60℃。然後，添加 使偶氮雙異丁腈0.12份溶解於醋酸乙酯10份之溶液。於相同溫度保持1小時後，一面將內溫保持於54~56℃，一面以添加速度17.3份/Hr將醋酸乙酯以聚合物的濃度成為大約35%之方式連續加入至反應容器內。從開始添加醋酸乙酯起至經過12小時為止，將內溫保持於54~56℃後，進一步加入醋酸乙酯並以聚合物的濃度成為20%之方式進行調整，獲得(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)之醋酸乙酯溶液。所獲得之(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)的重量平均分子量Mw為139萬，重量平均分子量Mw與數量平均分子量Mn之比(Mw/Mn)為5.32。
<製造例2-12：黏著劑層用(甲基)丙烯酸系樹脂(A-2~12)的製造>
除了將單體的組成定為表1所示之組成以外，以與製造例1同樣之方式，獲得(甲基)丙烯酸系樹脂(A-2~12)之醋酸乙酯溶液(樹脂濃度：20%)。所獲得之(甲基)丙烯酸系樹脂(A-2~12)的重量平均分子量Mw皆為130萬~150萬之範圍，Mw/Mn為4~6之範圍。
在以上製造例中，重量平均分子量Mw及數量平均分子量Mn係在GPC裝置中串聯連接並配置東曹(股)製之「TSKgel XL」4根、及昭和電工(股)製之「Shodex GPC KF-802」1根共計5根作為管柱，使用四氫呋喃作為溶離液，在試料濃度5mg/mL、試料導入量100μL、溫度40℃、流速1mL/分鐘之條件下，藉由標準聚苯乙烯換 算予以測定。獲得GPC的排出曲線時之條件亦與其相同。
玻璃轉移溫度Tg係使用SII NanoTechnology(股)製之示差掃描熱量計(DSC)「EXSTAR DSC6000」，於氮環境下，在測定溫度範圍-80~50℃、升溫速度10℃/分鐘之條件下予以測定。
將各製造例中之單體的組成(表1之數值為重量份)示於表1。
Figure 105140824-A0202-12-0051-18
在表1之「單體組成」之欄中之簡稱係意味下列單體。
BA：丙烯酸丁酯(均聚物的玻璃轉移溫度：-54℃)
MA：丙烯酸甲酯(均聚物的玻璃轉移溫度：10℃)
HEA：丙烯酸2-羥乙酯
4HBA：丙烯酸4-羥丁酯
5HPA：丙烯酸5-羥戊酯
PEA：丙烯酸苯氧基乙酯
PEA2：苯氧基二乙二醇丙烯酸酯
BMAA：丁氧基甲基丙烯醯胺
AA：丙烯酸
<實施例1~13、比較例1~8>
(1)黏著劑組成物的調製
在上述製造例所獲得之(甲基)丙烯酸系樹脂之醋酸乙酯溶液(樹脂濃度：20%)中，相對於該溶液之固形份100份而言，混合表2所示之量(重量份)的交聯劑(B)、矽烷化合物(C)、及離子性化合物(D)，進一步以固形份濃度成為14%之方式添加醋酸乙酯而獲得黏著劑組成物。表2所示之各摻合成分的摻合量，在所使用之商品包含溶劑等之情況，係為就其中所包含之有效成分而言之重量份數。
Figure 105140824-A0202-12-0053-19
在表2中，簡稱所表示之各摻合成分的詳情係如下。
(交聯劑)
B-1：甲苯二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物之醋酸乙酯溶液(固形份濃度75%)，自東曹(股)取得之商品名「Coronate L」。
B-2：苯二甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物之 醋酸乙酯溶液(固形份濃度75%)，自三井化學(股)取得之商品名「Takenate D-110N」。
(矽烷化合物)
C-1：1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、C-2：1,8-雙(三甲氧基矽基)己烷、C-3：含有甲基/甲氧基的聚矽氧寡聚物，自信越化學工業(股)取得之商品名「X-40-9250」、C-4：1,3-雙(3’-三甲氧基丙基)脲。
(離子性化合物)
D-1：雙(氟磺醯基)醯亞胺N-癸基吡啶鎓、D-2：雙(氟磺醯基)醯亞胺鉀、D-3：雙(三氟甲基磺醯基)醯亞胺鋰、D-4：四(五氟苯基)硼酸N-癸基吡啶鎓。
(2)黏著劑層的製作
使用塗敷器，以乾燥後之厚度成為20μm之方式，將上述(1)所調製之各黏著劑組成物，塗佈於經實施離型處理之包含聚對苯二甲酸乙二酯膜之隔離膜〔自LINTEC(股)取得之商品名「PLR-382051」〕的離型處理面，於100℃乾燥1分鐘而製作黏著劑層(黏著劑薄片)。
(3)附黏著劑層的光學膜(P-1)的製作
將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%、厚度60μm的聚乙烯醇膜〔KURARAY(股)製之商品名「Kuraray Vinylon VF-PE # 6000」〕浸漬於37℃的純水後，於30℃浸漬於包含碘及碘化鉀之水溶液(碘/碘化鉀/水(重量比)=0.04/1.5/100)。然後，於56.5℃浸漬於包含碘化鉀及硼酸之水溶液(碘化鉀/硼酸/水(重量比)=12/3.6/100)中。將膜以10℃的純水洗淨後，於85℃進行乾燥，而獲得碘吸附配向於聚乙烯醇之厚度約23μm的偏光片。延伸係主要在碘染色及硼酸處理之步驟施行，總延伸倍率為5.3倍。
將厚度25μm的包含三乙醯基纖維素膜之透明保護膜〔KONICA MINOLTA OPTO(股)製之商品名「KC2UA」〕經由包含聚乙烯醇系樹脂之水溶液之接著劑，貼合於所獲得之偏光片的單面。其次，將厚度23μm的包含環狀聚烯烴系樹脂之零相位差膜〔日本ZEON(股)製之商品名「ZEONOR」〕經由包含聚乙烯醇系樹脂之水溶液之接著劑，貼合於上述偏光片之與三乙醯基纖維素膜相反側之面而製作偏光板。接著，對零相位差膜之與偏光片相接之面相反側之面，實施用於提升密著性之電暈放電處理後，藉由層壓機貼合上述(2)所製作之黏著劑層的與隔離膜相反側之面(黏著劑層面)後，在溫度23℃、相對濕度65%之條件下熟化7日，獲得附黏著劑層的光學膜(P-1)。
(4)附黏著劑層的光學膜的耐久性評估
將上述(3)所製作之附黏著劑層的光學膜(P-1)以偏光板之延伸軸方向成為長邊之方式裁成300mm×220mm 的大小並將隔離膜予以剝離，將所露出之黏著劑層面貼合於附玻璃基板或ITO(錫摻雜氧化銦)的玻璃基盤。將所獲得之貼附有玻璃基板之試驗片(貼附有玻璃基板之附黏著劑層的光學膜)在高壓釜中，於溫度50℃、壓力5kg/cm2(490.3kPa)加壓20分鐘。使用CORNING公司製之無鹼玻璃〔商品名「Eagle XG」〕當作玻璃基板。此外，作為附ITO的玻璃基板，係使用藉由ITO蒸鍍在CORNING公司製之無鹼玻璃〔商品名「Eagle XG」〕形成30nm的ITO層者。
針對所獲得之光學積層體，實施以下3種耐久性試驗。
〔耐久性試驗〕
‧在溫度95℃之乾燥條件下保持1000小時之耐熱試驗(玻璃基板)、 ‧在溫度95℃之乾燥條件下保持1000小時之耐熱試驗(附ITO的玻璃)、 ‧在溫度60℃、相對濕度90%之環境下保持1000小時之耐濕熱試驗(玻璃基板)、 ‧以在溫度85℃之乾燥條件下保持30分鐘，接著在溫度-40℃之乾燥條件下保持30分鐘之操作作為1個循環，對其重複進行1000個循環之耐熱衝擊(HS)試驗(玻璃基板)。
目視觀察各試驗後之光學積層體，以目視觀察黏著劑層的浮起、剝落、發泡等外觀變化的有無，依照 下述評估基準評估耐久性。將結果示於表3。
5：完全未見到浮起、剝落、發泡等外觀變化、4：幾乎未見到浮起、剝落、發泡等外觀變化、3：浮起、剝落、發泡等外觀變化稍微明顯、2：浮起、剝落、發泡等外觀變化較明顯、1：顯著確認到浮起、剝落、發泡等外觀變化。
(5)附黏著劑層的光學膜的黏著力評估
將上述(3)所製作之附黏著劑層的光學膜(P-1)裁成25mm×150mm之大小的試驗片。自試驗片剝下隔離片、將其黏著劑面貼附於玻璃基板。將所獲得之貼附有玻璃基板之試驗片(貼附有玻璃基板之附黏著劑層的光學膜)在高壓釜中，於溫度50℃、壓力5kg/cm2(490.3kPa)加壓20分鐘。於溫度23℃、相對濕度50%的環境中保管24小時之後，以300mm/分鐘之速度朝180°方向自試驗片連同黏著劑層剝離光學膜。將剝離時之平均剝離力定為黏著力並示於表3。在黏著力為10N以下之情況，再加工性優異，此外，在為0.5N以上之情況，即便在由偏光板端部承受衝擊時亦難以發生剝落。
〔光學積層體的ITO腐蝕性評估〕
以低電阻率計〔三菱化學ANALYTECH(股)製之商品名「Loresta-AX」〕測定附ITO層的玻璃基板之ITO層 的表面的表面電阻(試驗前表面電阻值)。其次，將上述(3)所製作之形成有黏著劑層之偏光板裁成20mm×40mm之大小的試驗片，經由黏著劑層貼黏於玻璃基板的ITO層側。將所獲得之光學積層體在溫度60℃、相對濕度90%的烘箱中保管500小時後，於溫度23℃、相對濕度50%的環境下，在ITO層與黏著劑層之間進行剝離。測定剝離後之ITO層的表面電阻(試驗後表面電阻值)。藉由下述式算出試驗前後之電阻變化率，依以下基準進行評估。電阻變化率越小，ITO腐蝕性越低。將結果示於表3。
電阻變化率(%)=〔(試驗後表面電阻值)-(試驗前表面電阻值)〕/〔試驗前表面電阻值〕×100
〈ITO腐蝕性之評估基準〉
○：電阻變化率未達50%，ITO腐蝕性良好的光學積層體。
×：電阻變化率為50%以上，光學積層體的ITO腐蝕性不良。
(6)附黏著劑層的光學膜的抗靜電性評估
將所獲得之附黏著劑層的偏光膜之隔離片剝離之後，藉由表面固有電阻測定裝置〔三菱化學(股)製之「Hiresta-up MCP-HT450」(商品名)〕測定黏著劑的表面電阻值。在施加電壓250V、施加時間10秒之測定條件實施。只要表面電阻值為1.0×1012Ω/□以下，即可獲得 良好的抗靜電性。
〔黏著劑薄片的凝膠分率〕
示出本發明之黏著劑薄片之凝膠分率評估方法。凝膠分率越大則在黏著劑中越多交聯反應進行，可作為交聯密度之基準。凝膠分率為依照以下(1)~(4)所測定之值。
(1)將約8cm×約8cm之面積的黏著劑薄片、與約10cm×約10cm的包含SUS304之金屬篩網(將其重量定為Wm)進行貼合。
(2)對上述(1)所獲得之貼合物進行稱量，並將其重量定為Ws，其次，以包住黏著劑薄片之方式折疊4次並以釘書機(裝訂機)固定後進行稱量，將其重量定為Wb。
(3)將上述(2)中經釘書機固定之篩網裝入玻璃容器中，加入醋酸乙酯60mL並進行浸漬後，將此玻璃容器於室溫保管3日。
(4)自玻璃容器中取出篩網，於120℃乾燥24小時後進行稱量，將其重量定為Wa，基於下列式計算凝膠分率。
凝膠分率(重量%)=〔{Wa-(Wb-Ws)-Wm}/(Ws-Wm)〕×100
Figure 105140824-A0202-12-0060-26
Figure 105140824-A0202-11-0003-11
1‧‧‧附黏著劑層的光學膜
10‧‧‧光學膜
20‧‧‧黏著劑層

Claims (12)

  1. 一種附黏著劑層的光學膜，其係包含光學膜、及積層於該光學膜的至少一面之黏著劑層，前述黏著劑層係由包含(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、交聯劑(B)、及矽烷化合物(C)之黏著劑組成物的反應生成物所構成，前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)係包含源自下述式(a1)所示之含有羥基的(甲基)丙烯酸酯之構成單元、及源自下述式(a2)所示之含有羥基的(甲基)丙烯酸酯之構成單元，
    Figure 105140824-A0305-02-0065-1
     式中，n表示1~4之整數，A1表示氫原子或烷基，X1表示可具有取代基之亞甲基，n為2以上時，前述取代基可相同或相異；
    Figure 105140824-A0305-02-0065-2
     式中，m表示5以上之整數，A2表示氫原子或烷基，X2表示可具有取代基之亞甲基，前述取代基可相同或相異；相對於構成(甲基)丙烯酸系樹脂之所有構成單元100重量份而言，源自式(a1)所示之含有羥基的(甲 基)丙烯酸酯之構成單元的比例為1.5~4.5重量份，源自式(a2)所示之含有羥基的(甲基)丙烯酸酯之構成單元的比例為0.25~1.0重量份。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之附黏著劑層的光學膜，其中，(甲基)丙烯酸系樹脂係包含源自丙烯酸烷酯(a3)之構成單元，該源自丙烯酸烷酯(a3)之構成單元係含有源自均聚物的玻璃轉移溫度為未達0℃之丙烯酸烷酯(a3-1)之構成單元、及源自均聚物的玻璃轉移溫度為0℃以上之丙烯酸烷酯(a3-2)之構成單元。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之附黏著劑層的光學膜，其中，源自均聚物的玻璃轉移溫度為未達0℃之丙烯酸烷酯(a3-1)之構成單元、與源自均聚物的玻璃轉移溫度為0℃以上之丙烯酸烷酯(a3-2)之構成單元之比例(重量比)為(a3-1)/(a3-2)=20/80~95/5。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之附黏著劑層的光學膜，其中，(甲基)丙烯酸系樹脂的重量平均分子量以聚苯乙烯換算為6.0×105~2.5×106。
  5. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之附黏著劑層的光學膜，其中，交聯劑(B)為芳香族異氰酸酯化合物及/或該芳香族異氰酸酯化合物之經由多元醇化合物之加成體。
  6. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之附黏著劑層的光學膜，其中，交聯劑(B)的比例係相對於(甲基) 丙烯酸系樹脂(A)100重量份而言為0.01~10重量份。
  7. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之附黏著劑層的光學膜，其中，矽烷化合物(C)為下述式(c1)所示之矽烷化合物，
    Figure 105140824-A0305-02-0067-3
     式中，B表示碳數1~20的烷二基或碳數3~20的二價脂環式烴基，構成前述烷二基及前述脂環式烴基之-CH2-可置換成-O-或-CO-，R1表示碳數1~5的烷基，R2、R3、R4、R5及R6各自獨立地表示碳數1~5的烷基或碳數1~5的烷氧基。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之附黏著劑層的光學膜，其中，式(c1)之B為碳數1~10的烷二基，R1為碳數1~5的烷基，R2、R3、R4、R5及R6各自獨立地為碳數1~5的烷氧基。
  9. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之附黏著劑層的光學膜，其中，矽烷化合物(C)的比例係相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份而言為0.01~10重量份。
  10. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之附黏著劑層的光學膜，其中，黏著劑層的凝膠分率為50~95%。
  11. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之附黏著劑層的光學膜，其中，將前述黏著劑層貼合於玻璃基板，在 溫度23℃、相對濕度50%之條件下，24小時後之前述黏著劑層的黏著力在剝離速度300mm/分鐘時，為0.5~10N/25mm。
  12. 一種光學積層體，其係包含申請專利範圍第1至11項中任一項所述之附黏著劑層的光學膜。
TW105140824A 2015-12-15 2016-12-09 附黏著劑層的光學膜及光學積層體 TWI721064B (zh)

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