TWI721972B - 光學積層體及液晶顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明係提供一種光學積層體及包含該光學積層體之液晶顯示裝置，該光學積層體係依序包含光學膜、黏著劑層及金屬層，該黏著劑層係由包含(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、矽烷化合物(B)及離子性化合物(C)之黏著劑組成物所構成，矽烷化合物(B)為式(I)所示之矽烷化合物。

Description

光學積層體及液晶顯示裝置
本發明係關於一種構成液晶顯示裝置等圖像顯示裝置之光學積層體及包含該光學積層體之液晶顯示裝置。
以於偏光片之單面或雙面積層貼合透明樹脂膜而成之偏光板為代表之光學膜，係被廣泛使用作為構成液晶顯示裝置等圖像顯示裝置之光學構件。如偏光板之光學膜，多係經由黏著劑層貼合於其他構件(例如液晶顯示裝置之液晶單元等)而使用(例如參照日本特開2010-229321號公報)。
因此，就光學膜而言，已知於其一面預先設有黏著劑層之附黏著劑層之光學膜。而且，亦已知為賦予抗靜電性而於黏著劑層含有離子性化合物者。
近年來，液晶顯示裝置係朝智慧型手機和桌上型終端、車用導航系統為代表之具有觸控面板功能的可攜式機器用途發展。在如此之觸控輸入式液晶顯示裝置 中附黏著劑層之光學膜，該黏著劑層亦有例如經由樹脂層或直接接觸之方式配置在例如由金屬配線所構成之金屬層之情形。然而，在將由金屬材料所構成之金屬層及含有離子性化合物之黏著劑層組合之構成中，係有金屬層在高溫高濕環境下腐蝕之情形。腐蝕之中，尤其孔蝕，在金屬層之厚度較薄之情形、當金屬層為金屬配線而其線寬較窄之情形下，孔蝕會完全貫通金屬層，故特別有問題。
本發明之目的在於提供一種可抑制金屬層之腐蝕光學積層體及包含該光學積層體之液晶顯示裝置，該光學積層體係於如金屬配線層之金屬層上積層附黏著劑層之光學膜的光學積層體。
本發明係提供如下所示之光學積層體及包含該光學積層體之液晶顯示裝置、以及黏著劑組成物。
[1]一種光學積層體，其係依序包含光學膜、黏著劑層及金屬層；前述黏著劑層係由包含(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、矽烷化合物(B)及離子性化合物(C)之黏著劑組成物所構成；前述矽烷化合物(B)係下述式(I)所示之矽烷化合物：
Figure 105109825-A0202-12-0002-2
式中，A係表示碳數1至20之烷二基或碳數3至20的2價脂環式烴基，構成該烷二基及該脂環式烴 基之-CH2-係亦可被-O-或-C(=O)-取代，R1係表示碳數1至5之烷基，R2、R3、R4、R5及R6係分別獨立地表示碳數1至5之烷基或碳數1至5之烷氧基。
[2]如[1]所述之光學積層體，其中，前述金屬層係包含：由鋁、銅、銀、鐵、錫、鋅、鎳、鉬、鉻、鎢、鉛及包含選自該等金屬的2種以上金屬的合金所成之群中選出的的1種以上。
[3]如[1]或[2]所述之光學積層體，其中，前述金屬層係包含鋁元素。
[4]如[1]至[3]中任一項所述之光學積層體，其中，前述金屬層係藉由濺鍍所形成之層。
[5]如[1]至[4]中任一項所述之光學積層體，其中，前述金屬層之厚度為3μm以下。
[6]如[1]至[5]中任一項所述之光學積層體，其中，前述式(I)所示之矽烷化合物(B)為下述式(II)所示之矽烷化合物：
Figure 105109825-A0202-12-0003-3
式中，R1、R3、R4、R5及R6係分別表示與上述相同之意義，R7係表示碳數1至5之烷基，m係表示1至20之整數。
[7]如[6]所述之光學積層體，其中，前述式 (II)中之m為4至20之整數。
[8]如[6]所述之光學積層體，其中，前述式(II)中之m為6至8之整數。
[9]如[6]所述之光學積層體，其中，前述式(II)中之m為6。
[10]如[1]至[9]中任一項所述之光學積層體，其中，前述矽烷化合物(B)為1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷。
[11]如[1]至[10]中任一項所述之光學積層體，其中，前述黏著劑組成物中，相對於前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份之前述矽烷化合物(B)的含量為0.01至10重量份。
[12]如[1]至[11]中任一項所述之光學積層體，其中，前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)係含有源自具有羥基之單體的構成單元。
[13]如[1]至[12]中任一項所述之光學積層體，其中，前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)係含有：源自均聚物之玻璃轉移溫度未達0℃之丙烯酸烷酯(a1)的構成單元及源自均聚物之玻璃轉移溫度為0℃以上之丙烯酸烷酯(a2)的構成單元。
[14]如[1]至[13]中任一項所述之光學積層體，其中，前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之重量平均分子量為50萬至250萬。
[15]如[1]至[14]中任一項所述之光學積層體，前述黏著劑組成物更含有異氰酸酯系交聯劑(D)。
[16]如[1]至[15]中任一項所述之光學積層體，其中，前述黏著劑組成物實質上不含三唑系化合物。
[17]一種液晶顯示裝置，其係包含[1]至[16]中任一項所述之光學積層體。
[18]一種黏著劑組成物，其係包含(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、矽烷化合物(B)及離子性化合物(C)，前述矽烷化合物(B)係下述式(I)所示之矽烷化合物：
Figure 105109825-A0202-12-0005-4
式中，A係表示碳數1至20之烷二基或碳數3至20之2價脂環式烴基，構成該烷二基及該脂環式烴基之-CH2-係可被-O-或-C(=O)-取代，R1係表示碳數1至5之烷基，R2、R3、R4、R5及R6係分別獨立地表示碳數1至5之烷基或碳數1至5之烷氧基，可使用於積層在金屬層上之黏著劑層的形成。
若依據本發明，可提供一種可抑制金屬層之腐蝕的光學積層體及含有該光學積層體之液晶顯示裝置。
1‧‧‧附黏著劑層之光學膜
2‧‧‧偏光片
3‧‧‧第1樹脂膜
4‧‧‧第2樹脂膜
5、6、7‧‧‧光學積層體
10‧‧‧光學膜
10a、10b‧‧‧偏光板
20‧‧‧黏著劑層
30‧‧‧金屬層
40‧‧‧基板
50‧‧‧樹脂層
第1圖係表示本發明之光學積層體的一例之概略剖面圖。
第2圖係表示偏光板之層構成的一例之概略剖面圖。
第3圖係表示偏光板之層構成的另一例的概略剖面圖。
第4圖係表示光學積層體之層構成的一例之概略剖面圖。
第5圖係表示光學積層體之層構成的另一例之概略剖面圖。
第6圖係表示光學積層體之層構成的另一例之概略剖面圖。
第7圖係表示光學積層體之層構成的另一例之概略剖面圖。
<光學積層體>
第1圖係表示本發明之光學積層體的一例之概略剖面圖。如第1圖所示，本發明之光學積層體係依序包含光學膜10、黏著劑層20及金屬層30，亦可更包含基板40。該光學積層體可係在形成於基板40上所之金屬層30上經由黏著劑層20貼合有附黏著劑層之光學膜1者，該附黏著劑層之光學膜1係包含光學膜10及積層於其至少一面上之前述黏著劑層20。
黏著劑層20通常係直接積層於光學膜10之表面。而且，附黏著劑層之光學膜1通常係以該黏著劑層20直接接觸金屬層30之方式積層於金屬層30上。依據本發明，在如此之光學積層體中，可有效地抑制金屬層30 之腐蝕。以下，亦將可抑制金屬層30之腐蝕的性質稱為「耐金屬腐蝕性」。
光學膜10可為單層構造之光學膜，亦可為多層構造之光學膜。黏著劑層20係包含(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、矽烷化合物(B)及離子性化合物(C)，較佳係由更包含異氰酸酯系交聯劑(D)之黏著劑組成物所構成。該黏著劑組成物亦可更包含其他成分。本說明書中，「(甲基)丙烯酸」係意指選自由丙烯酸基及甲基丙烯酸基所成之群中的至少一者。有關「(甲基)丙烯酸酯」、「(甲基)丙烯醯基」等亦同理。
[1]光學膜
本發明之光學積層體所具備之光學膜10，係構成附黏著劑層之光學膜1的光學構件，為可組入於液晶顯示裝置等圖像顯示裝置之各種光學膜(具有光學特性之膜)。光學膜10係可為單層構造之光學膜，亦可為多層構造之光學膜。單層構造之光學膜的具體例，在偏光片之外，包括相位差膜、增亮膜、防眩膜、抗反射膜、擴散膜、聚光膜等光學功能性膜。多層構造之光學膜的具體例係包括偏光板、相位差板。本說明書中之偏光板，係謂於偏光片之至少一面積層有樹脂膜或樹脂層者。相位差板，係謂於相位差膜之至少一面積層有樹脂膜或樹脂層者。光學膜10較佳係偏光板、偏光片、相位差板或相位差膜，更佳係偏光板或偏光片。
[1-1]偏光板
第2圖及第3圖係表示偏光板之層構成的例之概略剖面圖。第2圖所示之偏光板10a係於偏光片2之一面積層貼合有第1樹脂膜3之單面保護偏光板，第3圖所示之偏光板10b係於偏光片2之另一面進一步積層貼合有第2樹脂膜4之雙面保護偏光板。第1、第2樹脂膜3、4係可經由未具圖示之接著劑層、黏著劑層而貼合於偏光片2。偏光板10a、10b係亦可包含第1、第2樹脂膜3、4以外之其他膜、層。
使用第2圖及第3圖所示之偏光板10a、10b作為光學膜10時之光學積層體的層構成之例係分別表示於第4圖及第5圖。第4圖所示之光學積層體5係使用第2圖所示之偏光板10a作為光學膜10之例，第5圖所示之光學積層體6係使用第3圖所示之偏光板10b作為光學膜10之例。
偏光片2係具有吸收具有與其吸收軸平行之振動面的直線偏光，穿透具有與吸收軸正交(與穿透軸平行)之振動面的直線偏光之性質之膜，例如可使用於聚乙烯醇系樹脂膜吸附定向有二色性色素之膜。二色性色素係可使用碘、二色性有機染料。
聚乙烯醇系樹脂係可藉由使聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而得到。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了乙酸乙烯酯之均聚物的聚乙酸乙烯酯之外，可列舉：可與乙酸乙烯酯共聚合之單體與乙酸乙烯酯之共聚物等。作為可與乙酸乙烯酯共聚合之單體，可列舉：不飽和羧酸、烯烴、 乙烯基醚、不飽和磺酸、具有銨基之(甲基)丙烯醯胺等。
聚乙烯醇系樹脂之皂化度通常為85至100莫耳%，較佳係98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可經改質，例如亦可使用經醛類改質之聚乙烯基甲醛或聚乙烯基縮醛等。聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度通常為1000至10000，較佳為1500至5000。聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度係可依據JIS K6726而求取。
通常，係將聚乙烯醇系樹脂製膜而成者使用作為偏光片2之原片膜。聚乙烯醇系樹脂可以公知之方法進行製膜。原片膜之厚度通常為1至150μm，若考量延伸之容易性等，則較佳係10μm以上。
偏光片2係例如實施：對原片膜進行一軸延伸之步驟、以二色性色素將膜染色而吸附該二色性色素之步驟、以硼酸水溶液處理膜之步驟及水洗膜之步驟，最後經乾燥而製造。偏光片2之厚度通常為1至30μm，從附黏著劑層之光學膜1的薄膜化之觀點來看，較佳係20μm以下，更佳係15μm以下，再更佳係10μm以下。
使二色性色素吸附定向於聚乙烯醇系樹脂膜而成之偏光片2，除了下述1)之方法之外，亦可藉由下述2)之方法而製得。該1)之方法係：使用聚乙烯醇系樹脂膜之單獨膜作為原片膜，對該膜施予一軸延伸處理及二色性色素之染色處理的方法；該2)之方法係：於基材膜塗佈含有聚乙烯醇系樹脂之塗佈液(水溶液等)，並使其乾燥而得到具有聚乙烯醇系樹脂層之基材膜後，將該基材膜整體 進行一軸延伸，並對延伸後之聚乙烯醇系樹脂層施予二色性色素之染色處理，然後，剝離去除基材膜之方法。基材膜係可使用包含與能夠構成後述之第1、第2樹脂膜3、4之熱塑性樹脂相同之熱塑性樹脂的膜，較佳係包含聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、三乙醯基纖維素等纖維素系樹脂、降茨烯系樹脂等環狀聚烯烴系樹脂、聚苯乙烯系樹脂等之膜。若依據上述2)之方法，會變得容易製作薄膜之偏光片2，例如亦變得容易製作厚度7μm以下之偏光片2。
第1、第2樹脂膜3、4係分別獨立地具有透光性者，較佳係光學性透明之熱塑性樹脂，例如可為包含：如鏈狀聚烯烴系樹脂(聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降茨烯系樹脂等)之聚烯烴系樹脂；纖維素系樹脂(纖維素酯系樹脂等)；聚酯系樹脂(聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等)；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚醚醚酮系樹脂；聚碸系樹脂、或該等之混合物、共聚物等之膜。其中，第1、第2樹脂膜3、4係分別以由環狀聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、纖維素系樹脂、聚酯系樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂所成之群選出的樹脂所構成者為較佳，以由纖維素系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂所成之群中選出的樹脂所構成者為更佳。
作為鏈狀聚烯烴系樹脂，除了聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂等鏈狀烯烴之均聚物之外，可列舉由2種 以上之鏈狀烯烴所構成之共聚物。
環狀聚烯烴系樹脂係以降茨烯、四環十二烯(別名：二甲橋八氫萘(dimethanooctahydronaphthalene))或該等之衍生物為代表例之含有環狀烯烴作為聚合單元之樹脂的總稱。若舉出環狀聚烯烴系樹脂之具體例，則為：環狀烯烴之開環(共)聚合物及其氫化物，環狀烯烴之加成聚合物，環狀烯烴與如乙烯、丙烯之鏈狀烯烴或具有乙烯基之芳香族化合物之共聚物，以及該等經不飽和羧酸和其衍生物改質之改質(共)聚合物等。其中，以使用降茨烯和多環降茨烯系單體等降茨烯系單體作為環狀烯烴之降茨烯系樹脂為較佳。
纖維素系樹脂較佳係纖維素酯系樹脂，亦即，纖維素之部分或完全酯化物等，可舉例如：纖維素之乙酸酯、丙酸酯、丁酸酯、該等之混合酯等。其中，較佳為使用三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等。
聚酯系樹脂係具有酯鍵之上述纖維素酯系樹脂以外之樹脂，一般為多元羧酸或其衍生物與多元醇之聚縮合物所構成者。聚酯系樹脂之具體例係包含：聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚萘二甲酸丙二酯、聚對苯二甲酸環己烷二甲酯、聚萘二甲酸環己烷二甲酯。
聚碳酸酯系樹脂係由碳酸及甘醇(glycol)或 雙酚所形成之聚酯。其中，從耐熱性、耐候性及耐酸性之觀點來看，較佳係使用於分子鏈具有二苯基烷烴之芳香族聚碳酸酯。聚碳酸酯可例示：如2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷(別名雙酚A)、2,2-雙(4-羥基苯基)丁烷、1,1-雙(4-羥基苯基)環己烷、1,1-雙(4-羥基苯基)異丁烷、1,1-雙(4-羥基苯基)乙烷之由雙酚所衍生之聚碳酸酯。
可構成第1、第2樹脂膜3、4之(甲基)丙烯酸系樹脂，可為以源自甲基丙烯酸酯之構成單元作為主體(例如包含該構成單元50重量%以上)之聚合物，較佳為使前述聚合物再與其他共聚合成分進行共聚合之共聚物。(甲基)丙烯酸系樹脂可含有2種以上源自甲基丙烯酸酯之構成單元。甲基丙烯酸酯可列舉：甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯等甲基丙烯酸之C1至C4烷基酯。
可與甲基丙烯酸酯共聚合之共聚合成分，可列舉丙烯酸酯。丙烯酸酯較佳係丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己酯等丙烯酸之C1至C8烷基酯。其他共聚合成分之具體例，係可列舉：(甲基)丙烯酸等不飽和酸類；苯乙烯、鹵化苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯等芳香族乙烯基化合物；(甲基)丙烯腈等乙烯基氰化合物；馬來酸酐、檸康酸酐等不飽和酸酐；苯基馬來醯亞胺、環己基馬來醯亞胺等不飽和醯亞胺等，於分子內具有1個聚合性碳-碳雙鍵的丙烯酸酯以外之化合物。亦可使用於分子內具有2個以上之聚合性碳-碳雙鍵的化合 物作為共聚合成分。共聚合成分係可僅使用1種，亦可併用2種以上。
就可提高膜之耐久性之點而言，(甲基)丙烯酸樹脂亦可於高分子主鏈具有環構造。環構造係以環狀酸酐構造、環狀醯亞胺構造、內酯環構造等雜環構造為佳。環狀酸酐構造之具體例可列舉戊二酸酐構造、琥珀酸酐構造，環狀醯亞胺構造之具體例可列舉戊二醯亞胺構造、琥珀醯亞胺構造，內酯環構造之具體例可列舉丁內酯環構造、戊內酯環構造。
從對膜之製膜性、膜之耐衝撃性等觀點來看，(甲基)丙烯酸系樹脂亦可含有丙烯酸系橡膠粒子。所謂丙烯酸系橡膠粒子，係以丙烯酸酯作為主體且以彈性聚合物為必要成分之粒子，實質上可列舉僅由此彈性聚合物所構成之單層構造者、使彈性聚合物為1層之多層構造者。彈性聚合物之例可列舉以丙烯酸烷基酯作為主成分，並使之與可和該主成共聚合之其他乙烯基單體及交聯性單體共聚合而成之交聯彈性共聚物。成為彈性聚合物之主成分的丙烯酸烷基酯係可舉例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2-乙基己酯等丙烯酸之C1至C8烷基酯。烷基之碳數較佳係4以上。
可與丙烯酸烷基酯共聚合之其他乙烯基單體，可列舉於分子內具有1個聚合性碳-碳雙鍵之化合物，更具體而言，係可列舉如甲基丙烯酸甲酯之甲基丙烯酸酯、如苯乙烯之芳香族乙烯基化合物、如(甲基)丙烯腈之 乙烯基氰化合物等。交聯性單體係可列舉於分子內至少具有2個聚合性碳-碳雙鍵之交聯性化合物，更具體而言，係可列舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯等多元醇的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸烯丙酯等(甲基)丙烯酸之烯基酯；二乙烯基苯等。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100重量份，丙烯酸系橡膠粒子之含量較佳係5重量份以上，更佳係10重量份以上。若丙烯酸系橡膠粒子之含量太多，則膜之表面硬度會降低，而且，對膜實施表面處理時，對於表面處理劑中之有機溶劑的耐溶劑性會降低。因此，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100重量份，丙烯酸系橡膠粒子之含量通常為80重量份以下，較佳係60重量份以下。
第1、第2樹脂膜3、4係可含有本發明之技術領域中之一般添加劑。添加劑之具體例係包括例如：紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、有機系染料、顏料、無機系色素、抗氧化劑、抗靜電劑、界面活性劑、滑劑、分散劑、熱安定劑等。
紫外線吸收劑係可舉例如：水楊酸酯化合物、二苯甲酮化合物、苯並三唑化合物、三
Figure 105109825-A0202-12-0014-33
化合物、氰基(甲基)丙烯酸酯化合物、鎳錯鹽等。
第1、第2樹脂膜3、4係分別可為未經延伸之膜、或是經一軸或二軸延伸之膜的任一者。二軸延伸可為同時朝2個延伸方向進行延伸之同時二軸延伸，亦可為朝預定方向延伸之後再朝其他方向進行延伸之逐次二軸 延伸。第1樹脂膜3及/或第2樹脂膜4係可為擔任保護偏光片2之任務之保護膜，亦可為一併具有如後述相位差膜之光學功能的保護膜。相位差膜係表示光學各向異性(optical anisotropy)之光學膜。例如，可使包含上述熱塑性樹脂之膜進行延伸(一軸延伸或二軸延伸等)、於該熱塑性樹脂膜上形成液晶層等，藉此形成經賦予任意之相位差值的相位差膜。
第1樹脂膜3及第2樹脂膜4係可為由相同之熱塑性樹脂所構成之膜，亦可為由互異之熱塑性樹脂所構成的膜。第1樹脂膜3及第2樹脂膜4在厚度、添加劑之有無和種類、相位差特性等方面可為相同，亦可為相異。
第1樹脂膜3及/或第2樹脂膜4，係可於其外面(與偏光片2為相反側之表面)具備硬塗層、防眩層、抗反射層、光擴散層、抗靜電層、防污層、導電層等表面處理層(塗佈層)。
第1樹脂膜3及第2樹脂膜4之厚度係分別通常為1至150μm，較佳係5至100μm，更佳係5至60μm。該厚度係50μm以下，更可為30μm以下。減少第1、第2樹脂膜3、4之厚度，對於附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之薄膜化、甚至含有附黏著劑層之光學膜1或光學積層體的液晶顯示裝置之薄膜化為有利。
特別是在如智慧型手機、桌上型終端之偏中小型的偏光板，就薄膜化之要求而言，作為第1樹脂膜3及/或第2樹脂膜4，多係使用厚度為30μm以下之較薄 者，惟如此之偏光板的抑制偏光片2之收縮力的力量較弱，耐久性容易變得不充分。若依據本發明，則即使在使用如此之偏光板作為光學膜10時，亦可提供具有良好耐久性的附黏著劑層之光學膜1及光學積層體。附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐久性，係指：在例如高溫環境下、高溫高濕環境下、高溫及低溫反覆之環境下等之中，可抑制在黏著劑層20與鄰接於黏著劑層20之光學構件的界面之浮起和剝離、黏著劑層20之發泡等不良情形的性質。
而且，從偏光板之薄膜化的觀點來看，係以如第2圖所示之偏光板10a般，僅於偏光片2之單面配置樹脂膜之構成為有利。此時通常於偏光片2之另一面係直接貼合黏著劑層20而成為附黏著劑層之光學膜1(參照第4圖)。為如此構成之偏光板時，由於黏著劑層20所含有之離子性化合物而在高溫高濕環境下使得偏光板之光學性能降低之問題會變得尤其顯著。若依據本發明，則即使在使用如此之偏光板作為光學膜10時，亦可提供具有良好之光學耐久性(可抑制光學特性劣化之性質)的附黏著劑層之光學膜1及光學積層體。
第1、第2樹脂膜3、4係可經由接著劑層、黏著劑層而貼合於偏光片2。形成接著劑層之接著劑係可使用水性接著劑或活性能量射線硬化性接著劑。
水性接著劑係可列舉：包含聚乙烯醇系樹脂水溶液之接著劑、水性二液型胺基甲酸酯系乳化液接著 劑等。其中，尤適宜使用包含聚乙烯醇系樹脂水溶液之水性接著劑。聚乙烯醇系樹脂，除了將乙酸乙烯酯之均聚物的聚乙酸乙烯酯進行皂化處理而製得之乙烯醇均聚物之外，可使用將乙酸乙烯酯及可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體的共聚物進行皂化處理而得到之聚乙烯醇系共聚物、或將該等之羥基經部分改質之改質聚乙烯醇系聚合物等。水性接著劑係可含有：醛化合物、環氧基化合物、三聚氰胺系化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯化合物、胺化合物、多價金屬鹽等交聯劑。
使用水性接著劑時，較佳係在將偏光片2與第1、第2樹脂膜3、4貼合之後，為了去除水性接著劑中所含之水而實施使其乾燥之步驟。乾燥步驟後，亦可設置例如以20至45℃左右之溫度進行熟成之熟成步驟。
上述活性能量射線硬化性接著劑，係指藉由照射紫外線、電子射線等活性能量射線而進行硬化之接著劑，可舉例如：含有聚合性化合物及光聚合起始劑之硬化性組成物、含有光反應性樹脂之硬化性組成物、含有黏結劑樹脂及光反應性交聯劑之硬化性組成物等。較佳係紫外線硬化性接著劑。聚合性化合物係可舉例如光硬化性環氧系單體、光硬化性(甲基)丙烯酸系單體、光硬化性胺基甲酸酯系單體等光聚合性單體，和源自光聚合性單體之寡聚物。光聚合起始劑可列舉含有藉由活性能量射線之照射而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基等活性物種之物質者。作為含有聚合性化合物及光聚合起始劑之 活性能量射線硬化性接著劑，較佳可使用：含有光硬化性環氧系單體及光陽離子聚合起始劑之硬化性組成物、含有光硬化性(甲基)丙烯酸系單體及光自由基聚合起始劑之硬化性組成物、或該等之硬化性組成物的混合物。
使用活性能量射線硬化性接著劑時，係在貼合偏光片2與第1、第2樹脂膜3、4之後，視所需而進行乾燥步驟，然後，藉由照射活性能量射線而進行使活性能量射線硬化性接著劑硬化之硬化步驟。活性能量射線之光源係無特別限定，惟以於波長400nm以下具有發光分布之紫外線為佳，具體而言，係可使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、螢光燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵素燈等。
當貼合偏光片2與第1、第2樹脂膜3、4時，可對此等之至少任一貼合面實施皂化處理、電暈處理、電漿處理等表面活性化處理。於偏光片2之雙面貼合樹脂膜時，用以貼合該等樹脂膜的接著劑可為同種之接著劑，亦可為不同種之接著劑。
偏光板10a、10b係可更含有其他之膜或層。其具體例除了後述之相位差膜之外，為增亮膜、防眩膜、抗反射膜、擴散膜、聚光膜、黏著劑層20以外之黏著劑層、塗佈層、保護膜等。保護膜係以保護偏光板等之光學膜10之表面免受刮傷、髒污為目的所使用的膜，通例為在將附黏著劑層之光學膜1貼合於例如金屬層30上之後，進行剝離去除。
保護膜通常是以基材膜與積層於該基材膜上之黏著劑層所構成。基材膜係可以熱塑性樹脂，例如：聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂等聚烯烴系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯和聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂等構成。
[1-2]相位差板
相位差板所含之相位差膜如上所述，係表示光學各向異性之光學膜，可為將樹脂膜延伸至1.01至6倍左右所得之延伸膜，前述樹脂膜除了包含作為可使用於第1、第2樹脂膜3、4者而已例示於上之熱塑性樹脂之外，例如包含聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚偏二氟乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、液晶聚酯系樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化物、聚氯乙烯系樹脂等之。其中，以將聚碳酸酯系樹脂膜和環狀烯烴系樹脂膜、(甲基)丙烯酸系樹脂膜或纖維素系樹脂膜經一軸延伸或二軸延伸之延伸膜為較佳。而且，本說明書中，相位差膜亦包括零延遲性膜(惟，亦可使用作為保護膜)。就其他而言，被稱為一軸性相位差膜、廣視角相位差膜、低光彈性率相位差膜等膜亦可適合使用作為相位差膜。
所謂零延遲性膜，係指面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth皆為-15至15nm之膜。此相位差膜係可適宜使用於IPS模式之液晶顯示裝置。面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth較佳均為-10至10nm，更佳均為-5至5nm。此處所謂之面內相位差值Re及厚度方向相位差 值Rth係波長590nm中之值。
面內相位差值Re及厚度方向相位差值Rth係分別以下述式定義：Re=(nx-ny)×d Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d。式中，nx係膜面內之慢軸方向(x軸方向)之折射率，ny係膜面內之快軸方向(在面內與x軸正交之y軸方向)之折射率，nz係膜厚度方向(與膜面垂直之z軸方向)之折射率，d係膜之厚度。
零延遲性膜係可使用例如：由纖維素系樹脂、鏈狀聚烯烴系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂等聚烯烴系樹脂，聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂或(甲基)丙烯酸系樹脂所構成之樹脂膜。特別是因為容易調控相位差值、容易取得，故可適宜使用纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂或(甲基)丙烯酸系樹脂。
而且，亦可使用藉由液晶性化合物之塗佈/定向而顯現光學各向異性之膜、藉由無機層狀化合物之塗佈而顯現光學各向異性之膜作為相位差膜。如此之相位差膜係有：被稱為溫度補償型相位差膜者，還有，由JX日礦日石能量股份有限公司以「NH膜」之商品名販售之棒狀液晶經傾斜定向而成之膜、由富士Film股份有限公司以「WV膜」之商品名販售之圓盤狀液晶經傾斜定向而成之膜、由住友化學股份有限公司以「VAC膜」之商品名販售之完全二軸定向型之膜、同樣由住友化學股份有限公司以 「new VAC膜」之商品名販售之二軸定向型之膜等。
積層於相位差膜之至少一面的樹脂膜，可為例如上述之保護膜。
[2]黏著劑層
配置於光學膜10與金屬層30之間的黏著劑層20，係由含有(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、矽烷化合物(B)及離子性化合物(C)之黏著劑組成物所構成，較佳係更含有異氰酸酯系交聯劑(D)。此黏著劑組成物中之矽烷化合物(B)係下述式(I)所示之矽烷化合物：
Figure 105109825-A0202-12-0021-5
式中，A係表示碳數1至20之烷二基或碳數3至20之2價脂環式烴基，構成該烷二基及該脂環式烴基之-CH2-係可被-O-或-C(=O)-取代，R1係表示碳數1至5之烷基，R2、R3、R4、R5及R6係分別獨立地表示碳數1至5之烷基或碳數1至5之烷氧基。
若依據以上述之黏著劑組成物所構成之黏著劑層20，在含有黏著劑層20及金屬層30之構成的光學積層體中，可抑制金屬層30之腐蝕，而且，可提高附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐久性。更且，若依據以上述之黏著劑組成物所構成之黏著劑層20，附黏著劑層之光學膜1及光學積層體即使為於偏光片2直接貼合黏著劑 層20而成之構成，亦可顯示良好之光學耐久性。
黏著劑層20之厚度通常為2至40μm，從附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐久性和附黏著劑層之光學膜1的重工性等觀點來看，較佳係5至30μm，更佳係10至25μm。而且，若黏著劑層20之厚度為10μm以上，則黏著劑層20對於光學膜10之尺寸變化之追隨性為良好；若為25μm以下，則重工性變良好。
黏著劑層20係以在23至80℃之溫度範圍中表示0.1至5MPa之貯存彈性率者為較佳。藉此，可更有效地提高附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐久性。「23至80℃之溫度範圍中表示0.1至5MPa之貯存彈性率」係意指在此範圍之任一溫度中，貯存彈性率皆為上述範圍內之值。貯存彈性率通常係隨著溫度上昇而遞減，因此只要在23℃及80℃之貯存彈性率均落入上述範圍，即可視作在此溫度範圍中係顯示上述範圍內之貯存彈性率。黏著劑層20之貯存彈性率，係可使用市售之黏彈性測定裝置，例如REOMETRIC公司製之黏彈性測定裝置「DYNAMIC ANALYZER RDA II」而測定。
[2-1](甲基)丙烯酸系樹脂(A)
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，係以源自(甲基)丙烯酸系單體之構成單元作為主成分之(較佳係含有50重量%以上)聚合物或共聚物。(甲基)丙烯酸系單體係例如含有具有(甲基)丙烯醯基之單體，較佳係含有(甲基)丙烯酸烷酯。(甲基)丙烯酸烷酯所具有之烷基，碳數較佳為1至14，更佳為1 至12，再更佳為1至8，可為直鏈狀、分枝狀或環狀。就(甲基)丙烯酸烷酯而言，亦可使用如於後述烷基導入有取代基之含有取代基的丙烯酸烷酯之含有取代基的(甲基)丙烯酸烷酯。(甲基)丙烯酸烷酯係可只使用1種，亦可併用2種以上。
(甲基)丙烯酸烷酯之具體例係包括：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯，(甲基)丙烯酸正-及異-丙酯，(甲基)丙烯酸正-、異-及第三-丁酯，丙烯酸正-及異-戊酯，(甲基)丙烯酸正-及異-己酯，(甲基)丙烯酸環己酯，(甲基)丙烯酸正-及異-庚酯，(甲基)丙烯酸正-及異-辛酯，(甲基)丙烯酸2-乙基己酯，(甲基)丙烯酸正-及異-壬酯，(甲基)丙烯酸正-及異-癸酯，(甲基)丙烯酸異冰片酯(甲基)丙烯酸正-及異-十二酯，(甲基)丙烯酸硬脂酯等。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，較佳係含有源自：均聚物之玻璃轉移溫度Tg為未達0℃之丙烯酸烷酯(a1)之構成單元及源自均聚物之Tg為0℃以上的丙烯酸烷酯(a2)之構成單元。前述情形就提高附黏著劑層之光學膜1及光學積層體的耐金屬腐蝕性及耐久性而言，係屬有利。丙烯酸烷酯之均聚物之Tg，係可採用例如POLYMER HANDBOOK(Wiley-Interscience)等文獻之值。
丙烯酸烷酯(a1)之具體例包括：丙烯酸乙酯，丙烯酸正-及異-丙酯，丙烯酸正-及異-丁酯，丙烯酸正-戊酯，丙烯酸正-及異-己酯，丙烯酸正-庚酯，丙烯酸正-及異-辛酯，丙烯酸2-乙基己酯，丙烯酸正-及異-壬酯，丙 烯酸正-及異-癸酯，丙烯酸正-十二酯等烷基之碳數為2至12左右之丙烯酸烷酯。丙烯酸烷酯(a1)之其他具體例可列舉：於烷基之碳數為2至12左右之丙烯酸烷酯中之烷基導入有取代基之含有取代基的丙烯酸烷酯。含有取代基之丙烯酸烷酯之取代基，係取代烷基之氫原子的基，其具體例係包括苯基、烷氧基、苯氧基。作為含有取代基之丙烯酸烷酯，具體而言係可列舉：丙烯酸2-甲氧基乙酯、丙烯酸乙氧基甲酯、丙烯酸苯氧基乙酯、苯氧基二乙二醇丙烯酸酯等。丙烯酸烷酯(a1)之烷基可具有脂環式構造，惟較佳係直鏈狀或分枝狀之烷基。
丙烯酸烷酯(a1)可僅使用1種，亦可併用2種以上。其中，丙烯酸烷酯(a1)係以含有選自丙烯酸乙酯、丙烯酸正-丁酯、丙烯酸2-乙基己酯之1種或2種以上為較佳。從附黏著劑層之光學膜1所具有之黏著劑層20對光學膜10之追隨性、重工性之觀點來看，丙烯酸烷酯(a1)係以含有丙烯酸正-丁酯為較佳。
丙烯酸烷酯(a2)係丙烯酸烷酯(a1)以外之丙烯酸烷酯。丙烯酸烷酯(a2)之具體例係包含丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異冰片酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸第三-丁酯等。
丙烯酸烷酯(a2)係可僅使用1種，亦可併用2種以上。其中，從耐金屬腐蝕性及耐久性之觀點來看，丙烯酸烷酯(a2)係以含有丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異冰片酯等為較佳，以含有丙烯酸甲酯為更佳。
從附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性及耐久性之觀點來看，(甲基)丙烯酸系樹脂(A)中之源自丙烯酸烷酯(a2)之構成單元之含量，在構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之全部構成單元100重量份中，較佳係10重量份以上，更佳係15重量份以上，再更佳係20重量份以上，特佳係25重量份以上。而且，從黏著劑層20對光學膜10之追隨性及重工性之觀點來看，源自丙烯酸烷酯(a2)之構成單元之含量較佳係70重量份以下，更佳係60重量份以下，再更佳係50重量份以下。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)係可含有源自丙烯酸烷酯(a1)及(a2)以外之其他單體之構成單元。(甲基)丙烯酸系樹脂(A)可僅含有1種源自該其他單體之構成單元，亦可含有2種以上。其他之單體之具體例係表示於下。
1)具有極性官能基之單體。
具有極性官能基之單體係可列舉：具有羥基、羧基、取代或未取代胺基、環氧基等雜環基等取代基的(甲基)丙烯酸酯。具體而言，係可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-(2-羥基乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-氯-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥基丙酯、二乙二醇單(甲基)丙烯酸酯等具有羥基之單體；丙烯醯基嗎啉、乙烯基己內醯胺、N-乙烯基-2-吡咯啶酮、乙烯基吡啶、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、己內酯改質丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧基環己基甲酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、2,5-二氫呋 喃等具有雜環基之單體；(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基丙酯等具有取代或未取代胺基之單體；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯等具有羧基之單體。其中，以具有羥基之單體為較佳，就(甲基)丙烯酸系樹脂(A)與交聯劑之反應性之點而言，以具有羥基之(甲基)丙烯酸酯為更佳。
亦可一同含有具有羥基之(甲基)丙烯酸酯與具有上述其他之極性官能基之單體，惟從可防止積層於黏著劑層20之外面的分離膜之剝離力亢進的觀點來看，以實質上不含有具有胺基之單體為較佳。而且，從提高對於ITO之耐腐蝕性的觀點來看，以實質上不含有具有羧基之單體為較佳。此處之實質上不含有，係指於構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之全部構成單元100重量份中為0.1重量份以下。
2)丙烯醯胺系單體。
可適宜使用例如：N-羥甲基丙烯醯胺、N-(2-羥基乙基)丙烯醯胺、N-(3-羥基丙基)丙烯醯胺、N-(4-羥基丁基)丙烯醯胺、N-(5-羥基戊基)丙烯醯胺、N-(6-羥基己基)丙烯醯胺、N,N-二甲基丙烯醯胺、N,N-二乙基丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-(3-二甲基胺基丙基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基-3-側氧基丁基)丙烯醯胺、N-[2-(2-側氧基-1-咪唑二基)乙基]丙烯醯胺、2-丙烯醯基胺基-2-甲基-1-丙烷磺酸、N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲 基丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺[別名：N-(異丁氧基甲基)丙烯醯胺]、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-乙氧基乙基)丙烯醯胺、N-(2-丙氧基乙基)丙烯醯胺、N-[2-(1-甲基乙氧基)乙基]丙烯醯胺、N-[2-(1-甲基丙氧基)乙基]丙烯醯胺、N-[2-(2-甲基丙氧基)乙基]丙烯醯胺[別名：N-(2-異丁氧基乙基)丙烯醯胺]、N-(2-丁氧基乙基)丙烯醯胺、N-[2-(1,1-二甲基乙氧基)乙基]丙烯醯胺等。其中，N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺。
3)甲基丙烯酸酯(methacrylate)，亦即甲基丙烯酸之酯(methacrylic acid ester)。
例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸正-丁酯、甲基丙烯酸正-辛酯、甲基丙烯酸月桂酯等甲基丙烯酸之直鏈狀烷基酯；甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸異-辛酯等甲基丙烯酸之分枝狀烷基酯；甲基丙烯酸異冰片基酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸二環戊酯、甲基丙烯酸環十二酯、甲基丙烯酸甲基環己酯、甲基丙烯酸三甲基環己酯、甲基丙烯酸第三-丁基環己酯、甲基丙烯酸環己基苯基酯等甲基丙烯酸之脂環式烷基酯；甲基丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲基丙烯酸乙氧基甲酯等甲基丙烯酸之烷氧基烷酯；甲基丙烯酸苯甲酯等甲基丙烯酸芳烷基酯；甲基丙烯酸2-羥基乙 酯、甲基丙烯酸3-羥基丙酯、甲基丙烯酸4-羥基丁酯、甲基丙烯酸2-(2-羥基乙氧基)乙酯、甲基丙烯酸2-氯-2-羥基丙酯、甲基丙烯酸3-氯-2-羥基丙酯、二乙二醇單甲基丙烯酸酯等具有羥基之甲基丙烯酸之烷基酯；甲基丙烯酸胺基乙酯、甲基丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、甲基丙烯酸二甲基胺基丙酯等具有取代或未取代胺基之甲基丙烯酸之烷基酯；甲基丙烯酸2-苯氧基乙酯、甲基丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸之環氧乙烷改質壬基酚酯、甲基丙烯酸2-(鄰-苯基苯氧基)乙酯等具有苯氧基乙基之甲基丙烯酸之酯等。
4)甲基丙烯醯胺系單體。
例如對應於上述1)記載之丙烯醯胺系單體的甲基丙烯醯胺系單體。
5)苯乙烯系單體。
例如：苯乙烯；甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯等烷基苯乙烯；氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯等鹵化苯乙烯；硝基苯乙烯；乙醯基苯乙烯；甲氧基苯乙烯；二乙烯基苯等。
6)乙烯基系單體。
例如：乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、2-乙基己烷酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等脂肪酸乙烯酯；氯乙烯、溴乙烯等鹵化乙烯；氯化亞乙烯(vinylidene chloride)等鹵 化亞乙烯；乙烯基吡啶、乙烯基吡咯啶酮、乙烯基咔唑等含氮芳香族乙烯；丁二烯、異戊二烯、氯丁二烯等共軛二烯單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等不飽和腈等。
7)於分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基之單體。
例如：1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等於分子內具有2個(甲基)丙烯醯基之單體；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等於分子內具有3個(甲基)丙烯醯基之單體等。
如上所述，從附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐久性及耐金屬腐蝕性之觀點來看，(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳係在源自(甲基)丙烯酸烷酯之構成單元之外，還包含源自具有極性官能基之單體的構成單元。具有極性官能基之單體，係以具有極性官能基之(甲基)丙烯酸酯系單體為較佳，以具有羥基之單體為更佳。在構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之全部構成單元100重量份中，源自具有極性官能基之單體的構成單元之含量較佳係0.1至10重量份，更佳係0.25至5重量份，再更佳係0.5至5重量份。
而且，從附黏著劑層之光學膜1之重工性之觀點來看，(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳係源自甲基丙烯酸酯(甲基丙烯酸之酯)、甲基丙烯醯胺系單體等甲基丙烯酸 基系單體之構成單元之含量小，具體而言，在構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之全部構成單元100重量份中，該構成單元之含量較佳係10重量份以下，更佳係5重量份以下，以實質上不含有該構成單元(0.1重量份以下)為再更佳。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳係凝膠滲透色層分析(GPC)中之排出曲線上之重量平均分子量於Mw1000至250萬之範圍具有單一譜峰，更佳係於Mw1000至250萬之範圍中具有單一譜峰，且含有源自丙烯酸烷酯(a1)及(a2)之構成單元。以如此之(甲基)丙烯酸系樹脂(A)作為基質聚合物之黏著劑層20，就提高附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐久性而言為有利。在上述Mw之範圍之譜峰數為2以上時，有無法得到充分耐久性之傾向。
當欲求出在Mw1000至250萬之範圍的GPC排出曲線之譜峰數時，係依據實施例之段落所記載之GPC測定條件而取得排出曲線。所得到之排出曲線之上述範圍中「具有單一譜峰」，係意指在Mw1000至250萬之範圍中只具有1個極大值。於本說明書，在GPC排出曲線中，係將S/N比為30以上者定義為譜峰。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳係以GPC所得之標準聚苯乙烯換算之Mw為50萬至250萬之範圍，更佳為60萬至200萬之範圍。若Mw為50萬以上，則有利於提昇附黏著劑層之光學膜1及光學積層體的耐金屬腐蝕性及耐久性，有亦提升附黏著劑層之光學膜1之重工性的傾向。而且，若Mw為250萬以下，則黏著劑層20對於光學 膜10之尺寸變化的追隨性會變良好。以重量平均分子量Mw及數量平均分子量Mn之比Mw/Mn表示之分子量分布通常為2至10。(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之Mw及Mn，係依照實施例之段落所記載之GPC測定條件而求出。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，係以使其溶解於乙酸乙酯而形成濃度為20重量%之溶液時，在25℃中之黏度為20Pa‧s以下為較佳，以0.1至7Pa‧s為更佳。如此範圍之黏度，係有利於附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐久性之提昇和附黏著劑層之光學膜1之重工性。上述黏度係藉由布氏(Brookfield)黏度計測定。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)，較佳係以示差掃描熱量計(DSC)測定之玻璃轉移溫度Tg為-60至-10℃，以-55至-15℃為更佳。如此範圍之Tg，係有利於附黏著劑層之光學膜1及光學積層體的耐金屬腐蝕性及耐久性之提昇。
黏著劑組成物係亦可含有2種以上之屬於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)的(甲基)丙烯酸系樹脂。而且，黏著劑組成物亦可含有與(甲基)丙烯酸系樹脂(A)相異之其他之(甲基)丙烯酸系樹脂。惟，從附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性及耐久性之觀點來看，在全部之(甲基)丙烯酸系樹脂之合計中，(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之含量較佳係70重量%以上，更佳係80重量%以上，再更佳係90重量%以上，特佳係黏著劑組成物只含有(甲基)丙烯酸系樹脂(A)作為基質聚合物為。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)和可視所需而併用之其他之(甲基)丙烯酸系樹脂，係可藉由例如：溶液聚合法、塊狀聚合法、懸浮聚合法、乳化聚合法等公知之方法來製造。(甲基)丙烯酸系樹脂之製造中，通常可使用聚合起始劑。相對於可使用於(甲基)丙烯酸系樹脂之製造的全部單體之合計100重量份，聚合起始劑係可使用0.001至5重量份左右。而且，(甲基)丙烯酸系樹脂係例如亦可藉由紫外線等活性能量射線進行聚合之方法來製造。
聚合起始劑係可使用熱聚合起始劑、光聚合起始劑等。光聚合起始劑可舉例如：4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮等。熱聚合起始劑可舉例如：如2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1,1’-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基-2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)、2,2’-偶氮雙(2-羥基甲基丙腈)之偶氮系化合物；如月桂基過氧化物、第三-丁基氫過氧化物、過氧化苯甲醯基、第三-丁基過氧化苯甲酸酯、異丙苯氫過氧化物、二異丙基過氧化二碳酸酯、二丙基過氧化二碳酸酯、第三-丁基過氧化新癸酸酯、第三-丁基過氧化三甲基乙酸酯、(3,5,5-三甲基己醯基)過氧化物之有機過氧化物；如過硫酸鉀、過硫酸銨、過氧化氫之無機過氧化物等。而且，亦可使用併用過氧化物與還原劑之氧化還原系起始劑等作為聚合起始劑。
(甲基)丙烯酸系樹脂之製造方法，在上面所 示之方法中，尤以溶液聚合法為較佳。溶液聚合法之一例，係混合所使用之單體及有機溶劑，在氮環境下添加熱聚合起始劑，以40至90℃左右，較佳係以50至80℃左右，進行攪拌3至15小時左右。為了調控反應，可於聚合中連續地或間歇性地單體和熱聚合起始劑添加，亦可以溶解於有機溶劑之狀態添加。有機溶劑可使用例如：如甲苯、二甲苯之芳香族烴類；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；丙基醇、異丙基醇等脂肪族醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類等。
[2-2]矽烷化合物(B)
黏著劑組成物係含有矽烷化合物(B)。矽烷化合物(B)係下述式(I)所示之矽烷化合物：
Figure 105109825-A0202-12-0033-6
式中，A係表示碳數1至20之烷二基或碳數3至20之2價脂環式烴基，構成該烷二基及該脂環式烴基之-CH2-係亦可被-O-或-C(=O)-取代，R1係表示碳數1至5之烷基，R2、R3、R4、R5及R6係分別獨立地表示碳數1至5之烷基或碳數1至5之烷氧基。
若依據含有上述式(I)所示之矽烷化合物(B)的黏著劑層20，則與使用其他之矽烷化合物時相比，可提高附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性及 耐久性，而且，藉此可提高黏著劑層20與金屬層30和玻璃基板等之密著性。亦可使用2種以上之矽烷化合物(B)。
可構成上述式(I)中之A的碳數1至20之烷二基的具體例，係包括：亞甲基、1,2-乙烷二基、1,3-丙烷二基、1,4-丁烷二基、1,5-戊烷二基、1,6-己烷二基、1,7-庚烷二基、1,8-辛烷二基、1,9-壬烷二基、1,10-癸烷二基、1,12-十二烷二基、1,14-十四烷二基、1,16-十六烷二基、1,18-十八烷二基、1,20-二十烷二基。碳數3至20之二價脂環式烴基之具體例係包括：1,3-環戊烷二基、1,4-環己烷二基。構成該烷二基及該脂環式烴基之-CH2-被-O-或-C(=O)-取代之基的具體例係包括-CH2CH2-O-CH2CH2-、-CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-、-CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-O-CH2CH2-、-CH2CH2-C(=O)-O-CH2CH2-、-CH2CH2-O-CH2CH2-C(=O)-O-CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2-O-CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2-O-CH2CH2CH2CH2-。
可構成上述式(I)中之R1、R2、R3、R4、R5及R6的碳數1至5之烷基，係可列舉：甲基、乙基、正-及異-丙基，正-、異-及第三-丁基，正-、異-及第三-戊基等之各種戊基；可構成上述式(I)中之R2、R3、R4、R5及R6的碳數1至5之烷氧基，係可列舉：甲氧基、乙氧基、正-丙氧基、異-丙氧基、正-丁氧基、異-丁氧基、第三-丁氧基，正-、異-及第三-戊氧基等各種戊氧基。該烷基及烷氧基之碳數係分別獨立，較佳係1至4，更佳係1至3，再更佳係 1或2。
將上述式(I)所示之矽烷化合物之具體例表示於以下。
雙(三甲氧基矽基)甲烷、雙(三乙氧基矽基)甲烷、雙(三丙氧基矽基)甲烷、雙(三丁氧基矽基)甲烷、雙(三戊氧基矽基)甲烷、雙(二甲氧基甲基矽基)甲烷、雙(二甲氧基乙基矽基)甲烷、雙(二甲氧基丙基矽基)甲烷、雙(二甲氧基乙基矽基)甲烷、雙(二甲氧基丙基矽基)甲烷、雙(二乙氧基甲基矽基)甲烷、雙(二丙氧基甲基矽基)甲烷、雙(甲氧基二甲基矽基)甲烷、1-(三甲基矽基)-1-(甲氧基二甲基矽基)甲烷、1-(三甲基矽基)-1-(二甲氧基甲基矽基)甲烷、1-(三甲氧基矽基)-1-(三乙氧基矽基)甲烷、雙(二甲氧基乙氧基矽基)甲烷、1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,2-雙(三乙氧基矽基)乙烷、1,2-雙(三丙氧基矽基)乙烷、1,2-雙(三丁氧基矽基)乙烷、 1,2-雙(三戊氧基矽基)乙烷、1,2-雙(二甲氧基甲基矽基)乙烷、1,2-雙(二甲氧基乙基矽基)乙烷、1,2-雙(二甲氧基丙基矽基)乙烷、1,2-雙(二乙氧基甲基矽基)乙烷、1,2-雙(二丙氧基甲基矽基)乙烷、1,2-雙(甲氧基二甲基矽基)乙烷、1-(三甲基矽基)-2-(甲氧基二甲基矽基)乙烷、1-(三甲基矽基)-2-(二甲氧基甲基矽基)乙烷、1-(三甲氧基矽基)-2-(三乙氧基矽基)乙烷、1,2-雙(二甲氧基乙氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,3-雙(三乙氧基矽基)丙烷、1,3-雙(三丙氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,4-雙(三乙氧基矽基)丁烷、1,4-雙(三丙氧基矽基)丁烷、1,4-雙(三丁氧基矽基)丁烷、1,4-雙(三戊氧基矽基)丁烷、1,4-雙(二甲氧基甲基矽基)丁烷、1,4-雙(二甲氧基乙基矽基)丁烷、1,4-雙(二甲氧基丙基矽基)丁烷、1,4-雙(二乙氧基甲基矽基)丁烷、1,4-雙(二丙氧基甲基矽基)丁烷、 1,4-雙(甲氧基二甲基矽基)丁烷、1-(三甲基矽基)-4-(甲氧基二甲基矽基)丁烷、1-(三甲基矽基)-4-(二甲氧基甲基矽基)丁烷、1-(三甲氧基矽基)-4-(三乙氧基矽基)丁烷、1,4-雙(二甲氧基乙氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,5-雙(三乙氧基矽基)戊烷、1,5-雙(三丙氧基矽基)戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,6-雙(三乙氧基矽基)己烷、1,6-雙(三丙氧基矽基)己烷、1,6-雙(三丁氧基矽基)己烷、1,6-雙(三戊氧基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基甲基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基乙基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基丙基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基乙基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基丙基矽基)己烷、1,6-雙(二乙氧基甲基矽基)己烷、1,6-雙(二丙氧基甲基矽基)己烷、1,6-雙(甲氧基二甲基矽基)己烷、1-(三甲基矽基)-6-(甲氧基二甲基矽基)己烷、1-(三甲基矽基)-6-(二甲氧基甲基矽基)己烷、1-(三甲氧基矽基)-6-(三乙氧基矽基)己烷、 1,6-雙(二甲氧基乙氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三乙氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三丙氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三丁氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三戊氧基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基甲基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基乙基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基丙基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基乙基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基丙基矽基)辛烷、1,8-雙(二乙氧基甲基矽基)辛烷、1,8-雙(二丙氧基甲基矽基)辛烷、1,8-雙(甲氧基二甲基矽基)辛烷、1-(三甲基矽基)-8-(甲氧基二甲基矽基)辛烷、1-(三甲基矽基)-8-(二甲氧基甲基矽基)辛烷、1-(三甲氧基矽基)-8-(三乙氧基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基乙氧基矽基)辛烷、1,10-雙(三甲氧基矽基)癸烷、1,12-雙(三甲氧基矽基)十二烷、1,14-雙(三甲氧基矽基)十四烷、1,16-雙(三甲氧基矽基)十六烷、1,18-雙(三甲氧基矽基)十八烷、1,20-雙(三甲氧基矽基)二十烷等。
其中，從附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性、黏著劑層20與金屬層30和玻璃基板等之密著性之觀點來看，矽烷化合物(B)係下述式(II)所示之矽烷化合物為較佳：
Figure 105109825-A0202-12-0039-7
(式中，R1、R3、R4、R5及R6係分別表示與上述相同之意義，R7係表示碳數1至5之烷基，m係表示1至20之整數)。可構成R7之碳數1至5的烷基之具體例係與上述相同。從與上述相同之觀點來看，矽烷化合物(B)係以m為4至20之整數的上述式(II)所示之矽烷化合物為更佳，以m為6至8之整數的上述式(II)所表之矽烷化合物為再更佳，特佳為1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,6-雙(三乙氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三乙氧基矽基)辛烷等，m為6至8之整數，OR1、R2、R3、R4、R5、R6及OR7分別獨立，碳數1至3(例如碳數1或2)之上述式(II)所示之矽烷化合物。較適宜的m之例係6或8。
黏著劑組成物係可含有上述式(I)所示之矽烷化合物(B)，同時含有1種或2種以上該矽烷化合物(B)以外之其他矽烷化合物。其他之矽烷化合物係可列舉：乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基參(2-甲氧基乙氧基)矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3- 環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙氧基二甲基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷等。
其他之矽烷化合物係可包括聚矽氧寡聚物型者。若將聚矽氧寡聚物之具體例以單體彼此間之組合的形式標示，則如下。
3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有巰基丙基之寡聚物；巰基甲基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有巰基甲基之寡聚物；3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷 共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含有3-環氧丙氧基丙基之共聚物；3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有甲基丙烯醯氧基丙基之寡聚物；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有丙烯醯氧基丙基之寡聚物；乙烯基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷- 四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含有乙烯基之寡聚物；3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含有胺基之共聚物等。
惟，從附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性、黏著劑層20與金屬層30和玻璃基板等之密著性之觀點來看，在全部矽烷化合物之合計中，上述式(I)所示之矽烷化合物(B)之含量較佳係70重量%以上，更佳係80重量%以上，再更佳係90重量%以上，特佳係黏著劑組成物係僅含有矽烷化合物(B)作為矽烷化合物。
黏著劑組成物中，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份，矽烷化合物(B)之含量通常為0.01至10重量份，較佳係0.03至5重量份，更佳係0.05至2重量份，再更佳係0.1至1重量份。若矽烷化合物(B)之含量為0.01重量份以上，則容易得到附黏著劑層之光學膜1及光學積 層體之耐金屬腐蝕性之提昇的效果及黏著劑層20與金屬層30和玻璃基板等之密著性提昇的效果。而且，若含量為10重量份以下，則可抑制來自黏著劑層20之矽烷化合物(B)之滲出。
[2-3]離子性化合物(C)
黏著劑組成物係含有離子性化合物(C)。藉由含有離子性化合物(C)，可賦予黏著劑層20抗靜電能力。以往，係有將含有離子性化合物之黏著劑層20積層於金屬層30上，則在高溫高濕環境金屬層30會腐蝕之情形，惟若依據本發明，可提供一種可抑制該腐蝕之附黏著劑層之光學膜1及光學積層體。離子性化合物(C)係以陽離子及陰離子所構成之化合物。陽離子可為有機陽離子、無機陽離子之任一者，陰離子可為有機陰離子、無機陰離子之任一者。黏著劑組成物係可含有1種或2種以上之離子性化合物(C)。
有機陽離子之具體例係包括：吡啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、四氫吡啶陽離子、二氫吡啶陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子、銨陽離子、鋶陽離子、鏻陽離子等。有機陽離子可具有取代基。無機陽離子之具體例係包括：鋰陽離子[Li+]、鈉陽離子[Na+]、鉀陽離子[K+]、銫陽離子[Cs+]等鹼金屬離子；鈹陽離子[Be2+]、鎂陽離子[Mg2+]、鈣陽離子[Ca2+]等鹼土族金屬離子等。
其中，從與(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之相溶 性之觀點來看，陽離子係以有機陽離子為較佳；從抗靜電性能之觀點來看，陽離子係以吡啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、四氫吡啶陽離子、二氫吡啶陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子、銨陽離子等含有氮原子之有機陽離子(亦可具有取代基。)為更佳，以具有包含不飽和鍵之含氮原子的雜環構造之陽離子為再更佳。
屬具有包含不飽和鍵之含氮原子的雜環構造之陽離子的1種，亦可具有取代基之吡啶鎓陽離子的較適宜之具體例，係下述式(III)所示之吡啶鎓陽離子：
Figure 105109825-A0202-12-0044-8
上述式(III)中，R8至R13係分別獨立地表示氫原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之烯基、可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳香基、可具有取代基之雜環基、羥基、醚基、羧基、羰基或鹵素原子，亦可以互為相隣之取代基形成環。
可具有取代基之烷基，係以碳數1至30之烷基為較佳，其具體例包括例如：甲基、乙基、丙基、丁基、己基、辛基、癸基、十二碳基、十八碳基、異丙基、異丁基、第二-丁基、第三-丁基、1-乙基戊基、環戊基、 環己基、三氟甲基、2-乙基己基、苯甲醯甲基、1-萘甲醯基甲基、2-萘甲醯基甲基、4-甲基硫基苯甲醯甲基、4-苯基硫基苯甲醯甲基、4-二甲基胺基苯甲醯甲基、4-氰基苯甲醯甲基4-甲基苯甲醯甲基、2-甲基苯甲醯甲基、3-氟苯甲醯甲基、3-三氟甲基苯甲醯甲基、3-硝基苯甲醯甲基。
可具有取代基之烯基係以碳數2至10之烯基為較佳，其具體例係例如包括：乙烯基、烯丙基、苯乙烯基。可具有取代基之炔基係以碳數2至10之炔基為較佳，其具體例係包括例如：乙炔基、丙炔基、炔丙基。
可具有取代基之芳香基係以碳數6至30芳香基為較佳，其具體例係包括例如：苯基、聯苯基、1-萘基、2-萘基、9-蒽基、9-菲基、1-芘基、5-稠四苯基、1-茚基、2-薁基、9-茀基、聯三苯基、聯四苯基，鄰-、間-及對-甲苯基，二甲苯基，鄰-、間-及對-異丙苯基，2,4,6-三甲苯基(mesityl)、並環戊二烯基、聯萘基、聯三萘基、聯四萘基、並環庚三烯基、伸聯苯基、二環戊二烯並苯基、熒蒽基、苊基、乙烯合蒽基、丙烯合萘基、茀基、蒽基、聯蒽基、聯三蒽基、聯四蒽基、蒽醌基、菲基、聯三伸苯基、芘基、稠二萘基、稠四苯基、七曜烯基、苉基、苝基、五苯基、五苉基、聯四伸苯基、異稠六苯基、稠六苯基、茹基、蔻基、聯三伸萘基、異稠七苯基、稠七苯基、苒基、莪基。
可具有取代基之雜環基係以含有氮原子、氧原子、硫原子、磷原子之芳香族或脂肪族之雜環為佳， 其具體例係例如：噻吩基、苯並[b]噻吩基、萘並[2,3-b]噻吩基、噻蒽基、呋喃基、哌喃基、異苯並呋喃基、苯並哌喃基、
Figure 105109825-A0202-12-0046-34
基、啡
Figure 105109825-A0202-12-0046-35
噻基、2H-吡咯基、吡咯基、咪唑基、吡唑基、吡啶基、吡
Figure 105109825-A0202-12-0046-36
基、嘧啶基、嗒
Figure 105109825-A0202-12-0046-37
基、吲
Figure 105109825-A0202-12-0046-54
基、異吲哚基、3H-吲哚基、吲哚基、1H-吲唑基、嘌呤基、4H-喹
Figure 105109825-A0202-12-0046-39
基、異喹啉基、喹啉基、呔
Figure 105109825-A0202-12-0046-40
基、
Figure 105109825-A0202-12-0046-41
啶基、喹
Figure 105109825-A0202-12-0046-42
啉基、喹唑啉基、
Figure 105109825-A0202-12-0046-55
啉基、喋啶基、4aH-咔唑基、咔唑基、β-咔啉基、啡啶基、吖啶基、
Figure 105109825-A0202-12-0046-56
啶基(perimidinyl)、啡啉基、啡
Figure 105109825-A0202-12-0046-45
基、啡呻
Figure 105109825-A0202-12-0046-46
基、異噻唑基、啡噻
Figure 105109825-A0202-12-0046-47
基、異
Figure 105109825-A0202-12-0046-57
唑基、呋吖基、啡
Figure 105109825-A0202-12-0046-58
基、異
Figure 105109825-A0202-12-0046-50
基、
Figure 105109825-A0202-12-0046-59
基、吡咯啶基、吡咯啉基、咪唑啶基、咪唑啉基、吡唑啶基、吡唑啉基、哌啶基、哌
Figure 105109825-A0202-12-0046-52
基、吲哚啉基、異吲哚啉基、
Figure 105109825-A0202-12-0046-53
啶基、嗎啉基、氧硫雜蒽酮基(thioxanthryl)。
上述可具有取代基之烷基、可具有取代基之烯基、可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳香基及可將可具有取代基之雜環基的氫原子取代之取代基的具體例，係包括例如：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等鹵素原子；甲氧基、乙氧基、第三-丁氧基等烷氧基；苯氧基、對-甲苯基氧基等芳香基氧基，甲氧基羰基、丁氧基羰基、苯氧基羰基、乙烯基氧羰基、芳香基氧羰基等烷氧基羰基；乙醯氧基、丙醯氧基、苯甲醯基氧基等醯氧基；乙醯基、苯甲醯基、異丁醯基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基、甲氧草醯基等醯基；甲基硫基、第三-丁基硫基等烷基硫基；苯基硫基、對甲苯基硫基等芳香基硫基基；甲基胺基、環己基 胺基等烷基胺基；二甲基胺基、二乙基胺基、嗎啉基、哌啶基等二烷基胺基；苯基胺基、對甲苯基胺基等芳香基胺基；甲基、乙基、第三-丁基、十二碳基等烷基；苯基、對甲苯基、二甲苯基、異丙苯基、萘基、蒽基、菲基等芳香基；羥基、羧基、磺醯胺基、甲醯基、巰基、磺基、2,4,6-三甲苯基、對甲苯磺醯基、胺基、硝基、亞硝基、氰基、三氟甲基、三氯甲基、三甲基矽基、氧膦基(phosphinyl)、膦醯基、烷基磺醯基、芳香基磺醯基、三烷基銨基、二甲基鋶基(dimethyl sulfoniumyl)、三苯基苯甲醯甲基鏻基。
以上述式(III)所示之吡啶鎓陽離子，較佳係N-取代吡啶鎓陽離子。此時，R8較佳係可具有取代基之烷基，更佳係碳數1至20之直鏈狀、分枝狀或環狀之烷基。碳數較佳係1至16。R9至R13係分別獨立，較佳係氫原子、碳數1至20之直鏈狀、分枝或環狀之烷基、羥基、或鹵素原子，更佳係氫原子或碳數1至20之直鏈狀的烷基。
可構成離子性化合物(C)之無機陰離子的具體例係包括：氯陰離子[Cl-]、溴陰離子[Br-]、碘陰離子[I-]、四氯化鋁酸陰離子[AlCl4 -]、七氯化二鋁酸陰離子[Al2Cl7 -]、四氟化硼酸陰離子[BF4 -]、六氟化磷酸陰離子[PF6 -]、過氯酸陰離子[ClO4 -]、硝酸陰離子[NO3 -]、六氟化砷酸陰離子[AsF6 -]、六氟化銻酸陰離子[SbF6 -]、六氟化鈮酸陰離子[NbF6 -]、六氟化鉭酸陰離子[TaF6 -]、雙(氟亞磺醯基)亞胺陰離子[(FSO2)2N-]、氟化(聚)氫氟酸陰離子[F(HF)n -](n係1至3左右)等。
可構成離子性化合物(C)之有機陰離子的具體例係包括：乙酸酯陰離子[CH3COO-]、三氟乙酸酯陰離子[CF3COO-]、甲烷磺酸酯陰離子[CH3SO3 -]、三氟甲烷磺酸酯陰離子[CF3SO3 -]、對-甲苯磺酸酯陰離子[p-CH3C6H4SO3 -]、雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]、參(三氟甲烷磺醯基)甲基體陰離子[(CF3SO2)3C-]、二甲基亞膦酸鹽陰離子[(CH3)2POO-]、硫氰酸陰離子[SCN-]、全氟丁烷磺酸酯陰離子[C4F9SO3 -]、雙(五氟乙烷磺醯基)亞胺陰離子[(C2F5SO2)2N-]、全氟丁酸酯陰離子[C3F7COO-]、(三氟甲烷磺醯基)(三氟甲烷羰基)亞胺陰離子[(CF3SO2)(CF3CO)N-]、全氟丙烷-1,3-二磺酸酯陰離子[-O3S(CF2)3SO3 -]、碳酸酯陰離子[CO3 2-]、四芳香基硼酸酯陰離子(例如肆(五氟苯基)硼酸酯陰離子等)、二氰胺陰離子[(CN)2N-]及下述式(IV)所示之亞胺陰離子：
Figure 105109825-A0202-12-0048-9
等。
其中，含有氟原子之陰離子係有易得到抗靜電性能優異之離子性化合物(C)的傾向，為較佳。尤其，使用陰離子為雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺陰離子、雙(氟磺醯基)亞胺陰離子、上述式(IV)所示之亞胺陰離子或肆(五氟苯基)硼酸鹽陰離子之離子性化合物(C)，對於附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之抗靜電性能、耐金屬腐蝕性及光 學耐久性的提昇為有利。
從抗靜電性能、耐金屬腐蝕性及光學耐久性之觀點來看，離子性化合物(C)之適當例係列舉如下。
1)陽離子為下述式(III)所示之吡啶鎓陽離子，陰離子為選自上述群中之任一者的陰離子之離子性化合物：
Figure 105109825-A0202-12-0049-10
(式中，較佳為R8係碳數1至16之直鏈狀、分枝狀或環狀之烷基，R9至R13係分別獨立地為氫原子或碳數1至20之直鏈狀的烷基)。
2)陽離子為鋰陽離子[Li+]、鈉陽離子[Na+]、鉀陽離子[K+]等無機陽離子，陰離子為選自上述群之任一陰離子之離子性化合物。
黏著劑組成物中，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份之離子性化合物(C)的含量較佳係0.1至10重量份，更佳係0.2至8重量份，再更佳係0.3至5重量份，特佳係0.5至3重量份。當離子性化合物(C)之含量為0.1重量份以上，係有利於抗靜電性能之提昇，當為10重量份以下，係有利於附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性及耐久性。
[2-4]異氰酸酯系交聯劑(D)
黏著劑組成物係以含有異氰酸酯系交聯劑(D)為較佳。藉由使用異氰酸酯系交聯劑(D)作為交聯劑，可提高附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性及耐久性。異氰酸酯系交聯劑(D)係可僅單獨使用1種，亦可併用2種以上。
異氰酸酯系交聯劑(D)係於分子內具有至少2個異氰酸基(-NCO)之化合物，具體上係可列舉：甲伸苯基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、伸苯二甲基二異氰酸酯、氫化伸苯二甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等。而且，異氰酸酯系交聯劑(D)亦可為此等異氰酸酯化合物之多元醇化合物加成物(例如甘油和三羥甲基丙烷之加成物)、三聚異氰酸酯化合物、縮二脲型化合物，進一步經與聚醚基多元醇和聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等加成反應之胺基甲酸酯預聚物型的異氰酸酯化合物等衍生物。上述之中，特佳係甲伸苯基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、伸苯二甲基二異氰酸酯或其等之異氰酸酯化合物的多元醇化合物加成物，從附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐久性的觀點來看，以伸苯二甲基二異氰酸酯或其多元醇化合物加成物為更佳。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份之異氰酸酯系交聯劑(D)之含量較佳係0.08至2.5重量份，更佳係0.1至2重量份(例如1重量份以下)。異氰酸酯系交 聯劑(D)之含量在此範圍時，在附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性及耐久性的兼顧方面係屬有利。
黏著劑組成物係可將異氰酸酯系交聯劑(D)以及異氰酸酯系交聯劑(D)以外之交聯劑併用，例如可併用環氧化合物、氮丙啶化合物、金屬螯合物化合物、過氧化物等，惟從附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性及耐久性觀點來看，黏著劑組成物係以只含有異氰酸酯系交聯劑(D)作為交聯劑，特別是以實質上不含過氧化物為較佳。此處，實質上不含係指相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份之含量為0.01重量份以下。
[2-5]其他之成分
黏著劑組成物係可含有1種或2種以上之溶劑、交聯觸媒、紫外線吸收劑、耐候安定劑、賦黏劑、塑化劑、軟化劑、染料、顏料、無機填充劑、光散射性微粒子等添加劑。此外，於黏著劑組成物中調配紫外線硬化性化合物，形成黏著劑層之後照射紫外線而使其硬化，亦有用於形成更硬之黏著劑層。交聯觸媒係可舉例如：六亞甲基二胺、乙二胺、聚乙烯基亞胺、六亞甲基四胺、二乙三胺、三乙四胺、異佛酮二胺、三亞甲基二胺、聚胺基樹脂及三聚氰胺樹脂等胺系化合物。
黏著劑組成物係可含有能夠提高附黏著劑層之光學膜1及光學積層體之耐金屬腐蝕性的防鏽劑。防錆劑可列舉：苯並三唑系化合物、其他之三唑系化合物等三唑系化合物；苯並噻唑系化合物、其他之噻唑系化合物 等噻唑系化合物；苯甲基咪唑系化合物、其他之咪唑系化合物等咪唑系化合物；咪唑啉系化合物；喹啉系化合物；吡啶系化合物；嘧啶系化合物；吲哚系化合物；胺系化合物；脲系化合物；鈉苯甲酸酯；苯甲基巰系化合物；二-第二-丁基硫醚；及二苯基亞碸。
惟，若依據本發明，即使不含防鏽劑，亦可得到充分之耐金屬腐蝕性，故防鏽劑之含量係以儘量小為較佳。尤其，黏著劑組成物係以實質上不含有作為防鏽劑之三唑系化合物為較佳，以實質上不含有選自上述化合物群之防鏽劑為更佳。此處實質上不含有，係指相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份之含量為0.01重量份以下。
[3]金屬層及基板
金屬層30可為由例如包含1種以上的金屬之層，該金屬之層的金屬係由鋁、銅、銀、金、鐵、錫、鋅、鎳、鉬、鉻、鎢、鉛及含有選自此等之2種以上之金屬的合金所成之群中選出的1種以上；從導電性之觀點來看，較佳係包含由鋁、銅、銀及金所成之群中選出的金屬元素之層；從導電性及成本之觀點來看，更佳係包含鋁元素之層，再更佳係包含鋁元素作為主成分之層。含有作為主成分，係指構成金屬層30之金屬成分為總金屬成分之30重量%以上，進一步係50重量%以上。
金屬層30係可為例如ITO等金屬氧化物層，惟本發明之附黏著劑層之光學膜1特別係對於金屬單體和合金之耐腐蝕性為良好，故金屬層30係以包含由上述 金屬元素所成之金屬單體及/或含有2種以上上述金屬元素之合金為較佳。惟，光學積層體亦可一併具有如此之金屬層30以及包含ITO等金屬氧化物之透明電極層。
金屬層30之形態(例如厚度等)和調製方法並無特別限定，除了可為金屬箔之外，亦可為藉由真空蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍覆法、噴墨印刷法、凹版印刷法所形成者，而較佳係藉由濺鍍法、噴墨印刷法、凹版印刷法所形成之金屬層，更佳係藉由濺鍍所形成之金屬層。就藉由濺鍍所形成之金屬層及金屬箔而言，前者雖有耐腐蝕性差之傾向，惟若依據本發明之光學積層體，則即使是對於藉由濺鍍所形成之金屬層，亦具有良好之耐金屬腐蝕性。金屬層30之厚度通常為3μm以下，較佳係1μm以下，更佳係0.8μm以下。而且，金屬層30之厚度通常為0.01μm以上。更且，金屬層30為金屬配線層時，其金屬配線層所具有之金屬配線的線寬通常為10μm以下，較佳係5μm以下，再更佳係3μm以下。而且，金屬配線之線寬通常為0.01μm以上，較佳係0.1μm以上，再更佳係0.5μm以上。即使是對於如此之薄膜的金屬層30和細線之金屬配線所構成之金屬層30，本發明之光學積層體亦顯示良好之耐金屬腐蝕性。尤其，金屬配線在例如為厚度3μm以下、線寬為10μm以下時，和厚度為3μm以下、線寬為10μm以下，藉由濺鍍法而形成時，亦可抑制其腐蝕，特別是可抑制孔蝕。
金屬層30係例如可為觸控輸入式液晶顯示 裝置所具有之觸控輸入元件的金屬配線層(亦即電極層)。此時，金屬層30一般係圖型化為預定之形狀。於被圖型化之金屬層30上積層黏著劑層20時，黏著劑20亦可具有未接觸金屬層30之部分。金屬層30亦可為包含上述金屬或合金之連續膜。
而且，金屬層30可為單層構造，亦可為2層或3層以上之多層構造。多層構造之金屬層係可舉例如以鉬/鋁/鉬表示之3層構造的含金屬的層(金屬網目等)。
如第1圖所示，例如金屬配線層之金屬層30通常形成於基板40上，此時，本發明之光學積層體係包含此基板40。於基板40上之金屬層30的形成，係可藉由例如濺鍍來進行。基板40係可為構成觸控輸入元件所含之液晶單元的透明基板。基板40較佳係玻璃基板。玻璃基板之材料可舉例如：鈉鈣玻璃、低鹼玻璃、無鹼玻璃等。金屬層30可形成於基板40整面，亦可形成於基板40之一部分。在基板40上形成圖型化之金屬層30時等於基板40之表面的一部分形成金屬層30時，黏著劑層20之一部分係例如與玻璃所構成之基板40直接接觸，而本發明之光學積層體之黏著劑層20與玻璃之密著性亦優異，故光學積層體及具備光學積層體之液晶顯示裝置在如此之情形下的耐久性亦優異。
[4]光學積層體之構成及製造方法
在1實施形態中，本發明之光學積層體係如第4圖及第5圖所示，包含附黏著劑層之光學膜1及積層於其黏著 劑層20側之金屬層30。於第4圖及第5圖所示之光學積層體5、6中，附黏著劑層之光學膜1係以其黏著劑層20直接接於金屬層30之方式積層於金屬層30上。若依據本發明，即使在為如此之黏著劑層20直接接於金屬層30之構成的光學積層體中，亦可有效地抑制金屬層30之腐蝕。
第6圖係表示本發明之光學積層體的層構成之另一例的概略剖面圖。另一實施形態中，本發明之光學積層體係如第6圖所示之光學積層體7，附黏著劑層之光學膜1之黏著劑層20係經由樹脂層50而積層於金屬層30。黏著劑層20係直接接於樹脂層50。即使在如此之光學積層體7中，亦可有效地抑制金屬層30之腐蝕。配置於黏著劑層20及金屬層30之間的樹脂層50，係例如可為硬化性樹脂之硬化物層。可形成樹脂層50之硬化性樹脂係可使用公知者，可舉例如日本特開2009-217037號公報所記載者。
如上所述，金屬層30可為金屬配線層。將金屬層30為金屬配線層時之一例表示於第7圖。第7圖所示之光學積層體中，亦可省略樹脂層50。
光學積層體，係例如可藉由將包含光學膜10及積層於其至少一面上之黏著劑層20的附黏著劑層之光學膜1經由該黏著劑層20貼合在形成於基板40上之金屬層30上而製作。
如上所述，附黏著劑層之光學膜1係包含光學膜10及積層於其至少一面之黏著劑層20(第1圖)。亦可 於光學膜10之雙面積層黏著劑層20。通常，黏著劑層20係直接積層於光學膜10之表面。將黏著劑層20設於光學膜10之表面時，較佳係於光學膜10之貼合面及/或黏著劑層20之貼合面形成底塗層之和施予表面活性化處理，例如施予電漿處理、電暈處理等，以實施電暈處理為更佳。
光學膜10為第2圖所示之單面保護偏光板時，通常係在偏光片面、亦即在與偏光片2之第1樹脂膜3為相反側之面，較佳係直接積層黏著劑層20。光學膜10為第3圖所示之雙面保護偏光板時，可在第1、第2樹脂膜3、4之任一者的外面積層黏著劑層20，亦可於兩者之外面積層黏著劑層20。
於光學膜10及黏著劑層20之間係可另外設置抗靜電層，惟因為本發明之黏著劑層20係單以黏著劑層即可賦予優異之抗靜電性，故就光學積層體之薄膜化和積層體製作步驟之簡單化之點而言，以於光學膜10及黏著劑層20之間不具有抗靜電層為較佳。
附黏著劑層之光學膜1係亦可含有積層於黏著劑層20之外面的分離膜(剝離膜)。此分離膜通常係於使用黏著劑層20時(例如積層於金屬層30上時)被剝離去除。分離膜係例如可惟在包含聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚碳酸酯、聚芳酯等各種樹脂之膜的形成黏著劑層20之面經施予聚矽氧處理等離型處理者。
附黏著劑層之光學膜1可係藉由將構成上述黏著劑組成物之各成分溶解或分散於溶劑而形成含有溶 劑之黏著劑組成物，然後，將其塗佈於光學膜10之表面並乾燥而形成黏著劑層20來製得。而且，附黏著劑層之光學膜1亦可係藉由於分離膜之離型處理面以與上述相同之方式形成黏著劑層20，使此黏著劑層20積層(轉印)於光學膜10之表面而製得。
藉由於金屬層30(或上述樹脂層)上將附黏著劑層之光學膜1經由其黏著劑層20貼合，可得到光學積層體。貼合附黏著劑層之光學膜1及金屬層30而製作光學積層體後，有任何不良情形時，會有需進行將附黏著劑層之光學膜1從金屬層30剝離，再將另外之附黏著劑層之光學膜1重新貼合於金屬層30之所謂重工作業之情形。本發明之光學積層體在將附黏著劑層之光學膜1從金屬層30剝離後的金屬層30之表面不易產生霧化、殘膠等，係重工性優異。若依據本發明之光學積層體，在貼合黏著劑層20之表面並非金屬層30而係玻璃基板、ITO層時，亦可顯示良好的重工性。
<液晶顯示裝置>
本發明之液晶顯示裝置係含有上述本發明之光學積層體者。本發明之液晶顯示裝置係可抑制金屬層30之腐蝕，而且顯示良好的耐久性。
本發明之液晶顯示裝置較佳係具有觸控面板功能之觸控輸入式液晶顯示裝置。觸控輸入式液晶顯示裝置係具備含有液晶單元之觸控輸入元件及背光。觸控面板之構成係可為外掛式(out cell)型、on-cell內嵌()型、 in-cell內嵌式型等以往公知之任一方式，而且，觸控面板之運作方式可為電阻膜式、靜電容量式(表面型靜電容量式、投射型靜電容量式)等以往公知之任何方式。本發明之光學積層體係可配置於觸控輸入元件(液晶單元)之視認側，也可配置於背光側，亦可配置於兩方。液晶單元之驅動方式係可為TN方式、VA方式、IPS方式、多域(multidomain)方式、OCB方式等以往公知之任何方式。本發明之液晶顯示裝置中，光學積層體所具有之基板40可為上述液晶單元所含之基板(典型為玻璃基板)。
(實施例)
以下，例示實施例及比較例以進一步具體說明本發明，惟本發明不限定於此等例。以下，只要無特別聲明，表示使用量、含量之份及%即為重量基準。
<製造例1：黏著劑層用(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)之製造>
於具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機之反應容器中，加入將表1所示之組成(表1之數值為重量份)之單體與乙酸乙酯81.8份混合所得到之溶液。將反應容器內之空氣以氮氣取代後，使內溫為60℃。其後，添加將偶氮雙異丁腈0.12份溶解於乙酸乙酯10份中之溶液。以相同溫度保持1小時後，將內溫保持於54至56℃，同時並以添加速度17.3份/小時將乙酸乙酯以聚合物之濃度成為約35%之方式連續地加入於反應容器內。從乙酸乙酯之添加開始至經過12小時為止將內溫保持於54至56℃，之後， 加入乙酸乙酯並以聚合物之濃度成為20%之方式進行調整，得到(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)之乙酸乙酯溶液。(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)之重量平均分子量Mw係139萬，重量平均分子量Mw與數量平均分子量Mn之比Mw/Mn為5.32。凝膠滲透色層分析(GPC)之排出曲線中，Mw139萬之成分係表示單一之譜峰，於Mw1000至250萬之範圍未確認到其他之譜峰。
<製造例2：黏著劑層用(甲基)丙烯酸系樹脂(A-2)之製造>
除了單體之組成係設為如表1所示以外，以與製造例1相同方式，製得(甲基)丙烯酸系樹脂(A-2)之乙酸乙酯溶液(樹脂濃度：20%)。(甲基)丙烯酸系樹脂(A-2)之重量平均分子量Mw為141萬，Mw/Mn為4.71。GPC之排出曲線中，Mw141萬之成分係顯示單一之譜峰，Mw1000至250萬之範圍中，未確認到其他之譜峰。
上述之製造例中，重量平均分子量Mw及數量平均分子量Mn，係於GPC裝置將東曹股份有限公司製之「TSKgel XL」4根及昭和電工股份有限公司製之「Shodex GPC KF-802」1根之共計5根串聯連接配置作為管柱，使用四氫呋喃作為溶析液，以試料濃度5mg/mL、試料導入量100μL、溫度40℃、流速1mL/分鐘之條件，藉由標準聚苯乙烯換算來測定。得到GPC之排出曲線時之條件亦與此相同。
玻璃轉移溫度Tg係使用SII Nanotechnology 股份有限公司製之示差掃描熱量計(DSC)「EXSTAR DSC6000」，在氮氣環境下、以測定溫度範圍-80至50℃、昇溫速度10℃/分鐘之條件測定。
將各製造例中之單體之組成(表1之數值為重量份)及於GPC之排出曲線上之Mw1000至250萬之範圍之譜峰數(表1中標示為「GPC譜峰數」)彙整於表1。
Figure 105109825-A0202-12-0060-11
於表1之「單體組成」之欄中的簡稱係意指如下之單體。
BA：丙烯酸丁酯(均聚物之玻璃轉移溫度：-54℃)、MA：丙烯酸甲酯(均聚物之玻璃轉移溫度：10℃)、HEA：丙烯酸2-羥基乙酯。
<實施例1至8、比較例1至7>
(1)黏著劑組成物之調製
於上述製造例所得到之(甲基)丙烯酸系樹脂之乙酸乙酯溶液(樹脂濃度：20%)中，相對於該溶液之固形分100份，將表2所示之矽烷化合物(B)、離子性化合物(C)及異 氰酸酯系交聯劑(D)分別以表2所示之量(重量份)混合，再以固形分濃度成為14%之方式添加乙酸乙酯而製得黏著劑組成物。表2所示之各調配成分之調配量在所使用之商品含有溶劑等時，係該商品所含之有效成分之重量份數。
Figure 105109825-A0202-12-0061-12
表2中以簡稱所示之各調配成分之詳細內 容係如後述。
(矽烷化合物)
B-1：下述式所示之矽烷化合物：
Figure 105109825-A0202-12-0062-13
 B-2：下述式所示之矽烷化合物：
Figure 105109825-A0202-12-0062-14
 B-3：3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷，由信越化學工業股份有限公司取得之商品名「KBM403」。
(離子性化合物)
C-1：下述式所示之離子性化合物：
Figure 105109825-A0202-12-0062-15
 C-2：下述式所示之離子性化合物：
Figure 105109825-A0202-12-0063-16
 C-3：鋰 雙(三氟甲烷磺醯基)亞胺、C-4：鉀 雙(氟磺醯基)亞胺、C-5：N-癸基吡啶鎓 雙(氟磺醯基)亞胺、C-6：N-甲基吡啶鎓 肆(五氟苯基)硼酸鹽、C-7：N-癸基吡啶鎓 肆(五氟苯基)硼酸鹽。
(異氰酸酯系交聯劑)
D-1：伸苯二甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物之乙酸乙酯溶液(固形分濃度75%)，由三井化學股份有限公司取得之商品名「Takenate D-110N」。
(2)黏著劑層之製作
使用塗佈器，將上述(1)所調製之各黏著劑組成物以乾燥後之厚度成為20μm之方式使用塗佈器，塗佈於經施予離型處理之包含聚對苯二甲酸乙二酯膜之分離膜[由Lintec股份有限公司取得之商品名「PLR-382051」]之離型處理面，，以100℃乾燥1分鐘而製作黏著劑層(黏著劑片)。
(3)附黏著劑層之光學膜(P-1)之製作
將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%、厚度60μm之聚乙烯醇膜[Kuraray股份有限公司製之商品名「Kuraray Vinylon VF-PE#6000」]浸漬於37℃之純水後， 以30℃浸漬於含有碘及碘化鉀之水溶液(碘/碘化鉀/水(重量比)=0.04/1.5/100)。其後，以56.5℃浸漬於含有碘化鉀及硼酸之水溶液(碘化鉀/硼酸/水(重量比)=12/3.6/100)。將膜以10℃之純水洗淨後，以85℃乾燥，得到於聚乙烯醇吸附定向有碘之厚度約23μm之偏光片。延伸主要係於碘染色及硼酸處理之步驟進行，整體之延伸倍率為5.3倍。
於所得到之偏光片之單面經由包含聚乙烯醇系樹脂之水溶液的接著劑貼合厚度25μm之包含三乙醯基纖維素膜之透明保護膜[Konica Minolta Opto股份有限公司製之商品名「KC2UA」]。繼而，於上述偏光片之與三乙醯基纖維素膜為相反側之面，經由包含聚乙烯醇系樹脂之水溶液的接著劑而貼合厚度23μm之包含環狀聚烯烴系樹脂的零相位差膜[日本Zeon股份有限公司製之商品名「ZEONOR」]，製作偏光板。繼而，於零相位差膜之與接於偏光片之面為相反側的面施予用以提升密著性之電暈放電處理後，藉由層合機貼合與上述(2)製作之黏著劑層的分離膜為相反側之面(黏著劑層面)後，以溫度23℃、相對濕度65%之條件熟成7日，製得附黏著劑層之光學膜(P-1)。
(4)附黏著劑層之光學膜(P-2)之製作
將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%、厚度30μm之聚乙烯醇膜[Kuraray股份有限公司製之商品名「Kuraray Vinylon VF-PE#3000」]浸漬於37℃之純水後，以30℃浸漬於含有碘及碘化鉀之水溶液(碘/碘化鉀/水(重量比)=0.04/1.5/100)。其後，以56.5℃浸漬於含有碘化鉀 及硼酸之水溶液(碘化鉀/硼酸/水(重量比)=12/3.6/100)。將膜以10℃之純水洗淨後，以85℃乾燥，得到於聚乙烯醇吸附定向有碘之厚度約12μm之偏光片。延伸主要係於碘染色及硼酸處理之步驟進行，整體之延伸倍率為5.3倍。
於所得到之偏光片之單面經由包含聚乙烯醇系樹脂之水溶液之接著劑而貼合厚度25μm之包含三乙醯基纖維素膜之透明保護膜[Konica Minolta Opto股份有限公司製之商品名「KC2UA」]而製作偏光板。繼而，於偏光片之與貼合有保護膜之面為相反之面，藉由層合機貼合與上述(2)所製作之黏著劑層的分離膜為相反側之面(黏著劑層面)後，以溫度23℃、相對濕度65%之條件熟成7日，製得附黏著劑層之光學膜(P-2)。
(5)附黏著劑層之光學膜之耐金屬腐蝕性評估
將上述(3)所製作之附黏著劑層之光學膜(P-1)裁切為20mm×50mm之大小的試驗片，經由黏著劑層而貼附於附金屬層之玻璃基板的金屬層側。附金屬層之玻璃基板，係使用於無鹼玻璃表面藉由濺鍍而積層有厚度約500nm之金屬鋁層的玻璃基板(Geomatec公司製)。將所得到之光學積層體於溫度60℃、相對濕度90%之烘箱中保管500小時後，從玻璃基板之背面照射光線，而從偏光板表面經由放大鏡觀察貼附有附黏著劑層之光學膜的部分之金屬層之狀態，對於孔蝕(直徑0.1mm以上之可穿透光之孔的產生)係以如下之基準評估。結果係表示於表3。
5：於金屬層表面完全看不到孔蝕及白濁、4：於金屬層表面產生之孔蝕之數量為2個以下、3：於金屬層表面產生之孔蝕之數量為3個至5個、2：於金屬層表面產生之孔蝕之數量為6個以上、1：於金屬層表面之整面產生多數個孔蝕，且亦產生白濁。
(6)附黏著劑層之光學膜之耐久性評估
將上述(3)所製作之附黏著劑層之光學膜(P-1)以偏光板之延伸軸方向成為長邊之方式，裁切成200mm×150mm之大小，剝離分離膜，將所露出之黏著劑層面貼合於玻璃基板。將所得到之貼附有玻璃基板之試驗片(貼附有玻璃基板之附黏著劑層的光學膜)於高壓釜中以溫度50℃、壓力5kg/cm2(490.3kPa)加壓20分鐘。玻璃基板係使用康寧公司製之無鹼玻璃，商品名「Eagle XG」。對於所得到之光學積層體，實施下列之3種耐久性試驗。
[耐久性試驗]
‧於溫度85℃之乾燥條件下保持750小時之耐熱試驗，‧於溫度60℃、相對濕度90%之環境下保持750小時之耐濕熱試驗，‧以「於溫度85℃之乾燥條件下保持30分鐘，然後，於溫度-40℃之乾燥條件下保持30分鐘」之操作作為1循環，將該循環重複400個循環之耐熱衝擊(HS)試驗。
目視觀察各試驗後之光學積層體，以目視觀察黏著劑層有無浮起、剝離、發泡等外觀變化，依據下述之評估基準評估耐久性。將結果表示於表3。
4：完全看不到浮起、剝離、發泡等外觀變化，3：幾乎看不到浮起、剝離、發泡等外觀變化，2：浮起、剝離、發泡等外觀變化係略醒目，1：明顯確認到浮起、剝離、發泡等外觀變化。
(7)附黏著劑層之光學膜之重工性評估
將上述(3)所製作之附黏著劑層之光學膜(P-1)裁切成25mm×150mm之大小的試驗片。從試驗片剝離分離膜，將其黏著劑面貼附於玻璃基板。將所得到之貼附有玻璃基板之試驗片(貼附有玻璃基板之附黏著劑層的光學膜)於高壓釜中以溫度50℃、壓力5kg/cm2(490.3k Pa)加壓20分鐘。然後，於50℃之烘箱中保管48小時，進一步在溫度23℃、相對濕度50%之環境中，從試驗片將光學膜與黏著劑層一起以300mm/分鐘之速度朝180°方向剝離。觀察剝離後之玻璃基板表面之狀態，以下列之基準進行評估。結果係表示於表3。
4：於玻璃基板之表面完全未確認到霧化等，3：於玻璃基板之表面幾乎未確認到霧化等，2：於玻璃基板之表面可確認到霧化等、1：於玻璃基板之表面可確認到黏著劑層之殘留。
(8)附黏著劑層之光學膜之褪色性評估
將上述(4)所製作之附黏著劑層之光學膜(P-2)裁切成30mm×30mm之大小並剝離分離膜，將所露出之黏著劑層面貼合於玻璃基板。玻璃基板係使用康寧公司製之無鹼玻璃商品名「Eagle XG」。對於所得到之光學積層體，使用附積分球之分光光度計[日本分光股份有限公司製之製品名「V 7100」]而測定於波長380至780nm之範圍之MD穿透率及TD穿透率，算出各波長之單體穿透率、偏光度，進一步藉由JIS Z 8701：1999「色之標示方法-XYZ表色系及X10Y10Z10表色系」之2維視野(C光源)進行光度校正，求取耐久試驗前之光度校正單體穿透率(Ty)及光度校正偏光度(Py)。又，光學積層體係以偏光板之三乙醯基纖維素膜側作為檢測側，而以光從玻璃基板側入射之方式安裝附積分球的分光光度計。
單體穿透率及偏光度係分別以下述式定義：單體穿透率(λ)=0.5×(Tp(λ)+Tc(λ))
偏光度(λ)=100×(Tp(λ)-Tc(λ))/(Tp(λ)+Tc(λ))。Tp(λ)係以入射之波長λ(nm)之直線偏光與平行偏光(parallel nicol)之關係測定的光學積層體之穿透率(%)，Tc(λ)係以入射之波長λ(nm)之直線偏光與正交偏光(crossed nicol)之關係測定的光學積層體之穿透率(%)。
然後，將該光學積層體在溫度80℃、相對濕度90%之濕熱環境下放置24小時，進一步在溫度23℃、 相對濕度60%之環境下放置24小時後，藉由與耐久試驗前相同之方法求出耐久試驗後之Ty及Py。其後，從試驗後之Py及Ty分別減去試驗前之Py及Ty，算出耐久試驗前後之變化量，求出偏光度變化量(△Py)及單體穿透率變化量(△Ty)。將△Py表示於第3表。
Figure 105109825-A0202-12-0069-17
<製造例3：黏著劑層用(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)之製造>
於具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌機之反應容器中，加入將表4所示之組成(表4之數值為重量份)之單體與乙酸乙酯81.8份混合所得到之溶液。將反應容器內之空氣以氮氣取代後，使內溫為60℃。其後，添加將偶氮雙異丁腈0.12份溶解於乙酸乙酯10份之溶液。以相同溫度保持1小時後，將內溫保持於54至56℃，同時以添加速度17.3份/小時將乙酸乙酯以聚合物之濃度成為約35%之方式連續加入於反應容器內。從乙酸乙酯之添加開始至經過12小時為止將內溫保持於54至56℃之後，加入乙酸乙酯並以聚合物之濃度成為20%之方式進行調整，製得(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)之乙酸乙酯溶液。(甲基)丙烯酸系樹脂(A-1)之重量平均分子量Mw係139萬，重量平均分子量Mw與數量平均分子量Mn之比Mw/Mn為5.32。凝膠滲透色層分析(GPC)之排出曲線中，Mw139萬之成分係顯示單一之譜峰，於Mw1000至250萬之範圍未確認到其他之譜峰。
上述之製造例中，重量平均分子量Mw及數量平均分子量Mn，係於GPC裝置將東曹股份有限公司製之「TSKgel XL」4根及昭和電工股份有限公司製之「Shodex GPC KF-802」1根之共計5根串聯連接配置作為管柱，並使用四氫呋喃作為溶析液，以試料濃度5mg/mL、試料導入量100μL、溫度40℃、流速1mL/分鐘之條件，藉由標準聚苯乙烯換算來測定。得到GPC之排出曲線時之條件亦與此相同。
玻璃轉移溫度Tg，係使用SII Nanotechnology股份有限公司製之示差掃描熱量計(DSC)「EXSTAR DSC6000」，在氮氣環境下，以測定溫度範圍-80至50℃、昇溫速度10℃/分鐘之條件進行測定。
製造例3中之單體之組成(表4之數值為重量份)及於GPC之排出曲線上之Mw1000至250萬之範圍之譜峰數(表4中標示為「GPC譜峰數」)係彙整於表4。
Figure 105109825-A0202-12-0071-18
於表4之「單體組成」一欄之簡稱，係意指下述單體。
BA：丙烯酸丁酯(均聚物之玻璃轉移溫度：-54℃)、MA：丙烯酸甲酯(均聚物之玻璃轉移溫度：10℃)、HEA：丙烯酸2-羥基乙酯。
<實施例9、比較例8>
(1)黏著劑組成物之調製
於上述製造例所得到之(甲基)丙烯酸系樹脂之乙酸乙酯溶液(樹脂濃度：20%)中，相對於該溶液之固形分100份，將表5所示之矽烷化合物(B)、離子性化合物(C)及異 氰酸酯系交聯劑(D)分別以表5所示之量(重量份)混合，並進一步以固形分濃度成為14%之方式添加乙酸乙酯，製得黏著劑組成物。當所使用之商品含有溶劑等時，表5所示之各調配成分之調配量係於其中所含之有效成分之重量份數。
Figure 105109825-A0202-12-0072-19
表5中以簡稱表示之各調調配成分的詳細內容如下。
(矽烷化合物)
B-1：下述式所示之矽烷化合物：
Figure 105109825-A0202-12-0072-20
 B-3：3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷，由信越化學工業股份有限公司取得之商品名「KBM403」。
(離子性化合物)
C-5：N-癸基吡啶鎓 雙(氟磺醯基)亞胺。
(異氰酸酯系交聯劑)
D-1：伸苯二甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物的乙酸乙酯溶液(固形分濃度75%)，由三井化學股份有限公司取得之商品名「Takenate D-110N」。
(2)黏著劑層之製作
將上述(1)所調製之各黏著劑組成物使用塗佈器，以乾燥後之厚度成為20μm之方式塗佈於經施予離型處理之包含聚對苯二甲酸乙二酯膜之分離膜[由Lintec股份有限公司取得之商品名「PLR-382051」]之離型處理面，以100℃乾燥1分鐘而製作黏著劑層(黏著劑片)。
(3)附黏著劑層之光學膜(P-1)之製作
將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%、厚度60μm之聚乙烯醇膜[Kuraray股份有限公司製之商品名「Kuraray Vinylon VF-PE#6000」]浸漬於37℃之純水後，以30℃浸漬於含有碘及碘化鉀之水溶液(碘/碘化鉀/水(重量比)=0.04/1.5/100)。其後，以56.5℃浸漬於含有碘化鉀及硼酸之水溶液(碘化鉀/硼酸/水(重量比)=12/3.6/100)。將膜以10℃之純水洗淨後，以85℃乾燥，得到於聚乙烯醇吸附定向有碘之厚度約23μm之偏光片。延伸主要係於碘染色及硼酸處理之步驟進行，整體之延伸倍率為5.3倍。
於所得到之偏光片之單面經由包含聚乙烯醇系樹脂之水溶液之接著劑貼合厚度25μm之包含三乙醯 基纖維素膜之透明保護膜[Konica Minolta Opto股份有限公司製之商品名「KC2UA」]。繼而，於上述偏光片之與三乙醯基纖維素膜為相反側之面，經由包含聚乙烯醇系樹脂之水溶液之接著劑貼合厚度23μm之包含環狀聚烯烴系樹脂之零相位差膜[日本Zeon股份有限公司製之商品名「ZEONOR」]，製作偏光板。然後，於零相位差膜之與偏光片相接之面為相反側之面，施予用以提升密著性之電暈放電處理後，藉由層合機而貼合與上述(2)製作之黏著劑層的分離膜為相反側之面(黏著劑層面)後，以溫度23℃、相對濕度65%之條件熟成7日，製得附黏著劑層之光學膜(P-1)。
(4)附黏著劑層之光學膜的耐金屬腐蝕性評估
將上述(3)所製作之附黏著劑層之光學膜(P-1)裁切成20mm×50mm之試驗片，經由黏著劑層而貼附於附金屬層之玻璃基板的金屬層側。附金屬層之玻璃基板係使用於無鹼玻璃表面藉由濺鍍而積層有厚度約500nm之銀合金(以銀為主成分，且含有鈀及銅之合金，APC)層之玻璃基板(Geomatec公司製)。將所得到之光學積層體於溫度60℃、相對濕度90%之烘箱中保管500小時後，從玻璃基板之背面照射光線而從偏光板表面經由放大鏡觀察貼附有附黏著劑層之光學膜的部分之金屬層之狀態，對於孔蝕(直徑0.1mm以上之可穿透光之孔的產生)以如下之基準評估。將結果表示於表3。
5：於金屬層表面完全看不到孔蝕及白濁、4：於金屬層表面產生之孔蝕之數量為2個以下、3：於金屬層表面產生之孔蝕之數量為3個至5個、2：於金屬層表面產生之孔蝕之數量為6個以上、1：於金屬層表面之整面產生多數個孔蝕，且亦產生白濁。
Figure 105109825-A0202-12-0075-21
Figure 105109825-A0202-11-0002-1
1‧‧‧附黏著劑層之光學膜
10‧‧‧光學膜
20‧‧‧黏著劑層
30‧‧‧金屬層
40‧‧‧基板

Claims (19)

  1. 一種光學積層體，其係依序包含光學膜、黏著劑層及金屬層，前述金屬層係僅由包含金屬元素之金屬單體及/或含有2種以上之金屬元素之合金所構成；前述黏著劑層係由包含(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、矽烷化合物(B)、離子性化合物(C)及異氰酸酯系交聯劑(D)之黏著劑組成物所構成；前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)係含有50重量%以上之源自(甲基)丙烯酸系單體之構成單元的聚合物或共聚物；前述矽烷化合物(B)係下述式(I)所示之矽烷化合物：
    Figure 105109825-A0305-02-0078-1
     式中，A係表示碳數3至20之烷二基或碳數3至20的2價脂環式烴基，構成該烷二基及該脂環式烴基之-CH2-係亦可被-O-或-C(=O)-取代，R1係表示碳數1至5之烷基，R2、R3、R4、R5及R6係分別獨立地表示碳數1至5之烷基或碳數1至5之烷氧基；前述黏著劑組成物中，相對於前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份，前述矽烷化合物(B)的含量為0.01至10重量份，前述離子性化合物(C)的含量為0.1至10 重量份，前述異氰酸酯系交聯劑(D)的含量為0.08至2.5重量份。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光學積層體，其中，前述金屬層係包含：由鋁、銅、銀、鐵、錫、鋅、鎳、鉬、鉻、鎢、鉛及包含選自該等金屬的2種以上金屬的合金所成之群中選出的1種以上。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之光學積層體，其中，前述金屬層係包含鋁元素。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之光學積層體，其中，前述金屬層係藉由濺鍍所形成之層。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之光學積層體，其中，前述金屬層之厚度為3μm以下。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之光學積層體，其中，前述金屬層為金屬配線層。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之光學積層體，其中，前述金屬配線層具有之金屬配線的線寬為10μm以下。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之光學積層體，其中，前述式(I)所示之矽烷化合物(B)為下述式(II)所示之矽烷化合物：
    Figure 105109825-A0305-02-0079-2
     式中，R1、R3、R4、R5及R6係分別表示與上述相同之意義，R7係表示碳數1至5之烷基，m係表示3至20 之整數。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之光學積層體，其中，前述式(II)中之m為4至20之整數。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之光學積層體，其中，前述式(II)中之m為6至8之整數。
  11. 如申請專利範圍第8項所述之光學積層體，其中，前述式(II)中之m為6。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之光學積層體，其中，前述矽烷化合物(B)為1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷。
  13. 如申請專利範圍第1項所述之光學積層體，其中，前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)係含有源自具有羥基之單體的構成單元。
  14. 如申請專利範圍第1項所述之光學積層體，其中，前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)係含有：源自均聚物之玻璃轉移溫度未達0℃之丙烯酸烷酯(a1)的構成單元及源自均聚物之玻璃轉移溫度為0℃以上之丙烯酸烷酯(a2)的構成單元。
  15. 如申請專利範圍第1項所述之光學積層體，其中，前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之重量平均分子量為50萬至250萬。
  16. 如申請專利範圍第1項所述之光學積層體，其中，在前述黏著劑組成物中，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份，三唑系化合物的含量為0.01重量份以下。
  17. 一種液晶顯示裝置，其係包含申請專利範圍第1至16項中任一項所述之光學積層體。
  18. 一種黏著劑組成物，其係包含(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、矽烷化合物(B)、離子性化合物(C)及異氰酸酯系交聯劑(D)；前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)係含有50重量%以上之源自(甲基)丙烯酸系單體之構成單元的聚合物或共聚物；前述矽烷化合物(B)係下述式(I)所示之矽烷化合物：
    Figure 105109825-A0305-02-0081-3
     式中，A係表示碳數3至20之烷二基或碳數3至20之2價脂環式烴基，構成該烷二基及該脂環式烴基之-CH2-係可被-O-或-C(=O)-取代，R1係表示碳數1至5之烷基，R2、R3、R4、R5及R6係分別獨立地表示碳數1至5之烷基或碳數1至5之烷氧基；前述黏著劑組成物中，相對於前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100重量份，前述矽烷化合物(B)的含量為0.01至10重量份，前述離子性化合物(C)的含量為0.1至10重量份，前述異氰酸酯系交聯劑(D)的含量為0.08至2.5重量份；前述黏著劑組成物可使用於積層在金屬層上之黏 著劑層的形成；前述金屬層係僅由包含金屬元素之金屬單體及/或含有2種以上之金屬元素之合金所構成。
  19. 一種附黏著劑層之光學膜，其係包含光學膜及積層於該光學膜之至少一面上的黏著劑層，且為用以經由前述黏著劑層而貼合於金屬層上之附黏著劑層的光學膜；前述黏著劑層係由黏著劑組成物所形成，黏著劑組成物係包含(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、矽烷化合物(B)、離子性化合物(C)及異氰酸酯系交聯劑(D)；前述(甲基)丙烯酸系樹脂(A)係含有50重量%以上之源自(甲基)丙烯酸系單體之構成單元的聚合物或共聚物；前述矽烷化合物(B)係下述式(I)所示之矽烷化合物：
    Figure 105109825-A0305-02-0082-4
     式中，A係表示碳數3至20之烷二基或碳數3至20之2價脂環式烴基，構成該烷二基及該脂環式烴基之-CH2-係可被-O-或-C(=O)-取代，R1係表示碳數1至5之烷基，R2、R3、R4、R5及R6係分別獨立地表示碳數1至5之烷基或碳數1至5之烷氧基；前述黏著劑組成物中，相對於前述(甲基)丙烯酸系 樹脂(A)100重量份，前述矽烷化合物(B)的含量為0.01至10重量份，前述離子性化合物(C)的含量為0.1至10重量份，前述異氰酸酯系交聯劑(D)的含量為0.08至2.5重量份；前述金屬層係僅由包含金屬元素之金屬單體及/或含有2種以上之金屬元素之合金所構成。
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