TWI718794B - 濕製程裝置 - Google Patents

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TWI718794B
TWI718794B TW108144171A TW108144171A TWI718794B TW I718794 B TWI718794 B TW I718794B TW 108144171 A TW108144171 A TW 108144171A TW 108144171 A TW108144171 A TW 108144171A TW I718794 B TWI718794 B TW I718794B
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馮傳彰
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辛耘企業股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種濕製程裝置，係用於大尺寸且呈矩型的玻璃基板，其包含一處理槽、一支架、一承載組件及至少一致動機構。處理槽頂部設有一開口，承載組件設置在支架，承載組件的至少一部分供承載玻璃基板且可活動地對應開口配置而能夠移動而通過開口出入處理槽。致動機構連動承載組件而能夠驅動承載組件在處理槽內帶動玻璃基板。因此，能夠處理大尺寸矩型玻璃基板且良率佳。

Description

濕製程裝置
本發明係有關於晶片的濕製程裝置，特別是一種用於大尺寸矩型玻璃基板的浸泡式濕製程裝置。
半導體製程中，前端的電路蝕刻等高精度製程直接在晶圓上加工，後端封裝相關製程精度較低，因此一般將晶圓裁切成複數晶片後分別貼附於玻璃基板再進行封裝相關製程藉此減少加工成本。
現行的濕製程以噴嘴對旋轉的基板表面噴灑藥液，其藥液無法均勻覆蓋基板表面各處，特別是在於矩形基板的各角落處。再者，若為提升處理速度而加大玻璃基板，當玻璃基板尺寸較大時(一般指至少單邊大於300mm)，其因過重而不易控加減速，造成製程良率低。因此現行的濕製程無法兼顧處理速度及製程良率。
有鑑於此，本發明人遂針對上述現有技術，特潛心研究並配合學理的運用，盡力解決上述之問題點，即成為本發明人改良之目標。
本發明提供一種用於大尺寸矩型玻璃基板的浸泡式濕製程裝置。
本發明提供一種濕製程裝置，其包含一處理槽、一支架、一承載組件及至少一致動機構。處理槽頂部設有一開口，承載組件設置在支架，承載組件的至少一部分供承載玻璃基板且可活動地對應開口配置而能夠移動而通過開口出入處理槽。致動機構連動承載組件而能夠驅動承載組件在處理槽內水平移動玻璃基板。
本發明的濕製程裝置，其承載組件內的底部凸設有用於支撐玻璃基板的複數支撐柱。承載組件設有一升降裝置，升降裝置連動承載組件而能夠升降承載組件通過開口出入處理槽。承載組件包含有一座體以及一承載籃，座體連接支架，承載籃以一旋轉軸桿樞設在座體且旋轉軸桿直立配置，致動機構包含有一馬達，馬達連動旋轉軸桿且能夠驅動旋轉軸桿旋轉而帶動承載籃水平旋轉。
本發明的濕製程裝置，其承載組件可平移地連接支架，致動機構包含有一往復致動器，往復致動器連動承載組件而能夠驅動承載組件水平往復移動。往復致動器包含一凸輪、一馬達以及一連桿，凸輪樞接支架，連桿的一端樞接凸輪且樞接於凸輪旋轉中心的一側，連桿的另一端樞接承載組件，馬達連動凸輪而能夠驅動凸輪旋轉而往復移動連桿進而往復移動承載組件。
本發明的濕製程裝置，其承載組件包含有一座體、用於承載玻璃基板的一承載籃以及一翻轉致動器，承載籃樞接吊掛於座體，翻轉致動器連動承載籃且翻轉致動器能夠驅動承載籃相對於座體翻轉而傾斜。濕製程裝置更包含一沖洗機構，沖洗機構包含一傾斜軌道以及一沖洗管路，傾斜軌道設置在支架的一側，沖洗管路上具有設有上下相向配置的複數上噴嘴及複數下噴嘴，且沖洗管路設置在傾斜軌道上，當承載籃傾斜時，沖洗管路能夠沿傾斜軌道移動而將上噴嘴及下噴嘴分別移至承載籃的上側及下側以沖洗所述玻璃基板的二面。
本發明的濕製程裝置，其處理槽底部形成至少一坡面且對應坡面的下緣設有至少一排水閥。其坡面為複數，各坡面的上緣相連而形成一脊部且對應每一坡面的下緣分別設有至少一排水閥。排水閥包含一筒體、一活塞以及一致動元件，筒體的一端通過一排液口連通處理槽的底部，筒體的另一端則連通至循環槽，活塞可活動地設置在筒體內，活塞連接致動元件且能夠被致動元件移動而塞閉排液口，活塞形成一錐面且錐面通過排液口露出於處理槽內的底部。處理槽設有一注液頭，注液頭可以與排水閥分別連通一循環槽；開口外環繞設置有一溢流槽道，溢流槽道連通循環槽，且溢流槽道與循環槽之間設有一閥門。循環槽可為複數，各循環槽皆連通注液頭且各循環槽分別連通對應的各排水閥；溢流槽道分別連通各循環槽，且溢流槽道與各循環槽之間分別設有一閥門。注液頭可以連通一清洗液槽。
本發明的濕製程裝置以浸泡方式處理玻璃基板，並且藉由致動機構帶動玻璃基板在液體中移動使得液體能夠均勻接觸玻璃基板表面。因此，本發明的濕製程裝置能夠處理大尺寸矩型玻璃基板且良率佳。
參閱圖1及圖2，本發明提供一種用於大尺寸矩型玻璃基板10的濕製程裝置，其包含一處理槽100、一支架200、一承載組件300及至少一致動機構400。
處理槽100頂部設有一開口101，承載組件300設置在支架200。處理槽100內供盛裝濕製程的藥液或是清洗液等液體20，承載組件300的至少一部分供承載玻璃基板10且可活動地對應開口101配置而能夠移動而通過開口101出入處理槽100，藉此將玻璃基板10浸入藥液中進行濕製程或是浸入清洗液中清洗。本發明不限定支架200的形式，支架200只要能夠供承載組件300設置於其上而使承載組承載的玻璃基板10對應開口101配置即可。因此在能夠達成前述功效的前提下，本發明也不限定支架200的具體設置位置，例如支架200可以設置在處理槽100旁；也可以直接設置在處理槽100上。
具體而言，承載組件300至少包含有一座體310以及一承載籃320，座體310連接支架200，承載籃320用於承載玻璃基板10且其吊掛於座體310。承載組件300內的底部凸設有用於支撐玻璃基板10的複數支撐柱321，具體而言，支撐柱321設置在承載籃320內的底部，且各撐柱的頂端可以選擇性地設有軟墊322，藉此能夠克服玻璃基板10的平整度公差而避免玻璃基板10在承載籃320內非預期地晃動。
參閱圖1至圖4，承載組件300設有一升降裝置330，升降裝置330連動承載組件300而能夠升降承載組件300通過開口101出入處理槽100，藉此將承載於其上的載玻璃基板10移動而通過開口101出入處理槽100。
較佳地，承載籃320可以選擇性地藉由一翻轉軸桿302樞設於座體310，且翻轉軸桿302水平配置。承載組件300可以選擇性地更包含一翻轉致動器340，翻轉致動器340連動承載籃320且翻轉致動器340能夠驅動承載籃320沿翻轉軸桿302相對於座體310翻轉而傾斜。藉此將承載於承載籃320的玻璃基板10翻轉傾斜。承載組件300將玻璃基板10傾斜浸入處理槽100入的液體20而能夠減少液面對玻璃基板10所造成的阻力。
致動機構400連動承載組件300而能夠驅動承載組件300水平作動，藉此在處理槽100內水平帶動玻璃基板10使玻璃基板10表面與液體20均勻接觸。本實施例中提供了後述二種致動機構400的具體實施方式，分別以不同的作動方式帶動玻璃基板10。
參閱圖5，致動機構400可以用於水平旋轉承載籃320。在此體實施方式中，承載籃320以一旋轉軸桿301樞設在座體310且旋轉軸桿301直立配置，致動機構400a包含有一馬達410a，馬達410a連動旋轉軸桿301且能夠驅動旋轉軸桿301旋轉而帶動承載籃320水平旋轉。
參閱圖6至圖8，致動機構400可以用於水平晃動承載籃320。在此體實施方式中，承載組件300的座體310以一滑軌311可平移地連接支架200，致動機構400包含有一往復致動器420，往復致動器420連動承載組件300而能夠驅動座體310及其上的承載籃320水平往復移動。往復致動器420可以藉由馬達410b驅動，往復致動器420包含一凸輪421以及一連桿422，凸輪421樞接支架200，連桿422的一端樞接凸輪421且樞接於凸輪421旋轉中心的一側，連桿422的另一端樞接承載組件300，馬達410b連動凸輪421而能夠驅動凸輪421旋轉而往復移動連桿422進而往復移動承載組件300。然而本發明不以此為限，例如往復致動器420也可以是一氣壓缸，其連接承載組件300且藉由氣壓驅動。
參閱圖9及圖12，處理槽100設有一注液頭120，注液頭120可以連通至少一循環槽610以及一清洗液槽620，循環槽610內用於儲存濕製程的藥液，清洗液槽620則用於儲存清洗液，且通過注液頭120將液體20注入處理槽100內。依據濕製程所使用藥液的種類數目，可以設置對應數量的多個循環槽610以分別儲存各種類的藥液。於本實施例中，循環槽610較佳地為兩個，但本發明不限定其數量。
本發明的濕製程裝置，其處理槽100底部形成至少一坡面110且對應坡面110的下緣設有至少一排水閥500。排水閥500包含一筒體510、一活塞520以及一致動元件530，筒體510的一端通過一排液口511連通處理槽100的底部，活塞520可活動地設置在筒體510內，活塞520連接致動元件530且能夠被致動元件530移動而塞閉排液口511，活塞520形成一錐面521且錐面521通過排液口511露出於處理槽100內的底部。筒體510的另一端可以選擇性地連通至一循環槽610或是連接至排放管路630直接排放。依據濕製程所使用藥液的種類數目，可以設置對應數量的多個排水閥500，排水閥500連通至對應的各循環槽610以回收處理槽100內所盛裝的藥液。於本實施例中，較佳地，各循環槽610皆連通至注液頭120而且分別連接至對應的各排水閥500。藉由各致動元件530能夠依據使用的需求控制各排水閥500開閉，藉此控制排出處理槽100的液體20之去向。
處理槽100內可以選擇地設置複數坡面110，於本實施例中，處理槽100內較佳地設置有一對相背配置的坡面110，但本發明不限定其數量，各坡面110的上緣相連而形成一脊部111且對應每一坡面110的下緣分別設有至少一排水閥500。藉由處理槽100的坡面110以及排水閥500的錐面521能夠加快排水速度，且能夠避免液體20殘留。
開口101之外環繞設置有一溢流槽道102，溢流槽道102連通循環槽610，溢流槽道102與各循環槽610之間設有一閥門500a，本發明不限定閥門500a的型式，其較佳地可以如同前述的排水閥500，但也可以是其他型式的閥。然而，溢流槽道102也可以選擇性地連通至排放管路630以供直接排放清洗液，且溢流槽道102與排放管路630之間也可以選擇性地設置另一閥門500a。本發明的濕製程裝置使用時，注液頭120持續地將液體20注入處理槽100內，當處理槽100滿水時，通過開口101溢出的液體20能夠匯集於溢流槽道102，進而回流至循環槽610或是直接排放。依據使用的需求控制溢流槽道102內的各閥門500a開閉，藉此能夠控制排出處理槽100的液體20之去向。開口101的口緣較佳地為鋸齒狀以消除液面張力，故能夠準確控制液面。
本發明的濕製程裝置使用時，通過注液頭120依序將各藥液注滿處理槽100，並以致動機構400驅動承載組件300將玻璃基板10依序浸入各藥液中。在各段藥液的浸泡程序完成後，通過排水閥500將處理槽100內的藥液排出，通過注液頭120將清洗液注滿處理槽100，再將玻璃基板10浸入清洗液中洗清，其洗清時可以藉由致動機構400在清洗液中旋轉或是往復搖晃玻璃基板10。
參閱圖10及圖11，本發明的濕製程裝置除了藉由浸泡方式清洗玻璃基板10之外，注入清洗液的同時也可以選擇性地更包含一沖洗機構700以沖洗玻璃基板10的二面。具體而言，沖洗機構700包含一傾斜軌道710以及一沖洗管路720，傾斜軌道710設置在支架200的一側，沖洗管路720上具有設有上下相向配置的複數上噴嘴721及複數下噴嘴722，且沖洗管路720設置在傾斜軌道710上，當承載籃320傾斜時，沖洗管路720能夠沿傾斜軌道710移動而將上噴嘴721及下噴嘴722分別移至承載籃320的上側及下側以沖洗所述玻璃基板10的二面。因此沖洗後的清洗液能夠沿著傾斜的玻璃基板10向下流動而離開玻璃基板10，藉此避免玻璃基板10表面沾附殘液。
本發明的濕製程裝置以浸泡方式處理玻璃基板10，並且藉由400致動機構帶動玻璃基板10在液體20中移動使得液體20能夠均勻接觸玻璃基板10表面。因此，本發明的濕製程裝置能夠處理大尺寸矩型玻璃基板10且良率佳。
以上所述僅為本發明之較佳實施例，非用以限定本發明之專利範圍，其他運用本發明之專利精神之等效變化，均應俱屬本發明之專利範圍。
10:玻璃基板
20:液體
100:處理槽
101:開口
102:溢流槽道
110:坡面
111:脊部
120:注液頭
200:支架
300:承載組件
301:旋轉軸桿
302:翻轉軸桿
310:座體
311:滑軌
320:承載籃
321:支撐柱
322:軟墊
330:升降裝置
340:翻轉致動器
400:致動機構
410a/410b:馬達
420:往復致動器
421:凸輪
422:連桿
500a:閥門
500:排水閥
510:筒體
511:排液口
520:活塞
521:錐面
530:致動元件
610:循環槽
620:清洗液槽
630:排放管路
700:沖洗機構
710:傾斜軌道
720:沖洗管路
721:上噴嘴
722:下噴嘴
圖1及圖2係本發明較佳實施例的濕製程裝置之示意圖。
圖3至圖9係本發明較佳實施例的濕製程裝置之各使用狀態示意圖。
圖10及11係本發明較佳實施例的濕製程裝置之中的沖洗機構之示意圖。
圖12 係本發明較佳實施例的濕製程裝置之流路示意圖。
10:玻璃基板
20:液體
100:處理槽
101:開口
102:溢流槽道
110:坡面
111:脊部
200:支架
300:承載組件
301:旋轉軸桿
302:翻轉軸桿
310:座體
311:滑軌
320:承載籃
321:支撐柱
322:軟墊
400:致動機構
410a/410b:馬達
420:往復致動器
421:凸輪
422:連桿
500a:閥門
500:排水閥
510:筒體
511:排液口
520:活塞
521:錐面
530:致動元件

Claims (16)

  1. 一種濕製程裝置，用於大尺寸且呈矩型的一玻璃基板，該濕製程裝置包含： 一處理槽，該處理槽的頂部設有一開口； 一支架； 一承載組件，設置在該支架，該承載組件的至少一部分供承載所述玻璃基板且可活動地對應該開口配置而能夠移動而通過該開口出入該處理槽；以及 至少一致動機構，連動該承載組件而能夠驅動該承載組件在該處理槽內帶動所述玻璃基板。
  2. 如請求項1所述的濕製程裝置，其中該承載組件內的底部凸設有用於支撐所述玻璃基板的複數支撐柱。
  3. 如請求項1所述的濕製程裝置，其中該承載組件設有一升降裝置，該升降裝置連動該承載組件而能夠升降該承載組件通過該開口出入該處理槽。
  4. 如請求項1所述的濕製程裝置，其中該承載組件包含有一座體以及用於承載所述玻璃基板的一承載籃，該座體連接該支架，該承載籃以一旋轉軸桿樞設在該座體且該旋轉軸桿直立配置，該致動機構包含有一馬達，該馬達連動該旋轉軸桿且能夠驅動該旋轉軸桿旋轉而帶動該承載籃水平旋轉。
  5. 如請求項1所述的濕製程裝置，其中該承載組件可平移地連接該支架，該致動機構包含有一往復致動器，該往復致動器連動該承載組件而能夠驅動該承載組件水平往復移動。
  6. 如請求項5所述的濕製程裝置，其中該往復致動器包含一凸輪、一馬達以及一連桿，該凸輪樞接該支架，該連桿的一端樞接該凸輪且樞接於該凸輪旋轉中心的一側，該連桿的另一端樞接該承載組件，該馬達連動該凸輪而能夠驅動該凸輪旋轉而往復移動該連桿進而往復移動該承載組件。
  7. 如請求項1所述的濕製程裝置，其中該承載組件包含有一座體、用於承載所述玻璃基板的一承載籃以及一翻轉致動器，該承載籃樞接吊掛於該座體，該翻轉致動器連動該承載籃且該翻轉致動器能夠驅動該承載籃相對於該座體翻轉而傾斜。
  8. 如請求項7所述的濕製程裝置，更包含一沖洗機構，該沖洗機構包含一傾斜軌道以及一沖洗管路，該傾斜軌道設置在該支架的一側，該沖洗管路上具有設有上下相向配置的複數上噴嘴及複數下噴嘴，且該沖洗管路設置在該傾斜軌道上，當該承載籃傾斜時，該沖洗管路能夠沿該傾斜軌道移動而將該些上噴嘴及該些下噴嘴分別移至該承載籃的上側及下側以沖洗所述玻璃基板的二面。
  9. 如請求項1所述的濕製程裝置，其中該處理槽底部形成至少一坡面且對應該坡面的下緣設有至少一排水閥。
  10. 如請求項9所述的濕製程裝置，其中坡面為複數，各該坡面的上緣相連而形成一脊部且對應每一該坡面的下緣分別設有至少一排水閥。
  11. 如請求項9所述的濕製程裝置，其中該排水閥包含一筒體、一活塞以及一致動元件，該筒體的一端通過一排液口連通該處理槽的底部，該筒體的另一端則連通至一循環槽，該活塞可活動地設置在該筒體內，該活塞連接該致動元件且能夠被該致動元件移動而塞閉該排液口，該活塞形成一錐面且該錐面通過該排液口露出於該處理槽內的底部。
  12. 如請求項9所述的濕製程裝置，其中該處理槽設有一注液頭，且該注液頭及該排水閥分別連通一循環槽。
  13. 如請求項12所述的濕製程裝置，其中該開口外環繞設置有一溢流槽道，該溢流槽道連通該循環槽，且該溢流槽道與該循環槽之間設有一閥門。
  14. 如請求項12所述的濕製程裝置，其中循環槽為複數，各該循環槽皆連通該注液頭且各該循環槽分別連通對應的各該排水閥。
  15. 如請求項14所述的濕製程裝置，其中該開口外環繞設置有一溢流槽道，該溢流槽道分別連通各該循環槽，且該溢流槽道與各該循環槽之間分別設有一閥門。
  16. 如請求項9所述的濕製程裝置，其中該處理槽設有一注液頭，且該注液頭連通一清洗液槽。
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