TWI713460B

TWI713460B - 積層光學薄膜之製造方法

Info

Publication number: TWI713460B
Application number: TW104122902A
Authority: TW
Inventors: 齊藤武士; 山崎達也; 池田哲朗
Original assignee: 日商日東電工股份有限公司
Priority date: 2014-07-16
Filing date: 2015-07-15
Publication date: 2020-12-21
Also published as: TW201609401A; TW201936408A; TWI708682B; CN106661386A; WO2016010030A1; CN106661386B; JP6376872B2; KR102376576B1; KR20170032287A; JP2016024228A

Abstract

本發明之積層光學薄膜之製造方法，該積層光學薄膜係透過藉使活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所形成的接著劑層，至少積層有第1光學薄膜及第2光學薄膜者；並且，使用之活性能量線硬化型接著劑組成物含有至少2種以上不同活性能量線硬化型接著劑組成物，包含第1活性能量線硬化型接著劑組成物及第2活性能量線硬化型接著劑組成物。此外，實施塗敷步驟，係於第1光學薄膜之貼合面塗敷第1活性能量線硬化型接著劑組成物，又於第2光學薄膜之貼合面塗敷第2活性能量線硬化型接著劑組成物。

Description

積層光學薄膜之製造方法

技術領域

本發明有關於一種積層光學薄膜之製造方法，該積層光學薄膜係透過使活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所形成之接著劑層，至少積層有第1光學薄膜及第2光學薄膜者。該積層光學薄膜可形成液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示裝置、CRT、PDP等影像顯示裝置。

背景技術

於時鐘、行動電話、PDA、筆記型電腦、個人電腦用螢幕、DVD播放器、TV等中，液晶顯示裝置正急速在市場上展開。液晶顯示裝置係藉由液晶之轉換使偏光狀態可視化者，由其顯示原理看來，可使用偏光件。特別是，TV等用途中，越來越要求高亮度、高對比、廣視角，偏光薄膜方面亦越來越要求高穿透率、高偏光度、高色彩再現性等。

偏光件因具高穿透率、高偏光度，例如，使碘吸附於聚乙烯醇(以下，亦僅稱「PVA」)經延伸之構造的碘系偏光件最廣為一般使用。一般而言，偏光薄膜為使用藉由於水中溶解有聚乙烯醇系材料之所謂的水系接著劑，將透明保護薄膜貼合於偏光件的兩面者(下述專利文獻1及專利文獻2)。透明保護薄膜可使用透濕度高之三乙酸纖維素等。使用有前述水系接著劑時(即濕積層)，於貼合偏光件與透明保護薄膜後，需乾燥步驟。

另一方面，有人提出了一種活性能量線硬化型接著劑取代前述水系接著劑。於使用活性能量線硬化型接著劑製造偏光薄膜時，因不需乾燥步驟，可提升偏光薄膜之生產性。例如，本發明人等提出了一種使用有以N-取代胺系單體作為硬化性成分之自由基聚合型的活性能量線硬化型接著劑(下述專利文獻3及專利文獻4)。

先前技術文獻專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2006-220732號公報

專利文獻2：日本專利特開2001-296427號公報

專利文獻3：日本專利特開2012-052000號公報

專利文獻4：日本專利特開2012-068593號公報

發明概要

使用專利文獻3及4中記載之活性能量線硬化型接著劑所形成的接著劑層，足以通過例如評估於60℃溫水中浸漬6小時後有無掉色、剝落之耐水性試驗。然而，近年來，對於積層光學薄膜用接著劑都講求耐水性要更加提升到可通過譬如評估浸水(飽和)後進行端部剝除時有無剝離情形的更嚴苛耐水性試驗的程度。因此，包括專利文獻3及4記載之活性能量線硬化型接著劑在內，迄今已報告之積層光學薄膜用接著劑於耐水性方面實際上仍有再改良的餘地。

然而，近年來對於有機高分子材料也有很多要求二律相悖(antinomy)特性，但實際情況是不易以單一有機高分子材料滿足此要求特性。為滿足要求之二律相悖特性，在眾多領域都提出了於有機高分子材料中添加具有不同性質之異種材料使其複合化的技術。接著技術方面，例如使2種不同被著體接著時，為提高各被著體間之接著性，考慮將接著劑層形成為為2層結構。然而，將接著劑層形成為2層結構時，有應力集中於其界面以致接著劑層之接著力下降之虞。特別是，近年來，要求薄型化之積層光學薄膜所用接著劑不易確立將接著劑層作成2層結構的技術，就本發明人等所知，無如此之報告例。

如前述，特別於要求薄型化之積層光學薄膜所用接著劑領域中，在接著2種不同光學薄膜時，實際上不易開發出提高接著性又提升耐水性之技術。

本發明係為解決前述課題而開發，目的在於提供一種具接著劑層的積層光學薄膜之製造方法，該接著劑層於積層2種不同光學薄膜時顯示高接著力並且耐水性優異。

積層之光學薄膜相異時，從譬如親水性之觀點來看亦顯示不同特性，故將用以使該等光學薄膜積層之接著劑層形成2層結構的方法，由提升光學薄膜間之接著力的觀點來看係為有利，但如同前述，因接著劑層內之界面剝離等反倒有使接著力下降之虞。

另一方面，本發明人等發現藉由以下製造方法，即使於使用2種以上不同活性能量線硬化型接著劑組成物時，仍不易於接著劑層內產生界面剝離；該製造方法為透過活性能量線硬化型接著劑組成物貼合2片光學薄膜後，照射活性能量線，使第1光學薄膜及第2光學薄膜接著，其中該活性能量線硬化型接著劑組成物含有至少2種以上不同活性能量線硬化型接著劑組成物，包含第1活性能量線硬化型接著劑組成物與第2活性能量線硬化型接著劑組成物。本發明係基於此發現所完成者，具有下述構造。

即，本發明有關於一種積層光學薄膜之製造方法，該積層光學薄膜係透過藉使活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所形成的接著劑層，至少積層有第1光學薄膜及第2光學薄膜者，前述活性能量線硬化型接著劑組成物含有至少2種以上不同活性能量線硬化型接著劑組成物，包含第1活性能量線硬化型接著劑組成物及第2活性能量線硬化型接著劑組成物；前述積層光學薄膜之製造方法包含以下步驟：塗敷步驟，於前述第1光學薄膜之貼合面塗敷前述第1活性能量線硬化型接著劑組成物，又於前述第2光學薄膜之貼合面塗敷前述第2活性能量線硬化型接著劑組成物；貼合步驟，貼合前述第1光學薄膜及前述第2光學薄膜；及接著步驟，透過前述接著劑層使前述第1光學薄膜及前述第2光學薄膜接著，前述接著劑層係自前述第1光學薄膜面側或前述第2光學薄膜面側照射活性能量線，使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所形成。

依據前述積層光學薄膜之製造方法，是在已塗敷於第1光學薄膜之貼合面的第1活性能量線硬化型接著劑組成物、與已塗敷於第2光學薄膜之貼合面的第2活性能量線硬化型接著劑組成物具流動性之狀態下進行貼合。結果，即使第1活性能量線硬化型接著劑組成物與第2活性能量線硬化型接著劑組成物為不同組成，這2層間還是會進行某程度的相溶化，所以接著劑層不會形成2層結構，而是形成成分梯度結構。因此，不易於第1活性能量線硬化型接著劑組成物及第2活性能量線硬化型接著劑組成物間產生界面剝離。於是，藉由適當地選擇與第1光學薄膜之親和性高的第1活性能量線硬化型接著劑組成物、及與第2光學薄膜之親和性高的第2活性能量線硬化型接著劑組成物，可製造能防止接著劑層內產生層間剝離、並於第1光學薄膜與第2光學薄膜間具有良好接著性的積層光學薄膜。

又，本發明之積層光學薄膜之製造方法，為透過藉使活性能量線硬化型接著劑組成物硬化後所形成的接著劑層至少積層有第1光學薄膜及第2光學薄膜的積層光學薄膜之製造方法，前述活性能量線硬化型接著劑組成物含有至少2種以上不同活性能量線硬化型接著劑組成物，包含第1活性能量線硬化型接著劑組成物及第2活性能量線硬化型接著劑組成物；本發明之積層光學薄膜之製造方法包含以下步驟：塗敷步驟，於前述第1光學薄膜之貼合面塗敷前述第1活性能量線硬化型接著劑組成物，並於已塗敷前述第1活性能量線硬化型接著劑組成物之塗敷面，進一步面塗塗敷前述第2活性能量線硬化型接著劑組成物；貼合步驟，自塗敷於第1光學薄膜上之第2活性能量線硬化型接著劑組成物的塗敷面側貼合前述第2光學薄膜；及接著步驟，透過前述接著劑層使前述第1光學薄膜及前述第2光學薄膜接著，前述接著劑層係自前述第1光學薄膜面側或前述第2光學薄膜面側照射活性能量線，使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所形成。

依據前述積層光學薄膜之製造方法，係對已塗敷於第1光學薄膜之貼合面的第1活性能量線硬化型接著劑組成物進行面塗塗敷第2活性能量線硬化型接著劑組成物。並且，在已塗敷於第1光學薄膜之貼合面的第1活性能量線硬化型接著劑組成物、與經塗敷於已塗敷第1活性能量線硬化型接著劑組成物之塗敷面上的第2活性能量線硬化型接著劑組成物具流動性的狀態下相接。藉此，即使第1活性能量線硬化型接著劑組成物與第2活性能量線硬化型接著劑組成物為不同組成者，仍可於該等之界面進行某程度的相溶化，形成成分梯度結構。因此，不易於第1活性能量線硬化型接著劑組成物及第2活性能量線硬化型接著劑組成物間產生界面剝離。於是，藉由適當地選擇與第1光學薄膜之親和性高的第1活性能量線硬化型接著劑組成物、及與第2光學薄膜之親和性高的第2活性能量線硬化型接著劑組成物，可製造能防止接著劑層內產生層間剝離、且第1光學薄膜與第2光學薄膜具有良好接著性的積層光學薄膜。

前述積層光學薄膜之製造方法中，前述第1活性能量線硬化型接著劑組成物之液體黏度宜高於前述第2活性能量線硬化型接著劑組成物之液體黏度。對已塗敷於第1光學薄膜之貼合面的第1活性能量線硬化型接著劑組成物再面塗第2活性能量線硬化型接著劑組成物時，第1活性能量線硬化型接著劑組成物之液體黏度若高於第2活性能量線硬化型接著劑組成物之液體黏度，則可於第1活性能量線硬化型接著劑組成物上確實地塗敷第2活性能量線硬化型接著劑組成物。

前述積層光學薄膜之製造方法中，前述活性能量線硬化型接著劑組成物對前述第1光學薄膜及前述第2光學薄膜之接觸角以5~50度為佳。藉由此構造，活性能量線硬化型接著劑組成物對第1光學薄膜及第2光學薄膜之濕潤性優異，故可充分地確保最終所得積層光學薄膜之層間接著性。

前述積層光學薄膜之製造方法中，前述第1光學薄膜及前述第2光學薄膜宜為選自於由聚乙烯醇系偏光件、丙烯酸樹脂薄膜、環烯烴樹脂薄膜、聚酯樹脂薄膜及聚烯烴樹脂薄膜所構成群組中之至少1種光學薄膜，並且，前述第1光學薄膜及前述第2光學薄膜宜為選自於由前述丙烯酸樹脂薄膜、前述環烯烴樹脂薄膜、前述聚酯樹脂薄膜及前述聚烯烴樹脂薄膜所構成群組中之1種光學薄膜。積層之光學薄膜為前述記載者時，可製造出具備於積層時顯示高接著力、且耐水性優異之接著劑層的積層光學薄膜。

前述積層光學薄膜之製造方法中，前述丙烯酸樹脂薄膜、前述環烯烴樹脂薄膜、前述聚酯樹脂薄膜及前述聚烯烴樹脂薄膜於其等之貼合面形成有易接著層，且該易接著層含有選自於由丙烯酸樹脂、聚胺甲酸酯樹脂、聚乙烯醇樹脂、三聚氰胺樹脂及含

唑啉基樹脂所構成群組中之至少1種樹脂時，積層光學薄膜之接著性更加提高，故為佳。

前述積層光學薄膜之製造方法中，在前述第1光學薄膜及前述第2光學薄膜為選自於由前述丙烯酸樹脂薄膜、前述環烯烴樹脂薄膜、前述聚酯樹脂薄膜及前述聚烯烴樹脂薄膜所構成群組中之至少1種光學薄膜的情形下，且前述活性能量線硬化型接著劑組成物含有25~98重量%之SP值為18~21(MJ/m³)^1/2的自由基聚合性化合物時，會顯現以下效果。具體而言，在使用了前述特定光學薄膜之情形下，且活性能量線硬化型接著劑組成物含有預定量之顯示預定SP值的自由基聚合性化合物時，接著劑層與光學薄膜之間將形成相溶層。結果，積層光學薄膜之接著性會更加提高，故為佳。

前述積層光學薄膜之製造方法中，前述第1光學薄膜及前述第2光學薄膜之一者宜為前述聚乙烯醇系偏光件，且要塗敷於前述聚乙烯醇系偏光件之貼合面的前述活性能量線硬化型接著劑組成物宜含有含羥基之自由基聚合性化合物。藉由此構造，聚乙烯醇系偏光件與接著劑層之接著性會更加提高，故為佳。

1‧‧‧偏光件

2‧‧‧透明保護薄膜

3‧‧‧接著劑層

圖1(I)~(V)為概略圖，係顯示利用了TOF-SIMS評定接著劑層中成分梯度結構之方法。

用以實施發明之形態

本發明之積層光學薄膜為透過藉使活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所形成的接著劑層，至少使第1光學薄膜及第2光學薄膜積層者，接著劑層藉於活性能量線硬化型接著劑組成物照射活性能量線後所得之硬化物層所形成。

活性能量線硬化型接著劑組成物可大致分成電子束硬化型、紫外線硬化型、可見光線硬化型等。此外，紫外線硬化型、可見光線硬化型接著劑可分為自由基聚合硬化型接著劑與陽離子聚合型接著劑。本發明中，將波長範圍小於10nm~380nm之活性能量線記為紫外線、波長範圍380nm~800nm之活性能量線記為可見光線。

構成自由基聚合硬化型接著劑之化合物，可舉自由基聚合性化合物為例。自由基聚合性化合物可舉具(甲基)丙烯醯基、乙烯基等碳-碳雙鍵之自由基聚合性官能基的化合物為例。該等硬化性成分可使用單官能自由基聚合性化合物或二官能以上之多官能自由基聚合性化合物之任一者。又，該等自由基聚合性化合物可單獨使用1種、或組合2種以上使用。該等自由基聚合性化合物以例如，具(甲基)丙烯醯基之化合物為佳。本發明中使用之活性能量線硬化型接著劑組成物的主成分，以含有具(甲基)丙烯醯基之化合物為佳，具體而言，以活性能量線硬化型接著劑組成物之全量為100重量%時，以含有具(甲基)丙烯醯基之化合物50重量%以上為佳，以含有80重量%以上較佳。再者，本發明中，(甲基)丙烯醯基為丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基之意，以下「(甲基)」為相同之意。

<單官能自由基聚合性化合物>

單官能自由基聚合性化合物，可舉具(甲基)丙烯酸醯胺基之(甲基)丙烯醯胺衍生物為例。(甲基)丙烯醯胺衍生物因可確保與偏光件或各種透明保護薄膜之接著性，又，聚合速度快、生產性優異，故為佳。(甲基)丙烯醯胺衍生物之具體例，可舉例如：N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺等含N-烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺等含N-羥烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物；胺基甲基(甲基)丙烯醯胺、胺乙基(甲基)丙烯醯胺等含N-胺烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物；N-甲氧基甲基丙烯醯胺、N-乙氧甲基丙烯醯胺等含N-烷氧基之(甲基)丙烯醯胺衍生物；巰甲基(甲基)丙烯醯胺、巰乙基(甲基)丙烯醯胺等含N-巰基烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物等。又，(甲基)丙烯酸醯胺基之氮原子形成雜環的含雜環之(甲基)丙烯醯胺衍生物，可舉例如：N-丙烯醯基

啉、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯哌啶、N-丙烯醯基吡咯啶等。

前述(甲基)丙烯醯胺衍生物中，由與偏光件或各種透明保護薄膜之接著性觀點來看，以含N-羥烷基之(甲基)丙烯醯胺衍生物為佳，又，單官能自由基聚合性化合物可舉具(甲基)丙烯醯基氧基之各種(甲基)丙烯酸衍生物為例。具體而言，可舉例如：甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、正丙基(甲基)丙烯酸酯、異丙基(甲基)丙烯酸酯、2-甲基-2-硝丙基(甲基)丙烯酸酯、正丁基(甲基)丙烯酸酯、異丁基(甲基)丙烯酸酯、第二丁基(甲基)丙烯酸酯、第三丁基(甲基)丙烯酸酯、正戊基(甲基)丙烯酸酯、第三戊基(甲基)丙烯酸酯、3-戊基(甲基)丙烯酸酯、2,2-二甲基丁基(甲基)丙烯酸酯、正己基(甲基)丙烯酸酯、乙醯(甲基)丙烯酸酯、正辛基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、4-甲基-2-丙基戊基(甲基)丙烯酸酯、正十八基(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸(碳數1-20)烷基酯類。

又，前述(甲基)丙烯酸衍生物，可舉例如：環己基(甲基)丙烯酸酯、環戊基(甲基)丙烯酸酯等環烷基(甲基)丙烯酸酯；苄基(甲基)丙烯酸酯等芳烷基(甲基)丙烯酸酯；2-異

基(甲基)丙烯酸酯、2-降

基甲基(甲基)丙烯酸酯、5-降

烯-2-基-甲基(甲基)丙烯酸酯、3-甲基-2-降

基甲基(甲基)丙烯酸酯、二環戊烯基(甲基)丙烯酸酯、二環戊烯基氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、二環戊烷基(甲基)丙烯酸酯、等多環式(甲基)丙烯酸酯；2-甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-甲氧基甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、3-甲氧基丁基(甲基)丙烯酸酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、烷基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯等含烷氧基或苯氧基之(甲基)丙烯酸酯等。

又，前述(甲基)丙烯酸衍生物，可舉例如：2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、3-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基丁基(甲基)丙烯酸酯、4-羥基丁基(甲基)丙烯酸酯、6-羥基己基(甲基)丙烯酸酯、8-羥基辛基(甲基)丙烯酸酯、10-羥基癸基(甲基)丙烯酸酯、12-羥基十二基(甲基)丙烯酸酯等羥基烷基(甲基)丙烯酸酯、或[4-(羥基甲基)環己基]甲基丙烯酸酯、環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯、2-羥基-3-苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯等含羥基之(甲基)丙烯酸酯；環氧丙基(甲基)丙烯酸酯、4-羥基丁基(甲基)丙烯酸酯環氧丙基醚等含環氧基之(甲基)丙烯酸酯；2,2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2,2,2-三氟乙基乙基(甲基)丙烯酸酯、四氟丙基(甲基)丙烯酸酯、六氟丙基(甲基)丙烯酸酯、八氟戊基(甲基)丙烯酸酯、十七氟癸基(甲基)丙烯酸酯、3-氯-2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯等含鹵素之(甲基)丙烯酸酯；二甲基胺乙基(甲基)丙烯酸酯等烷基胺基烷基(甲基)丙烯酸酯；3-氧雜環丁烷基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-甲基-氧雜環丁烷基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-乙基-氧雜環丁烷基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-丁基-氧雜環丁烷基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-己基-氧雜環丁烷基甲基(甲基)丙烯酸酯等含氧呾基之(甲基)丙烯酸酯；四氫呋喃甲酯(甲基)丙烯酸酯、丁內酯(甲基)丙烯酸酯等具雜環之(甲基)丙烯酸酯、或羥基三甲基乙酸新戊二醇(甲基)丙烯酸加成物、對苯基酚(甲基)丙烯酸酯等。

又，單官能自由基聚合性化合物，可舉例如：(甲基)丙烯酸、羧基乙基丙烯酸酯、羧基戊基丙烯酸酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、巴豆酸、異巴豆酸等含羧基之單體。

又，單官能自由基聚合性化合物，可舉例如：N-乙烯吡咯啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺、甲基乙烯吡咯啶酮等內醯胺系乙烯基單體；乙烯吡啶、乙烯哌啶酮、乙烯嘧啶、乙烯哌

、乙烯吡嗪、乙烯吡咯、乙烯咪唑、乙烯

唑、乙烯

啉等具含氮雜環之乙烯系單體等。

又，單官能自由基聚合性化合物可使用具活性亞甲基之自由基聚合性化合物。具活性亞甲基之自由基聚合性化合物為於末端或分子中具(甲基)丙烯酸基等活性雙鍵基，且具活性亞甲基之化合物。活性亞甲基可舉乙醯乙醯基、烷氧基丙二醯基、或氰基乙醯基等為例。前述活性亞甲基以乙醯乙醯基為佳。具活性亞甲基之自由基聚合性化合物的具體例，可舉例如：2-乙醯乙醯氧乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧丙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧-1-甲基乙基(甲基)丙烯酸酯等乙醯乙醯氧烷基(甲基)丙烯酸酯；2-乙氧基丙二醯基氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-氰基乙醯氧乙基(甲基)丙烯酸酯、N-(2-氰基乙醯氧乙基)丙烯醯胺、N-(2-丙醯基乙醯氧丁基)丙烯醯胺、N-(4-乙醯乙醯氧甲基苄基)丙烯醯胺、N-(2-乙醯乙醯基胺基乙基)丙烯醯胺等。具活性亞甲基之自由基聚合性化合物，以乙醯乙醯氧烷基(甲基)丙烯酸酯為佳。

<多官能自由基聚合性化合物>

又，二官能以上之多官能自由基聚合性化合物，可舉例如：三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸烷二醇二丙烯酸酯、2-乙基-2-丁基丙烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧乙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧丙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、環狀三羥甲基丙烷縮甲醛(甲基)丙烯酸酯、二

烷醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、EO改質二甘油四(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇之酯化物、9,9-雙[4-(2-(甲基)丙烯醯基氧基乙氧基)苯基]茀。可舉具體例如：ARONIX M-220(東亞合成社製)、Light Acrylate 1,9ND-A(LogPow；3.68)(共榮社化學社製)、Light Acrylate DGE-4A(共榮社化學社製)、Light Acrylate DCP-A(共榮社化學社製)、SR-531(Sartomer社製)、CD-536(Sartomer社製)等。又，視需要，可舉各種環氧(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、或各種(甲基)丙烯酸酯系單體等為例。

另，本發明中，接著之光學薄膜為選自於由丙烯酸樹脂薄膜、環烯烴樹脂薄膜、聚酯樹脂薄膜及聚烯烴樹脂薄膜所構成群組中之至少1種光學薄膜，以組成物之全量為100重量%時，活性能量線硬化型接著劑組成物含有SP值為18~21(MJ/m³)^1/2之自由基聚合性化合物25~98重量%，較佳者為含有30~90重量%，更佳者是含有40~80重量%，於接著劑層與光學薄膜之間形成相溶層。結果，因更加提高積層光學薄膜之接著性，故為佳。

此處，於以下說明本發明之SP值(溶解性參數)的算出法。

(溶解度參數(SP值)之算出法)

本發明中，自由基聚合性化合物或偏光件、各種透明保護薄膜等之溶解度參數(SP值)可藉由FE D ORS之算出法[參照「聚合物工程與科學(PO L Y MER EN G.& SCI.)」，第14卷，第2號(1974)，第148~154頁]即，

(但△EI為屬於原子或基之25℃中蒸發能量、△VI為25℃中莫耳體積)計算求得。

前述數中之△EI及△VI顯示賦與主要之分子中的I個原子及基一定之數值。又，於以下表1顯示賦與原子或基之△E及△V數值的代表例。

SP值為18~21(MJ/m³)^1/2之自由基聚合性化合物的具體例，可舉例如：三伸丙二醇二丙烯酸酯(SP值19.0(MJ/m³)^1/2)、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(SP值19.2(MJ/m³)^1/2)、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯(SP值 20.3(MJ/m³)^1/2)、環狀三羥甲丙烷正丙烯酸酯(SP值19.1(MJ/m³)^1/2)、二

烷醇二丙烯酸酯(SP值19.4(MJ/m³)^1/2)、EO改質二甘油四(甲基)丙烯酸酯(SP值20.9(MJ/m³)^1/2)等。另，SP值為18~21(MJ/m³)^1/2之自由基聚合性化合物，亦可較佳地使用市售品，可舉例如：ARONIX M-220(東亞合成社製，SP值19.0(MJ/m³)^1/2)、Light Acrylate 1,9ND-A(共榮社化學社製，SP值19.2(MJ/m³)^1/2)、Light Acrylate DGE-4A(共榮社化學社製，SP值20.9(MJ/m³)^1/2)、Light Acrylate DCP-A(共榮社化學社製，SP值20.3(MJ/m³)^1/2)、SR-531(SARTOMER社製，SP值19.1(MJ/m³)^1/2)、CD-536(SARTOMER社製，SP值19.4(MJ/m³)^1/2)等。

本發明之積層光學薄膜之製造方法中，所使用之活性能量線硬化型接著劑組成物特徵在於含有至少2種以上不同活性能量線硬化型接著劑組成物，包含第1活性能量線硬化型接著劑組成物及第2活性能量線硬化型接著劑組成物。「活性能量線硬化型接著劑組成物不同」意指因所含自由基聚合性化合物及組成比相異，所以從例如親水/疏水性之觀點來看活性能量線硬化型接著劑組成物就具有不同特性。本發明之製造方法中所製造的積層光學薄膜，為例如於偏光件之至少其中一面透過接著劑層積層有透明保護薄膜的偏光薄膜時，有偏光件顯示親水性而透明保護薄膜顯示疏水性之傾向。因此，本發明中，第1光學薄膜為偏光件、第2光學薄膜為透明保護薄膜時，為提高接著性，配置於第1光學薄膜側之第1活性能量線硬化型接著劑組成物宜為親水性，且第2活性能量線硬化型接著劑組成物宜為疏水性。

本發明中，評定活性能量線硬化型接著劑組成物所含之自由基聚合性化合物的親水性及疏水性之指標，可舉logPow為例。辛醇/水分佈係數(logPow)為表示物質之親油性的指標，意指辛醇/水之分配係數的對數值。logPow高為親油性之意，即吸水率低之意。可藉由測量(JIS-Z-7260記載之燒瓶震動法)求出logPow值，亦可藉由計算算出。本說明書中，使用Cambridge Soft社製Chem Draw Ultra所計算之logPow值。

特別是，本發明中，第1光學薄膜為偏光件、第2光學薄膜為透明保護薄膜時，以配置於第1光學薄膜側之第1活性能量線硬化型接著劑組成物含有logPow為-1~1之A成分為佳，以第2活性能量線硬化型接著劑組成物含有logPow為2~7之B成分為佳。於如此構造中，於(i)第1光學薄膜之貼合面塗敷第1活性能量線硬化型接著劑組成物，並於第2光學薄膜之貼合面塗敷第2活性能量線硬化型接著劑組成物時，抑或，於(ii)第1光學薄膜之貼合面塗敷第1活性能量線硬化型接著劑組成物，並於已塗敷第1活性能量線硬化型接著劑組成物之塗敷面，更面塗塗敷第2活性能量線硬化型接著劑組成物時，介於偏光件與透明保護薄膜間之接著劑層，具有顯現親水性之A成分濃度於偏光件側變高的成分梯度結構。因此，可製造偏光件與透明保護薄膜顯現優異之接著性，且具耐水性優異之接著劑層的偏光薄膜。

另外，例如偏光薄膜之接著劑層中，確認具有A成分之濃度於厚度方向上變化的成分梯度結構之確認方法，可舉利用飛行時間型二次離子質譜法(Time of Flight Secondary Ion Mass Spectrometry：TOF-SIMS)之方法確認為例。TOF-SIMS之原理為於超高真空下於試料照射初離子束(例如，1E12 ions/cm²以下)時，僅自試料之最表面(深度數Å左右)放出二次離子，藉將二次離子導入飛行時間型(TOF型)質量分析計，可得質譜。利用該原理，可得存在於試料最表面之元素組成或化合物之化學結構的資訊。此外，於本發明之接著劑層中，為確認介於透明保護薄膜與偏光件間之接著劑層的厚度方向的成分梯度結構，可利用簇離子蝕刻法。

以下，說明「簇離子蝕刻法」。例如，利用使用有將單原子離子束(Ar⁺、Cs⁺等)作為蝕刻離子的一般蝕刻法，蝕刻接著劑層表面時，接著劑層表面之分子構造將受到破壞，形成受損層。此時，即使欲利用TOF-SIMS得到該表面之質譜，仍因受損層之影響，而無法測量接著劑層表面正確的質譜。另一方面，利用使用有將「Ar氣體簇離子(Arn⁺)」作為蝕刻離子的「簇離子蝕刻法」時，蝕刻後賦與接著劑層表面之損害下降，無法形成受損層，故蝕刻後接著劑層之表面保持有蝕刻前之該表面的分子構造。因此，藉由利用TOF-SIMS，可正確地測量接著劑層表面之質譜。

圖1所示為概略圖，係顯示利用了TOF-SIMS評定接著劑層中厚度方向上之成分梯度結構的方法。圖1之(I)顯示本發明中可製造之積層光學薄膜的偏光薄膜之一例，該偏光薄膜中，於偏光件1之兩面透過接著劑層3積層有透明保護薄膜2。首先，以薄片切片機水平切割(I)所示之偏光薄膜的透明保護薄膜2(圖1之(I)中上側透明保護薄膜2)，並削薄與接著劑層3相接之透明保護薄膜2的厚度((II))。接著，如(III)所示，利用TOF-SIMS，測量切薄之透明保護薄膜2表面的質譜，分析該表面之組成。再者，如(IV)所示，利用「簇離子蝕刻法」，蝕刻切薄之透明保護薄膜2表面後，利用TOF-SIMS分析該表面之組成。然後，如(V)所示，利用「簇離子蝕刻法」蝕刻透明保護薄膜2表面，使接著劑層3析出透明保護薄膜2側表面，再利用TOF-SIMS分析該表面之組成。之後，重複利用「簇離子蝕刻法」之蝕刻處理，與利用TOF-SIMS分析經析出之接著劑層3表面之組成，連續進行至最後到達偏光件表面的蝕刻處理，與接著劑層3(甚至是偏光件1)表面組成的分析。藉由前述說明之方法，可確認本發明中，介於透明保護薄膜與偏光件之間的接著劑層於厚度方向上的成分梯度結構。

logPow為-1~1之A成分，可任意使用前述記載之自由基聚合性化合物中，logPow為-1~1的化合物，具體而言，可舉例如：羥基乙基丙烯醯胺(商品名「HEAA」，興人社製，LogPow；-0.56)、N-乙烯甲醯胺(商品名「BEAMSET 770」，荒川化學社製，LogPow；-0.25)、丙烯醯基嗎啉(商品名「ACMO」，興人社製，LogPow；-0.20)、γ丁內酯丙烯酸酯(商品名「GBLA」，大阪有機化學工業社製，LogPow；0.19)、丙烯酸2量體(商品名「β-CEA」，DAICEL社製，LogPow；0.2)、N-乙烯吡咯啶酮(商品名「NVP」，日本催化劑社製，LogPow；0.24)、乙醯乙醯氧乙基甲基丙烯酸酯(商品名「AAEM」，日本合成化學社製，LogPow；0.27)、2-羥基乙基丙烯酸酯(商品名「HEA」，大阪有機化學工業社製，LogPow；0.28)、環氧丙基甲基丙烯酸酯(商品名「LIGHT ACRYLATE G」，共榮社化學製，LogPow；0.57)、二甲基丙烯醯胺(商品名「DMAA」，興人社製，LogPow；0.58)、四氫呋喃甲酯醇丙烯酸多量體酯(商品名「VISCOAT#150D」，大阪有機化學工業社製，LogPow；0.60)、4-羥基丙烯酸丁酯(商品名「4-HBA」，大阪有機化學工業社製，LogPow；0.68)、丙烯酸(商品名「丙烯酸」，三菱化學社製，LogPow；0.69)、三乙二醇二丙烯酸酯(商品名「Light Acrylate 3EG-A」，共榮社化學社製，LogPow；0.72)等。該等中，本發明之logPow為-1~1的A成分，以使用(甲基)丙烯醯胺衍生物為佳，更以使用羥基乙基丙烯醯胺、丙烯醯基嗎啉、或二甲基丙烯醯胺為佳。(甲基)丙烯醯胺衍生物以外，以使用4-羥基丙烯酸丁酯為佳。

第1光學薄膜為偏光件時，以第1活性能量線硬化型接著劑組成物含有logPow為-1~1之A成分為佳。此外，為提升接著劑層之接著力與耐水性，於以第1活性能量線硬化型接著劑組成物之全量為100重量%時，logPow為-1~1之A成分的含量，以5~95重量%為佳，以30~80重量%較佳。

本發明中，於以logPow為2~7之成分作為B成分時，該B成分顯示高疏水性。logPow為2~7之B成分，可任意使用前述記載之自由基聚合性化合物中，logPow為2~7的化合物，具體而言，可舉例如：二環戊烯基丙烯酸酯(商品名「FANCRYL FA-511AS」，日立化成社製，LogPow；2.26)、丙烯酸丁酯(商品名「Butyl Acrylate」，三菱化學社製，LogPow；2.35)、1,6-己烷二醇二丙烯酸酯(商品名「Light Acrylate1.6HX-A」、共榮社化學社製，LogPow；2.43)、二環戊烷基丙烯酸酯(商品名「FANCRYL FA-513AS」，日立化成社製，LogPow；2.58)、二羥甲基-三環癸烷二丙烯酸酯(商品名「Light Acrylate DCP-A」，共榮社化學社製，LogPow；3.05)、異

基丙烯酸酯(商品名「Light Acrylate IB-XA」，共榮社化學社製，LogPow；3.27)、羥基三甲基乙酸新戊二醇丙烯酸加成物(商品名「Light Acrylate HPP-A」，共榮社化學社製，LogPow；3.35)、1,9-壬烷二醇二丙烯酸酯(商品名「Light Acrylate 1,9ND-A」，共榮社化學社製，LogPow；3.68)、o-苯基酚EO改質丙烯酸酯(商品名「FANCRYL FA-301A」，日立化成社製，LogPow；3.98)、2-乙基己基氧呾(商品名「ARON OXETANE OXT-212」，東亞合成社製，LogPow；4.24)、雙酚-A-二環氧丙基醚(商品名「JER828」，三菱化學社製，LogPow；4.76)、雙酚A EO6莫耳改質二丙烯酸酯(商品名「FA-326A」，日立化成社製，LogPow；4.84)、雙酚A EO4莫耳改質二丙烯酸酯(商品名「FA-324A」，日立化成社製，LogPow；5.15)、雙酚A PO2 莫耳改質二丙烯酸酯(商品名「FA-P320A」，日立化成社製，LogPow；6.10)、雙酚A PO3莫耳改質二丙烯酸酯(商品名「FA-P323A」，日立化成社製，LogPow；6.26)、雙酚A PO4莫耳改質二丙烯酸酯(商品名「FA-P324A」，日立化成社製，LogPow；6.43)等。該等中，本發明之logPow為2~7的B成分，以使用多官能(甲基)丙烯酸酯為佳，更以使用1,6-己烷二醇二丙烯酸酯)、二羥甲基-三環癸烷二丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇丙烯酸加成物、1,9-壬烷二醇二丙烯酸酯、2-乙基己基氧呾、雙酚-A-二環氧丙基醚、雙酚A EO6莫耳改質二丙烯酸酯、雙酚A EO4莫耳改質二丙烯酸酯、雙酚A PO2莫耳改質二丙烯酸酯、雙酚A PO3莫耳改質二丙烯酸酯、或雙酚A PO4莫耳改質二丙烯酸酯。

第2光學薄膜為透明保護薄膜時，以第2活性能量線硬化型接著劑組成物含有logPow為2~7之B成分為佳。此此外，為提升接著劑層之接著力與耐水性，於以第2活性能量線硬化型接著劑組成物之全量為100重量%時，logPow為2~7之B成分的含量，以30~95重量%為佳，以50~80重量%較佳。

活性能量線硬化型接著劑組成物於使用電子束等作為活性能量線時，該活性能量線硬化型接著劑組成物非必須含有光聚合起始劑，但於使用紫外線或可見光線作為活性能量線時，則以含有光聚合起始劑為佳。

<光聚合起始劑>

使用自由基聚合性化合物時之光聚合起始劑，可視活性能量線適當地選擇。藉由紫外線或可見光線硬化時，使用紫外線或可見光線分裂之光聚合起始劑。前述光聚合起始劑可單獨使用，但於混合複數光聚合起始劑使用時，因可調整硬化速度與硬化性，故為佳。前述光聚合起始劑，可舉例如：苄基、二苯基酮、苯甲醯基苯甲酸、3,3’-二甲基-4-甲氧基二苯基酮等二苯基酮系化合物；4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮、α-羥基-α,α’-二甲基苯乙酮、2-甲基-2-羥基乙基苯基酮、1-羥基環己基苯酮、1-[4-(2-羥乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮、2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙醯基)-苯甲基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮等芳香族酮化合物；甲氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)-苯基]-2-嗎啉基丙烷-1等苯乙酮系化合物；苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚、苯偶姻甲醚、大茴香偶姻甲醚等苯偶姻醚系化合物；苄基二甲基縮酮等芳香族縮酮系化合物；2-萘磺醯基氯等芳香族磺醯基氯系化合物；1-酮-1,1-丙二酮-2-(o-乙氧基羰基)肟等光活性肟系化合物；9-氧硫

、2-氯9-氧硫

、2-甲基9-氧硫

、2,4-二甲基9-氧硫

、異丙基9-氧硫

、2,4-二氯9-氧硫

、2,4-二乙基9-氧硫

、2,4-二異丙基9-氧硫

、十二基9-氧硫

等9-氧硫

系化合物；樟腦醌；鹵化酮；醯基膦氧化物；醯基膦酸酯等。

前述光聚合起始劑之摻合量，於以活性能量線硬化型接著劑組成物之全量為100重量%時，為20重量%以下。光聚合起始劑之摻合量以0.01~20重量%為佳，以0.05~10重量%較佳，以0.1~5重量%更佳。

又，本發明之積層光學薄膜用硬化型接著劑，於使用含有自由基聚合性化合物作為硬化性成分之可見光線硬化型時，特別以使用對380nm以上之光具高感度的光聚合起始劑為佳。對380nm以上之光具高感度的光聚合起始劑稍待後述。

前述光聚合起始劑以單獨使用下述通式(1)所示之化合物；

(式中，R¹及R²表示-H、-CH₂CH₃、-iPr或Cl，R¹及R²可相同或相異)、或併用通式(1)所示之化合物與後述之對380nm以上之光具高感度的光聚合起始劑為佳。於使用有通式(1)所示之化合物時，相較於單獨使用對380nm以上之光具高感度的光聚合起始劑，接著性較優異。通式(1)所示之化合物中，亦以R¹及R²為-CH₂CH₃之二乙基9-氧硫

特佳。接著劑中通式(1)所示之化合物的組成比率，於以活性能量線硬化型接著劑組成物之全量為100重量%時，以0.1~5重量%為佳，以0.5~4重量%較佳，以0.9~3重量%更佳。

又，以視需要添加聚合起始助劑為佳。聚合起始助劑，可舉例如：三乙胺、二乙胺、N-甲基二乙醇胺、乙醇胺、4-二甲基胺基苯甲酸、4-二甲基胺基苯甲酸甲酯、4-二甲基胺基苯甲酸乙酯、4-二甲基胺基苯甲酸異戊基等，以4-二甲基胺基苯甲酸乙酯特佳。使用聚合起始助劑時，其添加量相較於硬化性成分之全量100重量份，通常為0~5重量份，以0~4重量份為佳，最佳者為0~3重量份。

又，視需要亦可併用眾所皆知的光聚合起始劑。具UV吸收能之透明保護薄膜因不透過380nm以下之光，故光聚合起始劑以使用對380nm以上之光具高感度的光聚合起始劑為佳。具體而言，可舉例如：2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1、2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-

啉基)苯基]-1-丁酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物、雙(η5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦等。

特別是，光聚合起始劑除了通式(1)之光聚合起始劑，更以使用下述通式(2)所示之化合物；

(式中，R³、R⁴及R⁵表示-H、-CH₃、-CH₂CH₃、-iPr或Cl，R³、R⁴及R⁵可相同或相異)為佳。通式(2)所示之化合物可較佳地使用市售品之2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉基丙烷-1-酮(商品名：IRGACURE907製造商：BASF)。其他，因2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1(商品名：IRGACURE369製造商：BASF)、2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-

啉基)苯基]-1-丁酮(商品名：IRGACURE379製造商：BASF)之感度高，故為佳。

本發明中，前述光聚合起始劑中亦以使用含羥基之光聚合起始劑為佳。活性能量線硬化型接著劑組成物於含有含羥基之光聚合起始劑作為聚合起始劑時，對偏光件側之A成分濃度高的接著劑層之溶解性變高，接著劑層之硬化性上升。具羥基之光聚合起始劑，可舉例如：2-甲基-2-羥基乙基苯基酮(商品名「DAROCUR1173」，BASF社製)、1-羥基環己基苯基酮(商品名「IRGACURE184」，BASF社製)、1-[4-(2-羥基乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮(商品名「IRGACURE2959」，BASF社製)、2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙醯基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮(商品名「IRGACURE127」，BASF社製)等。特別是，1-羥基環己基苯基酮對A成分濃度高之接著劑層的溶解性特優，故較佳。

<具活性亞甲基之自由基聚合性化合物與具氫抽離作用之自由基聚合起始劑>

前述活性能量線硬化型接著劑組成物中，自由基聚合性化合物於使用具活性亞甲基之自由基聚合性化合物時，以與具氫抽離作用之自由基聚合起始劑組合使用為佳。藉由該構造，特別是即使於自高濕度環境或水中取出後(非乾燥狀態)，具偏光薄膜之接著劑層的接著性仍顯著地提升。該理由尚未明確，但被認為是以下原因。即，具活性亞甲基之自由基聚合性化合物與構成接著劑層之其他自由基聚合性化合物聚合，並被拉入接著劑層中之基質聚合物的主鏈及/或側鏈，形成接著劑層。於該聚合過程中，存在有具氫抽離作用之自由基聚合起始劑時，將形成構成接著劑層之基質聚合物，且自具活性亞甲基之自由基聚合性化合物抽離氫，於亞甲基產生自由基。此外，產生有自由基之亞甲基與PVA等偏光件的羥基反應，於接著劑層與偏光件之間形成共價鍵。結果，即使特別於非乾燥狀態下，推測具偏光薄膜之接著劑層的接著性仍顯著地提升。

本發明中具氫抽離作用之自由基聚合起始劑，可舉9-氧硫

系自由基聚合起始劑、二苯基酮系自由基聚合起始劑等為例。前述自由基聚合起始劑，以9-氧硫

系自由基聚合起始劑為佳。9-氧硫

系自由基聚合起始劑，可舉前述通式(1)所示之化合物為例。通式(1)所示之化合物的具體例，可舉例如：9-氧硫

、二甲基9-氧硫

、二乙基9-氧硫

、異丙基9-氧硫

、氯9-氧硫

等。通式(1)所示之化合物中，以R¹及R²為-CH₂CH₃之二乙基9-氧硫

特佳。

前述活性能量線硬化型接著劑組成物中，於含有具活性亞甲基之自由基聚合性化合物與具氫抽離作用之自由基聚合起始劑時，以硬化性成分之全量為100重量%時，含有具前述活性亞甲基之自由基聚合性化合物1~50重量%、及相對於硬化性成分之全量100重量份，含有自由基聚合起始劑0.1~10重量份為佳。

如上述，本發明中，於具氫抽離作用之自由基聚合起始劑的存在下，使具活性亞甲基之自由基聚合性化合物的亞甲基產生自由基，並使該亞甲基與PVA等偏光件之羥基反應，形成共價鍵。因此，為使具活性亞甲基之自由基聚合性化合物的亞甲基產生自由基，充分地形成該共價鍵，於以硬化性成分之全量為100重量%時，以含有具活性亞甲基之自由基聚合性化合物1~50重量%為佳，更以含有3~30重量%較佳。為充分地提升耐水性使非乾燥狀態下之接著性提升，以將具活性亞甲基之自由基聚合性化合物設為1重量%以上為佳。另一方面，大於50重量%時，有產生接著劑層之硬化不良的情形。又，具氫抽離作用之自由基聚合起始劑，相對於硬化性成分之全量100重量份，以含有0.1~10重量份為佳，更以含有0.3~9重量份較佳。為使氫抽離反應充分地進行，自由基聚合起始劑以使用0.1重量份以上為佳。另，大於10重量份時，則有組成物中未完全溶解的情形。

<陽離子聚合硬化型接著劑>

陽離子聚合硬化型接著劑之硬化性成分，可舉具環氧基或氧呾基之化合物為例。具環氧基之化合物，只要於分子內具有至少2個環氧基即可，並未特別限定，可使用一般眾所周知的各種硬化性環氧化合物。較佳之環氧化合物，可舉例如：分子內具有至少2個環氧基與至少1個芳香環之化合物(芳香族系環氧化合物)、或分子內具有至少2個環氧基，且其中至少1個構成脂環式環之相鄰2個碳原子之間所形成的化合物(脂環式環氧化合物)等。但，接著劑層中，為實現A成分相關之成分梯度結構，即使於使用陽離子聚合硬化型接著劑時，活性能量線硬化型接著劑組成物仍需含有表示辛醇/水分佈係數之logPow為-1~1的A成分與logPow為2~7之B成分。

<光陽離子聚合起始劑>

陽離子聚合硬化型接著劑之硬化性成分含有以上說明之環氧化合物及氧呾化合物，因該等均藉由陽離子聚合硬化，故摻合光陽離子聚合起始劑。該光陽離子聚合起始劑可藉由可見光線、紫外線、X射線、電子束等活性能量線之照射，產生陽離子種或路易斯酸，開始環氧基或氧呾基之聚合反應。

<其他成分>

本發明之活性能量線硬化型接著劑組成物亦可含有下述成分。

<丙烯酸系寡聚物>

本發明中使用之活性能量線硬化型接著劑組成物除了前述自由基聚合性化合物之硬化性成分、或陽離子聚合硬化型接著劑以外，可含有聚合(甲基)丙烯酸單體所成之丙烯酸系寡聚物。活性能量線硬化型接著劑組成物含有聚合非聚合性之(甲基)丙烯酸單體所成之丙烯酸系寡聚物時，介於偏光件及透明保護薄膜間之接著劑組成物的成分將容易偏存，可更容易得到A成分濃度於厚度方向上變化的成分梯度結構。因此，更加提高接著劑層與偏光件及透明保護薄膜之接著性及耐水性而為佳。此外，藉活性能量線硬化型接著劑組成物中含有丙烯酸系寡聚物成分，可降低使活性能量線於該組成物照射．硬化時之硬化收縮，並降低接著劑與偏光件及透明保護薄膜等被著體的界面應力。結果，可抑制接著劑層與被著體之接著性下降。為更確實地得到硬化物層(接著劑層)之成分梯度結構，以及更充分地抑制硬化收縮，於將活性能量線硬化型接著劑組成物之全量設為100重量%時，以將丙烯酸系寡聚物之含量設為5~30重量%為佳，以設為10~20重量%較佳。

考量到塗敷時之作業性與均一性，活性能量線硬化型接著劑組成物以低黏度為佳，故聚合(甲基)丙烯酸單體所成之丙烯酸系寡聚物(A)亦以低黏度為佳。低黏度之丙烯酸系寡聚物，以重量平均分子量(Mw)為15000以下者為佳，以10000以下者較佳，以5000以下者特佳。另一方面，為使偏光件及透明保護薄膜間夾雜之接著劑組成物的成分更加地偏存，丙烯酸系寡聚物(A)之重量平均分子量(Mw)以500以上為佳，以1000以上較佳，以1500以上特佳。構成丙烯酸系寡聚物(A)之(甲基)丙烯酸單體，可具體地舉例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、2-甲基-2-硝基丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、S-丁基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸第三戊酯、3-戊基(甲基)丙烯酸酯、2,2-二甲基丁基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正己酯、乙醯(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、4-甲基-2-丙基戊基(甲基)丙烯酸酯、N-十八基(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸(碳數1-20)烷基酯類，更可舉例如：(甲基)丙烯酸環烷酯(例如，(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸環戊酯等)、(甲基)丙烯酸芳烷酯(例如，苄基(甲基)丙烯酸酯等)、多環式(甲基)丙烯酸酯(例如，2-異

基(甲基)丙烯酸酯、2-降

基甲基(甲基)丙烯酸酯、5-降

烯-2-基-甲基(甲基)丙烯酸酯、3-甲基-2-降

基甲基(甲基)丙烯酸酯等)、含羥基之(甲基)丙烯酸酯類(例如，羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、2,3-二羥基丙基甲基-丁基(甲基)甲基丙烯酸酯等)、含烷氧基或苯氧基之(甲基)丙烯酸酯類(2-甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-甲氧基甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、3-甲氧基丁基(甲基)丙烯酸酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯等)、含環氧基之(甲基)丙烯酸酯類(例如，環氧丙基(甲基)丙烯酸酯等)、含鹵素之(甲基)丙烯酸酯類(例如，2,2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2,2,2-三氟乙基乙基(甲基)丙烯酸酯、四氟丙基(甲基)丙烯酸酯、六氟丙基(甲基)丙烯酸酯、八氟戊基(甲基)丙烯酸酯、十七氟癸基(甲基)丙烯酸酯等)、烷基胺基烷基(甲基)丙烯酸酯(例如，二甲基胺乙基(甲基)丙烯酸酯等)等。該等(甲基)丙烯酸酯可單獨使用或併用2種以上。丙烯酸系寡聚物(A)之具體例，可舉東亞合成社製「ARUFON」、綜研化學社製「ACTFLOW」、BASF JAPAN社製「JONCRYL」等為例。

丙烯酸系寡聚物(A)為液體時，因不需考量對接著劑組成物之溶解性，故可較佳地使用。丙烯酸系寡聚物(A)於玻璃轉移溫度(Tg)小於25℃時為一般之液體。又，為兼顧與接著劑組成物之相溶性、及接著劑層中成分之偏存，丙烯酸系寡聚物(A)以含有極性官能基為佳。極性官能基可舉羥基、環氧基、羧基、烷氧基矽基等為例。具體而言，可舉例如：「ARUFON UH系列」、「ARUFON UC系列」、「ARUFON UF系列」、「ARUFON UG系列」、「ARUFON US系列」(均為東亞合成社製)等。其中，因可預期提升與偏光件相互作用之接著性，以含有環氧基為佳。具體而言，可舉「ARUFON UG-4000」、「ARUFON UG-4010」(均為東亞合成社製)為例。

<光酸產生劑>

前述活性能量線硬化型接著劑組成物中可含有光酸產生劑。前述活性能量線硬化型樹脂組成物中含有光酸產生劑時，相較於未含有光酸產生劑的情況，可躍進地提升接著劑層之耐水性及耐久性。光酸產生劑可以下述通式(3)表示。

通式(3)[化3]L⁺ X^-

(但，L⁺表示任意之鎓陽離子。又，X^-表示選自於由PF6₆ ^-、SbF₆ ^-、AsF₆ ^-、SbCl₆ ^-、BiCl₅ ^-、SnCl₆ ^-、ClO₄ ^-、二硫胺甲酸酯陰離子、SCN-所構成群組中之相對陰離子。)。

構成通式(3)之鎓陽離子L⁺的較佳鎓陽離子結構，可舉選自於下述通式(4)~通式(12)之鎓陽離子為例。

通式(4)

通式(5)

通式(6)

[化6]

通式(7)

通式(8)

通式(9)

通式(10)

[化10]

通式(11)

通式(12)

(前述通式(4)-(12)中，但，R¹、R²及R³個別獨立地表示選自於氫原子、取代或未取代之烷基、取代或未取代之烯基、取代或未取代之芳基、取代或未取代之雜環基、取代或未取代之烷氧基、取代或未取代之芳氧基、取代或未取代之雜環氧基、取代或未取代之醯基、取代或未取代之羰氧基、取代或未取代之氧羰基、或鹵素原子之基。R⁴表示與R¹、R²及R³中記載之基相同的基。R⁵表示取代或未取代之烷基、取代或未取代之烷硫基。R⁶及R⁷個別獨立地表示取代或未取代之烷基、取代或未取代之烷氧基。R表示鹵素原子、水酸基、羧基、巰基、氰基、硝基、取代或未取代之胺甲醯基、取代或未取代之烷基、取代或未取代之烯基、取代或未取代之芳基、取代或未取代之雜環基、取代或未取代之烷氧基、取代或未取代之芳氧基、取代或未取代之雜環氧基、取代或未取代之烷硫基、取代或未取代之芳硫基、取代或未取代之雜環硫基、取代或未取代之醯基、取代或未取代之羰氧基、取代或未取代之氧羰基的任一者。Ar⁴、Ar⁵表示取代或未取代之芳基、取代或未取代之雜環基的任一者。X表示氧或硫原子。i表示0~5之整數。j表示0~4之整數。k表示0~3之整數。又，亦可為鄰接之R之間、Ar⁴與Ar⁵、R²與R³、R²與R⁴、R³與R⁴、R¹與R²、R¹與R³、R¹與R⁴、R¹與R、或R¹與R⁵互相鍵結的環狀結構。)。

通式(4)之鎓陽離子(鋶陽離子)，可舉例如：二甲基苯基鋶、二甲基(o-氟苯基)鋶、二甲基(m-氯苯基)鋶、二甲基(p-溴苯基)鋶、二甲基(p-氰苯基)鋶、二甲基(m-硝苯基)鋶、二甲基(2,4,6-三溴苯基)鋶、二甲基(五氟苯基)鋶、二甲基(p-(三氟甲基)苯基)鋶、二甲基(p-羥基苯基)鋶、二甲基(p-巰苯基)鋶、二甲基(p-甲亞磺醯基苯基)鋶、二甲基(p-甲磺醯基苯基)鋶、二甲基(o-乙醯基苯基)鋶、二甲基(o-苯甲醯基苯基)鋶、二甲基(p-甲基苯基)鋶、二甲基(p-異丙基苯基)鋶、二甲基(p-十八基苯基)鋶、二甲基(p-環己基苯基)鋶、二甲基(p-甲氧基苯基)鋶、二甲基(o-甲氧基羰苯基)鋶、二甲基(p-苯基磺醯基苯基)鋶、(7-甲氧基-2-側氧-2H-苯并哌喃-4-基)二甲基鋶、(4-甲氧基萘-1-基)二甲基鋶、二甲基(p-異丙氧基羰苯基)鋶、二甲基(2-萘基)鋶、二甲基(9-蒽基)鋶、二甲基苯基鋶、甲基乙基苯基鋶、甲基二苯基鋶、三苯基鋶、二異丙基苯基鋶、二苯基(4-苯基磺醯基-苯基)-鋶、4,4’-雙(二苯基鋶)硫化二苯基、4,4’-雙[二[(4-(2-羥基-乙氧基)-苯基)]鋶]]硫化二苯基、4,4’-雙(二苯基鋶)聯伸苯基、二苯基(o-氟苯基)鋶、二苯基(m-氯苯基)鋶、二苯基(p-溴苯基)鋶、二苯基(p-氰苯基)鋶、二苯基(m-硝苯基)鋶、二苯基(2,4,6-三溴苯基)鋶、二苯基(五氟苯基)鋶、二苯基(p-(三氟甲基)苯基)鋶、二苯基(p-羥基苯基)鋶、二苯基(p-巰苯基)鋶、二苯基(p-甲亞磺醯基苯基)鋶、二苯基(p-甲磺醯基苯基)鋶、二苯基(o-乙醯基苯基)鋶、二苯基(o-苯甲醯基苯基)鋶、二苯基(p-甲基苯基)鋶、二苯基(p-異丙基苯基)鋶、二苯基(p-十八基苯基)鋶、二苯基(p-環己基苯基)鋶、二苯基(p-甲氧基苯基)鋶、二苯基(o-甲氧基羰苯基)鋶、二苯基(p-苯基磺醯基苯基)鋶、(7-甲氧基-2-側氧-2H-苯并哌喃-4-基)二苯基鋶、(4-甲氧基萘-1-基)二苯基鋶、二苯基(p-異丙氧基羰苯基)鋶、二苯基(2-萘基)鋶、二苯基(9-蒽基)鋶、乙基二苯基鋶、甲基乙基(o-甲苯基)鋶、甲基二(p-甲苯基)鋶、三(p-甲苯基)鋶、二異丙基(4-苯基磺醯基苯基)鋶、二苯基(2-噻吩基)鋶、二苯基(2-呋喃基)鋶、二苯基(9-乙基-9H咔唑-3-基)鋶等，但並未受該等所限定。

通式(5)之鎓陽離子(亞碸鎓陽離子)，可舉例如：二甲基苯基亞碸鎓、二甲基(o-氟苯基)亞碸鎓、二甲基(m-氯苯基)亞碸鎓、二甲基(p-溴苯基)亞碸鎓、二甲基(p- 氰苯基)亞碸鎓、二甲基(m-硝苯基)亞碸鎓、二甲基(2,4,6-三溴苯基)亞碸鎓、二甲基(五氟苯基)亞碸鎓、二甲基(p-(三氟甲基)苯基)亞碸鎓、二甲基(p-羥基苯基)亞碸鎓、二甲基(p-巰苯基)亞碸鎓、二甲基(p-甲亞磺醯基苯基)亞碸鎓、二甲基(p-甲磺醯基苯基)亞碸鎓、二甲基(o-乙醯基苯基)亞碸鎓、二甲基(o-苯甲醯基苯基)亞碸鎓、二甲基(p-甲基苯基)亞碸鎓、二甲基(p-異丙基苯基)亞碸鎓、二甲基(p-十八基苯基)亞碸鎓、二甲基(p-環己基苯基)亞碸鎓、二甲基(p-甲氧基苯基)亞碸鎓、二甲基(o-甲氧基羰苯基)亞碸鎓、二甲基(p-苯基磺醯基苯基)亞碸鎓、(7-甲氧基-2-側氧-2H-苯并哌喃-4-基)二甲基亞碸鎓、(4-甲氧基萘-1-基)二甲基亞碸鎓、二甲基(p-異丙氧基羰苯基)亞碸鎓、二甲基(2-萘基)亞碸鎓、二甲基(9-蒽基)亞碸鎓、二乙基苯基亞碸鎓、甲基乙基苯基亞碸鎓、甲基二苯基亞碸鎓、三苯基亞碸鎓、二異丙基苯基亞碸鎓、二苯基(4-苯基磺醯基-苯基)-亞碸鎓、4,4’-雙(二苯基亞碸鎓)硫化二苯基、4,4’-雙[二[(4-(2-羥基-乙氧基)-苯基)]亞碸鎓]硫化二苯基、4,4’-雙(二苯基亞碸鎓)聯伸苯基、二苯基(o-氟苯基)亞碸鎓、二苯基(m-氯苯基)亞碸鎓、二苯基(p-溴苯基)亞碸鎓、二苯基(p-氰苯基)亞碸鎓、二苯基(m-硝苯基)亞碸鎓、二苯基(2,4,6-三溴苯基)亞碸鎓、二苯基(五氟苯基)亞碸鎓、二苯基(p-(三氟甲基)苯基)亞碸鎓、二苯基(p-羥基苯基)亞碸鎓、二苯基(p-巰苯基)亞碸鎓、二苯基(p-甲亞磺醯基苯基)亞碸鎓、二苯基(p-甲磺醯基苯基)亞碸鎓、二苯基(o-乙醯基苯基)亞碸鎓、二苯基(o-苯甲醯基苯基)亞碸鎓、二苯基(p-甲基苯基)亞碸鎓、二苯基(p-異丙基苯基)亞碸鎓、二苯基(p-十八基苯基)亞碸鎓、二苯基(p-環己基苯基)亞碸鎓、二苯基(p-甲氧基苯基)亞碸鎓、二苯基(o-甲氧基羰苯基)亞碸鎓、二苯基(p-苯基磺醯基苯基)亞碸鎓、(7-甲氧基-2-側氧-2H-苯并哌喃-4-基)二苯基亞碸鎓、(4-甲氧基萘-1-基)二苯基亞碸鎓、二苯基(p-異丙氧基羰苯基)亞碸鎓、二苯基(2-萘基)亞碸鎓、二苯基(9-蒽基)亞碸鎓、乙基二苯基亞碸鎓、甲基乙基(o-甲苯基)亞碸鎓、甲基二(p-甲苯基)亞碸鎓、三(p-甲苯基)亞碸鎓、二異丙基(4-苯基磺醯基苯基)亞碸鎓、二苯基(2-噻吩基)亞碸鎓、二苯基(2-呋喃基)亞碸鎓、二苯基(9-乙基-9H咔唑-3-基)亞碸鎓等，但並未受該等所限定。

通式(6)之鎓陽離子(鏻鎓陽離子)：鏻鎓陽離子之例，可舉例如：三甲基苯基鏻鎓、三乙基苯基鏻鎓、四苯基鏻鎓、三苯基(p-氟苯基)鏻鎓、三苯基(o-氯苯基)鏻鎓、三苯基(m-溴苯基)鏻鎓、三苯基(p-氰苯基)鏻鎓、三苯基(m-硝苯基)鏻鎓、三苯基(p-苯基磺醯基苯基)鏻鎓、(7-甲氧基-2-側氧-2H-苯并哌喃-4-基)三苯基鏻鎓、三苯基(o-羥基苯基)鏻鎓、三苯基(o-乙醯基苯基)鏻鎓、三苯基(m-苯甲醯基苯基)鏻鎓、三苯基(p-甲基苯基)鏻鎓、三苯基(p-異丙氧基苯基)鏻鎓、三苯基(o-甲氧基羰苯基)鏻鎓、三苯基(1-萘基)鏻鎓、三苯基(9-蒽基)鏻鎓、三苯基(2-噻吩基)鏻鎓、三苯基(2-呋喃基)鏻鎓、三苯基(9-乙基-9H咔唑-3-基)鏻鎓等，但並未受該等所限定。

通式(7)之鎓陽離子(吡啶陽離子)：吡啶陽離子之例，可舉例如：N-苯基吡啶、N-(o-氯苯基)吡啶、N-(m-氯苯基)吡啶、N-(p-氰苯基)吡啶、N-(o-硝苯基)吡啶、N-(p-乙醯基苯基)吡啶、N-(p-異丙基苯基)吡啶、N-(p-十八基氧苯基)吡啶、N-(p-甲氧基羰苯基)吡啶、N-(9-蒽基)吡啶、2-氯-1-苯基吡啶、2-氰-1-苯基吡啶、2-甲基-1-苯基吡啶、2-乙烯-1-苯基吡啶、2-苯基-1-苯基吡啶、1,2-二苯基吡啶、2-甲氧基-1-苯基吡啶、2-苯氧基-1-苯基吡啶、2-乙醯基-1-(p-甲苯基)吡啶、2-甲氧基羰-1-(p-甲苯基)吡啶、3-氟-1-萘基吡啶、4-甲基-1-(2-呋喃基)吡啶、N-甲基吡啶、N-乙基吡啶等，但並未受該等所限定。

通式(8)之鎓陽離子(喹啉鎓陽離子)：喹啉鎓陽離子之例，可舉例如：N-甲基喹啉鎓、N-乙基喹啉鎓、N-苯基喹啉鎓、N-萘基喹啉鎓、N-(o-氯苯基)喹啉鎓、N-(m-氯苯基)喹啉鎓、N-(p-氰苯基)喹啉鎓、N-(o-硝苯基)喹啉鎓、N-(p-乙醯基苯基)喹啉鎓、N-(p-異丙基苯基)喹啉鎓、N-(p-十八基氧苯基)喹啉鎓、N-(p-甲氧基羰苯基)喹啉鎓、N-(9-蒽基)喹啉鎓、2-氯-1-苯基喹啉鎓、2-氰-1-苯基喹啉鎓、2-甲基-1-苯基喹啉鎓、2-乙烯-1-苯基喹啉鎓、2-苯基-1-苯基喹啉鎓、1,2-二苯基喹啉鎓、2-甲氧基-1-苯基喹啉鎓、2-苯氧基-1-苯基喹啉鎓、2-乙醯基-1-苯基喹啉鎓、2-甲氧基羰-1-苯基喹啉鎓、 3-氟-1-苯基喹啉鎓、4-甲基-1-苯基喹啉鎓、2-甲氧基-1-(p-甲苯基)喹啉鎓、2-苯氧基-1-(2-呋喃基)喹啉鎓、2-乙醯基-1-(2-噻吩基)喹啉鎓、2-甲氧基羰-1-甲基喹啉鎓、3-氟-1-乙基喹啉鎓、4-甲基-1-異丙基喹啉鎓等，但並未受該等所限定。

通式(9)之鎓陽離子(異喹啉鎓陽離子)：異喹啉鎓陽離子之例，可舉例如：N-苯基異喹啉鎓、N-甲基異喹啉鎓、N-乙基異喹啉鎓、N-(o-氯苯基)異喹啉鎓、N-(m-氯苯基)異喹啉鎓、N-(p-氰苯基)異喹啉鎓、N-(o-硝苯基)異喹啉鎓、N-(p-乙醯基苯基)異喹啉鎓、N-(p-異丙基苯基)異喹啉鎓、N-(p-十八基氧苯基)異喹啉鎓、N-(p-甲氧基羰苯基)異喹啉鎓、N-(9-蒽基)異喹啉鎓、1,2-二苯基異喹啉鎓、N-(2-呋喃基)異喹啉鎓、N-(2-噻吩基)異喹啉鎓、N-萘基異喹啉鎓等，但並未受該等所限定。

通式(10)之鎓陽離子(苯并

唑鎓陽離子、苯并噻唑鎓陽離子)：苯并

唑鎓陽離子之例，可舉例如：N-甲基苯并

唑鎓、N-乙基苯并

唑鎓、N-萘基苯并

唑鎓、N-苯基苯并

唑鎓、N-(p-氟苯基)苯并

唑鎓、N-(p-氯苯基)苯并

唑鎓、N-(p-氰苯基)苯并

唑鎓、N-(o-甲氧基羰苯基)苯并

唑鎓、N-(2-呋喃基)苯并

唑鎓、N-(o-氟苯基)苯并

唑鎓、N-(p-氰苯基)苯并

唑鎓、N-(m-硝苯基)苯并

唑鎓、N-(p-異丙氧基羰苯基)苯并

唑鎓、N-(2-噻吩基)苯并

唑鎓、N-(m-羧基苯基)苯并

唑鎓、2-巰-3-苯基苯并

唑鎓、2-甲基-3-苯基苯并

唑鎓、2-甲硫基-3-(4-苯基磺醯基苯基)苯并

唑鎓、6-羥基-3-(p-甲苯基)苯并

唑鎓、7-巰-3-苯基苯并

唑鎓、4，5-二氟-3-乙基苯并

唑鎓等，但並未受該等所限定。

苯并噻唑鎓陽離子之例：N-甲基苯并噻唑鎓、N-乙基苯并噻唑鎓、N-苯基苯并噻唑鎓、N-(1-萘基)苯并噻唑鎓、N-(p-氟苯基)苯并噻唑鎓、N-(p-氯苯基)苯并噻唑鎓、N-(p-氰苯基)苯并噻唑鎓、N-(o-甲氧基羰苯基)苯并噻唑鎓、N-(p-甲苯基)苯并噻唑鎓、N-(o-氟苯基)苯并噻唑鎓、N-(m-硝苯基)苯并噻唑鎓、N-(p-異丙氧基羰苯基)苯并噻唑鎓、N-(2-呋喃基)苯并噻唑鎓、N-(4-甲硫基苯基)苯并噻唑鎓、N-(4-苯基磺醯基苯基)苯并噻唑鎓、N-(2-萘基)苯并噻唑鎓、N-(m-羧基苯基)苯并噻唑鎓、2-巰-3-苯基苯并噻唑鎓、2-甲基-3-苯基苯并噻唑鎓、2-甲硫基-3-苯基苯并噻唑鎓、6-羥基-3-苯基苯并噻唑鎓、7-巰-3-苯基苯并噻唑鎓、4，5-二氟-3-苯基苯并噻唑鎓等，但並未受該等所限定。

通式(11)之鎓陽離子(呋喃基或噻吩基錪鎓陽離子)：二呋喃基錪鎓、二噻吩基錪鎓、雙(4，5-二甲基-2-呋喃基)錪鎓、雙(5-氯-2-噻吩基)錪鎓、雙(5-氰-2-呋喃基)錪鎓、雙(5-硝-2-噻吩基)錪鎓、雙(5-乙醯基-2-呋喃基)錪鎓、雙(5-羧基-2-噻吩基)錪鎓、雙(5-甲氧基羰-2-呋喃基)錪鎓、雙(5-苯基-2-呋喃基)錪鎓、雙(5-(p-甲氧基苯基)-2-噻吩基)錪鎓、雙(5-乙烯-2-呋喃基)錪鎓、雙(5-乙炔基-2-噻吩基)錪鎓、雙(5-環己基-2-呋喃基)錪鎓、雙(5-羥基-2-噻吩基)錪鎓、雙(5-苯氧基-2-呋喃基)錪鎓、雙(5-巰-2-噻吩基)錪鎓、雙(5-丁硫基-2-噻吩基)錪鎓、雙(5-苯硫基-2-噻吩基)錪鎓等，但並未受該等所限定。

通式(12)之鎓陽離子(二芳錪鎓陽離子)：二苯基錪鎓、雙(p-甲苯基)錪鎓、雙(p-辛基苯基)錪鎓、雙(p-十八基苯基)錪鎓、雙(p-辛基氧苯基)錪鎓、雙(p-十八基氧苯基)錪鎓、苯基(p-十八基氧苯基)錪鎓、4-異丙基-4’-甲基二苯基錪鎓、(4-異丁基苯基)-p-甲苯基錪鎓、雙(1-萘基)錪鎓、雙(4-苯基磺醯基苯基)錪鎓、苯基(6-苯甲醯基-9-乙基-9H-咔唑-3-基)錪鎓、(7-甲氧基-2-側氧-2H-苯并哌喃-3-基)-4’-異丙基苯基錪鎓等，但並未受該等所限定。

接著，說明通式(3)中之相對陰離子X^-。

通式(3)中之相對陰離子X^-原則上並未特別限定，但以非親核性陰離子為佳。相對陰離子X^-為非親核性陰離子時，因分子內共存之陽離子或併用之各種材料中不易產生親核反應，結果，可提升通式(2)所紀錄之光酸產生劑自身或使用有其之組成物的時間穩定性。此處所指之非親核性陰離子為產生親核反應之能力低的陰離子。如此之陰離子，可舉PF₆ ^-、SbF₆ ^-、AsF₆ ^-、SbCl₆ ^-、BiCl₅ ^-、SnCl₆ ^-、ClO₄ ^-、二硫胺甲酸酯陰離子、SCN^-等為例。

前述例示之陰離子中，通式(3)中之相對陰離子 X^-，特別以PF₆ ^-、SbF₆ ^-及AsF₆ ^-為佳，特佳者可舉PF₆ ^-、SbF₆ ^-為例。

因此，構成本發明中可使用之光酸產生劑的鎓鹽之具體例為由前述例示之一般式(3)~一般式(12)所表示之鎓陽離子構造的具體例與選自於PF₆ ^-、SbF₆ ^-、AsF₆ ^-、SbCl₆ ^-、BiCl₅ ^-、SnCl₆ ^-、ClO₄ ^-、二硫胺甲酸酯陰離子、SCN^-之陰離子所構成的鎓鹽。

具體而言，可舉：「Cyracure UVI-6992」、「Cyracure UVI-6974」(以上，DOW Chemical日本股份有限公司製)、「ADEKA OPTOMER SP150」、「ADEKA OPTOMER SP152」、「ADEKA OPTOMER SP170」、「ADEKA OPTOMER SP172」(以上，股份有限公司ADEKA製)、「IRGACURE250」(Chiba Specialty Chemicals社製)、「CI-5102」、「CI-2855」(以上，日本曹達社製)、「SAN-AID SI-60L」、「SAN-AID SI-80L」、「SAN-AID SI-100L」、「SAN-AID SI-110L」、「SAN-AID SI-180L」(以上，三新化學社製)、「CPI-100P」、「CPI-100A」(以上，SAN-APRO股份有限公司製)、「WPI-069」、「WPI-113」、「WPI-116」、「WPI-041」、「WPI-044」、「WPI-054」、「WPI-055」、「WPAG-281」、「WPAG-567」、「WPAG-596」(以上，和光純藥社製)，作為本發明之光酸產生劑之較佳具體例。

相對於硬化性成分之全量100重量份，光酸產生劑之含量為10重量份以下，以0.01~10重量份為佳，以0.05~5重量份較佳，以0.1~3重量份特佳。

<包含烷氧基、環氧基任一者之化合物>

前述活性能量線硬化型接著劑組成物中，可併用光酸產生劑與包含烷氧基、環氧基任一者之化合物。

(具環氧基之化合物及高分子)

於使用分子內具1個以上之環氧基的化合物或分子內具2個以上之環氧基的高分子(環氧樹脂)時，亦可併用分子內具二個以上具與環氧基之反應性的官能基的化合物。此處，具與環氧基之反應性的官能基，可舉羧基、酚性羥基、巰基、1級或2級之芳香族胺基等為例。考量到3次元硬化性，以於一分子中具有2個以上該等官能基特佳。

分子內具1個以上之環氧基之高分子，以環氧樹脂為例，有自雙酚A與表氯醇所衍生之雙酚A型環氧樹脂、自雙酚F與表氯醇所衍生之雙酚F型環氧樹脂、雙酚S型環氧樹脂、酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、雙酚A酚醛清漆型環氧樹脂、雙酚F酚醛清漆型環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、二苯基醚型環氧樹脂、氫醌型環氧樹脂、萘型環氧樹脂、聯苯型環氧樹脂、茀型環氧樹脂、3官能型環氧樹脂或4官能型環氧樹脂等多官能型環氧樹脂、環氧丙基酯型環氧樹脂、環氧丙基胺型環氧樹脂、乙內醯脲型環氧樹脂、異三聚氰酸型環氧樹脂、脂肪族鏈狀環氧樹脂等，該等環氧樹脂可被鹵化，亦可被氫化。市售之環氧樹脂製品，可舉例如：Japan Epoxy Resins股份有限公司製之JER COAT 828、1001、801N、806、807、152、604、630、871、YX8000、YX8034、YX4000、DIC 股份有限公司製之Epikuron 830、EXA835LV、HP4032D、HP820、股份有限公司ADEKA製

EP4100系列、EP4000系列、EPU系列、DAICEL化學股份有限公司製之Celloxide系列(2021、2021P、2083、2085、3000等)、Epolead系列、EHPE系列、新日鐵化學社製之YD系列、YDF系列、YDCN系列、YDB系列、苯氧基樹脂(由雙酚類與表氯醇所合成之聚羥基聚醚且兩末端具環氧基；YP系列等)、Nagase chemteX社製之Denacol系列、共榮社化學社製之Epolight系列等，但並未受限為該等。亦可併用2種以上之該等環氧樹脂。另，於計算接著劑層之玻璃轉移溫度Tg時，不將具乙氧基之化合物及高分子列入計算。

(具烷氧基之化合物及高分子)

分子內具烷氧基之化合物，只要為於分子內具有1個以上之烷氧基者即可，並未特別限制，可使用眾所皆知者。如此之化合物，可代表性地舉三聚氰胺化合物、胺基樹脂、矽烷偶合劑等為例。另，於計算接著劑層之玻璃轉移溫度Tg時，不將具烷氧基之化合物及高分子列入計算。

相對於硬化性成分之全量100重量份，含有烷氧基、環氧基任一者之化合物的摻合量，通常為30重量份以下，組成物中之化合物含量過多時，有接著性下降，對落下試驗之耐衝撃性惡化的情形。組成物中之化合物含量，以20重量份以下較佳。另一方面，由耐水性來看，組成物中化合物以含有2重量份以上為佳，以含有5重量份以上較佳。

<矽烷偶合劑>

本發明之偏光薄膜用硬化型接著劑於使用活性能量線硬化性硬化型時，矽烷偶合劑以使用活性能量線硬化性之化合物為佳，但即使不為活性能量線硬化性，仍可賦與相同之耐水性。

矽烷偶合劑之具體例，活性能量線硬化性之化合物，可舉例如：乙烯基三氯矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、2-(3,4環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、p-苯乙烯基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷等。

以3-甲基丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷為佳。

非活性能量線硬化性之矽烷偶合劑的具體例，以具胺基之矽烷偶合劑(D1)為佳。具胺基之矽烷偶合劑(D1)的具體例，可舉例如：γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-胺基丙基三異丙氧基矽烷、γ-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基三異丙氧基矽烷、γ-(2-(2-胺基乙基)胺基乙基)胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-(6-胺基己基)胺基丙基三甲氧基矽烷、3-(N-乙基胺基)-2-甲基丙基三甲氧基矽烷、γ-脲基丙基三甲氧基矽烷、γ-脲基丙基三乙氧基矽烷、N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-苄基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-乙烯基苄基-γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、N-環己基胺基甲基三乙氧基矽烷、N-環己基胺基甲基二乙氧甲基矽烷、N-苯基胺基甲基三甲氧矽烷、(2-胺基乙基)胺基甲基三甲氧矽烷、N,N’-雙[3-(三甲氧基矽基)丙基]乙二胺等含胺基之矽烷類；N-(1,3-二甲基亞丁基)-3-(三乙氧基矽基)-1-丙烷胺等酮亞胺型矽烷類。

具胺基之矽烷偶合劑(D1)，可僅使用1種，亦可組合複數種使用。該等中，為確保良好之接著性，以γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基甲基二乙氧基矽烷、N-(1,3-二甲基亞丁基)-3-(三乙氧基矽基)-1-丙烷胺為佳。

相對於硬化性成分之全量100重量份，矽烷偶合劑之摻合量以0.01~20重量份之範圍為佳，以0.05~15重量份較佳，以0.1~10重量份更佳。這是因為摻合量大於20重量份時，接著劑之保存穩定性將惡化，又，小於0.1重量份時將未能充分發揮耐水接著性效果之故。另，於計算接著劑層之玻璃轉移溫度Tg時，不將矽烷偶合劑列入計算。

非前述以外之活性能量線硬化性的矽烷偶合劑之具體例，可舉例如：3-脲基丙基三乙氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷、四硫化雙(三乙氧基矽基丙基)、3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、咪唑矽烷等。

<前述以外之添加劑>

又，於不損及本發明之目的、效果之範圍內，可於本發明使用之活性能量線硬化型接著劑組成物中摻合各種添加劑作為其他任意成分。該添加劑，可舉例如：環氧樹脂、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚胺基甲酸酯、聚丁二烯、聚氯丁二烯、聚醚、聚酯、苯乙烯-丁二烯嵌段共聚物、石油樹脂、二甲苯樹脂、酮樹脂、纖維素樹脂、氟系寡聚物、矽酮系寡聚物、多硫系寡聚物等聚合物或寡聚物；硫二苯胺、2,6-二-第三丁基-4-甲基酚等聚合禁止劑；聚合起始助劑；均染劑；濕潤性改良劑；界面活性劑；可塑劑；紫外線吸收劑；無機填充劑；顏料；染料等。

相對於硬化性成分之全量100重量份，前述添加劑通常為0~10重量份，以0~5重量份為佳，最佳者為0~3重量份。

<接著劑之黏度>

本發明中使用之活性能量線硬化型接著劑組成物含有前述硬化性成分，但由塗敷性之觀點來看，該接著劑組成物之黏度於25℃中以100cp以下為佳。另一方面，本發明之偏光薄膜用硬化型接著劑於25℃中大於100cp時，亦可控制塗敷時接著劑之溫度，調整至100cp以下後使用。黏度之較佳範圍為1~80cp，最佳者為10~50cp。黏度可使用東機產業社製之E型黏度計TVE22LT測量。

又，由安全性之觀點來看，本發明中使用之活性能量線硬化型接著劑組成物中，前述硬化性成分以使用低皮膚刺激性之材料為佳。皮膚刺激性可以P.I.I之指標判斷。P.I.I廣泛使用作為顯示皮膚刺激之程度，利用崔氏法(Draize)測量。於0~8之範圍內顯示測量值，數值越小則判斷刺激性越低，因測量值之誤差大，故以作為參考值為佳。P.I.I以4以下為佳，較佳者是3以下，最佳者為2以下。

藉由本發明之製造方法所製造之積層光學薄膜，透過藉使活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所形成之接著劑層，至少積層有第1光學薄膜及第2光學薄膜。

<接著劑層>

藉由活性能量線硬化型接著劑組成物所形成之接著劑層厚度，以控制於0.1~3μm為佳。接著劑層之厚度以0.3~2μm較佳，更佳者為0.5~1.5μm。將接著劑層之厚度設為0.1μm以上，可抑制接著劑層之凝集力導致的接著不良產生、或積層時產生外觀不良(氣泡)，故為佳。另一方面，接著劑層較3μm厚時，有偏光薄膜無法滿足耐久性的疑慮。

又，活性能量線硬化型接著劑組成物，以選擇由其所形成之接著劑層的Tg為60℃以上者為佳，以70℃以上較佳，更佳者為75℃以上，又以100℃以上為佳，再以120℃以上為佳。另一方面，接著劑層之Tg過高時，因偏光薄膜之可撓性下降，故接著劑層之Tg以300℃以下為佳，以240℃以下較佳，以180℃以下更佳。Tg(玻璃轉移溫度)可使用TA Instrument製動態黏彈性測量裝置RSAIII，於以下之測量條件下測量。

試樣尺寸：寬度10mm、長度30mm、夾持距離20mm、測量模式：拉伸、頻率：1Hz、升溫速度：5℃/分。

進行動態黏彈性之測量，作為tanδ之峰頂溫度Tg使用。

又，活性能量線硬化型接著劑組成物，以設計成由其所形成之接著劑層的儲藏彈性係數於70℃以下之領域為1.0×10⁶Pa以上為佳。更以1.0×10⁷Pa以上較佳。接著劑層之儲藏彈性係數將影響對偏光薄膜進行熱循環(-40℃至80℃等)時之偏光件裂痕，儲藏彈性係數低時，容易產生偏光件裂痕的不良情況。具高儲藏彈性係數之溫度領域，以80℃以下較佳，以90℃以下最佳。儲藏彈性係數可與Tg(玻璃轉移溫度)同時使用TA Instrument製動態黏彈性測量裝置RSAIII，以相同之測量條件測量。進行動態黏彈性之測量，使用儲藏彈性係數(E’)之值。

本發明之積層光學薄膜之製造方法，為透過藉使活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所形成之接著劑層至少積層有第1光學薄膜及第2光學薄膜的積層光學薄膜之製造方法；特徵在於，前述活性能量線硬化型接著劑組成物含有至少2種以上不同活性能量線硬化型接著劑組成物，包含第1活性能量線硬化型接著劑組成物及第2活性能量線硬化型接著劑組成物；本發明之製造方法包含以下步驟：塗敷步驟，於前述第1光學薄膜之貼合面塗敷前述第1活性能量線硬化型接著劑組成物，又於前述第2光學薄膜之貼合面塗敷前述第2活性能量線硬化型接著劑組成物；貼合步驟，貼合前述第1光學薄膜及前述第2光學薄膜；及接著步驟，透過前述接著劑層使前述第1光學薄膜及前述第2光學薄膜接著，前述接著劑層係藉自前述第1光學薄膜面側或前述第2光學薄膜面側照射活性能量線，使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所形成。

另一本發明之積層光學薄膜之製造方法，為透過藉使活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所形成之接著劑層至少積層有第1光學薄膜及第2光學薄膜的積層光學薄膜之製造方法；特徵在於，前述活性能量線硬化型接著劑組成物含有至少2種以上不同活性能量線硬化型接著劑組成物，包含第1活性能量線硬化型接著劑組成物及第2活性能量線硬化型接著劑組成物；前述製造方法包含以下步驟：塗敷步驟，於前述第1光學薄膜之貼合面塗敷前述第1活性能量線硬化型接著劑組成物，並於已塗敷前述第1活性能量線硬化型接著劑組成物之塗敷面上，進一步面塗塗敷前述第2活性能量線硬化型接著劑組成物；貼合步驟，自經塗敷於第1光學薄膜上之第2活性能量線硬化型接著劑組成物之塗敷面側貼合前述第2光學薄膜；及接著步驟，透過前述接著劑層使前述第1光學薄膜及前述第2光學薄膜接著，前述接著劑層係藉自前述第1光學薄膜面側或前述第2 光學薄膜面側照射活性能量線，使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所形成。

又，本發明之積層光學薄膜之製造方法中，於該積層光學薄膜為偏光薄膜時，偏光件、透明保護薄膜於塗敷前述活性能量線硬化型接著劑組成物前，亦可進行表面改質處理。具體之處理可舉電暈處理、電漿處理、利用皂化處理之處理等為例。

活性能量線硬化型接著劑組成物之塗敷方式，可視組成物之黏度或目的之厚度適當地選擇。塗敷方式之例，可舉例如：反向塗布機、凹版塗布機(直接、反向或平版)、桿反向塗布機、輥塗布機、模具塗布機、桿塗布機、棒塗布機等。其他，塗敷可適當地使用浸漬方式等方式。

透過如前述塗敷之活性能量線硬化型接著劑組成物，貼合2種不同光學薄膜，例如，偏光件與透明保護薄膜。偏光件與透明保護薄膜之貼合，可藉由輥壓合等進行。

<接著劑之硬化>

本發明中使用之活性能量線硬化型接著劑組成物，可於電子束硬化型、紫外線硬化型、可見光線硬化型之態樣下使用。由生產性之觀點來看，以可見光線硬化型接著劑組成物作為活性能量線硬化型接著劑組成物為佳。

活性能量線硬化型接著劑組成物中，例如，於貼合偏光件與透明保護薄膜後，照射活性能量線(電子束、紫外線、可見光線等)，硬化活性能量線硬化型接著劑組成物後形成接著劑層。活性能量線(電子束、紫外線、可見光線等)之照射方向可自任意適當之方向照射。以自透明保護薄膜側照射為佳。自偏光件側照射時，有偏光件因活性能量線(電子束、紫外線、可見光線等)劣化的疑慮。

電子束硬化型中，電子束之照射條件只要為可使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化之條件的話，可使用任意適當之條件。例如，電子束照射時，加速電壓以5kV~300kV為佳，更佳者為10kV~250kV。加速電壓小於5kV時，電子束未能到達接著劑，有硬化不足的疑慮，加速電壓大於300kV時，透過試料之滲透力過強，有對透明保護薄膜或偏光件造成損害的疑慮。照射線量為5~100kGy，更以10~75kGy為佳。照射線量小於5kGy時，接著劑將硬化不足，大於100kGy時，將對透明保護薄膜或偏光件造成損害，使機械強度下降或產生黃變，未能得到預定之光學特性。

電子束照射通常於惰性氣體中進行照射，但亦可視需要於大氣中或導入有少量氧之條件下進行。雖視透明保護薄膜材料而定，但藉由適當地導入氧，反倒於電子束最先碰到之透明保護薄膜面產生氧化損害，可防止電子束對透明保護薄膜之損害，可有效率地僅對接著劑照射電子束。

本發明之積層光學薄膜之製造方法中，特別以活性能量線為包含波長範圍380nm~450nm之可見光線者，特別以使用波長範圍380nm~450nm之可見光線照射量最多的活性能量線為佳。紫外線硬化型、可見光線硬化型中，使用賦與有紫外線吸收能之透明保護薄膜(紫外線不透射型透明保護薄膜)時，因吸收約較380nm短波長之光，較380nm短波長之光未能到達活性能量線硬化型接著劑，無助於該聚合反應。此外，藉由透明保護薄膜所吸收之較380nm短波長的光轉換為熱，透明保護薄膜本身發熱，成為偏光薄膜捲曲、紋路等不良之原因。因此，本發明中使用紫外線硬化型、可見光線硬化型時，以使用不發較380nm短波長之光的裝置作為活性能量線發生裝置為佳，更具體而言，波長範圍380~440nm之積算照度與波長範圍250~370nm之積算照度比以100：0~100：50為佳，以100：0~100：40較佳。本發明之活性能量線，以內含鎵之金屬鹵素燈、發波長範圍380~440nm光之LED光源為佳。抑或，可使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、白熾燈、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、金屬鹵素燈、螢光燈、鎢燈、鎵燈、包含準分子雷射或太陽光等紫外線與可見光線之光源，亦可使用帶通濾光片遮斷較380nm短波長之紫外線使用。為提高偏光件與透明保護薄膜間之接著劑層的接著性能，並防止偏光薄膜之捲曲，以使用內含鎵之金屬鹵素燈且透過可遮斷較380nm短波長之光的帶通濾光片所得之活性能量線、或使用LED光源所得之波長405nm的活性能量線為佳。

紫外線硬化型或可見光線硬化型中，亦以照射紫外線或可見光線後加溫活性能量線硬化型接著劑(照射後加溫)為佳，此時，以加溫至40℃以上為佳，以加溫至50℃以上較佳。

本發明中使用之活性能量線硬化型接著劑特別適合使用於形成接著偏光件與波長365nm之光線穿透率小於5%之透明保護薄膜的接著劑層。此處，本發明之活性能量線硬化型接著劑藉由含有上述通式(1)之光聚合起始劑，而隔著具UV吸收能之透明保護薄膜照射紫外線，可硬化形成接著劑層。於是，於偏光件之兩面積層有具UV吸收能之透明保護薄膜的偏光薄膜中，亦可使接著劑層硬化。但，想當然爾，於積層有未具UV吸收能之透明保護薄膜的偏光薄膜中，亦可使接著劑層硬化。再者，具UV吸收能之透明保護薄膜意指對380nm之光的穿透率小於10%之透明保護薄膜。

賦與透明保護薄膜UV吸收能之方法，可舉使透明保護薄膜中含有紫外線吸收劑之方法、或於透明保護薄膜表面積層含有紫外線吸收劑之表面處理層的方法為例。

紫外線吸收劑之具體例，可舉例如：以往眾所皆知的氧基二苯基酮系化合物、苯并三唑系化合物、柳酸酯系化合物、二苯基酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物、三

系化合物等。

貼合2種不同光學薄膜、例如偏光件與透明保護薄膜後，照射活性能量線(電子束、紫外線、可見光線等)，硬化活性能量線硬化型接著劑後形成接著劑層。貼合偏光件與透明保護薄膜時偏光件之含水率通常為1%以上，以3%以上為佳，較佳者是5%以上。又，偏光件含水率過高時，因貼合後偏光件中之水分朝移動接著劑層移動，接著劑組成物中之logPOW為2~7之B成分產生層分離，造成外觀不良，故不佳。偏光件含水率以18%以下為佳，較佳者是15%以下，最佳者為12%以下。偏光件含水率藉自所得之偏光件切出180mm×500mm之試樣，測量其初期重量(W(g))。將該試樣置於120℃之乾燥機內6小時後，測量乾燥後重量(D(g))。由該等測量值利用下述式求出含水率。

含水率(%)={(W-D)/W}×100

活性能量線(電子束、紫外線、可見光線等)之照射方向可自任意適當之方向照射。以自透明保護薄膜側照射為佳。自偏光件側照射時，有偏光件因活性能量線(電子束、紫外線、可見光線等)劣化的疑慮。

於連續生產線上製造本發明之積層光學薄膜時，雖視接著劑之硬化時間而定，但生產線速度以1~500m/min為佳，較佳者是5~300m/min，更佳者為10~100m/min。生產線速度過慢時，生產性差、或對透明保護薄膜之損害過大而無法製作可通過耐久性試驗等的偏光薄膜。生產線速度過快時，接著劑之硬化變得不充分，有未能得到目的之接著性的情況。

再者，本發明之積層光學薄膜之製造方法中，該積層光學薄膜為偏光薄膜時，偏光件與透明保護薄膜透過藉由前述活性能量線硬化型接著劑之硬化物層所形成之接著劑層貼合，但透明保護薄膜與接著劑層之間可設置易接著層。易接著層可藉由具有例如，聚酯骨架、聚醚骨架、聚碳酸酯骨架、聚胺基甲酸酯骨架、矽酮系、聚醯胺骨架、聚醯亞胺骨架、聚乙烯醇骨架等之各種樹脂形成。該等聚合物樹脂可單獨使用1種、或組合2種以上使用。又，易接著層之形成亦可添加其他添加劑。具體而言，可更加使用黏著賦與劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑等穩定劑等。

通常，於透明保護薄膜預先設置易接著層，再藉由接著劑層貼合該透明保護薄膜之易接著層側與偏光件。易接著層之形成可藉由眾所皆知的技術於透明保護薄膜上塗敷、乾燥易接著層之形成材地進行。通常，於考量到乾燥後之厚度、塗敷之圓滑性等後將易接著層之形成材作成稀釋至適當濃度的溶液。易接著層之乾燥後的厚度，以0.01~5μm為佳，較佳者是0.02~2μm，更佳者為0.05~1μm。再者，雖可設置複數層易接著層，但仍以易接著層之總厚度於前述範圍內為佳。

<偏光件>

本發明之製造方法特別有用於作為偏光薄膜之製造方法。並未特別限制偏光件於製造偏光薄膜時使用之偏光件，可使用各種偏光件。偏光件可舉例如：使碘或二色性染料等二色性材料吸附於聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯．乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜後，單軸延伸而成者，即聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系定向薄膜等。該等中亦以由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質所構成之偏光件為佳。該等偏光件之厚度雖無特別限制，但一般為80μm左右以下。

將聚乙烯醇系薄膜以碘染色並經單延伸之偏光件，可藉由例如，將聚乙烯醇浸漬碘之水溶液中染色，並延伸至原本長度的3~7倍地製作。視需要，亦可浸漬於硼酸或碘化鉀等水溶液中。亦可視需要，於染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，除了可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面之髒污與防結塊劑之外，亦可使聚乙烯醇系薄膜膨脹，有防止染色不均等不均一的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可一面染色一面延伸、或於延伸後以碘染色。亦可於硼酸或碘化鉀等水溶液中或水浴中延伸。

又，本發明中使用之活性能量線硬化型接著劑組成物，於使用厚度10μm以下之薄型偏光件作為偏光件時，可顯著地顯現其效果(滿足高溫高濕下嚴苛環境中之光學耐久性)。前述厚度10μm以下之偏光件，相較於厚度大於10μm之偏光件，相對地受水分之影響大，於高溫高濕下之環境中光學耐久性不充分，容易產生穿透率上升或偏光度下降。換言之，以本發明之塊體吸水率為10重量%以下之接著劑層積層有前述10μm以下之偏光件時，嚴苛之高溫高濕下環境中偏光件之水的移動受到抑制，藉此可顯著地抑制偏光薄膜之穿透率上升、偏光度下降等光學耐久性的惡化。由薄型化之觀點來看，偏光件之厚度以1~7μm為佳。如此之薄型偏光件的厚度不均少，目視辨認性優異，且尺寸變化少，甚至由追求薄型化之點來看作為偏光薄膜的厚度亦為佳。

具代表性之薄型偏光件，可舉例如：日本專利特開昭51-069644號公報、日本專利特開2000-338329號公報、WO2010/100917號手冊、PCT/JP2010/001460之說明書、日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書中記載之薄型偏光膜。該等薄型偏光膜可藉由包含：於積層體之狀態下延伸聚乙烯醇系樹脂(以下，亦稱作PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材的步驟、及染色之步驟的製法得到。只要為該製法，即使PVA系樹脂層薄，仍可藉由延伸用樹脂基材之支撐，無因延伸產生的斷裂等不良情況地延伸。

前述薄型偏光膜，於包含積層體之狀態下延伸之步驟與染色步驟的製法中，由可高倍率地延伸以提升偏光性能之點來看，以如WO2010/100917號手冊、PCT/JP2010/001460說明書、或日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書中記載之包含於硼酸水溶液中延伸之步驟的製法為佳，特別以藉由日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書中記載之包含於硼酸水溶液中延伸前進行補助之空中延伸之步驟的製法所得為佳。

前述PCT/JP2010/001460說明書中記載之薄型高機能偏光膜，為於樹脂基材一體地製膜之由已使二色性物質定向之PVA系樹脂所構成的厚度7μm以下的薄型高機能偏光膜，具有單體穿透率為42.0%以上及偏光度為99.95%以上之光學特性。

前述薄型高機能偏光膜可藉由以下製造，於具有至少20μm厚度之樹脂基材塗布PVA系樹脂並予以乾燥而生成PVA系樹脂層，將生成之PVA系樹脂層浸漬於二色性物質的染色液中，使二色性物質吸附於PVA系樹脂層，再將吸附有二色性物質之PVA系樹脂層於硼酸水溶液中，與樹脂基材一起延伸至總延伸倍率為原本長度的5倍以上。

又，有一種製造含有已使二色性物質定向之薄型高機能偏光膜的積層體薄膜之方法，其包含以下步驟：生成積層體薄膜之步驟，該積層體薄膜含有具有至少20μm厚度之樹脂基材及PVA系樹脂層，該PVA系樹脂層係藉於樹脂基材之一面塗布含PVA系樹脂之水溶液並予以乾燥而形成者；吸附步驟，藉將含有樹脂基材與形成於樹脂基材一面之PVA系樹脂層的前述積層體薄膜，浸漬於含二色性物質之染色液中，使積層體薄膜所含之PVA系樹脂層吸附二色性物質；延伸步驟，將含有已吸附二色性物質之PVA系樹脂層的前述積層體薄膜，於硼酸水溶液中延伸至總延伸倍率為原本長度的5倍以上；製造已製膜成為薄型高機能偏光膜之積層體薄膜的步驟，藉將吸附有二色性物質之PVA系樹脂層與樹脂基材一起延伸，於樹脂基材一面製膜形成了由已使二色性物質定向之PVA系樹脂層所構成的薄型高機能偏光膜，其厚度為7μm以下，並具有單體穿透率為42.0%以上且偏光度為99.95%以上之光學特性；藉由上述製造方法可製造前述薄型高機能偏光膜。

前述日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書之薄型偏光膜，為由已使二色性物質定向之PVA系樹脂所構成的連續網狀(continuous web)之偏光膜，係將含有於非晶性酯系熱可塑性樹脂基材上製膜形成之PVA系樹脂層的積層體，藉由由空中補助延伸與硼酸水中延伸所構成的2段延伸步驟進行延伸，作成10μm以下之厚度而成。該薄型偏光膜宜作成具有以下光學特性：以單體穿透率為T、以偏光度為P時，滿足P>-(100.929T-42.4-1)×100(但，T<42.3)、及P≧99.9(但，T≧42.3)之條件。

具體而言，前述薄型偏光膜可藉由包含以下步驟之薄型偏光膜之製造方法製造：藉由對製膜於連續網狀之非晶性酯系熱可塑性樹脂基材的PVA系樹脂層進行空中高溫延伸，生成由經定向之PVA系樹脂層所構成的延伸中間生成物之步驟；藉使二色性物質吸附於延伸中間生成物，生成由已使二色性物質(以碘或碘與有機染料之混合物為佳)定向之PVA系樹脂層所構成的著色中間生成物之步驟；藉由對著色中間生成物進行硼酸水中延伸，生成由已使二色性物質定向之PVA系樹脂層所構成的厚度10μm以下之偏光膜的步驟。

該製造方法中，利用空中高溫延伸與硼酸水中延伸而製膜於非晶性酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層的總延伸倍率，以5倍以上為佳。可將用以硼酸水中延伸之硼酸水溶液的液溫設為60℃以上。於硼酸水溶液中延伸著色中間生成物前，以對著色中間生成物施行不溶化處理為佳，此時，以藉將前述著色中間生成物浸漬於液溫不超過40℃之硼酸水溶液地進行為佳。前述非晶性酯系熱可塑性樹脂基材可使用：使間苯二甲酸共聚合之共聚合聚對苯二甲酸乙二酯、使環己烷二甲醇共聚合之共聚合聚對苯二甲酸乙二酯或包含其他共聚合聚對苯二甲酸乙二酯之非晶性聚對苯二甲酸乙二酯，以由透明樹脂所構成者為佳，其厚度可為製膜之PVA系樹脂層厚度的7倍以上。又，空中高溫延伸之延伸倍率以3.5倍以下為佳，空中高溫延伸之延伸溫度以PVA系樹脂之玻璃轉移溫度以上，具體而言，以95℃~150℃之範圍內為佳。以自由端單軸延伸進行空中高溫延伸時，製膜於非晶性酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層的總延伸倍率，以5倍以上7.5倍以下為佳。又，以固定端單軸延伸進行空中高溫延伸時，製膜於非晶性酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層的總延伸倍率，以5倍以上8.5倍以下為佳。

更具體而言，可藉由以下方法製造薄型偏光膜。

製作共聚合有6mol%間苯二甲酸的間苯二甲酸共聚合聚對苯二甲酸乙二酯(非晶性PET)之連續網狀的基材。非晶性PET之玻璃轉移溫度為75℃。如以下地製作由連續網狀之非晶性PET基材與聚乙烯醇(PVA)層所構成的積層體。又，PVA之玻璃轉移溫度為80℃。

準備200μm厚之非晶性PET基材及4~5%濃度之PVA水溶液，該PVA水溶液係使聚合度1000以上、皂化度99%以上之PVA粉末溶於水中而成者。接著，於200μm厚之非晶性PET基材塗布PVA水溶液，再以50~60℃之溫度乾燥，得到於非晶性PET基材上製膜有7μm厚之PVA層的積層體。

藉由包含空中補助延伸及硼酸水中延伸之2段延伸步驟的以下步驟，將含有7μm厚之PVA層的積層體製造成3μm厚的薄型高機能偏光膜。藉由第1段之空中補助延伸步驟，將含有7μm厚之PVA層的積層體與非晶性PET基材一起延伸，生成含有5μm厚之PVA層的延伸積層體。具體而言，該延伸積層體為將含有7μm厚之PVA層的積層體置於配備於設定成130℃之延伸溫度環境之烘箱的延伸裝置，再於自由端單軸延伸至延伸倍率為1.8倍者。藉由該延伸處理，延伸積層體中所含之PVA層將變化成PVA分子業經定向之5μm厚的PVA層。

接著，藉由染色步驟使碘吸附於PVA分子業經定向之5μm厚的PVA層，生成著色積層體。具體而言，該著色積層體藉將延伸積層體浸漬於液溫30℃之含碘及碘化鉀的染色液任意之時間，使構成最終生成之高機能偏光膜的PVA層之單體穿透率為40~44%，使碘吸附於延伸積層體中所含之PVA層。本步驟中，染色液以水作為溶劑，將碘濃度設為0.12~0.30重量%範圍內、碘化鉀濃度設為0.7~2.1重量%範圍內。碘與碘化鉀之濃度比為1比7。又，為將碘溶解於水中，需要碘化鉀。更詳細而言，藉將延伸積層體浸漬於碘濃度0.30重量%、碘化鉀濃度2.1重量%之染色液中60秒，生成於PVA分子業經定向之5μm厚的PVA層吸附有碘之著色積層體。

此外，藉由第2段之硼酸水中延伸步驟，一起更加延伸著色積層體與非晶性PET基材，生成含有3μm厚之構成高機能偏光膜之PVA層的光學薄膜積層體。具體而言，該光學薄膜積層體為將著色積層體置於配備於含硼酸與碘化鉀且液溫範圍設定成60~85℃之硼酸水溶液之處理裝置的延伸裝置，再於自由端單軸延伸至延伸倍率為3.3倍者。更詳細而言，硼酸水溶液之液溫為65℃。又，相對於水100重量份，將硼酸含量設為4重量份，相對於水100重量份，將碘化鉀含量設為5重量份。本步驟中，首先將經調整碘吸附量之著色積層體浸漬於硼酸水溶液中5~10秒。之後，直接使該著色積層體經過配備於處理裝置中之延伸裝置、也就是圓周速率相異之複數組輥子間，於自由端單軸延伸30~90秒，至延伸倍率為3.3倍。藉由該延伸處理，將著色積層體中所含之PVA層變成為經吸附之碘以聚碘離子錯合物於單向高度定向之3μm厚的PVA層。該PVA層將構成光學薄膜積層體之高機能偏光膜。

雖非光學薄膜積層體之製造所必需之步驟，但以藉由洗淨步驟，自硼酸水溶液取出光學薄膜積層體，以碘化鉀水溶液洗淨經製膜於非晶性PET基材的3μm厚之PVA層表面所附著的硼酸為佳。之後，藉由以60℃之溫風進行之乾燥步驟乾燥經洗淨的光學薄膜積層體。另，洗淨步驟為用以去除硼酸析出等外觀不良之步驟。

同樣雖非光學薄膜積層體之製造所必需之步驟，但亦可藉由貼合及/或轉印步驟，一面將接著劑塗布於非晶性PET基材上所製膜之3μm厚的PVA層表面，一面貼合80μm厚之三乙酸纖維素薄膜後，剝離非晶性PET基材，將3μm厚之PVA層轉印至80μm厚的三乙酸纖維素薄膜。

[其他步驟]

前述薄型偏光膜之製造方法，除了前述步驟之外，亦可包含其他步驟。其他步驟可舉不溶化步驟、交聯步驟、乾燥(含水率之調節)步驟等為例。其他步驟可於任意適當之時機下進行。

具代表性之前述不溶化步驟，可藉由使PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液地進行。藉由施行不溶化處理，可賦與PVA系樹脂層耐水性。相對於水100重量份，該硼酸水溶液之濃度，以1重量份~4重量份為佳。不溶化浴(硼酸水溶液)之液溫，以20℃~50℃為佳。以於製作積層體後、染色步驟或水中延伸步驟前進行不溶化步驟為佳。

具代表性之前述交聯步驟，可藉由使PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液地進行。藉由施行交聯處理，可賦與PVA系樹脂層耐水性。相對於水100重量份，該硼酸水溶液之濃度，以1重量份~4重量份為佳。又，於前述染色步驟後進行交聯步驟時，更以摻合碘化物為佳。藉由摻合碘化物，可抑制經吸附於PVA系樹脂層之碘的溶出。相對於水100重量份，碘化物之摻合量以1重量份~5重量份為佳。碘化物之具體例如上述。交聯浴(硼酸水溶液)之液溫以20℃~50℃為佳。以於前述第2硼酸水中延伸步驟前進行交聯步驟為佳。較佳之實施形態為依序進行染色步驟、交聯步驟及第2硼酸水中延伸步驟。

<透明保護薄膜>

形成前述偏光件之一面或兩面所設之透明保護薄膜的材料，以透明性、機械強度、熱穩定性、阻水性、等向性等優異者為佳。可舉例如：聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物、二乙醯基纖維素或三乙酸纖維素等纖維素系聚合物、聚甲基甲基丙烯酸酯等丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯或丙烯腈．苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物、聚碳酸酯系聚合物等。又，聚乙烯、聚丙烯、具環系或降

烯構造之聚烯烴、如乙烯．丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、氯化乙烯基系聚合物、尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、氯化亞乙烯基系聚合物、乙烯基丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚氧基亞甲基系聚合物、環氧系聚合物、或前述聚合物之摻合物等，亦可舉例作為形成前述透明保護薄膜之聚合物之例。透明保護薄膜中可任意含有1種以上適當之添加劑。添加劑可舉例如：紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、可塑劑、脫模劑、著色防止劑、難燃劑、核劑、帶電防止劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中前述熱可塑性樹脂之含量，以50~100重量%為佳，較佳者是50~99重量%、更佳者為60~98重量%，特佳者是70~97重量%。透明保護薄膜中前述熱可塑性樹脂之含量為50重量%以下，有未能充分地顯現熱可塑性樹脂原本具有之高透明性等的疑慮。

又，透明保護薄膜為日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中記載之聚合物薄膜，可舉例如含有：(A)於側鏈具有取代及/或非取代醯亞胺基之熱可塑性樹脂，與(B)於側鏈具有取代及/或非取代苯基及腈基之熱可塑性樹脂的樹脂組成物。具體例可舉含有由異丁烯與N-甲基順丁烯二醯亞胺所構成之交互共聚物，與丙烯腈．苯乙烯共聚物的樹脂組成物之薄膜為例。薄膜可使用由樹脂組成物之混合擠壓品等所構成的薄膜。因該等薄膜之相位差小、光彈性係數小，故可去除偏光薄膜之歪變造成的不均等不良情形，且因透濕度小，故加濕耐久性優異。

前述偏光薄膜中，前述透明保護薄膜之透濕度以150g/m²/24h以下為佳。依據此構造，空氣中之水分將不易進入偏光薄膜中，可抑制偏光薄膜本身之含水率變化。結果，可抑制因保存環境造成之偏光薄膜的捲曲或尺寸變化。

形成前述偏光件之一面或兩面所設之透明保護薄膜的材料，以透明性、機械強度、熱安定性、阻水性、等向性等優異者為佳，特別以透濕度為150g/m²/24h以下者較佳，以140g/m²/24h以下者特佳，以120g/m²/24h以下更佳。透濕度可藉由實施例中記載之方法求得。

滿足前述低透濕度之透明保護薄膜的形成材料，可使用例如，聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂；聚碳酸酯樹脂；芳酯系樹脂；尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系樹脂；如聚乙烯、聚丙烯、乙烯．丙烯共聚物之聚烯烴系聚合物、具環系或降

烯構造之環狀烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、或該等之混合體。前述樹脂中，以聚碳酸酯系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂為佳，特別以環狀聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂為佳。

透明保護薄膜之厚度可適當地決定，一般而言，由強度或處理性等作業性、薄層性等來看，為1~100μm左右。特以1~80μm為佳，以3~60μm較佳。

再者，於偏光件之兩面設置透明保護薄膜時，可於其表背面使用由相同聚合物材料所構成之透明保護薄膜，亦可使用由不同聚合物材料等所構成之透明保護薄膜。由透濕度之觀點來看，透明保護薄膜之組合，以聚對苯二甲酸乙二酯薄膜與環狀聚烯烴系樹脂薄膜、(甲基)丙烯酸系樹脂薄膜與環狀聚烯烴系樹脂薄膜、(甲基)丙烯酸系樹脂薄膜與(甲基)丙烯酸系樹脂薄膜之組合為佳。藉於偏光件之兩面設置透濕度小的透明保護薄膜，水分將不易進入偏光薄膜中，特別可得到耐水性優異之偏光薄膜。

於未接著前述透明保護薄膜之偏光件的面，可設置硬塗層、反射防止層、防黏層、擴散層或防眩光層等機能層。再者，前述硬塗層、反射防止層、防黏層、擴散層或防眩光層等機能層，除了可設置成透明保護薄膜本身之外，亦可另外用非透明保護薄膜之其他物體作設置。

<光學薄膜>

於實際使用時，本發明之偏光薄膜可作為與其他光學層積層之光學薄膜使用。並未特別限定該光學層，但可使用1層或2層以上的例如，可使用於反射板、半透射板、相位差板(包含1/2或1/4等波長板)、視角補償薄膜等液晶顯示裝置等之形成的光學層。特別以以下為佳：於本發明之偏光薄膜更積層反射板或半透射反射板而成之反射型偏光薄膜或半透過型偏光薄膜、於偏光薄膜更積層相位差板而成之橢圓偏光薄膜或圓偏光薄膜、於偏光薄膜更積層視角補償薄膜而成之廣視角偏光薄膜、或於偏光薄膜更積層亮度提升薄膜而成之偏光薄膜。

於偏光薄膜積層有前述光學層之光學薄膜亦可以液晶顯示裝置等製造過程中依序個別積層的方式形成，但預先積層作成光學薄膜者，有品質之穩定性或組裝作業等優異、可提升液晶顯示裝置等製造步驟的優點。積層可使用黏著層等適當之接著方法。接著前述偏光薄膜或其他光學薄膜時，該等之光學軸可對應目的之相位差特性等，成為適當之配置角度。

於積層有至少1層之前述偏光薄膜、或偏光薄膜的光學薄膜中，亦可設置用以與液晶單元等其他構件接著的黏著層。雖未特別限制形成黏著層之黏著劑，但可適當地選擇使用例如，將丙烯酸系聚合物、矽酮系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物作為基質聚合物者。特別是，可較佳地使用如丙烯酸系黏著劑般顯示優異之光學透明性、適度之濕潤性與凝集性與接著性之黏著特性，且耐候性或耐熱性等優異者。

黏著層亦可以不同組成或種類等物體之重疊層，設於偏光薄膜或光學薄膜之一面或兩面。又，設於兩面時，亦可於偏光薄膜或光學薄膜之表背面作成組成、種類或厚度等相異之黏著層。可視使用目的或接著力等適當地決定黏著層之厚度，一般為1~500μm，以1~200μm為佳，特別以1~100μm為佳。

黏著層之露出面於至實際使用之前，以防止受到汙染等為目的，暫時裝設有用以覆蓋之隔離構件。藉此，可防止於通常之狀態下接觸到黏著層。隔離構件除了前述厚度條件以外，可使用以往使用之適當者，例如，視需要將塑膠薄膜、橡膠片材、紙、布、不織布、網、發泡片材或金屬箔、該等之積層體等適當之薄片體，經以矽酮系、長鏈烷基系、氟系或硫化鉬等適當之剝離劑塗布處理者。

<影像顯示裝置>

本發明之偏光薄膜或光學薄膜適用於液晶顯示裝置等各種裝置之形成等。液晶顯示裝置之形成可依據以往進行。即，液晶顯示裝置一般可藉由適當地組裝液晶單元與偏光薄膜或光學薄膜、及視需要之照明系統等構成零件，裝入驅動電路等所形成，本發明中除了使用本發明之偏光薄膜或光學薄膜以外，並未特別限定，可以以往方式進行。液晶單元可使用例如，TN型或STN型、π型等任意型者。

可形成於液晶單元之一側或兩側配置有偏光薄膜或光學薄膜的液晶顯示裝置、或於照明系統使用有背光源或反射板者等適當之液晶顯示裝置。此時，可於液晶單元之一側或兩側設置本發明之偏光薄膜或光學薄膜。於兩側設置偏光薄膜或光學薄膜時，該等可相同亦可相異。此外，於形成液晶顯示裝置時，可將例如，擴散板、防眩光層、反射防止膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光源等適當之零件配置1層或2層以上於適當之位置。

[實施例]

以下記載本發明之實施例，但本發明之實施形態並未受該等所限定。

製造例1

<聚乙烯醇系薄型偏光件(相當第1光學薄膜)之製作>

為製作薄型偏光件，首先，藉由延伸溫度130℃之空中補助延伸，延伸於非晶性PET基材上製膜有24μm厚之PVA 層的積層體，生成延伸積層體，接著，藉由染色延伸積層體，生成著色積層體，再藉由延伸溫度65度之硼酸水中延伸，將著色積層體與非晶性PET基材一起延伸至總延伸倍率為5.94倍，生成含有10μm厚之PVA層的光學薄膜積層體。如此即可生成含有厚度10μm之PVA層的光學薄膜積層體，其中，藉由所述2段延伸於非晶性PET基材上製膜形成的PVA層之PVA分子已高度定向，且經染色吸附之碘以聚碘離子錯合物於單向高度定向。

製造例2

<透明保護薄膜(相當第2光學薄膜)之製作>

將日本專利特開2010-284840號公報之製造例1中記載的醯亞胺化MS樹脂100重量份及三

系紫外線吸收劑(ADEKA社製，商品名：T-712)0.62重量份，於雙軸捏和機中以220℃混合，製作樹脂顆粒。使所得之樹脂顆粒以100.5kPa、100℃乾燥12小時，以單軸擠壓機於模具溫度270℃中自T字模擠壓，成形為薄膜狀(厚度160μm)。再將該薄膜於其搬送方向上150℃之環境氣體下延伸(厚度80μm)，接著塗布含水性胺基甲酸酯樹脂之易接著劑後，於與薄膜搬送方向垂直的方向上於150℃之環境氣體下延伸，得到厚度40μm(透濕度58g/m²/24h)的丙烯酸薄膜(透明保護薄膜)。

<透明保護薄膜之透濕度>

依據JIS Z0208之透濕度試驗(圓筒平板法)測量透濕度。將截斷成直徑60mm之試樣置入放入有約15g之氯化鈣的透濕圓筒平板，再置入溫度40℃、濕度90%R.H.之恆溫機中，測量放置24小時左右之氯化鈣的重量增加，求出透濕度(g/m²/24h)。

<活性能量線>

活性能量線，使用可見光線(內含鎵之金屬鹵素燈)照射裝置：Fusion UV Systems,Inc社製Light HAMMER10 valve：V valve峰值照度：1600mW/cm²、積算照射量1000/mJ/cm²(波長380~440nm)。再者，使用Solatell社製Sola-Check系統測量可見光線之照度。

實施例1

調整含有以下化合物之活性能量線硬化型接著劑組成物。

第1活性能量線硬化型接著劑組成物(液體黏度350mPa．s/25℃)；HEAA 94重量%、IRGACURE907 3重量%、KAYACURE DETX-S 3重量%。

第2活性能量線硬化型接著劑組成物(液體黏度10mPa．s/25℃)；Light Acrylate1,9ND-A 94重量%、IRGACURE907 3重量%、KAYACURE DETX-S 3重量%。

使用之化合物為，HEAA：羥基乙基丙烯醯胺，LogPow=-0.56，興人社製、Light Acrylate1,9ND-A：1,9-壬烷二醇二丙烯酸酯，logPow=3.68，共榮社化學社製、IRGACURE907：2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉基丙烷-1-酮，BASF社製、 KAYACURE DETX-S：二乙基9-氧硫

，日本化藥社製。

(偏光薄膜之製作)

於相當於第1光學薄膜之薄型偏光件的PVA層面，塗敷加溫至40℃使液體黏度調整為80cp的第1活性能量線硬化型接著劑組成物(接著劑層厚度0.3μm)。又，於相當於第2光學薄膜之透明保護薄膜之貼合面，塗敷第2活性能量線硬化型接著劑組成物(接著劑層厚度0.7μm)，之後以軋輥機貼合該等。第1活性能量線硬化型接著劑組成物與第2活性能量線硬化型接著劑組成物之比例為30：70。之後，於兩面照射前述可見光線，使第1及第2活性能量線硬化型接著劑組成物硬化後，以70℃熱風乾燥3分鐘，得到於偏光件兩側具有透明保護薄膜的偏光薄膜(積層光學薄膜)。以生產線速度為25m/min下進行貼合。

對前述實施例1中所得之偏光薄膜，進行對薄型偏光件及透明保護薄膜之接著力的評定。又，進行第1活性能量線硬化型接著劑組成物對薄型偏光件之接觸角、及第2活性能量線硬化型接著劑組成物對透明保護薄膜之接觸角的評定。此外，接觸角之評定係依據JIS-K 6768進行。於表2顯示評定結果。

實施例2

除了將於相當於第2光學薄膜之透明保護薄膜的貼合面塗敷第2活性能量線硬化型接著劑組成物的塗敷步驟改成下述塗敷步驟外，以與實施例1相同之方法得到於偏光件兩側具透明保護薄膜的偏光薄膜(積層光學薄膜)：於已在相當於第1光學薄膜之薄型偏光件的貼合面塗敷有第1活性能量線硬化型接著劑組成物的塗敷面，進一步面塗塗敷第2活性能量線硬化型接著劑組成物之外。

比較例1

於相當於第1光學薄膜之薄型偏光件的貼合面，塗敷含HEAA 47重量%、Light Acrylate1,9ND-A 47重量%、IRGACURE907 3重量%、KAYACURE DETX-S 3重量%的第1活性能量線硬化型接著劑組成物(液體黏度21mPa．s/25℃)，並使相當於第2光學薄膜之透明保護薄膜貼合其上，除此之外，以與實施例1相同之方法得到於偏光件兩側具透明保護薄膜的偏光薄膜(積層光學薄膜)。

對前述實施例及比較例所得之偏光薄膜進行以下之評定。於表2顯示評定結果。

<接著力>

將各例所得之偏光薄膜切出於與偏光件之延伸方向平行200mm、垂直方向20mm的大小，於透明保護薄膜與偏光件之間切入截切刀，將偏光薄膜貼合於玻璃板。藉由Tensilon於90度方向以剝離速度500mm/min剝離透明保護薄膜與偏光件，測量該剝離強度。又，藉由ATR法測量剝離後之剝離面的紅外吸收光譜，並依據下述基準評定剝離界面。

A：透明保護薄膜之內聚破壞

B：透明保護薄膜/接著劑層間之界面剝離

C：接著劑層/偏光件間之界面剝離

D：偏光件之內聚破壞

前述基準中，A及D因接著力為薄膜之凝集力以上，為接著力非常優異之意。另一方面，B及C為透明保護薄膜/接著劑層(接著劑層/偏光件)界面之接著力不足(接著力差)之意。考量該等，將A或D時之接著力設為○、A．B(同時產生「透明保護薄膜之內聚破壞」與「透明保護薄膜/接著劑層間之界面剝離」)或A．C(同時產生「透明保護薄膜之內聚破壞」與「接著劑層/偏光件間之界面剝離」)之接著力設為△、B或C之接著力設為×。

1‧‧‧偏光件

2‧‧‧透明保護薄膜

3‧‧‧接著劑層

Claims

一種積層光學薄膜之製造方法，該積層光學薄膜為透過藉使活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所形成之接著劑層，至少積層有第1光學薄膜及第2光學薄膜者，其特徵在於：前述第1光學薄膜及第2光學薄膜之一者為聚乙烯醇系偏光件；前述活性能量線硬化型接著劑組成物含有至少2種以上不同活性能量線硬化型接著劑組成物，包含第1活性能量線硬化型接著劑組成物及第2活性能量線硬化型接著劑組成物；該積層光學薄膜之製造方法包含以下步驟：塗敷步驟，於前述第1光學薄膜之貼合面塗敷前述第1活性能量線硬化型接著劑組成物，又於前述第2光學薄膜之貼合面塗敷前述第2活性能量線硬化型接著劑組成物；貼合步驟，貼合前述第1光學薄膜及前述第2光學薄膜；及接著步驟，透過前述接著劑層使前述第1光學薄膜及前述第2光學薄膜接著，前述接著劑層係藉由自前述第1光學薄膜面側或前述第2光學薄膜面側照射活性能量線，使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所形成；並且，配置於前述第1光學薄膜側之第1活性能量線硬化型接著劑組成物含有logPow為-1~1之A成分，配置於前述第2光學薄膜側之第2活性能量線硬化型接著劑組成物含有logPow為2~7之B成分。
一種積層光學薄膜之製造方法，該積層光學薄膜為透過藉使活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所形成之接著劑層，至少積層有第1光學薄膜及第2光學薄膜者，其特徵在於：前述活性能量線硬化型接著劑組成物含有至少2種以上不同活性能量線硬化型接著劑組成物，包含第1活性能量線硬化型接著劑組成物及第2活性能量線硬化型接著劑組成物；該積層光學薄膜之製造方法包含以下步驟：塗敷步驟，於前述第1光學薄膜之貼合面塗敷前述第1活性能量線硬化型接著劑組成物，並於已塗敷前述第1活性能量線硬化型接著劑組成物之塗敷面上，進一步面塗塗敷前述第2活性能量線硬化型接著劑組成物；貼合步驟，自經塗布於第1光學薄膜上之第2活性能量線硬化型接著劑組成物之塗布面側貼合前述第2光學薄膜；及接著步驟，透過前述接著劑層使前述第1光學薄膜及前述第2光學薄膜接著，前述接著劑層係藉自前述第1光學薄膜面側或前述第2光學薄膜面側照射活性能量線，使前述活性能量線硬化型接著劑組成物硬化所形成；並且，配置於前述第1光學薄膜側之第1活性能量線硬化型接著劑組成物含有logPow為-1~1之A成分，配置於前述第2光學薄膜側之第2活性能量線硬化型接著劑組成物含有logPow為2~7之B成分。
如請求項2之積層光學薄膜之製造方法，其中前述第1活性能量線硬化型接著劑組成物之液體黏度高於前述第2活性能量線硬化型接著劑組成物之液體黏度。
如請求項1或2之積層光學薄膜之製造方法，其中前述活性能量線硬化型接著劑組成物對前述第1光學薄膜及前述第2光學薄膜之接觸角為5~50度。
如請求項1或2之積層光學薄膜之製造方法，其中前述第1光學薄膜及前述第2光學薄膜為選自於由聚乙烯醇系偏光件、丙烯酸樹脂薄膜、環烯烴樹脂薄膜、聚酯樹脂薄膜及聚烯烴樹脂薄膜所構成群組中之至少1種光學薄膜。
如請求項5之積層光學薄膜之製造方法，其中前述第1光學薄膜及前述第2光學薄膜為選自於由前述丙烯酸樹脂薄膜、前述環烯烴樹脂薄膜、前述聚酯樹脂薄膜及前述聚烯烴樹脂薄膜所構成群組中之至少1種光學薄膜。
如請求項5之積層光學薄膜之製造方法，其中前述丙烯酸樹脂薄膜、前述環烯烴樹脂薄膜、前述聚酯樹脂薄膜及前述聚烯烴樹脂薄膜於其等之貼合面形成有易接著層，該易接著層含有選自於由丙烯酸樹脂、聚胺甲酸酯樹脂、聚乙烯醇樹脂、三聚氰胺樹脂及含
唑啉基樹脂所構成群組中之至少1種樹脂。
如請求項1或2之積層光學薄膜之製造方法，其中前述活性能量線硬化型接著劑組成物含有25~98重量%之SP值為18~21(MJ/m³)^1/2的自由基聚合性化合物。
如請求項1或2之積層光學薄膜之製造方法，其中塗敷於前述聚乙烯醇系偏光件之貼合面的前述活性能量線硬化型接著劑組成物含有含羥基之自由基聚合性化合物。