TWI708685B - 積層膜材之製造方法及其所製成之積層膜材 - Google Patents

Abstract

一種積層膜材的製造方法，其包含提供第一載膜，第一載膜上具有黏著劑層，黏著劑層中包含異氰酸酯化合物；使第一載膜經過增黏處理，增黏處理係向黏著劑層提供增黏劑，增黏劑為可與異氰酸酯化合物反應之含羥基化合物；以及將經過增黏處理的第一載膜以黏著劑側貼附至第二載膜，形成積層膜材。本案另提供由此方法所形成的積層膜材。

Description

積層膜材之製造方法及其所製成之積層膜材

本案係關於一種積層膜材技術，且特別是可用於偏光板、液晶顯示器領域之積層膜材的製造方法，以及由所述製造方法所製得之積層膜材。

由於液晶顯示器（liquid crystal display）具有體積小、重量輕、低電力消耗與顯示品質佳等優點，因此近年來已成為平面顯示器的主流設備。其中所使用之偏光板為液晶顯示器中的關鍵組件之一，而為提升最終產品之品質或是生產效能，各液晶顯示器廠商對於所使用的偏光板亦有性質上或是出貨時程等的各式需求。

在前述各式需求中，亦有例如臨時追加或是緊急供貨的需求。然而，在通常的偏光板製程中，為了使黏著劑的性質穩定並達到所需的黏著力，必須讓產品中之黏著劑經過一定時間的放置熟成，故無法在完成偏光板產品後立即出貨。因此，現有之NCF商品、及其類似膜材、與其後續製品以及相關製程仍需要進一步之改良。

本案之一些實施例係提供一種積層膜材的製造方法，包含提供第一載膜，第一載膜上具有黏著劑層，黏著劑層中包含異氰酸酯化合物；使第一載膜經過增黏處理，增黏處理係向黏著劑層提供增黏劑，增黏劑為可與異氰酸酯化合物反應之含羥基化合物；以及將經過增黏處理的第一載膜以黏著劑側貼附至第二載膜，形成積層膜材。

本案之另一些實施例係提供一種積層膜材，其具有第一載膜、第二載膜，以及黏著劑層。黏著劑層在第一載膜與第二載膜之間，黏著劑層中包含異氰酸酯化合物與可與異氰酸酯化合物反應之含羥基化合物，含羥基化合物佔黏著劑層之0.8wt％-4wt％。

為讓本揭露實施例之特徵、和優點能更明顯易懂，下文特舉出較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。

以下針對本案所提供之積層膜材製造方法以及以此方法所製成之積層膜材作詳細說明。應了解的是，以下之敘述提供許多不同的實施例或例子，用以實施本揭露一些實施例之不同樣態。以下所述特定的元件及排列方式僅為簡單清楚描述本揭露一些實施例。當然，這些僅用以舉例而非本揭露之限定。此外，在不同實施例中可能使用類似及/或對應的標號標示類似及/或對應的元件，以清楚描述本揭露。然而，這些類似及/或對應的標號的使用僅為了簡單清楚地敘述本揭露一些實施例，不代表所討論之不同實施例及/或結構之間具有任何關連性。

應理解的是，圖式之元件或裝置可以所屬技術領域具有通常知識者所熟知的各種形式存在。此外實施例中可能使用相對性用語，例如「...之下」、「較低」或「底部」或「…之上」、「較高」或「頂部」，以描述圖式的一個元件對於另一元件的相對關係。可理解的是，如果將圖式的裝置翻轉使其上下顛倒，則所敘述在「較低」側的元件將會成為在「較高」側的元件。本揭露實施例可配合圖式一併理解，本揭露之圖式亦被視為揭露說明之一部分。應理解的是，本揭露之圖式並未按照比例繪製，事實上，可能任意的放大或縮小元件的尺寸以便清楚表現出本揭露的特徵。

此外，圖式之元件或裝置可以所屬技術領域具有通常知識者所熟知的各種形式存在。此外，應理解的是，雖然在此使用了用語「第一」、「第二」等來敘述各種元件、組件、或部分，這些元件、組件或部分不應被這些用語限定。這些用語僅是用來區別不同的元件、組件、區域、層或部分。因此，以下討論的一第一元件、組件、區域、層或部分可在不偏離本揭露之教示的情況下被稱為一第二元件、組件、區域、層或部分。

於文中，「約」、「大約」、「實質上」之用語通常表示在一給定值或範圍的5%內，較佳是3%內，更佳是1%內，或2%之內，或1%之內，或0.5%之內。在此給定的數量為大約的數量，亦即在沒有特定說明「約」、「大約」、「實質上」的情況下，仍可隱含「約」、「大約」、「實質上」之含義。

為因應上述需求，目前亦有無基材雙面膠型態（non-carrier film，NCF）之產品，即會先將黏著劑製成雙面皆為離型膜之態樣。如此則可使黏著劑先進行熟成養生，待需要時再與偏光膜貼合即可出貨，而省去等待黏著劑熟成之時間。

但此類NCF商品因熟成養生狀態不同，其中的黏著劑之黏著力相較於一般直接塗佈黏著劑而製成的直接塗工品較為不足，而導致以此類NCF形成之後續產品之品質不佳。因此，一般會選用添加有額外之增黏劑（tackifier）的黏著劑來作為NCF中之黏著劑層，以提升NCF中之黏著劑的黏著力，然而此舉將大幅度地改變起始黏著劑配方，使得其與一般塗工製法必須使用不同之黏著劑，進而增加生產上或是原物料管理上之複雜度並提高生產成本。

根據一些實施例，本案係提供一種製造可用於偏光板領域或顯示器領域之積層膜材的製造方法。具體而言，係在將具有黏著劑層之載膜與另一載膜貼合前，先使黏著劑層經過增黏處理。亦即，在將具有黏著劑層之載膜與另一載膜貼合前，先對含有異氰酸酯化合物的黏著劑層提供含有羥基之化合物作為增黏劑，再使其與另一載膜進行貼合步驟。藉由在製程中增加此一向黏著劑層提供含羥基化合物之程序，即可調整黏著劑層之架橋量（或交聯程度），以在不改變起始所使用之黏著劑配方的前提下，得到具有所欲黏著力強度之積層膜材。

請參照第1圖及第2圖，第1圖及第2圖為根據本案一些實施例所繪示之積層膜材製造方法的示意圖。以下將搭配圖式，對積層膜材的製造方法進行細部說明。需注意的是，本領域具有通常知識者應可理解，在一些實施例中，於積層膜材的製造方法進行前、進行中及/或進行後可提供額外的操作步驟。在不同的實施例中，所述的一些階段(或步驟)可以視情況被調整、刪除或取代，或者視狀況互換步驟的順序。

請先參照第1圖，其為積層膜材104根據一些實施例所繪示之製造方法示意圖。一般而言，如第1圖中所示，積層膜材係藉由將長條的原料膜一面連續地捲出、輸送，一面實施各步驟之處理，藉此可連續地製造長條製品。但本發明之製造方法，並不限定於使用如此的長條原料膜之連續生產方式，也可使用其他例如批次製成的方法。

在一些實施例中，第一載膜101藉由例如導向滾筒等輸送裝置，沿著第一載膜行進方向1001輸送，所述第一載膜101後續將與第二載膜102進行貼合。圓框001中為第一載膜101的部分放大結構示意圖，第一載膜101上具有黏著劑層103，而黏著劑層103中含有異氰酸酯化合物，此類異氰酸酯化合物可做為黏著劑層103的架橋劑。在一些實施例中，為了不破壞黏著劑層103或避免汙染輸送裝置，黏著劑層103在輸送時不接觸輸送裝置。

具有黏著劑層103之第一載膜101在與欲貼合之第二載膜102進行貼合步驟前，使第一載膜101先通過黏著力調整裝置111，以進行增黏處理。藉由黏著力調整裝置111向黏著劑層103提供含羥基之化合物，其後第一載膜101再以含有羥基化合物的黏著劑層103側，與沿著第二載膜行進方向1002輸送之第二載膜102進行貼合，形成積層膜材104。黏著劑層103中之含羥基化合物將與異氰酸酯化合物之異氰酸酯基（-NCO）反應，藉此降低異氰酸酯架橋劑後續產生之架橋量，使黏著劑層103之硬度下降而可更佳地順應貼附於第二載膜102，進而達到提升黏著力之目的。積層膜材104可以視實際情況，進行後續製程或是先行收卷。在一些實施例中，積層膜材104沿著積層膜材行進方向1003行進，而後收卷成為收卷束112。

在一些實施例中，黏著劑層103可由黏著劑所形成，黏著劑可為感壓黏著劑（pressure sensitive adhesive，PSA），黏著劑的組成可為領域中已知的各種組成，例如包括但不限於：[A]主劑、[B]架橋劑及可選擇性添加之[C]矽烷偶合劑，以下將對各組成進行說明。

[A]主劑：主劑可包含至少一種（甲基）丙烯酸酯，於後文中，（甲基）丙烯酸酯意指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯之任一種，其餘出現的「（甲基）」含意亦可以此類推。（甲基）丙烯酸酯例如可選擇自：（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸正丁酯、（甲基）丙烯酸正辛酯、（甲基）丙烯酸十一烷酯等之直鏈狀（甲基）丙烯酸烷酯；或是例如可選擇自：（甲基）丙烯酸異丁酯、（甲基）丙烯酸2-乙基己酯、（甲基）丙烯酸異辛酯等之支鏈狀（甲基）丙烯酸烷酯；或是例如可選擇自：（甲基）丙烯酸2-甲氧基乙酯、（甲基）丙烯酸乙氧基甲酯等有烷氧基取代之（甲基）丙烯酸烷酯。另外，（甲基）丙烯酸酯可含有芳基，例如（甲基）丙烯酸苄酯等；或者（甲基）丙烯酸酯可含有芳氧基，例如（甲基）丙烯酸2-苯氧基乙酯、（甲基）丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙酯、環氧乙烷改質之壬基酚之（甲基）丙烯酸酯、（甲基）丙烯酸2-(鄰-苯基苯氧基)乙酯等。完成固化乾燥後的交聯（甲基）丙烯酸酯可做為黏著劑層的主要成分及架構。

[B]架橋劑：架橋劑可幫助主劑內的（甲基）丙烯酸酯單體產生交聯，形成網狀結構，提高黏著劑層的強度，架橋劑的分子內具有至少兩個官能基，能與主劑內的（甲基）丙烯酸酯單體的極性官能基反應，其種類有異氰酸酯系架橋劑、環氧系架橋劑、亞胺系架橋劑、金屬螯合系架橋劑、氮丙啶系架橋劑，可選擇其中一種或混和多種架橋劑，但在本案黏著劑層103中至少具有一種異氰酸酯系架橋劑。架橋劑的總量為黏著劑的0.05-10重量%，更佳為0.1-5重量%，若架橋劑的比例如果過低，雖能增加部分黏著力，但形成的黏著劑層內聚力不足，高溫時容易產生發泡現象；但若架橋劑之含量過多，則反而使黏著劑硬度過度增加而使黏著劑無法緊密地和接觸面貼附，使得黏著力下降，造成膜層間剝離（Peeling）。

異氰酸酯系架橋劑包含異氰酸酯化合物，異氰酸酯化合物為具有異氰酸酯基（-NCO）之化合物，且異氰酸酯化合物分子內至少有兩個異氰酸酯基，例如可選擇自：甲苯二異氰酸酯、二異氰酸六亞甲酯、異佛爾酮二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等。另外，使用這些異氰酸酯化合物與甘油或三羥甲基丙烷等多元醇反應而成之加成物、或將異氰酸酯化合物製成二聚物、三聚物等亦可成為架橋劑。

環氧系架橋劑例如可選擇自：雙酚A型之環氧樹脂、乙二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、丙三醇二縮水甘油醚、丙三醇三縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、N,N-二縮水甘油基苯胺、N,N,N’,N’-四縮水甘油基-間-二甲苯二胺、1,3-雙(N,N-二縮水甘油基胺基甲基)環己烷等。

亞胺系架橋劑例如可選擇自：二乙烯三胺、三乙烯四胺等。金屬螯合系架橋劑例如可選擇自：乙醯基丙酮或乙醯基乙酸乙酯與鋁、鐵、銅、鋅、錫、鈦、鎳、銻、鎂、鋇、鉻及鋯等之多價金屬配位而成之化合物等。氮丙啶系架橋劑例如可選擇自：二苯基甲烷-4,4’-雙(1-氮丙啶甲醯胺)、甲苯-2,4-雙(1-氮丙啶甲醯胺)、三伸乙基三聚氰胺、間苯二甲醯基雙-1-(2-甲基氮丙啶)、參-1-氮丙啶基氧化膦、六亞甲基-1,6-雙(1-氮丙啶甲醯胺)、三羥甲基丙烷-三-β-氮丙啶基丙酸酯、四羥甲基甲烷-三-β-氮丙啶基丙酸酯等。

[C]矽烷偶合劑：在一些實施例中，為了提高黏著劑層與其他載膜的密著性，因此在某些實施例中會加入矽烷偶合劑（可選擇下列一種或混和多種的矽烷偶合劑），以促使有機聚合物與無機礦物表面的結合，使得複合材料在長期使用下仍保有其強度(黏著力)。在一些實施例中，矽烷偶合劑的總量相對於100重量份的主劑，為0.01-10重量份，更佳為0.1-5重量份。矽烷偶合劑例如可選擇自：乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基參(2-甲氧基乙氧基)矽烷、3-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷等之含聚合性不飽和基（如烯鍵）之矽烷化合物；或是例如可選擇自：3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙氧基二甲基矽烷等之具有環氧基構造之矽烷化合物；或是例如可選擇自：3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷等之含胺基之矽烷化合物；或是例如可選擇自：3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷等之含鹵素取代基之矽烷化合物；其他例如：3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷等。

黏著劑的組成還可以根據實際的產品需求，添加其他適當的添加劑，例如抗靜電劑、黏度調整劑、充填劑(金屬粉或其他的無機粉末等)、氧化抑制劑、染料、顏料、消泡劑、抗腐蝕劑等等。

在一些實施例中，黏著劑可藉由混合上述黏著劑之成分後，經靜置脫泡，塗佈在載膜之表面上，塗佈的方法例如包括棒塗布法、刮刀塗布法、輥塗布法、板片塗布法、壓模塗布法、凹版塗布法等，乾燥後的黏著劑便形成黏著劑層。

在一些實施例中，用來進行增黏處理的含羥基之化合物包含水、醇、酸或是前述之組合。醇可例舉如甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、丁醇、正戊醇或異戊醇等醇類。酸則可例舉如甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、正戊酸或異戊酸等酸類。在一些實施例中，含羥基之化合物之分子量為約18-250，更佳係18-150。

在一些實施例中，相較於通過黏著力調整裝置111前之黏著劑層103的重量，第一載膜101上之黏著劑層103在通過黏著力調整裝置111後，因吸收了所提供之含羥基化合物，黏著劑層103之重量增加0.8-4wt％。

在一些實施例中，黏著力調整裝置111可為加濕裝置，所述加濕裝置可向黏著劑層103提供羥基之化合物包含水、醇、酸或是前述之組合。在一些實施例中，羥基之化合物係水，加濕裝置中之相對濕度（relative humidity）可為60％以上，更佳為75-95％。在一些實施例中，黏著劑層103在通過加濕裝置後，其含水量為0.8-4wt％。若加濕裝置中的相對濕度過低，則需花費較長之時間以使黏著劑層103達到所欲含水量、或甚至可能因此導致黏著劑層103無法達到所欲之含水量。本案中所述之含水量，係以乾燥重量法（dry weight method）測定，具體係根據下述之式求得： 含水量（wt%）＝{（乾燥處理前之黏著劑層重量-乾燥處理後之黏著劑層重量）/乾燥處理前之黏著劑層重量}*100%， 乾燥處理係指使黏著劑層在120℃環境下2小時。

在一些實施例中，加濕裝置沒有特別的限制，只要可向黏著劑層提供水之裝置皆可。例如可為蒸氣式加濕裝置、水霧式加濕裝置、氣化式加濕或超音波式加濕裝置。

第1圖所示之製造方法示意圖可有多種實施態樣。在一些實施例中，第一載膜101與其上之黏著劑層103可為一般市售的無基材雙面膠型態（non-carrier film，NCF）之產品經剝除一側離型膜之態樣，其再與偏光膜或偏光板進行貼合。亦即，第一載膜101為離型膜；而第二載膜102為偏光膜或偏光板。其中，偏光板為具有保護膜之偏光膜，舉例而言，偏光板可為其上具有第一保護膜之偏光膜、或是具有第一保護膜與第二保護膜之偏光膜，且偏光膜設置於第一保護膜與第二保護膜之間。後文中所述之偏光板，若無其他進一步之限制，亦可作如此解釋。

在一些實施例中，當偏光板為偏光膜上僅有一側有第一保護膜之偏光膜時，第一載膜101可以其上之黏著劑層103側與做為第二載膜102之偏光板的保護膜側貼附、或是與偏光板的偏光膜側貼附。在一些實施例中，當偏光板為具有第一保護膜與第二保護膜之偏光膜，且偏光膜設置於第一保護膜與第二保護膜之間時，第一載膜101可以其上之黏著劑層103側與偏光板的第一保護膜側貼附、或是與偏光板的第二保護膜側貼附。舉例而言，參照第1圖與第3圖，第一載膜101為具有黏著劑層103之離型膜105 ₁、第二載膜102為具有偏光膜107設置於第一保護膜108 ₁與第二保護膜108 ₂之間的偏光板106，其經貼合後所形成之積層膜材104如第3圖所示。

在另一些實施例中，第一載膜101與其上之黏著劑層103同樣可為一般市售的無基材雙面膠型態（Non-carrier film，NCF）之產品經剝除一側離型膜之態樣，但其是與玻璃基板進行貼合。亦即，參考第1圖與第4圖，第一載膜101為具有黏著劑層103之離型膜105 ₁；而第二載膜102為玻璃基板109，其經貼合後所形成之積層膜材104如第4圖所示。玻璃基板可為例如液晶顯示單元中之玻璃基板，藉以形成液晶顯示裝置。玻璃基板的材料，可列舉如鈉鈣玻璃、低鹼玻璃、無鹼玻璃等。後文中所述之玻璃基板，若無其他進一步之限制，亦可作如此解釋。

在另一些實施例中，亦可先將一般市售的無基材雙面膠型態（Non-carrier film，NCF）之產品，剝除其一側之離型膜後，先貼附至偏光板。而後，撕除剩餘另一側之離型膜後，再通過黏著力調整裝置111，與玻璃基板貼合。亦即，此時之第一載膜101為偏光板、第二載膜102為玻璃基板。舉例而言，參照第1圖與第5圖，第一載膜101為具有黏著層103之偏光板106，在偏光板106中，偏光膜107設置於第一保護膜108 ₁與第二保護膜108 ₂之間，而第二載膜102為玻璃基板109，第一載膜101與第二載膜102經貼合後所形成之積層膜材104如第5圖所示。

接著，請參照第2圖。在另一些實施例中，第一載膜101在經過增黏處理前，將先經過乾燥處理，再與第二載膜102貼附。舉例而言，在第一載膜101在通過黏著力調整裝置111前，使第一載膜101先通過乾燥裝置113，再通過黏著力調整裝置111，而後再與第二載膜102貼附，形成積層膜材104。藉由乾燥處理，可進一步調整第一載膜101上之黏著劑層103中的溶劑含量。在一些實施例中，溶劑可為丁酮（methyl ethyl ketone，MEK）、乙酸乙酯（ethyl acetate，EAc）、丙酮（acetone）或甲苯（toluene）等。在一些實施例中，黏著劑層103在通過乾燥裝置113後，其中之溶劑殘餘量小於30ppm（parts per million）。溶劑殘餘量可使用北川式檢知管（Kitagawa detector tube，型號AP-20）進行檢測。

前述的乾燥裝置113並無特別之限制，只要可降低黏著劑層103中之溶劑含量的裝置皆可。舉例而言，乾燥裝置113可為加熱裝置。藉由將黏著劑層103導入加熱裝置，使其中之溶劑加速揮發。在一些實施例中，加熱裝置可為藉由提供熱風或是具有其他加熱器而提高爐內溫度之加熱爐，例如熱風烘箱。加熱器可為紅外線加熱器、鹵素加熱器、或平板加熱器等。加熱裝置亦可為內部具備溫水等熱媒或其他加熱器、藉以提高表面溫度之加熱滾筒。乾燥裝置113所使用之乾燥條件亦無特別限制，可根據實際製程需求進行調整。

第2圖所示之製造方法示意圖亦可有多種實施態樣。在一些實施例中，第一載膜101與其上之黏著劑層103可為一般市售的無基材雙面膠型態（non-carrier film，NCF）之產品經剝除一側離型膜之態樣，而後形成第3圖或第4圖所示的積層膜材104。在此實施態樣中，藉由乾燥裝置113可再對NCF產品中之黏著劑層的溶劑含量進行調整。在一些實施例中，亦可不使用市售之無基材雙面膠型態產品，而是以離型膜為第一載膜101，並在第一載膜101通過乾燥裝置113前，將配製好的黏著劑塗佈於離型膜上，來形成黏著劑層103。

於一些實施例中，在乾燥裝置不致過度影響偏光板性能、性質的前提下，亦可將偏光板作為第一載膜101，來形成如第3圖或第5圖所示之積層膜材104。在此些實施例中，黏著劑層103可以直接塗工的方式形成，亦可先將一般市售的無基材雙面膠型態（Non-carrier film，NCF）之產品，剝除其一側之離型膜後，先貼附至偏光板，而後再移除剩餘另一側之離型膜，使黏著劑層103暴露出再進行處理。

在另一些實施例中，第2圖所示之製造方法可用以製造無基材雙面膠型態（non-carrier film，NCF）產品。其中，第一載膜101可為離型膜，並在第一載膜101通過乾燥裝置113前，將配製好的黏著劑塗佈於離型膜上，形成黏著劑層103。而後，使離型膜與黏著劑層103通過乾燥裝置113，黏著劑層103通過乾燥裝置113後，其中之溶劑含量將降低至所欲範圍，例如30ppm以下，再使通過乾燥裝置113、黏著力調整裝置111後之離型膜與黏著劑層103，與另一離型膜貼合，形成無基材雙面膠型態產品。此時，第一載膜101與第二載膜102皆為離型膜。舉例而言，參照第2圖與第6圖，當第一載膜101為離型膜105 ₁、第二載膜102為離型膜105 ₂，則貼合後所形成之積層膜材104如第6圖所示。在一些實施例中，用於第一載膜101之第一離型膜105 ₁與用於第二載膜之第二離型膜105 ₂可為對黏著劑層103具有不同剝離力之離型膜。例如，第一離型膜105 ₁為重離型膜；第二離型膜105 ₂為輕離型膜。此處之輕離型膜、重離型膜分別表示具有相對較低剝離力之離型膜與相對較高剝離力之離型膜。

本案中所述之偏光膜，係用以將通過之光的光（具有任一方向之極化光）轉換成特定方向之偏極光之膜。偏光膜可採用已知的金屬偏光膜、碘系偏光膜、染料系偏光膜、聚乙烯偏光膜等。在一實施例中，偏光膜的材料例如是包含可為吸附配向之二色性色素之聚乙烯醇（polyvinyl alcohol，PVA）薄膜或由液晶材料摻附具吸收染料分子所形成。在一實施例中，偏光片的材料可為聚乙烯醇（PVA）樹脂膜，其可藉由皂化聚醋酸乙烯樹脂製得。聚醋酸乙烯樹脂的例子包括醋酸乙烯之單聚合物，即聚醋酸乙烯，以及醋酸乙烯之共聚合物和其他能與醋酸乙烯進行共聚合之單體。其他能與醋酸乙烯進行共聚合之單體的例子包括不飽和羧酸（例如丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸乙酯、正丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸甲酯）、烯烴（例如乙烯、丙烯、1-丁烯、2-甲丙烯）、乙烯醚（例如乙基乙烯醚、甲基乙烯醚、正丙基乙烯醚、異丙基乙烯醚）、不飽和磺酸（例如乙烯基磺酸、乙烯基磺酸鈉）等等。

前述偏光膜層的形成方法並無特別限制，可選用此領域任何合適的習知方法製作。一般而言，製作方法可包括如澎潤處理、薄膜拉伸處理、染色處理、交聯處理、洗淨處理以及乾燥處理等過程。

在一些實施例中，本案中所述之第一保護膜或第二保護膜可為單層或多層之結構，為透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性等優良之熱可塑性樹脂。熱可塑性樹脂可為以纖維素系樹脂組成的層，纖維素系樹脂是指纖維素中部分的羥基被乙酸酯化的樹脂，或是一部分被乙酸酯化、一部分被其他酸酯化的混合酯。纖維素系樹脂較佳為纖維素酯系樹脂，更佳為乙醯基纖維素系樹脂，例如三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等，被充分酯化的纖維素稱三醋酸纖維素（triacetate cellulose，TAC）。或是以其他合適材質例如丙烯酸樹脂膜、聚芳香羥樹脂膜、聚醚樹脂膜、環聚烯烴樹脂膜（例如聚冰片烯樹脂膜）、聚碳酸酯系樹脂例如由碳酸與二醇或雙酚所形成的聚酯（例如聚對苯二甲酸乙二醇酯（polyethylene Terephthalate，PET））、聚丙稀（polypropylene，PP）、聚乙烯（polyethylene，PE）、非結晶性聚烯烴系樹脂例如環狀烯烴單體（共）聚合物（cyclo olefin(co)polymers，COC/COP），由降冰片烯、環戊二烯、二環戊二烯、四環十二碳烯等開環聚合物所構成，或與烯烴類所形成的共聚合物所構成等。

前述保護膜材料除可作為貼合在偏光膜的一面上用以保護偏光膜的偏光膜保護膜之外，亦可經過離型處理（例如經聚矽氧處理等）後作為一暫時保護膜（亦稱為離型膜）。暫時保護膜（離型膜）係在建構積層膜材之後，於所預期的時段內被剝離除去之可剝離保護膜。

保護膜亦可具有如相位差膜、增亮膜的光學機能之保護膜。例如，藉由將由上述材料所構成的保護膜延伸（單軸延伸或雙軸延伸等），或在該膜上積層其他膜層如硬塗層、防眩層、相位差膜、抗反射層、帯電防止層、防汚層的表面處理層（塗佈層），使得積層膜材具有上述之特性。所述各膜層可為單一層或是多層結構。

前述離型層可例如是聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜，或是例如但不限於矽樹脂。

在一些實施例中，保護膜厚度可為1至100μm，但從處理性等之觀點而言，係以5至60μm為佳，以5至50μm為更佳。離型膜之厚度可為1至100μm，更佳可為5至50μm。黏著劑層厚度可為1-100μm，更佳可為5-50μm。

綜上所述，本案係提供一種積層膜材的製造方法，藉由在不同膜層貼附前，向其中之含有異氰酸酯化合物的黏著劑層提供含羥基之化合物，以改變黏著劑層之黏著力，藉此得到具有所欲性質，例如具有更佳強度之積層膜材。且藉由此方法可在不需要更動直接塗工品所使用的黏著劑配方的前提下，以最經濟之方式調整現有製程，即能使製得之產品具有與直接塗工品相近的黏著強度，從而降低整體製造、管理之成本。

此外，本案亦提供由前述製造方法所製成之積層膜材。積層膜材具有兩層膜層以及介於兩膜層之間的黏著劑層，且黏著劑層中具有異氰酸酯化合物與可與異氰酸酯化合物反應之含羥基化合物。藉由使具有異氰酸酯化合物的黏著劑層中，含有可與異氰酸酯化合物反應之含羥基化合物，可使黏著劑層之黏著力提升，以獲得具有所欲強度之積層膜材。

為了讓本揭露之上述及其它目的、特徵、及優點能更明顯易懂，下文特舉數個實施例與比較例，作詳細說明如下，然其並非用以限定本揭露之內容。

[試片製備]

以塗頭在一重離型膜（琳得科，型號SP-POGW#382051）上塗佈含異氰酸酯化合物之黏著劑（異氰酸酯化合物之濃度為0.5wt%，黏著劑層厚度為20um）後，使離型膜與黏著劑層通過加熱爐，讓黏著劑層中之溶劑含量小於20ppm（使用北川式檢知管，型號AP-20進行檢測）。隨後，將離型膜與黏著劑層送入具有特定相對濕度之加濕裝置中，以向黏著劑層提供水份。待黏著劑層達到預定之含水量後，使離型膜與黏著劑層離開加濕裝置，與輕離型膜（琳得科，型號SP-P#381130）進行貼合，貼合後於23℃/相對濕度65%之環境靜置養生7日。

養生完成後，將輕離型膜撕除，並以黏著劑層側與偏光板貼合。此處之偏光板具有依序為三醋酸纖維素保護膜/聚乙烯醇偏光膜/三醋酸纖維素保護膜之結構。與偏光板貼合後，於23℃/相對濕度65%之環境靜置1日。再將前述之重離型膜移除，使該偏光板藉由黏著劑層直接貼合於一無鹼玻璃（Corning E-XG，寬度25mm）上。之後，對試片進行加壓脫泡程序，其中溫度設定為50℃，壓力為0.5MPa，時間為20分鐘。再於23℃/相對濕度65%之環境靜置1日後，進行黏著力測試。

[黏著力測試]

將試片於溫度為23℃、溼度為65%的環境下靜置24小時後，以萬能拉力機（島津製作所）量測寬度為25公厘的試片之黏著力，其中拉伸速度設定為300mm/min，拉伸角度為180度。

[實施例1]

實施例1之試片製作方式如同前述[試片製備]，其中加濕裝置之相對濕度設定為65±5%，黏著劑層通過加濕裝置後其中之含水率為0.4-0.6wt％。經前述黏著力測試，實施例1之試片之黏著力為1.82N。

[實施例2]

實施例2之試片製作方式如同前述[試片製備]，其中加濕裝置之相對濕度設定為75±5%，黏著劑層通過加濕裝置後其中之含水率為1.0-1.4wt％。經前述黏著力測試，實施例2之試片之黏著力為2.13N。

[實施例3]

實施例3之試片製作方式如同前述[試片製備]，其中加濕裝置之相對濕度設定為85±5%，黏著劑層通過加濕裝置後其中之含水率為1.4-1.8wt％。經前述黏著力測試，實施例3之試片之黏著力為3.42N。

[實施例4]

實施例4之試片製作方式如同前述[試片製備]，其中加濕裝置之相對濕度設定為95%，黏著劑層通過加濕裝置後其中之含水率為1.8-3wt％。經前述黏著力測試，實施例4之試片之黏著力為3.89N。

[比較例]

比較例之試片製作方式如同前述[試片製備]，故黏著劑層中含有同樣濃度之異氰酸酯化合物，但其中之加濕裝置並無開啟，因此加濕裝置中之相對濕度為環境相對濕度約55％，黏著劑層通過加濕裝置後其中之含水率為0.4-0.6wt％。經前述黏著力測試，比較例試片之黏著力為1.42N。

將上述各試片之實驗條件與測得之黏著力，整理於下方表1。

表1

	加濕裝置 設定之濕度 （%）	通過加濕裝置後 黏著劑層之含水率 （%）	黏著力 （N/25mm）	黏著力上升 百分比 （%）
比較例1	55	0.4~0.6%	1.42	-
實施例1	65±5	0.8~1.0%	1.82	28.17
實施例2	75±5	1.0~1.4%	2.13	50.00
實施例3	85±5	1.4~1.8%	3.42	140.85
實施例4	95	1.8~3%	3.89	173.94

根據上方表1所整理的黏著力測試結果可知，隨著加濕裝置中之相對濕度提高，通過加濕裝置的黏著劑層中之含水率上限亦可提高。根據實驗結果亦可知，藉由使黏著劑層之含水率提升，可明顯提升偏光板與玻璃間之黏著力，亦代表具有較高含水率之黏著劑所形成的積層膜具有較佳的強度。

雖然本揭露的實施例及其優點已揭露如上，但應該瞭解的是，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本揭露之精神和範圍內，當可作更動、替代與潤飾。此外，本揭露之保護範圍並未侷限於說明書內所述特定實施例中的製程、機器、製造、物質組成、裝置、方法及步驟，任何所屬技術領域中具有通常知識者可從本揭露揭示內容中理解現行或未來所發展出的製程、機器、製造、物質組成、裝置、方法及步驟，只要可以在此處所述實施例中實施大抵相同功能或獲得大抵相同結果皆可根據本揭露使用。因此，本揭露之保護範圍包括前述製程、機器、製造、物質組成、裝置、方法及步驟。另外，藉由前述所列舉之多種實施態樣，本領域具有通常知識者應可瞭解，本案所提供之積層膜材製造方法可應用於多種實施方式。而每一申請專利範圍亦構成個別的實施例，且本揭露之保護範圍也包括各個申請專利範圍及實施例的組合。本揭露之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

001  圓框 1001  第一載膜行進方向 1002  第二載膜行進方向 1003  積層膜材行進方向 101  第一載膜 102  第二載膜 103  黏著劑層 104  積層膜材 105 ₁離型膜 105 ₂離型膜 106  偏光板 107  偏光膜 108 ₁保護膜 108 ₂保護膜 109  玻璃基板 111  黏著力調整裝置 112  收捲束 113  乾燥裝置

第1圖係根據本案的一些實施例所繪示之積層膜材製造過程示意圖。 第2圖係根據本案的另一些實施例所繪示之積層膜材製造過程示意圖。 第3圖係根據本案的一些實施例所製得之積層膜材的結構示意圖。 第4圖係根據本案的一些實施例所製得之積層膜材的結構示意圖。 第5圖係根據本案的一些實施例所製得之積層膜材的結構示意圖。 第6圖係根據本案的一些實施例所製得之積層膜材的結構示意圖。

001  圓框 1001  第一載膜行進方向 1002  第二載膜行進方向 1003  積層膜材行進方向 101  第一載膜 102  第二載膜 103  黏著劑層 104  積層膜材 111  黏著力調整裝置 112  收捲束

Claims (20)

1. 一種積層膜材的製造方法，包含：(a)提供一第一載膜，所述第一載膜上具有一黏著劑層，所述黏著劑層中包含一異氰酸酯化合物；(b)養生前，使所述第一載膜經過一增黏處理，所述增黏處理係使該第一載膜通過一黏著力調整裝置向所述黏著劑層提供一增黏劑，該增黏劑包含一羥基化合物；以及(c)將經過所述增黏處理的該第一載膜以該黏著劑側貼附至一第二載膜，形成所述積層膜材。
2. 如申請專利範圍第1項所述之積層膜材的製造方法，其中所述含羥基化合物包含水、醇、酸、或前述之組合，或所述含羥基化合物之分子量為18-250。
3. 如申請專利範圍第1項所述之積層膜材的製造方法，其中經過所述增黏處理的該黏著劑層之重量，相較於經過所述增黏處理前之該黏著劑層之重量，增加0.8-4%。
4. 如申請專利範圍第1項所述之積層膜材的製造方法，其中該第一載膜包含一離型膜；以及該第二載膜包含一偏光板，所述偏光板包含一第一保護膜以及在該第一保護膜上的一偏光膜。
5. 如申請專利範圍第1項所述之積層膜材的製造方法，其中該第一載膜包含一偏光板，所述偏光板包含一第一保護膜以及在該第一保護膜上的一偏 光膜，及該第二載膜包含一玻璃基板；或該第一載膜包含一第一離型膜，該第二載膜包含一第二離型膜。
6. 如申請專利範圍第1項所述之積層膜材的製造方法，其中所述黏著力調整裝置為一加濕裝置，所述加濕裝置向所述黏著劑層提供該增黏劑。
7. 如申請專利範圍第6項所述之積層膜材的製造方法，其中所述加濕裝置中之相對濕度為60%以上。
8. 如申請專利範圍第6項所述之積層膜材的製造方法，其中通過所述加濕裝置後的該黏著劑層之含水率為0.8wt%-3wt%。
9. 如申請專利範圍第6項所述之積層膜材的製造方法，其中所述加濕裝置為蒸氣式加濕裝置、水霧式加濕裝置、或超音波式加濕裝置。
10. 如申請專利範圍第1項所述之積層膜材的製造方法，更包含在使所述第一載膜通過所述黏著力調整裝置前，使所述第一載膜通過一乾燥裝置。
11. 如申請專利範圍第10項所述之積層膜材的製造方法，其中該乾燥裝置包含一加熱爐或加熱滾筒。
12. 如申請專利範圍第10項所述之積層膜材的製造方法，所述黏著劑層在通過所述乾燥裝置後，一溶劑殘餘量小於30ppm。
13. 一種積層膜材，包含：一第一載膜；一第二載膜；以及一黏著劑層，所述黏著劑層在所述第一載膜與所述第二載膜之間，所述黏著劑層中包含一異氰酸酯化合物與一可與該異氰酸酯化合物反應之含羥基化合 物，所述含羥基化合物佔所述黏著劑層之0.8wt%-4wt%，其中相對於未經一增黏處理的該黏著劑層，該黏著劑層之黏著力上升百分比為28.17%~173.94%。
14. 如申請專利範圍第13項所述的積層膜材，其中所述含羥基化合物包含水、醇、酸、或前述之組合，或所述含羥基化合物之分子量為18-250。
15. 如申請專利範圍第13項所述的積層膜材，其中該第一載膜包含一離型膜；該第二載膜包含一偏光板，所述偏光板包含一第一保護膜以及在該第一保護膜上的一偏光膜。
16. 如申請專利範圍第15項所述的積層膜材，其中該偏光板更包含設置於該離型膜與該第一保護膜之間的一第二保護膜，且該偏光膜設置於該第一保護膜與該第二保護膜之間。
17. 如申請專利範圍第13項所述的積層膜材，其中該第一載膜包含一偏光板，所述偏光板包含一第一保護膜以及在該第一保護膜上的一偏光膜；以及該第二載膜包含一玻璃基板。
18. 如申請專利範圍第13項所述的積層膜材，其中該第一載膜包含一第一離型膜；以及該第二載膜包含一第二離型膜。
19. 如申請專利範圍第18項所述的積層膜材，其中該第一離型膜與該第二離型膜對於該黏著劑層具有不同之剝離力。
20. 如申請專利範圍第13項所述的積層膜材，其中該黏著劑層之一溶劑殘餘量小於30ppm或該黏著劑層之含水率為0.8wt%-3wt%。

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