TWI706075B - 偏光板製造用無塵室 - Google Patents

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本田俊幸
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日商住友化學股份有限公司
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    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements

Abstract

本發明係提供一種偏光板製造用無塵室,係為收容偏光板製造裝置的無塵室,其地板面的至少一部分係由不鏽鋼製的平面板所構成。其中,無塵室的地板面亦可由上述平面板和格柵板所構成。

Description

偏光板製造用無塵室
本發明係關於一種用以製造偏光板的無塵室。
偏光板已廣泛使用作為液晶顯示裝置等影像顯示裝置中的偏光元件等。偏光板一般是使用黏著劑將透明樹脂膜(保護膜等)貼合在偏光膜的單面或雙面之構成。為了使因異物所導致的中間體或製品污染達到最小限度,包含製造偏光膜的偏光板製造步驟通常是在無塵室內實施。
雖非屬製造偏光板用的技術文獻,但和無塵室相關的專利文獻已知有例如日本特開平4-214875號公報(專利文獻1)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開平4-214875號公報
本發明之目的在改善偏光板製造用無塵室內的潔淨性。
本發明提供以下所述的偏光板製造用無塵室。
[1]一種偏光板製造用無塵室,係為收容偏光板製造裝置的無塵室,其地板面的至少一部分係由不鏽鋼製平面板所構成。
[2]如[1]所述的偏光板製造用無塵室,其中,前述地板面係由前述平面板與格柵板所構成。
[3]如[2]所述的偏光板製造用無塵室,其中,前述偏光板製造裝置包含用以貼合2片以上薄膜而得到積層膜的積層膜製造裝置,前述格柵板係與要設置前述積層膜製造裝置的地板面鄰接,或配置在其附近。
[4]如[1]至[3]中任一項所述的偏光板製造用無塵室,其中,前述平面板包含其表面依JIS Z8741:1997規定的85度鏡面光澤度為120以下的平面板。
[5]如[4]所述的偏光板製造用無塵室,其中,前述偏光板製造用無塵室包含用以檢查偏光板或構成該偏光板之薄膜的檢查區域,前述檢查區域係配置於前述85度鏡面光澤度為120以下的平面板上。
若依本發明,可以提高偏光板製造用無塵室內的潔淨性。
1‧‧‧室(無塵室)
2‧‧‧平面板
3‧‧‧格柵板
4‧‧‧濾塵器
5‧‧‧頂棚部
6‧‧‧地板下部
7‧‧‧製造裝置設置部
8‧‧‧乾淨空氣
9‧‧‧偏光板製造裝置
10、11‧‧‧風扇
A、B、C、D、F、G、I、J‧‧‧管線
第1圖係示意性地顯示本發明偏光板製造用無塵室之一例的剖面圖。
[發明的實施形態]
本發明係關於一種收容偏光板製造裝置的偏光板製造用無塵室。本發明的無塵室中,地板面的至少一部分係由不鏽鋼所構成,較佳為地板面的至少一部分係由不鏽鋼製平面板所構成。所稱平面板,係指不具有貫穿厚度方向之孔的平板,此點和具有貫穿孔的後述格柵板(grating panel)(洞洞板,punching panel)有所區別。
本發明的無塵室由於使用強度及耐腐蝕性(耐鏽性)優異的不鏽鋼,故不容易產生源自地板面的灰塵及剝落,潔淨性優良。相對於此,混凝土等的地板面施以樹脂塗層等的傳統無塵室地面的情況中,會有因摩擦或衝撃而使塗層粉塵化或剝落的情形,而在潔淨性方面尚有改善的餘地。
本發明的無塵室之地板面,可以是其全部或一部分鋪滿複數之上述的不鏽鋼製平面板而成者。藉由使用平面板構築地板面,地板的重鋪作業也變得容易。因 為透過將平面板的表面形成平滑面,可以提升地板面的清掃性,因此為了提升潔淨性,平面板的表面以平滑者為較佳。就形成無塵室空氣循環系統的空氣排放口而言,本發明無塵室的地板面較佳係更包含格柵板(洞洞板)。
以下,揭述各實施形態藉以更進一步詳細說明本發明。
<第1實施形態>
第1圖係示意性地顯示本發明的偏光板製造用無塵室例之一例的剖面圖。第1圖所示的無塵室係構成為包含有空氣循環系統的無塵室系統,其包含:室(無塵室)1、及用以控制室1內的空氣流動的空氣循環系統。
室1區隔為頂棚部5、地板下部6、及位在兩者之間的製造裝置設置部7。製造裝置設置部7在其地板面上設置有偏光板製造裝置9。在頂棚部5和製造裝置設置部7之間設置有HEPA濾塵器等濾塵器4,經由該濾塵器4,乾淨空氣8將從頂棚部5供給到製造裝置設置部7。濾塵器4也可進一步包含風扇。製造裝置設置部7內的空氣具有從頂棚部5側往地板下部6側流動的氣流。製造裝置設置部7和地板下部6係以地板材區隔,在第1圖所示的例子中,該地板材係由表面平滑的不鏽鋼製平面板2及格柵板3所構成。
偏光板製造裝置9可包含用以製造偏光板的所有製造裝置(製造生產線)。一般而言,偏光板的製造係由複數個製造步驟所構成,但偏光板製造裝置9也可為 用以實施上述複數種製造步驟中其中1種製造步驟的製造裝置,也可包含用以實施2種以上步驟或全部製造步驟的2個以上製造裝置。以下列舉偏光板製造裝置9可包含的製造裝置例。
1)用以延伸坯材薄膜(聚乙烯醇系樹脂膜等)而製造屬於偏光膜中間體的延伸薄膜的裝置,2)用碘等二色性色素將上述延伸薄膜施行染色而製造偏光膜的裝置(該裝置也可包含用以使染色後的薄膜乾燥的裝置),3)用以將透明樹脂膜(保護膜或光學補償膜等)貼合在上述偏光膜的單面或雙面而製造偏光板的裝置(該裝置也可包含使薄膜貼合時使用的黏著劑乾燥及/或硬化的裝置),4)用以在偏光板積層保護膜及/或黏著劑層的裝置,5)用以在偏光板積層其他光學機能性薄膜(相位差膜或亮度提升膜等)的裝置,6)用以檢查偏光板或其中間體的裝置,7)用以裁切偏光板而製造板片體的裝置。
第1圖所示的例子中,空氣循環系統包含:將地板下部6內的空氣送返頂棚部5的第1循環系統(管線D→I→B→A)、將製造裝置設置部7內的空氣送返頂棚部5的第2循環系統(管線F→I→B→A)、將外部空氣供給到頂棚部5的外氣供給系統(管線G→J→C→A)、及將地板下部 6內的空氣排出外部的排出系統。第1及第2循環系統中的空氣循環可以使用風扇10進行。外氣供給系統中的外氣供給可以使用風扇11進行。風扇11也可以具備調整外氣溫度及/或濕度的空調機能。
此外,本發明的無塵室並不一定必須完全具備第1循環系統、第2循環系統、外氣供給系統及排出系統,也可以省略其中1個以上的系統。再者,本發明的無塵室也可包含上述之外的空氣移動管線。
藉由空氣循環系統,可以從頂棚部5一直供給乾淨空氣到製造裝置設置部7,同時可使於製造裝置設置部7中浮游的垃圾、塵埃、灰塵等異物朝地板面方向落下,而得以保持製造裝置設置部7內的乾淨。上述的異物基本上是通過格柵板3予以去除。再者,因為地板材的一部分係由表面平滑的不鏽鋼製平面板2所構成,所以也不容易產生源自地板材的異物(鏽等),而且地板面的清掃性也較優異。
格柵板3也可以省略,改全部由不鏽鋼製平面板2來構成地板材。在此情況中,可以將製造裝置設置部7內的空氣排出口設置於側壁面(較佳為接近地板面的側壁面),而利用第2循環系統進行空氣循環。減少使用格柵板3,而盡可能多使用不鏽鋼製平面板2,在提高製造裝置設置部7內的潔淨性及清掃性方面為有利。再者,將可設置偏光板製造裝置9的地板面積擴大,在提高偏光板製造裝置9的配置設計自由度方面亦為有利。
以不鏽鋼製平面板2構築地板面,在提高地板的耐久性方面亦適合。特別是搬運坯材薄膜等重物的路徑上的地板面,以平面板2構成為較佳。
構成平面板2的不鏽鋼種類並無特別限制,可以使用例如SUS201、SUS202、SUS301、SUS302、SUS303、SUS304、SUS305、SUS316、SUS317、SUS329J1、US403、SUS405、SUS420、SUS430、SUS430LX、SUS630等。平面板2的厚度例如為0.5至100mm。平面板2例如為四方形,一邊的長度例如為15cm至5m。
平面板2亦可如第1圖所示例子一樣僅以其本身形成地板材,也可將其積層固定在基底層地板上。再者,也可設成不在平面板2的正下方形成地板下部6,而只在格柵板3的正下方形成地板下部6。因此,在地板材僅由平面板2所構成的情況中,地板下部6並非必要者。
另一方面,使用格柵板3在可使在設置有格柵板3之附近浮遊的異物有效地去除方面為有利。因此,使用格柵板3時,較佳係將該格柵板3與製造裝置設置部7中特別要求高潔淨度的區域或乾淨度容易降低的區域鄰接,或者設置在其附近。
特別要求高潔淨度的區域,可列舉有例如要設置用以貼合2層以上薄膜而得到積層膜的積層膜製造裝置的區域。因為要將混入薄膜間的異物去除相當困難。積層膜製造裝置的具體例有上述的3)至5)。
格柵板3係以具有複數個貫穿厚度方向之 孔為較佳的平面板,可以使用公知者。孔的剖面形狀並無特別限制,除了四方形(包含狹縫狀)之外,也可為圓、橢圓等圓弧形狀等。格柵板3的材質可為與平面板2相同的不鏽鋼,也可為其他金屬或合金材質。例如,也可使用如樹脂之金屬以外的其他材料。格柵板3的厚度例如為0.5至100mm。格柵板3例如為四方形,其一邊的長度例如為15cm至5m。
<第2實施形態>
本實施形態的偏光板製造用無塵室中,其地板面的至少一部分係由不鏽鋼製平面板所構成,並且,該平面板包含表面的85度鏡面光澤度為120以下的平面板,除此以外則與上述第1實施形態的無塵室具有相同的構成。平面板表面的85度鏡面光澤度係依JIS Z8741:1997的規定來量測。
85度鏡面光澤度為120以下的平面板雖可配置於地板面任何位置,但以配置於偏光板製造用無塵室內的檢查區域為較佳。所稱檢查區域係指用以檢查屬於製品的偏光板或構成該偏光板的薄膜之區域。除了要設置檢查裝置(例如光學檢查裝置等)的區域之外,也包含不設置特別的檢查裝置而是供製造作業人員等依目視進行檢查的區域。所稱構成偏光板的薄膜係指用以製造坯材薄膜(聚乙烯醇系樹脂膜等)及其延伸膜、偏光膜、透明樹脂膜(保護膜、光學補償膜等)、保護膜、黏著劑層、其他光學機能性薄膜(相位差膜、亮度提升膜等)等的偏光板之原料薄膜或 中間體。
一般而言,雖然在偏光板製造用無塵室內的照度設定為較高,但即使在如此情況中,仍可藉由將檢查區域配置在85度鏡面光澤度為120以下的平面板上,以抑制地板面所導致的光反射,俾可更正確的用檢查裝置或目視實施檢查。從檢查的正確度及檢查的容易度之觀點來考量,85度鏡面光澤度以110以下為較佳。85度鏡面光澤度若超過120,可能會有因外在亂射光的影響而無法使檢查裝置或目視正確實施的疑慮。
另外,雖藉由檢查裝置或目視所進行的偏光板或構成該偏光板之薄膜的檢查項目並無特別限制,惟可例舉如:有無損傷、異物等會使光線產生折射的缺陷、表面的凹凸狀態、光學特性、色調、穿透率、含水率、厚度等。
85度鏡面光澤度為120以下的平面板中,85度鏡面光澤度較佳為10以上,更佳為50以上。由於85度鏡面光澤度定為10以上,可提高地板面的清掃性。
藉由以下的實驗,可檢驗平面板的表面85度鏡面光澤度對檢查容易度(正確度)的影響。實驗係使用偏光板製造用無塵室進行,該偏光板製造用無塵室係將檢查屬於製品的偏光板之表面有無缺陷(異物、損傷等)的檢查區域設置於平面板上者。無塵室內設置有照明,上述檢查區域中,在藉由目視施行檢查位置的照度約為1000勒克斯。
上述平面板係使用表面的85度鏡面光澤度為126.3的平面板時,因為外在亂射光的影響,而變得難以看到缺陷,會有無法以目視正確判斷有無缺陷的情形。相對於此,使用表面的85度鏡面光澤度為103.2及5.6的平面板時,均可用目視明白辨識缺陷,並正確的檢測缺陷。另外,85度鏡面光澤度係以直接置於平面板表面上的光澤度計進行測定。
以上,雖揭示了若干實施形態加以說明本發明的無塵室,但本發明的無塵室並非限定於偏光板製造用無塵室,也可應用於用以製造影像顯示裝置等所使用的偏光板以外的其他光學薄膜之無塵室、用以使用偏光板等各種光學元件而製造影像顯示裝置之無塵室。影像顯示裝置可例舉如液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置等。
1‧‧‧室(無塵室)
2‧‧‧平面板
3‧‧‧格柵板
4‧‧‧濾塵器
5‧‧‧頂棚部
6‧‧‧地板下部
7‧‧‧製造裝置設置部
8‧‧‧乾淨空氣
9‧‧‧偏光板製造裝置
10、11‧‧‧風扇
A、B、C、D、F、G、I、J‧‧‧管線

Claims (4)

  1. 一種偏光板製造用無塵室,係為收容偏光板製造裝置的無塵室,其地板面的至少一部分係由不銹鋼製平面板所構成,其中,前述平面板包含其表面依JIS Z8741:1997規定的85度鏡面光澤度為10以上120以下的平面板。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板製造用無塵室,其中,前述地板面係由前述平面板及格柵板所構成。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之偏光板製造用無塵室,其中,前述偏光板製造裝置包括用以貼合2層以上薄膜而得到積層膜的積層膜製造裝置,前述格柵板係與要設置前述積層膜製造裝置的地板面鄰接,或配置在其附近。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板製造用無塵室,其中,前述偏光板製造用無塵室包括用以檢查偏光板或構成該偏光板之薄膜的檢查區域,前述檢查區域係配置於前述85度鏡面光澤度為120以下的平面板上。
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