TWI704426B - 運動控制裝置、運動控制方法、遮罩台系統和光蝕刻機 - Google Patents
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Abstract
一種運動控制裝置、運動控制方法、遮罩台系統和光蝕刻機,用於控制第一運動模組和第二運動模組同步移動,該第一運動模組和該第二運動模組分別設置在第一安裝框架和第二安裝框架上,該運動控制裝置包括第一位置回饋單元、第一軌跡加速度前饋單元、第一框架加速度前饋單元、第一加法運算模組、第二位置回饋單元、第二軌跡加速度前饋單元、第二框架加速度前饋單元、第二加法運算模組。本發明可改善第一運動模組和第二運動模組的運動精度,可減少該第一運動模組和該第二運動模組由於運動不同步導致的相互干擾,進而改善運動控制裝置的控制精度。
Description
本發明有關於光蝕刻技術領域,特別有關於一種運動控制裝置、運動控制方法、遮罩台系統和光蝕刻機。
大規模半導體積體電路的生產設備要求許多重要組件的振動干擾盡可能小,以使重要組件處於安靜環境中,如光蝕刻機要求工件台系統和遮罩台系統的振動干擾要盡可能小。光蝕刻機的遮罩台一般包括微動台和粗動台,微動台完成遮罩板的精密微調,粗動台完成遮罩板的大行程掃描曝光運動。
隨著平板顯示行業的飛速發展,基板尺寸在不斷增加,已經由原來的G1(基板尺寸300*400)發展到現在的G10(基板尺寸2850*3150),曝光視場大小的需求也隨之增大。在IC領域應用的單鏡頭光蝕刻機已經難以滿足目前曝光視場不斷增大的需求,為此業內提出一種拼接鏡頭的光蝕刻機來解決視場不斷增大的問題。對於拼接鏡頭大視場光蝕刻機,採用的遮罩板尺寸也隨之增大,比如G6以上採用850*1200mm和850*1400mm的遮罩板,甚至更大尺寸的遮罩板。因此,支撐遮罩板的框架結構和品質也隨之增大,而支撐遮罩板的框架結構和品質的增大必然會帶來遮罩台系統的振動的增大,與此同時光蝕刻機的框架結構和品質也會增大,也會導致光蝕刻機的振動增大,因此對遮罩台系統和光蝕刻機的振 動控制的要求也相應提高,以避免振動影響遮罩台系統的精度,以及光蝕刻機的精度。另外,隨著IC和平板顯示行業的不斷發展,遮罩台系統和光蝕刻機振動控制的要求也在不斷提高。
因此,急需對遮罩台系統和光蝕刻機進行改進,以降低振動對遮罩台系統和光蝕刻機的精度的影響。
本發明的目的在於提供一種運動控制裝置、運動控制方法、遮罩台系統和光蝕刻機,以改善振動影響遮罩台系統和光蝕刻機的精度的問題。
為解決上述技術問題,本發明提供一種運動控制裝置,用於控制第一運動模組和第二運動模組同步移動,該第一運動模組和該第二運動模組分別設置在第一安裝框架和第二安裝框架上,該運動控制裝置包括:第一位置回饋單元,用於執行使該第一運動模組的位置與一運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制;第一軌跡加速度前饋單元,用於執行補償該第一運動模組的位置控制延遲的前饋控制;第一框架加速度前饋單元,用於執行補償該第一安裝框架的振動對該第一運動模組的位置控制產生擾動的前饋控制;第一加法運算模組,用於疊加該第一位置回饋單元、該第一軌跡加速度前饋單元和該第一框架加速度前饋單元輸出的資訊,並輸出用於控制該第一運動模組運動的信號;第二位置回饋單元,用於執行使該第二運動模組的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制;第二軌跡加速度前饋單元,用於執行補償該第二運動模組的位置控制延遲的前饋控制;第二框架加速度前饋單元,用於執行補償該第二安裝框架的振動對該第二粗運動模組的位置控制產 生擾動的前饋控制;以及第二加法運算模組,用於疊加該第二位置回饋單元、該第二軌跡加速度前饋單元和該第二框架加速度前饋單元輸出的資訊,並輸出用於控制該第二運動模組運動的信號。
可選的,該第一位置回饋單元包括第一減法運算模組和第一回饋控制器,該第一減法運算模組用於將該運動軌跡信號和該第一運動模組的位置資訊做減法運算,並輸出第一偏差資訊,該第一回饋控制器用於處理該第一偏差資訊並輸出第一驅動資訊;該第一軌跡加速度前饋單元用於處理該第一運動模組的運動軌跡加速度信號並輸出第一修正驅動資訊;該第一框架加速度前饋單元用於處理該第一安裝框架的加速度資訊並輸出第二修正驅動資訊;該第一加法運算模組用於將該第一驅動資訊、第一修正驅動資訊和第二修正驅動資訊做加法運算,並輸出控制該第一運動模組運動的信號;該第二位置回饋單元包括第二減法運算模組和第二回饋控制器,該第二減法運算模組用於將該運動軌跡信號和該第二運動模組的位置資訊做減法運算,並輸出第二偏差資訊,該第二回饋控制器用於處理該第二偏差資訊並輸出第二驅動資訊;該第二軌跡加速度前饋單元用於處理該第二運動模組的運動軌跡加速度信號並輸出第三修正驅動資訊;該第二框架加速度前饋單元用於處理該第二安裝框架的加速度資訊並輸出第四修正驅動資訊;該第二加法運算模組用於將該第二驅動資訊、第三修正驅動資訊和第四修正驅動資訊做加法運算,並輸出控制該第二運動模組運動的信號。
可選的,該第一運動模組藉由設置在該第一安裝框架上的第一減震器與該第一安裝框架連接,該第二運動模組藉由設置在該第二安裝框架上的第二減震器與該第二安裝框架連接。
本發發明還提供一種上述運動控制裝置的運動控制方法,該運動控制方法包括:執行使該第一運動模組的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制;執行補償該第一運動模組的位置控制延遲的前饋控制;執行補償該第一安裝框架的振動對該第一運動模組的位置控制產生擾動的前饋控制;疊加使該第一運動模組的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制、補償該第一運動模組的位置控制延遲的前饋控制以及補償該第一安裝框架的振動對該第一運動模組的位置控制產生擾動的前饋控制分別輸出的資訊,並輸出用於控制該第一運動模組運動的信號;執行使該第二運動模組的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制;執行補償該第二運動模組的位置控制延遲的前饋控制;執行補償該第二安裝框架的振動對該第二運動模組的位置控制產生擾動的前饋控制;疊加使該第二運動模組的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制、補償該第二運動模組的位置控制延遲的前饋控制以及補償該第二安裝框架的振動對該第二運動模組的位置控制產生擾動的前饋控制分別輸出的資訊,並輸出用於控制該第二運動模組運動的信號。
可選的,執行使該第一運動模組的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制包括:將該運動軌跡信號和該第一運動模組的位置資訊做減法運算並輸出第一偏差資訊,處理該第一偏差資訊並輸出第一驅動資訊;執行補償該第一運動模組的位置控制延遲的前饋控制包括:處理該第一運動模組的運動軌跡加速度信號並輸出第一修正驅動資訊;執行補償該第一安裝框架的振動對該第一運動模組的位置控制產生擾動的前饋控制包括:處理該第一安裝 框架的加速度資訊並輸出第二修正驅動資訊;疊加使該第一運動模組的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制、補償該第一運動模組的位置控制延遲的前饋控制以及補償該第一安裝框架的振動對該第一運動模組的位置控制產生擾動的前饋控制分別輸出的資訊,並輸出用於控制該第一運動模組運動的信號包括:將該第一驅動資訊、第一修正驅動資訊和第二修正驅動資訊做加法運算,並輸出控制該第一運動模組運動的信號;執行使該第二運動模組的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制包括:將該運動軌跡信號和該第二運動模組的位置資訊做減法運算,並輸出第二偏差資訊,處理該第二偏差資訊並輸出第二驅動資訊;執行補償該第二運動模組的位置控制的延遲的前饋控制包括:處理該第二運動模組的運動軌跡加速度信號並輸出第三修正驅動資訊;執行補償該第二安裝框架的振動對該第二粗運動模組的位置控制產生擾動的前饋控制包括:處理該第二安裝框架的加速度資訊並輸出第四修正驅動資訊;疊加使該第二運動模組的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制、補償該第二運動模組的位置控制延遲的前饋控制以及補償該第二安裝框架的振動對該第二運動模組的位置控制產生擾動的前饋控制分別輸出的資訊,並輸出用於控制該第二運動模組運動的信號包括:將該第二驅動資訊、第三修正驅動資訊和第四修正驅動資訊做加法運算,並輸出控制該第二運動模組運動的信號。
本發明還提供一種遮罩台系統,包括第一安裝框架、第二安裝框架、設置在該第一安裝框架上的第一運動模組、設置在該第二安裝框架上的第二運動模組以及上述的運動控制裝置。
可選的,該遮罩台系統還包括遮罩台、第一檢測模 組、第二檢測模組、第一加速度感測器和第二加速度感測器;該第一運動模組和該第二運動模組用於驅動該遮罩台運動;該第一檢測模組用於檢測該遮罩台靠近該第一運動模組處的位置資訊並作為第一運動模組的位置資訊,該第二檢測模組用於檢測該遮罩台靠近該第二運動模組處的位置資訊並作為第二運動模組的位置資訊;該第一加速度感測器設置在該第一安裝框架上,該第一加速度感測器用於檢測該第一安裝框架的加速度資訊,並將該第一安裝框架的加速度資訊傳遞給運動控制裝置,該第二加速度感測器設置在該第二安裝框架上,該第二加速度感測器用於檢測該第二安裝框架的加速度資訊,並將該第二安裝框架的加速度資訊傳遞給運動控制裝置。
可選的,該第一運動模組藉由設置在該第一安裝框架上的第一減震器與該第一安裝框架連接,該第二運動模組藉由設置在該第二安裝框架上的第二減震器與該第二安裝框架連接。
可選的,該第一減震器和該第二減震器的減震範圍均為10~50Hz。
本發明還提供一種光蝕刻機,包括上述的遮罩台系統。
本發明提供的一種運動控制裝置、運動控制方法、遮罩台系統和光蝕刻機,具有以下有益效果:
運動控制裝置藉由採用第一位置回饋單元使該第一運動模組的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求,採用該第一軌跡加速度前饋單元補償該第一運動模組的位置控制的延遲,以及採用該第一框架加速度前饋單元補償該第一安裝框架的振動對該第一運動台的位置控制的擾動,並採用第一加法運算模組疊加該第一位置回饋單 元、該第一軌跡加速度前饋單元和該第一框架加速度前饋單元輸出的資訊,並輸出用於控制該第一運動模組運動的信號,因此,該運動控制裝置在對該第一運動模組的運動進行回饋控制以及進行位置前饋補償的同時,還可減少該第一安裝框架的振動對該第一運動模組的運動的干擾,從而可進一步提高該第一運動模組的運動精度。
該運動控制裝置藉由第二位置回饋單元、第二軌跡加速度前饋單元、第二框架加速度前饋單元以及第二加法運算模組控制第二運動模組運動,同理該運動控制裝置在對該第二運動模組的運動進行回饋控制以及進行位置前饋補償的同時,還可減少該第二安裝框架的振動對該第二運動模組的運動的干擾,從而可進一步改善該第二運動模組的運動精度。
同時,由於該第一運動模組和該第二運動模組的運動精度均可改善,且均採用相同的運動軌跡信號、第一運動模組的運動軌跡加速度信號和第二運動模組的運動軌跡加速度信號控制該第一運動模組和該第二運動模組運動,因此該運動控制裝置可控制該第一運動模組和該第二運動模組同步運動,且該第一運動模組和該第二運動模組的運動精度改善,因此可進一步減少該第一運動模組和該第二運動模組由於運動不同步導致的相互干擾,進而改善該第一運動模組和該第二運動模組整體的運動精度,即可改善該運動控制裝置的控制精度。
100‧‧‧第一粗動模組
101‧‧‧粗動導軌
102‧‧‧粗動台
200‧‧‧第二粗動模組
201‧‧‧粗動導軌
202‧‧‧粗動台
300‧‧‧微動模組
401‧‧‧第一安裝框架
402‧‧‧第二安裝框架
403‧‧‧地基
500‧‧‧遮罩台
601‧‧‧第一前饋控制器
602‧‧‧第一回饋控制器
603‧‧‧第二前饋控制器
604‧‧‧第二回饋控制器
605‧‧‧第一運算單元
606‧‧‧第二運算單元
607‧‧‧第三運算單元
608‧‧‧第四運算單元
609‧‧‧第五運算單元
610‧‧‧第六運算單元
611‧‧‧第七運算單元
612‧‧‧第八運算單元
613‧‧‧第一電流環
614‧‧‧第二電流環
701‧‧‧第一檢測模組
702‧‧‧第二檢測模組
810‧‧‧第一粗動模組
811‧‧‧粗動導軌
812‧‧‧粗動台
820‧‧‧第二粗動模組
821‧‧‧粗動導軌
822‧‧‧粗動台
831‧‧‧第一安裝框架
832‧‧‧第二安裝框架
834‧‧‧地基
840‧‧‧遮罩台
851‧‧‧第一檢測模組
852‧‧‧第二檢測模組
861‧‧‧第一加速度感測器
862‧‧‧第二加速度感測器
871‧‧‧第一減法運算模組
872‧‧‧第一回饋控制器
873‧‧‧第一軌跡加速度前饋單元
874‧‧‧第一加法運算模組
875‧‧‧第一框架加速度前饋單元
876‧‧‧第一電流環
881‧‧‧第二減法運算模組
882‧‧‧第二回饋控制器
883‧‧‧第二軌跡加速度前饋單元
884‧‧‧第二加法運算模組
885‧‧‧第二框架加速度前饋單元
886‧‧‧第二電流環
890‧‧‧減震器
A1‧‧‧第一曲線
A2‧‧‧第二曲線
圖1是一種遮罩台系統的主視圖; 圖2是一種遮罩台系統的左視圖;圖3是一種遮罩台系統的控制框圖;圖4是本發明實施例一中的遮罩台系統的主視圖;圖5是本發明實施例一中的遮罩台系統的左視圖;圖6是本發明實施例一中應用於遮罩台系統中的運動控制裝置的控制框圖;圖7是本發明實施例二中的遮罩台系統的主視圖;圖8是圖1和圖2所示的遮罩台系統的地基激勵資料示意圖;圖9是圖1和圖2所示的遮罩台系統中的遮罩台關注點處的回應曲線;圖10是本發明實施例二中的遮罩台系統中的遮罩台關注點處的回應曲線。
如背景技術所述,現有的遮罩台系統的精度容易受到振動的影響,基於此發明人對現有的遮罩台系統的結構和控制方式進行詳細的分析。
圖1是一種遮罩台系統的主視圖,圖2是一種遮罩台系統的左視圖,參考圖1和圖2,該遮罩台系統包括第一粗動模組100、第二粗動模組200、微動模組300、遮罩台安裝框架、遮罩台500、運動控制裝置和位置檢測裝置。該第一粗動模組100、第二粗動模組200、微動模組300、遮罩台安裝框架、運動控制裝置和位置檢測裝置形成一個對該遮罩台500的位置進行控制的閉環控制系統。
如圖1所示,該遮罩台安裝框架包括第一安裝框架 401和第二安裝框架402。該第一安裝框架401和第二安裝框架402分別設置在地基403上。
該第一粗動模組100和該第二粗動模組200分別設置在該第一安裝框架401和第二安裝框架402上。該微動模組300設置在該第一粗動模組100和該第二粗動模組200上。該遮罩台500設置在該微動模組300上。該第一粗動模組100和該第二粗動模組200用於驅動該微動模組300以及設置在微動模組300上的遮罩台500運動。該微動模組300用於驅動該遮罩台500運動。
該第一粗動模組100和第二粗動模組200均包括設置在該遮罩台安裝框架上的粗動導軌101、201,沿著該粗動導軌101、201移動的粗動台102、202以及用於驅動該粗動台102、202沿著該粗動導軌101、201移動的驅動器。該微動模組300包括分別設置在兩個該粗動台102、202上的微動導軌。該遮罩台500能夠沿著兩個該微動導軌移動。
參考圖2,該第一粗動模組100、第二粗動模組200和微動模組300驅動該遮罩台500沿著Y軸方向移動(即沿著一水平方向移動)。以下為敘述方便,將第一粗動模組100的粗動台102稱之為第一粗動台102,將第一粗動模組100的驅動器稱之為第一驅動器,將第二粗動模組200的粗動台102稱之為第二粗動台102,將第二粗動模組200的驅動器稱之為第二驅動器。
該位置檢測裝置用於檢測該第一粗動模組100和該第二粗動模組200的位移資訊並將該位移資訊回饋給運動控制裝置。具體的,該位置檢測裝置包括第一檢測模組701和第二檢測模組702(可相應參考圖3),該第一檢測模組701用於檢測第一粗動 台102的第一位置資訊,該第二檢測模組702用於檢測第二粗動台102的第二位置資訊。
圖3是一種遮罩台系統的控制框圖,參考圖3,該運動控制裝置包括第一前饋控制器601、第一回饋控制器602、第二前饋控制器603、第二回饋控制器604、第一運算單元605、第二運算單元606、第三運算單元607、第四運算單元608、第五運算單元609、第六運算單元610、第七運算單元611、第八運算單元612、第一電流環613和第二電流環614。該運動控制裝置根據上級控制系統下發的控制指令控制第一粗動台102和第二粗動台102移動。具體的,上級控制系統發送給運動控制裝置的資訊主要包括運動軌跡信號、第一粗動模組100和第二粗動模組200的相對轉角信號、第一粗動模組100運動軌跡的加速度信號以及第二粗動模組200的運動軌跡加速度信號。
該第一運算單元605用於將第一位置資訊和第二位置資訊做交叉運算,並將第一位置資訊和第二位置資訊的運算結果減半,並輸出第一位置處理資訊。
該第二運算單元606用於將第一位置資訊和第二位置資訊做交叉運算,並將第一位置資訊和第二位置資訊的運算結果減半,並輸出第二位置處理資訊。
該第三運算單元607用於將該運動軌跡信號和第一位置處理資訊做減法運算並輸出第一偏差資訊。
該第四運算單元608用於將該第一粗動模組100和第二粗動模組200的相對轉角信號和第二位置處理資訊做減法運算並輸出第二偏差資訊。
該第一回饋控制器602用於處理該第一偏差資訊並輸出第一驅動資訊。
該第二回饋控制器604用於處理該第二偏差資訊並輸出第二驅動資訊。
該第一前饋控制器601用於處理該第一粗動模組100運動軌跡加速度信號並輸出第一修正驅動資訊。
該第二前饋控制器603用於處理該第二粗動模組200運動軌跡加速度信號並輸出第二修正驅動資訊。
該第五運算單元609用於將該第一驅動資訊和第一修正驅動資訊做加法運算,並輸出第一運動控制信號。
該第六運算單元610用於將該第二驅動資訊和第二修正驅動資訊做加法運算,並輸出第二運動控制信號。
該第七運算單元611用於將該第一運動控制信號和第二運動控制信號做交叉運算,並輸出第一交叉驅動信號。
該第八運算單元612用於將該第一運動控制信號和第二運動控制信號做交叉運算,並輸出第二交叉驅動信號。
該第一交叉驅動信號經過第一電流環613處理後輸出給第一驅動器,該第一驅動器控制第一粗動台102移動。該第二交叉驅動信號經過第二電流環614處理後輸出給第二驅動器,該第二驅動器控制第二粗動台102移動。
參考圖3,圖1和圖2所示的一種遮罩台系統採用的是雙交叉同步控制策略。該遮罩台系統中以第一粗動台102為主動軸,第二粗動台102跟隨第一粗動台102運動,第二粗動台102為隨動軸。該遮罩台系統藉由交叉處理後的第一位置資訊和第二位置 資訊的分別對第一粗動模組100和第二粗動模組200進行偏差控制,實現第一粗動台102和第二粗動台102的位置交叉控制。藉由交叉處理後第一運動控制信號和第二運動控制信號分別對第一粗動模組100和第二粗動模組200進行補償,使得第一粗動台102和第二粗動台102出力相對均勻,實現第一粗動台102和第二粗動台102的力的交叉控制。其中,第一粗動台102和第二粗動台102的相對轉角信號越小,同步控制精度越高,即使得第一粗動台102和第二粗動台102能夠同時到達相應位置,因此可使該第一粗動模組100和第二粗動模組200的相對轉角信號為零,即期望第一粗動模組100和第二粗動模組200完全同步。
申請人研究後發現,影響上述遮罩台系統的精度主要是低頻振動。根據低頻振動的來源,一為地基403間接傳遞過來的低頻振動;二為上述遮罩台系統的第一粗動模組100和第二粗動模組200之間的相互干擾。
具體的,在光蝕刻機的運行過程中,會存在地基403振動及工件台和遮罩台500等子系統具有較高的運動加速度和運動速度,運動組件在運動過程中產生的反作用力,以及傾覆力矩將引起光蝕刻機核心部分振動。遮罩台500中的第一粗動模組100和第二粗動模組200藉由遮罩台安裝框架與地基403連接,光蝕刻機中的各種擾動將藉由遮罩台安裝框架直接傳遞給遮罩台500。
第一粗動模組100和第二粗動模組200之間的相互干擾主要體現在:
1)、運動控制裝置接收運動軌跡信號並控制第一粗動模組100運動後,運動控制裝置需要計算第二粗動模組200的位置與第一粗 動模組100的位置的偏差,並將該偏差作為第二粗動模組200的控制輸入,第二粗動模組200的控制輸入總是滯後於運動軌跡信號,第一粗動模組100和第二粗動模組200之間存在延時,從而導致第一粗動模組100和第二粗動模組200之間的運動相互干擾。
2)、檢測結果表明第二粗動模組200無法及時跟隨第一粗動模組100運動,第一粗動模組100和第二粗動模組200同步誤差較大,因此第一粗動模組100和第二粗動模組200之間存在相互干擾。
3)、第一粗動模組100和第二粗動模組200的第一位置資訊和第二位置資訊藉由交叉的方式傳遞到對方的控制回路中,產生直接的擾動,導致同步誤差較大,因此第一粗動模組100和第二粗動模組200之間存在相互干擾。
基於上述分析發明人提出一種運動控制裝置、運動控制方法、遮罩台系統和光蝕刻機,該遮罩台系統的第一粗動模組和第二粗動模組分別以自身與遮罩台的位移誤差為控制物件,保證這三者之間的同步性能,並規避現有交叉同步策略中第一粗動模組和第二粗動模組之間的直接串擾。
以下結合附圖和具體實施例對本發明實施例提出的運動控制裝置、運動控制方法、遮罩台系統和光蝕刻機作進一步詳細說明。根據下面說明和所附請求項,本發明的優點和特徵將更清楚。需說明的是,附圖均採用非常簡化的形式且均使用非精準的比例,僅用以方便、清晰地輔助說明本發明實施例的目的。
本實施例提供一種遮罩台系統,應用於遮罩台系統中的運動控 制裝置和光蝕刻機。
參考圖4和圖5,圖4是本發明實施例一中的遮罩台系統的主視圖,圖5是本發明實施例一中的遮罩台系統的左視圖,該遮罩台系統包括第一粗動模組810、第二粗動模組820、遮罩台安裝框架、遮罩台840、運動控制裝置、位置檢測裝置、第一加速度感測器和第二加速度感測器。
該遮罩台安裝框架包括第一安裝框架831和第二安裝框架832。該第一安裝框架831和第二安裝框架832分別設置在地基834上。
該第一粗動模組810和該第二粗動模組820分別設置在該第一安裝框架831和第二安裝框架832上。該第一粗動模組810和該第二粗動模組820用於驅動該遮罩台840運動。該第一粗動模組810和第二粗動模組820均包括設置在該遮罩台安裝框架上的粗動導軌811、821,沿著該粗動導軌811、821移動的粗動台812、822,以及用於驅動該粗動台812、822沿著該粗動導軌811、821移動的驅動器。參考圖5,該第一粗動模組810和第二粗動模組820沿著Y軸方向移動(即沿著一水平方向移動)。以下為敘述方便,將第一粗動模組810的粗動台812稱之為第一粗動台,將第一粗動模組810的驅動器稱之為第一驅動器,將第二粗動模組820的粗動台822稱之為第二粗動台,將第二粗動模組820的驅動器稱之為第二驅動器。
該位置檢測裝置用於檢測該遮罩台840的位置資訊並將該位置資訊回饋給運動控制裝置。具體的,該位置檢測裝置包括第一檢測模組和第二檢測模組,該第一檢測模組用於檢測該遮罩 台840靠近該第一粗動台處的位置資訊,該第二檢測模組用於檢測該遮罩台840靠近該第二粗動台的位置資訊,該第一檢測模組檢測的位置資訊為第一位置資訊,該第二檢測模組檢測的位置資訊為第二位置資訊。本實施例中該第一檢測模組和第二檢測模組可為干涉儀。
該第一加速度感測器設置在該第一安裝框架831上,該第二加速度感測器設置在該第二安裝框架832上。該第一加速度感測器用於檢測該第一安裝框架831的加速度資訊,並將第一安裝框架831的加速度資訊傳遞給第一運動控制單元。該第二加速度感測器用於檢測該第二安裝框架832的加速度資訊,並將第二安裝框架832的加速度資訊傳遞給第二運動控制單元。
圖6是本發明實施例一中應用於遮罩台系統中的運動控制裝置的控制框圖,該運動控制裝置包括對該第一粗動模組810和該第二粗動模組820進行獨立控制的第一運動控制單元和第二運動控制單元。該運動控制裝置根據上級控制系統下發的控制指令,該位置檢測裝置檢測的第一位置資訊和第二位置資訊,以及該第一安裝框架831的加速度資訊和該第二安裝框架832的加速度資訊控制第一粗動台和第二粗動台移動。具體的,上級控制系統發送給運動控制裝置的資訊主要包括運動軌跡信號(該運動軌跡信號可以包括時間和位置信號)、第一粗動模組810的運動軌跡加速度信號以及第二粗動模組820的運動軌跡加速度信號。該運動軌跡信號同時發送給該第一運動控制單元和該第二運動控制單元。該第一粗動模組810的運動軌跡加速度信號發送給該第一運動控制單元,該第二粗動模組820的運動軌跡加速度信號發送給該第二運動控制單 元,其中,該第一粗動模組810的運動軌跡加速度信號和該第二粗動模組820的運動軌跡加速度信號相同。該第一位置資訊發送給第一運動控制單元。該第二位置資訊發送給第二運動控制單元。該第一安裝框架831的加速度資訊發送給第一運動控制單元,該第二安裝框架832的加速度資訊發送給第二運動控制單元。
參考圖6,該第一運動控制單元包括第一位置回饋單元、第一軌跡加速度前饋單元873、第一加法運算模組874和第一框架加速度前饋單元875。
該第一位置回饋單元用於進行使該第一粗動模組810的第一粗動台的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制。例如盡可能使得第一粗動台的位置與該運動軌跡信號相一致。具體的,該第一位置回饋單元包括第一減法運算模組871和第一回饋控制器872。該第一減法運算模組871用於將第一位置資訊和運動軌跡信號做減法運算,並輸出第一偏差資訊。該第一回饋控制器872用於處理該第一偏差資訊並輸出第一驅動資訊。該第一回饋控制器872較佳為PID控制模組。
該第一軌跡加速度前饋單元873用於進行補償該第一粗動台的位置控制的延遲的前饋控制。具體的,該第一軌跡加速度前饋單元873用於處理該第一粗動模組810的運動軌跡加速度信號並輸出第一修正驅動資訊。
該第一框架加速度前饋單元875用於進行補償該第一安裝框架831的振動對該第一粗動台的位置控制的擾動的前饋控制。具體的,該第一框架加速度前饋單元875用於處理該第一安裝框架831的加速度資訊並輸出第二修正驅動資訊。
該第一加法運算模組874用於疊加該第一位置回饋單元、該第一軌跡加速度前饋單元873和該第一框架加速度前饋單元875輸出的資訊,並輸出用於控制該第一粗動模組810運動的第一運動控制信號。具體的,該第一加法運算模組874用於將該第一驅動資訊、第一修正驅動資訊和第二修正驅動資訊做加法運算,並輸出第一運動控制信號。該第一運動控制信號用於控制該第一粗動模組810運動。
該第二運動控制單元包括第二位置回饋單元、第二軌跡加速度前饋單元883、第二加法運算模組884和第二框架加速度前饋單元885。
該第二位置回饋單元用於進行使該第二粗動模組820的第二粗動台的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制。例如盡可能使得第二粗動台的位置與該運動軌跡信號相一致。具體的,該第二位置回饋單元包括第二減法運算模組881和第二回饋控制器882。該第二減法運算模組881用於將第二位置資訊和運動軌跡信號做減法運算,並輸出第二偏差資訊。該第二回饋控制器882用於處理該第二偏差資訊並輸出第二驅動資訊。該第二回饋控制器882較佳為PID控制模組。
該第二軌跡加速度前饋單元883用於進行補償該第二位置回饋單元對該第二粗動台812、822的位置控制的延遲的前饋控制。具體的,該第二軌跡加速度前饋單元883用於處理該第二粗動模組的運動軌跡加速度信號並輸出第三修正驅動資訊。
該第二框架加速度前饋單元885用於進行補償該第二安裝框架832的振動對該第二粗動台的位置控制的擾動的前饋控 制。具體的,該第二框架加速度前饋單元885用於處理該第二安裝框架832的加速度資訊並輸出第四修正驅動資訊。
該第二加法運算模組884用於疊加該第二位置回饋單元、該第二軌跡加速度前饋單元883和該第二框架加速度前饋單元885輸出的資訊,並輸出用於控制該第二粗動模組820運動的第二運動控制信號。具體的,該第二加法運算模組884用於將該第二驅動資訊、第三修正驅動資訊和第四修正驅動資訊做加法運算,並輸出第二運動控制信號。該第二運動控制信號用於控制該第二粗動模組820運動。
該第一運動控制單元較佳包括第一電流環876,該第一電流環876用於處理第一驅動資訊,並採用處理後的第一驅動資訊控制該第一粗動模組810運動。
該第二運動控制單元較佳包括第二電流環886,該第二電流環886用於處理第一驅動資訊,並採用處理後的第二驅動資訊控制該第二粗動模組820運動。
本實施例中,該遮罩台系統的工作過程如下:
首先,上級控制系統發送運動軌跡信號、第一粗動模組810的運動軌跡加速度信號以及第二粗動模組820的運動軌跡加速度信號給運動控制裝置,位置檢測裝置發送第一位置資訊和第二位置資訊給運動控制裝置,第一加速度感測器861和第二加速度感測器862發送第一安裝框架831和第二安裝框架832的加速度資訊給運動控制裝置。
其次,運動控制裝置中的第一位置回饋單元中的第一減法運算模組871將第一位置資訊和運動軌跡信號做減法運算,並 輸出第一偏差資訊,之後藉由第一回饋控制器872處理該第一偏差資訊並輸出第一驅動資訊;運動控制裝置中的第二位置回饋單元中的第二減法運算模組881將第二位置資訊和運動軌跡信號做減法運算,並輸出第二偏差資訊,之後藉由第二回饋控制器882處理該第二偏差資訊並輸出第二驅動資訊。
同時,運動控制裝置中的第一軌跡加速度前饋單元873處理該第一粗動模組810的運動軌跡加速度信號並輸出第一修正驅動資訊;運動控制裝置中的第二軌跡加速度前饋單元883處理該第二粗動模組820的運動軌跡加速度信號並輸出第三修正驅動資訊。
同時,運動控制裝置中的第一框架加速度前饋單元875處理第一安裝框架831的加速度資訊並輸出第二修正驅動資訊;運動控制裝置中的第二框架加速度前饋單元885處理第二安裝框架832的加速度資訊並輸出第四修正驅動資訊。
之後,第一加法運算模組874將該第一驅動資訊、第一修正驅動資訊和第二修正驅動資訊做加法運算,並輸出第一運動控制信號;第二加法運算模組884將該第二驅動資訊、第三修正驅動資訊和第四修正驅動資訊做加法運算,並輸出第二運動控制信號。
接著,藉由第一運動控制信號控制該第一粗動模組810運動,藉由第二運動控制信號控制該第二粗動模組820運動。
本實施例中,該遮罩台系統的運動控制裝置藉由該第一運動控制單元控制第一粗動模組810運動,並採用第一位置回饋單元使該第一粗動模組810的第一粗動台的位置與該運動軌跡信號 滿足預設要求,採用該第一軌跡加速度前饋單元873補償該第一位置回饋單元對該第一粗動台的位置控制的延遲,以及採用該第一框架加速度前饋單元875補償該第一安裝框架831的振動對該第一粗動台的位置控制的擾動,並採用第一加法運算模組874疊加該第一位置回饋單元、該第一軌跡加速度前饋單元873和該第一框架加速度前饋單元875輸出的資訊,並輸出用於控制該第一運動模組運動的信號,因此,該遮罩台系統的運動控制裝置在對該第一粗動模組810的運動進行回饋控制以及進行位置前饋補償的同時,還可減少該第一安裝框架831的振動對該第一粗動模組810的運動的干擾,從而可進一步改善該第一粗動模組810的運動精度;該遮罩台系統的運動控制裝置藉由該第二運動控制單元控制第二粗動模組820運動,並採用第二位置回饋單元使該第二粗動模組820的第二粗動台的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求,採用該第二軌跡加速度前饋單元883補償該第二位置回饋單元對該第二粗動台的位置控制的延遲,以及採用該第二框架加速度前饋單元885補償該第二安裝框架832的振動對該第二粗動台的位置控制的擾動,並採用第二加法運算模組884疊加該第二位置回饋單元、該第二軌跡加速度前饋單元883和該第二框架加速度前饋單元885輸出的資訊,並輸出用於控制該第二運動模組運動的信號,因此,該遮罩台系統的運動控制裝置在對該第二粗動模組820的運動進行回饋控制以及進行位置前饋補償的同時,還可減少該第二安裝框架832的振動對該第二粗動模組820的運動的干擾,從而可進一步改善該第二粗動模組820的運動精度;由於該第一粗動模組810和該第二粗動模組820的運動精度均可改善,且該第一運動控制單元和該第二運動控制單元均採 用相同的運動軌跡信號,該第一粗動模組810的運動軌跡加速度信號和該第二粗動模組820的運動軌跡加速度信號相同,該第一位置資訊和該第二位置資訊為該遮罩台840上的不同位置處的位置資訊,即該第一運動控制單元和該第二運動控制單元有相同的運動控制指令和運動軌跡加速度前饋補償資訊,相接近的位置回饋資訊,因此該運動控制裝置可控制該第一粗動模組810和該第二粗動模組820同步運動,由於該第一粗動模組810和該第二粗動模組820的運動精度改善,因此可進一步減少該第一粗動模組810和該第二粗動模組820由於運動不同步導致的相互干擾,進而改善該第一粗動模組810和該第二粗動模組820整體的運動精度,即可改善該運動控制裝置的控制精度,以及可提高遮罩台系統的運動精度。
相較於一種遮罩台系統的運動控制裝置的雙交叉同步控制策略,本實施例中的遮罩台系統的運動控制裝置,藉由採用第一運動控制單元和第二運動控制單元分別控制第一粗動模組810和第二粗動模組820,可避免第一粗動模組810和第二粗動模組820控制指令輸入不同步,控制資訊相互干擾以及同步誤差較大的問題,並藉由設置第一框架加速度前饋單元875和第二框架加速度前饋單元885,有效補償該第一安裝框架831和該第二安裝框架832振動對該第一粗動模組810和該第二粗動模組820的運動的干擾,從而可改善該運動控制裝置的控制精度,以及可提高遮罩台系統的運動精度。
本實施例還提供一種光蝕刻機,該光蝕刻機包括上述實施例中的遮罩台系統。
本實施例提供一種遮罩台系統。參考圖7,圖7是本發明實施例二中的遮罩台系統的主視圖,本實施例與實施例一的區別在於,本實施例中,該遮罩台系統還可包括減震器890。本實施例中,該粗動模組並不直接設置在該遮罩台安裝框架上,而是該減震器890設置在該遮罩台安裝框架上,該粗動模組設置在該減震器890上。從地基834傳來的振動經過遮罩台安裝框架之後,經過減震器890,再傳遞給第一粗動模組810和第二粗動模組820。藉由在遮罩台安裝框架與第一粗動模組810和第二粗動模組820之間設置減震器890可有效減少光蝕刻機傳遞給遮罩台840的振動。
發明人對圖1和圖2所示的一種遮罩台系統進行地基834激勵下的PSD模擬,參考圖8,圖8是圖1和圖2所示的遮罩台系統的地基激勵資料示意圖,發明人研究後發現,一種遮罩台系統由於結構剛度的影響,遮罩台840存在15~35Hz之間的多階低頻率模態,15~35Hz低頻率振動會使遮罩台840的動力學性能降低,影響遮罩台840的位置穩定性。在遮罩台840取一關注點,其回應結果如圖9所示,圖9是圖1和圖2所示的遮罩台系統中的遮罩台關注點處的回應曲線,從回應曲線可得,關注點位移回應值主要受10~20Hz頻率(Frequency)、30Hz左右頻率及66Hz左右頻率影響,最大位移回應值(Cum die)約為3.6um。
為消除低頻振動對遮罩台840的影響,申請人按18Hz配製減震器890參數,阻尼比0.2,遮罩台系統總品質約3.48噸,剛度和阻尼的計算公式如下所示: K=(2πf)2 M C=2ξ(2πf n )M
其中,K為剛度,M為品質,C為阻尼,ξ為阻尼率,f和fn分別為減震器的頻率,則減震器890的總剛度為44448.75N/mm,總阻尼為157.2N/(mm/s)。
增加減震器890後關注位置的回應值如圖10所示,圖10是本發明實施例二中的遮罩台系統中的遮罩台840關注點處的回應曲線,關注點處增加減震器後的回應曲線為第一曲線A1,關注點處未加減震器的回應曲線為第二曲線A2,對比第一曲線A1和第二曲線A2可知,加減震器890後,30Hz左右的振動已完全消除,10~20Hz左右的振動也部分消除,且總體回應值已降為未加減震器890時的1/3以下。
本實施例中,該減震器的使用範圍較佳為10~50Hz。
本實施例中,該加速度感測器較佳設置在該第一安裝框架831和該第二安裝框架832靠近該減震器處,以使該第一加速度感測器861和該第二加速度感測器862檢測到的振動更接近於該第一安裝框架831和該第二安裝框架832傳遞給該第一粗動模組810和該第二粗動模組820的振動,以改善該第一框架加速度前饋單元875和該第二框架加速度前饋單元885對該第一粗動模組810和該第二粗動模組820的運動的補償,進而提高該遮罩台840控制系統的運動控制裝置的控制精度,同時提高遮罩台系統的運動精度。
本實施例提供一種上述實施例中的遮罩台系統中的運動控制裝置的運動控制方法。所述的運動控制裝置在工作前,發送運動軌跡信號、第一粗動模組810的運動軌跡加速度信號以及第二粗動模組820的運動軌跡加速度信號給運動控制裝置,發送第一位置資訊和第二位置資訊給運動控制裝置,發送第一安裝框架831和第二安裝框架832的加速度資訊給運動控制裝置。
該運動控制方法包括如下步驟:
步驟S10,第一位置回饋單元將該第一位置資訊和運動軌跡信號轉換為第一驅動資訊;第二位置回饋單元將該第二位置資訊和運動軌跡信號轉換為第二驅動資訊;第一軌跡加速度前饋單元873處理該第一粗動模組810的運動軌跡加速度信號並輸出第一修正驅動資訊;第二軌跡加速度前饋單元883處理該第二粗動模組820的運動軌跡加速度信號並輸出第三修正驅動資訊;第一框架加速度前饋單元875處理第一安裝框架831的加速度資訊並輸出第二修正驅動資訊;第二框架加速度前饋單元885處理第二安裝框架832的加速度資訊並輸出第四修正驅動資訊。
其中,步驟S10中第一位置回饋單元將該第一位置資訊和運動軌跡信號轉換為第一驅動資訊以及第二位置回饋單元將該第二位置資訊和運動軌跡信號轉換為第二驅動資訊具體包括:
首先,第一減法運算模組871將第一位置資訊和運動軌跡信號做減法運算,並輸出第一偏差資訊,第二減法運算模組881將第二位置資訊和運動軌跡信號做減法運算,並輸出第二偏差資訊。
其次,第一回饋控制器872處理該第一偏差資訊並輸出第一驅動資訊,第二回饋控制器882處理該第二偏差資訊並輸出 第二驅動資訊。
步驟S20,第一加法運算模組874將該第一驅動資訊、第一修正驅動資訊和第二修正驅動資訊做加法運算,並輸出第一運動控制信號;第二加法運算模組884將該第二驅動資訊、第三修正驅動資訊和第四修正驅動資訊做加法運算,並輸出第二運動控制信號。
步驟S30,藉由第一運動控制信號控制該第一粗動模組810運動,藉由第二運動控制信號控制該第二粗動模組820運動。
上述描述僅是對本發明較佳實施例的描述,並非對本發明範圍的任何限定,本發明領域的普通技術人員根據上述揭示內容做的任何變更、修飾,均屬於請求項的保護範圍。
810‧‧‧第一粗動模組
820‧‧‧第二粗動模組
840‧‧‧遮罩台
851‧‧‧第一檢測模組
852‧‧‧第二檢測模組
861‧‧‧第一加速度感測器
862‧‧‧第二加速度感測器
871‧‧‧第一減法運算模組
872‧‧‧第一回饋控制器
873‧‧‧第一軌跡加速度前饋單元
874‧‧‧第一加法運算模組
875‧‧‧第一框架加速度前饋單元
876‧‧‧第一電流環
881‧‧‧第二減法運算模組
882‧‧‧第二回饋控制器
883‧‧‧第二軌跡加速度前饋單元
884‧‧‧第二加法運算模組
885‧‧‧第二框架加速度前饋單元
886‧‧‧第二電流環
Claims (9)
- 一種運動控制裝置,用於控制一第一運動模組和一第二運動模組同步移動,該第一運動模組和該第二運動模組分別設置在一第一安裝框架和一第二安裝框架上,該運動控制裝置包括:一第一位置回饋單元,用於執行使該第一運動模組的位置與一運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制;一第一軌跡加速度前饋單元,用於執行補償該第一運動模組的位置控制延遲的前饋控制;一第一框架加速度前饋單元,用於執行補償該第一安裝框架的振動對該第一運動模組的位置控制產生擾動的前饋控制;一第一加法運算模組,用於疊加該第一位置回饋單元、該第一軌跡加速度前饋單元和該第一框架加速度前饋單元輸出的資訊,並輸出用於控制該第一運動模組運動的信號;一第二位置回饋單元,用於執行使該第二運動模組的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制;一第二軌跡加速度前饋單元,用於執行補償該第二運動模組的位置控制延遲的前饋控制;一第二框架加速度前饋單元,用於執行補償該第二安裝框架的振動對該第二粗運動模組的位置控制產生擾動的前饋控制;以及一第二加法運算模組,用於疊加該第二位置回饋單元、該第二軌跡加速度前饋單元和該第二框架加速度前饋單元輸出的資訊,並輸出用於控制該第二運動模組運動的信號;其中,該第一位置回饋單元包括一第一減法運算模組和一第一回饋控制器,該第一減法運算模組用於將該運動軌跡信號和該第一運動模 組的位置資訊做減法運算,並輸出一第一偏差資訊,該第一回饋控制器用於處理該第一偏差資訊並輸出一第一驅動資訊;該第一軌跡加速度前饋單元用於處理該第一運動模組的一運動軌跡加速度信號並輸出一第一修正驅動資訊;該第一框架加速度前饋單元用於處理該第一安裝框架的一加速度資訊並輸出一第二修正驅動資訊;該第一加法運算模組用於將該第一驅動資訊、該第一修正驅動資訊和該第二修正驅動資訊做加法運算,並輸出控制該第一運動模組運動的信號;該第二位置回饋單元包括一第二減法運算模組和一第二回饋控制器,該第二減法運算模組用於將該運動軌跡信號和該第二運動模組的位置資訊做減法運算,並輸出一第二偏差資訊,該第二回饋控制器用於處理該第二偏差資訊並輸出一第二驅動資訊;該第二軌跡加速度前饋單元用於處理該第二運動模組的一運動軌跡加速度信號並輸出一第三修正驅動資訊;該第二框架加速度前饋單元用於處理該第二安裝框架的一加速度資訊並輸出一第四修正驅動資訊;該第二加法運算模組用於將該第二驅動資訊、該第三修止驅動資訊和該第四修正驅動資訊做加法運算,並輸出控制該第二運動模組運動的信號。
- 如請求項1之運動控制裝置,其中,該第一運動模組藉由設置在該第一安裝框架上的一第一減震器與該第一安裝框架連接,該第二運動模組藉由設置在該第二安裝框架上的一第二減震器與該第二安裝框架連接。
- 一種請求項1或2之運動控制裝置的運動控制方法,該運動控制方法包括:執行使該第一運動模組的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制;執行補償該第一運動模組的位置控制延遲的前饋控制;執行補償該第一安裝框架的振動對該第一運動模組的位置控制產生擾動的前饋控制;疊加使該第一運動模組的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制、補償該第一運動模組的位置控制延遲的前饋控制以及補償該第一安裝框架的振動對該第一運動模組的位置控制產生擾動的前饋控制分別輸出的資訊,並輸出用於控制該第一運動模組運動的信號;執行使該第二運動模組的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制;執行補償該第二運動模組的位置控制延遲的前饋控制;執行補償該第二安裝框架的振動對該第二運動模組的位置控制產生擾動的前饋控制;疊加使該第二運動模組的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制、補償該第二運動模組的位置控制延遲的前體控制以及補償該第二安裝框架的振動對該第二運動模組的位置控制產生擾動的前饋控制分別輸出的資訊,並輸出用於控制該第二運動模組運動的信號。
- 如請求項3之運動控制方法,其中,執行使該第一運動模組的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求 的回饋控制包括:將該運動軌跡信號和該第一運動模組的位置資訊做減法運算並輸出該第一偏差資訊,處理該第一偏差資訊並輸出該第一驅動資訊;執行補償該第一運動模組的位置控制延遲的前饋控制包括:處理該第一運動模組的該運動軌跡加速度信號並輸出該第一修正驅動資訊;執行補償該第一安裝框架的振動對該第一運動模組的位置控制產生擾動的前饋控制包括:處理該第一安裝框架的該加速度資訊並輸出該第二修正驅動資訊;疊加使該第一運動模組的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制、補償該第一運動模組的位置控制延遲的前饋控制以及補償該第一安裝框架的振動對該第一運動模組的位置控制產生擾動的前饋控制分別輸出的資訊,並輸出用於控制該第一運動模組運動的信號包括:將該第一驅動資訊、該第一修正驅動資訊和該第二修正驅動資訊做加法運算,並輸出控制該第一運動模組運動的信號;執行使該第二運動模組的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求的回饋控制包括;將該運動軌跡信號和該第二運動模組的位置資訊做減法運算,並輸出該第二偏差資訊,處理該第二偏差資訊並輸出該第二驅動資訊;執行補償該第二運動模組的位置控制的延遲的前饋控制包括:處理該第二運動模組的該運動軌跡加速度信號並輸出該第三修正驅動資訊;執行補償該第二安裝框架的振動對該第二粗運動模組的位置控 制產生擾動的前饋控制包括:處理該第二安裝框架的該加速度資訊並輸出該第四修正驅動資訊;疊加使該第二運動模組的位置與該運動軌跡信號滿足預設要求的回請控制、補償該第二運動模組的位置控制延遲的前饋控制以及補償該第二安裝框架的振動對該第二運動模組的位置控制產生擾動的前饋控制分別輸出的資訊,並輸出用於控制該第二運動模組運動的信號包括:將該第二驅動資訊、該第三修正驅動資訊和該第四修正驅動資訊做加法運算,並輸出控制該第二運動模組運動的信號。
- 一種遮罩台系統,包括一第一安裝框架、一第二安裝框架、設置在該第一安裝框架上的一第一運動模組、設置在該第二安裝框架上的一第二運動模組以及請求項1或2之運動控制裝置。
- 如請求項5之遮罩台系統,其中,該遮罩台系統還包括一遮罩台、一第一檢測模組、一第二檢測模組、一第一加速度感測器和一第二加速度感測器;該第一運動模組和該第二運動模組用於驅動該遮罩台運動;該第一檢測模組用於檢測該遮罩台靠近該第一運動模組處的位置資訊並作為一第一運動模組的位置資訊,該第二檢測模組用於檢測該遮罩台靠近該第二運動模組處的位置資訊並作為該第二運動模組的位置資訊;該第一加速度感測器設置在該第一安裝框架上,該第一加速度感測器用於檢測該第一安裝框架的加速度資訊,並將該第一安裝框架的加速度資訊傳遞給該運動控制裝置,該第二加速度感測器設置在該第二安裝框架上,該第二加速度感測器用於檢測該第二安裝框架 的加速度資訊,並將該第二安裝框架的加速度資訊傳遞給該運動控制裝置。
- 如請求項5之遮罩台系統,其中,該第一運動模組藉由設置在該第一安裝框架上的一第一減震器與該第一安裝框架連接,該第二運動模組藉由設置在該第二安裝框架上的一第二減震器與該第二安裝框架連接。
- 如請求項7之遮罩台系統,其中,該第一減震器和該第二減震器的減震範圍均為10~50Hz。
- 一種光蝕刻機,包括請求項5至8中任一項之遮罩台系統。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810277645.8 | 2018-03-30 | ||
CN201810277645.8A CN110320756B (zh) | 2018-03-30 | 2018-03-30 | 运动控制装置、运动控制方法、掩模台系统和光刻机 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202001432A TW202001432A (zh) | 2020-01-01 |
TWI704426B true TWI704426B (zh) | 2020-09-11 |
Family
ID=68058548
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW108111289A TWI704426B (zh) | 2018-03-30 | 2019-03-29 | 運動控制裝置、運動控制方法、遮罩台系統和光蝕刻機 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN110320756B (zh) |
TW (1) | TWI704426B (zh) |
WO (1) | WO2019184992A1 (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113031439B (zh) * | 2021-03-01 | 2021-08-31 | 哈尔滨工业大学 | 一种双运动台精密协同控制系统及方法 |
CN116678605B (zh) * | 2023-06-09 | 2023-11-07 | 哈尔滨工业大学 | 一种精密运动台质量-阻尼-刚度特性软测量系统及方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP6371576B2 (ja) * | 2014-05-02 | 2018-08-08 | キヤノン株式会社 | 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 |
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-
2018
- 2018-03-30 CN CN201810277645.8A patent/CN110320756B/zh active Active
-
2019
- 2019-03-28 WO PCT/CN2019/080184 patent/WO2019184992A1/zh active Application Filing
- 2019-03-29 TW TW108111289A patent/TWI704426B/zh active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202001432A (zh) | 2020-01-01 |
CN110320756A (zh) | 2019-10-11 |
WO2019184992A1 (zh) | 2019-10-03 |
CN110320756B (zh) | 2020-09-22 |
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