TWI697067B - 基板收納容器 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種基板收納容器，具備：容器主體（2）；蓋體，能夠相對於容器主體開口部拆裝，且能夠封閉容器主體開口部；氣道（210），能夠連通基板收納空間（27）與容器主體（2）的外部空間；以及氣體噴出噴嘴部（8），具有將流入到氣道（210）的氣體向基板收納空間（27）供給的多個開口部（802），並且，該基板收納容器具有氣體流量均勻化部，該氣體流量均勻化部能夠從多個開口部（802）以均勻化後的流量流出氣體。

Description

基板收納容器
本發明涉及對由半導體晶片等構成的基板進行收納、保管、搬運、輸送等時使用的基板收納容器。
作為用於收納由半導體晶片構成的基板且在工廠內的工序中搬運的基板收納容器，目前已知具有容器主體和蓋體的結構（例如，參照專利文獻1～專利文獻4）。
容器主體的一端部具有形成有容器主體開口部的開口周緣部。容器主體的另一端部具有被封閉的筒狀的壁部。在容器主體內形成有基板收納空間。基板收納空間由壁部包圍而形成，能夠收納多個基板。蓋體能夠相對於開口周緣部拆裝，並能夠封閉容器主體開口部。側方基板支承部在基板收納空間內成對地設置於壁部。在未由蓋體封閉容器主體開口部時，側方基板支承部能夠在使相鄰基板彼此以規定的間隔分離地排列的狀態下支承多個基板的緣部。
在蓋體的部分且是當封閉容器主體開口部時與基板收納空間對置的部分設有前部保持構件。在由蓋體封閉容器主體開口部時，前部保持構件能夠支承多個基板的緣部。此外，以與前部保持構件成對的方式在壁部設置有後側基板支承部。後側基板支承部能夠支承多個基板的緣部。在由蓋體封閉容器主體開口部時，後側基板支承部與前部保持構件協同支承多個基板，由此在使相鄰基板彼此以規定的間隔分離地排列的狀態下保持多個基板。
專利文獻1：日本專利公表2016－538732號公報
專利文獻2：日本專利公開2017－17264號公報
專利文獻3：日本專利公開2015－162531號公報
專利文獻4：美國專利第8387799號說明書
在上述公報記載的基板收納容器中，向擴散器的置換氣體的供給（氣體吹掃）例如通過從擴散器的下部強勁地流入氣體（氮等惰性氣體或者除去水分（1％以下）的乾燥空氣（以下稱為吹掃氣體））來進行。但是，在擴散器的下部尤其是擴散器的根部附近，由於白努利現象，在將吹掃氣體向容器內噴出的同時，也吸入容器內的大氣，因此難以可靠地進行氣體的置換。
本發明目的在於提供一種在基板收納空間中能夠可靠地進行氣體置換的基板收納容器。
本發明提供一種基板收納容器，所述基板收納容器具備：容器主體，具備筒狀的壁部，該壁部在一端部具有形成有容器主體開口部的開口周緣部，且另一端部被封閉，利用所述壁部的內表面形成能夠收納多個基板且與所述容器主體開口部連通的基板收納空間；蓋體，能夠相對於所述容器主體開口部拆裝，且能夠封閉所述容器主體開口部；氣道，能夠連通所述基板收納空間與所述容器主體的外部空間；以及氣體噴出噴嘴部，具有將流入到所述氣道的氣體向所述基板收納空間供給的多個開口部，所述基板收納容器具有氣體流量均勻化部，該氣體流量均勻化部能夠從所述多個開口部以均勻化後的流量流出氣體，所述氣體噴出噴嘴部具有清洗液流入阻礙部，該清洗液流入阻礙部在清洗所述容器主體時，在所述開口部的附近阻礙清洗液從所述開口部流入所述氣道側。
此外，優選所述氣體流量均勻化部由氣體滯留室構成，該氣體滯留室形成於所述氣道與所述氣體噴出噴嘴部的開口部之間，且構成氣體均勻保持部，該氣體均勻保持部將所述氣道與所述氣體噴出噴嘴部的開口部連通，通過將氣體暫時貯留並加壓，能夠將來自所述氣道的氣體以規定的量均勻地保持。此外，優選所述氣體流量均勻化部由分支路構成，該分支路形成於所述氣道與所述開口部之間，且使來自所述氣道的氣體的流動分支。
此外，優選所述壁部具有後壁、上壁、下壁以及一對側壁，利用所述後壁來封閉所述壁部的另一端部，利用所述上壁的一端部、所述下壁的一端部以及所述側壁的一端部來形成所述容器主體開口部，所述後壁具有朝向所述容器主體開口部突出的突出部，所述突出部具有所述開口部並構成所述氣體噴出噴嘴部。
此外，優選所述壁部具有後壁、上壁、下壁以及一對側壁，利用所述後壁來封閉所述壁部的另一端部，利用所述上壁的一端部、所述下壁的一端部以及所述側壁的一端部來形成所述容器主體開口部，所述氣體噴出噴嘴部配置於所述後壁的中央部，所述氣體噴出噴嘴部的開口部朝向所述容器主體開口部開口。
此外，優選所述氣體噴出噴嘴部具有清洗液流入阻礙部，該清洗液流入阻礙部在清洗所述容器主體時，在所述開口部的附近阻礙清洗液從所述開口部流入所述氣道側。此外，優選所述氣體噴出噴嘴部具有使氣體從所述開口部朝向下方向流出的下方流出部。
此外，在所述氣體噴出噴嘴部中，優選下側所述開口部中供氣體通過的流路每單位面積的寬度，比上側所述開口部中供氣體通過的流路的每單位面積的寬度大。
此外，優選所述開口部配置於能夠供氣體向相比所述基板收納空間中收納在最下側的基板靠下側的空間流通的位置。此外，優選所述氣道為形成於所述壁部的外側、形成於所述壁部的內側、形成於所述壁部的位置中的任一種。
此外，優選所述開口部具有：第一開口部，向朝著位於所述容器主體的一端部的所述容器主體開口部的方向開口；以及第二開口部，朝向相對於與朝著所述容器主體開口部的方向相反的方向成規定的角度的方向開口。
此外，所述第一開口部形成為呈現指向所述容器主體開口部所朝的方向的半圓形狀開口，所述第二開口部形成為呈現指向與朝著所述容器主體開口部方向相反的方向成45°角度的方向的扇形形狀開口。
此外，優選所述第二開口部的扇形形狀的開口部的半徑大於所述第一開口部的半圓形狀的開口部的半徑。
根據本發明，能夠提供一種能夠可靠地在基板收納空間進行氣體的置換的基板收納容器。
以下，參照附圖對基於第一實施方式的基板收納容器1進行說明。
圖1是表示本發明的第一實施方式涉及的基板收納容器1中收納有多個基板W的狀態的分解立體圖。圖2是表示本發明的第一實施方式涉及的基板收納容器1的容器主體2的上方立體圖。圖3是表示本發明的第一實施方式涉及的基板收納容器1的容器主體2的下方立體圖。圖4是表示本發明的第一實施方式涉及的基板收納容器1的容器主體2的側方剖視圖。
另外，在圖4中，方便起見而省略了供氣用篩檢程式部90、肋235以及頂部凸緣236的圖示。
在此，為了便於說明，將從後述的容器主體2朝向蓋體3的方向（圖1中從右上朝向左下的方向）定義為前方向D11，將其相反的方向定義為後方向D12，將它們合併起來定義為前後方向D1。此外，將從後述的下壁24朝向上壁23的方向（圖1中的上方向）定義為上方向D21，將其相反的方向定義為下方向D22，將它們合併起來定義為上下方向D2。此外，將從後述的第二側壁26朝向第一側壁25的方向（圖1中從右下朝向左上的方向）定義為左方向D31，將其相反的方向定義為右方向D32，將它們合併起來定義為左右方向D3。在主要的附圖中圖示了表示這些方向的箭頭。
此外，收納於基板收納容器1的基板W（參照圖1）是圓盤狀的矽晶片、玻璃晶片、藍寶石晶片等，是工業上使用的薄基板。本實施方式中的基板W是直徑300mm的矽晶片。
如圖1所示，基板收納容器1用作收納由上述的矽晶片構成的基板W，並在工廠內的工序中搬運的工序內容器，或者用作用於通過陸運方式、空運方式、海運方式等輸送方式輸送基板的發貨容器，包括容器主體2和蓋體3。容器主體2具備：作為側方基板支承部的基板支承板狀部5、以及後側基板支承部6（參照圖2等），蓋體3具備作為蓋體側基板支承部的未圖示的前部保持構件。
容器主體2具有在一端部形成有容器主體開口部21且另一端部被封閉的筒狀的壁部20。在容器主體2內形成有基板收納空間27。基板收納空間27由壁部20包圍而形成。在壁部20的部分且是形成基板收納空間27的部分配置有基板支承板狀部5。如圖1所示，能夠在基板收納空間27中收納多個基板W。
基板支承板狀部5在基板收納空間27內成對地設置於壁部20。在未由蓋體3封閉容器主體開口部21時，基板支承板狀部5與多個基板W的緣部抵接，由此，能夠在使相鄰的基板W彼此以規定的間隔分離地排列的狀態下，支承多個基板W的緣部。在基板支承板狀部5的後側，與基板支承板狀部5一體成形地設置有後側基板支承部6。
後側基板支承部6（參照圖2等）在基板收納空間27內與後述的未圖示的前部保持構件成對地設置於壁部20。在由蓋體3封閉容器主體開口部21時，後側基板支承部6與多個基板W的緣部抵接，由此，能夠支承多個基板W的緣部的後部。
蓋體3能夠相對於形成容器主體開口部21的開口周緣部28（圖1等）拆裝，並能夠封閉容器主體開口部21。未圖示的前部保持構件設置在蓋體3的部分且是當由蓋體3封閉容器主體開口部21時與基板收納空間27對置的部分。未圖示的前部保持構件在基板收納空間27的內部與後側基板支承部6成對配置。
在由蓋體3封閉容器主體開口部21時，未圖示的前部保持構件與多個基板W的緣部抵接，由此能夠支承多個基板W的緣部的前部。在由蓋體3封閉容器主體開口部21時，未圖示的前部保持構件與後側基板支承部6協同支承多個基板W，由此，在使相鄰的基板W彼此以規定的間隔分離地排列的狀態下進行保持。
基板收納容器1由塑膠材料等樹脂構成，在無特別說明的情況下，作為該材料的樹脂，例如可舉出聚碳酸酯、環烯烴聚合物、聚醚醯亞胺、聚醚酮、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚醚醚酮、液晶聚合物這樣的熱塑性樹脂或它們的合金等。在對上述這些成形材料的樹脂賦予導電性的情況下，選擇性地添加碳纖維、碳粉、奈米碳管、導電性聚合物等的導電性物質。此外，為了提高剛性也可以添加玻璃纖維或碳纖維等。
以下，對各部分進行詳細說明。
如圖1所示，容器主體2的壁部20具有後壁22、上壁23、下壁24、第一側壁25以及第二側壁26。後壁22、上壁23、下壁24、第一側壁25以及第二側壁26由上述的材料構成，並構成為一體成形。
第一側壁25與第二側壁26對置，上壁23與下壁24對置。上壁23的後端、下壁24的後端、第一側壁25的後端以及第二側壁26的後端全部與後壁22連接。上壁23的前端、下壁24的前端、第一側壁25的前端以及第二側壁26的前端構成開口周緣部28，該開口周緣部28形成呈大致長方形狀的容器主體開口部21。
開口周緣部28設置於容器主體2的一端部，後壁22位於容器主體2的另一端部。由壁部20的外表面形成的容器主體2的外形為箱狀。壁部20的內表面、即後壁22的內表面、上壁23的內表面、下壁24的內表面、第一側壁25的內表面以及第二側壁26的內表面形成由它們包圍的基板收納空間27。形成於開口周緣部28的容器主體開口部21與由壁部20包圍且形成於容器主體2的內部的基板收納空間27連通。在基板收納空間27中最大能夠收納25片基板W。
如圖1所示，在上壁23以及下壁24的部分且是開口周緣部28附近的部分形成有朝向基板收納空間27的外方凹陷的插銷卡合凹部231A、231B、241A、241B。插銷卡合凹部231A、231B、241A、241B在上壁23以及下壁24的左右兩端部附近各形成一個，共計形成四個。
如圖1所示，在上壁23的外表面，與上壁23一體成形地設置有肋235。肋235提高容器主體2的剛性。此外，在上壁23的中央部固定有頂部凸緣236。頂部凸緣236是在自動晶片輸送系統（AMHS）、晶片基板輸送台車P（GV）等中懸吊基板收納容器1時成為在基板收納容器1中被勾掛而懸吊的部分的部件。
如圖3所示，在下壁24的四角，作為氣道210而形成有兩種貫通孔即供氣孔242和排氣孔243。在本實施方式中，下壁24的前部兩個部位的貫通孔是用於排出容器主體2的內部的氣體的排氣孔243，後部兩個部位的貫通孔是用於向容器主體2的內部供給氣體的供氣孔242。在作為供氣孔242的貫通孔配置有供氣用篩檢程式部90，在作為排氣孔243的貫通孔配置有排氣用篩檢程式部91。因而，供氣用篩檢程式部90以及排氣用篩檢程式部91的內部的氣體流路構成能夠將基板收納空間27與容器主體2的外部空間之間連通的氣道210的一部分。此外，供氣用篩檢程式部90和排氣用篩檢程式部91配置於壁部20，在供氣用篩檢程式部90和排氣用篩檢程式部91中，氣體能夠通過容器主體2的外部空間與基板收納空間27之間。
基板支承板狀部5分別設置於第一側壁25以及第二側壁26，是在左右方向D3上成對地配置在基板收納空間27內的內置件。具體來說，如圖4等所示，基板支承板狀部5具有板部51和作為板部支承部的支承壁52。板部51與支承壁52通過將樹脂材料一體成形而構成，板部51由支承壁52支承。
板部51具有板狀的大致弧形狀。板部51分別在第一側壁25、第二側壁26在上下方向D2上各設置25片，共計設置50片。相鄰的板部51配置成在上下方向D2上以10mm～12mm間隔相互分離且平行的位置關係。另外，在位於最上的板部51的上方還配置有一片與板部51平行的板狀的部件59，但其是針對位於最上位置且向基板收納空間27內插入的基板W在該基板插入時起引導作用的部件。
此外，設置於第一側壁25的25片板部51和設置於第二側壁26的25片板部51具有在左右方向D3上相互對置的位置關係。此外，50片板部51以及與板部51平行的板狀的起引導作用的部件59具有與下壁24的內表面平行的位置關係。在板部51的上表面設置有凸部511、512。支承於板部51的基板W僅與凸部511、512的突出端接觸，而並非與板部51面接觸。
支承壁52具有沿著上下方向D2以及大致前後方向D1延伸的板狀。如圖4所示，支承壁52在板部51的長邊方向上具有規定的長度，並與板部51的側端緣連接。板狀的支承壁52沿著板部51的外側端緣向基板收納空間27彎曲。
即，設置於第一側壁25的25片板部51與設置於第一側壁25側的支承壁52連接。同樣地，設置於第二側壁26的25片板部51與設置於第二側壁26側的支承壁52連接。支承壁52分別固定於第一側壁25、第二側壁26。
如此構成的基板支承板狀部5能夠在將多個基板W中相鄰的基板W彼此以規定的間隔分離的狀態且形成為相互平行的位置關係的狀態下，支承多個基板W的緣部。
如圖4所示，後側基板支承部6具有後側端緣支承部60。後側端緣支承部60在基板支承板狀部5的板部51的後端部與板部51以及支承壁52一體成形地構成。因而，作為側方基板支承部的基板支承板狀部5與後側基板支承部6構成在容器主體2的內部相對於容器主體2固定的結合在一起的一個內置件。另外，後側基板支承部6也可以與基板支承板狀部5分體地構成，即後側端緣支承部60與基板支承板狀部5的板部51分體地構成。
後側端緣支承部60設置有與基板收納空間27中能夠收納的每一片基板W對應的個數、具體來說設置有25個。配置於第一側壁25以及第二側壁26的後側端緣支承部60在前後方向D1上與後述的未圖示的前部保持構件具有成對的位置關係。在基板收納空間27內收納基板W，並關閉蓋體3，由此，後側端緣支承部60夾持並支承基板W的緣部的端緣。
如圖2等所示，後壁22具有作為氣體噴出噴嘴部的突出部8。突出部8兩個成對，以肋狀向容器主體開口部21突出，且平行地從後壁22的上端部延伸至下端部。即，突出部8具有中空的柱狀。突出部8的內部空間利用間隔壁部81（參照圖6）劃分為前側的空間和後側的空間。圖6是表示本發明的第一實施方式涉及的基板收納容器1的突出部8的放大上方剖視圖。
前側的空間構成氣體流出前保持室803，後側的空間構成與氣道210（參照圖5等）連通的氣體滯留室801，該氣道210能夠將基板收納空間27與容器主體2的外部空間之間連通。
圖5是表示本發明的第一實施方式涉及的基板收納容器1的容器主體2的放大側方剖視圖。
另外，圖5中為了方便起見而省略了供氣用篩檢程式部90的圖示。
突出部8具有將流入到氣道210的氣體向基板收納空間27供給的多個開口部802。氣體滯留室801構成氣體均勻保持部，該氣體均勻保持部通過將吹掃氣體暫時貯留並加壓，由此能夠在氣道210與突出部8的開口部802之間以規定的量均勻地保持來自氣道210的氣體，且構成能夠從多個開口部802以均勻化後的流量流出吹掃氣體的氣體流量均勻化部。
氣道210中能夠通過作為氣體的氮氣等惰性氣體或除去水分（1％以下）後的乾燥空氣（以下稱為吹掃氣體）等。如圖5所示，氣道210具有氣體流入部211和水準方向伸出部212，在水準方向伸出部212連接氣體滯留室801的下端部。
氣體流入部211由圓筒狀的氣體供給裝置連接部202的內部空間構成，該氣體供給裝置連接部202形成於下壁24的後端部，向下方向D22突出並形成供氣孔242。水準方向伸出部212沿著下壁24的外表面（下表面）在下壁24的外側從氣體流入部211的上端部向後方向D12延伸，由下壁24的外表面與相比下壁24向下側突出的下側流路形成部203之間的空間構成。而且，與水準方向伸出部212連接的氣體滯留室801如上所述由突出部8的後側空間構成，從水準方向伸出部212的後端部向上方向D21延伸直至到達後壁22的上端部。
在間隔壁部81形成有供吹掃氣體從氣體滯留室801流入的微小的流入口811。流入口811形成有多個，流入口811的總面積小於開口部802的總面積。
如圖7所示，多個開口部802中最下側的開口部802配置在相比基板收納空間27中收納在最下側的基板W靠下側的位置，且與相比收納在最下側的基板W靠下側的空間對置。在作為氣體均勻保持部的氣體滯留室801中，由於來自氣道210的吹掃氣體被以規定的量均勻地保持，因此，也從如此位於下側的低位置處的開口部802流出充分的流量的吹掃氣體。此外，開口部802具有與基板收納空間27中收納的多個基板中相鄰的基板W之間的空間對置的位置關係，位於最上的開口部802與收納在最上的基板W的上側空間對置。
圖7是表示本發明的第一實施方式涉及的基板收納容器1的容器主體2中的吹掃氣體的流動的放大側方剖視圖。
另外，在圖7中，為了方便起見而省略了供氣用篩檢程式部90的圖示。
如圖1等所示，蓋體3具有與容器主體2的開口周緣部28的形狀大體一致的大致長方形狀。蓋體3能夠相對於容器主體2的開口周緣部28拆裝，通過在開口周緣部28裝配蓋體3，蓋體3能夠封閉容器主體開口部21。在蓋體3的內表面（圖1所示的蓋體3的後側的面）、且是與當蓋體3封閉容器主體開口部21時在緊隨開口周緣部28的後方向D12位置處形成的臺階的部分的面（密封面281）對置的面，安裝有環狀的密封部件4。密封部件4由能夠彈性變形的聚酯類、聚烯烴類等各種熱塑性彈性體、氟橡膠製、矽橡膠製等構成。密封部件4配置成圍繞蓋體3的外周緣部一周。
當將蓋體3裝配於開口周緣部28時，密封部件4由密封面281和蓋體3的內表面夾持而發生彈性變形，蓋體3將容器主體開口部21以密閉的狀態封閉。通過從開口周緣部28取下蓋體3，能夠相對於容器主體2內的基板收納空間27存取基板W。
在蓋體3設置有插銷機構。插銷機構設置於蓋體3的左右兩端部附近，如圖1所示，具備能夠從蓋體3的上邊向上方向D21突出的兩個上側插銷部32A、以及能夠從蓋體3的下邊向下方向D22突出的兩個未圖示的下側插銷部。兩個上側插銷部32A配置在蓋體3的上邊的左右兩端附近，兩個下側插銷部配置在蓋體3的下邊的左右兩端附近。
在蓋體3的外表面設置有操作部33。通過從蓋體3的前側操作操作部33，能夠使上側插銷部32A、未圖示的下側插銷部從蓋體3的上邊、下邊突出，此外，能夠使之形成為不從上邊、下邊突出的狀態。上側插銷部32A從蓋體3的上邊向上方向D21突出，並與容器主體2的插銷卡合凹部231A、231B卡合，且未圖示的下側插銷部從蓋體3的下邊向下方向D22突出，並與容器主體2的插銷卡合凹部241A、241B卡合，由此，將蓋體3固定於容器主體2的開口周緣部28。
在蓋體3的內側形成有向基板收納空間27的外方凹陷的凹部（未圖示）。在凹部（未圖示）以及凹部外側的蓋體3的部分固定設置有前部保持構件（未圖示）。
前部保持構件（未圖示）具有前部保持構件基板承接部（未圖示）。前部保持構件基板承接部（未圖示）在左右方向D3上以規定的間隔分離並成對地各配置兩個。如此成對地各配置兩個的前部保持構件基板承接部在上下方向D2上設置成排列25對的狀態。在基板收納空間27內收納基板W，並關閉蓋體3，由此，前部保持構件基板承接部夾持並支承基板W的緣部的端緣。
在上述的基板收納容器1中，利用吹掃氣體進行的氣體吹掃（氣體置換）如以下那樣進行。首先，使設置於氣體供給裝置連接部202（參照圖5）的供氣用篩檢程式部90（參照圖3）與供給作為氣體的吹掃氣體的未圖示的氣體供給裝置的供氣噴嘴連接。接著，從氣體供給裝置的供氣噴嘴向氣道210供給吹掃氣體。由此，吹掃氣體通過氣道210的氣體流入部211、水準方向伸出部212，從氣體滯留室801的下端部流入氣體滯留室801的內部，並朝向氣體滯留室801的上端部強勁地流動。然後，若吹掃氣體如圖5中箭頭所示那樣暫時貯留於氣體滯留室801且壓力升高，則接下來從間隔壁部81的流入口811流入氣體流出前保持室803。
此時，由於流入口811小，因此吹掃氣體從流入口811以較弱勢頭流入氣體流出前保持室803。然後，吹掃氣體暫時貯留於氣體流出前保持室803。然後，如此暫時貯留並加壓後的吹掃氣體慢慢地從開口部802流出到基板收納空間27。
根據上述構成的本實施方式涉及的基板收納容器1，能夠得到以下的效果。
如上所述，基板收納容器1具備：容器主體2，具備筒狀的壁部20，該壁部20在一端部具有形成有容器主體開口部21的開口周緣部28，且另一端部被封閉，利用壁部20的內表面形成能夠收納多個基板W且與容器主體開口部21連通的基板收納空間27；蓋體3，能夠相對於容器主體開口部21拆裝，並能夠封閉容器主體開口部21；氣道210，能夠將基板收納空間27與容器主體2的外部空間之間連通；以及作為氣體噴出噴嘴部的突出部8，具有將流入到氣道210的作為氣體的吹掃氣體向基板收納空間27供給的多個開口部802。
基板收納容器1具有能夠從多個開口部802以均勻化後的流量流出氣體的氣體流量均勻化部（氣體滯留室801）。
以往在不具有氣體流量均勻化部的情況下，會發生如下不良狀況：在突出部8的下部，由於白努利現象，在吹掃氣體向容器主體2內流出的同時，吸入容器主體2內的大氣，從而無法順利進行置換的不良狀況，也就是說，強勁地流入氣道210的吹掃氣體流入相當於氣體滯留室801的流路後從該流路的上端部強勁地流出到基板收納空間27，且基本上不從該流路的下端部向基板收納空間27流出的不良狀況。但是，由於來自氣道210的吹掃氣體以規定的量均勻地保持在氣體滯留室801，因此能夠消除此種不良狀況。
此外，氣體流量均勻化部由氣體滯留室801構成，該氣體滯留室801形成於氣道210與作為氣體噴出噴嘴部的突出部8的開口部802之間，且構成通過將來自氣道210的氣體暫時貯留並加壓而能夠將來自氣道210的氣體以規定的量均勻地保持的氣體均勻保持部。
根據上述結構，從氣道210流入到氣體滯留室801的吹掃氣體在氣體滯留室801中暫時貯留，而被抑制流動的勢頭。因此，能夠抑制向突出部8的上端部強勁流動的吹掃氣體維持該勢頭從突出部8的上端部的開口部802流出到基板收納空間27。此外，能夠抑制在供吹掃氣體強勁地通過的突出部8的下端部的開口部802處基板收納空間27內的氣體由於白努力現象而被吸引到突出部8內。
此外，壁部20具有後壁22、上壁23、下壁24以及一對側壁(第一側壁25、第二側壁26)，利用後壁22封閉壁部20的另一端部，利用上壁23的一端部、下壁24的一端部以及第一側壁25、第二側壁26的一端部形成容器主體開口部21。
後壁22具有朝向容器主體開口部21突出的突出部8。突出部8具有開口部802並構成氣體噴出噴嘴部。
根據上述結構，後壁22具有從後壁22突出的突出部8，在後壁22與突出部8之間未形成存在繞到後壁22與突出部8之間的大氣的空間。因此，在利用吹掃氣體進行氣體置換之際，不會發生捲入並攪拌後壁22與突出部8之間的大氣的情況。其結果是，能夠進行有效的氣體置換。
此外，由於可以在基板收納空間27不安裝大致圓柱形狀的氣體噴出噴嘴部即擴散器等構件，因此在容器主體2清洗時的清潔性、乾燥性方面能夠得到改善。此外，對於面向半導體的基板收納容器1，具有各種規定/規格，容器內的尺寸要求也嚴格，但突出部8設置於後壁22，能夠容易地滿足這些規定/規格。
此外，開口部802配置在能夠供吹掃氣體向相比基板收納空間27中收納在最下側的基板W靠下側的空間流通的位置。根據該結構，能夠防止比空氣輕的氮氣等吹掃氣體不向相比基板收納空間27中收納在最下側的基板靠下側的空間流通。
此外，氣道210形成在壁部20的外側。根據該結構，即便在壁部20的內部無法確保氣道210的情況下，也能夠在壁部20的外側確保氣道210。也就是說，根據操作基板收納容器1的裝置/基板收納容器1/基板收納容器1的製造方法的限制情況，能夠採用最佳的結構，能夠提高基板收納容器1側的自由度。
以下，參照附圖對本發明的第二實施方式涉及的基板收納容器進行說明。圖8是表示本發明的第二實施方式涉及的基板收納容器的容器主體2A的上方立體圖。圖9是表示本發明的第二實施方式涉及的基板收納容器的後壁側噴嘴部8A的上方剖視圖。
另外，在圖8中，為了方便起見而省略頂部凸緣236的圖示。
在第二實施方式中，氣體噴出噴嘴部的結構與第一實施方式的構成氣體噴出噴嘴部的突出部8的結構不同。除此以外的結構都與第一實施方式相同，故而對於相同的部件以相同符號圖示並省略說明。
如圖8所示，後壁22不具有突出部8。在後壁22設置有作為氣體噴出噴嘴部的後壁側噴嘴部8A。
如圖9所示，後壁側噴嘴部8A具有一對大致圓筒狀壁部82A、以及中央壁部83A，將它們一體成形而構成。具體來說，中央壁部83A具有朝向後方向D12凸出的曲率半徑大的曲面，且配置成相對於左右方向D3上的後壁22的中央部的大致三分之一左右的部分對置。在中央壁部83A形成有開口部802A。
開口部802A在中央壁部83A沿左右方向D3形成有多列。在各列中，開口部802A在上下方向D2上形成有多個。開口部802A的上下方向D2上的寬度以及開口部802A的左右方向D3上的寬度隨著趨向上方向D21而逐漸變小。即，在後壁側噴嘴部8A中，下側的開口部802A中供吹掃氣體通過的流路的每單位面積的寬度，比上側的開口部802A中供吹掃氣體通過的流路的每單位面積的寬度大。開口部802A朝向容器主體開口部21即朝向前方向D11開口。
此外，在中央壁部83A的後側設置有間隔壁部81A。間隔壁部81A配置成位於中央壁部83A與後壁22之間，並與中央壁部83A連接。間隔壁部81A與後壁22之間的空間構成氣體滯留室801A。在間隔壁部81A形成有多個流入口811A。流入口811A的總面積小於開口部802A的總面積。
一對大致圓筒狀壁部82A分別一體地連接於中央壁部83A的左右方向D3上的兩端部，並與後壁22連接。由此，大致圓筒狀壁部82A的內部空間和後壁22與間隔壁部81A之間的空間連通而形成一個空間，這一個空間構成氣體滯留室801A。
根據上述結構的本實施方式涉及的基板收納容器，能夠得到以下的效果。
如上所述，在基板收納容器1中，壁部20具有後壁22、上壁23、下壁24以及一對側壁(第一側壁25、第二側壁26)，利用後壁22封閉壁部20的另一端部，利用上壁23的一端部、下壁24的一端部以及第一側壁25、第二側壁26的一端部來形成容器主體開口部21。
構成氣體噴出噴嘴部的後壁側噴嘴部8A配置於後壁22的中央部。氣體噴出噴嘴部的開口部802A朝向容器主體開口部21開口。
根據上述結構，利用與後壁22對置且位於後壁22附近的基板收納空間27的部分來配置作為氣體噴出噴嘴部的後壁側噴嘴部8A，能夠將吹掃氣體供給到基板收納空間27。
此外，在作為氣體噴出噴嘴部的後壁側噴嘴部8A中，下側的開口部802A中供吹掃氣體通過的流路的每單位面積的寬度比上側的開口部802A中供吹掃氣體通過的流路的每單位面積的寬度大。根據該結構，在後壁側噴嘴部8A中，能夠容易地使來自下側開口部802A的吹掃氣體的流量比來自上側開口部802A的吹掃氣體的流量多。
以下，參照附圖對本發明的第三實施方式涉及的基板收納容器進行說明。圖10是表示本發明的第三實施方式涉及的基板收納容器的後壁側噴嘴部8B的側方剖視圖。圖11是表示本發明的第三實施方式涉及的基板收納容器的後壁側噴嘴部8B的分支路8011B分支的部分的放大側方剖視圖。
在第三實施方式中，作為氣體噴出噴嘴部的後壁側噴嘴部8B的結構與第二實施方式的構成氣體噴出噴嘴部的後壁側噴嘴部8A的結構不同。除此以外的結構都與第二實施方式相同，因此對於相同的部件以相同符號圖示並省略說明。
在從氣道210B的水準方向伸出部212B向上方向D21延伸的垂直方向伸出部213B的上端部與開口部802B之間形成有使來自氣道210B的吹掃氣體的流動分支而構成氣體流量均勻化部的分支路8011B。具體來說，如圖10所示，間隔壁部81B具有一個流入口811B。在間隔壁部81B的前方向D11設置有分支壁部812B。如圖10中單點劃線的圓包圍的部分所示，與流入口811B對置的分支壁部812B的部分具有分支凸部813B。
如圖11所示，分支凸部813B具有隨著接近流入口811B（隨著趨向後方向D12）而前端變細的形狀，使從流入口811B向分支凸部813B流出的吹掃氣體向上方向D21和下方向D22分支。在利用分支凸部813B分支後的各個流動的吹掃氣體的下游側形成有噴出口814B（參照圖10），如圖10中單點劃線的圓包圍的部分所示，與噴出口814B對置的分支壁部812B的部分具有分支凸部813B。
同樣地，直至到達開口部802B為止，噴出口814B以及與噴出口814B對置的分支凸部813B形成吹掃氣體的流路，該吹掃氣體的流路具有如勝者晉級式淘汰戰的對戰表那樣的形狀。在本實施方式中，吹掃氣體從流入口811B至開口部802B之間被分支三次，從開口部802B向容器主體開口部21流出。另外，與位於最下游的噴出口814B對置的間隔壁部81B的部分不具有分支壁部812B。
根據上述結構的本實施方式涉及的基板收納容器，能夠得到以下的效果。
氣體流量均勻化部由分支路8011B構成，該分支路8011B形成於氣道210B與開口部802B之間，並使來自氣道210B的吹掃氣體的流動分支。根據該結構，能夠可靠地使吹掃氣體的流動分支。其結果是，能夠將從氣道210B流出的吹掃氣體從各開口部802B以同樣的流動流出，能夠可靠地緩解白努力現象。此外，能夠在前後方向D1上以少的空間來可靠地緩解白努力現象。因此，能夠將氣體噴出噴嘴部形成為緊湊結構的氣體噴出噴嘴部8B。
以下，參照附圖對本發明的第四實施方式涉及的基板收納容器進行說明。圖12是表示本發明的第四實施方式涉及的基板收納容器的突出部8C的側方剖視圖。圖13是表示本發明的第四實施方式涉及的基板收納容器的突出部8C的放大側方剖視圖。
在第四實施方式中，構成氣體噴出噴嘴部的突出部8C的結構與第一實施方式的構成氣體噴出噴嘴部的突出部8的結構不同。除此以外的結構都與第一實施方式相同，故而對於相同的部件以相同符號圖示並省略說明。
突出部8C具有清洗液流入阻礙部。清洗液流入阻礙部由在開口部802C的附近、更具體來說在開口部802C的上側及下側分別隨著趨向前方向D11而向下方向D22傾斜的傾斜遮簷815C構成。傾斜遮簷815C相互平行地延伸直至達到開口部802C的上下方向D2的寬度的2～3倍左右的長度L。之所以設為2～3倍左右是因為，若短於2倍，則幾乎無法得到阻礙清洗液流入開口部802C的效果。此外，即便長於3倍，阻礙清洗液流入開口部802C的效果也與設為3倍時幾乎相同。在清洗容器主體2時，傾斜遮簷815C在開口部802C附近阻止清洗液從開口部802C向氣道210C側流入。此外，傾斜遮簷815C構成使氣體從開口部802C朝向下方向D22流出的下方流出部。
根據上述結構的本實施方式涉及的基板收納容器，能夠得到以下的效果。
突出部8C具有作為清洗液流入阻礙部的傾斜遮簷815C，在清洗容器主體2時，在開口部802C的附近阻止清洗液從開口部802C向氣道210C側流入。根據該結構，在清洗容器主體2時，能夠抑制清洗液從開口部802C向氣道210C側流入，並提高清洗後的乾燥性。
此外，突出部8C具有使吹掃氣體從開口部802C朝向下方向流出的作為下方流出部的傾斜遮簷815C。根據該結構，作為吹掃氣體使用氮氣（N2 ）的可能性高，但N2 通常比大氣輕，因此從開口部802C流出後易於集中在基板收納空間27的上側，但如此能夠抑制集中在容器主體2的上側。
以下，參照附圖對本發明的第五實施方式涉及的基板收納容器進行說明。圖14是表示本發明的第五實施方式涉及的基板收納容器的容器主體2D的放大側方剖視圖。
另外，在圖14中，為了方便起見而省略供氣用篩檢程式部90的圖示。
在第五實施方式中，氣道210D的結構與第一實施方式中的氣道210D的結構不同。除此以外的結構都與第一實施方式相同，因此對於相同部件以相同符號圖示並省略說明。
如圖14所示，氣道210D的水準方向伸出部212D沿著下壁24的內表面（上表面）在下壁24的內側從氣體流入部211D的上端部向後方向D12延伸，且由下壁24的內表面與相比下壁24向內側突出的上側流路形成部203D之間的空間構成。
根據該結構，即便在壁部20的外部無法確保氣道的情況下，也能夠在壁部20的內側確保氣道210D。也就是說，根據操作基板收納容器的裝置/基板收納容器/基板收納容器的製造方法的限制情況，能夠採用最佳的結構，並能夠提高基板收納容器側的自由度。
以下，參照附圖對本發明的第六實施方式涉及的基板收納容器進行說明。圖15是表示本發明的第六實施方式涉及的基板收納容器的容器主體2E的放大側方剖視圖。另外，在圖15中，為了方便起見而省略供氣用篩檢程式部90的圖示。
在第六實施方式中，氣道210E的結構與第一實施方式中的氣道210的結構不同。除此以外的結構都與第一實施方式相同，因此對於相同的部件以相同的符號圖示並省略說明。
如圖15所示，氣道210E的水準方向伸出部212E沿著上下方向D2的下壁24的位置從氣體流入部211E的上端部向後方向D12延伸，且由在局部不存在下壁24的部分形成的空間構成。
根據該結構，即便在壁部20的外部以及內部無法確保氣道的情況下，也能夠將氣道210E確保在壁部20的下壁24的位置。也就是說，根據操作基板收納容器的裝置/基板收納容器/基板收納容器的製造方法的限制情況，能夠採用最佳的結構，並能夠提高基板收納容器側的自由度。
以下，參照附圖對本發明的第七實施方式涉及的基板收納容器進行說明。圖16是表示本發明的第七實施方式涉及的基板收納容器的後壁側噴嘴部8F的放大平面剖視圖。
在第七實施方式中，代替在第三實施方式的後壁側噴嘴部8B中形成開口部802B的部分，轉而由第四實施方式的形成開口部802C的部分構成，並設置作為清洗液流入阻礙部的傾斜遮簷815C，進而將開口部（第一開口部8021F、第二開口部8022F）的形狀設為第七實施方式特有的形狀。除此以外的結構都與第一實施方式、第三實施方式、第四實施方式相同，故而對於相同的部件以相同的符號圖示並省略說明。
開口部802F具有第一開口部8021F和第二開口部8022F。如圖16所示，第一開口部8021F朝向朝著位於容器主體2的一端部的容器主體開口部21的方向即前方向D11（圖16中箭頭F1所指的方向）呈半圓形狀開口。第二開口部8022F朝向與朝著容器主體開口部21的方向相反的方向即後方向D12（圖16中箭頭F0所指的方向）成規定角度的方向（圖16中箭頭F2所指的方向）呈以90°的角度打開的扇形開口。
箭頭F0與箭頭F2的夾角a為45°。扇形形狀的第二開口部8022F的半徑r2構成為比半圓形狀的第一開口部8021F的半徑r1大。由此，第二開口部8022F形成為夾角a為45°的扇形，但將第二開口部8022F的開口面積確保為半圓形狀的第一開口部8021F的開口面積的80％左右的寬度。另外，圖16中僅示出右側的後壁側噴嘴部8F，但容器主體2以左右對稱形狀具備未圖示的左側的後壁側噴嘴部。根據以上結構，吹掃氣體從第一開口部8021F主要朝向箭頭F1的方向流出，此外，從第二開口部8022F主要朝向箭頭F2的方向流出。
根據該結構，能夠將適當流量的吹掃氣體均衡地朝向如下兩個方向流出：朝著位於容器主體2的一端部的容器主體開口部21的方向即前方向D11（圖16中箭頭F1所指的方向）；以及與朝著容器主體開口部21的方向相反的方向即後方向D12（圖16中箭頭F0所指的方向）成規定角度的方向（圖16中箭頭F2所指的方向）。
本發明並不限定於上述實施方式，在申請專利範圍記載的技術範圍內能夠進行變形。
例如，容器主體以及蓋體的形狀、能夠收納在容器主體的基板W的片數或尺寸並不限於本實施方式中的容器主體2以及蓋體3的形狀、能夠收納在容器主體2的基板W的片數或尺寸。此外，本實施方式中的基板W是直徑300mm的矽晶片，但並不限定於該值。
此外，例如，在本實施方式中，氣體流量均勻化部由氣體均勻保持部、分支路構成，但並不限定於此。此外，氣體均勻保持部由氣體滯留室801、801A構成，但並不限定於此。此外，氣體滯留室的結構並不限定於本實施方式的氣體滯留室801、801A的結構。此外，分支路的結構並不限定於分支路8011B。
此外，在本實施方式中，清洗液流入阻礙部由傾斜遮簷815C構成，但並不限定於該結構。例如，也可以通過使開口部802由疏水性的膜或多孔狀的多孔體覆蓋，構成清洗液流入阻礙部。
此外，在本實施方式中，使用形成有流入口811的間隔壁部81，但並不限定於該結構。例如，也可以代替間隔壁部81，轉而使用膜或多孔體（porus）。
此外，在第二實施方式中，開口部802A的上下方向D2上的寬度以及開口部802A的左右方向D3上的寬度隨著趨向上方向D21而逐漸變小，但並不限定於該結構。例如，在開口部802A由膜或多孔體覆蓋的情況下，只要將下側開口部802A中供氣體通過的流路的每單位面積的寬度構成為比上側開口部802A中供氣體通過的流路的每單位面積的寬度大以使得膜或多孔體的通氣量在下側的開口部802A比上側的開口部802A多即可。
此外，在第三實施方式中，在氣道210B與開口部802B之間具有使來自氣道210B的氣體流動分支的分支路8011B，但在此種結構的情況下，也可以通過調整分支後的流路的面積，來調整從噴出口814B或開口部802B流出的吹掃氣體的流量。
此外，在第一實施方式中，如圖6所示，開口部802朝向前方向D11、左方向D31以及右方向D32分別開口，但並不限定於該結構。例如，對於採用上述三個方向中的哪一個方向，只要根據基板收納容器的形狀而設為不同的結構即可。
此外，在本實施方式中，下壁24的前部的兩個部位的貫通孔是用於排出容器主體2內部的氣體的排氣孔243，後部的兩個部位的貫通孔是用於向容器主體2內部供給氣體的供氣孔242，但並不限定於該結構。例如，下壁24的前部的兩個部位的貫通孔的至少一個也可以設為用於向容器主體2內部供給氣體的供氣孔。如此，能夠從容器主體2的前端部中最低位置供給吹掃氣體。
此外，後側基板支承部在本實施方式中由後側基板支承部6構成，但並不限定於該結構。例如，也可以通過與容器主體一體成形而構成的後部保持構件來構成後側基板支承部。
此外，在第五實施方式中，氣道210D的水準方向伸出部212D沿著下壁24的內表面（上表面）在下壁24的內側從氣體流入部211D的上端部向後方向D12延伸，此外，在第六實施方式中，氣道210E的水準方向伸出部212E沿著上下方向D2的下壁24的位置從氣體流入部211E的上端部向後方向D12延伸，但並不限定於該結構。
例如，氣道的水準方向伸出部也可以具有如下結構：進行分支，沿著下壁的內表面（上表面）在下壁的內側從氣體流入部的上端部向後方向延伸，並且沿著下壁的外表面（下表面）在下壁的外側從氣體流入部的上端部向後方向延伸，而後匯合。
此外，在第七實施方式的後壁側噴嘴部8F中，第一開口部8021F呈半圓形狀開口但並不限定於該形狀。此外，第二開口部8022F呈扇形開口，但並不限定於該形狀。此外，第二開口部8022F朝向與朝著容器主體開口部21的方向相反的方向即後方向D12（圖16中箭頭F0所指方向）成規定角度的方向（圖16中箭頭F2所指方向）呈以90°的角度打開的扇形開口，但並不限定於該方向。此外，箭頭F0與箭頭F2的夾角a為45°，但並不限定於該角度。
1‧‧‧基板收納容器2、2A、2D、2E‧‧‧容器主體3‧‧‧蓋體4‧‧‧密封部件5‧‧‧基板支承板狀部6‧‧‧後側基板支承部8、8C‧‧‧突出部（氣體噴出噴嘴部）8A、8B、8F‧‧‧後壁側噴嘴部（氣體噴出噴嘴部）20‧‧‧壁部21‧‧‧容器主體開口部22‧‧‧後壁23‧‧‧上壁24‧‧‧下壁25‧‧‧第一側壁26‧‧‧第二側壁27‧‧‧基板收納空間28‧‧‧開口周緣部32A‧‧‧上側插銷部33‧‧‧操作部51‧‧‧板部52‧‧‧支承壁59‧‧‧部件60‧‧‧後側端緣支承部81、81A、81B‧‧‧間隔壁部82A‧‧‧壁部83A‧‧‧中央壁部90‧‧‧供氣用篩檢程式部91‧‧‧排氣用篩檢程式部202‧‧‧氣體供給裝置連接部203‧‧‧下側流路形成部203D‧‧‧上側流路形成部210、210B、210C、210D、210E‧‧‧氣道211、211D、211E‧‧‧氣體流入部212、212D、212E‧‧‧水準方向伸出部213B‧‧‧垂直方向伸出部231A、231B、241A、241B‧‧‧插銷卡合凹部235‧‧‧肋236‧‧‧頂部凸緣242‧‧‧供氣孔243‧‧‧排氣孔281‧‧‧密封面511、512‧‧‧凸部801、801A‧‧‧氣體滯留室（氣體均勻支承部、氣體流量均勻化部）802、802A、802B、802C、802F‧‧‧開口部803‧‧‧氣體流出前保持室811、811A、811B‧‧‧流入口812B‧‧‧分支壁部813B‧‧‧分支凸部814B‧‧‧噴出口815C‧‧‧傾斜遮簷（清洗液流入阻礙部、下方流出部）8011B‧‧‧分支路（氣體流量均勻化部）8021F‧‧‧第一開口部8022F‧‧‧第二開口部a‧‧‧夾角r1、r2‧‧‧半徑W‧‧‧基板
圖1是表示本發明的第一實施方式涉及的基板收納容器1中收納有多個基板W的狀態的分解立體圖。 圖2是表示本發明的第一實施方式涉及的基板收納容器1的容器主體2的上方立體圖。 圖3是表示本發明的第一實施方式涉及的基板收納容器1的容器主體2的下方立體圖。 圖4是表示本發明的第一實施方式涉及的基板收納容器1的容器主體2的側方剖視圖。 圖5是表示本發明的第一實施方式涉及的基板收納容器1的容器主體2的放大側方剖視圖。 圖6是表示本發明的第一實施方式涉及的基板收納容器1的突出部8的放大上方剖視圖。 圖7是表示本發明的第一實施方式涉及的基板收納容器1的容器主體2中的吹掃氣體的流動的放大側方剖視圖。 圖8是表示本發明的第二實施方式涉及的基板收納容器的容器主體2A的上方立體圖。 圖9是表示本發明的第二實施方式涉及的基板收納容器的後壁側噴嘴部8A的上方剖視圖。 圖10是表示本發明的第三實施方式涉及的基板收納容器的後壁側噴嘴部8B的側方剖視圖。 圖11是表示本發明的第三實施方式涉及的基板收納容器的後壁側噴嘴部8B的分支路8011B分支的部分的放大側方剖視圖。 圖12是表示本發明的第四實施方式涉及的基板收納容器的突出部8C的側方剖視圖。 圖13是表示本發明的第四實施方式涉及的基板收納容器的突出部8C的放大側方剖視圖。 圖14是表示本發明的第五實施方式涉及的基板收納容器的容器主體2D的放大側方剖視圖。 圖15是表示本發明的第六實施方式涉及的基板收納容器的容器主體2E的放大側方剖視圖。 圖16是表示本發明的第七實施方式涉及的基板收納容器的後壁側噴嘴部8F的放大平面剖視圖。
2‧‧‧容器主體
6‧‧‧後側基板支承部
8‧‧‧突出部(氣體噴出噴嘴部)
20‧‧‧壁部
22‧‧‧後壁
24‧‧‧下壁
27‧‧‧基板收納空間
81‧‧‧間隔壁部
202‧‧‧氣體供給裝置連接部
203‧‧‧下側流路形成部
210‧‧‧氣道
211‧‧‧氣體流入部
212‧‧‧水準方向伸出部
242‧‧‧供氣孔
801‧‧‧氣體滯留室(氣體均勻支承部、氣體流量均勻化部)
802‧‧‧開口部
803‧‧‧氣體流出前保持室
811‧‧‧流入口
W‧‧‧基板

Claims (7)

  1. 一種基板收納容器，其特徵在於：所述基板收納容器具備：一容器主體，具備筒狀的一壁部，該壁部在一端部具有形成有一容器主體開口部的一開口周緣部，且另一端部被封閉，利用所述壁部的一內表面形成能夠收納多個基板且與所述容器主體開口部連通的一基板收納空間；一蓋體，能夠相對於所述容器主體開口部拆裝，且能夠封閉所述容器主體開口部；一氣道，能夠連通所述基板收納空間與所述容器主體的一外部空間；以及一氣體噴出噴嘴部，具有將流入到所述氣道的氣體向所述基板收納空間供給的多個開口部，其中所述基板收納容器具有一氣體流量均勻化部，該氣體流量均勻化部能夠從所述多個開口部以均勻化後的流量流出氣體；所述氣體流量均勻化部由一分支路構成，該分支路形成於所述氣道與所述多個開口部之間，且使來自所述氣道的氣體的流動分支；所述開口部具有：一第一開口部，向朝著位於所述容器主體的一端部的所述容器主體開口部的方向開口；以及一第二開口部，朝向相對於與朝著所述容器主體開口部的方向相反的方向成一規定的角度的方向開口。
  2. 如請求項1所述的基板收納容器，其特徵在於：所述基板收納容器具有一氣體流量均勻化部，該氣體流量均勻化部能夠從所述多個開口部以均勻化後的流量流出氣體；所述氣體噴出噴嘴部具有一清洗液流入阻礙部，該清洗液流入阻礙部在清洗所述容器主體時，在所述多個開口部的附近阻礙清洗液從所述多個開口部流入所述氣道側。
  3. 如請求項2所述的基板收納容器，其特徵在於：所述氣體流量均勻化部由一氣體滯留室構成，該氣體滯留室形成於所述氣道與所述氣體噴出噴嘴部的所述多個開口部之間，且構成一氣體均勻保持部，該氣體均勻保持部將所述氣道與所述氣體噴出噴嘴部的所述多個開口部連通，通過將氣體暫時貯留並加壓，能夠將來自所述氣道的氣體以規定的量均勻地保持。
  4. 如請求項2所述的基板收納容器，其特徵在於：所述壁部具有一後壁、一上壁、一下壁以及一對側壁，利用所述後壁來封閉所述壁部的另一端部，利用所述上壁的一端部、所述下壁的一端部以及所述側壁的一端部來形成所述容器主體開口部；所述後壁具有朝向所述容器主體開口部突出的一突出部；以及所述突出部具有所述多個開口部並構成所述氣體噴出噴嘴部。
  5. 如請求項1所述的基板收納容器，其特徵在於： 所述壁部具有一後壁、一上壁、一下壁以及一對側壁，利用所述後壁來封閉所述壁部的另一端部，利用所述上壁的一端部、所述下壁的一端部以及所述側壁的一端部來形成所述容器主體開口部；所述氣體噴出噴嘴部配置於所述後壁的一中央部；以及所述氣體噴出噴嘴部的所述多個開口部朝向所述容器主體開口部開口。
  6. 如請求項1至4之任一項所述的基板收納容器，其特徵在於：所述第一開口部形成為呈現指向所述容器主體開口部所朝的方向的一半圓形狀開口，所述第二開口部形成為呈現指向與朝著所述容器主體開口部方向相反的方向成45°角度的方向的一扇形形狀開口。
  7. 如請求項6所述的基板收納容器，其特徵在於：所述第二開口部的所述扇形形狀開口的半徑大於所述第一開口部的所述半圓形狀開口的半徑。
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