TWI693482B

TWI693482B - 曝光裝置

Info

Publication number: TWI693482B
Application number: TW107146594A
Authority: TW
Inventors: 林建宏; 陳泳超; 許芷瑋; 李育陞; 曾紹崟
Original assignee: 財團法人工業技術研究院
Priority date: 2018-12-22
Filing date: 2018-12-22
Publication date: 2020-05-11
Also published as: CN111352306B; TW202024796A; CN111352306A; US20200201189A1

Abstract

一種曝光裝置，包括一光學裝置組以及一基板承載平台。光學裝置組包括多個光源、至少一旋轉式光束偏折元件以及至少一反射鏡組。這些光源用以發出多個光束。每一反射鏡組包括多個反射鏡。基板承載平台適於使設置於基板承載平台上的一曝光基板沿著一相對移動方向相對於光學裝置組移動。這些光束依序經過至少一旋轉式光束偏折元件以及這些反射鏡而投射至曝光基板上，其中透過至少一旋轉式光束偏折元件的旋轉，這些光束投射至曝光基板上的軌跡形成多條掃描線。

Description

曝光裝置

本發明是有關於一種光學裝置，且特別是有關於一種曝光裝置。

曝光裝置例如是電路板製作過程中用於曝光的設備。傳統的曝光裝置為間接成像，也就是使用光罩遮蔽曝光基板表面再作曝光。然而，間接曝光的曝光裝置必須製作具有電路圖案的光罩，不但耗時且成本提高。反之，直接成像的曝光裝置不需使用光罩，因此可減少電路板的製作時間且成本較低，因此漸漸成為市場上的主流。

直接成像的曝光裝置採用雷射印表機的原理，也就是雷射單光源所發出的光束依序透過旋轉式光束偏折元件以及聚光透鏡，再投射至曝光基板上。然而，當曝光裝置的解析度的需求提高至微米等級時，單光源曝光架構將面臨頻寬不足的問題且掃描路徑（放大倍率）過大，使得旋轉式光束偏折元件的轉速誤差因此被放大。再者，由於掃描範圍大，光束的光路相對複雜且需進行大量的誤差補償；因此開始出現多光源曝光裝置。除此之外，習知的多光源曝光裝置採用旋轉式光束偏折元件的旋轉軸傾斜於曝光基板的相對移動方向的掃描方式。然而，旋轉軸的傾斜會造成傾斜的掃描區域與呈矩形的曝光基板的形狀不對應的情形，導致需要額外地移動曝光基板才能完整曝光，造成曝光時間拉長。

本發明提供一種曝光裝置，其透過反射鏡組控制，可讓多組光源形成之掃描線部分重疊或連續，達到影像拼接之效果。

本發明的一實施例的曝光裝置包括一光學裝置組以及一基板承載平台。光學裝置組包括多個光源、至少一旋轉式光束偏折元件以及至少一反射鏡組。多個光源用以發出多個光束。至少一旋轉式光束偏折元件適於旋轉且具有至少一反射或折射面。每一反射鏡組包括多個反射鏡。基板承載平台適於使設置於基板承載平台上的一曝光基板沿著一相對移動方向相對於光學裝置組移動，其中相對移動方向實質上垂直於至少一旋轉式光束偏折元件的旋轉軸的延伸方向。這些光束依序經過至少一旋轉式光束偏折元件以及這些反射鏡而投射至曝光基板上，其中透過至少一旋轉式光束偏折元件的旋轉，這些光束投射至曝光基板上的軌跡形成多條掃描線，這些掃描線不平行於曝光基板的相對移動方向。

基於上述，由於本發明實施例的曝光裝置採用多個光源，因此每個光源的掃描路徑的範圍能有效被控制在誤差範圍內，且能有效地減少單光源曝光裝置的頻寬問題。再者，由於曝光裝置的掃描範圍能有效被控制且曝光裝置的光路簡單，因此光學補償可以透過數位方式補償，降低製造成本。而且，由於曝光基板的相對移動方向實質上垂直於至少一旋轉式光束偏折元件的旋轉軸的延伸方向，而使掃描範圍與曝光基板的形狀較為對應，因此可有效抑制曝光時間拉長的問題。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

圖1是依據本發明第一實施例的曝光裝置的立體示意圖。圖2是依照本發明實施例的曝光裝置所產生的多條掃描線的一種示例。圖3是依照本發明實施例的曝光裝置所產生的多條掃描線的另一種示例。

請參照圖1與圖2，本實施例的曝光裝置100包括一光學裝置組101以及一基板承載平台130。光學裝置組101包括多個光源140、至少一旋轉式光束偏折元件110以及至少一反射鏡組120。旋轉式光束偏折元件110適於旋轉且具有至少一反射或折射面（例如圖1所示的反射面111）。每一反射鏡組120包括多個反射鏡121。基板承載平台130適於使設置於基板承載平台130上的一曝光基板150沿著一相對移動方向M相對於光學裝置組101移動。

在本實施例中，相對移動方向M例如基板承載平台130帶動曝光基板150進行移動，且光學裝置組101不動。或者是，光學裝置組101相反於相對移動方向M移動，且曝光基板150不動。或是基板承載平台130帶動曝光基板150進行移動，且光學裝置組101同時移動。也就是曝光裝置100可依曝光需求來設計曝光基板150與光學裝置組101之間的相對移動。相對移動方向M實質上垂直於旋轉式光束偏折元件110的旋轉軸R的延伸方向，但本發明不以此為限。上述兩個方向實質上互相垂直是指兩個方向之間的夾角小於5度。

多個光源140用以發出多個光束LB。光源例如是雷射二極體、固態雷射、脈衝雷射或其他合適的光源，其波長例如是可見光、紅外光或其他合適的波長。光束LB依序經過旋轉式光束偏折元件110以及反射鏡121而投射至曝光基板150上，其中透過旋轉式光束偏折元件110的旋轉，光束LB投射至曝光基板150上的軌跡形成多條掃描線SL。

在本實施例中，旋轉軸R的延伸方向平行於曝光基板150的平面（例如圖2中的XY平面）。

在本實施例中，這些掃描線SL不平行於曝光基板150的相對移動方向M。具體來說，反射鏡121的反射面121S所朝向的方向以及角度決定了掃描線SL的掃描軌跡方向以及角度。使用者可依使用上的需求改變反射鏡121的反射面121S所朝向的方向以及角度，以取得所需的掃描線SL的掃描軌跡方向以及角度。具體而言，反射鏡121的反射面121S朝向曝光基板150，且反射鏡121的中心軸121C在曝光基板150上的正投影（例如圖2的軸121P）的方向與至少一旋轉式光束偏折元件110的旋轉軸R的延伸方向以及曝光基板150的相對移動方向M不同。因此，掃描線SL的延伸方向與旋轉式光束偏折元件110的旋轉軸R的延伸方向以及曝光基板150的相對移動方向M不同。

例如在圖2中，曝光基板150所在的平面為X-Y平面、相對移動方向M為-Y方向以及旋轉軸R的延伸方向為X方向。反射鏡121的反射面121S朝向曝光基板150，且反射鏡121的中心軸121C在曝光基板150上的正投影為軸121P，其中軸121P的斜率為負，且軸121P與Y軸之間所夾的銳角約22.5度。因此，圖2的掃描線SL的斜率為負，且掃描線SL與Y軸之間所夾的銳角約為45度。

請參照圖3，在一實施例中，掃描線SL’的延伸方向與旋轉式光束偏折元件110的旋轉軸R的延伸方向相同。例如反射鏡121的反射面121S朝向曝光基板150，且反射鏡121的中心軸121C在曝光基板150上的正投影為軸121P’，其中軸121P’的斜率為負，且軸121P’與Y軸之間所夾的銳角約為45度。因此，圖3的掃描線SL’與Y軸之間的夾角約為90度。

在本實施例中，這些掃描線SL的任兩相鄰者在相對移動方向M上部分重疊或連續，也就是這些掃描線SL在旋轉軸R上的正投影部分重疊或形成一連續直線。例如，上述圖2中的虛線D示意了掃描線SL的任兩相鄰者在相對移動方向M上的重疊部分。圖2中的掃描線SL在旋轉軸R上的正投影形成一連續直線。例如，圖3的掃描線SL’在旋轉軸R上的正投影部分重疊。相較於先前技術，本發明實施例的曝光裝置100的掃描線SL（或SL’）的任兩相鄰者在相對移動方向M上部分重疊或連續，因此本發明實施例的曝光裝置100可達到影像拼接的效果。

或者，先前技術的曝光裝置採用旋轉面鏡的旋轉軸傾斜於曝光基板的相對移動方向的掃描方式，使得先前技術的曝光裝置的掃描線所形成的平面與曝光基板的交集所形成的多邊形的一橫軸與相對移動方向具有一夾角，例如約45度。也就是說，先前技術的曝光裝置在掃描的起始和結束的時間，其掃描線所形成的平面與曝光基板不互相交集的範圍過大，因此先前技術的曝光裝置存在曝光時間拉長的問題。反之，在本實施例中，相對移動方向M實質上垂直於旋轉式光束偏折元件110的旋轉軸R的延伸方向，使得掃描線SL所形成的平面與曝光基板150的交集所形成的多邊形A的一橫軸L實質上垂直於相對移動方向M，其中上述橫軸L與相對移動方向M實質上垂直是指橫軸L與相對移動方向M之間的夾角減去90度後的絕對值小於5度。例如圖2的掃描線SL所形成的平面與曝光基板150的交集所形成的多邊形A的橫軸L實質上垂直於相對移動方向M，或圖3的掃描線SL’所形成的平面與曝光基板150的交集所形成的多邊形A’的一橫軸L’實質上垂直於相對移動方向M。因此，相較於先前技術，本發明實施例的曝光裝置100可有效抑制掃描時間拉長的問題。

基於上述，由於本發明實施例的曝光裝置100採用多個光源140，因此每個光源140的掃描路徑的範圍能有效被控制在誤差範圍內，且能有效地減少單光源曝光裝置100的頻寬問題。再者，由於曝光裝置100的掃描範圍能有效被控制且曝光裝置的光路簡單，因此光學補償可以透過數位方式補償，降低製造成本。而且，由於本發明實施例的曝光裝置100的反射鏡121的反射面121S朝向曝光基板150，且反射鏡121的中心軸121C在曝光基板150上的正投影的方向與至少一旋轉式光束偏折元件110的旋轉軸R的延伸方向以及曝光基板150的相對移動方向M不同，使得掃描線SL、SL'的延伸方向與曝光基板150的相對移動方向M不同，且掃描線SL的任兩相鄰者在相對移動方向M上部分重疊。因此，本發明實施例的曝光裝置100可達到影像拼接的效果。此外，由於曝光基板150的相對移動方向M實質上垂直於至少一旋轉式光束偏折元件110的旋轉軸R的延伸方向，使得本發明實施例的曝光裝置的掃描線SL所形成的平面與曝光基板150的交集所形成的多邊形A的橫軸L實質上垂直於相對移動方向M，因此本發明實施例的曝光裝置100可有效抑制曝光時間拉長的問題。

圖4是依據本發明第二實施例的曝光裝置的立體示意圖。請參照圖4，在上述的實施例中，曝光裝置100的反射鏡121為平面鏡。但本發明不以此為限，在一實施例中，反射鏡組420的多個反射鏡421為f-theta面鏡，其反射面421S為曲面。因此，反射鏡421可用於改善入射至反射鏡421的不同角度的光束LB之間的光路的誤差。此處f-theta面鏡是指，無論光束LB是在f-theta面鏡的中央、邊緣或任何區域掃描，光束LB在f-theta面鏡上相同的掃描角度會對應到曝光基板150上相同的掃描距離，這與f-theta掃描透鏡的原理類似，差異只在於f-theta掃描透鏡是將光折射，而此處的f-theta面鏡是將光反射。

基於上述，本發明實施例的曝光裝置400與曝光裝置100具有相同的優點，在此不再贅述。而且，由於本發明實施例的曝光裝置400使用f-theta面鏡，因此曝光裝置400可大幅改善入射至反射鏡421的不同角度的光束LB之間的光路的誤差。進一步減少曝光影像失真的問題。

圖5是依據本發明第三實施例的曝光裝置的立體示意圖。請參照圖5，在上述的實施例中，曝光裝置100、400的反射鏡121、421設置在垂直於旋轉式光束偏折元件110的旋轉軸R的同一側。但本發明不以此為限，在一實施例中，曝光裝置500的反射鏡組520的多個反射鏡521、522（分別具有反射面521S、522S）設置在旋轉式光束偏折元件110的旋轉軸R的相對兩側。例如在圖5中，多個反射鏡521設置在垂直於旋轉式光束偏折元件110的旋轉軸R的-Y方向的一側，且多個反射鏡522設置在垂直於旋轉式光束偏折元件110的旋轉軸R的+Y方向的一側。

基於上述，本發明實施例的曝光裝置500與曝光裝置100具有相同的優點，在此不再贅述。而且，由於本發明實施例的曝光裝置500的多個反射鏡521、522設置在旋轉式光束偏折元件110的旋轉軸R的相對兩側，因此曝光裝置500可增加機構設計空間上之彈性。

圖6A是依據本發明第四實施例的曝光裝置的立體示意圖。圖6B是依照圖6A的曝光裝置所產生的多條掃描線的一種示例。請參照圖6A與圖6B，在上述的實施例中，曝光裝置100、400中的反射鏡121、421的中心軸121C、421C在曝光基板150上的正投影（例如圖2的軸121P或圖3的軸121P’）的方向彼此相同。因此，掃描線SL或SL’的延伸方向彼此相同。但本發明不以此為限，在一實施例中，曝光裝置500、600的反射鏡組520與620的反射鏡521與522、621與622的中心軸521C與522C、621C與622C在曝光基板150上的正投影的方向部分不同。因此，掃描線的延伸方向部分不同（例如圖6B的掃描線SLA與SLB的延伸方向不同）。

例如在圖6B中，反射鏡621、622在曝光基板150上的正投影分別為軸621P、622P，其中軸621P、622P的斜率分別為正、負，且軸621P、622P與Y方向之間所夾的銳角約為22.5度。因此，透過旋轉式光束偏折元件110的旋轉，多個光束LB投射至曝光基板150上的軌跡形成多條掃描線SLA、SLB，其中掃描線SLA、SLB的斜率分別為正、負，且掃描線SLA、SLB與Y方向之間所夾的銳角約為45度。

基於上述，本發明實施例的曝光裝置600與曝光裝置100具有相同的優點，在此不再贅述。而且，由於本發明實施例的曝光裝置600的反射鏡621與622的中心軸621C與622C在曝光基板150上的正投影的方向部分不同，掃描線SLA與SLB的延伸方向部分不同且彼此偏移交錯，因此曝光裝置600與曝光裝置500均可增加機構設計空間上之彈性。

圖7是依據本發明第五實施例的曝光裝置的立體示意圖。請參照圖7，在上述的實施例中，曝光裝置100、400、500、600中的旋轉式光束偏折元件110為反射式旋轉面鏡，例如為多面鏡（Polygon Mirror）。例如在圖1中，來自光源140的光束LB被旋轉式光束偏折元件110反射至反射鏡組120，且反射鏡組120將來自旋轉式光束偏折元件110的光束LB反射至曝光基板150。但本發明不以此為限，在一實施例中，例如圖7，曝光裝置700的光學裝置組701的旋轉式光束偏折元件710可為折射式旋轉稜鏡，且旋轉式光束偏折元件710具有至少一折射面712。也就是說，來自光源140的光束LB被旋轉式光束偏折元件710折射至反射鏡組120，且反射鏡組120將來自旋轉式光束偏折元件710的光束LB反射至曝光基板150。

基於上述，本發明實施例的曝光裝置700與曝光裝置100具有相同的優點，在此不再贅述。而且，由於本發明實施例的曝光裝置700的旋轉式光束偏折元件710為折射式旋轉稜鏡，曝光裝置700可減少在垂直於曝光基板150的方向上的厚度，因此曝光裝置700具有較小的體積。

圖8是依據本發明第六實施例的曝光裝置的立體示意圖。請參照圖8，在上述的實施例中，曝光裝置100、400、500、600、700只包括一個旋轉式光束偏折元件110或710。但本發明不以此為限，在一實施例中，至少一旋轉式光束偏折元件為多個旋轉式光束偏折元件，且至少一反射鏡組為多個反射鏡組，這些反射鏡組在這些光束的光路上分別對應這些旋轉式光束偏折元件。例如，曝光裝置800的光學裝置組801包括旋轉式光束偏折元件810A、810B與810C，其中反射鏡組820A、820B、820C在光束LB的光路上分別對應於旋轉式光束偏折元件810A、810B與810C。

基於上述，本發明實施例的曝光裝置800與曝光裝置100具有相同的優點，在此不再贅述。而且，由於本發明實施例的曝光裝置800的至少一旋轉式光束偏折元件為多個旋轉式光束偏折元件810A、810B與810C，且至少一反射鏡組為多個反射鏡組820A、820B、820C，曝光裝置800可同時具有多個掃描區域，因此曝光裝置800可進一步增加曝光面積。

值得一提的是，上述實施例的曝光裝置100、400、500、600、800的多個光源140所設置的位置，在垂直於曝光基板150的方向上的高度皆高於旋轉式光束偏折元件110、810A、810B、810C的高度。但本發明不以此為限，多個光源140所設置的位置的高度可依設計需求改變。例如圖7的曝光裝置700的光源140設置在旋轉式光束偏折元件710的一側，且光源140在垂直於曝光基板150的方向上的高度低於旋轉式光束偏折元件710的高度。

再者，上述實施例的曝光裝置100、400、500、600的多個光源140所發出的光束LB的入射角度皆是垂直於曝光基板150。但本發明不以此為限，光束LB的入射角度也可視設計需求調整。也就是說，可經由同時調整光束LB的入射角度以及反射鏡120的角度，而使得曝光裝置100、400、500、600、700、800的掃描線SL、SL’、SLA、SLB於曝光基板150所形成的掃描軌跡方向滿足設計的需求。

除此之外，上述實施例的曝光裝置100、400、500、600、800的旋轉式光束偏折元件110、810A、810B、810C的鏡面皆是平面。但本發明不以此為限，旋轉式光束偏折元件的鏡面也可依設計需求調整為曲面的鏡面。

綜上所述，由於本發明實施例的曝光裝置採用多個光源，因此每個光源的掃描路徑的範圍能有效被控制在誤差範圍內，且能有效地減少單光源曝光裝置的頻寬問題。再者，由於曝光裝置的掃描範圍能有效被控制且曝光裝置的光路簡單，因此光學補償可以透過數位方式補償，降低製造成本。而且，由於本發明實施例的曝光裝置的反射鏡的反射面朝向曝光基板，且反射鏡的中心軸在曝光基板上的正投影的方向與旋轉式光束偏折元件的旋轉軸的延伸方向以及曝光基板的相對移動方向不同，使得掃描線的延伸方向與旋轉式光束偏折元件的旋轉軸的延伸方向以及曝光基板的相對移動方向不同，且掃描線的任兩相鄰者在相對移動方向上部分重疊或連續。因此，本發明實施例的曝光裝置可實現影像拼接的效果。此外，由於曝光基板的相對移動方向實質上垂直於至少一旋轉式光束偏折元件的旋轉軸的延伸方向，使得本發明實施例的曝光裝置的掃描線所形成的平面與曝光基板的交集所形成的多邊形的一橫軸實質上垂直於相對移動方向，因此本發明實施例的曝光裝置可有效抑制曝光時間拉長的問題。

而且，由於本發明實施例的曝光裝置使用f-theta面鏡，因此曝光裝置可大幅改善入射至反射鏡的不同角度的光束之間的光路的誤差。進一步減少曝光影像失真的問題。再者，由於本發明實施例的曝光裝置的多個反射鏡設置在旋轉式光束偏折元件的旋轉軸的相對兩側，由於本發明實施例的曝光裝置的多個反射鏡的中心軸在曝光基板上的正投影的方向部分不同，多條掃描線的延伸方向部分不同且彼此偏移交錯，可增加機構設計空間上之彈性。再者，由於本發明實施例的曝光裝置的旋轉式光束偏折元件為折射式旋轉稜鏡，曝光裝置可減少在垂直於曝光基板的方向上的厚度，因此曝光裝置具有較小的體積。此外，由於本發明實施例的曝光裝置的至少一旋轉式光束偏折元件為多個旋轉式光束偏折元件，且至少一反射鏡組為多個反射鏡組，曝光裝置可同時具有多個掃描區域，因此曝光裝置可進一步增加掃描面積。除此之外，由於本發明實施例的曝光裝置的多個光源所設置的位置可依設計需求調整，且旋轉式光束偏折元件的鏡面也不受限於平面，因此曝光裝置在光路上的設計較為彈性。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

100、400、500、600、700、800:曝光裝置 101、701、801:光學裝置組 110、710、810A、810B、810C:旋轉式光束偏折元件 111、121S、421S、521S、522S:反射面 120、420、520、620、820A、820B、820C:反射鏡組 121、421、521、522、621、622:反射鏡 121C、421C、521C、522C、621C、622C:中心軸 121P、121P’、621P、622P:軸 130:基板承載平台 140:光源 150:曝光基板 712:折射面 A、A’:多邊形 D:虛線 L、L’:橫軸 LB:光束 M:相對移動方向 R:旋轉軸 SL、SL’、SLA、SLB:掃描線

圖1是依據本發明第一實施例的曝光裝置的立體示意圖。圖2是依照本發明實施例的曝光裝置所產生的多條掃描線的一種示例。圖3是依照本發明實施例的曝光裝置所產生的多條掃描線的另一種示例。圖4是依據本發明第二實施例的曝光裝置的立體示意圖。圖5是依據本發明第三實施例的曝光裝置的立體示意圖。圖6A是依據本發明第四實施例的曝光裝置的立體示意圖。圖6B是依照圖6A的曝光裝置所產生的多條掃描線的一種示例。圖7是依據本發明第五實施例的曝光裝置的立體示意圖。圖8是依據本發明第六實施例的曝光裝置的立體示意圖。

100:曝光裝置

101:光學裝置組

110:旋轉式光束偏折元件

111、121S:反射面

120:反射鏡組

121:反射鏡

121C:中心軸

130:基板承載平台

140:光源

150:曝光基板

LB:光束

Claims

一種曝光裝置，包括：一光學裝置組，包括：多個光源，用以發出多個光束；至少一旋轉式光束偏折元件，適於旋轉且具有至少一反射或折射面；以及至少一反射鏡組，每一反射鏡組包括多個反射鏡；以及一基板承載平台，適於使設置於該基板承載平台上的一曝光基板沿著一相對移動方向相對於該光學裝置組移動，其中該相對移動方向實質上垂直於該至少一旋轉式光束偏折元件的旋轉軸的延伸方向，該些光束依序經過該至少一旋轉式光束偏折元件以及該些反射鏡而投射至該曝光基板上，其中透過該至少一旋轉式光束偏折元件的旋轉，該些光束投射至該曝光基板上的軌跡形成多條掃描線，該些掃描線不平行於該曝光基板的該相對移動方向。
如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中該些掃描線的任兩相鄰者在該相對移動方向上部分重疊或連續。
如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中該旋轉軸的延伸方向平行於該曝光基板的平面。
如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中該些反射鏡為f-theta面鏡。
如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中該至少一旋轉式光束偏折元件為反射式旋轉面鏡。
如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中該至少一旋轉式光束偏折元件為折射式旋轉稜鏡。
如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中該些反射鏡的反射面朝向該曝光基板，且該些反射鏡的中心軸在該曝光基板上的正投影的方向與該至少一旋轉式光束偏折元件的該旋轉軸的該延伸方向以及該曝光基板的該相對移動方向不同。
如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中該些掃描線的延伸方向與該至少一旋轉式光束偏折元件的該旋轉軸的該延伸方向以及該曝光基板的該相對移動方向不同。
如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中該些掃描線的延伸方向與該至少一旋轉式光束偏折元件的該旋轉軸的該延伸方向相同。
如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中該些反射鏡設置在垂直於該至少一旋轉式光束偏折元件的該旋轉軸的同一側。
如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中該些反射鏡設置在該至少一旋轉式光束偏折元件的該旋轉軸的相對兩側。
如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中該些反射鏡的中心軸在該曝光基板上的正投影的方向彼此相同。
如申請專利範圍第12項所述的曝光裝置，其中該些掃描線的延伸方向彼此相同。
如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中該些反射鏡的中心軸在該曝光基板上的正投影的方向部分不同。
如申請專利範圍第14項所述的曝光裝置，其中該些掃描線的延伸方向部分不同。
如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中該至少一旋轉式光束偏折元件為多個旋轉式光束偏折元件，且該至少一反射鏡組為多個反射鏡組，該些反射鏡組在該些光束的光路上分別對應該些旋轉式光束偏折元件。