JP3417101B2

JP3417101B2 - 光学走査装置

Info

Publication number: JP3417101B2
Application number: JP30784694A
Authority: JP
Inventors: 進安斉
Original assignee: Fuji Xerox Co Ltd; Fujifilm Business Innovation Corp
Current assignee: Fujifilm Business Innovation Corp
Priority date: 1994-12-12
Filing date: 1994-12-12
Publication date: 2003-06-16
Anticipated expiration: 2018-06-16
Also published as: US5706119A; BR9505749A; MX9505193A; JPH08160338A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザプリンタ及びデ
ジタル複写機等に用いられる光学走査装置に係り、特に
光学フィルタによって感光体上の光量分布を補正する機
能を備えた光学走査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】図１２
には、走査方向の偏光面幅より広いビームが偏向器１０
０に入射する光学走査装置（以下、「オーバーフィルド
〔Overfilled〕光学系」という）の要部が概略的に示さ
れている。

【０００３】この図において、偏向面幅；Ｆａと、偏向
器１００であるポリゴンミラーの内接円径；Ｐφ、偏向
面数；ｎとの間には、次式で示される関係が成り立つ。

【０００４】Ｆａ＝Ｐφ×tan （１８０°／ｎ）・・・
（１）なお、ここでは偏向器１００としてポリゴンミラーを用
いたが、ガルバノミラー等の偏向器を用いても差し支え
なく、その場合には偏向面幅Ｆａはポリゴンミラー内接
円径Ｐφ、偏向面数ｎとは無関係になる。

【０００５】また、オーバーフィルド光学系では、ガウ
ス強度分布のビームの一部ずつを走査角に対応して切り
取るように用いるため、偏向面反射直後のビーム幅；Ｄ
と、走査角；α、偏向面入射角；βとの間には、次式で
示される関係が成り立つ。

【０００６】Ｄ＝Ｆａ×cos ｛（α＋β）／２｝・・・（２）さらに、レンズによる像の明るさの度合いを表すＦナン
バーと、偏向器１００から感光体１０２までの焦点距
離；ｆ、偏向面反射直後のビーム幅；Ｄとの間には次式
で示される関係が成り立つ。

【０００７】Ｆナンバー＝ｆ／Ｄ・・・（３）なお、焦点距離ｆは、偏向器１００と感光体１０２との
間に図示しないｆθレンズが配置されるため、走査角；
αとは無関係に一定である。

【０００８】以上（１）〜（３）式から、上記のオーバ
ーフィルド光学系では、Ｆナンバーは走査角α及び偏向
面入射角βに応じて変化することが判る。そして、Ｆナ
ンバーが変化した場合には、感光体１０２上の走査位置
によって光量が変化することになる。総じていえば、オ
ーバーフィルド光学系では、偏向器１００に入射される
ガウス強度分布のビームの一部ずつを走査角αに対応し
て切り取るように用いることから、Ｆナンバーの変化を
持たらし、これにより感光体１０２上の光量分布の一様
性が低下するという不具合がある。

【０００９】この不具合を考慮した構成が、米国特許３
５５８２０８号に開示されている。図１３に示されるよ
うに、この公報に開示された光学走査装置１０４では、
光源１０６とポリゴンミラーである偏向器１０８との間
に、コリメータレンズ１１０、凸レンズ１１２、フィル
タ１１４、及びｆθレンズ１１６が光源１０６側からこ
の順に配設されている。さらに、フィルタ１１４は、放
物線状の厚さを有する吸収材１１４Ａを備えている。

【００１０】上記構成によれば、光源１０６からのビー
ムは、コリメータレンズ１１０及び凸レンズ１１２を透
過することで略平行光とされ、更にフィルタ１１４及び
ｆθレンズ１１６を透過した後、偏向器１０８によって
偏向走査される。このとき、凸レンズ１１２によって略
平行光とされたビームは、放物線状の厚さを有する吸収
材１１４Ａを備えたフィルタ１１４を透過することによ
り、偏向器１０８に入射されるに際にガウス強度分布の
ビームから矩形状強度分布のビームに変換される。つま
り、図１４に示されるように、ガウス強度分布のビーム
のビーム径Ａに対し、略平坦な中央部のみを使用すれば
（即ち、利用幅をＢとする）、フィルタ１１４を設けな
くても前述した感光体１１８上の光量分布の不均一はあ
る程度是正されるが、この場合には中央部以外の部分が
不使用となるためエネルギー損失が大きくなる。このた
め、上記公報に示された構成では、感光体１１８上の光
量分布の一様性を確保しつつエネルギー損失の低減を図
るべく、フィルタ１１４を設定することで矩形状強度分
布のビームに変換して利用幅をＣとしている。

【００１１】ここで、上記公報には、オーバーフィルド
光学系特有の走査角に応じてＦナンバーが変化すること
による感光体１１８上の光量分布の変化については何も
言及されていないが、偏向器１０８に入射されるガウス
強度分布のビームを矩形状強度分布のビームに変換する
だけでは、前述したＦナンバー変化による感光体１１８
上の光量分布の不均一を補正することはできないという
問題がある。すなわち、フィルタ１１４に設けられた吸
収体１１４Ａの断面形状が放物線状であるため、偏向器
１０８に入射されるビームの強度分布が単にガウス強度
分布から矩形状強度分布に変換されるだけで、オーバー
フィルド光学系特有の走査角に応じたＦナンバー変化に
追従した光量分布の補正を行うには到らない。

【００１２】但し、偏向器１０８の走査角が小さい場合
には、感光体１１８上のビームの強度分布一様性は実用
上問題ないレベルではある。

【００１３】本発明は上記事実を考慮し、オーバーフィ
ルド光学系においてＦナンバー変化による感光体上の光
量分布の不均一を実用上問題のないレベルに補正するこ
とができる光学走査装置を得ることが目的である。

【００１４】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の本発明
は、光源と感光体との間に配置されると共に周面に複数
の偏向面を有し、光源からのビームを走査方向の偏向面
幅よりも広い範囲に受けて感光体上に偏向走査させる偏
向器を含んで構成される光学走査装置であって、前記光
源と前記偏向器との間に、Ｆナンバーの変化による前記
感光体上の光量分布の一様性が確保されるように、透過
率分布が光軸に対して非対称となりかつ透過率分布の不
連続部をビームが跨がるように金属薄膜をコーティング
することによって構成された吸収材を側面に有する単一
のフィルタを設置することで、ガウス強度分布を基準に
した場合のフィルタ透過後のビームプロファイルの形状
を、偏向器入射側で強度が減衰された形状とした、こと
を特徴としている。

【００１５】

【００１６】

【００１７】

【００１８】請求項２記載の本発明は、請求項１に記載
の本発明において、前記フィルタを、所定量移動可能に
構成した、ことを特徴としている。

【００１９】

【作用】請求項１記載の本発明によれば、光源と偏向器
との間に、透過率分布が光軸に対して非対称となりかつ
透過率分布の不連続部をビームが跨がるように金属薄膜
をコーティングすることによって構成された吸収材を側
面に有する単一のフィルタが設置される。このフィルタ
をビームが透過することにより、ガウス強度分布を基準
にした場合のフィルタ透過後のビームプロファイルの形
状が、偏向器入射側で強度が減衰された形状となる。従
って、減衰された部分を使用することにより、感光体上
の光量分布を必要部分のみ補正して理想的な分布にする
ことが可能となる。その結果、Ｆナンバーが走査角、偏
向面入射角に応じて変化するオーバーフィルド光学系に
おいても、感光体上の光量分布の一様性を確保すること
が可能となる。加えて、本発明によれば、透過率分布の
不連続部をビームが跨がるように、金属薄膜をコーティ
ングすることによりフィルタの吸収材を構成したので、
フィルタを透過したビームの透過波面の位相差を極力少
なくすることができる。すなわち、透過率分布の不連続
部をビームが跨がっていると、物理的に透過波面の位相
差が発生するため、感光体上に結像するビームプロファ
イルが崩れることが知られている。ここで、一般的に、
ビーム径はピーク値の１３．５％で定義されているが、
位相差が大きくなるとサイドローブが１３．５％を越え
る場合もあり、要求される画質を達成できないおそれが
ある。しかしながら、本発明によれば、金属薄膜をコー
ティングすることによってフィルタの吸収材を構成した
ので、コーティング膜厚を非常に薄くすることができ
る。よって、透過率分布の不連続部をビームが跨がって
いるにも拘わらず、透過したビームの透過波面の位相差
を抑えることができ、ビームプロファイルを崩すことな
く光量分布を補正することができる。

【００２０】

【００２１】さらに、本発明によれば、透過率分布の不
連続部をビームが跨がるように、金属薄膜をコーティン
グすることによりフィルタの吸収材を構成したので、透
過率分布が連続するフィルタを用いる場合に比し、フィ
ルタの製造が容易になり、コスト的に有利である。

【００２２】

【００２３】

【００２４】請求項２記載の本発明によれば、請求項１
に記載の本発明において、フィルタを所定量移動可能に
構成したので、フィルタの設置位置がずれた場合や透過
率分布の不連続部の精度不良が生じた場合等に、フィル
タを必要量移動させることにより初期状態でのずれを解
消することができる。このため、このような場合におい
ても、適切な光量補正を行うことが可能となる。

【００２５】

【実施例】以下、図１〜図８を用いて、本発明の一実施
例について説明する。

【００２６】図２には、本実施例に係る光学走査装置１
０の全体構成が示されている。なお、本実施例に係る光
学走査装置１０は、レーザプリンタ及びデジタル複写機
等に用いられるものである。以下、この図を用いて、光
学走査装置１０の概略構成について先に説明する。

【００２７】光学走査装置１０は、所定形状のハウジン
グ１２を備えている。ハウジング１２の幅方向の一方の
側部には光源としてのレーザーダイオードＡｓｓｙ１４
が配設されており、これによりレーザービームが放射さ
れる。また、レーザーダイオードＡｓｓｙ１４の投光側
には、レーザーダイオードＡｓｓｙ１４から投光された
レーザービームを緩やかな発散光にするためのコリメー
タレンズＡｓｓｙ１６が配設されている。さらに、コリ
メータレンズＡｓｓｙ１６に隣接する位置にはビーム成
形用のスリット１８が配設されており、スリット１８に
隣接する位置には偏向面で副走査方向に略結像させるべ
く副走査方向にのみ曲率を有するシリンダレンズ２０が
配設されている。

【００２８】一方、ハウジング１２の幅方向の他方の側
部にはフラットミラー２２が配設されており、これによ
りシリンダレンズ２０を通ったビームがハウジング１２
の内方へ向けて反射される。ハウジング１２の内方中央
部には、偏向器としてのポリゴンミラー２４が配設され
ている。回転多面鏡であるポリゴンミラー２４は、各々
所定の偏向面幅とされた複数の偏向面２４Ａを周面に備
えており、中心軸回りに所定の角速度で回転するように
構成されている。上述したフラットミラー２２とポリゴ
ンミラー２４との間には、フラットミラー２２での反射
光を略平行光にするための凸レンズ２６並びに後述する
光量分布補正用のフィルタ２８が配設されている。

【００２９】また、ハウジング１２の長手方向の一方の
側部には、別のフラットミラー３０が配設されている。
このフラットミラー３０と前述したポリゴンミラー２４
との間には、ポリゴンミラー２４によって偏向されたビ
ームを等速化して感光体３２上に結像させるためのｆθ
レンズ３４が配設されている。

【００３０】さらに、ハウジング１２の長手方向の他方
の側部には、前述したフラットミラー３０で反射された
ビームの副走査方向倒れを補正するためのシリンダミラ
ー３６が配設されている。

【００３１】以上の構成により、レーザーダイオードＡ
ｓｓｙ１４から放射されたビームが、ポリゴンミラー２
４によって感光体３２上に偏向走査される。

【００３２】なお、上述した光学走査装置１０には、上
記構成の他、ポリゴンミラー２４による主走査の基準位
置（タイミング）を検出するためのＳＯＳセンサ３８、
ＳＯＳレンズ４０、及びＳＯＳピックアップミラー４２
が配設されている。

【００３３】次に、ポリゴンミラー２４と凸レンズ２６
との間に配置されたフィルタ２８について詳細に説明す
る。

【００３４】図１には、フィルタ２８を含んで構成され
た上記光学走査装置１０の光学系の模式図が示されてい
る。また、図３にはフィルタ２８の斜視図が示されてお
り、図４には図３の４−４線に沿ったフィルタ２８の断
面図が示されており、更に図５にはフィルタ２８の正面
図が示されている。

【００３５】これらの図に示されるように、フィルタ２
８は、平行ガラス板で構成されたフィルタ本体４４を備
えている。このフィルタ本体４４の凸レンズ２６側の側
面には、ビームの透過率を低下させるための吸収材４６
が塗布されている。なお、吸収材４６としては、例えば
金属薄膜をコーティングする方法が用いられている。ま
た、吸収材４６の設定範囲は、フィルタ本体４４の側面
の半分強とされている。これにより、吸収材４６が塗布
されていない部分ではビームの透過率が９３％とされ、
吸収材４６が塗布された部分ではビームの透過率は６
７．１％とされている。なお、透過率分布の不連続部
（図５参照）は、コーティング時にマスキングすること
によって形成されており、本実施例では走査方向出射側
に配置されている。より具体的には、本実施例では、偏
向面入射ビーム幅はおよそ１０ｍｍであるが、このとき
透過率分布の不連続部は光軸から走査方向出射側にＸ＝
−２ｍｍの位置に設定されている。以上の構成によるフ
ィルタ２８の相対ビーム幅に対する透過率分布を概略的
に示すと図６図示の如くとなり、透過率分布は光軸に対
し非対称であると共に透過率分布の不連続部（即ち、段
階部）が一つある不連続な線図となっている。

【００３６】以下に、本実施例の作用を説明する。レー
ザーダイオードＡｓｓｙ１４から放射されたレーザービ
ームは、コリメータレンズＡｓｓｙ１６によって緩やか
な発散光とされた後、スリット１８によって成形され
る。成形されたビームは、シリンダレンズ２０を介して
凸レンズ２６によって略平行光とされた後、フィルタ２
８にかけられる。フィルタ２８を透過したビームは、ポ
リゴンミラー２４によって偏向されて感光体３２上に偏
向走査される。

【００３７】ここで、本実施例で使用されるフィルタ２
８ではその所定位置に吸収材４６が設けられているた
め、フィルタ２８の透過率分布は図６図示の如く偏向器
入射側で低く偏向器出射側で高くなる。このため、フィ
ルタ２８を設置しない場合のビームプロファイルは図７
に二点鎖線で示される如くガウス強度分布であるのに対
し、フィルタ２８を設置した本実施例の場合のビームプ
ロファイルは図７に実線で示される如く一部の強度が減
衰された特性になる。そして、図８に示される如く、走
査角α＝−２１．８°の場合であれば減衰された太線の
Ｄ部分（同図（Ａ）参照）が使用され、同様にして走査
角α＝０°の場合であれば同図（Ｂ）に太線で示される
Ｄ部分が使用され、走査角α＝２１．８°の場合であれ
ば同図（Ｃ）に太線で示される部分が使用される。この
結果、感光体３２上での光量分布が補正される。

【００３８】以下に、具体的なデータに基づいて説明す
る。下記表１には、比較例として本実施例に係るフィル
タ２８を備えていないオーバーフィルド光学系による感
光体３２上の光量分布が示されている。なお、この例で
は、半導体レーザー波長を７８０ｎｍ、ｎ＝１５、α＝
±２１．６°、β＝４５°、ｆ＝２８６．４８ｍｍと
されている。また、下記表１に示される光量分布は、α
＝０°のときの光量を１００％とした場合のデータであ
る。

【００３９】

【表１】

【００４０】上記表１から、このオーバーフィルド光学
系では、α＝−２１．６°のときに感光体３２上での光
量が１５．１％も減少していることが判る。従って、こ
の場合には、現像プロセスを経て得られるプリントの濃
度が低下するおそれがあり、実用上問題がある。ちなみ
に、現像プロセスによっても異なるが、感光体３２上の
光量が光軸に対して１０％以内であれば、実用上問題が
ないとされる。

【００４１】これに対し、凸レンズ２６とポリゴンミラ
ー２４との間に本実施例に係るフィルタ２８を配設した
場合には、光量分布は下記表２の如くとなる。なお、下
記表２に示されるデータは計算によるものであるが、実
験結果でも同様の値が得られた。

【００４２】補足すると、計算に際しては、図５に示さ
れる如く、フィルタ２８を透過するビームは、走査方向
に略線状となっており、透過率分布の不連続部を跨がっ
たビームを偏向する走査角においては、偏向面反射直後
のビームは全幅のうち透過率６７．１％エリアと９３％
エリアとがある。この比率から、上記光量分布を算出し
た。この際、偏向面エッジ部を入射光束走査方向座標Ｘ
に置き換えた。なお、座標Ｘに換算する式は、次式によ
る。

【００４３】Ｘ＝１／２×Ｐφ×sin （β／２）−Ｒ
｛（α＋β）／２±１８０°／ｎ｝但し、Ｒ；Ｐφ／２｛cos （１８０°／ｎ）｝^-1 上記式より、各走査角にて、フィルタ不連続部位置から
反射される有効全幅に対して透過率６７．１％エリア比
と透過率９３％エリア比とを求めることで、総合透過率
を計算した。この計算は、ビームが走査方向に略線状と
なっていることから、フィルタ２８を透過するビームが
ガウス強度分布状であることは無視した。

【００４４】

【表２】

【００４５】上記表２から、本実施例では、α＝−２
１．６°のときに感光体３２上での光量が３．４％しか
減少していないことが判る。従って、本実施例の場合に
は、現像プロセスを経て得られるプリントの濃度が低下
するおそれはなく、実用上問題無いレベル（５％p-ｐ）
にあるといえる。

【００４６】このように本実施例では、Ｆナンバーが走
査角α及び偏向面入射角βに応じて変化するオーバーフ
ィルド光学系において、凸レンズ２６とポリゴンミラー
２４との間に所定の透過率分布に設定されたフィルタ２
８を配置したので、感光体３２上での光量分布の一様性
を確保することができる。

【００４７】また、本実施例では、フィルタ２８の所定
範囲にコーティングによる吸収材４６を設ける構成であ
るため、フィルタ２８を透過したビームの透過波面の位
相差を極力少なくすることができる。すなわち、図５に
示される如く、透過率分布の不連続部をビームが跨がっ
ていると、物理的に透過波面の位相差が発生するため、
感光体３２上に結像するビームプロファイルが崩れるこ
とが知られている。ここで、一般的に、ビーム径はピー
ク値の１３．５％で定義されているが、位相差が大きく
なるとサイドローブ（メインビームの裾野から盛り上が
る成分のこと）が１３．５％を越える場合もあり、要求
される画質を達成できないおそれがある。しかしなが
ら、本実施例によれば、金属薄膜等をコーティングする
ことによる吸収材４６をフィルタ２８に設けているた
め、コーティング膜厚を非常に薄くすることができる。
よって、透過率分布の不連続部をビームが跨がっている
にも拘わらず、透過したビームの透過波面の位相差を抑
えることができ、ビームプロファイルを崩すことなく光
量分布を補正することができる。なお、製造工程上、透
過率分布の不連続部は０．５ｍｍ以下の短い区間で連続
的透過率となることがあるが、その場合においても光量
分布補正効果は十分に得られる。

【００４８】なお、本実施例では、フィルタ２８に塗布
される吸収材４６が正面視で矩形状とされているが、図
９に示される如く、正面視で台形状となるように吸収体
４８が塗布されたフィルタ５０を使用してもよい。この
場合、透過率分布の不連続部は走査方向に対して垂直で
はなく斜めに位置される。

【００４９】また、本実施例では、フィルタ２８の透過
率は二段階に設定されているが、三段階以上に透過率を
設定してもよい。例えば、図１０に示されるフィルタ５
２では、三箇所に透過率分布の不連続部が設定されてい
る。なお、このフィルタ５２では、走査方向に−３．６
ｍｍ、−２．５ｍｍ、＋４．０ｍｍの各位置に透過率分
布の不連続部が設定されており、各々の透過率は負側
（出射側）から順に９３．０％、６７．１％、４５．０
％、６７．１％とされている。この構成を得るための手
段としては、以下のものが考えられる。例えば、フィル
タ５２の一方の片面の走査方向−２．５ｍｍから＋４ｍ
ｍまでの範囲に透過率６７．１％の吸収体を塗布し、フ
ィルタ５２の他方の片面の走査方向−３．６ｍｍから正
側（入射側）全部に透過率６７．１％の吸収体を塗布す
る構成を採ってもよいし、フィルタ５２の一方の片面に
透過率６７．１％の吸収体をずらして二度塗布する構成
を採ってもよい。なお、前者の構成は、製造上最も造り
易いというメリットがある。

【００５０】上記構成に係るフィルタ５２を用いた場
合、感光体３２上での光量分布は、下記表３の如くとな
る。

【００５１】

【表３】

【００５２】上記表３から判るように、この例による場
合には、３％p-ｐの光量分布にすることができる。

【００５３】さらに、本実施例では、図６に示されるよ
うな透過率分布に設定されたフィルタ２８を用いたが、
これに限らず、透過率分布が光軸に対して非対称或いは
透過率分布が不連続であるようなフィルタであればよ
い。例えば、図１１（Ａ）、（Ｂ）に示される例はフィ
ルタの透過率分布が光軸に対して非対称な例であり、図
１１（Ａ）乃至（Ｃ）に示される例はフィルタの透過率
分布が不連続である例であり、これらのいずれを適用し
てもよいし、これら以外の透過率分布に設定されたフィ
ルタを用いてもよい。

【００５４】補足すると、図１１（Ｃ）に示される透過
率分布に設定されたフィルタは、偏向面２４Ａへの走査
方向入射角βが０°に設定されている場合に使用され
る。この場合、半導体レーザー波長を７８０ｎｍ、ｎ＝
１５、α＝±２１．６°、β＝０°、ｆ＝２８６．４８
ｍｍのオーバーフィルド光学系において、α＝０°の場
合の光量を１００％としたとき、偏向面反射直後のビー
ム幅Ｄは次式となる。

【００５５】Ｄ＝Ｆａ×cos （α／２）このため、Ｆナンバーの変化は走査方向に正負対称であ
り、走査角αが増えると光量が減る。但し、偏向面入射
光と出射光とは同一平面上にはない。よって、図１１
（Ｃ）に示される如く、透過率分布を不連続にすると共
に中央部の透過率を下げて両端部の透過率を上げれば光
量分布を改善することができる。特に、中央部の低透過
率部の幅をＦａと同一か又はそれ以上とすることにより
補正効果が現れる。

【００５６】また、本実施例では、フィルタ２８は固定
的に保持される構成を採ったが、これに限らず、フィル
タ２８を所望の方向（主走査方向、副走査方向どちらで
も可）へ移動可能に構成してもよい。この場合、フィル
タの設置位置がずれた場合や透過率分布の不連続部の精
度不良が生じた場合等に、フィルタを必要量移動させる
ことにより初期状態でのずれを解消することができる。
このため、このような場合においても、適切な光量補正
を行うことができるというメリットがある。

【００５７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る光学
走査装置は、オーバーフィルド光学系においてＦナンバ
ー変化による感光体上の光量分布の不均一を実用上問題
のないレベルに補正することができるという優れた効果
を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施例に係る光学走査装置の光学系の模式図
である。

【図２】本実施例に係る光学走査装置の全体構成を示す
斜視図である。

【図３】図１に示されるフィルタの斜視図である。

【図４】図３に示されるフィルタの４−４線断面図であ
る。

【図５】図３に示されるフィルタの正面図である。

【図６】図３に示されるフィルタのビームの透過率分布
を示す線図である。

【図７】本実施例に係るフィルタを透過したビームのビ
ームプロファイルを示す線図である。

【図８】（Ａ）〜（Ｃ）は走査角に応じた偏向面での切
取り部分を示すグラフである。

【図９】フィルタの変形例を示す図５に対応する正面図
である。

【図１０】フィルタの他の変形例を示す図５に対応する
正面図である。

【図１１】フィルタの他の変形例であり、使用し得る透
過率分布を例示的に示す図６に対応する線図である。

【図１２】従来のオーバーフィルド光学系の模式図であ
る。

【図１３】従来のフィルタを備えたオーバーフィルド光
学系の構成を示す概略構成図である。

【図１４】図１３に示される構成を用いた場合のフィル
タ透過後のビームプロファイルを示す線図である。

【符号の説明】

１０光学走査装置１４レーザーダイオードＡｓｓｙ（光源）２４ポリゴンミラー（偏向器）２４Ａ偏向面２８フィルタ３２感光体４６吸収材５０フィルタ５２フィルタ

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】光源と感光体との間に配置されると共に
周面に複数の偏向面を有し、光源からのビームを走査方
向の偏向面幅よりも広い範囲に受けて感光体上に偏向走
査させる偏向器を含んで構成される光学走査装置であっ
て、前記光源と前記偏向器との間に、Ｆナンバーの変化によ
る前記感光体上の光量分布の一様性が確保されるよう
に、透過率分布が光軸に対して非対称となりかつ透過率
分布の不連続部をビームが跨がるように金属薄膜をコー
ティングすることによって構成された吸収材を側面に有
する単一のフィルタを設置することで、ガウス強度分布
を基準にした場合のフィルタ透過後のビームプロファイ
ルの形状を、偏向器入射側で強度が減衰された形状とし
た、ことを特徴とする光学走査装置。
【請求項２】前記フィルタを、所定量移動可能に構成
した、ことを特徴とする請求項１に記載の光学走査装置。