TWI687613B - 粉末防護三向閥 - Google Patents
粉末防護三向閥 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI687613B TWI687613B TW107138688A TW107138688A TWI687613B TW I687613 B TWI687613 B TW I687613B TW 107138688 A TW107138688 A TW 107138688A TW 107138688 A TW107138688 A TW 107138688A TW I687613 B TWI687613 B TW I687613B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- nitrogen
- valve housing
- nitrogen gas
- powder
- way valve
- Prior art date
Links
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims abstract description 39
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 137
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 35
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 59
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 50
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims description 30
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 7
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 6
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 5
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 9
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 5
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N arsane Chemical compound [AsH3] RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 238000009417 prefabrication Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K11/00—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves
- F16K11/02—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit
- F16K11/08—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit comprising only taps or cocks
- F16K11/087—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit comprising only taps or cocks with spherical plug
- F16K11/0873—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit comprising only taps or cocks with spherical plug the plug being only rotatable around one spindle
- F16K11/0876—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit comprising only taps or cocks with spherical plug the plug being only rotatable around one spindle one connecting conduit having the same axis as the spindle
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K11/00—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves
- F16K11/02—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit
- F16K11/08—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit comprising only taps or cocks
- F16K11/087—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit comprising only taps or cocks with spherical plug
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K25/00—Details relating to contact between valve members and seats
- F16K25/02—Arrangements using fluid issuing from valve members or seats
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K27/00—Construction of housing; Use of materials therefor
- F16K27/06—Construction of housing; Use of materials therefor of taps or cocks
- F16K27/067—Construction of housing; Use of materials therefor of taps or cocks with spherical plugs
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Details Of Valves (AREA)
- Taps Or Cocks (AREA)
- Multiple-Way Valves (AREA)
Abstract
本發明涉及一種用於半導體或平板顯示製造裝置的粉末防護三向閥，在半導體及平板顯示製造裝置的排氣線中將加熱的氮氣以氣簾形態供給，通過防止粉末滲透至旋轉球和球座之間的問題，從而可無損傷地長時間使用，同時不將用於加熱並供給氮氣的部件設置為另外的獨立個體，而是緊湊地設置為一體，從而無需另外的設置空間。
Description
本發明涉及半導體或平板顯示製造裝置，尤其涉及一種粉末防護三向閥，其在半導體或平板顯示製造裝置的排氣線中將加熱的氮氣以氣簾形態供給，通過防止粉末滲透至旋轉球和球座（ball seat）之間的問題從而可無損傷地長時間使用，同時不將用於加熱並供給氮氣的部件設置為另外的獨立個體，而是緊湊地設置為一體，從而無需另外的設置空間。
一般地，半導體及平板顯示製造工藝大致包括前工藝（Fabrication process，製造工藝）和後工藝（Assembly process，組裝工藝），前工藝是指製造半導體晶片的工藝，在各種處理室（process Chamber）內將薄膜蒸鍍於晶片上，反復進行將已蒸鍍的薄膜有選擇地蝕刻的過程並加工特定的圖案；後工藝指的是將在所述前工藝製造的晶片逐個地分離後，和引線框架相結合並組裝成成品的工藝。
此時，在所述晶片上蒸鍍薄膜或蝕刻蒸鍍於晶片上的薄膜的工藝在處理室內使用矽烷、砷化氫、氯化硼等有害氣體和氫等的工藝氣體在高溫中進行，進行所述工藝期間，在處理室內部產生大量含有各種易燃性氣體和腐蝕性異物及有毒成分的反應副產物氣體。
在這樣的半導體及平板顯示生產線中，為了進行工藝而使用真空泵和氣體處理裝置即洗滌器，將連接真空泵和洗滌器的線叫做排氣線。在此排氣線中為了控制反應副產物氣體的方向，並且為了使得洗滌器的使用效率化還廣泛使用如圖1及圖2所示的三向閥。
所述三向閥包括：殼體10，其包括反應副產物氣體流入的流入口13和反應副產物氣體流出的多個流出口11、12；旋轉球20，其在所述殼體10內部隨著旋轉軸25的旋轉而旋轉，同時可控制反應副產物氣體的流動。
但是，在生成很多粉末的排氣線中使用的三向閥的情況，如果使用了一定的時間，則會有這樣的問題：反應副產物氣體或包含於反應副產物氣體的粉末滲透至旋轉球20和支撐旋轉球20的球座14之間A1的縫隙後累積，從而旋轉球20的運轉困難。尤其，通過形成於旋轉球20的2個流出孔中不和閥殼10的流出口11、12連通的非連通狀態流出孔向旋轉球20和球座14之間的縫隙滲透粉末的傾向強，因而需要解決這個問題的方案。
據此，本發明是為解決如上所述的現有的各種問題而提出的，本發明的目的在於，提供一種粉末防護三向閥，其在半導體及平板顯示製造裝備的排氣線中將加熱的氮氣以氣簾形態供給，通過防止向旋轉球和球座之間滲透粉末的問題從而可無損傷地長時間使用，並且不將用於加熱並供給氮氣的部件設置為另外的獨立個體，而是緊湊地設置為一體，從而無需另外的設置空間。
為達成上述目的，根據本發明的技術思想的粉末防護三向閥，其技術性構成上的特徵在於，包括：閥殼，其包括反應副產物氣體流入的流入口和使流入的反應副產物氣體向不同的方向流出的多個流出口；旋轉球，其設置為可在所述閥殼內部旋轉並控制反應副產物氣體的流動方向；氮氣供給部件，其從外部接受氮氣供給並通過導向流路引導流動，並將氮氣供給至所述閥殼內部，防止反應副產物氣體中包括的粉末在所述閥殼內部累積；發熱體，其設置於所述氮氣供給部件的內部，將經由所述氮氣供給部件的內部的氮氣加熱；所述氮氣供給部件由緊貼於所述閥殼的一側面的扁平的平板型主體構成，與所述閥殼結合為一體。
在此，所述氮氣的供給部件的導向流路形成為半徑逐漸變小的螺旋形的形狀，從而使通過所述發熱體進行加熱的時間增加。
此外，所述發熱體在所述氮氣供給部件內部設置於導向流路和隔壁之間，具有包含形成有所述導向流路的區域的寬度，氮氣沿著所述導向流路流動的期間實現持續的加熱。
此外，所述氮氣供給部件設置有筒狹縫，筒狹縫在氮氣供給部件內部設置於所述導向流路和隔壁之間，以包含形成有所述導向流路的區域的寬度形成，具有向所述供給部件本體的周圍面中一側周圍面開放的引入口，所述發熱體是通過所述筒狹縫的開放的引入口插入並安裝於所述筒狹縫的薄板型的可拆卸式面狀發熱體。
此外，所述發熱體設置為插入於所述狹縫的四角板狀的形態，設置有從周圍端部開放並延長到中央部的干涉回避槽，安裝於所述氮氣供給部件的筒狹縫時，可避免和形成於所述導向流路的中央部的氮氣噴射部相干涉。
此外，所述旋轉球設置有流入孔和多個流出孔，在所述閥殼內部控制反應副產物氣體的流動，所述流入孔與所述閥殼的流入口對應並時常連通，所述多個流出孔與所述閥殼的多個流出口對應並根據旋轉方向有選擇地與多個流出口中某一個連通，多個流出孔中和所述閥殼的流出口非連通狀態的流出孔設置為面向所述閥殼的一側面，所述氮氣供給部件引導氮氣的流動，使氮氣通過所述旋轉球的多個流出孔中面向所述閥殼的一側面的非連通狀態流出孔，從而使得通過非連通狀態流出孔的氮氣起到氣簾作用，阻斷反應副產物氣體中包含的粉末向位於非連通狀態流出孔的周圍部附近的所述閥殼的球座和所述旋轉球之間的縫隙滲透。
此外，在所述閥殼的一側壁形成有與所述旋轉球的非連通狀態流出孔對應的圓形的開口部，在所述圓形的開口部設置有導盤（guide disc），在和所述圓形的開口部內周面之間形成有縫隙，從所述氮氣供給部件噴射的氮氣在接觸所述導盤的前側面後分散，沿著所述導盤的周圍部流動為圓管型的氣簾形態的同時可以通過所述旋轉球的非連通狀態流出孔。
此外，還設置有氣體均一分散部，氣體均一分散部在所述導盤的前側面中央突出為圓錐形，接觸從所述氮氣供給部件噴射的氮氣並使氮氣均一地向周邊分散。
根據本發明的粉末防護三向閥，在半導體或平板顯示製造裝置的排氣線中將加熱的氮氣以氣簾形態供給，通過防止向旋轉球和球座之間滲透粉末的問題從而可無損傷地長時間使用。
此外，本發明不將用於加熱並供給氮氣的部件設置為另外的獨立個體，而是具有平板型的主體並緊湊地設置為一體，從而無需另外的設置空間。
參照附圖對根據本發明的實施例的粉末防護三向閥進行詳細說明。本發明可增加多種變形和具備各種形態，以附圖為例對特定實施例在本文中進行詳細說明。但是這並不是要將本發明限定於特定公開的形態，應理解為包含包括於本發明的思想及技術範圍的所有變形、均等物乃至代替物。說明各附圖的同時對於類似的構成要素使用了類似的參考標號。在附圖中，為了做到本發明的明確性，構造物的尺寸比實際擴大示出，或為了理解概略性的構成比實際縮小示出。
此外，第一及第二等的用語可在說明大量的構成要素時使用，但所述構成要素不可限定於所述用語。所述用語僅作為將一個構成要素與其他構成要素進行區別的目的使用。例如，不脫離本發明的權利範圍的同時第一構成要素可以命名為第二構成要素，類似地，第二構成要素也可以命名為第一構成要素。另外，無其他的定義時，包括技術性或科學性術語在內、在此使用的所有術語具有與在本發明所屬的技術領域內具備一般知識的技術人員一般所理解的意義相同的意義。與通常使用的詞典中的定義相同的術語應解釋為具有和相關技術的文脈上所具有的意義一致的意義，只要在本申請中未明確地定義，就不理想地或過度地解釋為形式性的意義。
圖3是根據本發明的實施例的粉末防護三向閥的立體圖，圖4是根據本發明的實施例的粉末防護三向閥的側面圖，圖5是用於說明在根據本發明的實施例的粉末防護三向閥中發熱體的可拆卸式構成的部分分解立體圖，圖6及圖7是據本發明的實施例的粉末防護三向閥的縱斷面圖，圖8是用於說明在根據本發明的實施例的粉末防護三向閥中氮氣的內部流向的參考截面圖，圖9是用於說明在根據本發明的實施例的粉末防護三向閥中通過導盤形成的氮氣的氣簾形狀的參考圖。
如圖所示，根據本發明的實施例的粉末防護三向閥，包括閥殼110、旋轉球120、驅動器130，還包括氮氣供給部件140、發熱體150及導盤160作為主要構成要素，所述氮氣供給部件140將氮氣加熱至高溫並供給至閥殼110內部。
像這樣本發明還追加設置有氮氣供給部件140、發熱體150及導盤160的構成，從而通過將加熱的氮氣與反應副產物氣體混合，不僅使反應副產物氣體無法固化，還在供給氮氣時起到氣簾的作用，從而可以阻斷向旋轉球120和閥殼110的球座之間滲透粉末，這些構成要素不設置為另外的獨立個體，而是在閥殼110的一側面具有平板形狀並設置為一體型的獨特構成，據此可實現無需另外的設置空間的緊湊的產品。
以下，以上述各構成要素為中心對根據本發明的實施例的粉末防護三向閥進行詳細地說明。
所述閥殼110設置有容納旋轉球120的內部空間，以所述內部空間為中心設置有流入反應副產物氣體的流入口111和使得流入的反應副產物氣體向不同方向流出的多個流出口112、113。並且，在所述流入口和流出口112、113設置有用於分別和其他配管連接的法蘭。在此，在所述閥殼110的壁體內側設置有可旋轉支持旋轉球120的球座。並且，在所述閥殼110的壁體中一側壁以和所述旋轉球120的非連通狀態流出孔122相對應的形式設置有圓形的開口部114。所述圓形的開口部114為將從所述氮氣供給部件140供給的氮氣接收至閥殼110內部的通路。
所述旋轉球120在閥殼110內部空間以可旋轉的形式設置，起到控制反應副產物氣體的流動方向的作用。為此，所述旋轉球120包括：一個流入孔121，其時常維持和閥殼110的流入口111連通的狀態；多個流出孔122，其與設置於閥殼110的多個流出口112、113相對應，根據旋轉方向與所述多個流出口112、113中的某一個有選擇地進行連通。由此，所述旋轉球120和驅動器130的旋轉軸131連接並旋轉，根據其旋轉角度發揮有選擇地阻斷和開放形成於閥殼110的多個流出口112、113中的某一個的作用，從而控制反應副產物氣體的流動方向。由於如上所述的旋轉球120和公知的現有技術大同小異，因此省略其詳細說明。但是，包含於根據本發明的實施例的粉末防護三向閥的旋轉球120的情況，幾乎沒有固化的粉末滲透至旋轉球120和閥殼110的球座之間並累積，從而產生受損傷或不可運轉狀態的問題。這是因為，從所述氮氣供給部件140流入閥殼110內部的高溫的氮氣通過旋轉球120的流出孔122中非連通狀態流出孔122並流入，從而在所述非連通狀態流出孔122起到阻斷反應副產物氣體的粉末滲透至旋轉球120和球座之間的縫隙的氣簾作用。對此稍後進行詳細地說明。
所述氮氣供給部件140起到從外部接收氮氣供給並引導流向內部的作用。為此，所述氮氣供給部件140包括引導氮氣的流向的導向流路141，所述導向流路141如圖所示設置為逐漸地縮小半徑的螺旋形的形狀。如此，如果所述氮氣供給部件140設置有螺旋形的導向流路141，則可最大限度延長氮氣被發熱體150加熱的時間從而可提高加熱效率。在此，在位於螺旋形導向流路141的周圍部的端部設置有和外部移送管連接並接收氮氣供給的流入部141a，在位於導向流路141的中央部的端部設置有噴射部141b，噴射部141b將氮氣通過旋轉球120的非連通狀態流出孔122向閥殼110內部噴射。
在此可以注意的點是，所述氮氣供給部件140通過導向流路141將氮氣供給至閥殼110內部時通過所述旋轉球120的非連通狀態流出孔122進行供給。由此，在旋轉球120的非連通狀態流出孔122位於的地點，通過非連通狀態流出孔122的氮氣阻斷反應副產物氣體集中地向閥殼110的球座和旋轉球120之間的縫隙滲透的傾向。此時，通過旋轉球120的非連通狀態流出孔122的氮氣起到氣簾的作用，阻斷反應副產物氣體向閥殼110的球座和旋轉球120之間的縫隙滲透。
而且，使這樣的氮氣的氣簾作用極大化的是所述導盤160。如圖6所示，所述導盤160在所述閥殼110的一側壁設置於和旋轉球120的非連通狀態流出孔122相對應而形成的圓形的開口部114。此時，所述導盤160設置為比與所述圓形的開口部114完全符合的大小稍小的尺寸，所述圓形的開口部114內周面和所述導盤160的外周面之間形成有微小的縫隙。由此，如圖8及圖9所示，從所述氮氣供給部件140噴射的氮氣在與所述導盤160的前側面接觸後得以分散，沿著所述導盤160的周圍部流動為圓管形的氣簾形態，同時沿著所述旋轉球120的非連通狀態流出孔122周圍部得以通過。在此，還設置有氣體均一分散部161，氣體均一分散部161起到的作用為，在所述導盤160的前側面中央突出為圓錐形，接觸從氮氣供給部件140噴射的氮氣並使其均一地向周邊分散。根據設置有這樣的導盤160的構成，氮氣具有更強的流速並以圓管型的形態沿著旋轉球120的非連通狀態流出孔122周圍部得以流動，從而強力地阻斷要向閥殼110的球座和旋轉球120之間的縫隙滲透的反應副產物氣體。
所述發熱體150設置於所述氮氣供給部件140內部，起到將經由氮氣供給部件140的內部的氮氣加熱的作用。為此，所述發熱體150在氮氣供給部件140內部設置於導向流路141和隔壁之間，設置為具有包括形成有所述導向流路141的區域的全部的寬度的四角板狀的形態。並且，所述發熱體150設置有從周圍端部開放並延長到中央部的干涉回避槽151，可避免和形成於所述導向流路141的中央部的氮氣噴射部141b相干涉。具有這樣的構成的所述發熱體150在氮氣沿著螺旋形的導向流路141流動的期間可持續地加熱氮氣。
此外，如圖6所示，所述發熱體150設置為薄板形的可拆卸式面狀發熱體，可使氮氣供給部件140的厚度最小化，同時使氮氣供給部件140的安裝及替換便利。設置有筒狹縫142，其與所述發熱體150的可拆卸式構成相對應，在所述氮氣供給部件140內部設置於所述導向流路141和隔壁之間，具有包含形成有所述導向流路141的區域的寬度，並具有向所述供給部件140本體的周圍面中一側周圍面開放的引入口。由此，薄板型的可拆卸式發熱體150通過筒狹縫142的開放的引入口插入於所述筒狹縫142並安裝。作為參考，如圖5所示，優選地，設置有狹縫蓋143，其以安裝有發熱體150的狀態覆蓋筒狹縫142的引入口。
以上說明了本發明的優選實施例，但本發明可使用多樣的變化和變更及均等物。本發明可對所述實施例適當地變更並相同地應用。因此，上述記載內容不限定根據下述權利要求書的界限決定的本發明的範圍。
先前技術：
10‧‧‧殼體
11、12‧‧‧流出口
13‧‧‧流入口
14‧‧‧球座
20‧‧‧旋轉球
25‧‧‧旋轉軸
A1‧‧‧縫隙
本發明：
110‧‧‧閥殼
111‧‧‧流入口
112、113‧‧‧流出口
114‧‧‧開口部
120‧‧‧旋轉球
121‧‧‧流入孔
122‧‧‧流出孔
130‧‧‧驅動器
131‧‧‧旋轉軸
140‧‧‧氮氣供給部件
141‧‧‧導向流路
141a‧‧‧流入部
141b‧‧‧噴射部
142‧‧‧筒狹縫
143‧‧‧狹縫蓋
150‧‧‧發熱體
151‧‧‧干涉回避槽
160‧‧‧導盤
161‧‧‧氣體均一分散部
圖1及圖2是用於說明根據先前技術的三向閥的參考圖。 圖3是根據本發明的實施例的粉末防護三向閥的立體圖。 圖4是根據本發明的實施例的粉末防護三向閥的側面圖。 圖5是用於說明在根據本發明的實施例的粉末防護三向閥中發熱體的可拆卸式構成的部分分解立體圖。 圖6及圖7是據本發明的實施例的粉末防護三向閥的縱斷面圖。 圖8是用於說明在根據本發明的實施例的粉末防護三向閥中氮氣的內部流向的參考截面圖。 圖9是用於說明在根據本發明的實施例的粉末防護三向閥中通過導盤形成的氮氣的氣簾形狀的參考圖。
110‧‧‧閥殼
112、113‧‧‧流出口
130‧‧‧驅動器
140‧‧‧氮氣供給部件
141‧‧‧導向流路
141a‧‧‧流入部
Claims (8)
- 一種粉末防護三向閥，其設置於一半導體或平板顯示製造裝置的一線路中，用於控制混合有一粉末的一反應副產物氣體的流動，所述粉末防護三向閥的特徵在於，包括：一閥殼，其包括所述反應副產物氣體流入的一流入口和使流入的所述反應副產物氣體向不同的方向流出的多個流出口；一旋轉球，其設置為可在所述閥殼內部旋轉並控制所述反應副產物氣體的一流動方向；一氮氣供給部件，其從外部接受一氮氣供給並通過一導向流路引導流動，同時將所述氮氣供給至所述閥殼內部，防止所述反應副產物氣體中包括的所述粉末在所述閥殼內部累積；一發熱體，其設置於所述氮氣供給部件的內部，將經由所述氮氣供給部件的內部的所述氮氣加熱；所述氮氣供給部件由緊貼於所述閥殼的一側面的扁平的一平板型主體構成，與所述閥殼結合為一體。
- 如申請專利範圍第1項所述之粉末防護三向閥，其中所述氮氣供給部件的所述導向流路形成為半徑逐漸變小的螺旋形的形狀，從而使通過所述發熱體進行加熱的時間增加。
- 如申請專利範圍第2項所述之粉末防護三向閥，其中所述發熱體在所述氮氣供給部件內部設置於所述導向流路和一 隔壁之間，具有包含形成有所述導向流路的區域的一寬度，所述氮氣沿著所述導向流路流動的期間實現持續地進行加熱。
- 如申請專利範圍第2項所述之粉末防護三向閥，其中所述氮氣供給部件設置有一筒狹縫，所述筒狹縫在所述氮氣供給部件內部設置於所述導向流路和一隔壁之間，以包含形成有所述導向流路的區域的一寬度形成，具有向所述氮氣供給部件本體的周圍面中一側周圍面開放的一引入口，所述發熱體是通過所述筒狹縫的開放的所述引入口插入並安裝於所述筒狹縫的薄板型的可拆卸式面狀發熱體。
- 如申請專利範圍第4項所述之粉末防護三向閥，其中所述發熱體形成為插入於所述狹縫的四角板狀的形態，設置有從周圍端部開放並延長到中央部的一干涉回避槽，安裝於所述氮氣供給部件的所述筒狹縫時，可避免和形成於所述導向流路的中央部的一氮氣噴射部相干涉。
- 如申請專利範圍第1項所述之粉末防護三向閥，其中所述旋轉球設置有一流入孔和多個流出孔，在所述閥殼內部控制所述反應副產物氣體的流動，所述流入孔與所述閥殼的所述流入口對應並時常連通，所述多個流出孔與所述閥殼的所述多個流出 口對應並根據旋轉方向有選擇地與所述多個流出口中某一個連通，所述多個流出孔中和所述閥殼的所述流出口非連通狀態的所述流出孔設置為朝向所述閥殼的一側面，所述氮氣供給部件引導所述氮氣的流動，使所述氮氣通過所述旋轉球的所述多個流出孔中朝向所述閥殼的一側面的非連通狀態的所述流出孔，從而使得通過非連通狀態的所述流出孔的所述氮氣發揮氣簾的作用，阻斷所述反應副產物氣體中包括的所述粉末向位於非連通狀態的所述流出孔的周圍部附近的所述閥殼的球座和所述旋轉球之間的縫隙滲透。
- 如申請專利範圍第6項所述之粉末防護三向閥，其中在所述閥殼的一側壁形成有和所述旋轉球的非連通狀態的所述流出孔對應的圓形的一開口部，在所述圓形的所述開口部設置有一導盤，在和所述圓形的所述開口部內周面之間形成有縫隙，從所述氮氣供給部件噴射的所述氮氣在接觸所述導盤的前側面後分散，沿著所述導盤的周圍部流動為圓管型的氣簾形態的同時可以通過所述旋轉球的非連通狀態的所述流出孔。
- 如申請專利範圍第7項所述之粉末防護三向閥，還設置有一氣體均一分散部，所述氣體均一分散部在所述導盤的前側 面中央突出為圓錐形，接觸從所述氮氣供給部件噴射的所述氮氣並使所述氮氣均一地向周邊分散。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020170156637A KR101828427B1 (ko) | 2017-11-22 | 2017-11-22 | 파우더 프로텍팅 3웨이 밸브 |
| KR10-2017-0156637 | 2017-11-22 | ||
| ??10-2017-0156637 | 2017-11-22 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201925661A TW201925661A (zh) | 2019-07-01 |
| TWI687613B true TWI687613B (zh) | 2020-03-11 |
Family
ID=61907082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW107138688A TWI687613B (zh) | 2017-11-22 | 2018-10-31 | 粉末防護三向閥 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11322369B2 (zh) |
| JP (1) | JP6921453B2 (zh) |
| KR (1) | KR101828427B1 (zh) |
| CN (1) | CN111357093B (zh) |
| TW (1) | TWI687613B (zh) |
| WO (1) | WO2019103298A1 (zh) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102161842B1 (ko) | 2019-05-29 | 2020-10-05 | 주식회사 다원물산 | 배기 디파우더 모듈의 삼방향 밸브 가열장치 |
| KR20220002414U (ko) | 2021-04-01 | 2022-10-11 | (주)지에스티산업 | 밸브 |
| JP7384886B2 (ja) * | 2021-12-09 | 2023-11-21 | 大陽日酸株式会社 | 三方弁、排ガス処理装置及び排ガス処理システム並びに排ガス処理方法 |
| KR102601158B1 (ko) * | 2023-03-09 | 2023-11-13 | 주식회사 에이오테크 | 원통형 발열체를 구비한 파우더 프로텍팅 3웨이 밸브 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100324808B1 (ko) * | 1999-04-02 | 2002-02-20 | 이선영 | 폐기가스 처리장치의 3웨이 밸브 |
| US20100327196A1 (en) * | 2009-06-30 | 2010-12-30 | Tejas Research And Engineering, Lp | Purging Mechanism for a Hemi-Wedge Valve |
| TW201530026A (zh) * | 2013-11-08 | 2015-08-01 | Mks Instr Inc | 在節流閥中之粉末及沉積控制 |
Family Cites Families (35)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2661926A (en) * | 1950-08-10 | 1953-12-08 | Parker Appliance Co | Rotary plug type valve |
| US3100499A (en) * | 1961-07-21 | 1963-08-13 | Gen Dynamics Corp | Valve |
| US3345032A (en) * | 1964-11-10 | 1967-10-03 | Jamesbury Corp | Three-way ball valve |
| US3605789A (en) * | 1970-05-04 | 1971-09-20 | Grove Valve & Regulator Co | Valve flushing system |
| US3735956A (en) * | 1972-04-10 | 1973-05-29 | Whitey Research Tool Co | Ball valve and improved seat arrangement |
| JPS53134140U (zh) * | 1977-03-30 | 1978-10-24 | ||
| DE2717840A1 (de) * | 1977-04-22 | 1978-10-26 | Concordia Fluidtechnik Gmbh | Durchflussventil |
| US4304252A (en) * | 1979-10-22 | 1981-12-08 | Stanton Raymond E | Flush mounted sea valve |
| US4572239A (en) * | 1981-08-28 | 1986-02-25 | Whitey Co. | High pressure ball valve |
| DE3526258A1 (de) * | 1985-07-23 | 1987-01-29 | Ruhrgas Ag | Absperrarmatur in form eines kugelhahnes |
| US4685488A (en) * | 1986-02-07 | 1987-08-11 | Whitey Co. | Ball valve |
| DE3622339A1 (de) * | 1986-07-03 | 1988-01-07 | Pfeiffer Vakuumtechnik | Einrichtung zum verteilen eines heissen gasstromes |
| JP3274895B2 (ja) * | 1992-12-02 | 2002-04-15 | ミリポア・コーポレイション | スロットルバルブ |
| KR0174086B1 (ko) * | 1995-12-22 | 1999-04-01 | 김광호 | 반도체소자 제조용 공정장치의 개폐밸브 |
| KR970052765U (ko) * | 1996-02-28 | 1997-09-08 | 음극선관용 녹색형광체 소성수단 | |
| JPH09280390A (ja) * | 1996-04-12 | 1997-10-28 | Asahi Organic Chem Ind Co Ltd | 三方ボールバルブ |
| US5842683A (en) * | 1997-04-07 | 1998-12-01 | Upsoon Industrial Co., Ltd. | Structure of a ball valve especially used in food processing |
| US6578598B2 (en) * | 2001-10-05 | 2003-06-17 | J.V.P. Inc. | Valve having an inner washing structure |
| EP1504208A2 (en) * | 2002-05-01 | 2005-02-09 | Dahl Brothers Canada Limited | Field configurable shut-off valve |
| EP1640647A3 (en) * | 2002-07-05 | 2006-04-12 | Rohm and Haas Company | Valve mounting assembly |
| JP4187599B2 (ja) * | 2003-07-03 | 2008-11-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 減圧処理装置及び減圧処理方法並びに圧力調整バルブ |
| JP2006303414A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-11-02 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理システム |
| JP4517924B2 (ja) * | 2005-04-04 | 2010-08-04 | Ｓｍｃ株式会社 | 真空調圧バルブ |
| CN101107467A (zh) * | 2005-06-10 | 2008-01-16 | 东京毅力科创株式会社 | 阀芯、阀、转换阀和收集装置 |
| JP2009514207A (ja) * | 2005-11-01 | 2009-04-02 | スン， ヤン リー， | 廃棄ガス誘導装置 |
| DE102005057674B4 (de) * | 2005-12-01 | 2008-05-08 | Alstom Technology Ltd. | Abhitzekessel |
| KR101071937B1 (ko) * | 2009-08-10 | 2011-10-11 | 이승룡 | 질소가스 분사장치 |
| KR101196807B1 (ko) * | 2009-10-22 | 2012-11-06 | 한국에너지기술연구원 | 3웨이 고온밸브 |
| DE102010006861A1 (de) * | 2010-02-04 | 2011-08-04 | Jäger, Anton, 89250 | Reinigungsvorrichtung |
| KR101213780B1 (ko) * | 2011-01-04 | 2012-12-18 | 아딕센진공코리아 유한회사 | 에너지 절약형 사일런서 어셈블리와 이를 구비한 반도체 제조용 진공펌프 및 질소가스의 가열방법 |
| DE102012208243A1 (de) * | 2012-05-16 | 2013-11-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Absperrventil mit Heizelement, insbesondere für ein Schienenfahrzeug |
| CN103018067B (zh) * | 2012-12-05 | 2015-09-16 | 广州高澜节能技术股份有限公司 | 换流阀器件冷却试验系统 |
| CN203880143U (zh) * | 2014-05-23 | 2014-10-15 | 长沙新奥燃气有限公司 | 燃气专用t型三通阀门 |
| CN104455545B (zh) * | 2014-11-28 | 2016-09-14 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | 自切换t型三通接头及卡夹清洗干燥装置 |
| ES2785925T3 (es) * | 2015-02-18 | 2020-10-08 | Velan Inc | Válvula esférica multipuerto con flujo inducido en la cavidad de cuerpo de bola |
-
2017
- 2017-11-22 KR KR1020170156637A patent/KR101828427B1/ko active IP Right Grant
-
2018
- 2018-09-19 JP JP2020545021A patent/JP6921453B2/ja active Active
- 2018-09-19 WO PCT/KR2018/011041 patent/WO2019103298A1/ko active Application Filing
- 2018-09-19 US US16/765,073 patent/US11322369B2/en active Active
- 2018-09-19 CN CN201880074380.XA patent/CN111357093B/zh active Active
- 2018-10-31 TW TW107138688A patent/TWI687613B/zh active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100324808B1 (ko) * | 1999-04-02 | 2002-02-20 | 이선영 | 폐기가스 처리장치의 3웨이 밸브 |
| US20100327196A1 (en) * | 2009-06-30 | 2010-12-30 | Tejas Research And Engineering, Lp | Purging Mechanism for a Hemi-Wedge Valve |
| TW201530026A (zh) * | 2013-11-08 | 2015-08-01 | Mks Instr Inc | 在節流閥中之粉末及沉積控制 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2019103298A1 (ko) | 2019-05-31 |
| CN111357093B (zh) | 2023-04-07 |
| JP2021503586A (ja) | 2021-02-12 |
| US20210366733A1 (en) | 2021-11-25 |
| JP6921453B2 (ja) | 2021-08-18 |
| CN111357093A (zh) | 2020-06-30 |
| KR101828427B1 (ko) | 2018-03-29 |
| US11322369B2 (en) | 2022-05-03 |
| TW201925661A (zh) | 2019-07-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI687613B (zh) | 粉末防護三向閥 | |
| US9587310B2 (en) | Lid assembly for a processing system to facilitate sequential deposition techniques | |
| US8985152B2 (en) | Point of use valve manifold for semiconductor fabrication equipment | |
| JP7407867B2 (ja) | 改良型の半角ノズル | |
| US11268193B2 (en) | Gas injection apparatus with heating channels | |
| TW201526992A (zh) | 多充氣部雙溫度噴淋頭 | |
| WO2010006279A2 (en) | Chamber components for cvd applications | |
| CN104919230B (zh) | 流体控制阀 | |
| KR20010014648A (ko) | 일체형 온도제어형 배기 및 저온트랩 어셈블리 | |
| US20120319028A1 (en) | Fluid control valve assembly | |
| TWI437622B (zh) | 氣體噴灑模組 | |
| TW202231910A (zh) | 新穎且有效的均質化氣流混合設計 | |
| CN113862643A (zh) | 原子层沉积装置及其匀流机构 | |
| JP2008540960A (ja) | 高エネルギで且つ高温度のガス用の隔離弁 | |
| KR101938279B1 (ko) | 파우더 프로텍팅 다방향 밸브 | |
| KR20190056221A (ko) | 압력 조절 밸브 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 | |
| JP2018093148A (ja) | 給排気構造 | |
| KR20200071390A (ko) | 기판처리장치 및 이를 이용한 기판처리방법 | |
| US20240142006A1 (en) | Valve device and hot water supply device | |
| CN215947405U (zh) | 颗粒涂布装置 | |
| KR101621377B1 (ko) | 가스공급장치 및 이를 구비하는 대면적 원자층 증착장치 | |
| WO2020230360A1 (ja) | 真空処理装置用のキャンローラ | |
| KR20070022453A (ko) | 화학 기상 증착 장치 | |
| CN114107953A (zh) | 原子层沉积装置及其喷淋板 | |
| KR20140021447A (ko) | 파우더 공급 장치 |