JP6921453B2 - パウダープロテクティング3ウェイバルブ - Google Patents

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Description

本発明は、半導体または平板ディスプレー製造装置に関するものであって、特に、半導体および平板ディスプレー製造装備の排気ラインで加熱された窒素ガスをエアカーテンの形で供給し、回転ボールとボールシートとの間にパウダーが浸透する問題を防止することにより、損傷なしに長期間使用できるようにしながらも、窒素ガスを加熱して供給するための部材が別の独立した個体として備えられる代わりに、一体型としてコンパクトに備えられ、別の設置空間を必要としないパウダープロテクティング3ウェイバルブに関する。
一般的に、半導体および平板ディスプレー製造工程は、大きく前工程(Fabrication工程)と後工程(Assembly工程)で行われ、前工程とは、各種プロセスチャンバー(Chamber)内でウエハー(Wafer)上に薄膜を蒸着し、蒸着された薄膜を選択的に食刻する過程を繰り返し行って特定のパターンを加工することによっていわゆる、半導体チップ(Chip)を製造する工程を言い、後工程とは、前記前工程で製造されたチップを個別的に分離した後、リードフレームと結合して完成品に組立てる工程を言う。
このとき、前記ウエハー上に薄膜を蒸着するか、またはウエハー上に蒸着された薄膜を食刻する工程は、プロセスチャンバー内でシラン(Silane)、アルシン(Arsine)および塩化ホウ素などの有害ガスと水素などのプロセスガスを使用して高温で行われ、前記工程が進行される間に、プロセスチャンバー内部には、各種発火性ガスと腐食性異物および有毒成分を含有する反応副産物ガスが多量に発生する。
このような半導体および平板ディスプレー生産ラインでは、工程を進行するために真空ポンプとガス処理装置であるスクラバーを使用しているが、真空ポンプとスクラバーを連結するラインを排気ラインと呼ぶ。この排気ラインで反応副産物ガスの方向を制御しつつ、スクラバーの使用を効率化するために図1および図2に示された3ウェイバルブを広く使用している。
前記3ウェイバルブは、反応副産物ガスが流入する流入口13と反応副産物ガスが流出する複数の流出口11、12を備えるケーシング10と、そのケーシング10の内部に回転軸25の回転によって回転しながら、反応副産物ガスの流れを制御できるようにする回転ボール20が備えられる。
しかし、パウダーが多く生成される排気ラインで使用される3ウェイバルブの場合は、一定期間使用すれば、反応副産物ガスに含まれたパウダーが回転ボール20と回転ボール20を支持するボールシート14との間A1のすきまに浸透した後に、累積して回転ボール20の作動を困難にする問題点があった。特に、回転ボール20に形成された2つの流出孔のうち、バルブケーシング10の流出口11、12と連通しない非連通状態の流出孔を介して回転ボール20とボールシート14との間のすきまにパウダーが浸透する傾向が強く、この問題を解消する方案が必要であった。
これに、本発明は、前記のような従来の諸般の問題点を解消するために提案されたものであって、本発明の目的は、半導体および平板ディスプレー製造装備の排気ラインで加熱された窒素ガスをエアカーテンの形で供給し、回転ボールとボールシートとの間にパウダーが浸透する問題を防止することにより、損傷なしに長期間使用できるようにしながらも、窒素ガスを加熱して供給するための部材が別の独立した個体として備えられる代わりに、一体型としてコンパクトに備えられ、別の設置空間を必要としないようにしたパウダープロテクティング3ウェイバルブを提供することにある。
前記のような目的を達成するために、本発明の技術的思想によるパウダープロテクティング3ウェイバルブは、反応副産物ガスが流入する流入口と流入した反応副産物ガスを互いに異なる方向に流出させる複数の流出口を備えたバルブケーシングと、前記バルブケーシングの内部に回転できるように設置され、反応副産物ガスの流れ方向を制御する回転ボールと、外部から窒素ガスの供給を受けてガイド流路によって流れを案内しつつ、前記バルブケーシングの内部に窒素ガスを供給し、前記バルブケーシングの内部で反応副産物ガスに含まれたパウダーが累積することを防止する窒素ガス供給部材と、前記窒素ガス供給部材の内部に設置され、前記窒素ガス供給部材の内部を経由する窒素ガスを加熱する発熱体と、を含み、前記窒素ガス供給部材は、前記バルブケーシングの一側面に密着する平たい平板型のボディーからなり、前記バルブケーシングに対して一体に結合されることをその技術的構成上の特徴とする。
ここで、前記窒素ガス供給部材のガイド流路は、漸進的に半径を狭めていく螺旋状に形成され、前記発熱体によって加熱される時間を増加させることを特徴とする。
また、前記発熱体は、前記窒素ガス供給部材の内部で前記ガイド流路と隔壁を間に置いて設置されるが、前記ガイド流路が形成された領域を含む幅を有するものとして備えられ、窒素ガスが前記ガイド流路に沿って流れる間に、持続的に加熱が行われるようにすることを特徴とする。
また、前記窒素ガス供給部材は、その内部で前記ガイド流路と隔壁を間に置いて形成されるが、前記ガイド流路が形成された領域を含む幅に形成され、前記供給部材の本体の周面のうち、一側の周面に開放された引込口を有するカートリッジスリットを備え、前記発熱体は、前記カートリッジスリットの開放された引込口を介して前記カートリッジスリットに挿入されて装着される薄板型の着脱式面状発熱体であることを特徴とする。
また、前記発熱体は、前記スリットに挿入される四角板状型の形態に形成され、周りの端部から開放されて中央部まで延長された干渉回避溝を備え、前記窒素ガス供給部材のカートリッジスリットに装着されるときに、前記ガイド流路の中央部に形成された窒素ガス噴射部との干渉を避けるようにすることを特徴とする。
また、前記回転ボールは、前記バルブケーシングの流入口に対応して常時連通している流入孔と、前記バルブケーシングの複数の流出口に対応して回転方向によって複数の流出口のうち、いずれか1つに選択的に連通する複数の流出孔を備え、前記バルブケーシングの内部で反応副産物ガスの流れを制御するが、複数の流出孔のうち、前記バルブケーシングの流出口と非連通状態の流出孔が前記バルブケーシングの一側面に向かうように形成され、前記窒素ガス供給部材は、前記回転ボールの複数の流出孔のうち、前記バルブケーシングの一側面に向かう非連通状態の流出孔を通過するように窒素ガスの流れを案内することにより、非連通状態の流出孔を通過する窒素ガスが非連通状態の流出孔の周部の付近に位置する前記バルブケーシングのボールシートと前記回転ボールとの間のすきまに反応副産物ガスに含まれたパウダーが浸透することを遮断するエアカーテンの役割をすることを特徴とする。
また、前記バルブケーシングの一側壁には、前記回転ボールの非連通状態の流出孔と対応する円形の開口部が形成され、前記円形の開口部には、ガイドディスクが設置されるが、前記円形の開口部の内周面との間にすきまを形成するように設置され、前記窒素ガス供給部材から噴射される窒素ガスが前記ガイドディスクの前側面に接触した後に分散し、前記ガイドディスクの周部に沿って円管型のエアカーテンの形で流れながら、前記回転ボールの非連通状態の流出孔を通過できるようにすることを特徴とする。
また、前記ガイドディスクは、前側面の中央には円錐型に突出して前記窒素ガス供給部材から噴射される窒素ガスに接触し、周辺に均一に分散させるガス均一分散部がさらに形成されることを特徴とする。
本発明によるパウダープロテクティング3ウェイバルブは、半導体および平板ディスプレー製造装備の排気ラインで加熱された窒素ガスをエアカーテンの形で供給し、回転ボールとボールシートとの間にパウダーが浸透する問題を防止することにより、損傷なしに長期間の使用が可能である。
また、本発明は、窒素ガスを加熱して供給するための部材が別の独立した個体として備えられる代わりに、平板型のボディーを有し、一体型にコンパクトに備えられ、別の設置空間を必要としない。
従来技術による3ウェイバルブを説明するための参照図。 従来技術による3ウェイバルブを説明するための参照図。 本発明の実施例によるパウダープロテクティング3ウェイバルブの斜視図。 本発明の実施例によるパウダープロテクティング3ウェイバルブの側面図。 本発明の実施例によるパウダープロテクティング3ウェイバルブで発熱体の着脱式構成を説明するための部分分解斜視図。 本発明の実施例によるパウダープロテクティング3ウェイバルブの縦断面図。 本発明の実施例によるパウダープロテクティング3ウェイバルブの縦断面図。 本発明の実施例によるパウダープロテクティング3ウェイバルブで窒素ガスの内部の流れを説明するための参照断面図。 本発明の実施例によるパウダープロテクティング3ウェイバルブでガイドディスクによって形成される窒素ガスのエアカーテン形状を説明するための参照図。
110 バルブケーシング
120 回転ボール
130 アクチュエータ
140 窒素ガス供給部材
150 発熱体
160 ガイドディスク
添付した図面を参照して本発明の実施例によるパウダープロテクティング3ウェイバルブについて具体的に説明する。本発明は、様々な変更を加えることができ、様々な形態を有し得るため、特定の実施例を図面に例示して本文に具体的に説明しようとする。しかし、これは本発明を特定の開示形態について限定するものではなく、本発明の思想および技術の範囲に含まれるすべての変更、均等物ないし代替物を含むものと理解されるべきである。各図面を説明しながら、類似の参照符号を類似の構成要素について使用した。添付された図面において、構造物の寸法は、本発明の明確性を期するために実際よりも拡大するか、または概略的な構成を理解するために実際よりも縮小して示したものである。
また、第1および第2などの用語は、様々な構成要素を説明するのに使用できるが、前記構成要素は、前記用語によって限定されてはならない。前記用語は、1つの構成要素を他の構成要素から区別する目的だけで使用される。例えば、本発明の権利の範囲を逸脱せずに、第1構成要素は、第2構成要素として命名され得、同様に、第2構成要素も第1構成要素として命名され得る。一方、別の方法で定義されない限り、技術的または科学的な用語を含んでここで使用されるすべての用語は、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者によって一般的に理解されるものと同じ意味を有する。一般的に使用される辞書に定義されているような用語は、関連技術の文脈上有する意味と一致する意味を有するものと解釈されるべきであり、本出願で明らかに定義しない限り、理想的または過度に形式的な意味として解釈されない。
図3は、本発明の実施例によるパウダープロテクティング3ウェイバルブの斜視図であり、図4は、本発明の実施例によるパウダープロテクティング3ウェイバルブの側面図であり、図5は、本発明の実施例によるパウダープロテクティング3ウェイバルブで発熱体の着脱式構成を説明するための部分分解斜視図であり、図6および図7は、本発明の実施例によるパウダープロテクティング3ウェイバルブの縦断面図であり、図8は、本発明の実施例によるパウダープロテクティング3ウェイバルブで窒素ガスの内部の流れを説明するための参照断面図であり、図9は、本発明の実施例によるパウダープロテクティング3ウェイバルブでガイドディスクによって形成される窒素ガスのエアカーテン形状を説明するための参照図である。
図示したように、本発明の実施例によるパウダープロテクティング3ウェイバルブは、バルブケーシング110、回転ボール120、アクチュエータ130を備え、これに加えて窒素ガスを高温で加熱してバルブケーシング110の内部に供給する窒素ガス供給部材140、発熱体150およびガイドディスク160を主要構成要素としてさらに含む。
本発明は、このように窒素ガス供給部材140、発熱体150およびガイドディスク160を追加的に備える構成によって、加熱された窒素ガスを反応副産物ガスと混合することにより、反応副産物ガスが固形化できないようにすることだけでなく、窒素ガスを供給するときにエアカーテンの役割ができるようにして回転ボール120とバルブケーシング110のボールシートとの間にパウダーが浸透することを遮断できるようにし、これら構成要素が別の独立した個体として備えられる代わりに、バルブケーシング110の一側面に平板型の形状を有し、一体型に備えられる独特の構成によって、別の設置空間を必要としないコンパクトな製品の具現が可能となるものである。
以下、前記各構成要素を中心に本発明の実施例によるパウダープロテクティング3ウェイバルブについてより具体的に説明する。
前記バルブケーシング110は、回転ボール120を収容する内部空間を備え、その内部空間を中心に反応副産物ガスが流入する流入口111と流入した反応副産物ガスが互いに異なる方向に流出する複数の流出口112、113を備える。そして、前記流入口111と流出口112、113には、それぞれ他の配管との連結のためのフランジが備えられる。ここで前記バルブケーシング110の壁体の内側には、回転ボール120を回転可能に支持するボールシートが備えられる。そして、前記バルブケーシング110の壁体のうち、一側壁には、前記回転ボール120の非連通状態の流出孔122と対応するように円形の開口部114が形成される。前記円形の開口部114は、前記窒素ガス供給部材140から供給される窒素ガスをバルブケーシング110の内部に受け入れる通路となる。
前記回転ボール120は、バルブケーシング110の内部空間で回転できるように設置され、反応副産物ガスの流れ方向を制御する役割をする。このために、前記回転ボール120は、バルブケーシング110の流入口111と連通された状態を常時維持している流入孔121の1つと、バルブケーシング110の備えられた複数の流出口112、113に対応して回転方向によってその複数の流出口112、113のうち、いずれか1つに選択的に連通する複数の流出孔122を備える。これにより、前記回転ボール120は、アクチュエータ130の回転軸131に連結されて回転しながら、その回転角度に応じてバルブケーシング110に形成された複数の流出口112、113のうち、いずれか1つを選択的に遮断して開放する役割をすることにより、反応副産物ガスの流れ方向を制御するものである。これらの回転ボール120は、公知の従来技術と大同小異なので具体的な説明は省略する。ただし、本発明の実施例によるパウダープロテクティング3ウェイバルブに含まれる回転ボール120の場合、バルブケーシング110のボールシートとの間に固形化したパウダーが浸透して累積しつつ損傷されるか、または作動不能の状態になる問題がほとんどない。これは前記窒素ガス供給部材140からバルブケーシング110の内部に流入する高温の窒素ガスが回転ボール120の流出孔122のうち、非連通状態の流出孔122を通過して流入することにより、その非連通状態の流出孔122で回転ボール120とボールシートとの間のすきまに反応副産物ガスのパウダーが浸透することを遮断するエアカーテンの役割をするためである。これについては、今後より具体的に説明する。
前記窒素ガス供給部材140は、外部から窒素ガスの供給を受けて内部に流れを案内する役割をする。このために前記窒素ガス供給部材140は、窒素ガスの流れを案内するガイド流路141を備えるが、前記ガイド流路141は、図面で見られるように、漸進的に半径を狭めていく螺旋状に形成される。このように前記窒素ガス供給部材140が螺旋状のガイド流路141を備えると、窒素ガスが発熱体150によって加熱される時間を延長して極大化できるため、加熱効率を向上させ得る。ここで螺旋状のガイド流路141の周部に位置する端部には、外部の移送管と連結されて窒素ガスの供給を受ける流入部141aが位置し、ガイド流路141の中央部に位置する端部には、窒素ガスを回転ボール120の非連通状態の流出孔122を介してバルブケーシング110の内部に噴射する噴射部141bが位置する。
ここで注目すべき点は、前記窒素ガス供給部材140が窒素ガスをガイド流路141を介してバルブケーシング110の内部に供給するときに、前記回転ボール120の非連通状態の流出孔122を介して供給するという点にある。これにより、回転ボール120の非連通状態の流出孔122が位置する地点でバルブケーシング110のボールシートと回転ボール120との間のすきまに反応副産物ガスが集中的に浸透しようとする傾向を非連通状態の流出孔122を通過する窒素ガスが遮断することになる。このとき、回転ボール120の非連通状態の流出孔122を通過する窒素ガスは、バルブケーシング110のボールシートと回転ボール120との間のすきまに反応副産物ガスが浸透しないように遮断するエアカーテンの役割をするものである。
さらに、これらの窒素ガスのエアカーテンの役割を極大化させることが前記ガイドディスク160である。前記ガイドディスク160は、図6に示されたように、前記バルブケーシング110の一側壁で回転ボール120の非連通状態の流出孔122と対応するように形成された円形の開口部114に設置される。このとき、前記ガイドディスク160は、前記円形の開口部114に完全に符合するサイズよりも多少小さいサイズのものとして備えられ、前記円形の開口部114の内周面と前記ガイドディスク160の外周面との間に微細なすきまが形成されるようにする。これにより、図8と図9に示されたように、前記窒素ガス供給部材140から噴射される窒素ガスが前記ガイドディスク160の前側面に接触した後に分散し、前記ガイドディスク160の周部に沿って円管型のエアカーテンの形で流れながら、前記回転ボール120の非連通状態の流出孔122の周部に沿って通過することになる。ここで、前記ガイドディスク160の前側面の中央には、円錐型に突出して窒素ガス供給部材140から噴射される窒素ガスに接触し、周辺に均一に分散させる役割を行うガス均一分散部161がさらに形成される。これらのガイドディスク160が備えられた構成によると、窒素ガスはより強い流速を有し、円管型の形で回転ボール120の非連通状態の流出孔122の周部に沿って流れるようになり、バルブケーシング110のボールシートと回転ボール120との間のすきまに浸透しようとする反応副産物ガスをより強力に遮断することになる。
前記発熱体150は、前記窒素ガス供給部材140の内部に設置され、窒素ガス供給部材140の内部を経由する窒素ガスを加熱する役割をする。このために、前記発熱体150は、窒素ガス供給部材140の内部でガイド流路141と隔壁を間に置いて設置され、前記ガイド流路141が形成された領域をすべて含む幅を有する四角板状型の形態のものとして備えられる。そして、前記発熱体150は、周りの端部から開放されて中央部まで延長された干渉回避溝151を備え、前記ガイド流路141の中央部に形成された窒素ガス噴射部141bとの干渉を避けるようにする。このような構成を有する前記発熱体150は、窒素ガスが螺旋状のガイド流路141に沿って流れる間に窒素ガスを持続的に加熱できるようになる。
さらに、前記発熱体150は、図6に示されたように、薄板型の着脱式面状発熱体として備えられ、窒素ガス供給部材140の厚さを最小化できるようにしながら窒素ガス供給部材140に対する装着および交替が便利になるように構成される。これらの発熱体150の着脱式構成に対応して前記窒素ガス供給部材140の内部には、前記ガイド流路141と隔壁を間に置いて形成されるが、前記ガイド流路141が形成された領域を含む幅に形成され、前記供給部材140の本体の周面のうち、一側の周面に開放された引込口を有するカートリッジスリット142を備える。これにより、薄板型の着脱式発熱体150がカートリッジスリット142の開放された引込口を介して前記カートリッジスリット142に挿入されて装着される。参考として、図5に示されたように、発熱体150が装着された状態でカートリッジスリット142の引込口を覆うスリットカバー143が備えられることが好ましい。
以上で、本発明の好ましい実施例を説明したが、本発明は、様々な変化と変更および均等物を使用できる。本発明は、前記実施例を適切に変形して同一に応用できることが明確である。したがって、前記記載内容は、下記特許請求の範囲の限界によって決まる本発明の範囲を限定するものではない。

Claims (8)

  1. 半導体または平板ディスプレー製造装置のラインに設置され、パウダーが混合された反応副産物ガスの流れを制御する3ウェイバルブにおいて、
    反応副産物ガスが流入する流入口と流入した反応副産物ガスを互いに異なる方向に流出させる複数の流出口を備えたバルブケーシングと、
    前記バルブケーシングの内部に回転できるように設置され、反応副産物ガスの流れ方向を制御する回転ボールと、
    外部から窒素ガスの供給を受けてガイド流路によって流れを案内しつつ、前記バルブケーシングの内部に窒素ガスを供給し、前記バルブケーシングの内部で反応副産物ガスに含まれたパウダーが累積することを防止する窒素ガス供給部材と、
    前記窒素ガス供給部材の内部に設置され、前記窒素ガス供給部材の内部を経由する窒素ガスを加熱する発熱体と、を含み、
    前記窒素ガス供給部材は、前記バルブケーシングの一側面に密着する平たい平板型のボディーからなり、前記バルブケーシングに対して一体に結合されるパウダープロテクティング3ウェイバルブ。
  2. 前記窒素ガス供給部材のガイド流路は、漸進的に半径を狭めていく螺旋状に形成され、前記発熱体によって加熱される時間を増加させる請求項1に記載のパウダープロテクティング3ウェイバルブ。
  3. 前記発熱体は、前記窒素ガス供給部材の内部で前記ガイド流路と隔壁を間に置いて設置されるが、前記ガイド流路が形成された領域を含む幅を有するものとして備えられ、窒素ガスが前記ガイド流路に沿って流れる間に、持続的に加熱が行われるようにする請求項2に記載のパウダープロテクティング3ウェイバルブ。
  4. 前記窒素ガス供給部材は、その内部で前記ガイド流路と隔壁を間に置いて形成されるが、前記ガイド流路が形成された領域を含む幅に形成され、前記供給部材の本体の周面のうち、一側の周面に開放された引込口を有するカートリッジスリットを備え、
    前記発熱体は、前記カートリッジスリットの開放された引込口を介して前記カートリッジスリットに挿入されて装着される薄板型の着脱式面状発熱体である請求項2に記載のパウダープロテクティング3ウェイバルブ。
  5. 前記発熱体は、前記スリットに挿入される四角板状型の形態に形成され、周りの端部から開放されて中央部まで延長された干渉回避溝を備え、前記窒素ガス供給部材のカートリッジスリットに装着されるときに、前記ガイド流路の中央部に形成された窒素ガス噴射部との干渉を避けるようにする請求項4に記載のパウダープロテクティング3ウェイバルブ。
  6. 前記回転ボールは、前記バルブケーシングの流入口に対応して常時連通している流入孔と、前記バルブケーシングの複数の流出口に対応して回転方向によって複数の流出口のうち、いずれか1つに選択的に連通する複数の流出孔を備え、前記バルブケーシングの内部で反応副産物ガスの流れを制御するが、複数の流出孔のうち、前記バルブケーシングの流出口と非連通状態の流出孔が前記バルブケーシングの一側面に向かうように形成され、
    前記窒素ガス供給部材は、前記回転ボールの複数の流出孔のうち、前記バルブケーシングの一側面に向かう非連通状態の流出孔を通過するように窒素ガスの流れを案内することにより、非連通状態の流出孔を通過する窒素ガスが非連通状態の流出孔の周部の付近に位置する前記バルブケーシングのボールシートと前記回転ボールとの間のすきまに反応副産物ガスに含まれたパウダーが浸透することを遮断するエアカーテンの役割をする請求項1に記載のパウダープロテクティング3ウェイバルブ。
  7. 前記バルブケーシングの一側壁には、前記回転ボールの非連通状態の流出孔と対応する円形の開口部が形成され、前記円形の開口部には、ガイドディスクが設置されるが、前記円形の開口部の内周面との間にすきまを形成するように設置され、前記窒素ガス供給部材から噴射される窒素ガスが前記ガイドディスクの前側面に接触した後に分散し、前記ガイドディスクの周部に沿って円管型のエアカーテンの形で流れながら、前記回転ボールの非連通状態の流出孔を通過できるようにする請求項6に記載のパウダープロテクティング3ウェイバルブ。
  8. 前記ガイドディスクは、前側面の中央には円錐型に突出して前記窒素ガス供給部材から噴射される窒素ガスに接触し、周辺に均一に分散させるガス均一分散部がさらに形成される請求項7に記載のパウダープロテクティング3ウェイバルブ。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102161842B1 (ko) 2019-05-29 2020-10-05 주식회사 다원물산 배기 디파우더 모듈의 삼방향 밸브 가열장치
KR20220002414U (ko) 2021-04-01 2022-10-11 (주)지에스티산업 밸브
JP7384886B2 (ja) 2021-12-09 2023-11-21 大陽日酸株式会社 三方弁、排ガス処理装置及び排ガス処理システム並びに排ガス処理方法
KR102601158B1 (ko) * 2023-03-09 2023-11-13 주식회사 에이오테크 원통형 발열체를 구비한 파우더 프로텍팅 3웨이 밸브

Family Cites Families (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2661926A (en) * 1950-08-10 1953-12-08 Parker Appliance Co Rotary plug type valve
US3100499A (en) * 1961-07-21 1963-08-13 Gen Dynamics Corp Valve
US3345032A (en) * 1964-11-10 1967-10-03 Jamesbury Corp Three-way ball valve
US3605789A (en) * 1970-05-04 1971-09-20 Grove Valve & Regulator Co Valve flushing system
US3735956A (en) * 1972-04-10 1973-05-29 Whitey Research Tool Co Ball valve and improved seat arrangement
JPS53134140U (ja) * 1977-03-30 1978-10-24
DE2717840A1 (de) * 1977-04-22 1978-10-26 Concordia Fluidtechnik Gmbh Durchflussventil
US4304252A (en) * 1979-10-22 1981-12-08 Stanton Raymond E Flush mounted sea valve
US4572239A (en) * 1981-08-28 1986-02-25 Whitey Co. High pressure ball valve
DE3526258A1 (de) * 1985-07-23 1987-01-29 Ruhrgas Ag Absperrarmatur in form eines kugelhahnes
US4685488A (en) * 1986-02-07 1987-08-11 Whitey Co. Ball valve
DE3622339A1 (de) * 1986-07-03 1988-01-07 Pfeiffer Vakuumtechnik Einrichtung zum verteilen eines heissen gasstromes
JP3274895B2 (ja) * 1992-12-02 2002-04-15 ミリポア・コーポレイション スロットルバルブ
KR0174086B1 (ko) * 1995-12-22 1999-04-01 김광호 반도체소자 제조용 공정장치의 개폐밸브
KR970052765U (ko) * 1996-02-28 1997-09-08 음극선관용 녹색형광체 소성수단
JPH09280390A (ja) * 1996-04-12 1997-10-28 Asahi Organic Chem Ind Co Ltd 三方ボールバルブ
US5842683A (en) * 1997-04-07 1998-12-01 Upsoon Industrial Co., Ltd. Structure of a ball valve especially used in food processing
KR100324808B1 (ko) * 1999-04-02 2002-02-20 이선영 폐기가스 처리장치의 3웨이 밸브
US6578598B2 (en) * 2001-10-05 2003-06-17 J.V.P. Inc. Valve having an inner washing structure
AU2003229160A1 (en) * 2002-05-01 2003-11-17 Dahl Brothers Canada Limited Shut-off valve
EP1640647A3 (en) * 2002-07-05 2006-04-12 Rohm and Haas Company Valve mounting assembly
JP4187599B2 (ja) * 2003-07-03 2008-11-26 東京エレクトロン株式会社 減圧処理装置及び減圧処理方法並びに圧力調整バルブ
JP2006303414A (ja) * 2005-03-23 2006-11-02 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理システム
JP4517924B2 (ja) * 2005-04-04 2010-08-04 Smc株式会社 真空調圧バルブ
US20090114296A1 (en) * 2005-06-10 2009-05-07 Tokyo Electron Limited Valve element, valve, selector valve, and trap device
CN101072970B (zh) * 2005-11-01 2012-05-16 李先荣 废气引导装置
DE102005057674B4 (de) * 2005-12-01 2008-05-08 Alstom Technology Ltd. Abhitzekessel
US20100327196A1 (en) * 2009-06-30 2010-12-30 Tejas Research And Engineering, Lp Purging Mechanism for a Hemi-Wedge Valve
KR101071937B1 (ko) * 2009-08-10 2011-10-11 이승룡 질소가스 분사장치
KR101196807B1 (ko) * 2009-10-22 2012-11-06 한국에너지기술연구원 3웨이 고온밸브
DE102010006861A1 (de) * 2010-02-04 2011-08-04 Jäger, Anton, 89250 Reinigungsvorrichtung
KR101213780B1 (ko) * 2011-01-04 2012-12-18 아딕센진공코리아 유한회사 에너지 절약형 사일런서 어셈블리와 이를 구비한 반도체 제조용 진공펌프 및 질소가스의 가열방법
DE102012208243A1 (de) * 2012-05-16 2013-11-21 Siemens Aktiengesellschaft Absperrventil mit Heizelement, insbesondere für ein Schienenfahrzeug
CN103018067B (zh) * 2012-12-05 2015-09-16 广州高澜节能技术股份有限公司 换流阀器件冷却试验系统
US9314824B2 (en) * 2013-11-08 2016-04-19 Mks Instruments, Inc. Powder and deposition control in throttle valves
CN203880143U (zh) * 2014-05-23 2014-10-15 长沙新奥燃气有限公司 燃气专用t型三通阀门
CN104455545B (zh) * 2014-11-28 2016-09-14 合肥鑫晟光电科技有限公司 自切换t型三通接头及卡夹清洗干燥装置
CN107208813B (zh) * 2015-02-18 2019-07-23 威兰有限公司 在球体腔中具有诱导流动的多端口球阀

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