TWI686429B - 用於經控制之矽氧烷交聯的鉑(ii)二烯錯合物 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種交聯矽氧烷及有機聚合物的方法,其包含使(a)氫化矽烷與(b)不飽和高分子化合物在(d)具有螯合雙陰離子配位體的鉑二烯化合物的存在下發生反應。
Description
本申請案主張2014年9月19日申請的名為「Platinum(II)Diene Complexes for Controlled Siloxane Crosslinking」的美國臨時申請案第62/052,727號之優先權及益處,其揭示內容以全文引用的方式併入本文中。
本發明大體上係關於具有螯合陰離子之鉑(II)二烯錯合物催化矽氧烷交聯反應之用途。
矽氫化化學反應,其涉及氫化矽烷與不飽和有機基團之間的反應,為諸多加成固化產物之基礎,該等加成固化產物包括密封劑、彈性體、RTV、黏著劑及基於聚矽氧之塗層。加成固化聚矽氧調配物通常由以下組成:(A)經烯基取代之聚矽氧烷,其為可固化組合物之主要組分或基質聚合物,(B)氫化功能性交聯聚矽氧,其通常為甲基氫矽氧烷聚合物、共聚物或寡聚物(C)高度活躍的加成固化矽氫化催化劑,其通常為諸如阿氏(Ashby)催化劑或卡氏(Karstedt)催化劑的鉑(0)催化劑
(D)增加完整調配物之使用年限的固化抑制化合物或其混合物。
以上組合物之加成可固化聚矽氧調配物必須在高溫下快速固化且在室溫下具有全部調配物之可接受的長工作壽命(亦即,無交聯)。此需求對於脫模塗層調配物尤其急切,其中可能最迫切需要以高線塗佈速度及極短烘箱停留時間(2-5秒)極快地固化催化劑,以及調配物之良好浴槽壽命。然而,調配物必須在高溫下基本上在數秒內完全固化以滿足大量不同紙基板及高分子基板上之釋放效能需求。為了適應此等兩種相反需求,在工業中通常使用具有高鉑負載量及高抑制劑負載量的兩部分調配物。此當前解決方案具有數種顯著缺點。在加成可固化系統中需要高鉑催化劑負載量以確保在高溫下快速及完整固化,但貴金屬催化劑之此高負載量亦對調配物造成顯著催化劑成本。除固化效能之外,離型襯墊應用中尤其需要高鉑催化劑含量以確保對基板之充分固著。使用高含量之抑制劑以扼止催化劑活性且延長調配物在室溫下之工作壽命,但所使用之抑制劑可能不會在高溫下自鉑中心快速解錯且在高溫下減緩所需交聯反應。最後,在使用調配物之前,兩部分調配物要求額外時間及混合步驟。
已報導除先前提到的卡氏及阿氏催化劑之外的其他基於鉑之催化劑。PtCODCl2、PtCODMe2及PtCODPh2市售可得且其作為矽氫化反應之催化劑的用途已經久為人知(JP 54076530A、JP 54076529A、EP 472438、L.Lewis等人,Organometallics,1991,10,3750-3759,及P.Pregosin等人,Organometallics,1988,7,第1373至1380頁)。Roy等人已報導自PtCODCl2製備一系列PtCOD(SiR3)2化合物(Roy,Aroop K.;Taylor,Richard B.J.Am Chem.Soc.,2012,124,9510-9524;及美國專利第6,605,734號),但其用於聚矽氧交聯之用途未經報導或指明。已報導PtCODPh2用於輻射固化系統之用途(WO9210529)。具有通式
PtCOD(炔基)2及Pt(COD)(伸脲基)的錯合物已作為可固化聚矽氧橡膠組合物中之催化劑經引用(EP 0994159、U.S.7,511,110)。然而,此等錯合物在有機溶液及聚矽氧調配物中具有不良溶解性。使用諸如氯仿或二氯甲烷之氯化溶劑溶解催化劑。該等氯化溶劑除造成健康及環境問題之外,其亦係高度揮發性的,此對調配物造成了挑戰。
已報導具有兒茶酚根或醯胺基酚根配位體之Pt-COD錯合物(Boyer等人Inorg.Chem 2009,48,638-645.;Richmond等人,J.Chem.Crystallogr.1996,26,第335至340頁)。此等論文描述此等Pt錯合物之電子結構及氧化還原反應性。未報導具有螯合雙陰離子之此等鉑二烯錯合物在矽氫化反應中的用途。
聚矽氧工業對具有改良穩定性之鉑催化劑存在需求,因為諸如斯貝爾(Speier)催化劑及卡氏催化劑之工業廣為應用之催化劑易於經由聚結而部分失活,尤其在高溫使用的情況下。活性催化劑之改良穩定性將能夠降低Pt催化劑負載量。除改良穩定性之外,尤其尋求在高溫下展現快速活化及高矽氫化活性並且在低抑制劑或無抑制劑負載量下對在室溫下儲存之調配物顯示長工作壽命的催化劑。最後,在工業上較佳的有機溶劑或聚矽氧中具有改良溶解性的鉑催化劑為所需的。本發明提供一個針對此等需求之解決方案。
本發明提供具有螯合雙陰離子配位體之鉑二烯錯合物在矽氫化反應中的用途。已發現具有螯合雙陰離子配位體之鉑二烯錯合物適合用於交聯反應且在低鉑負載量及低抑制劑負載量下展現可接受至極好的活性。新穎催化劑展示合乎需要的催化改良,諸如減少之Pt使用量、不具有或具有更少抑制劑之情況下更長的工作壽命、在高溫下快速固化及對基板之改良固著,以及在有機物及聚矽氧調配物中之改良溶解性。
其中R1-X2-R2為以η4模式結合至鉑的二烯,且為具有4至30個碳原子的支鏈、未分支鏈、環狀系統或雙環系統;E1及E2係獨立地選自O、NR3、羧基[C(O)O]或S之單陰離子配位體;R3獨立地為氫或具有1至30個碳原子的單價烴基;X1為二價烴基或聚矽氧基,諸如經取代或未經取代之伸烷基、伸芳基或伸矽氧烷基,其限制條件為式(I)之E1-X1-E2配位體不包括伸脲基或α羥基酸配位體;X2為二價烴基,諸如經取代或未經取代之伸烷基、伸芳基或伸環烷基,由此結合之烯烴部分係末端的及/或內部的,且X2表示烯烴基團之間的橋鍵;及n為0、1、2、3或4。
在該方法之一個實施例中,E1及E2為O。
如任何前述實施例之方法,其中R1-X2-R2係選自1,5-環辛二烯、降冰片二烯、二環戊二烯或1,5-己二烯。
如任何前述實施例之方法,其中E1-X1-E2係選自醯胺基酚根、伸苯基二醯胺、苯二硫醇根、巰基酚根、巰基乙醇根、嚬哪醇根、伸乙基二醇根、丙二醇根、兒茶酚根、經取代之兒茶酚根、水楊酸根、乙
二酸根或丙二酸根。
如任何前述實施例之方法,其中R1-X2-R2為1,5-環辛二烯。
如任何前述實施例之方法,其中E1-X1-E2為嚬哪醇根,且R1-X2-R2為1,5-環辛二烯。
其中R4、R5、R6及R7係獨立地選自氫、C1-C20烷基及C6-C10芳基。
其中R8、R9、R10及R11係獨立地選自氫及C1-C20烷基。在一個實施例中,R8、R9、R10及R11各自為氫。在一個實施例中,R8及R10係獨立地選自C1-C20烷基,且R9及R11各自為氫。在一個實施例中,R8及R10各自為第三丁基。
如任何前述實施例之方法,其中E1及E2各自為O。
如任何前述實施例之方法,其中E1及E2係獨立地選自O及S。
如任何前述實施例之方法,其中可固化烯基聚矽氧具有下式:Mvi aTbDcMdQe
其中Mvi a=R12 2R13SiO1/2;Tb=R14SiO3/2,其中R14係選自R12或R13;Dc=R12R14SiO2/2,其中R14係選自R12或R13;Md=R12 3SiO1/2;且Qe=SiO4/2;R12係獨立地選自具有一至四十個碳、視情況含有至少一個雜原子的單價烴基;且R13係選自具有兩個至四十個碳原子、視情
況含有至少一個雜原子的末端烯烴單價烴基,其中烯基聚矽氧之組合物每一鏈包含至少兩個可發生矽氫化反應的不飽和基團;a0、b0、d0、e0;c之值特定而言係由交聯材料之所需特性及屬性確定,使得a+b+c+d+e之總和在50-20,000範圍內。
如任何前述實施例之方法,其中氫矽氧烷係選自式Ma'MH b'Dc'DH d'Te'TH fQg化合物,其中下標a'、b'、c'、d'、e'、f及g使得矽氧烷型反應物之莫耳質量為100至100,000道爾頓;M為式R15 3SiO1/2之單官能基團,D為式R15 2SiO2/2之雙官能基團,T為式R15SiO3/2之三官能基團,且Q為式SiO4/2之四官能基團,MH為HR15 2SiO1/2,TH為HSiO3/2,且DH為R15HSiO2/2,其中R7之每次出現係獨立地選自C1-C40烷基、C1-C40經取代烷基、C6-C14芳基或經取代芳基,其中R15視情況含有至少一個雜原子。
如任何前述實施例之方法,其中抑制劑係選自烯系不飽和醯胺、芳族不飽和醯胺、炔系化合物、烯系不飽和異氰酸酯、烯烴矽氧烷、不飽和烴二酯、不飽和酸之不飽和烴單酯、共軛或經分離之烯-炔、氫過氧化物、酮、亞碸、胺、膦、亞磷酸鹽、亞硝酸鹽、二氮丙啶或其兩種或兩種以上之組合。
如任何前述實施例之方法,其中鉑之濃度為約100ppb(十億分率)至約100ppm(百萬分率)。
如任何前述實施例之方法,其中組分(c)以約0至約10重量%之量存在。
如任何前述實施例之方法,其中組分(a)-(d)係提供於單一組合物中。
如任何前述實施例之方法,其中在約10秒或更短的時間內完成反應。
如任何前述實施例之方法,其中反應在2-5秒內完成。
如任何前述實施例之方法,其中該方法係藉由在高於室溫之溫度下加熱而實施。
如任何前述實施例之方法,其中組分(a)-(d)之組合物具有至少2小時之工作壽命,而抑制劑(c)之濃度為約0.25重量%或更小。
其中R1-X2-R2為以η4模式結合至鉑的二烯,且為具有4至30個碳原子的支鏈、未分支鏈、環狀系統或雙環系統;E1及E2係獨立地選自O、NR3、羧基[C(O)O]或S之單陰離子配位體;R3各自獨立地為氫或具有1至30個碳原子的單價烴基;X1為二價烴基或聚矽氧基,諸如經取代或未經取代之伸烷基、伸芳基或伸矽氧烷基,其限制條件為式(I)之E1-X1-E2配位體不包括伸脲基或α羥基酸配位體;X2為二價烴基,諸如經取代或未經取代之伸烷基、伸芳基或伸環烷基,由此結合之烯烴部分係末端的及/或內部的,且X2表示烯烴基團之間的橋鍵;及n為0、1、2、3或4。
在該組合物之一個實施例中,E1及E2為O。
如任何前述實施例之組合物,其中R1-X2-R2係選自1,5-環辛二烯、降冰片二烯、二環戊二烯或1,5-己二烯。
如任何前述實施例之組合物,其中E1-X1-E2係選自醯胺基酚根、伸苯基二醯胺、苯二硫醇根、巰基酚根、巰基乙醇根、嚬哪醇根、乙二醇根、丙二醇根、兒茶酚根、經取代之兒茶酚根、水楊酸根、乙二酸根或丙二酸根。
如任何前述實施例之組合物,其中R1-X2-R2為1,5-環辛二烯。
如任何前述實施例之組合物,其中催化劑(c)係選自嚬哪醇根-Pt-環辛二烯、丙二醇根-Pt-環辛二烯、水楊酸根-Pt-環辛二烯或其兩種或兩種以上之組合。
如任何前述實施例之組合物,其中可固化烯基聚矽氧具有下式:Mvi aTbDcMdQe
其中Mvi a=R12 2R13SiO1/2;Tb=R14SiO3/2,其中R14係選自R12或R13;Dc=R12R14SiO2/2,其中R14係選自R12或R13;Md=R12 3SiO1/2;且Qe=SiO4/2;R12係獨立地選自具有一至四十個碳、視情況含有至少一個雜原子的單價烴基;且R13係選自具有兩個至四十個碳原子、視情況含有至少一個雜原子的末端烯烴單價烴基,其中烯基聚矽氧每一鏈包含至少兩個可發生矽氫化反應的不飽和基團;a0、b0、d0、e0;c之值特定而言係由交聯材料之所需特性及屬性確定,使得a+b+c+d+e之總和在50-20,000範圍內。
如任何前述實施例之組合物,其中氫矽氧烷係選自式Ma'MH b'Dc'DH d'Te'TH fQg化合物,其中下標a'、b'、c'、d'、e'、f及g係使得矽氧烷型反應物之莫耳質量為100至100,000道爾頓;M為式R15 3SiO1/2之單官能基團,D為式R15 2SiO2/2之雙官能基團,T為式R15SiO3/2之三官能基團,且Q為式SiO4/2之四官能基團,MH為HR15 2SiO1/2,TH為HSiO3/2,且DH為R15HSiO2/2,且R15之每次出現係獨立地選自C1-C40烷基、C1-C40經取代烷基、C6-C14芳基或經取代芳
基,其中R15視情況含有至少一個雜原子。
如任何前述實施例之組合物,其中抑制劑係選自烯系不飽和醯胺、芳族不飽和醯胺、炔系化合物、烯系不飽和異氰酸酯、烯烴矽氧烷、不飽和烴二酯、不飽和酸之不飽和烴單酯、共軛或經分離之烯-炔、氫過氧化物、酮、亞碸、胺、膦、亞磷酸鹽、亞硝酸鹽、二氮丙啶或其兩種或兩種以上之組合。
如任何前述實施例之組合物,其中鉑之濃度為約100ppb至約100ppm。
如任何前述實施例之組合物,其中組分(a)-(d)於單一組分組合物中。
在另一態樣中,本發明提供自前述實施例中之任一者的組合物製備的固化材料。在一個實施例中,該固化材料包含催化劑組分(d)。
在再一態樣中,本發明提供由前述實施例中之任一者的組合物形成的塗層。本發明亦提供其表面至少部分塗佈有該等塗層之基板。在實施例中,該塗層固著至基板表面。
其中R1-X2-R2為以η4模式結合至鉑的二烯,且為具有4至30個碳原子的支鏈、未分支鏈、環狀系統或雙環系統;E1-X1-E2係選自巰基酚根、嚬哪醇根、丙二醇根或水楊酸根;及X2為二價烴基,諸如經取代或未經取代之伸烷基、伸芳基或伸環烷基,由此結合之烯烴部分係末端的及/或內部的,且X2表示烯烴
基團之間的橋鍵。
在化合物之一個實施例中,R1-X2-R2係選自1,5-環辛二烯、降冰片二烯、二環戊二烯或1,5-己二烯。
如任何前述實施例之化合物,其中該化合物係選自嚬哪醇根-Pt-環辛二烯、丙二醇根-Pt-環辛二烯或水楊酸根-Pt-環辛二烯。
其中R1-X2-R2為以η4模式結合至鉑的二烯,且為具有4至30個碳原子的支鏈、未分支鏈、環狀系統或雙環系統;R3各自獨立地為氫或具有1至30個碳原子的單價烴基;E1-X1-E2為α羥基酸配位體;X2為二價烴基,諸如經取代或未經取代之伸烷基、伸芳基或伸環烷基,由此結合之烯烴部分係內部的,且X2表示烯烴基團之間的橋鍵;及n為0、1、2、3或4。
在方法之實施例中,反應在約10秒或更短之時間內發生。
以下實施方式揭示各種說明性態樣。可明確地識別一些改良及新穎態樣,而其他改良及新穎態樣可自實施方式顯而易見。
在一個態樣中,本發明係有關一種製備交聯產物的方法,其包含使包含(a)烯基聚矽氧、(b)氫矽氧烷、(c)固化抑制劑及(d)矽氫化催化劑的混合物視情況在溶劑存在下反應,以便產生交聯產物。在一個實施例中,催化劑為式(I)之錯合物或其加合物;
其中R1-X2-R2為以η4模式結合至鉑的二烯,且為具有4至30個碳原子的支鏈或未分支鏈、環狀系統或雙環系統;E1及E2係獨立地為單陰離子O、NR3、羧基[C(O)O]或S;R3各自獨立地為氫或具有1至30個碳原子的單價烴基;X1為二價烴基或聚矽氧基,諸如經取代或未經取代之伸烷基、伸芳基或伸矽氧烷基,其限制條件為式(I)之E1-X1-E2配位體不包括伸脲基或α羥基酸配位體;X2為二價烴基,諸如經取代或未經取代之伸烷基、伸芳基或伸環烷基,由此結合之烯烴部分係末端的及/或內部的,且X2表示烯烴基團之間的一或多個橋鍵;及n為0、1、2、3或4。
廣泛多種螯合E1-X1-E2配位體可用作Pt(II)二烯固化催化劑中之輔助配位體。不受任何特定理論或機制之束縛,合乎需要的E1-X1-E2配位體將賦予鉑催化劑在聚矽氧調配物或有機溶劑中之良好溶解性,且螯合配位體將在高溫下快速解錯合/消除(在氫化矽烷存在下)。可改變螯合E1-X1-E2配位體以改變催化劑活化溫度及催化劑活化率。適用於本發明之螯合E1-X1-E2配位體包括醯胺基、硫醇根、醇酯、羧酸酯或含有此等官能基中之一或多者的配位體。
適合之雙陰離子螯合配位體之實例包含(但不限於)醯胺基酚根、伸苯基二醯胺、苯二硫醇根、巰基酚根、巰基乙醇根、嚬哪醇根、乙二醇根、丙二醇根、兒茶酚根、經取代之兒茶酚根、水楊酸根、乙二酸根、丙二酸根、氨基酸之N,O-雙陰離子等。
其中R4、R5、R6及R7係獨立地選自氫、C1-C20烷基及C6-C10芳基,且E1及E2可如先前所描述。在實施例中,R4-R7係獨立地選自包括(但不限於)甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、戊基、己基等的C1-20烷基。
其中R8、R9、R10及R11係獨立地選自氫及C1-C20烷基,且E1及E2可如先前所描述。在實施例中,R8-R11係獨立地選自氫及C1-C10烷基,甚至選自C1-C6烷基。用於R8-R11之適合之烷基的實例包括(但不限於)甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、戊基、己基等。在一個實施例中,R8及R10為C1-C10烷基,且R9及R11各自為氫。在一個實施例中,R8及R10各自為第三丁基。
E1及E2基團在雙陰離子螯合配位體中可彼此相同或不同。在實施例中,E1及E2基團各自為O。在其他實施例中,E1為O,且E2為S。
用於R1-X2-R2之螯合二烯化合物不受特定限制且可選自各種二烯化合物。適合之螯合二烯之實例包括(但不限於)1,3-丁二烯、異戊二
烯、2,3-二甲基丁二烯、1,4-二苯基-1,3-丁二烯、1,4-環己二烯、1,4-己二烯、2,4-己二烯、1,5-己二烯、1,5-環辛二烯、1,5-二甲基-1,5-環辛二烯、1,6-二甲基-1,5-環辛二烯、1,3十二碳二烯、降冰片二烯、二環戊二烯等。
在一個實施例中,不飽和化合物係選自烯基聚矽氧。烯基聚矽氧為可發生矽氫化反應的烯基官能性矽烷或矽氧烷。烯基聚矽氧可為環狀、芳香族或末端不飽和烯基矽烷或矽氧烷。可按需要選擇烯基聚矽氧以用於特定目的或預定應用。在一個實施例中,烯基聚矽氧包含至少兩個不飽和基團,且在25℃下具有至少約50cps之黏度。在一個實施例中,烯基聚矽氧具有在25℃下至少約75cps、在25℃下至少約100cps、在25℃下至少200cps、甚至在25℃下至少約500cps之黏度。此處,如本說明書及申請專利範圍中之其他地方,數值可經組合以形成新的及未揭示的範圍。
在一個實施例中,烯基聚矽氧為下式化合物:Mvi aTbDcMdQe
其中Mvi a=R12 2R13SiO1/2;Tb=R14SiO3/2,其中R14係選自R12或R13;Dc=R12R14SiO2/2,其中R14係選自R12或R13;Md=R12 3SiO1/2;且Qe=SiO4/2;R12係獨立地選自具有一至四十個碳、視情況含有至少一個雜原子的單價烴基;且R13係選自具有兩個至四十個碳原子、視情況含有至少一個雜原子的末端烯烴單價烴基。烯基聚矽氧之組合物為如此以便提供每一鏈可發生矽氫化反應的至少兩個不飽和基團;a0、b0、d0、e0;c之值特定而言係由交聯材料之所需特性及屬性確定,使得a+b+c+d+e之總和在50-20,000範圍內。在實施例中,烯基聚矽氧為式MviDcMvi化合物。
經選擇以產生產物之所需機械、熱及其他特性的特定烯基聚矽氧及交聯劑可由熟習此項技術者來確定。末端不飽和烯基聚矽氧材料
尤其適用於形成固化或交聯產物,諸如塗層及彈性體。亦應理解,經獨立選擇的此等烯基聚矽氧中之兩者或兩者以上可用於固化調配物中之混雜物中,以提供所需特性。
反應中所使用之氫化矽烷不受特定限制。其可為(例如)選自包括式Ma'MH b'Dc'DH d'Te'TH fQg之彼等化合物的氫矽氧烷之任何化合物,其中M、D、T及Q具有其在矽氧烷命名法中常見之含義。下標a'、b'、c'、d'、e'、f及g使得矽氧烷型反應物之莫耳質量為100至100,000道爾頓。在一個實施例中,「M」基團表示式R15 3SiO1/2之單官能基團,「D」基團表示式R15 2SiO2/2之雙官能基團,「T」基團表示式R15SiO3/2之三官能基團,且「Q」基團表示式SiO4/2之四官能基團,「MH」基團表示HR15 2SiO1/2,「TH」表示HSiO3/2,且「DH」基團表示R15HSiO2/2。R15之每次出現係獨立地為C1-C40烷基、C1-C40經取代烷基、C6-C14芳基或經取代芳基,其中R15視情況含有至少一個雜原子。在一個實施例中,實質上線性氫矽氧烷係選自MDcDH dM、MDH dM或其混合物。在實施例中,R15係選自C1-C20烷基、C1-C10烷基或C1-C6烷基。在實施例中,R15為甲基。
用於本發明之組合物中的組分(a)及(b)不嚴格受限。該等以組分(b)之矽結合氫原子的數目與組分(a)之矽結合烯烴烴基的數目之比表示的量通常足以提供1/100至110/1、1/20至20/1及甚至0.5至20/1的該比之值。此處如在本說明書及申請專利範圍中別處,數值可經組合以形成新的及替代性的範圍。
用於鉑族金屬催化劑之組分(c)的抑制劑在有機矽技術中為吾人所熟知。適合之抑制劑之實例包括(但不限於)烯系不飽和醯胺、芳族不飽和醯胺、炔系化合物、烯系不飽和異氰酸酯、烯烴矽氧烷、不飽和烴二酯、不飽和酸之不飽和烴單酯、共軛或經分離之烯-炔、氫過氧化物、酮、亞碸、胺、膦、亞磷酸鹽、亞硝酸鹽、二氮丙啶等。用
於組合物之尤其適合之抑制劑為炔基醇及順丁烯二酸酯。
用於組合物之組分(c)的量並非至關重要的,且可為將阻止在室溫下發生上述由鉑催化的矽氫化反應但並不妨礙該反應在適當高溫(亦即高於室溫25至125℃之溫度)下發生的任何量。無法建議用於獲得室溫下指定浴槽壽命之抑制劑的特定量,因為待使用之任何特定抑制劑之所需量將視含有鉑金屬之催化劑的濃度及類型、組分a及b的性質及量而定。組分c之範圍可為0至約10重量%、約0.001重量%至2重量%,甚至約0.12重量至約1重量%。此處如在本說明書及申請專利範圍中別處,數值可經組合以形成新的及替代性的範圍。在一個實施例中,組合物可不含任何抑制劑組分(c)。
組合物可視情況進一步包含一種或多種額外成分,諸如填充劑、填充劑處理劑、塑化劑、間隔劑、增量劑、殺生物劑、穩定劑、阻燃劑、表面改質劑、顏料、抗老化添加劑、流變性添加劑、腐蝕抑制劑、界面活性劑或其組合。
可改變用於本發明方法中的鉑催化劑之濃度。在一個實施例中,鉑之濃度為約100ppb至約100ppm、約500ppb至約100ppm、約1ppm至約50ppm、甚至約5ppm至約30ppm。此處如在本說明書及申請專利範圍中別處,數值可經組合以形成新的及替代性的範圍。
鉑催化劑可溶解於溶劑中以改良易操作性。溶劑不受限且可為極性或非極性的。任何溶劑皆可用於本發明之方法中,只要其有助於溶解鉑催化劑而不會產生不利之影響。
因此,在一些實施例中,本發明亦係有關自上述方法產生之組合物。此等組合物含有氫化矽烷之矽氫化產物及具有至少一個不飽和基團的化合物。可在促進形成交聯產物的條件下藉由使組合物之組分發生反應而產生產物。在一個實施例中,可以包含至少組分(a)、(b)及(d)及視情況選用之(c)的單部分組合物形式提供組分。在另一實施
例中,組分可提供於兩種或兩種以上單獨組合物中且在固化前經混合。可藉由在約25至200℃之溫度下且在一個實施例中在約25至約125℃之溫度下使組分發生反應來完成固化。
其中R1-X2-R2為以η4模式結合至鉑的二烯,且為具有4至30個碳原子的支鏈、未分支鏈、環狀系統或雙環系統;E1-X1-E2為α-或β-羥基酸配位體;X2為二價烴基,諸如經取代或未經取代之伸烷基、伸芳基或伸環烷基,由此結合之烯烴部分係末端的及/或內部的,且X2表示烯烴基團之間的橋鍵;及n為0、1、2、3或4。
來自羥基酸的適合之雙陰離子螯合配位體的具體實例包括(但不限於)乳酸、2-羥基己酸、異丁酸、3-羥基丙酸、水楊酸等之O,O-雙陰離子。
由本發明之方法製備的矽氫化產物可用於合成聚矽氧材料,諸如彈性體、塗層(例如,離型襯墊塗層),用於模製等。當以塗層形式提供時,組合物塗佈於基板之表面的至少一部分上。可按需要選擇塗佈有該塗佈組合物的表面的量以用於特定目的或預定應用。脫模塗層為層合物之部分,其中脫模塗層係塗佈於基板之上。通常,適用於脫模塗層之基板包括(但不限於)紙、高分子膜,諸如由聚乙烯、聚丙
烯、聚酯組成的彼等高分子膜,等。已發現本發明之催化劑在塗層組合物中的使用在短時間段內提供了尤其良好的固化,該等短時間段包括在約10秒或更短時間、約7秒或更短時間,甚至約5秒或更短時間內。在一個實施例中,固化可在約2至10秒內,甚至在約2至約5秒內實現。另外,固化組合物展現良好結合且可固著至基板,包含(例如)固著至紙。
以下實例意欲說明但不以任何方式限制本發明之範疇。除非另有明確說明,否則所有份數及百分比皆以重量計,且所有溫度皆以攝氏度表示。本申請案中所提及之所有專利、其他公開案及美國專利申請案之全文皆以引用的方式全部併入本文中。
上文所述之內容包括本發明之實例。當然,不可能出於描述本發明之目的而描述組件或方法之每一可想到的組合,但一般熟習此項技術者可認識到,本發明之許多其他組合及排列係可能的。因此,本發明意欲涵蓋屬於所附申請專利範圍之精神及範疇內的所有此等更改、修改及變化。此外,就術語「包括」用於實施方式或申請專利範圍中而言,此術語意欲以類似於術語「包含」在「包含」作為過渡詞用於一請求項中時所解譯之方式而為包括性的。
現將描述本發明之態樣,且可相對於以下實例進一步瞭解本發明之態樣。該等實例僅意欲為說明性的,且不應理解為以任何方式限制本文中所揭示之發明的材料或製程參數、設備或條件。
使用標準希萊克-管線(Schlenk-line)技術在氮氣下進行反應及操作,製備鉑錯合物。在空氣中進行交聯反應。根據用於tBu2-C6H2O2PtCOD(Boyer等人Inorg.Chem 2009,48,第638至645頁.)及C6H4S2PtCOD(Rath等人Inorg.Chim.Acta,2007,306(5),第1767至1770
頁.)的公開程序製備鉑錯合物。將1H、13C及29Si NMR光譜記錄於Bruker 200mHZ及400mHz光譜儀上。除非另有說明,否則用於實例之調配物含有Si-H/Si-乙烯基之比為1.8的SilForceTM SL6900(MviD80Mvi)及SilforceTM SL6020D1(MD15DH 30M)。自邁圖效能材料(Momentive Performance Material)獲得SL6900、SL6020D1、SL4400(MD25DH 27M)、SS4300C(MDH 45M)及SL4500(MDH 25M)。使用以下縮寫及術語:THF,四氫呋喃;NMR,核磁共振;nbd,降冰片二烯;dcp,二環戊二烯;S61,3,5-二甲基己-1-炔-3-醇;ECH,1-乙炔基-1-環己醇。
3,5- t Bu 2 -兒茶酚根PtCOD:將3,5-二第三丁基兒茶酚(0.21g,1mmol)裝入燒瓶中,且將叔丁醇鉀(0.22g,2mmol)添加至希萊克燒瓶中。使用N2淨化燒瓶。將材料溶解於30mL無水THF中。將PtCODCl2(0.35g,1mmol)裝入第二燒瓶中。使用N2淨化燒瓶。將PtCODCl2溶解於60mL CH2Cl2中。經由插管向PtCODCl2溶液添加去質子化兒茶酚。立即形成暗橙色溶液及白色沈澱物。攪拌材料3小時。過濾材料以移除白色固體。於真空中濃縮橙色濾液。在DCM/己烷(60mL,2:1)中提取產物。獲得0.44g橙色固體(90%產率)。1H NMR(CDCl3):6.78(s,1H,芳基),6.64(s,1H,芳基),5.31(m,JPt-H=77Hz,4H,CH),2.64(bs,4H,CH2),2.30(bs,4H,CH2),1.38(s,9H,tBu),1.27(s,9H,tBu)。13C NMR(CDCl3):160.9(C=O),157.6(C=O),140.5(C芳基),135.0(JC-Pt=53.7Hz,C芳基),112.5(CH芳基),110.5(JPt-C=61.6Hz,CH芳基),87.1(JPt-C=173.8Hz,C=C),32.1(C tBu),30.0(tBu),29.8(tBu),29.7(CH2)。195Pt NMR(CDCl3):-3210。
嚬哪醇根PtCOD:在氮氣下將2,3-二甲基-2,3-丁二醇(1.2g,10.2mmol)裝入乾燥圓底燒瓶中,且添加無水THF(30mL)。在氮氣氛圍下將第三丁醇鉀(2.2g,20mmol)裝入另一希萊克燒瓶中,且溶解於無
水THF(30mL)中。將含PtCODCl2(3.6g,9.7mmol)之二氯甲烷(150mL)溶液裝入另一圓底燒瓶中,且置放於氮氣氛圍下。經由插管將2,3-二甲基-2,3-丁二醇溶液傳遞至第三丁醇鉀溶液。在經由插管將混濁混合物傳遞至PtCODCl2溶液之前,允許對其攪拌5min。此產生黃色溶液,當在氮氣下在室溫下對其攪拌時,其緩慢變黑。在4小時之後,停止對該略微混濁之溶液的攪拌,且經由濾紙過濾。該濾液於真空中縮減成棕色固體。將經分離之棕色固體溶解於25mL二氯甲烷中,且使用250mL庚烷稀釋。形成棕色ppt且濾出,縮減該濾液以獲得3.2g棕褐色固體(79%產率)。1H NMR(CDCl3):4.83(bs,JPt-H=61.6Hz,4H,CH),2.53(m,4 H,CH2),2.15(m,4 H,CH2),1.21(s,12 H,CH3)。13C NMR(CDCl3):88.2(JPt-C=164.5Hz,C=C),86.4(CO),30.0(CH2),27.2(JPt-C=20.5,CH3).195Pt NMR(CDCl3):-3180。
C 6 H 4 ONMePtCOD:此材料之製備與3,5-tBu2-兒茶酚根PtCOD之製備類似,不同之處在於將材料萃取至乙醚中。於真空中移除溶劑以得到橙色固體。產率81%。1H NMR(CDCl3):6.5-6.9ppm(m,4H,芳基),5.22(bs,JPt-H=54Hz,2H,CH),4.03(bs,JPt-H=65Hz,2H,CH),3.19(s,JPt-H=30Hz,3H,N-Me),2.2-2.8(m,8H,CH2)。13C NMR(CDCl3):161.4(C=O),151.8(JPt-C=44.8Hz,C=N),118.2(CH芳基),116.6(CH芳基),113.4(JPt-C=59.6Hz,CH芳基),108.7(JPt-C=39Hz,CH芳基),88.9(JPt-C=148.1,C=C),84.3(JPt-C=188.6,C=C),36.7(JPt-C=56.9Hz,N-Me),31.1(CH2),29.2(CH2)。195Pt NMR(CDCl3):-3498ppm。
C 6 H 4 (NMe) 2 PtCOD:此材料之製備與3,5-tBu2-兒茶酚根PtCOD之製備類似,不同之處在於將材料萃取至乙醚中。於真空中移除溶劑。自DCM/戊烷再結晶棕色黏性殘留物。獲得38%產率之深棕色微晶材料。1H NMR(CDCl3):6.67-6.86(m,4H,芳基),4.79(bs,4H,JPt-H=54.7Hz,CH),3.32(bs,6H,JPt-H=29.7Hz,N-Me),2.33-2.76(m,8H,
CH2)。13C NMR(CDCl3):150.0(JPt-C=40.7Hz,C=N),116.1(CH芳基),106.8(JPt-C=40.5Hz,CH芳基),83.1(JPt-C=162.Hz,C=C),36.9(JPt-C=46.4Hz,N-Me),30.4(CH2)。195Pt NMR(CDCl3):-3828ppm。
C 6 H 4 S 2 PtCOD:以與製備3,5-tBu2-兒茶酚根PtCOD類似的方式製備此材料,其不同之處如下。使用氫化鈉(159mg,2當量,60%乳液於礦物油中)而非第三丁醇鉀。自二氯甲烷/庚烷混合物藉由結晶純化粗固體,得到黃色固體。產率28%。1H NMR(CDCl3):7.55(dd,J=6.4Hz,J=2.8Hz,2H,芳基),6.92(dd,J=6.2Hz,J=3.1Hz,2H,芳基),5.50(bs,JPt-H=53.1Hz,4H,CH),2.56(m,8 H,CH2)。13C NMR(CDCl3):145.8(C=S),127.9(JPt-C=79.2Hz,CH芳基),123.0(CH芳基),92.5(JPt-C=117.4Hz,C=C),30.5(CH2)。195Pt NMR(CDCl3):-4068。
C 6 H 4 SOPtCOD:以與製備3,5-tBu2-兒茶酚根PtCOD類似的方式製備此材料。橙色固體。產率73%。1H NMR(CDCl3):7.37(d,J=7.5Hz,1H,芳基),6.87(m,2H,芳基),6.67(m,1 H,芳基),5.69(bs,JPt-H=54.1Hz,2H,CH),5.69(bs,JPt-H=61.6Hz,2H,CH),2.63(m,4 H,CH2),2.39(m,4H,CH2)。13C NMR(CDCl3):171.1(C=S),130.8(C=O),127.9(JPt-C=54.25Hz,CH芳基),124.2(CH芳基),118.5(CH芳基),116.1(JPt-C=78.92Hz,CH芳基),100.6(JPt-C=113.4Hz,C=C),79.8(JC-Pt=174.61Hz,C=C),31.3(CH2),28.9(CH2)。195Pt NMR(CDCl3):-3583。
水楊酸根PtCOD:以與製備3,5-tBu2-兒茶酚根PtCOD類似的方式製備此材料,其不同之處如下。將PtCODCl2溶液添加至含水楊酸及KOtBu之THF攪拌溶液中。使用甲苯洗滌經分離之材料,分離黃色固體。產率49%。1H NMR(CDCl3):8.12(dd,J=8.3Hz,J=1.6Hz,,1H,芳基),7.25(td,J=7.5Hz,J=1.5Hz,,1H,芳基),6.80(t,J=7.5Hz,1H,芳基),6.72(d,J=8.3Hz,1H,芳基),5.36(bs,JPt-H=
66.0Hz,4H,CH),2.76(m,4 H,CH2),2.32(m,4 H,CH2)。13C NMR(CDCl3):165.7(OCO),164.7(CPh),133.1(CPh),132.7(CPh),119.5(JPt-C=50.8Hz,CPh),118.1(CPh),117.6(CPhO),95(JPt-C=168.9Hz,C=C),94.9(JPt-C=184.9Hz,C=C),29.8(CH2),29.7(CH2)。195Pt NMR(CDCl3):-2899。
異丁酸根PtCOD:以與製備3,5-tBu2-兒茶酚根PtCOD類似的方式製備此材料,其不同之處如下。自DCM/庚烷混合物沈澱最終材料,分離棕色固體。產率61%。1H NMR(CDCl3):5.17(bs,JPt-H=66.2Hz,4H,CH),2.68(m,4 H,CH2),2.28(m,4 H,CH2),1.39(s,6 H,CH3)。13C NMR(CDCl3):193.5(OCO),93.0(JPt-C=181.5Hz,C=C),89.9(JPt-C=157.9Hz,C=C),79.6(CO),30.7(CH3),29.9(CH2)。195Pt NMR(CDCl3):-3092。
乳酸根PtCOD:以與製備3,5-tBu2-兒茶酚根PtCOD類似的方式製備此材料,其不同之處如下。將PtCODCl2溶液添加至含乳酸及KOtBu之THF攪拌溶液(歸因於後者之不可溶性)。將粗混合物溶解於DCM中且用庚烷稀釋,以分離含有溶劑材料之棕色固體。材料在靜置之後分解。1H NMR(CDCl3):5.22(s,JPt-H=71.1Hz,2H,CH),5.15(s,JPt-H=62.9Hz,2H,CH),4.59(q,J=6.87Hz,1H,OCH),2.69(m,4 H,CH2),2.27(m,4 H,CH2),3.43(d,J=6.87Hz,3H,CH3)。13C NMR(CDCl3):192.3(OCO),93.5(JPt-C=183.7Hz,C=C),93.3(JPt-C=184.0Hz,C=C),89.9(JPt-C=160.6Hz,C=C),89.8(JPt-C=161.4Hz,C=C),75.6(OCH),29.9(CH2),29.8(CH2),29.7(CH2),29.6(CH2)。195Pt NMR(CDCl3):-3079。
丙二醇根PtCOD:以與製備3,5-tBu2-兒茶酚根PtCOD類似的方式製備此材料,其不同之處如下。過濾粗混合物,且將濾液縮減成黑色半固體。藉由1H NMR分析該半固體,展示溶劑材料之雜質及過量丙
二醇。材料在靜置之後分解。1H NMR(CDCl3):4.79(s,JPt-H=61.7Hz,4H,CH),3.85(t,J=4.93Hz,4H,OCH),2.66(m,4 H,CH2),2.14(m,4 H,CH2),1.80(五重峰,J=5.60Hz,2H,CH2)。
3,5- t Bu 2 -C 6 H 2 O 2 Ptnbd:將PtnbdCl2(0.35g,0.09mmol)及兒茶酚(0.2g,0.09mmol)溶解於40mL DCM中。使用N2淨化材料15分鐘。將NEt3(1mL,7.2mmol)添加至無色溶液中。立即形成橙色溶液。攪拌材料數小時。於真空中移除溶劑。使用去離子水(3×100mL)洗滌橙色固體。將橙色固體萃取至DCM中且過濾。於真空中濃縮橙色液體。獲得0.387g橙色固體(85%產率)。1H NMR(CDCl3):6.77(d,1H,芳基),6.63(d,1H,芳基),4.92(bs,JPt-H=69Hz,4H,CH),4.26(bs,2H,CH),1.51(s,2H,CH2),1.37(s,9H,tBu),1.26(s,9H,tBu)。13C NMR(CDCl3):161.2(C=O),158.1(C=O),140.5(C芳基),134.6(JPt-C=54.2Hz,C芳基),112.5(CH芳基),110.0(JPt-C=68.9,CH芳基),67.5(JPt-C=125.2Hz,CH2),65.7(JPt-C=117.5Hz,C=C),65.5(JPt-C=123Hz,C=C),46.9(JPt-C=48.4Hz,CH),34.8(C tBu),34(C tBu),32(tBu),29.5(tBu)。195Pt NMR(CDCl3):-3199ppm。
3,5- t Bu 2 -C 6 H 2 O 2 PtC 6 H 10 :以與3,5-tBu2-C6H2O2Ptnbd合成類似的方式自PtC6H10Cl2製備此材料,不同之處在於自DCM/庚烷結晶該材料。獲得橙色固體(55%產率)。1HNMR(CDCl3):6.78(d,J=2.0Hz,1H,芳基),6.66(d,J=2.0Hz,1H,芳基),5.29(m,2H,CH),4.67(dd,J=8.0Hz,J=5.3Hz,JPt-H=63.6Hz,2H,CH2),3.50(d,J=13.7Hz,JPt-H=52.2,2H,CH2),2.66(m,2H,CH2),2.25(m,2H,CH2),1.38(s,9H,tBu),1.27(s,9H,tBu)。13C NMR(CDCl3):161.3(C=O),157.7(C=O),140.9(C芳基),135.0(C芳基),112.8(CH芳基),110.5(JPt-C=63.4Hz,CH芳基),92.40(JPt-C=150.8Hz,C=C),92.3(JPt-C=150.8Hz,C=C),65.1(JPt-C=170.2Hz,CH2),64.8(JPt-C=176.2Hz,CH2),32.1(CH2),
31.39(C tBu),31.4(C tBu),29.7(tBu)。195Pt NMR(CDCl3):-3320。
3,5- t Bu 2 -C 6 H 2 O 2 Ptdcp:以與以上3,5-tBu2-C6H2O2Ptnbd合成類似的方式自PtdcpCl2製備此材料,不同之處在於自DCM/戊烷再結晶該材料。獲得橙色固體(68%產率)。1H NMR(CDCl3):6.73(d,1H,芳基),6.62(d,1H,芳基),6.45(bs,1H,CH),6.07(bs,1H,CH),5.70(bs,1H,CH),5.25(bs,1H,CH),3.81(m,1H,CH),3.50(bs,1H,CH),2.83(m,2H,CH),1.9-2.40(m,4H,CH2),1.38(s,9H,tBu),1.26(s,9H,tBu)。13C NMR(CDCl3):160.0(C=O),157.6(C=O),140.8(C芳基),134.9(C芳基),112.4(CH芳基),110.7(JPt-C=63.3Hz,CH芳基),100(JPt-C=164.6Hz,C=C),90.4(JPt-C=149Hz,C=C),89.0(JPt-C=149Hz,C=C),83.3(JPt-C=187.2Hz,C=C),60.8(JPt-C=72.2Hz,CH),55.2(CH2),44.6(CH),42.8(CH),34.8(C tBu),33.2(C tBu),32.0(tBu),29.7(tBu)。195Pt NMR(CDCl3):-3093ppm。
製備用於每一3,5-二甲基-1-己炔-3-醇重量百分比負載量之調配物的母料。對於0.23重量%母料,將SL6900(168.57g)、SL6020D1(10.07g)及3,5二甲基1-己炔-3-醇(0.42g)添加至橄欖綠的廣口瓶中。藉由劇烈震盪來混合調配物。除了0.009重量% 3,5二甲基1-己炔-3-醇調配物,所有調配物皆類似地製備。對於具有0.009重量% 3,5二甲基1-己炔-3-醇之調配物,使用含10% 3,5二甲基1-己炔-3-醇之甲苯溶液而非純3,5二甲基1-己炔-3-醇。藉由將催化劑(0.023mmol)溶解於溶劑(2mL)中來製備催化劑溶液。將母料之等分試樣(10g)添加至小瓶中。在即將運行DSC之前添加催化劑溶液(140μL)。藉由劇烈震盪來混合調配物。運行DSC。DSC程式在25℃下保持平衡,接著以10℃/min勻變至200℃。
製備調配物之母料。將母料調配物之等分試樣(150g)添加至橄欖綠的廣口瓶中。製備催化劑溶液(含0.0045g Pt之1mL CH3Cl)。將催化劑溶液添加至橄欖綠的廣口瓶中。將調配物放入25℃浴槽中持續30分鐘。獲得初始黏度。將樣品放入敞開的容器中之40℃浴槽中,持續4小時。將樣品放入25℃浴槽中。獲得4小時黏度。
使用SL6900(700g)及SL6020D1(41.8g)及抑制劑製備調配物之儲備批料。混合材料。藉由將Pt錯合物(0.1mmol)溶解於5mL甲苯來製備催化劑溶液。將催化劑溶液添加至儲備調配物中。在試驗性塗佈機上運行材料。藉由可萃取物百分比、塗佈重量以及塗片試驗及遷移試驗來分析塗層。
將約50g UVLSR2060裝入混合杯。製備催化劑之儲備溶液(含0.011g(嚬哪醇根)PtCOD之3mL二甲苯等)。將催化劑溶液之等分試樣添加至混合杯中,得到10ppm Pt負載量(0.3mL嚬哪醇根PtCOD儲備溶液)。快速混合材料30秒兩次。將混合調配物(約2g)添加至鋁稱重皿。將材料放入120℃的烘箱中。
所有調配物含有30ppm Pt負載量。tBu2-C6H2O2為3,5-tBu2-兒茶酚根。
在含有SL6900及SL6020的調配物中使用不同催化劑在順丁烯二酸二烯丙酯(作為抑制劑)的不同負載量下評估調配物之黏度。將調配物加熱至40℃。所有調配物含有30ppm Pt負載量。結果展示於表2中。
在含有SL6900及SL6020的調配物中評估具有不同催化劑但無抑制劑的調配物的工作壽命。在25℃下儲存調配物。所有調配物含有30ppm Pt負載量。當將容器倒置而材料不再流動時,可確定膠凝點。結果展示於表3中。
使用各種Pt催化劑評估塗佈於超級軋光牛皮紙上之調配物的固化。評估超級軋光牛皮紙(SCK)及玻璃紙上之組合物的固化。調配物含有SL6900、SL6020及0.24重量% S61。所有調配物含有30ppm Pt負載量。使用試驗性塗佈機塗佈及固化材料。線速度為60fpm且烘箱停留時間為10秒。結果展示於表4中。
使用各種Pt催化劑評估塗佈於SCK紙上、將順丁烯二酸二烯丙酯(DAM)用作抑制劑的調配物的固化。調配物含有SL6900、SL6020及0.24重量% DAM。所有調配物含有30ppm Pt負載量。使用試驗性塗佈機塗佈及固化材料。線速度為60fpm且烘箱停留時間為10秒。結果展示於表5中。
使用具有LSR2060調配物及各種Pt催化劑的簡單固化試驗評估固
化。所有調配物含有10ppm Pt負載量。在120℃下固化材料。
使用各種Pt催化劑評估塗佈於紙上之調配物的固化。所有調配物含有30ppm Pt負載量。使用試驗性塗佈機塗佈及固化材料。結果展示於表7-11中。
上文已描述本發明之實施例,其他人在閱讀及理解本說明書之後可想到修改及更改。如下申請專利範圍意欲包括所有修改及更改,如其出現於申請專利範圍或其等效物之範疇內的程度。
Claims (43)
- 一種用於製備交聯產物的方法,其包含使(a)烯基聚矽氧、(b)氫矽氧烷、(c)視情況選用之固化抑制劑及(d)催化劑視情況在溶劑存在下發生反應,其中該催化劑包含下式化合物:
- 如請求項1之方法,其中E1及E2為O。
- 如請求項1之方法,其中R1-X2-R2係選自1,5-環辛二烯、降冰片二烯、二環戊二烯或1,5-己二烯。
- 如請求項1之方法,其中E1-X1-E2係選自醯胺基酚根、伸苯基二醯胺、苯二硫醇根、巰基酚根、巰基乙醇根、嚬哪醇根、伸乙基二醇根、丙二醇根、兒茶酚根、經取代之兒茶酚根、水楊酸 根、乙二酸根或丙二酸根。
- 如請求項4之方法,其中R1-X2-R2為1,5-環辛二烯。
- 如請求項1之方法,其中E1-X1-E2為嚬哪醇根,且R1-X2-R2為1,5-環辛二烯。
- 如請求項8之方法,其中R8、R9、R10及R11各自為氫。
- 如請求項8之方法,其中R8及R10係獨立地選自C1-C20烷基,且R9及R11各自為氫。
- 如請求項10之方法,其中R8及R10各自為第三丁基。
- 如請求項7至11中任一項之方法,其中E1及E2各自為O。
- 如請求項8至11中任一項之方法,其中E1及E2係獨立地選自O及S。
- 如請求項1至11中任一項之方法,其中該可固化烯基聚矽氧具有下式:Mvi aTbDcMdQe其中Mvi a=R12 2R13SiO1/2;Tb=R14SiO3/2,其中R14係選自R12或 R13;Dc=R12R14SiO2/2,其中R14係選自R12或R13;Md=R12 3SiO1/2;且Qe=SiO4/2;R12係獨立地選自具有一至四十個碳、視情況含有至少一個雜原子的單價烴基;且R13係選自具有兩個至四十個碳原子、視情況含有至少一個雜原子的末端烯烴單價烴基,其中該烯基聚矽氧之組合物每一鏈包含至少兩個可發生矽氫化反應的不飽和基團;a0、b0、d0、e0;且a+b+c+d+e在50-20,000範圍內。
- 如請求項1至11中任一項之方法,其中該氫矽氧烷係選自式Ma'MH b'Dc'DH d'Te'TH fQg化合物,其中下標a'、b'、c'、d'、e'、f及g係使得矽氧烷型反應物之莫耳質量為100至100,000道爾頓;M為式R15 3SiO1/2之單官能基團,D為式R15 2SiO2/2之雙官能基團,T為式R15SiO3/2之三官能基團,且Q為式SiO4/2之四官能基團,MH為HR15 2SiO1/2,TH為HSiO3/2,且DH為R15HSiO2/2,其中R15之每次出現係獨立地選自C1-C40烷基、C1-C40經取代烷基、C6-C14芳基或經取代芳基,其中R15視情況含有至少一個雜原子。
- 如請求項1至11中任一項之方法,其中該抑制劑係選自烯系不飽和醯胺、芳族不飽和醯胺、炔系化合物、烯系不飽和異氰酸酯、烯烴矽氧烷、不飽和烴二酯、不飽和酸之不飽和烴單酯、共軛或經分離之烯-炔、氫過氧化物、酮、亞碸、胺、膦、亞磷酸鹽、亞硝酸鹽、二氮丙啶或其兩種或兩種以上之組合。
- 如請求項1至11中任一項之方法,其中鉑之濃度為約100ppb(十億分率)至約100ppm(百萬分率)。
- 如請求項1至11中任一項之方法,其中組分(c)係以約0至約10重量%之量存在。
- 如請求項1至11中任一項之方法,其中組分(a)-(d)係提供於單一組合物中。
- 如請求項1至11中任一項之方法,其中該反應係在約10秒或更短時間內完成。
- 如請求項1至11中任一項之方法,其中該反應係在2至5秒內完成。
- 如請求項1至11中任一項之方法,其中該方法係藉由在高於室溫之溫度下加熱而實施。
- 如請求項1至11中任一項之方法,其中當抑制劑(c)之濃度為約0.25重量%或更小時,組分(a)-(d)之組合物具有至少2小時之工作壽命。
- 一種組合物,其包含(a)烯基聚矽氧、(b)氫矽氧烷、(c)視情況選用之固化抑制劑及(d)催化劑,視情況在溶劑存在下,其中該催化劑包含下式化合物:
- 如請求項24之組合物,其中E1及E2為O。
- 如請求項24之組合物,其中R1-X2-R2係選自1,5-環辛二烯、降冰片二烯、二環戊二烯或1,5-己二烯。
- 如請求項24之組合物,其中E1-X1-E2係選自醯胺基酚根、伸苯基二醯胺、苯二硫醇根、巰基酚根、巰基乙醇根、嚬哪醇根、乙二醇根、丙二醇根、兒茶酚根、經取代之兒茶酚根、水楊酸根、乙二酸根或丙二酸根。
- 如請求項27之組合物,其中R1-X2-R2為1,5-環辛二烯。
- 如請求項24之組合物,其中該催化劑(c)係選自嚬哪醇根-Pt-環辛二烯、丙二醇根-Pt-環辛二烯、水楊酸根-Pt-環辛二烯或其兩種或兩種以上之組合。
- 如請求項24至29中任一項之組合物,其中該可固化烯基聚矽氧具有下式:Mvi aTbDcMdQe其中Mvi a=R12 2R13SiO1/2;Tb=R14SiO3/2,其中R14係選自R12或R13;Dc=R12R14SiO2/2,其中R14係選自R12或R13;Md=R12 3SiO1/2;且Qe=SiO4/2;R12係獨立地選自具有一至四十個碳、視情況含有至少一個雜原子的單價烴基;且R13係選自具有兩個至四十個碳原子、視情況含有至少一個雜原子的末端烯烴單價烴基,其中該烯基聚矽氧每一鏈包含至少兩個可發生矽氫化反應的不飽和基團;a0、b0、d0、e0;且a+b+c+d+e在50-20,000範圍內。
- 如請求項24至29中任一項之組合物,其中該氫矽氧烷係選自式Ma'MH b'Dc'DH d'Te'TH fQg化合物,其中下標a'、b'、c'、d'、e'、f及g 係使得矽氧烷類型反應物之莫耳質量為100至100,000道爾頓;M為式R15 3SiO1/2之單官能基團,D為式R15 2SiO2/2之雙官能基團,T為式R15SiO3/2之三官能基團,且Q為式SiO4/2之四官能基團,MH為HR15 2SiO1/2,TH為HSiO3/2,且DH為R15HSiO2/2,且R15之每次出現係獨立地選自C1-C40烷基、C1-C40經取代烷基、C6-C14芳基或經取代芳基,其中R15視情況含有至少一個雜原子。
- 如請求項24至29中任一項之組合物,其中該抑制劑係選自烯系不飽和醯胺、芳族不飽和醯胺、炔系化合物、烯系不飽和異氰酸酯、烯烴矽氧烷、不飽和烴二酯、不飽和酸之不飽和烴單酯、共軛或經分離之烯-炔、氫過氧化物、酮、亞碸、胺、膦、亞磷酸鹽、亞硝酸鹽、二氮丙啶或其兩種或兩種以上之組合。
- 如請求項24至29中任一項之組合物,其中鉑之濃度為約100ppb至約100ppm。
- 如請求項24至29中任一項之組合物,其包含作為單一組分組合物之組分(a)-(d)。
- 一種固化材料,其係由如請求項24至34中任一項之組合物製備。
- 一種塗層,其係由如請求項24至34中任一項之組合物形成。
- 一種基板,其具有至少部分塗佈有如請求項36之塗層的表面。
- 如請求項37之基板,其中該塗層係固著至該基板表面。
- 如請求項39之化合物,其中R1-X2-R2係選自1,5-環辛二烯、降冰片二烯、二環戊二烯或1,5-己二烯。
- 如請求項39之化合物,其中該化合物係選自嚬哪醇根-Pt-環辛二烯、丙二醇根-Pt-環辛二烯或水楊酸根-Pt-環辛二烯。
- 一種用於製備交聯產物的方法,其包含使(a)烯基聚矽氧、(b)氫矽氧烷、(c)固化抑制劑及(d)催化劑視情況在溶劑存在下發生反應,其中該催化劑包含下式化合物:
- 如請求項42之方法,其中該反應係在約10秒或更短時間內發生。
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