TWI676025B - 熱膨脹係數檢測系統及方法 - Google Patents
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Abstract
一種熱膨脹係數檢測系統及方法,用以解決習知熱膨脹係數檢測方法無法達到即時性檢測的問題。係包含:一測試件,具有一檢測樣本及一基板;一測量模組,電性連接該測試件,該測量模組用以產生一加熱電流進入該檢測樣本並維持一加熱時間,及在該檢測樣本與該基板之間施加一電位差並測量一電容值;及一資料處理模組,耦合連接該測量模組,該資料處理模組藉由分析該加熱電流、該加熱時間、該電位差及該電容值,得到一極限電流值及一穩定時間,及該檢測樣本與該基板之間的一吸附電壓值,再導入一經驗公式計算出該檢測樣本的熱膨脹係數。
Description
本發明係關於一種材料檢測方式,尤其是一種用於半導體薄膜材料的熱膨脹係數檢測系統及方法。
微機電系統(Microelectromechanical System,MEMS)係通過半導體製程及機密機械技術,所製造整合微小元件功能的微系統,可以包含微感測器、微處理器及微致動器等元件。微機電結構普遍通過面型微加工技術(Surface micromachining)製造,係利用蒸鍍、濺鍍或化學沉積等半導體製程方法,將多層薄膜疊合而成,因此,各該薄膜材料的成分、厚度、機械性質等製程差異,將影響微機電系統的功能及品質,而藉由微觀量測及分析技術,求取薄膜材料的應力、形變及熱膨脹係數等特性,係可以進一步用於調整製程參數,而提高產品良率。
一般檢測薄膜材料的方法,係使用影像干涉(Interference)原理測量薄膜材料的彎曲量,而薄膜材料經過熱處理以量測薄膜材料在不同溫度下的彎曲量,係可以進一步計算出薄膜材料的熱膨脹係數,惟,習知的薄膜材料熱膨脹係數檢測方法需多次擷取干涉影像,才足以通過公式計算出熱膨脹係數,導致其檢測流程不符合生產線即時性的需求,另外,生產線必須加裝光源以發射光束於薄膜材料,及影像擷取裝置以收集干涉影像,導致生
產設備成本大幅增加,且其檢測流程與電性測試製程不相容,導致額外的人力需求。
有鑑於此,習知的熱膨脹係數檢測方法確實仍有加以改善之必要。
為解決上述問題,本發明的目的是提供一種熱膨脹係數檢測系統及方法,可以即時檢測出薄膜材料的熱膨脹係數,提升產線的檢驗速度。
本發明的次一目的是提供一種熱膨脹係數檢測系統及方法,具有操作流程簡單快速,可以節省人力及設備需求。
本發明的熱膨脹係數檢測系統,包含:一測試件,具有一檢測樣本及一基板,該檢測樣本與該基板電絕緣,該檢測樣本具有一樣本長度、一樣本寬度及一樣本厚度,該檢測樣本受熱變形之前,該檢測樣本與該基板之間具有一初始間隙;一測量模組,電性連接該測試件,該測量模組用以產生一加熱電流進入該檢測樣本並維持一加熱時間,及在該檢測樣本與該基板之間施加一電位差,並測量該檢測樣本與該基板之間的電容值;及一資料處理模組,耦合連接該測量模組,該資料處理模組藉由分析該加熱電流、該加熱時間、該電位差及該電容值,得到該測試件容許承受之最大加熱電流係一極限電流值,及該檢測樣本加熱後到達穩定之時間係一穩定時間,及該檢測樣本與該基板之間的一吸附電壓值,該資料處理模組藉由一經驗公式計算出該檢測樣本之一熱膨脹係數,該經驗公式如下:
其中,α為該檢測樣本之熱膨脹係數;B L 為該檢測樣本之樣本長度;B W 為該檢測樣本之樣本寬度;B T 為該檢測樣本之樣本厚度;g 0為該檢測樣本與該基板之間的初始間隙;I為該加熱電流;I cr 為該極限電流值;t為該加熱時間;t st 為該穩定時間;V pi 為該吸附電壓值;k為該測試件之熱傳導係數;β為該測試件之電阻溫度係數;ρ為該測試件之電阻率;E為該測試件之楊氏係數;ε為空氣之介電係數;N1為第一待定係數;N2為第二待定係數;N3為第三待定係數;N4為第四待定係數;N5為第五待定係數。
本發明的熱膨脹係數檢測方法,係使用上述之熱膨脹係數檢測系統,包含:一加熱步驟,以穩定之該加熱電流進入該測試件並持續該加熱時間,該檢測樣本受熱變形;一測量步驟,以逐漸升高之該電位差作用於該測試件之該檢測樣本與該基板之間,並同步測量該電容值,以找出該吸附電壓值;及一計算步驟,將該加熱電流、該加熱時間及該吸附電壓值導入該經驗公式,計算出該檢測樣本之熱膨脹係數。
據此,本發明的熱膨脹係數檢測系統及方法,係藉由穩定的加熱電流使該檢測樣本受熱變形,並偵測該檢測樣本的吸附電壓值,再將該吸附電壓值導入該經驗公式,以計算出該檢測樣本的熱膨脹係數,由於檢測過程僅使用電訊號加熱及偵測電訊號,因此可以快速且即時地得到熱膨脹係數,可方便運用於薄膜材料元件的生產線,如此,本發明係具有提升檢測速度及產能的功效,還可以節省人力及設備需求。
其中,該測試件具有二電極端分別連接該檢測樣本的二端,且各該電極端與該基板之間具有一支撐層。如此,該檢測樣本架空於該基板之上且該測試件形成橋型結構,係具有電絕緣及產生電容值的功效。
其中,該測試件之該二電極端之間的距離係該樣本長度,該檢測樣本與該電極端之接觸面的寬係該樣本寬度,及接觸面的高係該樣本厚度。如此,該樣本長度、樣本寬度及樣本厚度可以表示該檢測樣本受熱變形的狀態,係具有建立經驗公式的功效。
其中,該測量模組具有一組電流導線分別電性連接該測試件之該二電極端。如此,該加熱電流可以通過該電流導線及該二電極端進入該檢測樣本,係具有控制電流加熱檢測樣本的功效。
其中,該測量模組具有一組測量導線分別電性連接其中一電極端及該基板。如此,該檢測樣本與該基板之間可以存在該電位差,係具有測量電容值及觀察間隙變化的功效。
其中,該第一待定係數為1.4~1.5。如此,依據不同之樣本厚度及樣本長度可以調整該第一待定係數,係具有提升經驗公式的計算準確度的功效。
其中,該第二待定係數為0.4~0.5。如此,依據不同之樣本長度及樣本寬度可以調整該第二待定係數,係具有提升經驗公式的計算準確度的功效。
其中,該第三待定係數為1.8~1.9。如此,依據不同之樣本厚度及樣本寬度可以調整該第三待定係數,係具有提升經驗公式的計算準確度的功效。
其中,該第四待定係數為1.6~1.7。如此,依據不同之加熱電流及極限電流值可以調整該第四待定係數,係具有提升經驗公式的計算準確
度的功效。
其中,該第五待定係數為0.9~1.0。如此,依據不同之加熱時間及穩定時間可以調整該第五待定係數,係具有提升經驗公式的計算準確度的功效。
1‧‧‧測試件
11‧‧‧電極端
12‧‧‧基板
13‧‧‧支撐層
2‧‧‧測量模組
21‧‧‧電流導線
22‧‧‧測量導線
3‧‧‧資料處理模組
B‧‧‧檢測樣本
BL‧‧‧樣本長度
BW‧‧‧樣本寬度
BT‧‧‧樣本厚度
g‧‧‧間隙
g0‧‧‧初始間隙
△g‧‧‧間隙變化量
I‧‧‧加熱電流
t‧‧‧加熱時間
V‧‧‧電位差
C‧‧‧電容值
Icr‧‧‧極限電流值
tst‧‧‧穩定時間
Vpi‧‧‧吸附電壓值
S1‧‧‧加熱步驟
S2‧‧‧測量步驟
S3‧‧‧計算步驟
〔第1圖〕本發明一較佳實施例的系統方塊圖。
〔第2a圖〕本發明一較佳實施例的局部立體圖。
〔第2b圖〕如第2a圖所示的上視圖。
〔第2c圖〕如第2a圖所示的側視圖。
〔第2d圖〕如第2c圖所示的局部放大圖。
〔第3圖〕本發明一較佳實施例的動作情形圖。
〔第4a圖〕如第3圖中的電容值C對應加熱時間t之變化趨勢圖。
〔第4b圖〕如第4a圖中的電容值C換算之間隙變化量對應加熱時間t之變化趨勢圖。
〔第4c圖〕如第3圖中的電容值C對應電位差V之變化趨勢圖。
〔第5圖〕本發明一較佳實施例的步驟流程圖。
為讓本發明之上述及其他目的、特徵及優點能更明顯易懂,下文特舉本發明之較佳實施例,並配合所附圖式,作詳細說明如下:請參照第1圖所示,其係本發明熱膨脹係數檢測系統的較佳實施例,係包含一測試件1、一測量模組2及一資料處理模組3,該測量模組2
電性連接該測試件1,該資料處理模組3耦合連接該測量模組2。
請參照第2a圖所示,該測試件1係由二電極端11分別連接一檢測樣本B的二端,該二電極端11位於一基板12,各該電極端11與該基板12之間具有一支撐層13,使該檢測樣本B藉由二電極端11及該二支撐層13架空於該基板12之上,該測試件1係形成橋型結構。該測試件1可以藉由微影、蝕刻等半導體製程堆疊組合而成,其中,該二電極端11係半導體且成分可以是矽(Silicon),該基板12可以是SOI晶圓(Silicon On Insulator Wafer),該支撐層13係電絕緣體且成分可以是二氧化矽(Silicon Dioxide)。
請參照第2b、2c圖所示,該檢測樣本B為長方體結構,係具有樣本長度BL、樣本寬度BW及樣本厚度BT,該測試件1之該二電極端11之間的距離係該樣本長度BL,該檢測樣本B與該電極端11之接觸面的寬係該樣本寬度BW,及接觸面的高係該樣本厚度BT,另外,該檢測樣本B架空於該基板12上,使該檢測樣本B與該基板12之間具有一間隙g。請再參照第2d圖所示,該檢測樣本B受熱變形之前,該間隙g等於一初始間隙g0,該檢測樣本B受熱變形之後,該間隙g改變且該初始間隙g0減該間隙g等於一間隙變化量△g。
請參照第3圖所示,該測量模組2可以是半導體分析儀,由一組電流導線21分別電性連接該測試件1之該二電極端11,該測量模組2可以產生一加熱電流I並藉由該電流導線21及該二電極端11導引,使該加熱電流I進入該檢測樣本B並維持一加熱時間t,達到加熱該檢測樣本B的功效。另外,該測量模組2由一組測量導線22分別電性連接其中一電極端11及該基板12,該測量模組2可以在該檢測樣本B與該基板12之間施加逐漸升高之一電位差V,並同步測量該檢測樣本B與該基板12之間的電容值C。
該資料處理模組3可以是計算機,用於導入熱膨脹係數檢測之
相關參數,係包含:該樣本長度BL、該樣本寬度BW、該樣本厚度BT、該初始間隙g0、該加熱電流I、該加熱時間t、該電位差V及該電容值C,該資料處理模組3係可以藉由該測量模組2使用多組不同的加熱電流I作用於該測試件1,並觀察該電容值C與該加熱時間t之關係;該資料處理模組3還可以藉由該測量模組2逐漸提高該電位差V,並觀察該電位差V與該電容值C之關係。
其中,如第4a圖所示,該加熱電流I作用於該測試件1之過程中,該電容值C對應該加熱時間t之變化趨勢,依據不同大小的加熱電流I而不同,當該加熱電流過大時,造成該測試件1之結構損壞而無法測量該電容值C(如第4a圖之I4曲線所示),又,該測試件1所能夠承受之最大加熱電流I係一極限電流值Icr(如第4a圖之Icr曲線所示)。
又,如第4b圖所示,該測試件1之該電容值C係可以換算為該間隙變化量△g,則該間隙變化量△g對應該加熱時間t變化,當該間隙變化量△g達到最大值時,該間隙變化量△g之變化趨於穩定,由開始加熱該測試件1到該間隙變化量△g穩定之過程係一穩定時間tst。
又,如第4c圖所示,加熱該測試件1之過程結束後,測量該電容值C對應該電位差V之變化趨勢,該電容值C急遽升高之瞬間的電位差V係一吸附電壓值Vpi。
該資料處理模組3依據上述關係圖,係可以將該極限電流值Icr、該穩定時間tst及該吸附電壓值Vpi等該測試件1之特性參數,導入一經驗公式並計算出該檢測樣本B之熱膨脹係數α,該經驗公式如下:
其中,k為該測試件1之熱傳導係數;β為該測試件1之電阻溫度係數;ρ為該測試件1之電阻率;E為該測試件1之楊氏係數;ε為空氣之介電係數;N1係第一待定係數且較佳為1.4~1.5;N2係第二待定係數且較佳為0.4~0.5;N3係第三待定係數且較佳為1.8~1.9;N4係第四待定係數且較佳為1.6~1.7;N5係第五待定係數且較佳為0.9~1.0。
請參照第5圖所示,其係本發明熱膨脹係數檢測方法的較佳實施例,係包含一加熱步驟S1、一測量步驟S2及一計算步驟S3。
該加熱步驟S1係以該測量模組2使穩定之該加熱電流I進入該測試件1並持續該加熱時間t,使該檢測樣本B受熱變形。
該測量步驟S2係以該測量模組2使逐漸升高之該電位差V作用於該測試件1,並同步測量該電容值C,以找出該吸附電壓值Vpi。
該計算步驟S3係將該加熱電流I、該加熱時間t及該吸附電壓值Vpi導入該經驗公式,計算出該熱膨脹係數α。
綜上所述,本發明的熱膨脹係數檢測系統及方法,係藉由穩定的加熱電流使該檢測樣本受熱變形,並偵測該檢測樣本的吸附電壓值,再將該吸附電壓值導入該經驗公式,以計算出該檢測樣本的熱膨脹係數,由於檢測過程僅使用電訊號加熱及偵測電訊號,因此可以快速且即時地得到熱膨脹係數,可方便運用於薄膜材料元件的生產線,如此,本發明係具有提升檢測速度及產能的功效,還可以節省人力及設備需求。
雖然本發明已利用上述較佳實施例揭示,然其並非用以限定本發明,任何熟習此技藝者在不脫離本發明之精神和範圍之內,相對上述實施例進行各種更動與修改仍屬本發明所保護之技術範疇,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
Claims (11)
- 一種熱膨脹係數檢測系統,包含:一測試件,具有一檢測樣本及一基板,該檢測樣本與該基板電絕緣,該檢測樣本具有一樣本長度、一樣本寬度及一樣本厚度,該檢測樣本受熱變形之前,該檢測樣本與該基板之間具有一初始間隙;一測量模組,電性連接該測試件,該測量模組用以產生一加熱電流進入該檢測樣本並維持一加熱時間,及在該檢測樣本與該基板之間施加一電位差,並測量該檢測樣本與該基板之間的電容值;及一資料處理模組,耦合連接該測量模組,該資料處理模組藉由分析該加熱電流、該加熱時間、該電位差及該電容值,得到該測試件容許承受之最大加熱電流係一極限電流值,及該檢測樣本加熱後到達穩定之時間係一穩定時間,及該檢測樣本與該基板之間的一吸附電壓值,該資料處理模組藉由一經驗公式計算出該檢測樣本之一熱膨脹係數,該經驗公式如下:其中,α為該檢測樣本之熱膨脹係數;B L 為該檢測樣本之樣本長度;B W 為該檢測樣本之樣本寬度;B T 為該檢測樣本之樣本厚度;g 0為該檢測樣本與該基板之間的初始間隙;I為該加熱電流;I cr 為該極限電流值;t為該加熱時間;t st 為該穩定時間;V pi 為該吸附電壓值;k為該測試件之熱傳導係數;β為該測試件之電阻溫度係數;ρ為該測試件之電阻率;E為該測試件之楊氏係數;ε為空氣之介電係數;N1為第一待定係數;N2為第二待定係數;N3為第三待定係數;N4為第四待定係數;N5為第五待定係數。
- 如申請專利範圍第1項所述之熱膨脹係數檢測系統,其中,該測試件具有二電極端分別連接該檢測樣本的二端,且各該電極端與該基板之間具有一支撐層。
- 如申請專利範圍第2項所述之熱膨脹係數檢測系統,其中,該測試件之該二電極端之間的距離係該樣本長度,該檢測樣本與該電極端之接觸面的寬係該樣本寬度,及接觸面的高係該樣本厚度。
- 如申請專利範圍第2項所述之熱膨脹係數檢測系統,其中,該測量模組具有一組電流導線分別電性連接該測試件之該二電極端。
- 如申請專利範圍第2項所述之熱膨脹係數檢測系統,其中,該測量模組具有一組測量導線分別電性連接其中一電極端及該基板。
- 一種熱膨脹係數檢測方法,係使用申請專利範圍第1至5項中任一項所述之熱膨脹係數檢測系統,該方法包含:一加熱步驟,以穩定之該加熱電流進入該測試件並持續該加熱時間,該檢測樣本受熱變形;一測量步驟,以逐漸升高之該電位差作用於該測試件之該檢測樣本與該基板之間,並同步測量該電容值,以找出該吸附電壓值;及一計算步驟,將該加熱電流、該加熱時間及該吸附電壓值導入該經驗公式,計算出該檢測樣本之熱膨脹係數。
- 如申請專利範圍第6項所述之熱膨脹係數檢測方法,其中,該第一待定係數為1.4~1.5。
- 如申請專利範圍第6項所述之熱膨脹係數檢測方法,其中,該第二待定係數為0.4~0.5。
- 如申請專利範圍第6項所述之熱膨脹係數檢測方法,其中,該第三待定係數為1.8~1.9。
- 如申請專利範圍第6項所述之熱膨脹係數檢測方法,其中,該第四待定係數為1.6~1.7。
- 如申請專利範圍第6項所述之熱膨脹係數檢測方法,其中,該第五待定係數為0.9~1.0。
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CN102608149A (zh) * | 2012-01-10 | 2012-07-25 | 东南大学 | 多晶硅热膨胀系数在线测试结构 |
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