TWI673152B - 具有轉印圖型之被轉印物之製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種即使進行重複轉印，轉印物仍不易從基板剝離，不易附著於模具之製造方法。一種被轉印物之製造方法，其特徵為包含，步驟(1)：對已形成脫模層之於表面具有凹凸圖型之模具之上述脫模層塗佈包含氟聚醚之組成物；步驟(2)：將上述模具壓向被轉印物而轉印上述凹凸圖型；及，步驟(3)：從上述被轉印物使上述模具脫模而取得具有轉印圖型之上述被轉印物。

Description

具有轉印圖型之被轉印物之製造方法
本發明係關於具有轉印圖型之被轉印物之製造方法。
一般性機械加工中，脫模劑係使用作為提升模具(鑄模)與被加工材料之高分子樹脂之剝離性為目的。作為此種脫模劑，從過往已知有矽油或氟樹脂溶液。但，矽油或氟樹脂溶液在使用作為壓印模具(壓印加工用之模具)用之脫模劑時，會有由於模具具有之微細圖型之凹部之溝寬及深度尺寸為微米單位，故會導入進行該凹部之溝部分，而無法藉由加壓加工進行正常圖型之轉印的問題點。
因此，作為為了此種問題之方法，已提案出以具有與模具之材料會化學性反應之官能基之全氟聚醚被覆而成之壓印加工用模具(參照專利文獻1)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1] 日本特開2002-283354號公報
然而，過往之壓印加工用模具在被轉印物之脫模性並不充分，重複進行轉印時，會有被轉印物從基板剝離，附著於模具之問題。
本發明係有鑑於上述現狀所完成者，其目的在於提供一種製造方法，其係具有轉印圖型之被轉印物之製造方法，其係即使進行重複轉印，被轉印物仍不易從基板剝離，不易附著於模具。
本發明者等精心研討上述用以解決課題之手段之結果，發現對已形成脫模層之模具之上述脫模層塗佈氟聚醚時，脫模性會提升，進而完成本發明。
即，本發明為一種被轉印物之製造方法，其特徵為包含，步驟(1)：對已形成脫模層之於表面具有凹凸圖型之模具之上述脫模層塗佈包含氟聚醚之組成物；步驟(2)：將上述模具壓向被轉印物而轉印上述凹凸圖型；及，步驟(3)：使上述被轉印物從上述模具而取得具有轉印圖型之上述被轉印物。
上述被轉印物係以包含紫外線硬化性樹脂為佳。
步驟(2)中，以將上述模具壓向上述被轉印物，並且對上述被轉印物照射紫外線為佳。
上述組成物係以更包含溶劑為佳。
本發明之製造方法由於即使進行重複轉印，被轉印物仍不易從基板剝離，不易附著於模具，故能以高生產性，且低成本地製造具有轉印圖型之被轉印物。
1‧‧‧被轉印物
2a、2b‧‧‧輥
3‧‧‧模具
[圖1]展示本發明之製造方法之一實施形態的圖。
以下，具體說明本發明。
本發明之製造方法包含步驟(1)~(3)。以下說明關於各步驟。
步驟(1)係對已形成脫模層之於表面具有凹凸圖型之模具之上述脫模層塗佈包含氟聚醚之組成物。
上述凹凸圖型可為奈米單位之極微細凹凸圖型。即，本發明之製造方法係能製造奈米壓印膜。
作為上述模具之材質，可因應目的、需要適宜選擇，可舉出例如，金屬、金屬氧化物、石英、聚矽氧等之高分子樹脂、半導體、絕緣體、或此等之複合物等。
上述模具之形狀並無特別限定，可為輥狀或平板狀，但由於輥狀能進行連續性轉印，故為佳。
上述已形成脫模層之上述模具，其對水接觸角係以80°以上為佳，以100°以上為較佳，且以180°以下為佳。上述對水接觸角係可藉由接觸角測量計進行測量。上述對水接觸角係為塗佈上述組成物前之上述模具所具有之對水接觸角。
在從上述脫模層與上述模具之接著性優異之觀點，上述脫模層係以包含具有能水解之基之化合物為佳。上述「能水解之基」在本說明書中使用之情況，意指藉由水解反應而能從化合物之主骨架脫離之基。作為能水解之基之例，可舉出如-OR、-OCOR、-O-N=CR2、-NR2、-NHR、鹵素(此等式中，R表示取代或非取代之碳數1~4之烷基)等，以-OR(即，烷氧基)為佳。R之例係包括甲基、乙基、丙基、異丙基、n-丁基、異丁基等之非取代烷基；氯甲基等之取代烷基。此等之中，以烷基，特別係以非取代烷基為佳，以甲基或乙基為較佳。
上述脫模層在從上述脫模層與上述模具之接著性優異之觀點，以包含具有下述一般式：-SiR1 n1R2 3-n1(式中，R1表示能水解之基；R2表示氫原子或碳數1~22之烷基；n1為1~3之整數。)
所示之基之化合物為佳。
上述脫模層在從脫模性更加優異，並且上述脫模層與上述模具之接著性亦優之觀點，以包含含全氟 (聚)醚基之矽烷化合物為佳。
上述脫模層係以包含下述一般式(A1)、(A2)、(B1)、(B2)、(C1)、(C2)、(D1)及(D2)之任一式所示之至少1種之含全氟(聚)醚基之矽烷化合物為佳。
[式中：PFPE係在各別出現中各自獨立為式：-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-(式中，a、b、c及d係各自獨立為0~200之整數，且a、b、c及d之和係至少為1，附有標字a、b、c或d並以括 弧括起之各重複單位之存在順序係在式中為任意者。)所示之基；Rf係在各別出現中各自獨立表示可經由1個或1個之氟原子所取代之碳數1~16之烷基；R1係在各別出現中各自獨立表示能水解之基；R2係在各別出現中各自獨立表示氫原子或碳數1~22之烷基；R11係在各別出現中各自獨立表示氫原子或鹵素原子；R12係在各別出現中各自獨立表示氫原子或低級烷基；n1係每個(-SiR1 n1R2 3-n1)單位獨立為0~3之整數；但，式(A1)、(A2)、(B1)及(B2)中，至少1個n1為1~3之整數；X1係各自獨立表示單鍵或2~10價有機基；X2係在各別出現中各自獨立表示單鍵或2價有機基；t係在各別出現中各自獨立為1~10之整數；α係各自獨立為1~9之整數；α’係各自獨立為1~9之整數；X5係各自獨立表示單鍵或2~10價有機基；β係各自獨立為1~9之整數；β’係各自獨立為1~9之整數；X7係各自獨立表示單鍵或2~10價有機基； γ係各自獨立1~9之整數；γ’係各自獨立1~9之整數；Ra係在各別出現中各自獨立表示-Z1-SiR71 p1R72 q1R73 r1；Z1係在各別出現中各自獨立表示氧原子或2價有機基；R71係在各別出現中各自獨立表示Ra’；Ra’係與Ra相同意義；Ra中，隔著Z1基而直鏈狀地連結之Si係最大為5個；R72係在各別出現中各自獨立表示能水解之基；R73係在各別出現中各自獨立表示氫原子或低級烷基；p1係在各別出現中各自獨立為0~3之整數；q1係在各別出現中各自獨立為0~3之整數；r1係在各別出現中各自獨立為0~3之整數；但，式(C1)及(C2)中，至少1個q1為1~3之整數；Rb係在各別出現中各自獨立表示能水解之基；Rc係在各別出現中各自獨立表示氫原子或低級烷基；k1係在各別出現中各自獨立為1~3之整數；l1係在各別出現中各自獨立0~2之整數；m1係在各別出現中各自獨立0~2之整數；但，附有γ並以括弧括起之單位中，k1、l1及m1之和為3；X9係各自獨立表示單鍵或2~10價有機基； δ係各自獨立為1~9之整數；δ’係各自獨立為1~9之整數；Rd係在各別出現中各自獨立表示-Z2-CR81 p2R82 q2R83 r2；Z2係在各別出現中各自獨立表示氧原子或2價有機基；R81係在各別出現中各自獨立表示Rd’；Rd’係與Rd相同意義；Rd中，隔著Z2基而直鏈狀地連結之C係最大為5個；R82係在各別出現中各自獨立表示-Y-SiR85 n2R86 3-n2；Y係在各別出現中各自獨立表示2價有機基；R85係在各別出現中各自獨立表示能水解之基；R86係在各別出現中各自獨立表示氫原子或低級烷基；n2係每個(-Y-SiR85 n2R86 3-n2)單位獨立表示1~3之整數；但，式(C1)及(C2)中，至少1個n2為1~3之整數；R83係在各別出現中各自獨立表示氫原子或低級烷基；p2係在各別出現中各自獨立為0~3之整數；q2係在各別出現中各自獨立為0~3之整數；r2係在各別出現中各自獨立為0~3之整數；Re係在各別出現中各自獨立表示-Y-SiR85 n2R86 3-n2；Rf係在各別出現中各自獨立表示氫原子或低級烷基； k2係在各別出現中各自獨立為0~3之整數；l2係在各別出現中各自獨立為0~3之整數；m2係在各別出現中各自獨立為0~3之整數；但，式(D1)及(D2)中，至少1個q2為2或3，或，至少1個l2為2或3。但，k2、l2及m2之和為3。]
以下，說明關於上述式(A1)、(A2)、(B1)、(B2)、(C1)、(C2)、(D1)及(D2)所示之含全氟(聚)醚基之矽烷化合物。
式(A1)及(A2)：
上述式中，PFPE為-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-，即該當於全氟(聚)醚基。在此，a、b、c及d係各自獨立0或1以上之整數，且a、b、c及d之和係至少為1。較佳係a、b、c及d係各自獨立0以上200以下之整數，例如1~200之整數，更佳係各自獨立0以上100以下之整數。又，較佳係a、b、c及d之和為5以上，更佳係10以上，例如10以上100以下。又，附有標字a、b、c或d並以括弧括起之各重複單位之存在順序係在式中為任意者。此等重複單位之中，-(OC4F8)-可為 -(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-及-(OCF2CF(C2F5))-之任意一者，較佳為-(OCF2CF2CF2CF2)-。-(OC3F6)-可為-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-及-(OCF2CF(CF3))-之任意一者，較佳為-(OCF2CF2CF2)-。又，-(OC2F4)-可為-(OCF2CF2)-及-(OCF(CF3))-之任意一者，較佳為-(OCF2CF2)-。
在一種態樣中，PFPE為-(OC3F6)b-(式中，b為1以上200以下，以5以上200以下為佳，較佳為10以上200以下之整數)，以-(OCF2CF2CF2)b-(式中，b為1以上200以下，以5以上200以下為佳，較佳為10以上200以下之整數)或-(OCF(CF3)CF2)b-(式中，b為1以上200以下，以5以上200以下為佳，較佳為10以上200以下之整數)為佳，較佳為-(OCF2CF2CF2)b-(式中，b為1以上200以下，以5以上200以下為佳，較佳為10以上200以下之整數)。
在其他態樣中，PFPE為-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-(式中，a及b係各自獨立0以上30以下之整數，c及d係各自獨立1以上200以下，以5以上200以下，較佳為10以上200以下之整數，附有標字a、b、c或d並以括弧括起之各重複單位之存在順序係在式中為任意者)，較佳為-(OCF2CF2CF2CF2)a-(OCF2CF2CF2)b-(OCF2CF2)c-(OCF2)d-。在一種態樣中，PFPE亦可為 -(OC2F4)c-(OCF2)d-(式中，c及d係各自獨立1以上200以下，以5以上200以下為佳，較佳為10以上200以下之整數，附有標字c或d並以括弧括起之各重複單位之存在順序係在式中為任意者)。
在另一其他之態樣中，PFPE為-(OC2F4-R8)f-所示之基。式中，R8為選自OC2F4、OC3F6及OC4F8之基，或，獨立選自此等基之2或3個之基之組合。作為獨立選自OC2F4、OC3F6及OC4F8之2或3個之基之組合，並無特別限定，可舉出例如-OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC4F8-、-OC3F6OC2F4-、-OC3F6OC3F6-、-OC3F6OC4F8-、-OC4F8OC4F8-、-OC4F8OC3F6-、-OC4F8OC2F4-、-OC2F4OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC2F4OC4F8-、-OC2F4OC3F6OC2F4-、-OC2F4OC3F6OC3F6-、-OC2F4OC4F8OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC3F6-、-OC3F6OC3F6OC2F4-、及-OC4F8OC2F4OC2F4-等。上述f為2~100之整數，較佳為2~50之整數。上述式中，OC2F4、OC3F6及OC4F8可為直鏈或分枝鏈之任一者，較佳為直鏈。在此態樣中，PFPE係以-(OC2F4-OC3F6)f-或-(OC2F4-OC4F8)f-為佳。
上述式中，Rf表示可經由1個或1個之氟原子所取代之碳數1~16之烷基。
上述可經由1個或1個之氟原子所取代之碳數1~16之烷基中之「碳數1~16之烷基」可為直鏈，亦可為分枝鏈，以直鏈或分枝鏈之碳數1~6，尤其係碳數1~3 之烷基為佳，較佳為直鏈之碳數1~3之烷基。
上述Rf係以經由1個或1個以上之氟原子所取代之碳數1~16之烷基為佳，較佳為CF2H-C1-15氟伸烷基，更佳為碳數1~16之全氟烷基。
該碳數1~16之全氟烷基可為直鏈，亦可為分枝鏈，以直鏈或分枝鏈之碳數1~6，尤其係碳數1~3之全氟烷基為佳，較佳為直鏈之碳數1~3之全氟烷基，具體為-CF3、-CF2CF3、或-CF2CF2CF3。
上述式中，R1係在各別出現中各自獨立表示能水解之基。
上述式中，R2係在各別出現中各自獨立表示氫原子或碳數1~22之烷基，較佳表示碳數1~4之烷基。
上述「能水解之基」在本說明書中使用之情況，意指藉由水解反應而能從化合物之主骨架脫離之基。作為能水解之基之例，可舉出如-OR、-OCOR、-O-N=CR2、-NR2、-NHR、鹵素(此等式中，R表示取代或非取代之碳數1~4之烷基)等，較佳為-OR(即，烷氧基)。R之例係包括甲基、乙基、丙基、異丙基、n-丁基、異丁基等之非取代烷基；氯甲基等之取代烷基。此等之中係以烷基、尤其係非取代烷基為佳，以甲基或乙基為較佳。
上述式中，R11係在各出現中各自獨立表示氫原子或鹵素原子。鹵素原子係以碘原子、氯原子或氟原子為佳，較佳為氟原子。
上述式中，R12係在各出現中各自獨立表示氫 原子或低級烷基。低級烷基係以碳數1~20之烷基為佳，較佳為碳數1~6之烷基，可舉出例如甲基、乙基、丙基等。
上述式中，n1係每各(-SiR1 n1R2 3-n1)單位獨立為0~3之整數，以1~3為佳，較佳為3。但，式中，全部之n1不會同時成為0。換言之，式中，存在至少1個R1。
上述式中，X1係各自獨立表示單鍵或2~10價有機基。該X1係解釋成在式(A1)及(A2)所示之化合物中，連結主要提供撥水性及表面滑順性等之全氟聚醚部分(即，Rf-PFPE部分或-PFPE-部分)，及提供與基材之結合能力之矽烷部分(即，附有α並以括弧括起之基)之連結基。因此，該X1只要係能安定存在於式(A1)及(A2)所示之化合物中者，可為任意之有機基。
上述式中，α為1~9之整數，α’為1~9之整數。此等α及α’係能因應X1之價數而變化。式(A1)中，α及α’之和係與X1之價數相同。例如，X1為10價有機基時，α及α’之和為10，例如可成為α為9且α’為1、α為5且α’為5，或α為1且α’為9。又，X1為2價有機基時，α及α’為1。式(A2)中，α係從X1之價數減去1之值。
上述X1係以2~7價為佳，較佳為2~4價，更佳為2價有機基。
在一種態樣中，X1為2~4價有機基，α為 1~3，α’為1。
在其他態樣中，X1為2價有機基，α為1，α’為1。於此情況，式(A1)及(A2)為下述式(A1’)及(A2’)所示者。
作為上述X1之例，並非係受到特別限定者，可舉出例如下述式所示之2價基。
-(R31)p’-(Xa)q’-[式中：R31表示單鍵、-(CH2)s’-或o-、m-或p-伸苯基，以-(CH2)s’-為佳，s’為1~20之整數，較佳為1~6之整數，更佳為1~3之整數，更較佳為1或2，Xa表示-(Xb)1’-，Xb係在各別出現中各自獨立表示選自由-O-、-S-、o-、m-或p-伸苯基、-C(O)O-、-Si(R33)2-、-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、-CONR34-、-O-CONR34-、-NR34-及-(CH2)n’-所成群之基，R33係在各別出現中各自獨立表示苯基、C1-6烷基或 C1-6烷氧基，以苯基或C1-6烷基為佳，較佳為甲基，R34係在各別出現中各自獨立表示氫原子、苯基或C1-6烷基(以甲基為佳)，m’係在各出現中各自獨立為1~100之整數，較佳為1~20之整數，n’係在各出現中各自獨立為1~20之整數，以1~6之整數為佳，較佳為1~3之整數，l’為1~10之整數，以1~5之整數為佳，較佳為1~3之整數，p’為0、1或2，q’為0或1，在此，p’及q’之至少一者為1，附有p’或q’並以括弧括起之各重複單位之存在順序為任意者]在此，R31及Xa(典型為R31及Xa之氫原子)係可經由選自氟原子、C1-3烷基及C1-3氟烷基之1個或1個以上之取代基所取代。
較佳係上述X1為-(R31)p’-(Xa)q’-R32-。R32表示單鍵、-(CH2)t’-或o-、m-或p-伸苯基，較佳為-(CH2)t’-。t’為1~20之整數，以2~6之整數為佳，較佳為2~3之整數。在此，R32(典型為R32之氫原子)係可經由選自氟原子、C1-3烷基及C1-3氟烷基之1個或1個以上之取代基所取代。
較佳係上述X1可為C1-20伸烷基、 -R31-Xc-R32-、或-Xd-R32-[式中，R31及R32係與上述相同意義。]
更佳係上述X1為C1-20伸烷基、-(CH2)s’-Xc-、-(CH2)s’-Xc-(CH2)t’--Xd-、或-Xd-(CH2)t’-[式中，s’及t’係與上述相同意義。]
上述式中，Xc表示-O-、-S-、-C(O)O-、-CONR34-、-O-CONR34-、-Si(R33)2-、-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、-O-(CH2)u’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、-O-(CH2)u’-Si(R33)2-O-Si(R33)2-CH2CH2-Si(R33)2-O-Si(R33)2-、-O-(CH2)u’-Si(OCH3)2OSi(OCH3)2-、-CONR34-(CH2)u’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、-CONR34-(CH2)u’-N(R34)-、或-CONR34-(o-、m-或p-伸苯基)-Si(R33)2-[式中，R33、R34及m’係與上述相同意義，u’為1~20之整數，以2~6之整數為佳，較佳為2~3之整數。]Xc係以-O-為佳。
上述式中，Xd表示-S-、-C(O)O-、-CONR34-、-CONR34-(CH2)u’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、-CONR34-(CH2)u’-N(R34)-、或-CONR34-(o-、m-或p-伸苯基)-Si(R33)2-[式中，各記號係與上述相同意義。]
較佳係上述X1可為C1-20伸烷基、-(CH2)s’-Xc-(CH2)t’-、或-Xd-(CH2)t’-[式中，各記號係與上述相同意義。]
更較佳係上述X1為C1-20伸烷基、-(CH2)s’-O-(CH2)t’-、-(CH2)s’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-(CH2)t’-、-(CH2)s’-O-(CH2)u’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-(CH2)t’-、或-(CH2)s’-O-(CH2)t’-Si(R33)2-(CH2)u’-Si(R33)2-(CvH2v)-[式中，R33、m’、s’、t’及u’係與上述相同意義，v為1~20之整數，以2~6之整數為佳，較佳為2~3之整數。]
上述式中，-(CvH2v)-可為直鏈，亦可為分枝鏈，可為例如-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH(CH3)-、-CH(CH3)CH2-。
上述X1基係可經由選自氟原子、C1-3烷基及C1-3氟烷基(以C1-3全氟烷基為佳)之1個或1個以上之取代基所取代。
在其他態樣中，作為X1基，可舉出例如下述之基：
[式中，R41係各自獨立為氫原子、苯基、碳數1~6之烷基、或C1-6烷氧基，以甲基為佳；D為選自-CH2O(CH2)2-、-CH2O(CH2)3-、-CF2O(CH2)3-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-CONH-(CH2)3-、-CON(CH3)-(CH2)3-、-CON(Ph)-(CH2)3-(式中，Ph意指苯基)、及
(式中，R42係各自獨立表示氫原子、C1-6之烷基或C1-6之烷氧基，以表示甲基或甲氧基為佳，較佳表示甲基。)之基，E為-(CH2)n-(n為2~6之整數)，D係結合在分子主鏈之PFPE，E係結合在與PFPE相反之基。]
作為上述X1之具體例，可舉出例如：-CH2O(CH2)2-、-CH2O(CH2)3-、-CH2O(CH2)6-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2-、 -CH2OCF2CHFOCF2-、-CH2OCF2CHFOCF2CF2-、-CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2(CH2)7CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)3-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)3-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)2-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、 -(CH2)5-、-(CH2)6-、-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)2-、-CONH-(CH2)3-、-CON(CH3)-(CH2)3-、(式中，Ph意指苯基)、-CON(Ph)-(CH2)3--CONH-(CH2)6-、-CON(CH3)-(CH2)6-、-CON(Ph)-(CH2)6-(式中，Ph意指苯基)、-CONH-(CH2)2NH(CH2)3-、-CONH-(CH2)6NH(CH2)3-、-CH2O-CONH-(CH2)3-、-CH2O-CONH-(CH2)6-、-S-(CH2)3-、-(CH2)2S(CH2)3-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2-、-C(O)O-(CH2)3-、-C(O)O-(CH2)6-、 -CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)2-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-CH(CH3)-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)3-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-CH(CH3)-CH2-、-OCH2-、-O(CH2)3-、-OCFHCF2-、 等。
在更其他之態樣中，X1為式：-(R16)x-(CFR17)y-(CH2)z-所示之基。式中，x、y及z係各自獨立為0~10之整數，x、y及z之和為1以上，以括弧括起之各重複單位之存在順序在式中為任意者。
上述式中，R16係在各別出現中各自獨立為氧原子、伸苯基、伸咔唑基、-NR26-(式中，R26表示氫原子或有機基)或2價有機基。較佳係R16為氧原子或2價極性基。
作為上述「2價極性基」，並非係受到特別限定者，可舉出如-C(O)-、-C(=NR27)-、及-C(O)NR27-(此等式中，R27表示氫原子或低級烷基)。該「低級烷基」為例如碳數1~6之烷基、例如甲基、乙基、n-丙基，此等係可經由1個或1個之氟原子所取代。
上述式中，R17係在各別出現中各自獨立為氫原子、氟原子或低級氟烷基，以氟原子為佳。該「低級氟烷基」為例如碳數1~6，以碳數1~3之氟烷基為佳，以碳數1~3支全氟烷基為佳，以三氟甲基、五氟乙基為較佳，以三氟甲基為更佳。
於此態樣中，X1係以式：-(O)x-(CF2)y-(CH2)z-(式中，x、y及z係於上述相同意義，以括弧括起之各重複單位之存在順序在式中為任意者)所示之基為佳。
作為上述式：-(O)x-(CF2)y-(CH2)z-所示之基，可舉出例如、-(O)x’-(CH2)z”-O-[(CH2)z”’-O-]z””、及-(O)x’-(CF2)y”-(CH2)z”-O-[(CH2)z”’-O-]z””(式中，x’為0或1，y”、z”及z”’係各自獨立為1~10之整數，z””為0或1)所示之基。尚且，此等基係在左端與PFPE側結合。
在其他較佳態樣中，X1為-O-CFR13-(CF2)e-。
上述R13係各自獨立表示氟原子或低級氟烷基。低級氟烷基為例如碳數1~3之氟烷基，以碳數1~3之全氟烷基為佳，以三氟甲基、五氟乙基為較佳，以三氟甲基為更佳。
上述e係各自獨立為0或1。
在一種具體例中，R13為氟原子，e為1。
在更其他之態樣中，作為X1基之例，可舉出如述之基：
[式中，R41係各自獨立為氫原子、苯基、碳數1~6之烷基、或C1-6烷氧基，較佳為甲基；各X1基中，T之中任意之數個係為與於分子主鏈之PFPE結合之以下之基：-CH2O(CH2)2-、-CH2O(CH2)3-、-CF2O(CH2)3-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-CONH-(CH2)3-、-CON(CH3)-(CH2)3-、 -CON(Ph)-(CH2)3-(式中，Ph意指苯基)、或
[式中，R42係各自獨立表示氫原子、C1-6之烷基或C1-6之烷氧基，較佳表示甲基或甲氧基，更佳表示甲基。]
其他之T之數個係在與分子主鏈之PFPE為反對之基(即，式(A1)、(A2)、(D1)及(D2)中為碳原子，又，在下述式(B1)、(B2)、(C1)及(C2)中為Si原子)上結合之-(CH2)n”-(n”為2~6之整數)，在存在之情況，剩餘係可各自獨立為甲基、苯基、C1-6烷氧基或自由基捕捉基或紫外線吸收基。
自由基捕捉基只要係能捕捉因光照射所產生之自由基者，即無特別限定，可舉出例如二苯甲酮類、苯並三唑類、安息香酸酯類、柳酸苯基類、巴豆酸類、丙二酸酯類、有機丙烯酸酯類、受阻胺類、受阻酚類、或三嗪類之殘基。
紫外線吸收基只要係能吸收紫外線者，即無特別限定，可舉出例如苯並三唑類、羥基二苯甲酮類、取代及未取代安息香酸或柳酸化合物之酯類、丙烯酸酯或烷氧基桂皮酸酯類、草醯胺(oxamide)類、草 醯替苯胺(Oxanilide)類、苯并噁嗪酮類、苯並噁唑類之殘基。
在較佳之態樣中，作為較佳之自由基捕捉基或紫外線吸收基，可舉出如以下所示者。
於此態樣中，X1係各自獨立可為3~10價有機基。
上述式中，t係各自獨立為1~10之整數。在較佳態樣中，t為1~6之整數。在其他較佳態樣中，t為2~10之整數，較佳為2~6之整數。
上述式中，X2係在各別出現中各自獨立表示單鍵或2價有機基。X2係以碳數1~20之伸烷基為佳，較佳為-(CH2)u-(式中，u為0~2之整數)。
較佳之式(A1)及(A2)所示之化合物為下述式(A1’)及(A2’)所示之化合物。
[式中：PFPE係各自獨立為式：-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-(式中，a、b、c及d係各自獨立為0~200之整數，且a、b、c及d之和係至少為1，附有標字a、b、c或d並以括弧括起之各重複單位之存在順序係在式中為任意者。)所示之基；Rf係在各別出現中各自獨立表示可經由1個或1個之氟原子所取代之碳數1~16之烷基；R1係在各別出現中各自獨立表示能水解之基；R2係在各別出現中各自獨立表示氫原子或碳數1~22之烷基；R11係在各別出現中各自獨立表示氫原子或鹵素原子；R12係在各別出現中各自獨立表示氫原子或低級烷基；n1為為1~3之整數，以3為佳；X1為-O-CFR13-(CF2)e-； R13為氟原子或低級氟烷基；e為0或1；X2為-(CH2)u-；u為0~2之整數(u為0時則X2為單鍵)；t為1~10之整數。]
上述式(A1)及(A2)所示之化合物係例如可藉由將對應Rf-PFPE-部分之全氟聚醚衍生物作為原料，在末端導入碘後，使其與對應-CH2CR12(X2-SiR1 n1R2 3-n1)-之乙烯基單體反應而得。
式(B1)及(B2)：[化12](Rf-PFPE) β’ -X 5 -(SiR 1 n1 R 2 3-n1 ) β …(B1) (R 2 3-n1 R 1 n1 Si) β -X 5 -PFPE-X 5 -(SiR 1 n1 R 2 3-n1 ) β …(B2)
上述式(B1)及(B2)中，Rf、PFPE、R1、R2及n1係與關於上述式(A1)及(A2)之記載相同意義。
上述式中，X5係各自獨立表示單鍵或2~10價有機基。該X5係解釋成在式(B1)及(B2)所示之化合物中，連結主要提供撥水性及表面滑順性等之全氟聚醚部分(Rf-PFPE部分或-PFPE-部分)，及提供與基材之結合能之矽烷部(具體為-SiR1 n1R2 3-n1)之連結基。因此，該X5只要係能安定存在於式(B1)及(B2)所示之化合物者，可為任意之有機基。
上述式中之β為1~9之整數，β’為1~9之整數。此等β及β’係因應X3之價數而決定，在式(B1)中，β 及β’之和係與X5之價數相同。例如，X5為10價有機基時，β及β’之和為10，可成為例如β為9且β’為、β為5且β’為5，或β為1且β’為9。又，X5為2價有機基時，β及β’為1。式(B2)中，β為從X5之價數之值減去1之值。
上述X5係以2~7價為佳，較佳為2~4價，更佳為2價有機基。
在一種態樣中，X5為2~4價有機基，β為1~3，β’為1。
在其他態樣中，X5為2價有機基，β為1，β’為1。於此情況，式(B1)及(B2)為下述式(B1’)及(B2’)所示者。
[化13]Rf-PFPE-X 5 -SiR 1 n1 R 2 3-n1 …(B1’) R 2 3-n1 R 1 n1 Si-X 5 -PFPE-X 5 -SiR 1 n1 R 2 3-n1 …(B2’)
作為上述X5之例，並非受到特別限定者，例如，可舉出如與關於X1中所記載者為相同者。
其中，較佳之具體之X5可舉出如-CH2O(CH2)2-、-CH2O(CH2)3-、-CH2O(CH2)6-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、 -CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2OCF2CHFOCF2-、-CH2OCF2CHFOCF2CF2-、-CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2(CH2)7CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)3-、 -CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)3-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)2-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-(CH2)5-、-(CH2)6-、-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)2-、-CONH-(CH2)3-、-CON(CH3)-(CH2)3-、-CON(Ph)-(CH2)3-(式中，Ph意指苯基)、-CONH-(CH2)6-、-CON(CH3)-(CH2)6-、-CON(Ph)-(CH2)6-(式中，Ph意指苯基)、-CONH-(CH2)2NH(CH2)3-、-CONH-(CH2)6NH(CH2)3-、-CH2O-CONH-(CH2)3-、-CH2O-CONH-(CH2)6-、-S-(CH2)3-、-(CH2)2S(CH2)3-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2-、 -CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2-、-C(O)O-(CH2)3-、-C(O)O-(CH2)6-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)2-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-CH(CH3)-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)3-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2--CH(CH3)-CH2-、-OCH2-、-O(CH2)3-、-OCFHCF2-、 等。
較佳之式(B1)及(B2)所示之化合物為下述式(B1’)及(B2’)所示之化合物。
[化15]Rf-PFPE-X 5 -SiR 1 n1 R 2 3-n1 …(B1’) R 2 3-n1 R 1 n1 Si-X 5 -PFPE-X 5 -SiR 1 n1 R 2 3-n1 …(B2’)[式中：PFPE係各自獨立為式：-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-(式中，a、b、c及d係各自獨立為0~200之整數，且a、b、c及d之和係至少為1，附有標字a、b、c或d並以括弧括起之各重複單位之存在順序係在式中為任意者。)
所示之基；Rf係在各別出現中各自獨立表示可經由1個或1個之氟原子所取代之碳數1~16之烷基；R1係在各別出現中各自獨立表示能水解之基；R2係在各別出現中各自獨立表示氫原子或碳數1~22之烷基；n1為為1~3之整數，較佳為3；X5為-CH2O(CH2)2-、-CH2O(CH2)3-或-CH2O(CH2)6-]。
上述式(B1)及(B2)所示之化合物係可藉由公知方法，例如專利文獻1記載之方法或其改良方法而製造。例如，式(B1)及(B2)所示之化合物係可藉由使下述式(B1-4)或(B2-4)： [化16](Rf-PFPE) β’ -X 5’ -(R 92 -CH=CH 2 ) β …(B1-4) (CH 2 =CH-R 92 ) β -X 5’ -PFPE-X 5’ -(R 92 -CH=CH 2 ) β …(B2-4)[式中：PFPE係各自獨立、式：-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-(式中，a、b、c及d係各自獨立為0~200之整數，且a、b、c及d之和係至少為1，附有標字a、b、c或d並以括弧括起之各重複單位之存在順序在式中為任意者。)
所示之基；Rf係在各別出現中各自獨立表示可經由1個或1個之氟原子所取代之碳數1~16之烷基；X5’係各自獨立表示單鍵或2~10價有機基；β係各自獨立為1~9之整數；β’係各自獨立為1~9之整數；R92為單鍵或2價有機基。]
所示之化合物，與HSiM3(式中，M係各自獨立為鹵素原子、R1或R2，R1係在各別出現中各自獨立為能水解之基，R2係在各別出現中各自獨立為氫原子或碳數1~22之烷基)進行反應，因應必要將上述鹵素原子變換成R1或R2，而取得作為式(B1”)或(B2”)： [化17](Rf-PFPE) β’ -X 5’ -(R 92 -CH 2 CH 2 -SiR 1 n1 R 2 3-n1 ) β …(B1”) (R 1 n1 R 2 3-n1 Si-CH 2 CH 2 -R 92 ) β -X 5’ -PFPE-X 5’ -* *(R 92 -CH 2 CH 2 -SiR 1 n1 R 2 3-n1 ) β …(B 2” )
[式中，PFPE、Rf、X5’、β、β’及R92係與上述相同意義；n1為0~3之整數。]所示之化合物。
式(B1”)或(B2”)中，X5’至R92-CH2CH2-為止之部分係對應式(B1)或(B2)中之X5。
式(C1)及(C2)：[化18](Rf-PFPE) γ’ -X 7 -(SiR a k1 R b1 l1 R c m1 ) γ …(C1) (R c m1 R b l1 R a k1 Si) γ -X 7 -PFPE-X 7 -(SiR a k1 R b l1 R c m1 ) γ …(C2)
上述式(C1)及(C2)中，Rf及PFPE係與關於上述式(A1)及(A2)記載相同意義。
上述式中，X7係各自獨立表示單鍵或2~10價有機基。該X7係解釋成在式(C1)及(C2)所示之化合物中，連結主要提供撥水性及表面滑順性等之全氟聚醚部分(Rf-PFPE部分或-PFPE-部分)，及提供與基材之結合能之矽烷部(具體為-SiRa k1Rb l1Rc m1基)之連結基。因此，該X7只要係能安定存在於式(C1)及(C2)所示之化合物者，可為任意之有機基。
上述式中之γ為為1~9之整數，γ’為1~9之整 數。此等γ及γ’係因應X7之價數而決定，式(C1)中，γ及γ’之和係與X7之價數相同。例如，X7為10價有機基時，γ及γ’之和為10，可能為例如γ為9且γ’為1、γ為5且γ’為5，或γ為1且γ’為9。又，X7為2價有機基時，γ及γ’為1。式(C1)中，γ為從X7之價數之值減去1之值。
上述X7係以2~7價為佳，較佳為2~4價，更佳為2價有機基。
在一種態樣中，X7為2~4價有機基，γ為1~3，γ’為1。
在其他態樣中，X7為2價有機基，γ為1，γ’為1。於此情況，式(C1)及(C2)為下述式(C1’)及(C2’)所示者。
[化19]Rf-PFPE-X 7 -SiR a k1 R b l1 R c m1 …(C1’) R c m1 R b l1 R a k1 Si-X 7 -PFPE-X 7 -SiR a k1 R b l1 R c m1 …(C2’)
作為上述X7之例，並非係受到特別限定者，可舉出例如與關於X1中所記載者為相同者。
其中，較佳之具體之X7係可舉出如-CH2O(CH2)2-、-CH2O(CH2)3-、-CH2O(CH2)6-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、 -CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2OCF2CHFOCF2-、-CH2OCF2CHFOCF2CF2-、-CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2(CH2)7CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)3-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)3-、 -CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)2-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-(CH2)5-、-(CH2)6-、-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)2-、-CONH-(CH2)3-、-CON(CH3)-(CH2)3-、-CON(Ph)-(CH2)3-(式中，Ph意指苯基)、-CONH-(CH2)6-、-CON(CH3)-(CH2)6-、-CON(Ph)-(CH2)6-(式中，Ph意指苯基)、-CONH-(CH2)2NH(CH2)3-、-CONH-(CH2)6NH(CH2)3-、-CH2O-CONH-(CH2)3-、-CH2O-CONH-(CH2)6-、-S-(CH2)3-、-(CH2)2S(CH2)3-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2-、 -CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2-、-C(O)O-(CH2)3-、-C(O)O-(CH2)6-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)2-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-CH(CH3)-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)3-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-CH(CH3)-CH2-、-OCH2-、-O(CH2)3-、-OCFHCF2-、 等。
上述式中，Ra係在各別出現中各自獨立表示-Z1-SiR71 p1R72 q1R73 r1。
式中，Z1係在各別出現中各自獨立表示氧原子或2價有機基。
上述Z1較佳係2價有機基，但不包含在式(C1)或式(C2)中與分子主鏈末端之Si原子(Ra所結合之Si原子)形成矽氧烷鍵者。
上述Z1係以C1-6伸烷基、-(CH2)g-O-(CH2)h-(式中，g為1~6之整數，h為1~6之整數)，或-伸苯基-(CH2)i-(式中，i為0~6之整數)為佳，較佳為C1-3伸烷基。此等基係可被選自例如氟原子、C1-6烷基、C2-6烯基、及C2-6炔基之1個或1個以上之取代基所取代。
式中，R71係在各別出現中各自獨立表示Ra’。Ra’係與Ra為相同意義。
Ra中，隔著Z1基而直鏈狀地連結之Si係最大為5個。即，上述Ra中，R71至少1個存在時，Ra中隔著Z1基而直鏈狀連結之Si原子係存在2個以上，但隔著Z1基而直鏈狀連結之Si原子之數係最大為5個。尚且，「Ra中之隔著Z1基而直鏈狀連結之Si原子之數」係指變得等同於在Ra中直鏈狀連結之-Z1-Si-之重複數。
例如，下述展示Ra中，隔著Z1基(以下述單標示為「Z」)而連結於Si原子之一例。
上述式中，＊意指與主鏈之Si結合之部位，...意指、與ZSi以外之規定之基結合，即，Si原子之3隻之鍵結處皆為...時，意指ZSi之重複之結束場所。又，Si之右肩之數字係意指、從＊數來隔著Z基而直鏈狀連結之Si之出現數。即，ZSi之重複係在Si2處結束之鏈之「Ra中之隔著Z1基而直鏈狀連結之Si原子之數」為2個，同樣地，ZSi之重複在Si3、Si4及Si5處結束之鏈之各自「Ra中之隔著Z1基而直鏈狀連結之Si原子之數」為3、4及5個。尚且，從上述之式可明白得知，在Ra中ZSi鏈雖存在複數者，但此等並不必須皆為相同長度，可個別為任意之長度。
在較佳之態樣中，如下述所示，「Ra中之隔著Z1基而直鏈狀連結之Si原子之數」在全部之鏈中為1個(左式)或2個(右式)。
在一種態樣中，Ra中之隔著Z1基而直鏈狀連結之Si原子之數為1個或2個，較佳為1個。
式中，R72係在各別出現中各自獨立表示能水解之基。
上述「能水解之基」係指在本說明書中使用時，能受到水解反應之基。做為能水解之基之例，可舉出如-OR、-OCOR、-O-N=C(R)2、-N(R)2、-NHR、鹵素(此等式中，R表示取代或非取代之碳數1~4之烷基)等，較佳為-OR(烷氧基)。R之例包括甲基、乙基、丙基、異丙基、n-丁基、異丁基等之非取代烷基；氯甲基等之取代烷基。此等之中，以烷基，特別係以非取代烷基為佳，以甲基或乙基為較佳。
較佳係R72為-OR(式中，R表示取代或非取代之C1-3烷基，較佳表示甲基)。
中，R73係在各別出現中各自獨立表示氫原子或低級烷基。該低級烷基係以碳數1~20之烷基為佳，較佳為碳數1~6之烷基，更佳為甲基。
式中，p1係在各別出現中各自獨立為0~3之 整數；q1係在各別出現中各自獨立為0~3之整數；r1係在各別出現中各自獨立為0~3之整數。但，p1、q1及r1之和為3。
在較佳之態樣中，在Ra中之末端之Ra’(在不存在Ra’時則為Ra)中，上述q1係以2以上，例如2或3為佳，較佳為3。
在較佳之態樣中，Ra之末端部之至少1個可為-Si(-Z1-SiR72 qR73 r)2或-Si(-Z1-SiR72 qR73 r)3，較佳可為-Si(-Z1-SiR72 qR73 r)3。式中，(-Z1-SiR72 qR73 r)之單位較佳為(-Z1-SiR72 3)。在更佳之態樣中，Ra之末端部皆可為-Si(-Z1-SiR72 qR73 r)3，較佳係可為-Si(-Z1-SiR72 3)3。
上述式(C1)及(C2)中，存在至少1個R72。
上述式中，Rb係在各別出現中各自獨立表示能水解之基。
上述Rb係以-OR、-OCOR、-O-N=C(R)2、-N(R)2、-NHR、鹵素(此等式中，R表示取代或非取代之碳數1~4之烷基)為佳，較佳為-OR。R係包括甲基、乙基、丙基、異丙基、n-丁基、異丁基等之非取代烷基；氯甲基等之取代烷基。此等之中，以烷基，特別係以非取代烷基為佳，以甲基或乙基為較佳。較佳係Rb為-OR(式中，R表示取代或非取代之C1-3烷基，較佳表示甲基)。
上述式中，Rc係在各別出現中各自獨立表示氫原子或低級烷基。該低級烷基係以碳數1~20之烷基為佳，較佳為碳數1~6之烷基，更佳為甲基。
式中，k1係在各別出現中各自獨立為1~3之整數；l1係在各別出現中各自獨立0~2之整數；m1係在各別出現中各自獨立為0~2之整數。但，k1、l1及m1之和為3。
上述式(C1)及(C2)所示之化合物係可藉由例如將對應Rf-PFPE-部分之全氟聚醚衍生物作為原料，在末端導入羥基後，導入在末端具有不飽和鍵之基，使此具有不飽和鍵之基與具有鹵素原子之矽基衍生物反應，更對此矽基末端導入羥基，並使具有已導入不飽和鍵之基與矽基衍生物反應而得。例如，藉由如以下之操作而得。
較佳之式(C1)及(C2)所示之化合物為下述式(C1”)及(C2”)所示之化合物。
[化23]Rf-PFPE-X 7 -SiR a 3 …(C1”) R a 3 Si-X 7 -PFPE-X 7 -SiR a 3 …(C2”)[式中：PFPE係各自獨立為式：-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-(式中，a、b、c及d係各自獨立為0~200之整數，且a、b、c及d之和係至少為1，附有標字a、b、c或d並以括弧括起之各重複單位之存在順序在式中為任意者。)
所示之基；Rf係在各別出現中各自獨立表示可經由1個或1個之氟原子所取代之碳數1~16之烷基； X7表示-CH2O(CH2)2-、-CH2O(CH2)3-或-CH2O(CH2)6-；Ra係在各別出現中各自獨立表示-Z1-SiR71 p1R72 q1R73 r1；Z1表示C1-6伸烷基；R71係在各別出現中各自獨立表示Ra’；Ra’係與Ra相同意義；Ra中，隔著Z1基而直鏈狀連結之Si係最大為5個；R72係在各別出現中各自獨立表示能水解之基；R73係在各別出現中各自獨立表示氫原子或低級烷基；p1係在各別出現中各自獨立0~2之整數；q1係在各別出現中各自獨立為1~3之整數，較佳為3；r1係在各別出現中各自獨立0~2之整數；但，一個Ra中，p1、q1及r1之和為3。]
上述式(C1)及(C2)所示之化合物係可藉由例如以下之操作而製造。使下述式(C1-4)或(C2-4)：[化24](Rf-PFPE) γ’ -X 7’ -(R 92 -CH=CH 2 ) γ …(C1-4) (CH 2 =CH-R 92 ) γ -X 7’ -PFPE-X 7’ -(R 92 -CH=CH 2 ) γ …(C2-4)[式中：PFPE係各自獨立為式：-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-(式中，a、b、c及d係各自獨立、0~200之整數，且a、b、c及d之和係至少為1，附有標字a、b、c或d並以括 弧括起之各重複單位之存在順序在式中為任意者。)
所示之基；Rf係在各別出現中各自獨立表示可經由1個或1個之氟原子所取代之碳數1~16之烷基；X7’係各自獨立表示單鍵或2~10價有機基；γ係各自獨立為1~9之整數；γ’係各自獨立為1~9之整數；R92為單鍵或2價有機基。]
所示之化合物，與HSiR93 k1Rb l1Rc m1(式中，R93為鹵素原子，例如氟原子、氯原子、溴原子或碘原子，以氯原子為佳，Rb係在各別出現中各自獨立表示能水解之基，Rc係在各別出現中各自獨立表示氫原子或低級烷基，k1為1~3之整數，l1及m1係各自獨立0~2之整數，k1、l1及m1之和為3。)所示之化合物進行反應而取得式(C1-5)或(C2-5)：[化25](Rf-PFPE) γ’ -X 7’ -(R 92 -CH 2 CH 2 -SiR 93 k1 R b l1 R c m1 ) γ …(C1-5) (R c m1 R b l1 R 93 k1 Si-CH 2 CH 2 -R 92 ) γ -X 7’ -PFPE-*
*X 7’ -(R 92 -CH 2 CH 2 -SiR 93 k1 R b l1 R c m1 ) γ …(C2-5)[式中，Rf、PFPE、R92、R93、Rb、Rc、γ、γ’、X7’、k1、l1及m1係與上述相同意義。]所示之化合物。
使取得之式(C1-5)或(C2-5)所示之化合物，與 Hal-J-R94-CH=CH2(式中，Hal表示鹵素原子(例如、I、Br、Cl、F等)，J表示Mg、Cu、Pd或Zn，R94表示單鍵或2價有機基。)所示之化合物進行反應，而取得式(C1-6)或(C2-6)：[化26](Rf-PFPE) γ’ -X 7’ -(R 92 -CH 2 CH 2 -SiR b l1 R c m1 (R 94 -CH=CH 2 ) k1 ) γ …(C1-6) ((CH=CH 2 -R 94 ) k1 R c m1 R b l1 Si-CH 2 CH 2 -R 92 ) γ -X 7’ -PFPE-* *X 7’ -(R 92 -CH 2 CH 2 -SiR b l1 R c m1 (R 94 -CH=CH 2 ) k1 ) γ …(C2-6)[式中，Rf、PFPE、R92、R94、Rb、Rc、γ、γ’、X7’、k1、l1及m1係與上述相同意義。]所示之化合物。
使取得之式(C1-6)或(C2-6)所示之化合物，與HSiM3(式中，M係各自獨立為鹵素原子、R72或R73，R72係在各別出現中各自獨立表示能水解之基，R73係在各別出現中各自獨立表示氫原子或低級烷基。)進行反應，因應必要將上述鹵素原子轉換成R72或R73，而可取得式(C1”’)或(C2”’)：[化27](Rf-PFPE) γ’ -X 7’ -(R 92 -CH 2 CH 2 -SiR b l1 R c m1 (R 94 -CH 2 CH 2 -SiR 72 q1 R 73 r1 ) k1 ) γ …(C1”’) ((R 72 q1 R 73 r1 Si-CH 2 CH 2 -R 94 ) k1 R c m1 R b l1 Si-CH 2 CH 2 -R 92 ) γ -X 7’ -PFPE-* *X 7’ -(R 92 -CH 2 CH 2 -SiR b l1 R c m1 (R 94 -CH 2 CH 2 -SiR 72 q1 R 73 r1 ) k1 ) γ …(C2”’)
[式中，Rf、PFPE、R72、R73、R92、R94、Rb、 Rc、γ、γ’、X7’、k1、l1及m1係與上述相同意義；q1係在各別出現中各自獨立為1~3之整數；r1係在各別出現中各自獨立為0~2之整數。]
所示之化合物。
式(C1”’)或(C2”’)中，從X7’至R92-CH2CH2-為止之部分係對應式(C1)或(C2)中之X7，-R94-CH2CH2-係對應式(C1)或(C2)中之Z。
式(D1)及(D2)：[化28](Rf-PFPE) δ’ -X 9 -(CR d k2 R e l2 R f m2 ) δ …(D1) (R f m2 R e l2 R d k2 C) δ -X 9 -PFPE-X-(CR d k2 R e l2 R f m2 ) δ …(D2)
上述式(D1)及(D2)中，Rf及PFPE係與關於上述式(A1)及(A2)之記載相同意義。
上述式中，X9係各自獨立表示單鍵或2~10價有機基。該X9係解釋成在式(D1)及(D2)所示之化合物中，連結主要提供撥水性及表面滑順性等之全氟聚醚部分(即，Rf-PFPE部分或-PFPE-部分)，及提供與基材之結合能之部分(即，附有δ並以括弧括起之基)之連結基。因此，該X9只要係能安定存在於式(D1)及(D2)所示之化合物者，可為任意之有機基。
上述式中，δ為1~9之整數，δ’為1~9之整數。此等δ及δ’係可因應X9之價數而變化。式(D1)中，δ及δ’之和係與X9之價數相同。例如，X9為10價有機基 時，δ及δ’之和為10，可為例如δ為9且δ’為1、δ為5且δ’為5，或δ為1且δ’為9。又，X9為2價有機基時，δ及δ’為1。式(D2)中，δ係從X9之價數減去1之值。
上述X9係以2~7價為佳，較佳為2~4價，更佳為2價有機基。
在一種態樣中，X9為2~4價有機基，δ為1~3，δ’為1。
在其他態樣中，X9為2價有機基，δ為1，δ’為1。此時，式(D1)及(D2)為下述式(D1’)及(D2’)所示者。
[化29]Rf-PFPE-X 9 -CR d k2 R e l2 R f m2 …(D1’) R f m2 R e l2 R d k2 C-X 9 -PFPE-X 9 -CR d k2 R e l2 R f m2 …(D2’)
作為上述X9之例，並非係受到特別限定者，可舉出例如與關於X1中所記載者為相同者。
其中，較佳之具體之X9係可舉出如-CH2O(CH2)2-、-CH2O(CH2)3-、-CH2O(CH2)6-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2-、 -CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2OCF2CHFOCF2-、-CH2OCF2CHFOCF2CF2-、-CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2(CH2)7CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)3-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)3-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)2-、 -(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-(CH2)5-、-(CH2)6-、-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)2-、-CONH-(CH2)3-、-CON(CH3)-(CH2)3-、-CON(Ph)-(CH2)3-(式中，Ph意指苯基)、-CONH-(CH2)6-、-CON(CH3)-(CH2)6-、-CON(Ph)-(CH2)6-(式中，Ph意指苯基)、-CONH-(CH2)2NH(CH2)3-、-CONH-(CH2)6NH(CH2)3-、-CH2O-CONH-(CH2)3-、-CH2O-CONH-(CH2)6-、-S-(CH2)3-、-(CH2)2S(CH2)3-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2-、 -C(O)O-(CH2)3-、-C(O)O-(CH2)6-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)2-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-CH(CH3)-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)3-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-CH(CH3)-CH2-、-OCH2-、-O(CH2)3-、-OCFHCF2-、 等。
上述式中，Rd係在各別出現中各自獨立表示-Z2-CR81 p2R82 q2R83 r2。
式中，Z2係在各別出現中各自獨立表示氧原子或2價有機基。
上述Z2係以C1-6伸烷基、-(CH2)g-O-(CH2)h-(式中，g為0~6之整數，例如1~6之整數，h為0~6之整數，例如1~6之整數)，或-伸苯基-(CH2)i-(式中，i為0~6 之整數)為佳，較佳為C1-3伸烷基。此等之基係可被選自例如氟原子、C1-6烷基、C2-6烯基、及C2-6炔基之1個或1個以上之取代基所取代。
式中，R81係在各別出現中各自獨立表示Rd’。Rd’係與Rd相同意義。
Rd中，隔著Z2基而直鏈狀連結之C係最大為5個。即，上述Rd中，R81在至少1個存在時，Rd中隔著Z2基而直鏈狀連結之Si原子存在2個以上，但該隔著Z2基而直鏈狀連結之C原子之數係最大為5個。尚且，「Rd中之隔者Z2基而直鏈狀連結之C原子之數」係指變得同等於Rd中直鏈狀連結之-Z2-C-之重複數。此係與式(C1)及(C2)中關於Ra之記載相同。
在較佳之態樣中，「Rd中之隔著Z2基而直鏈狀連結之C原子之數」係在全部鏈中為1個(左式)或2個(右式)。
在一種態樣中，Rd中之隔著Z2基而直鏈狀連結之C原子之數為1個或2個，以1個為佳。
式中，R82表示-Y-SiR85 n2R86 3-n2。
Y係在各別出現中各自獨立表示2價有機基。
在較佳態樣中，Y為C1-6伸烷基、-(CH2)g’-O-(CH2)h’-(式中，g’為0~6之整數，例如1~6之整數，h’為0~6之整數，例如1~6之整數)，或-伸苯基-(CH2)i’-(式中，i’為0~6之整數)。此等之基係可被選自例如氟原子、C1-6烷基、C2-6烯基、及C2-6炔基之1個或1個以上之取 代基所取代。
在一種態樣中，Y可為C1-6伸烷基、-O-(CH2)h’-或-伸苯基-(CH2)i’-。Y為上述之基時，在光耐性，特別係紫外線耐性能變得更高。
上述R85係在各別出現中各自獨立表示能水解之基。
上述「能水解之基」係指在本說明書中使用時，能受到水解反應之基。作為能水解之基之例，可舉出如-OR、-OCOR、-O-N=C(R)2、-N(R)2、-NHR、鹵素(此等式中，R表示取代或非取代之碳數1~4之烷基)等，較佳為-OR(烷氧基)。R之例係包括甲基、乙基、丙基、異丙基、n-丁基、異丁基等之非取代烷基；氯甲基等之取代烷基。此等之中，以烷基，特別係以非取代烷基為佳，以甲基或乙基為較佳。
較佳係R85為-OR(式中，R表示取代或非取代之C1-3烷基，較佳表示乙基或甲基，特佳表示甲基)。
上述R86係在各別出現中各自獨立表示氫原子或低級烷基。該低級烷基係以碳數1~20之烷基為佳，較佳為碳數1~6之烷基，更佳為甲基。
n2係在每個(-Y-SiR85 n2R86 3-n2)單位獨立表示1~3之整數，以2或3為佳，較佳為3。
上述R83係在各別出現中各自獨立表示氫原子或低級烷基。該低級烷基係以碳數1~20之烷基為佳，較佳為碳數1~6之烷基，更佳為甲基。
式中，p2係在各別出現中各自獨立為0~3之整數；q2係在各別出現中各自獨立為0~3之整數；r2係在各別出現中各自獨立為0~3之整數。但，p2、q2及r2之和為3。
在較佳之態樣中，Rd中之末端之Rd’(在不存在Rd’時則為Rd)中，上述q2係以2以上，例如2或3為佳，較佳為3。
在較佳之態樣中，Rd之末端部之至少1個為-C(-Y-SiR85 q2R86 r2)2或-C(-Y-SiR85 q2R86 r2)3，較佳可為-C(-Y-SiR85 q2R86 r2)3。式中，(-Y-SiR85 q2R86 r2)之單位係以(-Y-SiR85 3)為佳。在更佳之態樣中，Rd之末端部可皆為-C(-Y-SiR85 q2R86 r2)3，較佳可為-C(-Y-SiR85 3)3。
上述式中，Re係在各別出現中各自獨立表示-Y-SiR85 n2R86 3-n2。此此，Y、R85、R86及n2係與上述R82中之記載相同意義。
上述式中，Rf係在各別出現中各自獨立表示氫原子或低級烷基。該低級烷基係以碳數1~20之烷基為佳，較佳為碳數1~6之烷基，更佳為甲基。
式中，k2係在各別出現中各自獨立為0~3之整數；l2係在各別出現中各自獨立為0~3之整數；m2係在各別出現中各自獨立為0~3之整數。但，k2、l2及m2之和為3。
在一種態樣中，至少1個k2為2或3，以3為佳。
在一種態樣中，k2為2或3，以3為佳。
在一種態樣中，l2為2或3，以3為佳。
上述式(D1)及(D2)中，至少1個q2為2或3，或，至少1個l2為2或3。即，式中，存在至少2個-Y-SiR85 n2R86 3-n2基。
式(D1)或式(D2)所示之含全氟(聚)醚基之矽烷化合物係藉由組合公知之方法而製造。例如，X為2價之式(D1’)所示之化合物，雖並非係受到限定者，但可藉由如以下之操作而製造。
對HO-X-C(YOH)3(式中，X及Y係各自獨立為2價有機基。)所示之多價醇導入含有雙鍵之基(較佳為烯丙基)、及鹵素(較佳為溴)，而取得Hal-X-C(Y-O-R-CH=CH2)3(式中，Hal為鹵素，例如Br，R為二價有機基，例如伸烷基。)所示之雙鍵含有鹵化物。其次，使末端之鹵素，與RPFPE-OH(式中，RPFPE為含全氟聚醚基之基。)所示之含全氟聚醚基之醇進行反應，而取得RPFPE-O-X-C(Y-O-R-CH=CH2)3。其次，使末端之-CH=CH2，與HSiCl3及醇或HSiR85 3進行反應，而可取得RPFPE-O-X-C(Y-O-R-CH2-CH2-SiR85 3)3。
上述式(A1)、(A2)、(B1)、(B2)、(C1)、(C2)、(D1)及(D2)所示之含全氟(聚)醚基之矽烷化合物並非係受到特別限定者，可具有5×102~1×105之數平均分子量。上述數平均分子量較佳可為2,000~30,000，更佳可為3,000~10,000，更較佳可為3,000~8,000。
尚且，本發明中「數平均分子量」係藉由GPC(凝膠滲透層析)分析來測量。
上述含全氟(聚)醚基之矽烷化合物中之PFPE部分之數平均分子量並非係受到特別限定者，較佳可為1,500~30,000，更佳可為2,500~10,000，更較佳可為3,000~8,000。
作為上述脫模層之形成方法，可舉出如：使上述模具浸漬於包含上述具有能水解之基之化合物或上述含全氟(聚)醚基之矽烷化合物及溶劑之組成物之方法；上述模具暴露於上述組成物之蒸氣而蒸鍍之方法；將上述組成物印刷於上述模具之方法；使用噴墨機將上述組成物塗佈於上述模具之方法等。在上述浸漬、上述蒸鍍、上述印刷、上述塗佈之後，可使其乾燥。
步驟(1)係對上述脫模層塗佈上述包含氟聚醚之組成物，但上述塗佈之方法並無特別限定，可使用如：將已形成上述脫模層之上述模具浸漬於上述包含氟聚醚之組成物之方法；將上述包含氟聚醚之組成物噴霧在上述脫模層之方法；使上述包含氟聚醚之組成物蒸鍍於上述脫模層之方法。
上述氟聚醚在轉印時容易附著於上述被轉印物。因此，在重複進行轉印時，以補充附著於上述被轉印物而受到消費之上述氟聚醚為佳。作為上述模具，在使用輥狀之模具時，由於與上述被轉印物接觸之區域僅為上述模具之一部分，故藉由對不與上述被轉印物接觸之區域連續或間歇地塗佈上述氟聚醚，即可圓滑地補充上述氟聚醚。
上述氟聚醚係以不具有上述能水解之基為佳。上述氟聚醚若不具有上述能水解之基時，不會與上述模具及上述脫模層進行化學性鍵結，而附著於上述脫模層上，進而滲透於上述脫模層中。因此，可不損及上述脫模層之脫模性，亦可不使上述凹凸圖型變形，而保護上述脫模層。又，在微細凹凸圖型轉印時，上述全氟聚醚化合物藉由轉印至上述被轉印物之表面，而可賦予撥水性、撥油性、防污性。
作為上述氟聚醚，以式：R111-(R112O)m-R113(R111及R113係獨立為F、碳數1~16之烷基、碳數1~16之烷氧基、碳數1~16之氟化烷基、碳數1~16之氟化烷氧基、-R114-X111(R114為單鍵或二價有機基、X111為-NH2、-OH、-COOH、-CH=CH2、-OCH2CH=CH2、鹵素、磷酸、磷酸酯、羧酸酯、硫醇、硫醚、烷基醚(可經氟取代)、芳基、芳基醚或醯胺)、R112為碳數1~4之氟化伸烷基、m為2以上之整數)所示之化合物為較佳。在從賦予撥水性、撥油性、防污性之觀點，作為X111，以選自由-OH、-COOH、硫醇(-SH)、-CH=CH2及-OCH2CH=CH2所成群之至少1種為佳。作為上述二價有機基，可舉出如伸烷基、氟化伸烷基，或在此等末端鍵結氧原子之基等。上述二價有機基之碳數並無特別限定，例如可為1~16。
作為R111及R113，以獨立為F、碳數1~3之烷基、碳數1~3之氟化烷基或-R114-X111(R114及X111係如同上述)為佳，以F、碳數1~3之完全氟化烷基或-R114-X111(R114及X111係如同上述)為較佳。
作為m，以300以下之整數為佳，以100以下之整數為較佳。
作為R112，以碳數1~4之完全氟化伸烷基為佳。作為-R112O-，可舉出例如，式：-(CX112 2CF2CF2O)n111(CF(CF3)CF2O)n112(CF2CF2O)n113(CF2O)n114(C4F8O)n115-(n111、n112、n113、n114及n115係獨立為0或1以上之整數，X112為H、F或Cl，各重複單位之存在順序為任意者)所示者；式：-(OC2F4-R118)f-(R118為選自OC2F4、OC3F6及OC4F8之基，f為2~100之整數)所示者等。
n111~n115係以各自為0~200之整數為佳。n111~n115係以合計1以上為佳，以5~300為較佳，以10~200為更佳，以10~100為特佳。
R118為選自OC2F4、OC3F6及OC4F8之基，或，獨立選自此等基之2個或3個基之組合。作為獨立選自OC2F4、OC3F6及OC4F8之2個或3個基之組合，並無特別限定，可舉出例如-OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC4F8-、-OC3F6OC2F4-、-OC3F6OC3F6-、-OC3F6OC4F8-、 -OC4F8OC4F8-、-OC4F8OC3F6-、-OC4F8OC2F4-、-OC2F4OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC2F4OC4F8-、-OC2F4OC3F6OC2F4-、-OC2F4OC3F6OC3F6-、-OC2F4OC4F8OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC3F6-、-OC3F6OC3F6OC2F4-、及-OC4F8OC2F4OC2F4-等。上述f為2~100之整數，較佳為2~50之整數。上述式中，OC2F4、OC3F6及OC4F8可為直鏈或分枝鏈之任一者，較佳為直鏈。於此態樣中，式：-(OC2F4-R118)f-係較佳為式：-(OC2F4-OC3F6)f-或式：-(OC2F4-OC4F8)f-。
上述氟聚醚之重量平均分子量係以500~100000為佳，以50000以下為較佳，以10000以下為更佳，以6000以下為特佳。上述重量平均分子量係可藉由凝膠滲透層析(GPC)進行測量。
作為市售之上述氟聚醚，可舉出如商品名德楠姆(Demnum)(大金工業公司製)、Fomblin(蘇威特殊聚合物日本公司製)、Barrierta(NOK Klueber公司製)、Krytox(杜邦公司製)等。
上述組成物可為僅包含上述氟聚醚者。但，從具有低表面自由能量，且容易塗佈之觀點，上述組成物係以包含溶劑(但上述氟聚醚除外)為佳，以包含氟系溶劑(但上述氟聚醚除外)為較佳。作為上述氟系溶劑，可舉出如全氟己烷、全氟甲基環己烷、全氟-1,3-二甲基環己烷、二氯五氟丙烷、氫氟醚(HFF)、六氟間二甲苯、Zeorora H(日本傑恩公司製)等，以上述HFE為佳。
上述組成物在包含上述溶劑時，作為上述氟聚醚之量，相對於上述組成物而言，以10~0.0001質量%為佳，以1~0.001質量%為較佳，以0.1~0.001質量%為更佳。氟聚醚之量係相對於上述組成物，亦以0.01質量%以上為佳。上述氟聚醚之量若在上述範圍內時，上述塗佈則為容易。
作為上述氫氟醚(HFE)，以Rf21-O-R21(Rf21為碳數1~10之氟化烷基、R21為碳數1~3之非氟化烷基)所示之化合物為佳，可舉出如C3F7OCH3、C4F9OCH3、C4F9OC2H5、C2F5CF(OCH3)C3F7等。
步驟(2)係將步驟(1)取得之上述模具壓向被轉印物而轉印上述凹凸圖型。
步驟(2)中，將上述模具壓向上述被轉印物，並同時加熱上述被轉印物，或，亦可對上述被轉印物照射光而使上述被轉印物硬化。
又，上述製造方法係在實施步驟(3)後，亦可包含加熱上述被轉印物，或，對上述被轉印物照射光而使上述被轉印物硬化之步驟。
步驟(2)中，若將上述模具壓向上述被轉印物並同時對上述被轉印物照射紫外線而使上述被轉印物硬化時，會有上述被轉印物從基材剝離，上述被轉印物附著於模具等問題。
但，上述製造方法由於係包含步驟(1)，故可迴避上 述被轉印物之剝離或附著。因此，步驟(2)中，將上述模具壓向上述被轉印物並同時對上述被轉印物照射紫外線之製造方法亦為本發明之適宜態樣之一。
上述被轉印物係亦可設在基材上。作為上述基材之材料，可舉出如矽、合成樹脂、玻璃、金屬、陶瓷等，合成樹脂由於具有柔軟性，可壓向輥狀之模具，故為佳。
作為上述合成樹脂，可舉出例如，三乙醯基纖維素(TAC)等之纖維素系樹脂、聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(EVA)等之聚烯烴、環狀聚烯烴、變性聚烯烴、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚苯乙烯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚碳酸酯、聚-(4-甲基戊烯-1)、離子聚合物、丙烯酸系樹脂、聚甲基甲基丙烯酸酯、丙烯醯基-苯乙烯共聚物(AS樹脂)、丁二烯-苯乙烯共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物(EVOH)、聚對酞酸乙二酯(PET)、聚對酞酸丁二酯(PBT)、聚對酞酸環己酯(PCT)等之聚酯、聚醚、聚醚酮(PEK)、聚醚醚酮(PEEK)、聚醚醯亞胺、聚縮醛(POM)、聚苯醚、變性聚苯醚、聚芳香酯、芳香族聚酯(液晶聚合物)、聚四氟乙烯、聚二氟亞乙烯、其他氟系樹脂、苯乙烯系、聚烯烴系、聚氯化乙烯系、聚胺基甲酸酯系、氟橡膠系、氯化聚乙烯系等之各種熱可塑性彈性體、環氧樹脂、酚樹脂、脲樹脂、三聚氰胺樹脂、不飽和聚酯、聚矽氧樹脂、聚胺基甲酸酯等、或以此等為主之共聚物、摻合物、聚合物合金等，亦可使用組 合使用此等之中之1種或2種以上(例如作為2層以上之層合體)。
上述被轉印物係以包含硬化性樹脂或硬化性單體為佳，以包含上述硬化性樹脂為較佳。
上述硬化性樹脂可為光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂之任意者，只要係具有耐熱性、強度之樹脂即無特別限制，以光硬化性樹脂為佳，以紫外線硬化性樹脂為較佳。
作為上述硬化性樹脂，可舉出例如，丙烯酸系聚合物、聚碳酸酯系聚合物、聚酯系聚合物、聚醯胺系聚合物、聚醯亞胺系聚合物、聚醚碸系聚合物、環狀聚烯烴系聚合物、含氟聚烯烴系聚合物(PTFE等)、含氟環狀非結晶性聚合物(Cytop(註冊商標)、Teflon(註冊商標)AF等)等。在實施步驟(2)後進行紫外線硬化等之操作時，以具有透明性之樹脂為佳。
作為構成上述硬化性樹脂或上述硬化性樹脂之單體，具體地可舉出例如，環己基甲基乙烯基醚、異丁基乙烯基醚、環己基乙烯基醚、乙基乙烯基醚等之烷基乙烯基醚、環氧丙基乙烯基醚、乙酸乙烯酯、三甲基乙酸乙烯基酯、各種(甲基)丙烯酸酯類：苯氧基乙基丙烯酸酯、苄基丙烯酸酯、硬脂醯基丙烯酸酯、月桂基丙烯酸酯、2-乙基己基丙烯酸酯、烯丙基丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,6-已二醇二丙烯酸酯、三羥甲基、丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二季 戊四醇六丙烯酸酯、乙氧基乙基丙烯酸酯、甲氧基乙基丙烯酸酯、環氧丙基丙烯酸酯、四氫糠基丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、聚氧乙二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、2-羥基乙基丙烯酸酯、2-羥基丙基丙烯酸酯、4-羥基丁基乙烯基醚、N,N-二乙基胺基乙基丙烯酸酯、N,N-二甲基胺基乙基丙烯酸酯、N-乙烯基吡咯啶酮、二甲基胺基乙基甲基丙烯酸酯矽系之丙烯酸酯、無水馬來酸、碳酸伸乙烯酯、鏈狀側鏈聚丙烯酸酯、環狀側鏈聚丙烯酸酯聚降莰烯、聚降莰二烯、聚碳酸酯、聚磺酸醯胺、含氟環狀非結晶性聚合物(Cytop(註冊商標)、Teflon(註冊商標)AF等)等。
上述硬化性單體可為光硬化性單體、熱硬化性單體之任意者，以紫外線硬化性單體為佳。
作為上述硬化性單體，可舉出例如，(a)胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、(b)環氧基(甲基)丙烯酸酯、(c)聚酯(甲基)丙烯酸酯、(d)聚醚(甲基)丙烯酸酯、(e)矽(甲基)丙烯酸酯、(f)(甲基)丙烯酸酯單體等。
作為上述硬化性單體，具體地可舉出如以下之例。
作為(a)胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，可舉出如由參(2-羥基乙基)異三聚氰酸酯二丙烯酸酯、參(2-羥基乙基)異三聚氰酸酯三丙烯酸酯所代表之聚[(甲基)丙烯醯氧基烷基]異三聚氰酸酯。
(b)環氧基(甲基)丙烯酸酯係對環氧基加成(甲基)丙烯 醯基者，一般係使用雙酚A、雙酚F、苯酚酚醛、脂環化合物作為起始原料者。
作為構成(c)聚酯(甲基)丙烯酸酯之聚酯部之多價醇，可舉出如乙二醇、1,4-丁二醇、1,6-已二醇、二乙二醇、三羥甲基丙烷、二丙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、季戊四醇、二季戊四醇等，作為多元酸，可舉出如酞酸、己二酸、馬來酸、偏苯三甲酸、伊康酸、琥珀酸、對酞酸、烯基琥珀酸等。
作為(d)聚醚(甲基)丙烯酸酯，可舉出如聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇-聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等。
(e)矽(甲基)丙烯酸酯係使分子量1,000~10,000之二甲基聚矽氧烷之單末端或兩末端，以(甲基)丙烯醯基進行變性者，可例示例如以下之化合物等。
作為(f)(甲基)丙烯酸酯單體，可例示如甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、n-丙基(甲基)丙烯酸酯、異丙基(甲基)丙烯酸酯、n-丁基(甲基)丙烯酸酯、異丁基(甲基)丙烯酸酯、sec-丁基(甲基)丙烯酸酯、t-丁基(甲基)丙烯酸酯、n-戊基(甲基)丙烯酸酯、3-甲基丁基(甲基)丙烯酸酯、n-己基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基-n-己基(甲基)丙烯酸酯、n-辛基(甲基)丙烯酸酯、環己基(甲基)丙烯酸酯、異莰基(甲基)丙烯酸酯、苄基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、3-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、4-羥基丁基(甲基)丙烯酸酯、5-羥基戊基(甲基)丙烯酸酯、6-羥基己基(甲基)丙烯 酸酯、4-羥基環己基(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇單(甲基)丙烯酸酯、3-氯-2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、(1,1-二甲基-3-氧代丁基)(甲基)丙烯酸酯、2-乙醯乙醯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-甲氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇單(甲基)丙烯酸酯、3-氯-2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、丙三醇單(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、1,6-已二醇二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、1,10-癸二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯等。
上述硬化性樹脂及硬化性單體之中，作為能從市場取得之較佳者，可舉出如以下者。
作為上述硬化性樹脂，可舉出如矽樹脂類PAK-01、PAK-02(東洋合成化學公司製)、奈米壓印樹脂NIF系列(旭硝子公司製)、奈米壓印樹脂OCNL系列(東京應化工業公司製)、NIAC2310(戴爾化學工業公司製)、環氧基丙烯酸酯樹脂類EH-1001、ES-4004、EX-C101、EX-C106、EX-C300、EX-C501、EX-0202、EX-0205、EX-5000等(共榮社化學公司製)、六亞甲基二異氰酸酯系聚異氰酸酯類、Sumidur N-75、Sumidur N3200、Sumidur HT、Sumidur N3300、Sumidur N3500(住友拜爾胺基甲酸酯公司製)等。
上述硬化性單體之中，作為矽丙烯酸酯系樹脂類，可舉出如Silaplane FM-0611、Silaplane FM-0621、Silaplane FM-0625、兩末端型(甲基)丙烯酸系之Silaplane FM-7711、Silaplane FM-7721及Silaplane FM-7725等、Silaplane FM-0411、Silaplane FM-0421、Silaplane FM-0428、Silaplane FM-DA11、Silaplane FM-DA21、Silaplane-DA25、單末端型(甲基)丙烯酸系之Silaplane FM-0711、Silaplane FM-0721、Silaplane FM-0725、Silaplane TM-0701及Silaplane TM-0701T(JCN公司製)等。
作為多官能丙烯酸酯類，可舉出如A-9300、A-9300-1CL、A-GLY-9E、A-GLY-20E、A-TMM-3、A-TMM-3L、A-TMM-3LM-N、A-TMPT、A-TMMT(新中村工業公司製)等。
作為多官能甲基丙烯酸酯類，可舉出如TMPT(新中村工業公司製)等。
作為烷氧基矽烷基含有(甲基)丙烯酸酯，可舉出如3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三氯矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三異丙氧基矽烷(別名(三異丙氧基矽基)丙基甲基丙烯酸酯(略稱：TISMA)及(三異丙氧基矽基)丙基丙烯酸酯)、3-(甲基)丙烯醯氧基異丁基三氯矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基異丁基三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基異丁基三異丙氧基3-(甲基)丙烯醯氧基異丁基三甲氧基矽烷二矽烷等。
上述被轉印物係亦已包含交聯觸媒為佳。作為上述交聯觸媒，可例示如自由基聚合起始劑、酸產生劑 等。
上述自由基聚合起始劑係因熱或光而產生自由基之化合物，可舉出如自由基熱聚合起始劑、自由基光聚合起始劑。本發明中，以上述自由基光聚合起始劑為佳。
作為上述自由基熱聚合起始劑，可舉出例如，過氧化苄醯基、過氧化月桂醯基等之過氧化二醯基類、過氧化二異丙苯基、過氧化二-t-丁基等之過氧化二烷基類、二異丙基過氧基二碳酸酯、雙(4-t-丁基環己基)過氧基二碳酸酯等之過氧基碳酸酯類、t-丁基過氧基辛酸酯、t-丁基過氧基苯甲酸酯等之烷基過酸酯類等之過氧化物化合物，以及，如偶氮二異丁腈之自由基產生性偶氮化合物等。
作為上述自由基光聚合起始劑，可舉出例如，苄基、二乙醯基等之-二酮類、安息香等之酮醇(Acyloin)類、安息香甲基醚、安息香乙基醚、安息香異丙基醚等之酮醇醚類、噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、噻噸酮-4-磺酸等之噻噸酮類、二苯甲酮、4,4’-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、4,4’-雙(二乙基胺基)二苯甲酮等之二苯甲酮類、苯乙酮、2-(4-甲苯磺醯氧基)-2-苯基苯乙酮、p-二甲基胺基苯乙酮、2,2’-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、p-甲氧基苯乙酮、2-甲基[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基-1-丙酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁-1-酮等之苯乙酮類、蒽醌、1,4-萘醌等之醌類、2-二甲基胺基安息香酸乙酯、4-二甲基胺基安息香酸乙酯、4-二甲基胺基安息香酸(n-丁氧 基)乙酯、4-二甲基胺基安息香酸異戊酯、4-二甲基胺基安息香酸2-乙基己基等之胺基安息香酸類、苯甲醯甲基氯、三鹵甲基苯基碸等之鹵化合物、醯基膦氧化物類、二-t-丁基過氧化物等之過氧化物等。
作為上述自由基光聚合起始劑之市售品，可例示如以下者。
IRGACURE 651：2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮、IRGACURE 184：1-羥基-環己基-苯基-酮、IRGACURE 2959：1-[4-(2-羥基乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮、IRGACURE 127：2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙醯基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙-1-酮、IRGACURE 907：2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉基丙-1-酮、IRGACURE 369：2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1、IRGACURE 379：2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎咻基)苯基]-1-丁酮、IRGACURE 819：雙(2,4,6-三甲基苄醯基)-苯基膦氧化物、IRGACURE 784：雙(η5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦、IRGACURE OXE 01：1,2-辛二酮1-[4-(苯硫基)-,2-(O-苄醯基肟)]、 IRGACURE OXE 02：乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苄醯基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(0-乙醯基肟)、IRGACURE261、IRGACURE369、IRGACURE500、DAROCUR 1173：2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙-1-酮、DAROCUR TPO：2,4,6-三甲基苄醯基-二苯基-膦氧化物、DAROCUR1116、DAROCUR2959、DAROCUR1664、DAROCUR4043、IRGACURE 754氧基苯基乙酸：2-[2-氧代-2-苯基乙醯氧基乙氧基]乙基酯與氧基苯基乙酸、2-(2-羥基乙氧基)乙基酯之混合物、IRGACURE 500：IRGACURE 184與二苯甲酮之混合物(1：1)、IRGACURE 1300：IRGACURE 369與IRGACURE 651之混合物(3：7)、IRGACURE 1800：CGI403與IRGACURE 184之混合物(1：3)、IRGACURE 1870：CGI403與IRGACURE 184之混合物(7：3)、DAROCUR 4265：DAROCUR TPO與DAROCUR 1173之混合物(1：1)。
尚且，IRGACURE為汽巴精化公司製，DAROCUR為默克日本公司製。
又，在使用自由基光聚合起始劑作為上述交 聯觸媒時，可併用二乙基噻噸酮、異丙基噻噸酮等作為增感劑，亦可併用DAROCUR EDB(乙基-4-二甲基胺基苯甲酸酯)、DAROCUR EHA(2-乙基己基-4-二甲基胺基苯甲酸酯)等作為聚合促進劑。
作為在使用上述增感劑時之增感劑之配合量，相對於上述硬化性樹脂或上述硬化性單體100質量份，以0.1~5質量份為佳。較佳為0.1~2質量份。
又，作為在使用上述聚合促進劑時之聚合促進劑之配合量，相對於上述硬化性樹脂或上述硬化性單體100質量份，以0.1~5質量份為佳。較佳為0.1~2質量份。
上述酸產生劑係因施加熱或光而產生酸之材料，可舉出如熱酸產生劑、光酸產生劑。本發明中，以光酸產生劑為佳。
作為上述熱酸產生劑，可舉出例如，安息香甲苯磺酸酯、硝基苄基甲苯磺酸酯(特別係4-硝基苄基甲苯磺酸酯)、其他有機磺酸之烷基酯等。
上述光酸產生劑係由吸收光之發色團與分解後成為酸之酸前驅物所構成，藉由對此種構造之光酸產生劑著照射特定波長之光，光酸產生劑進行激發而從酸前驅物部分產生酸。
作為上述光酸產生劑，可舉出例如，重氮鹽、鏻鹽、鋶鹽、錪鹽、CF3SO3、p-CH3PhSO3、p-NO2PhSO3(但，Ph為苯基)等之鹽、有機鹵化合物、鄰醌-二疊氮磺醯基氯、或磺酸酯等。作為其他光酸產生劑，尚可舉出如2-鹵甲基 -5-乙烯基-1,3,4-噁二唑化合物、2-三鹵甲基-5-芳基-1,3,4-噁二唑化合物、2-三鹵甲基-5-羥基苯基-1,3,4-噁二唑化合物等。
尚且，上述有機鹵化合物為形成氫鹵酸(例如、氯化氫)之化合物。
作為上述光酸產生劑之市售品，可例示如以下者。
和光純藥工業公司製之WPAG-145[雙(環己基磺醯基)重氮甲烷]、WPAG-170[雙(t-丁基磺醯基)重氮甲烷]、WPAG-199[雙(p-甲苯磺醯基)重氮甲烷]、WPAG-281[三苯基鋶 三氟甲烷磺酸酯]、WPAG-336[二苯基-4-甲基苯基鋶三氟甲烷磺酸酯]、WPAG-367[二苯基-2,4,6-三甲基苯基鋶p-甲苯磺酸酯]、汽巴精化公司製之IRGACURE PAG103[(5-丙基磺醯氧基胺基-5H-噻吩-2-亞基)-(2-甲基苯基)乙腈]、IRGACURE PAG108[(5-辛基磺醯氧基胺基-5H-噻吩-2-亞基)-(2-甲基苯基)乙腈)]、IRGACURE PAG121[(5-p-甲苯磺醯氧基胺基-5H-噻吩-2-亞基)-(2-甲基苯基)乙腈]、IRGACURE PAG203、CGI725、三和化學公司製之TFE-三嗪[2-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪]、TME-三嗪[2-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-4,6-雙(三-氯甲基)-s-三嗪]MP-三嗪[2-(甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪]、二甲氧基[2-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-4,6-雙(三-氯甲基)-s-三嗪]。
作為上述交聯觸媒之配合量，相對於上述硬化性樹脂或上述硬化性單體100質量份，以0.1~10質量份為佳。在此種範圍時，可取得充足硬化物。作為上述交聯觸媒之配合量，較佳為0.3~5質量份，更佳為0.5~2質量份。
又，使用上述酸產生劑作為上述交聯觸媒時，亦可因應必要添加酸捕捉劑，來控制從上述酸產生劑所產生之酸之擴散。
作為上述酸捕捉劑，並無特別限制，以胺(特別係有機胺)、鹼性之銨鹽、鹼性之鋶鹽等之鹼性化合物為佳。此等酸捕捉劑之中，在畫像性能優異之面上，以有機胺為更佳。
作為上述酸捕捉劑，具體地可舉出如1,5-二吖雙環[4.3.0]-5-壬烯、1,8-二吖雙環[5.4.0]-7-十一烯、1,4-二吖雙環[2.2.2]辛烷、4-二甲基胺基吡啶、1-萘基胺、哌啶、六亞甲四胺、咪唑類、羥基吡啶類、吡啶類、4,4’-二胺基二苯基醚、吡啶鎓p-甲苯磺酸鹽、2,4,6-三甲基吡啶鎓p-甲苯磺酸鹽、四甲基銨p-甲苯磺酸鹽、及四丁基銨乳酸鹽、三乙基胺、三丁基胺等。此等之中，以1,5-二吖雙環[4.3.0]-5-壬烯、1,8-二吖雙環[5.4.0]-7-十一烯、1,4-二吖雙環[2.2.2]辛烷、4-二甲基胺基吡啶、1-萘基胺、哌啶、六亞甲四胺、咪唑類、羥基吡啶類、吡啶類、4,4’-二胺基二苯基醚、三乙基胺、三丁基胺等之有機胺為佳。
上述酸捕捉劑之配合量係相對於上述酸產生 劑100質量份，以20質量份以下為佳，較佳為0.1~10質量份，更佳為0.5~5質量份。
步驟(3)係從上述被轉印物使上述模具脫模，而取得具有轉印圖型之上述被轉印物。上述被轉印物係具有上述模具所具有之凹凸圖型受到反轉之轉印圖型。
圖1係展示本發明之製造方法之一實施形態。圖1展示之實施形態中，可使用包含光硬化性樹脂之被轉印物，連續或間歇地將設於輥狀模具上之凹凸圖型轉印於被轉印物。圖1展示之模具3係在表面具有凹凸圖型，更且在表面具有脫模層。朝箭頭方向送出之被轉印物1係經由輥2a而到達塗佈有上述氟聚醚(FPE)之輥狀模具3。其後，旋轉之模具3係被壓向被轉印物1，而將凹凸圖型轉印至被轉印物1。同時地照射紫外線等之光而使被轉印物1硬化。具有轉印圖型之被轉印物1係經由輥2b而送出至其後步驟。如圖1所示，亦可因應必要再次照射光。
圖1展示之實施形態中，模具3具有與被轉印物1接觸之領域，及不與被轉印物1接觸之區域，且模具3係在不與被轉印物1接觸之區域塗佈FPE。藉此，可連續或間歇地對旋轉之模具3塗佈FPE。因此，在剛與被轉印物1剝離後之脫模層上之FPE之量會減少，而會有完全消失之可能性，但與被轉印物1下次接觸之前，藉由再次塗佈FPE，即可使FPE量回復。
如以上所述，圖1展示之實施形態中，由於 脫模層係長時間受到FPE保護，故即使進行重複轉印，受到重複光之照射，仍會維持高脫模性。
上述被轉印物係可直接使用於以下之用途，亦能使用作為複製品模具。
將上述被轉印物使用作為上述複製品模具時，上述複製品模具由於在表面附著有上述氟聚醚，故具有良好脫模性。
作為可適用上述被轉印物之用途，可舉出如電子、光學、醫療、化學分析等之廣大用途。例如，作為電子裝置，可利用於電晶體、記憶體、發光二極體(EL)、雷射、太陽電池等之積體電路。又，可製造太陽光集光膜、液晶偏光板等具有規則性凹凸構造之膜。從此等裝置可製造可撓性顯示器、無線標籤、穿戴式電腦等。
又，作為光學裝置，可利用於液晶顯示器之濾色器或有機EL等之顯示器用畫素、光記憶體、光調變元件、光閘、第二諧波(SHG)元件、偏光元件、光子晶體、透鏡陣列等，作為磁氣裝置，可利用於次世代硬碟機(離散磁軌(Discrete Track))、次次世代硬碟機(格式化媒體(patterned media))，作為醫療裝置，可利用於DNA陣列、蛋白質陣列等之生物晶片等。作為化學分析裝置，可利用於微小化學裝置、微小化學分析系統等之微化學晶片。
[實施例]
以下，例舉實驗例說明本發明，但本發明並非係僅受限制於到該實驗例所者。
說明實驗例使用之原料化合物。
將聚氟聚醚(PFPE)之單末端為甲基胺型之式：F3CF2CO-(CF2CF2CF2O)nCF2CF2CH2NH2(n為1以上之整數)所示之化合物稱為「德楠姆甲基胺」。
又，將PFPE之兩末端為甲基胺型之式：H2NH2CF2CF2CO-(CF2CF2CF2O)nCF2CF2CH2NH2(n為1以上之整數)所示之化合物稱為「德楠姆二甲基胺」。
在與上述相同之記載方法下，將兩末端為F之 式：F3CF2CO-(CF2CF2CF2O)n-CF2CF3(n為1以上之整數)所示之化合物稱為「德楠姆油」。
將單末端為羥基甲基(CH2OH)之式：F3CF2CO-(CF2CF2CF2O)n-CF2CF2CH2OH(n為1以上之整數)所示之化合物稱為「德楠姆甲基醇」。
將兩末端為羥基甲基之式：HOH2CF2CF2CO-(CF2CF2CF2O)n-CF2CF2CH2OH(n為1以上之整數)所示之化合物稱為「德楠姆二甲基醇」。
將單末端為羧酸(COOH)之式：F3CF2CO-(CF2CF2CF2O)n-CF2CF2COOH(n為1以上之整數)所示之化合物稱為「德楠姆羧酸」。
將兩末端為羧酸(COOH)之式：HOOCF2CF2CO-(CF2CF2CF2O)n-CF2CF2COOH(n為1以上之整數)所示之化合物稱為德楠姆二羧酸」。
將單末端為CH2OCH2CH=CH2之式：F3CF2CO-(CF2CF2CF2O)n-CF2CF2CH2OCH2CH=CH2(n為1以上之整數)所示之化合物稱為「德楠姆烯丙基醚」。
將兩末端為CH2OCH2CH=CH2之式：H2C=CHCH2OCH2CF2CF2CO-(CF2CF2CF2O)nCH2OCH2CH=CH2(n為1以上之整數)所示之化合物稱為「德楠姆二烯丙基醚」。
靜態接觸角與水滑移角係使用全自動接觸角計DropMaster700(協和界面科學製)利用以下之方法進行測量。
<靜態接觸角與水滑移角之測量方法>
靜態接觸角係水平置放之基板上從微注射器滴下水或n-十六烷2μL，藉由以視訊顯微鏡攝影滴下1秒後之靜止畫面來求得。
又，水滑移角係使用以下之方法求得。在水 平置放之基板上從微注射器滴下水20μL，使基板以毎秒2°之速度傾斜，使用視訊顯微鏡以動畫之方法紀錄液滴開始滑落為止。再生該動畫，將液滴開始滑落之角度作為水滑移角。
實驗例1 <使用德楠姆油之模具處理方法>
測量使用氟系表面處理劑之Optool DSX(註冊商標、大金工業公司製、含全氟(聚)醚基之矽烷化合物)而表面受到氟表面處理之石英載玻片之對水接觸角時為113°。調製出德楠姆油(Mw=2000)在HFE7300中為0.1質量%之濃度之處理液。在處理液中浸漬前述經氟表面處理之石英載玻片，在60℃下乾燥10分鐘而作成模具。
實驗例2 <使用德楠姆甲基醇之模具處理方法>
除了將實驗例1之德楠姆油(Mw=2000)變更為德楠姆甲基醇(Mw=2000)以外，其他係同樣地進行處理而作成模具。
實驗例3 <使用德楠姆甲基胺之模具處理方法>
除了將實驗例1之德楠姆油(Mw=2000)變更為德楠姆甲基胺(Mw=2000)以外，其他係同樣地進行處理而作成模 具。
實驗例4 <使用德楠姆羧酸之模具處理方法>
除了將實驗例1之德楠姆油(Mw=2000)變更為德楠姆羧酸(Mw=4000)以外，其他係同樣地進行處理而作成模具。
實驗例5 <使用德楠姆烯丙基醚之模具處理方法>
除了將實驗例1之德楠姆油(Mw=2000)變更為德楠姆烯丙基醚(Mw=4000)以外，其他係同樣地進行處理而作成模具。
比較例
將使用氟系表面處理劑之Optool DSX(註冊商標)而表面受氟塗覆之石英載玻片作為比較例1，將未經處理之石英載玻片(對水接觸角16°)作為比較例2。
評價外觀並測量靜態接觸角(對水及對n-十六烷)及水滑移角。其結果係如表1所示。
<模具剝離性與脫模耐久性評價>
對PAK-02(東洋合成化學公司製)6.0g添加作為光聚合起始劑之Irgacure 907(汽巴精化公司製)120mg(相對於PAK-02為2.0質量%)，在遮光下旋轉混合機中攪拌12小時而作成模具樹脂材料。
在矽基板上載放模具樹脂材料10μL，重疊上模具，以使模具樹脂材料在載玻片與矽基板之間均勻擴散之放式挾持。從石英玻璃面之上面，在氮環境下以500mJ/cm2之強度對此照射包含365nm之UV光之光線，而使模具樹脂材料硬化。從矽基板剝離模具時，有硬化膜殘留於矽基板上。使用相同模具，且使用相同模具樹脂材料，重複相同操作50次。剝離性係解析取得之模具表面，並觀察從矽基板剝離硬化後模具樹脂材料，附著於模具上之硬化後模具樹脂。剝離性之判定係如以下所示實施2段階評價。
矽基板與硬化後模具樹脂材料之剝離之程 度：
A：未觀測到硬化後模具樹脂材料之剝離
B：觀測到硬化後模具樹脂材料之剝離
附著於模具上之硬化後模具樹脂材料之程度：
a：未觀測到附於模具上之硬化後模具樹脂材料
b：觀測到附著於模具上之硬化後模具樹脂材料
實驗例1~5中，每轉印50次就將模具浸漬於處理液。脫模耐久性係以看到附著於模具上之硬化後模具樹脂材料之轉印回數來進行評價。
取得之結果係如表2所示。

Claims (4)

  1. 一種被轉印物之製造方法，其特徵為包含，步驟(1)：對已形成脫模層之於表面具有凹凸圖型之模具之前述脫模層塗佈包含氟聚醚之組成物；步驟(2)：將前述模具壓向被轉印物而轉印前述凹凸圖型；及，步驟(3)：使前述被轉印物從前述模具脫模而取得具有轉印圖型之前述被轉印物；其中，前述氟聚醚不具有能水解之基。
  2. 如請求項1之製造方法，其中前述被轉印物包含紫外線硬化性樹脂。
  3. 如請求項1或2之製造方法，其係於步驟(2)中，將前述模具壓向前述被轉印物，並且對前述被轉印物照射紫外線。
  4. 如請求項1或2之製造方法，其中前述組成物更包含溶劑。
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