TWI669460B - 接頭及流體控制裝置 - Google Patents

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Abstract

[課題]提供一種進行氣體管線的改造等時，可容易變更尺寸的接頭及流體控制裝置。 　　[技術內容]一種接頭(20)，具備第1塊體(21)、及第2塊體(22)、及將第1塊體(21)及第2塊體(22)連接的單管部(23)，具有第1氣體流路(第1流路(27)、第2流路(31))及第2氣體流路(第3流路(32))。第1氣體流路，是將在第1塊體(21)的第1面(24)開口的第1入口部(27A)、單管部(23)、及在第2塊體(22)的第4面(28)開口的第2出口部(31B)連通地形成，第2氣體流路，是將在第2塊體(22)的第4面(28)開口的第3入口部(32A)及第3出口部(32B)連通地形成，第2出口部(31B)，是位於第3入口部(32A)及第3出口部(32B)之間。

Description

接頭及流體控制裝置
[0001] 本發明，是有關於半導體製造裝置等中的流體控制裝置所使用的接頭及具備該接頭的流體控制裝置。
[0002] 以往已提案，流體控制裝置所使用的接頭(例如專利文獻1參照)。在設有專利文獻1所揭示的質量流動控制器的接頭中，在塊體狀的接頭的上面，在一直線上形成有第1～4通口，第1、3通口是藉由V字狀的流路被連接，第2、4通口是藉由V字狀的流路被連接。此接頭，是將三方閥的中央的通口與塊體上面側的別的通口連通，藉由將橫跨複數氣體管線淨化氣體分歧配管從後方安裝在塊體上面側，而可事前將複數氣體管線組裝在各氣體管線。 [先前技術文獻] [專利文獻] 　　[0003] 　　[專利文獻1]日本特開2005-163952號公報
[本發明所欲解決的課題] 　　[0004] 但是在專利文獻1所揭示的接頭中，因為是在單一的塊體的上面形成有4個通口的構成，所以在流體控制裝置的氣體管線的改造時，不容易配合質量流動控制器的尺寸的變更，將該接頭的尺寸變更。即，在將通口之間的距離變更中，有必要將流路的角度變更，有必要將2條的V字狀的流路重新設計。 　　[0005] 在此本發明的目的是提供一種接頭及流體控制裝置，當進行氣體管線的改造等時，可容易變更尺寸。 [用以解決課題的手段] 　　[0006] 為了解決上述目的，本發明的一態樣的接頭，是具備第1塊體、及第2塊體、及將前述第1塊體及前述第2塊體連接的單管部，在內部具有第1氣體流路及第2氣體流路，前述第1氣體流路，是將在前述第1塊體的外面開口的第1通口、前述單管部、及在前述第2塊體的外面開口的第2通口連通地形成，前述第2氣體流路，是將在前述第2塊體的前述外面開口的第3通口及第4通口連通地形成，前述第2通口，是位於前述第3通口及前述第4通口之間。 　　[0007] 且前述第1氣體流路，是具有形成於前述第1塊體的第1流路及形成於前述第2塊體的第2流路，前述第2流路，是由對於前述第2塊體的前述外面垂直交叉地形成的流路所構成，前述第2氣體流路，是將前述第2流路避開地形成也可以。 　　[0008] 且本發明的一態樣的流體控制裝置，是具備複數氣體管線，各氣體管線，是具備：複數流體控制機器、及設有流體控制機器的接頭，前述接頭，是具備第1塊體、及第2塊體、及將前述第1塊體及前述第2塊體連接的單管部，在內部具有第1氣體流路及第2氣體流路，前述第1氣體流路，是將在前述第1塊體的外面開口的第1通口、前述單管部、及在前述第2塊體的外面開口的第2通口連通地形成，前述第2氣體流路，是將在前述第2塊體的前述外面開口的第3通口及第4通口連通地形成，前述第2通口，是位於前述第3通口及前述第4通口之間。 　　[0009] 且前述複數流體控制機器，是具備：二通閥也就是第1閥、及三方閥也就是第2閥、及供給淨化氣體用的淨化氣體配管，前述接頭，是使前述第1塊體位於比前述第2塊體更上游側地配置，在前述第1塊體中，設有前述第1閥，在前述第2塊體中，設有前述第2閥及前述淨化氣體配管也可以。 　　[0010] 且前述複數流體控制機器，是具備：三方閥也就是閥、及供給淨化氣體用的淨化氣體配管、及流量控制機器，前述接頭，是使前述第2塊體位於比前述第1塊體更上游側地配置，在前述第2塊體中，設有前述閥及前述淨化氣體配管，在前述第1塊體中，設有前述流量控制機器也可以。 [發明的效果] 　　[0011] 依據本發明的話，可提供一種接頭及流體控制裝置，當進行氣體管線的改造等時，可以容易變更尺寸。
[0013] 對於本發明的第1實施例的接頭及流體控制裝置參照圖面進行說明。 　　[0014] 第1圖，是顯示具備本實施例的接頭20的流體控制裝置1的概略圖。 　　[0015] 流體控制裝置1，是具備：複數氣體管線2、及複數本的軌道3、及固定軌道3的無圖示基座。又，在第1圖中只有顯示複數中的一個氣體管線2及軌道3。 　　[0016] 氣體管線2，是具備：複數接頭4～6、20、及複數流體控制機器10～16、及淨化氣體分歧配管17。 　　[0017] 複數接頭4～6、20，是由：成為加工氣體的入口的入口接頭4、及成為加工氣體的出口的出口接頭5、及被配置於入口接頭4及出口接頭5之間的複數塊體狀的接頭6、20所構成。對於接頭20，是如後詳細說明。複數接頭4～6，是藉由無圖示螺栓被固定於軌道3。在各接頭4～6中，形成有無圖示的氣體的流路，該流路，是與對應的流體控制機器10～16的流路連通。 　　[0018] 複數流體控制機器10～16，是由：將自動閥(例如流體驅動式的自動閥)也就是閥10～12(將閥11設成第1閥11、將閥12設成第2閥12)、及手動式的調節器(減壓閥)13、及壓力計14、及流量控制機器(例如質量流動控制器(MFC: Mass Flow Controller))15、及過濾器16所構成。各流體控制機器10～16，是藉由螺栓18(為了圖的簡略化只有在一個螺栓18附加參照編號)，各別連結於接頭4～6、20。 　　[0019] 在第1閥11中，形成有第1氣體流入路11a及第1氣體流出路11b。第2閥12，是三方閥，形成有第2氣體流入路12a、第2氣體流出路12b、及淨化氣體流路12c。 　　[0020] 淨化氣體分歧配管17，其一端是與接頭20連接，另一端是與無圖示淨化氣體主配管連接。 　　[0021] 且從入口接頭4流入的加工氣體，是通過流體控制機器10～16、複數接頭6、20、出口接頭5，朝無圖示腔室被供給。且，從無圖示淨化氣體主配管被供給的淨化氣體(例如氮)，是流入淨化氣體分歧配管17，透過第2閥12的淨化氣體流路12c，從第2氣體流入路12a朝入口接頭4側，從第2氣體流出路12b朝出口接頭5側流動。 　　[0022] 接著，對於本實施例的接頭20，參照第1圖～第3圖進行說明。 　　[0023] 第2圖，是顯示接頭20的立體圖。第3圖(a)，是顯示接頭20的俯視圖，第3圖(b)，是顯示接頭20的側面圖。 　　[0024] 接頭20，是具備第1塊體21、及第2塊體22、及單管部23。 　　[0025] 第1塊體21，是藉由切削加工、鍛造、鑄造、或是3D印刷被製造，形成近似長方體狀。第1塊體21，是具有：第1面24、及位於第1面24相反側的第2面25、及將第1面24及第2面25連接的第3面26。在第1面24中，配置有第1閥11。第1塊體21，是藉由螺栓7被固定於軌道3。 　　[0026] 在第1塊體21中，形成有第1流路27。第1流路27，是從俯視看形成直線狀且從側面視形成近似L字狀，具有：在第1面24開口的第1入口部27A、及在第3面26開口的第1出口部27B。第1出口部27B，是與第1閥11的第1氣體流出路11b連通。 　　[0027] 第2塊體22，是藉由切削加工、鍛造、鑄造、或是3D印刷被製造，形成近似長方體狀。第2塊體22，是具有：第4面28、及位於第4面28相反側的第5面29、及將第4面28及第5面29連接的第6面30。在第4面28中，配置有：淨化氣體分歧配管17、及第2閥12。第6面30，是與第1塊體21的第3面26相面對。 　　[0028] 在第2塊體22中，形成有第2流路31、及第3流路32。第2流路31，是從俯視看形成直線狀且從側面視形成近似L字狀，具有：在第6面30開口的第2入口部31A、及在第4面28開口的第2出口部31B。即，第2流路31，是由對於第4面28及第6面30垂直交叉地形成的流路所構成。第2入口部31A，是與單管部23連通，第2出口部31B，是與第2閥12的第2氣體流入路12a連通。 　　[0029] 第3流路32，是由從俯視看及側面視形成近似V字狀，具有在第4面28開口的第3入口部32A及第3出口部32B。即，第3流路32，是對於第4面28傾斜且形成近似V字狀地形成。第3入口部32A，是與淨化氣體分歧配管17連通，第3出口部32B，是與第2閥12的淨化氣體流路12c連通。 　　[0030] 第2出口部31B、第3入口部32A、及第3出口部32B，是在一直線上並列地形成，第2出口部31B，是位於第3入口部32A及第3出口部32B之間。第3流路32，是從俯視看及側面視形成近似V字狀，將第2流路31迴避且不交叉地構成。 　　[0031] 單管部23，是被設於第1塊體21及第2塊體22之間，具有第1單管23A、及第2單管23B。在本實施例中，第1單管23A，是與第1塊體21一體且藉由削出而形成，與第1出口部27B連通。第2單管23B，是藉由焊接被連接在第2塊體22的第2入口部31A。且，第1單管23A及第2單管23B，是藉由焊接彼此連接。且，進行此單管部的焊接時，藉由在其間追加任意的長度的單管並焊接，就可以將第1塊體21及第2塊體22的距離容易地調節。 　　[0032] 又，第1入口部27A是相當於第1通口，第2出口部31B是相當於第2通口，第3入口部32A是相當於第3通口，第3出口部32B是相當於第4通口，第1流路27、單管部23、及第2流路31是相當於第1氣體流路，第3流路32是相當於第2氣體流路。 　　[0033] 依據如上述的接頭20的話，在第2塊體22可設置三方閥也就是第2閥12及淨化氣體分歧配管17，在既有的氣體管線2的改造時，即使有必要將流量控制機器15的尺寸變更，調整淨化氣體分歧配管17及第2閥12的位置的情況，藉由將單管部23的長度變更，就可以容易將那些位置調整，可以進行氣體管線2的改造。 　　[0034] 且第2流路31，是由對於第4面28及第6面30垂直交叉地形成的流路所構成，第3流路32，是避開第2流路31，對於第4面28傾斜且形成近似V字狀地形成。依據這種構成的話，有必要朝對於構成第2塊體22的面傾斜的方向加工的部分，因為只有第3流路32，所以可以將第2單管23B由切削加工而形成，可以將第2塊體22容易地製造。 　　[0035] 又，本發明，不限定於上述的實施例。本行業者的話，在本發明的範圍內，可以進行各種的追加和變更等。 　　[0036] 例如，欲確保質量流動控制器15及第2閥12之間的空間的情況，如第4圖所示，將接頭20從上述實施例的狀態反轉180°地設置在流體控制裝置1也可以。此情況，第2塊體22是位於比第1塊體21更上游側，在第2塊體22設有第2閥12及淨化氣體分歧配管17，在第1塊體21設有流量控制機器15。 　　[0037] 藉由這種構成，因為可以將某氣體管線2的淨化氣體分歧配管17從其他的氣體管線2的淨化氣體分歧配管17偏離，所以欲將某氣體管線2的淨化氣體從其他的氣體管線2的淨化氣體改變的情況時有效。 　　[0038] 且第3流路32，雖是近似V字狀，但是近似U字狀也可以。 　　[0039] 單管部23，雖是由：削出形成的第1單管23A、及藉由焊接被接合在第2塊體22的第2單管23B所構成，但是將一條單管藉由焊接接合在第1塊體21及第2塊體22的構成也可以，將第2單管23B由削出而形成也可以，將第1單管23A藉由焊接接合在第1塊體21的構成也可以。 　　[0040] 在上述的實施例中，流體控制裝置1，其流體控制機器雖具備開閉閥(閥)、調節器、壓力計及質量流動控制器，但是除了這些以外，具備過濾器、止回閥等也可以。
[0041]
1‧‧‧流體控制裝置
2‧‧‧氣體管線
11‧‧‧第1閥
12‧‧‧第2閥
15‧‧‧流量控制機器
17‧‧‧淨化氣體分歧配管
20‧‧‧接頭
21‧‧‧第1塊體
22‧‧‧第2塊體
23‧‧‧單管部
23A‧‧‧第1單管
23B‧‧‧第2單管
24‧‧‧第1面
25‧‧‧第2面
26‧‧‧第3面
27‧‧‧第1流路
27A‧‧‧第1入口部
28‧‧‧第4面
29‧‧‧第5面
30‧‧‧第6面
31‧‧‧第2流路
31B‧‧‧第2出口部
32‧‧‧第3流路
32A‧‧‧第3入口部
32B‧‧‧第3出口部
[0012] 　　[第1圖]顯示具備本發明的實施例的接頭的流體控制裝置的概略圖。 　　[第2圖]顯示本發明的實施例的接頭的立體圖。 　　[第3圖](a)，是顯示接頭的俯視圖，(b)，是顯示接頭的側面圖。 　　[第4圖]顯示具備變形例的接頭的流體控制裝置的概略圖。

Claims (7)

  1. 一種接頭，具備第1塊體、及第2塊體、及將前述第1塊體及前述第2塊體連接的單管部，在內部具有第1氣體流路及第2氣體流路，前述第1氣體流路，是將在前述第1塊體的外面開口的第1通口、前述單管部、及在前述第2塊體的外面開口的第2通口連通地形成，前述第2氣體流路，是將在前述第2塊體的前述外面開口的第3通口及第4通口連通地形成，前述第2通口，是位於前述第3通口及前述第4通口之間，前述第1塊體的前述外面、及前述第2塊體的前述外面，是朝向相同側，前述第1通口、及前述第2通口是朝相同側開口。
  2. 如申請專利範圍第1項的接頭，其中，前述第1氣體流路，是具有形成於前述第1塊體的第1流路及形成於前述第2塊體的第2流路，前述第2流路，是由對於前述第2塊體的前述外面垂直交叉地形成的流路所構成，前述第2氣體流路，是避開前述第2流路地形成。
  3. 如申請專利範圍第1項的接頭，其中，只有在前述第1塊體，形成有讓螺栓插通用的螺栓插入孔。
  4. 一種流體控制裝置，具備複數氣體管線，各氣體管線，是具備：複數流體控制機器、及設有流體控制機器的接頭，前述接頭，是具備第1塊體、及第2塊體、及將前述第1塊體及前述第2塊體連接的單管部，在內部具有第1氣體流路及第2氣體流路，前述第1氣體流路，是將在前述第1塊體的外面開口的第1通口、前述單管部、及在前述第2塊體的外面開口的第2通口連通地形成，前述第2氣體流路，是將在前述第2塊體的前述外面開口的第3通口及第4通口連通地形成，前述第2通口，是位於前述第3通口及前述第4通口之間，前述第1塊體的前述外面、及前述第2塊體的前述外面，是朝向相同側，前述第1通口、及前述第2通口是朝相同側開口。
  5. 如申請專利範圍第4項的流體控制裝置，其中，前述複數流體控制機器，是具備：二通閥也就是第1閥、及三方閥也就是第2閥、及供給淨化氣體用的淨化氣體配管，前述接頭，是使前述第1塊體位於比前述第2塊體更上游側地配置，在前述第1塊體中，設有前述第1閥，在前述第2塊體中，設有前述第2閥及前述淨化氣體配管。
  6. 如申請專利範圍第4項的流體控制裝置，其中，前述複數流體控制機器，是具備：三方閥也就是閥、及供給淨化氣體用的淨化氣體配管、及流量控制機器，前述接頭，是使前述第2塊體位於比前述第1塊體更上游側地配置，在前述第2塊體中，設有前述閥及前述淨化氣體配管，在前述第1塊體中，設有前述流量控制機器。
  7. 如申請專利範圍第4至6項中任一項的流體控制裝置，其中，前述第1氣體流路，是具有形成於前述第1塊體的第1流路及形成於前述第2塊體的第2流路，前述第2流路，是由對於前述第2塊體的前述外面垂直交叉地形成的流路所構成，前述第2氣體流路，是避開前述第2流路地形成。
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