TWI659932B

TWI659932B - 玻璃基板之製造方法、及玻璃基板之製造裝置

Info

Publication number: TWI659932B
Application number: TW104110557A
Authority: TW
Inventors: 樋渡博一
Original assignee: 日商安瀚視特控股股份有限公司
Priority date: 2014-11-28
Filing date: 2015-03-31
Publication date: 2019-05-21
Also published as: JP6454141B2; TW201619074A; JP2016102039A; CN106145616A

Abstract

本發明之目的在於提供一種可使利用溢流下拉法而製造之玻璃基板之品質提昇之玻璃基板之製造方法、及玻璃基板之製造裝置。

該玻璃基板之製造方法係藉由溢流下拉法而自熔融玻璃2成形為玻璃帶3。搬送步驟係一面利用沿著鉛垂方向配置之複數個冷卻輥82a~82g之對(pair)夾持玻璃帶，一面使冷卻輥旋轉，將玻璃帶搬送至下方。測定步驟係於將玻璃帶搬送至下方之期間，測定旋轉中之冷卻輥之扭矩。調整步驟係基於所測定之扭矩，以各個冷卻輥自向下方搬送中之玻璃帶所受之負荷達到均一之方式，調整冷卻輥之狀態。

Description

玻璃基板之製造方法、及玻璃基板之製造裝置

本發明係關於一種玻璃基板之製造方法、及玻璃基板之製造裝置。

用於液晶顯示器及電漿顯示器等平板顯示器(FPD，flat panel display)之玻璃基板係要求較小之應變、較小之翹曲、及較高之平坦度。如此之玻璃基板係如專利文獻1(日本專利特開2009-196879號公報)公開所示，藉由溢流下拉法而製造。溢流下拉法係流入成形體之上表面之槽中且自槽中溢出之熔融玻璃順著成形體之兩側面向下流動，於成形體之下端合流，成形為玻璃帶。玻璃帶係一面被搬送至下方一面進行退火，切斷為特定尺寸之玻璃基板。玻璃基板係經由端面加工步驟、表面洗淨步驟及檢查步驟等，被包裝後出貨。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2009-196879號公報

溢流下拉法之玻璃帶之退火步驟係使用用以將玻璃帶搬送至下方之複數個輥。輥係藉由一面與玻璃帶之寬度方向兩端部接觸一面進行旋轉，而將玻璃帶牽拉至下方。接觸負荷係作用於各輥與玻璃帶之間。

又，於高清晰度顯示器用玻璃基板製造中，要求熱收縮率及應變較小之玻璃基板。於具備如此性質之玻璃基板之製造步驟中，存在退火步驟中被搬送至下方之玻璃帶之溫度較高之傾向。因而，產生與高溫之玻璃帶接觸之輥容易劣化之問題。又，為製造高品質之玻璃基板，而必須於退火步驟中，以較高之精度實現玻璃帶之寬度方向上之特定之溫度分佈。尤其，對於高清晰度顯示器用玻璃基板，要求低熱收縮率，因此，例如適用應變點較高之玻璃組成。又，於高清晰度顯示器用玻璃基板之製造中，要求熱收縮率穩定。因而，於退火步驟中必須較高地維持玻璃基板之溫度，從而進行退火步驟之空間成為輥容易劣化之環境。若輥劣化，則各輥與玻璃帶之間之接觸負荷變得不均一，從而存在成為玻璃帶之內部應變、振動及變形之原因之虞。

本發明之目的在於提供一種可使藉由溢流下拉法所製造之玻璃基板之品質提昇之玻璃基板之製造方法、及玻璃基板之製造裝置。

本發明之玻璃基板之製造方法係藉由溢流下拉法而自熔融玻璃成形為玻璃帶，製造玻璃基板之方法。該玻璃基板之製造方法具有搬送步驟、測定步驟、及調整步驟。搬送步驟係一面利用沿著鉛垂方向配置之複數個輥對夾持玻璃帶，一面使輥對之輥進行旋轉，將玻璃帶搬送至下方。測定步驟係於將玻璃帶搬送至下方之期間，測定旋轉中之輥之扭矩。調整步驟係基於所測定之扭矩，以各個輥自朝向下方搬送中之玻璃帶所受之負荷變為均一之方式，調整輥之狀態。

該玻璃基板之製造方法係測定為將玻璃帶搬送至下方而旋轉之輥之扭矩。繼而，基於各輥之扭矩之測定資料，判定各輥與玻璃帶之間之接觸負荷是否均一。繼而，以接觸負荷達到均一之方式，調整輥之狀態。藉此，抑制玻璃帶之內部應變、振動及變形。因而，該玻璃基板之製造方法可使藉由溢流下拉法所製造之玻璃基板之品質提昇。

又，於本發明之玻璃基板之製造方法中，調整步驟較佳為於沿著玻璃帶之搬送方向相鄰之2個輥之扭矩之差為特定值以上之情形時，以2個輥之角速度之差變小之方式調整輥之狀態。

該玻璃基板之製造方法係於沿著玻璃帶之搬送方向相鄰之2個輥之扭矩之差為特定之基準值以上之情形時，判定各輥與玻璃帶之間之接觸負荷不均一。於該情形時，以相鄰之2個輥之角速度之差變小之方式，對輥進行控制。

又，於本發明之玻璃基板之製造方法中，調整步驟較佳為控制用以使輥旋轉之馬達之轉數，調整輥之狀態。

該玻璃基板之製造方法係於沿著玻璃帶之搬送方向相鄰之2個輥之扭矩之差為特定之基準值以上之情形時，判定各輥與玻璃帶之間之接觸負荷不均一。於該情形時，以相鄰之2個輥之角速度之差變小之方式，控制將輥驅動之馬達之轉數。

又，於本發明之玻璃基板之製造方法中，調整步驟較佳為於輥旋轉一周之期間內作為扭矩之最大值與最小值之差之扭矩變動量為特定值以上之情形時，以扭矩變動量變小之方式調整輥之狀態。

該玻璃基板之製造方法係基於輥旋轉一周之期間內扭矩之變化，測定輥與玻璃帶之間之接觸負荷之變動。過量之接觸負荷成為玻璃帶破裂或應變之原因，又，成為沿著玻璃帶之搬送方向相鄰之輥與玻璃帶之間之接觸負荷變動之原因。因而，藉由以扭矩變動量變小之方式調整輥之狀態，而抑制過量之接觸負荷作用於輥與玻璃帶之間。藉此，玻璃帶之內部應變、振動及變形得到抑制。

又，於本發明之玻璃基板之製造方法中，調整步驟較佳為控制輥與玻璃帶之間之接觸負荷，調整輥之狀態。

該玻璃基板之製造方法係於輥與玻璃帶之間之接觸負荷過量之情形時，例如藉由調整用於輥之位置調整之氣缸之壓力，而抑制過量之接觸負荷作用於輥與玻璃帶之間。

又，於本發明之玻璃基板之製造方法中，調整步驟較佳為藉由將搬送步驟中使用之輥與備用輥進行更換，而調整輥之狀態。

該玻璃基板之製造方法係於輥因長期之使用而劣化之情形時，藉由將已劣化之輥更換為新的備用輥，而使各輥與玻璃帶之間之接觸負荷成為均一，抑制過量之接觸負荷作用於輥與玻璃帶之間。

本發明之玻璃基板之製造裝置係藉由溢流下拉法自熔融玻璃成形為玻璃帶從而製造玻璃基板之裝置。該玻璃基板之製造裝置具有搬送部、測定部、及調整部。搬送部具有沿著鉛垂方向配置之複數個輥對，且一面利用輥對夾持玻璃帶，一面使輥對之輥進行旋轉，將玻璃帶搬送至下方。測定部係於玻璃帶被搬送至下方之期間，測定旋轉中之輥之扭矩。調整部係基於所測定之扭矩，以各個輥自朝向下方搬送中之玻璃帶所受之負荷達到均一之方式，調整輥之狀態。

本發明之玻璃基板之製造方法、及玻璃基板之製造裝置可使利用溢流下拉法製造之玻璃基板之品質提昇。

1‧‧‧玻璃基板製造裝置

2‧‧‧熔融玻璃

3‧‧‧玻璃帶

10‧‧‧熔解槽

20‧‧‧澄清管

30‧‧‧攪拌裝置

40‧‧‧成形裝置

50a、50b、50c‧‧‧移送管

60‧‧‧上部成形空間

62‧‧‧成形體

62a‧‧‧成形體之下端

62b‧‧‧槽

64‧‧‧上部間隔構件

70‧‧‧下部成形空間

72‧‧‧冷卻輥

74‧‧‧溫度調節單元

74a‧‧‧中心部冷卻單元

74b‧‧‧側部冷卻單元

76‧‧‧下部間隔構件

80‧‧‧退火空間

82a~82g‧‧‧冷卻輥(輥)

84a~84g‧‧‧加熱器

86‧‧‧隔熱構件

91‧‧‧控制裝置

98‧‧‧切斷裝置

172‧‧‧冷卻輥驅動馬達

182‧‧‧壓延軋輥驅動馬達

198‧‧‧切斷裝置驅動馬達

圖1係第1實施形態之玻璃基板之製造方法之流程圖。

圖2係第1實施形態之玻璃基板之製造裝置之模式圖。

圖3係第1實施形態之成形裝置之正視圖。

圖4係第1實施形態之成形裝置之側視圖。

圖5係第1實施形態之控制裝置之方塊圖。

圖6係表示第1實施形態中因長期之使用所引起之壓延軋輥之扭矩變化之曲線圖。

圖7係表示第1實施形態中因長期之使用所引起之壓延軋輥之扭矩變化之曲線圖。

圖8係表示第2實施形態中壓延軋輥旋轉一周之期間內之扭矩變化之一例之曲線圖。

-第1實施形態-

(1)玻璃基板之製造裝置之構成

對於本發明之玻璃基板之製造方法、及玻璃基板之製造裝置之第1實施形態，一面參照圖式，一面進行說明。圖1係表示本實施形態之玻璃基板之製造方法之一例之流程圖。

如圖1所示，本實施形態之玻璃基板之製造方法係主要包括熔解步驟S1、澄清步驟S2、攪拌步驟S3、成形步驟S4、冷卻步驟S5、及切斷步驟S6。

熔解步驟S1係將玻璃原料加熱，獲得熔融玻璃。熔融玻璃係貯存於熔解槽中，進行通電加熱以具有所需之溫度。玻璃原料中，被添加有澄清劑。考慮到降低環境負荷之觀點，而採用SnO₂作為澄清劑。

澄清步驟S2係使熔解步驟S1中獲得之熔融玻璃於澄清管之內部流動，將熔融玻璃中所含之氣體去除，藉此，使熔融玻璃澄清。首先，於澄清步驟S2中，使熔融玻璃之溫度上升。熔融玻璃中所添加之澄清劑因升溫而引起還原反應，將氧釋放。熔融玻璃中所含之含有CO₂、N₂、SO₂等氣體成分之泡將因澄清劑之還原反應而產生之氧吸收。吸收氧而成長之泡浮起至熔融玻璃之液面後，破裂而消失。消失之泡中所含之氣體被釋放至澄清管之內部之氣相空間而排出至外部大氣。繼而，於澄清步驟S2中，使熔融玻璃之溫度下降。藉此，被還原之澄清劑引起氧化反應，吸收熔融玻璃中殘存之氧等氣體成分。

於攪拌步驟S3中，將澄清步驟S2中被去除氣體之熔融玻璃進行攪拌，使熔融玻璃之成分均質化。藉此，降低作為玻璃基板之條紋等原因之熔融玻璃之組成不均。

於成形步驟S4中，使用溢流下拉法，自攪拌步驟S3中被均質化之熔融玻璃連續地成形為玻璃帶。

於冷卻步驟S5中，將成形步驟S4中已成形之玻璃帶進行冷卻。冷卻步驟S5係以避免於玻璃帶中產生應變及翹曲之方式，一面調節玻璃帶之溫度，一面將玻璃帶緩慢地冷卻。

於切斷步驟S6中，將冷卻步驟S5中被冷卻之玻璃帶切斷為特定之尺寸，獲得玻璃基板。此後，進行玻璃基板之端面研削及研磨、及玻璃基板之洗淨。此後，檢查玻璃基板有無劃痕等缺陷，將檢查合格之玻璃基板進行包裝，作為製品出貨。

圖2係表示本實施形態之玻璃基板製造裝置1之一例之模式圖。玻璃基板製造裝置1具有熔解槽10、澄清管20、攪拌裝置30、成形裝置40、及移送管50a、50b、50c。移送管50a係將熔解槽10與澄清管20連接。移送管50b係將澄清管20與攪拌裝置30連接。移送管50c係將攪拌裝置30與成形裝置40連接。

於熔解步驟S1在熔解槽10中所獲得之熔融玻璃2係穿過移送管50a流入至澄清管20中。於澄清步驟S2在澄清管20中被澄清之熔融玻璃2係穿過移送管50b流入至攪拌裝置30中。於攪拌步驟S3在攪拌裝置30中被攪拌之熔融玻璃2係穿過移送管50c流入至成形裝置40。於成形步驟S4中，藉由成形裝置40而自熔融玻璃2連續地成形為玻璃帶3。於冷卻步驟S5中，將玻璃帶3一面搬送至下方，一面進行冷卻。於切斷步驟S6中，將被冷卻之玻璃帶3切斷為特定之大小，獲得玻璃基板。玻璃基板之寬度為例如500mm~3500mm，且長度為例如500mm~3500mm。玻璃基板之厚度為例如0.2mm~0.8mm。

利用玻璃基板製造裝置1製造之玻璃基板尤其適合作為液晶顯示器、電漿顯示器、有機EL顯示器等平板顯示器(FPD)用之玻璃基板。作為FPD用之玻璃基板，使用無鹼玻璃、微量含鹼玻璃、低溫多晶矽 (LTPS(Low Temperature Poly-silicon))用之玻璃、或者氧化物半導體用之玻璃。作為高清晰度顯示器用之玻璃基板，使用高溫時具有較高黏性及較高應變點之玻璃。例如，成為高清晰度顯示器用之玻璃基板原料之玻璃於1500℃下，具有10^2.5poise之黏性。

於熔解槽10中，將玻璃原料熔解，獲得熔融玻璃2。玻璃原料係以可獲得具有所需組成之玻璃基板之方式進行製備。作為玻璃基板之組成之一例，適於FPD用之玻璃基板之無鹼玻璃含有SiO₂：50質量%~70質量%、Al₂O₃：10質量%~25質量%、B₂O₃：1質量%~18質量%、MgO：0質量%~10質量%、CaO：0質量%~20質量%、SrO：0質量%~20質量%、BaO：0質量%~10質量%。此處，MgO、CaO、SrO及BaO之含量合計為5質量%~30質量%。

又，作為FPD用之玻璃基板，亦可使用微量含有鹼金屬之微量含鹼玻璃。微量含鹼玻璃含有0.1質量%~0.5質量%之R'₂O，較佳為含有0.2質量%~0.5質量%之R'₂O。此處，R'係選自Li、Na及K之至少1種。R'₂O之含量亦可合計小於0.1質量%。

又，利用玻璃基板製造裝置1製造之玻璃基板可更含有SnO₂：0.01質量%~1質量%(較佳為0.01質量%~0.5質量%)、Fe₂O₃：0質量%~0.2質量%(較佳為0.01質量%~0.08質量%)。再者，藉由玻璃基板製造裝置1製造之玻璃基板考慮到降低環境負荷之觀點，實質上不含有As₂O₃、Sb₂O₃及PbO。

以具有上述組成之方式製備而成之玻璃原料係使用原料裝料機(未圖示)，投入至熔解槽10。原料裝料機既可使用螺旋加料器，進行玻璃原料之投入，亦可使用鏟鬥，進行玻璃原料之投入。於熔解槽10中，玻璃原料被加熱至與其組成等相應之溫度而熔解。於熔解槽10中，獲得例如1500℃~1600℃高溫之熔融玻璃2。於熔解槽10中，既可藉由使電流流入藉由鉬、鉑或氧化錫等成形之至少1對電極間，而將電極間之熔融玻璃2通電加熱，又，除了通電加熱以外，亦可藉由燃燒器之火焰而輔助地加熱玻璃原料。

熔解槽10中獲得之熔融玻璃2係自熔解槽10穿過移送管50a流入澄清管20中。澄清管20及移送管50a、50b、50c係鉑製或鉑合金製之管。於澄清管20中，與熔解槽10同樣地設置有加熱機構。於澄清管20中，使熔融玻璃2進而升溫進行澄清。例如，於澄清管20中，使熔融玻璃2之溫度上升至1500℃~1700℃。

澄清管20中經澄清之熔融玻璃2係自澄清管20穿過移送管50b流入攪拌裝置30中。熔融玻璃2係於穿過移送管50b時被冷卻。於攪拌裝置30中，以相較穿過澄清管20之熔融玻璃2之溫度低之溫度，攪拌熔融玻璃2。例如，於攪拌裝置30中，熔融玻璃2之溫度為1250℃~1450℃，熔融玻璃2之黏度為500poise~1300poise。熔融玻璃2係於攪拌裝置30中進行攪拌而均質化。

攪拌裝置30中被均質化之熔融玻璃2係自攪拌裝置30穿過移送管50c流入成形裝置40中。熔融玻璃2係於穿過移送管50c時被冷卻，以具有適合熔融玻璃2成形之黏度。例如，熔融玻璃2係冷卻至1200℃附近。

成形裝置40係藉由溢流下拉法而自熔融玻璃2成形為玻璃帶3。繼而，對成形裝置40之詳細構成及動作進行說明。

(2)成形裝置之構成

圖3係成形裝置40之正視圖。圖3係表示沿著與成形裝置40中所成形之玻璃帶3之表面垂直之方向所觀察之成形裝置40。圖4係成形裝置40之側視圖。圖4係表示沿著與成形裝置40中所成形之玻璃帶3之表面平行之方向所觀察之成形裝置40。

成形裝置40具有被包含耐火磚等耐火物之爐壁(未圖示)包圍之空間。該空間係自熔融玻璃2成形為玻璃帶3，且將玻璃帶3冷卻之空間。該空間包含上部成形空間60、下部成形空間70、及退火空間80之3個空間。

成形步驟S4係於上部成形空間60中進行。冷卻步驟S5係於下部成形空間70及退火空間80中進行。上部成形空間60係將自攪拌裝置30經由移送管50c供給至成形裝置40之熔融玻璃2成形為玻璃帶3之空間。下部成形空間70係上部成形空間60之下方之空間，且將玻璃帶3淬火至玻璃之退火點之附近之空間。退火空間80係下部成形空間70之下方之空間，且將玻璃帶3緩慢地進行冷卻之空間。

成形裝置40主要包括成形體62、上部間隔構件64、冷卻輥72、溫度調節單元74、下部間隔構件76、壓延軋輥82a~82g、加熱器84a~84g、隔熱構件86、切斷裝置98、及控制裝置91。繼而，對成形裝置40之各構成要素進行說明。

(2-1)成形體

成形體62係設置於上部成形空間60。成形體62係用於使熔融玻璃2溢流而成形為玻璃帶3。如圖4所示，成形體62具有類似於楔形之五邊形之剖視形狀。成形體62之剖視形狀之尖端相當於成形體62之下端62a。成形體62為耐火磚製。

於成形體62之上端面，沿著成形體62之長邊方向，形成有槽62b。於成形體62之長邊方向之端部，安裝有與槽62b連通之移送管50c。槽62b係形成為隨著自與移送管50c連通之一端部朝向另一端部而緩慢地變淺。

自攪拌裝置30輸送至成形裝置40之熔融玻璃2係經由移送管50c，流入成形體62之槽62b中。自成形體62之槽62b中溢流之熔融玻璃2係一面順著成形體62之兩側面一面向下流動，於成形體62之下端62a之附近合流。合流後之熔融玻璃2因重力而沿鉛垂方向落下，成形為板狀。藉此，於成形體62之下端62a之附近，連續地成形為玻璃帶3。已成形之玻璃帶3於向下流動至上部成形空間60之後，一面於下部成形空間70及退火空間80中被冷卻，一面被搬送至下方。於上部成形空間60中剛成形後之玻璃帶3之溫度為1100℃以上，且黏度為25000poise~350000poise。例如，於製造高清晰度顯示器用之玻璃基板之情形時，藉由成形體62而成形之玻璃帶3之應變點為655℃~750℃，較佳為680℃~730℃，且於成形體62之下端62a之附近熔合之熔融玻璃2之黏度為25000poise~100000poise，較佳為32000poise~80000poise。

(2-2)上部間隔構件

上部間隔構件64係設置於成形體62之下端62a附近之一對板狀之隔熱構件。如圖4所示，上部間隔構件64係配置於玻璃帶3之厚度方向之兩側。上部間隔構件64係將上部成形空間60與下部成形空間70隔開，抑制熱自上部成形空間60朝向下部成形空間70移動。

(2-3)冷卻輥

冷卻輥72係設置於下部成形空間70之懸臂式輥。冷卻輥72係設置於上部間隔構件64之正下方。如圖3所示，冷卻輥72係配置於玻璃帶3之寬度方向之兩側部。如圖4所示，冷卻輥72係配置於玻璃帶3之厚度方向之兩側。玻璃帶3係於其寬度方向之兩側部，被冷卻輥72挾持。冷卻輥72將自上部成形空間60所輸送之玻璃帶3進行冷卻。

於下部成形空間70，玻璃帶3之寬度方向之兩側部分別被2對冷卻輥72所夾持。藉由朝向玻璃帶3之兩側部之表面推壓冷卻輥72，而使冷卻輥72與玻璃帶3之接觸面積變大，從而有效地進行冷卻輥72對玻璃帶3之冷卻。冷卻輥72將抵抗下述壓延軋輥82a~82g將玻璃帶3向下方牽拉之力的力賦予玻璃帶3。再者，藉由冷卻輥72之旋轉速度與配置於最上方之壓延軋輥82a之旋轉速度之差，決定玻璃帶3之厚度。

冷卻輥72於內部具有空氣冷卻管。冷卻輥72係一直被空氣冷卻管冷卻。冷卻輥72因夾持玻璃帶3之寬度方向之兩側部而與玻璃帶3接觸。藉此，熱自玻璃帶3傳遞至冷卻輥72，因此，將玻璃帶3之寬度方向之兩側部冷卻。與冷卻輥72接觸而被冷卻之玻璃帶3之寬度方向之兩側部之黏度為例如10^9.0poise以上。

冷卻輥72與玻璃帶3之間之接觸負荷可由控制裝置91進行控制。接觸負荷係藉由例如使用彈簧調整冷卻輥72之位置而得到控制。接觸負荷越大，則冷卻輥72推壓玻璃帶3之力變得越強。

(2-4)溫度調節單元

溫度調節單元74係設置於下部成形空間70。溫度調節單元74係設置於上部間隔構件64之下方且下部間隔構件76之上方。

於下部成形空間70，將玻璃帶3進行冷卻，直至玻璃帶3之寬度方向之中心部之溫度降低至退火點附近為止。溫度調節單元74係調節下部成形空間70中進行冷卻之玻璃帶3之溫度。溫度調節單元74係將玻璃帶3加熱或冷卻之單元。如圖3所示，溫度調節單元74包含中心部冷卻單元74a及側部冷卻單元74b。中心部冷卻單元74a係調節玻璃帶3之寬度方向之中心部之溫度。側部冷卻單元74b係調節玻璃帶3之寬度方向之兩側部之溫度。此處，玻璃帶3之寬度方向之中心部表示夾在玻璃帶3之寬度方向之兩側部中之區域。

於下部成形空間70，如圖3所示，將複數個中心部冷卻單元74a及複數個側部冷卻單元74b分別沿著玻璃帶3向下流動之方向即鉛垂方向進行配置。中心部冷卻單元74a係以與玻璃帶3之寬度方向之中心部之表面對向之方式配置。側部冷卻單元74b係以與玻璃帶3之寬度方向之兩側部之表面對向之方式配置。

溫度調節單元74係由控制裝置91進行控制。各中心部冷卻單元74a及各側部冷卻單元74b可由控制裝置91獨立地進行控制。

(2-5)下部間隔構件

下部間隔構件76係配置於溫度調節單元74之下方之一對板狀之隔熱構件。如圖4所示，下部間隔構件76係配置於玻璃帶3之厚度方向之兩側。下部間隔構件76係沿鉛垂方向將下部成形空間70與退火空間80隔開，從而抑制熱自下部成形空間70朝向退火空間80移動。

(2-6)壓延軋輥

壓延軋輥82a~82g係設置於退火空間80之懸臂式輥。於退火空間80中，將壓延軋輥82a、壓延軋輥82b、……、壓延軋輥82f及壓延軋輥82g自上方朝向下方隔開間隔地配置。壓延軋輥82a係配置於最上方，壓延軋輥82g係配置於最下方。

如圖3所示，壓延軋輥82a~82g係分別配置於玻璃帶3之寬度方向之兩側部。如圖4所示，壓延軋輥82a~82g係分別配置於玻璃帶3之厚度方向之兩側。即，玻璃帶3之寬度方向之兩側部係自上方朝向下方，被2對壓延軋輥82a、2對壓延軋輥82b、……、2對壓延軋輥82f及2對壓延軋輥82g所夾持。

壓延軋輥82a~82g係藉由一面夾持穿過下部成形空間70之玻璃帶3之寬度方向之兩端部一面進行旋轉，而將玻璃帶3下拉至鉛垂方向下方。即，壓延軋輥82a~82g係用以將玻璃帶3搬送至下方之輥。

各壓延軋輥82a~82g之角速度可由控制裝置91獨立地控制。壓延軋輥82a~82g之角速度越大，則玻璃帶3被搬送至下方之速度變得越大。

(2-7)加熱器

加熱器84a~84g係設置於退火空間80。如圖4所示，於退火空間80中，加熱器84a、加熱器84b、……、加熱器84f及加熱器84g係自上方朝向下方隔開間隔地配置。加熱器84a~84g係分別配置於玻璃帶3之厚度方向之兩側。壓延軋輥82a~82g係分別配置於加熱器84a~84g與玻璃帶3之間。

加熱器84a~84g係朝向玻璃帶3之表面，輻射熱量將玻璃帶3加熱。可藉由使用加熱器84a~84g，而於退火空間80調節搬送至下方之玻璃帶3之溫度。藉此，加熱器84a~84g可於玻璃帶3之搬送方向上，在玻璃帶3上形成特定之溫度分佈。

各加熱器84a~84g之輸出可由控制裝置91獨立地控制。又，加熱器84a~84g亦可沿著玻璃帶3之寬度方向，分割為複數個加熱器子單元(未圖示)，且各加熱器子單元之輸出可由控制裝置91獨立地控制。於該情形時，各加熱器84a~84g可藉由根據玻璃帶3之寬度方向之位置使放熱量變化，而於玻璃帶3之寬度方向上形成特定之溫度分佈。

再者，於各加熱器84a~84g之附近，設置有測定退火空間80之環境之溫度之熱電偶(未圖示)。熱電偶係測定例如玻璃帶3之寬度方向之中心部附近之環境溫度與兩側部附近之環境溫度。加熱器84a~84g亦可基於由熱電偶測定之退火空間80之環境之溫度進行控制。

(2-8)隔熱構件

隔熱構件86係設置於退火空間80。隔熱構件86係設置於沿著玻璃帶3之搬送方向相鄰之2個壓延軋輥82a~82g之間之高度位置。如圖4所示，隔熱構件86係於玻璃帶3之厚度方向兩側水平地配置之一對隔熱板。隔熱構件86係將退火空間80沿鉛垂方向隔開，抑制退火空間80中之鉛垂方向之熱移動。

隔熱構件86係以不與搬送至下方之玻璃帶3接觸之方式設置。又，隔熱構件86係以可調整至玻璃帶3之表面為止之距離之方式設置。藉此，隔熱構件86抑制隔熱構件86之上方空間與隔熱構件86之下方空間之間之熱移動。

(2-9)切斷裝置

切斷裝置98係設置於退火空間80之下方之空間。切斷裝置98將穿過退火空間80之玻璃帶3按照每一特定尺寸沿著玻璃帶3之寬度方向進行切斷。穿過退火空間80之玻璃帶3係被冷卻至室溫附近之平坦之玻璃帶3。

切斷裝置98係以特定之時間間隔切斷玻璃帶3。藉此，於玻璃帶3之搬送速度固定之情形時，可量產具有接近最終製品之尺寸之玻璃基板。

(2-10)控制裝置

控制裝置91係主要包含CPU(central processing unit，中央處理單元)、RAM(Random Access Memory，隨機存取記憶體)、ROM(Read Only Memory，唯讀記憶體)及硬碟等之電腦。圖5係控制裝置91之方塊圖。如圖5所示，控制裝置91係與冷卻輥驅動馬達172、溫度調節單元74、壓延軋輥驅動馬達182、加熱器84a~84g及切斷裝置驅動馬達198連接。冷卻輥驅動馬達172係用以控制冷卻輥72之位置及旋轉速度等之馬達。壓延軋輥驅動馬達182係用以獨立地控制各壓延軋輥82a~82g之位置及旋轉速度等之馬達。切斷裝置驅動馬達198係用以控制切斷裝置98將玻璃帶3切斷之時間間隔等之馬達。控制裝置91係獲取各構成要素之狀態，且儲存用以控制各構成要素之程式。

控制裝置91可控制冷卻輥驅動馬達172，獲取及調節夾持玻璃帶3之寬度方向之側部之一對冷卻輥72與玻璃帶3之間之接觸負荷。控制裝置91可控制壓延軋輥驅動馬達182，獲取旋轉中之各壓延軋輥82a~82g之扭矩，且調節各壓延軋輥82a~82g之角速度。控制裝置91可獲取及調節溫度調節單元74之輸出、及各加熱器84a~84g之輸出。控制裝置91可控制切斷裝置驅動馬達198，獲取及調節切斷裝置98將玻璃帶3切斷之時間間隔等。

(3)成形裝置之動作

於上部成形空間60中，自攪拌裝置30經由移送管50c輸送至成形裝置40之熔融玻璃2被供給至形成於成形體62之上表面上之槽62b。自成形體62之槽62b中溢流之熔融玻璃2係順著成形體62之兩側面向下流動，且於成形體62之下端62a附近合流。於成形體62之下端62a附近，自已合流之熔融玻璃2連續地成形為玻璃帶3。已成形之玻璃帶3係輸送至下部成形空間70。

於下部成形空間70，玻璃帶3之寬度方向之兩側部係與冷卻輥72接觸而被淬火。又，藉由溫度調節單元74，而調節玻璃帶3之溫度，直至玻璃帶3之寬度方向之中心部之溫度降低至退火點。由冷卻輥72一面搬送至下方一面進行冷卻之玻璃帶3係輸送至退火空間80。

於退火空間80中，玻璃帶3一面被壓延軋輥82a~82g下拉一面緩慢地被冷卻。玻璃帶3之溫度係以沿著玻璃帶3之寬度方向形成特定之溫度分佈之方式，由加熱器84a~84g進行控制。於退火空間80中，玻璃帶3之溫度自退火點附近，緩慢地下降至與比應變點低200℃之溫度相比更低之溫度。

穿過退火空間80之玻璃帶3係進而冷卻至室溫附近，且藉由切斷裝置98而切斷為特定之尺寸，獲得玻璃基板。此後，進行玻璃基板之端面之研磨及洗淨等。此後，將特定之檢查合格之玻璃基板進行包裝，作為製品而出貨。

(4)控制裝置之動作

玻璃基板製造裝置1之控制裝置91至少儲存且執行包含搬送部、測定部及調整部之3個程式。搬送部係一面利用壓延軋輥82a~82g夾持玻璃帶3，一面使壓延軋輥82a~82g進行旋轉，於退火空間80中將玻璃帶3搬送至下方。測定部係於退火空間80中玻璃帶3被搬送至下方之期間，測定一面與玻璃帶3接觸一面進行旋轉之壓延軋輥82a~82g之扭矩。調整部係判定沿著玻璃帶3之搬送方向相鄰之2個壓延軋輥82a~82g之扭矩之差是否為特定值以上。例如，調整部將壓延軋輥82a之扭矩與壓延軋輥82b之扭矩進行比較，判定2個扭矩之差是否為特定值以上。具體而言，將4個壓延軋輥82a中之1個扭矩與4個壓延軋輥82b中之1個扭矩進行比較。成為扭矩之比較對象之壓延軋輥82a及壓延軋輥82b係水平面內位置相同，僅高度位置不同。

調整部係於沿著玻璃帶3之搬送方向相鄰之2個壓延軋輥82a~82g之扭矩之差為特定值以上之情形時，以該2個壓延軋輥82a~82g之角速度之差變小之方式，調整壓延軋輥82a~82g之狀態。具體而言，調整部控制與壓延軋輥82a~82g連接之驅動馬達之轉數，調整壓延軋輥82a~82g之角速度。各壓延軋輥82a~82g係與不同之驅動馬達連接，因而，可獨立地控制各壓延軋輥82a~82g之角速度。調整部係以沿著玻璃帶3之搬送方向相鄰之2個壓延軋輥82a~82g之角速度之差變小之方式，調整壓延軋輥82a~82g之角速度。藉此，調整部可基於壓延軋輥82a~82g之扭矩之測定資料，使搬送至下方之玻璃帶3與各壓延軋輥82a~82g之間之接觸負荷變得均一。

(5)特徵

於溢流下拉法之玻璃基板之製造步驟中，自熔融玻璃成形之玻璃帶係藉由壓延軋輥而一面搬送至下方，一面進行退火。與高溫之玻璃帶接觸之壓延軋輥因長期之使用而劣化。尤其，要求熱收縮率及應變較小之玻璃基板之高清晰度顯示器用玻璃基板之製造步驟與通常之玻璃基板之製造步驟相比，一面被退火一面被搬送至下方之玻璃帶之溫度更高，從而壓延軋輥容易劣化。又，為製造高品質之玻璃基板，而必須於玻璃帶之退火步驟中，以較高之精度控制玻璃帶之寬度方向之溫度分佈。若壓延軋輥劣化，則各壓延軋輥與玻璃帶之間之接觸負荷變得不均一，從而成為玻璃帶之內部應變、振動及變形之原因，導致玻璃基板之品質下降。

本實施形態之玻璃基板製造裝置1具備用以將藉由溢流下拉法而自熔融玻璃2成形之玻璃帶3一面進行冷卻一面搬送至下方之壓延軋輥82a~82g。壓延軋輥82a~82g藉由夾持著玻璃帶3之寬度方向之兩端部進行旋轉，而將玻璃帶3牽拉至下方。此時，接觸負荷作用於各壓延軋輥82a~82g與玻璃帶3之間。

玻璃基板製造裝置1之控制裝置91係藉由測定且調整各壓延軋輥82a~82g之扭矩，而使各壓延軋輥82a~82g與玻璃帶3之間之接觸負荷達到均一。具體而言，控制裝置91於沿著玻璃帶3之搬送方向相鄰之2個壓延軋輥82a~82g之扭矩之差為特定值以上之情形時，調整該2個壓延軋輥82a~82g之角速度，降低扭矩之差。控制裝置91係藉由調整各壓延軋輥82a~82g之角速度，使各壓延軋輥82a~82g之扭矩達到均一，而使各壓延軋輥82a~82g與玻璃帶3之間之接觸負荷達到均一。藉此，玻璃帶3之內部應變、振動及變形得到抑制，從而玻璃基板之品質提昇。

繼而，為表示玻璃基板之品質因玻璃基板製造裝置1而提昇之依據，而對於在沿著玻璃帶3之搬送方向相鄰之2個壓延軋輥82a、82b之扭矩之差為特定值以上之情形時，不調整壓延軋輥82a、82b之角速度而導致產生之問題進行說明。

圖6係表示長期使用所導致之壓延軋輥82a、82b之扭矩變化之曲線圖。於圖6中，橫軸表示時間，縱軸表示扭矩之大小。於圖6中，實線表示壓延軋輥82a之扭矩之時間變化，虛線表示位於壓延軋輥82a之下方之壓延軋輥82b之扭矩之時間變化。圖6係表示壓延軋輥82a之磨損之速度大於壓延軋輥82b之磨損之速度之模式。於該情形時，壓延軋輥82a之外徑與壓延軋輥82b之外徑相比，因磨損而於更短時間內變小。因而，因長期使用，壓延軋輥82a與玻璃帶3之間之接觸過載變得小於壓延軋輥82b與玻璃帶3之間之接觸過載，其結果，因壓延軋輥82a、82b之使用開始時起之時間之經過，壓延軋輥82a之扭矩變得小於壓延軋輥82b之扭矩。藉此，壓延軋輥82a將玻璃帶3朝向下方搬送之速度變得小於壓延軋輥82b將玻璃帶3朝向下方搬送之速度，因而，於壓延軋輥82a與壓延軋輥82b之間，沿著搬送方向欲牽拉玻璃帶3之力作用於玻璃帶3。若該力過量地作用，則成為玻璃帶3破裂或應變之原因。

圖7係與圖6相同之曲線圖，且表示壓延軋輥82b之磨損之速度大於壓延軋輥82a之磨損之速度之模式。於該情形時，因長期使用，壓延軋輥82b之扭矩變得小於壓延軋輥82a之扭矩。藉此，壓延軋輥82a將玻璃帶3朝向下方搬送之速度變得大於壓延軋輥82b將玻璃帶3朝向下方搬送之速度，因而，於壓延軋輥82a與壓延軋輥82b之間，沿著搬送方向欲壓縮玻璃帶3之力作用於玻璃帶3。若該力過量地作用，則玻璃帶3之表面彎曲，從而成為進行搬送之玻璃帶3振動之原因。玻璃帶3之振動成為玻璃帶3破裂或應變之原因。

如此一來，無論圖6及圖7之任一模式中，均存在沿著玻璃帶3之搬送方向相鄰之2個壓延軋輥82a、82b之扭矩之差導致玻璃基板之品質下降之虞。因此，玻璃基板製造裝置1可藉由使沿著玻璃帶3之搬送方向相鄰之2個壓延軋輥82a~82g之扭矩之差變小，使各壓延軋輥82a~82g與玻璃帶3之間之接觸負荷達到均一，而使藉由溢流下拉法而製造之玻璃基板之品質提昇。

-第2實施形態-

對於本發明之玻璃基板之製造方法、及玻璃基板之製造裝置之第2實施形態，一面參照圖式，一面進行說明。本實施形態之玻璃基板製造裝置係除了控制裝置91之調整部之動作以外，與第1實施形態之玻璃基板製造裝置1相同。因而，將與玻璃基板製造裝置之構成相關之說明省略，而以控制裝置91之調整部之動作為中心進行說明。

於本實施形態中，控制裝置91之調整部於壓延軋輥82a~82g旋轉一周之期間內扭矩之最大值與最小值之差即扭矩變動量為特定值以上之情形時，以扭矩變動量變小之方式調整壓延軋輥82a~82g之狀態。

扭矩之變動主要起因於壓延軋輥82a~82g之旋轉軸之偏心。若壓延軋輥82a~82g之旋轉軸偏心，則壓延軋輥82a~82g於旋轉時振動。藉此，存在如下可能性：於壓延軋輥82a~82g旋轉一周之期間內，扭矩產生變化，且於扭矩成為最大時，過量之接觸負荷作用於壓延軋輥82a~82g與玻璃帶3之間。過量之接觸負荷成為玻璃帶3之破裂或應變之原因。又，若因過量之接觸負荷，壓延軋輥82a~82g將玻璃帶3朝向下方搬送之力増加，則上方之壓延軋輥82a~82g之負擔増加。相反地，若因過少之接觸負荷，壓延軋輥82a~82g將玻璃帶3朝向下方搬送之力減少，則下方之壓延軋輥82a~82g之負擔増加。如此一來，壓延軋輥82a~82g之扭矩之週期性變動成為接觸負荷之週期性變動，從而玻璃帶3之搬送方向上相鄰之壓延軋輥82a~82g與玻璃帶3之間之接觸負荷產生變動，導致玻璃基板之品質下降。

本實施形態係測定壓延軋輥82a~82g旋轉一周之期間內之扭矩之變化。繼而，藉由以壓延軋輥82a~82g之扭矩變動量變小之方式調整壓延軋輥82a~82g之狀態，而抑制壓延軋輥82a~82g與玻璃帶3之間之接觸負荷之變動，從而防止過量之接觸負荷作用於玻璃帶3。具體而言，藉由減小夾持玻璃帶3之寬度方向之端部之一對壓延軋輥82a~82g與玻璃帶3之間之接觸負荷，而抑制接觸負荷之變動，從而防止過量之接觸負荷作用於玻璃帶3。於本實施形態中，控制裝置91可控制壓延軋輥驅動馬達182，調整夾持玻璃帶3之寬度方向之端部之一對壓延軋輥82a~82g與玻璃帶3之間之接觸負荷。接觸負荷係例如藉由變更用於壓延軋輥82a~82g之位置調整之氣缸之壓力而進行調整。再者，接觸負荷亦可使用氣缸以外之致動器進行調整。

圖8係表示壓延軋輥82a旋轉一周之期間內之扭矩之變化一例之曲線圖。於圖8中，時刻t1至時刻t2為止之期間係壓延軋輥82a旋轉一周所需之時間。實線係壓延軋輥82a旋轉一周之期間內扭矩變動量為特定值以上時之圖形。虛線係自實線之狀態起，使夾持玻璃帶3之寬度方向之端部之一對壓延軋輥82a與玻璃帶3之間之接觸負荷變小時之圖形。鏈線係表示扭矩變動量為零之理想狀態之圖形。圖8中，於實線之圖形中，在扭矩成為最大之時刻t3之附近，過量之接觸作用於負荷壓延軋輥82a與玻璃帶3之間。另一方面，虛線之圖形係與實線之圖形相比，時刻t3中之扭矩之最大值變小，因此，接觸負荷亦變小，從而防止過量之接觸負荷作用於玻璃帶3。

因此，本實施形態之玻璃基板製造裝置可將壓延軋輥82a~82g旋轉一周之期間內之扭矩之最大值與最小值之差即扭矩變動量減小，防止過量之接觸負荷作用於玻璃帶3，從而使玻璃基板之品質提昇。

-變化例-

(1)變化例A

第1實施形態係藉由將沿著玻璃帶3之搬送方向相鄰之2個壓延軋輥82a~82g之扭矩之差減小，調整壓延軋輥82a~82g之狀態，第2實施形態係藉由將壓延軋輥82a~82g旋轉一周之期間內扭矩之最大值與最小值之差即扭矩變動量減小，而調整壓延軋輥82a~82g之狀態。然而，於第1實施形態及第2實施形態中，亦可利用其他方法，調整壓延軋輥82a~82g之狀態。

例如，於判定調整部必須調整壓延軋輥82a~82g之狀態之情形時，亦可藉由將當前使用之壓延軋輥82a~82g更換為備用之新的壓延軋輥82a~82g，而調整壓延軋輥82a~82g之狀態。藉此，於因長期使用，壓延軋輥82a~82g劣化之情形時，可藉由將已劣化之壓延軋輥82a~82g更換為新的壓延軋輥82a~82g，而使玻璃基板之品質提昇。

(2)變化例B

第1實施形態係藉由將沿著玻璃帶3之搬送方向相鄰之2個壓延軋輥82a~82g之扭矩之差減小，而調整壓延軋輥82a~82g之狀態，從而使玻璃基板之品質提昇。然而，亦可藉由將沿著玻璃帶3之寬度方向相鄰之2個壓延軋輥82a~82g之扭矩之差減小，而調整壓延軋輥82a~82g之狀態。例如，當和玻璃帶3之寬度方向之兩端部中之一端部接觸之壓延軋輥82a之扭矩與和另一端部接觸之壓延軋輥82a之扭矩之差為特定值以上之情形時，亦可以扭矩之差減少之方式，調整壓延軋輥82a之狀態。

於該情形時，位於相同高度位置之一對壓延軋輥82a之扭矩之差產生被朝向下方搬送之玻璃帶3之寬度方向之兩端部之間之速度差，因此，存在玻璃帶3被扭轉，成為玻璃帶3之破裂或應變之原因之虞。因而，可藉由將位於相同高度位置之壓延軋輥82a~82g之扭矩之差降低，而使玻璃基板之品質提昇。

(3)變化例C

第1實施形態係藉由減小沿著玻璃帶3之搬送方向相鄰之2個壓延軋輥82a~82g之扭矩之差，而調整壓延軋輥82a~82g之狀態，第2實施形態係藉由減小壓延軋輥82a~82g旋轉一周之期間內之扭矩之最大值與最小值之差即扭矩變動量，而調整壓延軋輥82a~82g之狀態。然而，亦可藉由減小沿著玻璃帶3之搬送方向相鄰之2個壓延軋輥82a~82g之扭矩之差，且，減小壓延軋輥82a~82g旋轉一周之期間內之扭矩之最大值與最小值之差即扭矩變動量，而調整壓延軋輥82a~82g之狀態。

(4)變化例D

於第1實施形態中，控制裝置91係於沿著玻璃帶3之搬送方向相鄰之2個壓延軋輥82a~82g之扭矩之差為特定值以上之情形時，調整該2個壓延軋輥82a~82g之角速度，減小扭矩之差。藉此，控制裝置91使各壓延軋輥82a~82g之扭矩達到均一，從而使各壓延軋輥82a~82g與玻璃帶3之間之接觸負荷達到均一。

然而，控制裝置91亦可基於其他條件，調整壓延軋輥82a~82g之角速度，使各壓延軋輥82a~82g與玻璃帶3之間之接觸負荷達到均一。

作為一例，控制裝置91於沿著搬送方向相鄰之2個壓延軋輥82a~82g之扭矩之差為特定之基準值以上之情形時，亦可調整該2個壓延軋輥82a~82g之角速度，減小扭矩之差，且，對於配置於更上方之2個壓延軋輥82a~82g，使用更小之基準值。於退火空間80中，配置於更上方之壓延軋輥82a~82g容易因高溫而劣化。因而，可藉由更頻繁地調整配置於更上方之壓延軋輥82a~82g之角速度，而有效地使各壓延軋輥82a~82g之扭矩達到均一。

作為其他例，控制裝置91亦可運算沿著搬送方向相鄰之2個壓延軋輥82a~82g之所有之扭矩差，且於所有之扭矩差之分散或標準偏差超過特定值之情形時，調整該壓延軋輥82a~82g之角速度。

(5)變化例E

於第2實施形態中，控制裝置91藉由以壓延軋輥82a~82g旋轉一周之期間內之扭矩變動量變小之方式，調整壓延軋輥82a~82g之狀態，而抑制壓延軋輥82a~82g與玻璃帶3之間之接觸負荷之變動。

然而，控制裝置91亦可基於其他條件，調整壓延軋輥82a~82g之狀態，抑制各壓延軋輥82a~82g與玻璃帶3之間之接觸負荷之變動。

作為一例，控制裝置91亦可於壓延軋輥82a~82g之扭矩變動量為特定之基準值以上之情形時，調整該壓延軋輥82a~82g之狀態，且，對於配置於更上方之壓延軋輥82a~82g，使用更小之基準值。於退火空間80中，配置於更上方之壓延軋輥82a~82g容易因高溫而劣化。因而，可藉由更頻繁地調整配置於更上方之壓延軋輥82a~82g之狀態，而有效地減小壓延軋輥82a~82g之扭矩變動量。

作為其他例，控制裝置91亦可取代扭矩變動量，而於壓延軋輥 82a~82g旋轉一周之期間內之扭矩之每一時間變化量之最大值超過基準值之情形時，調整該壓延軋輥82a~82g之狀態。

(6)變化例F

第1實施形態及第2實施形態係藉由溢流下拉法而自熔融玻璃2成形為玻璃帶3，但亦可利用其他下拉法而自熔融玻璃2成形為玻璃帶3。例如，亦可利用重新下拉法及流孔下拉法等，自熔融玻璃2成形為玻璃帶3。

Claims

一種玻璃基板之製造方法，其係藉由溢流下拉法而自熔融玻璃成形得出玻璃帶，進而製造玻璃基板之方法，且具有：搬送步驟，其係於使玻璃帶的溫度自退火點附近下降的退火空間中進行的步驟，一面利用於上述退火空間中沿著鉛垂方向配置之複數個輥對，夾持上述玻璃帶，一面使上述輥對之輥進行旋轉，將上述玻璃帶搬送至下方；測定步驟，其係於將上述玻璃帶搬送至下方之期間，測定旋轉中之上述輥之扭矩；及調整步驟，其係基於所測定之上述扭矩，以各個上述輥自朝向下方搬送中之上述玻璃帶所受之負荷達到均一之方式，調整上述輥之狀態。
如請求項1之玻璃基板之製造方法，其中上述調整步驟係於沿著上述玻璃帶之搬送方向相鄰之2個上述輥之上述扭矩之差為特定值以上之情形時，以上述2個輥之角速度之差變小之方式調整上述輥之狀態。
如請求項2之玻璃基板之製造方法，其中上述調整步驟係控制用以使上述輥旋轉之馬達之轉數，調整上述輥之狀態。
如請求項1至3中任一項之玻璃基板之製造方法，其中上述調整步驟係於上述輥旋轉一周之期間內作為上述扭矩之最大值與最小值之差的扭矩變動量為特定值以上之情形時，以上述扭矩變動量變小之方式，調整上述輥之狀態。
如請求項4之玻璃基板之製造方法，其中上述調整步驟係控制上述輥與上述玻璃帶之間之接觸負荷，調整上述輥之狀態。
如請求項1至3中任一項之玻璃基板之製造方法，其中上述調整步驟係藉由將上述搬送步驟中使用之上述輥與備用輥進行更換，而調整上述輥之狀態。
一種玻璃基板之製造裝置，其係藉由溢流下拉法而自熔融玻璃成形得出玻璃帶，進而製造玻璃基板之裝置，且具有：搬送部，其係於使玻璃帶的溫度自退火點附近下降的退火空間中搬送上述玻璃帶，且在上述退火空間中具有沿著鉛垂方向配置之複數個輥對，且一面利用上述輥對夾持上述玻璃帶，一面使上述輥對之輥進行旋轉，將上述玻璃帶搬送至下方；測定部，其係於上述玻璃帶被搬送至下方之期間，測定旋轉中之上述輥之扭矩；及調整部，其係基於所測定之上述扭矩，以各個上述輥自朝向下方搬送中之上述玻璃帶所受之負荷達到均一之方式，調整上述輥之狀態。