CN106477858A - 玻璃基板的制造方法及玻璃基板的制造装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种玻璃基板的制造方法及玻璃基板的制造装置。本发明的目的在于提供一种玻璃基板的制造方法等,能够抑制因成形体的蠕变变形所导致的玻璃带(玻璃基板)的变形。本发明的玻璃基板的制造方法具备:成形步骤,对形成在成形体的上表面的供给槽供给熔融玻璃,使从供给槽的两侧溢出的熔融玻璃沿成形体的两侧面流下,使沿两侧面流下的熔融玻璃在成形体的下端合流而成形玻璃带;以及控制步骤,对应于伴随着所述成形体的使用所产生的所述成形体的形状变化,控制通过将所述成形步骤后的所述玻璃带的宽度方向的两侧部进行冷却而施加在所述玻璃带的宽度方向的张力。
Description
技术领域
本发明涉及一种玻璃基板的制造方法及玻璃基板的制造装置。
背景技术
用于液晶显示器及等离子体显示器等平板显示器(FPD)的玻璃基板对表面要求高平坦度。通常,这种玻璃基板是通过溢流下拉法来制造。关于溢流下拉法,如专利文献1所记载,流入至成形体上表面的槽并从槽溢出的熔融玻璃沿着成形体的两侧面流下,在成形体的下端合流而成形玻璃带。所成形的玻璃带一边向下方被拉伸,一边被缓冷。经冷却的玻璃带被切断成规定尺寸,从而获得玻璃基板。
[背景技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]美国专利第3,338,696号
发明内容
[发明要解决的问题]
在溢流下拉法中,成形体设置在成形炉内的高温环境下。另外,对于成形体,自重及熔融玻璃的重量作为荷重施加。因此,由于玻璃基板制造装置的长年运转,成形体因成形体的材质的热蠕变特性而逐渐发生蠕变变形。尤其是成形体的长度方向中央部容易因蠕变变形向下方下垂而弯曲。结果,存在以下问题:从成形体的中央部溢出的熔融玻璃的量相比于从成形体的两端部溢出的熔融玻璃的量变多,所要成形的玻璃带的宽度方向中央部的厚度增加,作为最终产品的玻璃基板的板厚偏差增加。
在使用液相温度高的玻璃及应变点高的玻璃的玻璃基板的制造步骤中,由于成形体的温度容易变高,所以成形体的蠕变变形尤其成为问题。另外,近年来,由于玻璃基板的大型化推进,成形体的长度方向尺寸变长,所以有因蠕变变形所导致的成形体的弯曲变得更明显的倾向。
因此,本发明的目的在于提供一种玻璃基板的制造方法及玻璃基板的制造装置,能 够抑制包含因成形体的蠕变变形所导致的玻璃带(玻璃基板)的板厚偏差等的变形。
[解决问题的技术手段]
本发明具有以下形态。
(1)
一种玻璃基板的制造方法,其特征在于具备:成形步骤,对形成在成形体的上表面的供给槽供给熔融玻璃,使从所述供给槽的两侧溢出的所述熔融玻璃沿所述成形体的两侧面流下,使沿所述两侧面流下的所述熔融玻璃在所述成形体的下端合流而成形玻璃带;以及
控制步骤,对应于伴随着所述成形体的使用所产生的所述成形体的形状变化,控制通过将所述成形步骤后的所述玻璃带的宽度方向的两侧部进行冷却而施加在所述玻璃带的宽度方向的张力。
(2)
根据(1)所述的玻璃基板的制造方法,其中所述控制步骤包括以下步骤:
当所述形状变化在预先设定的基准范围内时,将施加在所述玻璃带的宽度方向的张力维持为无所述形状变化时的基准张力;以及
当所述形状变化超过所述基准范围时,对应于所述形状变化程度,将施加在所述玻璃带的宽度方向的张力控制为比所述基准张力大的张力。
(3)
根据(1)或(2)所述的玻璃基板的制造方法,其中所述形状变化是所述成形体的所述上表面沿所述成形体的所述供给槽的延伸方向从平面变化为弯曲面的变化。
(4)
根据(1)所述的玻璃基板的制造方法,其中所述控制步骤包括以下步骤:除了所述成形体在所述玻璃带的宽度方向未发生所述形状变化时施加在所述玻璃带的宽度方向的基准张力以外,还对所述玻璃带施加与所述成形体的所述形状变化对应的张力。
(5)
根据(1)至(4)中任一项所述的玻璃基板的制造方法,其还具备:获取步骤,获取所述成形体的上表面的铅垂方向位移量作为所述形状变化的信息;以及
判定步骤,判定所述获取步骤中所获取的所述位移量是否为基准量以下;且
当所述判定步骤中判定所述位移量超过所述基准量时,在所述控制步骤中,基于预先规定的所述成形体的位移量与施加在所述玻璃带的宽度方向的张力的关系式,决定与所获取的所述位移量对应的张力。
(6)
根据(5)所述的玻璃基板的制造方法,其中在所述控制步骤中,所述位移量越大,所述张力越增大。
(7)
根据(5)或(6)所述的玻璃基板的制造方法,其中在所述获取步骤中,通过利用计算机模拟求出所述成形体的形状的时间变化来获取所述位移量。
(8)
根据(1)至(7)中任一项所述的玻璃基板的制造方法,其中在所述控制步骤中,以所述玻璃带的厚度方向的板厚偏差成为基准值以下的方式控制所述张力。
(9)
一种玻璃基板的制造装置,其特征在于具备:
成形装置,对形成在成形体的上表面的供给槽供给熔融玻璃,使从所述供给槽的两侧溢出的所述熔融玻璃沿所述成形体的两侧面流下,使沿所述两侧面流下的所述熔融玻璃在所述成形体的下端合流而成形玻璃带;以及
控制装置,对应于伴随着所述成形体的使用所产生的所述成形体的形状变化,控制通过将所述成形步骤后的所述玻璃带的宽度方向的两侧部进行冷却而施加在所述玻璃带的宽度方向的张力。
(10)
根据(9)所述的玻璃基板的制造装置,其中在所述控制装置中,除了所述成形体在所述玻璃带的宽度方向未发生所述形状变化时施加在所述玻璃带的宽度方向的基准张力以外,还对所述玻璃带施加与所述成形体的所述形状变化对应的张力,以此方式控制所述玻璃带的宽度方向两侧部的冷却。
[发明效果]
所述玻璃基板的制造方法及玻璃基板的制造装置能够抑制包含因成形体的蠕变变形所导致的玻璃带(玻璃基板)的板厚偏差等的变形。
附图说明
图1是本实施方式的玻璃基板的制造方法的一例的流程图。
图2是本实施方式的玻璃基板的制造方法中使用的玻璃基板的制造装置的一例的示意图。
图3是图2所示的玻璃基板的制造装置中使用的成形装置的一例的前视图。
图4是图2所示的玻璃基板的制造装置中使用的成形装置的一例的侧视图。
图5是图2所示的玻璃基板的制造装置中使用的成形装置的上部成形空间附近的前视图。
图6是本实施方式中使用的控制装置的一例的框图。
图7是说明由本实施方式中使用的获取部获取的成形体的形状数据的一例的图。
图8是表示由本实施方式中使用的成形体成形的玻璃带的一例的图。
图9是表示由蠕变变形的成形体所成形的玻璃带的截面的一例的图。
图10是表示成形体的位移量与施加在玻璃带的张力T的关系的一例的图。
图11(a)是将沿图8的A-A线的截面放大的图,(b)是将沿图8的B-B线的截面放大的图。
具体实施方式
(1)玻璃基板的制造装置的构成
一边参照附图,一边对本发明的玻璃基板的制造方法及制造装置的实施方式进行说明。图1是表示本实施方式的玻璃基板的制造方法的一例的流程图。
如图1所示,本实施方式的玻璃基板的制造方法主要包括熔解步骤S1、澄清步骤S2、搅拌步骤S3、成形步骤S4、冷却步骤S5及切断步骤S6。
在熔解步骤S1中,加热玻璃原料而获得熔融玻璃。熔融玻璃贮存在熔解槽中,以具有所需温度的方式被通电加热。在玻璃原料中添加澄清剂。就降低环境负荷的观点来说,使用SnO2作为澄清剂。
在澄清步骤S2中,通过使熔解步骤S1中获得的熔融玻璃在澄清管的内部流动而去除熔融玻璃中所含的气体,由此将熔融玻璃进行澄清。首先,在澄清步骤S2中,使熔融玻璃的温度上升。添加到熔融玻璃中的澄清剂因升温而发生还原反应从而释出氧。熔融玻璃中所含的包含CO2、N2、SO2等气体成分的气泡将因澄清剂的还原反应所产生的氧吸收。吸收氧而生长的气泡上浮至熔融玻璃的液面,破裂而消失。消失的气泡中所含的气体释出至澄清管内部的气相空间,并被排出至外部大气中。其次,在澄清步骤S2中,使熔融玻璃的温度降低。由此,经还原的澄清剂发生氧化反应,吸收残留在熔融玻璃中的氧等气体成分。
在搅拌步骤S3中,将澄清步骤S2中去除气体后的熔融玻璃进行搅拌,使熔融玻璃的成分均质化。由此,减少因玻璃基板的条纹等所导致的熔融玻璃的组成不均。
在成形步骤S4中,使用溢流下拉法,由搅拌步骤S3中经均质化的熔融玻璃连续地成形玻璃带。
在冷却步骤S5中,将成形步骤S4中成形的玻璃带一边向下方搬送,一边冷却。在冷却步骤S5中,以玻璃带不产生应变及翘曲的方式,一边调节玻璃带的温度,一边逐渐冷却玻璃带。
在切断步骤S6中,将冷却步骤S5中经冷却的玻璃带切断成规定尺寸而获得玻璃基板。然后,进行玻璃基板端面的研削及研磨以及玻璃基板的清洗。然后,检查玻璃基板有无划痕等缺陷,将检查合格的玻璃基板进行包装并作为产品出货。
图2是表示本实施方式的玻璃基板制造装置1的一例的示意图。玻璃基板制造装置1具备熔解槽10、澄清管20、搅拌装置30、成形装置40及移送管50a、50b、50c。移送管50a连接熔解槽10与澄清管20。移送管50b连接澄清管20与搅拌装置30。移送管50c连接搅拌装置30与成形装置40。
熔解步骤S1中在熔解槽10获得的熔融玻璃2通过移送管50a流入至澄清管20。澄清步骤S2中在澄清管20经澄清的熔融玻璃2通过移送管50b流入至搅拌装置30。搅拌步骤S3中利用搅拌装置30进行搅拌的熔融玻璃2通过移送管50c流入至成形装置40。在成形步骤S4中,通过成形装置40,由熔融玻璃2连续地成形玻璃带3。在冷却步骤S5中,将玻璃带3一边向下方搬送,一边冷却。在切断步骤S6中,经冷却的玻璃带3被切断成规定大小而获得玻璃基板。玻璃基板的宽度例如为500mm~3500mm,长度例如为500mm~3500mm。玻璃基板的厚度例如为0.2mm~0.8mm。
利用玻璃基板制造装置1制造的玻璃基板尤其适合作为液晶显示器、等离子体显示器、有机EL(Electroluminescence,电致发光)显示器等平板显示器(FPD)用玻璃基板。作为FPD用玻璃基板,使用无碱玻璃、含微量碱的玻璃、低温多晶硅(LTPS:Low TemperaturePoly Silicon)用玻璃、或氧化物半导体用玻璃。作为高精细显示器用玻璃基板,使用高温时具有高粘性及高应变点的玻璃。例如,成为高精细显示器用玻璃基板的原料的玻璃在1500℃具有102.5poise的粘性。高温粘性高的玻璃必须提高成形时的温度,因此下述因热蠕变特性所导致的变形更明显。
在熔解槽10中,玻璃原料熔解而获得熔融玻璃2。玻璃原料是以能够获得具有所需组成的玻璃基板的方式制备。作为玻璃基板的组成的一例,作为FPD用玻璃基板优选的无碱玻璃含有SiO2:50质量%~70质量%、Al2O3:10质量%~25质量%、B2O3:1质量%~18质量%、MgO:0质量%~10质量%、CaO:0质量%~20质量%、SrO:0质量%~20质量%、BaO:0质量%~10质量%。此处,MgO、CaO、SrO及BaO的含量合计为5质量%~30质量%。
另外,作为FPD用玻璃基板,也可以使用含有微量碱金属的含微量碱的玻璃。含微量碱的玻璃含有0.1质量%~0.5质量%的R'2O,优选含有0.2质量%~0.5质量%的R'2O。此处,R'为选自Li、Na及K中的至少一种。R'2O的含量合计也可以小于0.1质量%。
另外,利用玻璃基板制造装置1制造的玻璃基板也可以还含有SnO2:0.01质量%~1质量%(优选0.01质量%~0.5质量%)、Fe2O3:0质量%~0.2质量%(优选0.01质量%~0.08质量%)。此外,关于利用玻璃基板制造装置1制造的玻璃基板,就降低环境负荷的观点来说,实质上不含有As2O3、Sb2O3及PbO。
以具有所述组成的方式制备的玻璃原料是使用原料投入机(未图示)投入至熔解槽10中。原料投入机可使用螺旋送料机进行玻璃原料的投入,也可使用铲斗进行玻璃原料的投入。在熔解槽10中,玻璃原料被加热至与其组成等对应的温度而熔解。在熔解槽10中,例如获得1500℃~1600℃的高温熔融玻璃2。在熔解槽10中,可通过在由钼、铂或氧化锡等成形的至少一对电极间流通电流而将电极间的熔融玻璃2通电加热,另外,除通电加热以外,还可以通过燃烧器的火焰来辅助性地加热玻璃原料。
熔解槽10中获得的熔融玻璃2从熔解槽10通过移送管50a流入至澄清管20。澄清管20及移送管50a、50b、50c为铂制或铂合金制管。在澄清管20,与熔解槽10同样地设有加热机构。在澄清管20中,熔融玻璃2进一步被升温而进行澄清。例如,在澄清管20中,熔融玻璃2的温度上升至1500℃~1700℃。
澄清管20中经澄清的熔融玻璃2从澄清管20通过移送管50b流入至搅拌装置30。熔融玻璃2在通过移送管50b时被冷却。在搅拌装置30中,在比通过澄清管20的熔融玻璃2的温度低的温度下搅拌熔融玻璃2。例如,在搅拌装置30中,熔融玻璃2的温度为1250℃~1450℃,熔融玻璃2的粘度为500poise~1300poise。熔融玻璃2在搅拌装置30中被搅拌而均质化。
搅拌装置30中经均质化的熔融玻璃2从搅拌装置30通过移送管50c流入至成形装置40。熔融玻璃2在通过移送管50c时,以具有适于熔融玻璃2成形的粘度的方式被冷却。例如,熔融玻璃2被冷却至1200℃左右。
成形装置40中,通过溢流下拉法由熔融玻璃2成形玻璃带3。接下来,对成形装置40的详细构成及动作进行说明。
(2)成形装置的构成
图3是成形装置40的前视图。图3表示从相对于利用成形装置40成形的玻璃带3的表面垂直的方向观察的成形装置40。图4是成形装置40的侧视图。图4表示从与利用成形装置40成形的玻璃带3的表面平行的方向观察的成形装置40。
成形装置40具有由包含耐火砖等耐火物的炉壁所包围的空间。该空间是由熔融玻璃2成形玻璃带3并冷却玻璃带3的空间。该空间包括上部成形空间60、下部成形空间70及缓冷空间80这三个空间。图5是成形装置40的上部成形空间60附近的前视图。玻璃带3具有位于宽度方向的端部的侧部3b(端部、耳部)及由侧部3b所夹的宽度方向的中央区域3a。中央区域3a是成为厚度大致固定的产品区域的区域,侧部3b是比中央区域3a具有厚度,且包含球根状形状的区域。
成形步骤S4是在上部成形空间60进行。冷却步骤S5是在下部成形空间70及缓冷空间80进行。上部成形空间60是从搅拌装置30经由移送管50c供给至成形装置40的熔融玻璃2成形为玻璃带3的空间。下部成形空间70是上部成形空间60下方的空间,是玻璃带3急冷至玻璃的缓冷点附近的空间。缓冷空间80是下部成形空间70下方的空间,是玻璃带3逐渐冷却的空间。
成形装置40主要包括成形体62、多个发热体、上部区隔部件64、冷却辊72、温度调节单元74、下部区隔部件76、下拉辊82a~82g、加热器84a~84g、隔热部件86、切断装置98及控制装置91(参照图6)。接下来,对成形装置40的各构成要素进行说明。
(2-1)成形体
成形体62设置在上部成形空间60。成形体62是用来使熔融玻璃2溢流而成形玻璃带3。如图4所示,成形体62具有类似于楔形的五边形的截面形状。成形体62的截面形状的尖端相当于成形体62的下端62a。成形体62为耐火砖制。
在成形体62的上表面62c,沿成形体62的长度方向(图4中的纸面垂直方向、图5中的纸面水平方向)形成着供给槽62b。在成形体62的长度方向的端部安装着与供给槽62b连通的移送管50c。供给槽62b的槽深度形成为,随着从与移送管50c连通的一端部朝向另一端部逐渐变浅。以下,如图3所示,将成形体62的长度方向的一对端部中与移送管50c连通一侧的端部称为第1端部62d1,将其相反侧的端部称为第2端部62d2。此外,在成形体62的第2端部62d2,设有用来阻断供给槽62b中的熔融玻璃2的流动的铂制导件(未图示)。
从搅拌装置30送至成形装置40的熔融玻璃2经由移送管50c流入至成形体62的供给槽62b。熔融玻璃2在供给槽62b中从第1端部62d1向第2端部62d2流动。从成形体62的供给槽62b溢流的熔融玻璃2一边沿着成形体62的两侧面,一边流下,在成形体62的下端62a的附近合流。合流的熔融玻璃2利用重力沿铅垂方向落下而成形为板状。由此,在成形体62的下端62a的附近,连续地成形玻璃带3。成形的玻璃带3沿上部成形空间60流下后,一边在下部成形空间70及缓冷空间80中冷却,一边朝下方 搬送。刚在上部成形空间60成形后的玻璃带3的温度为1100℃以上,粘度为25000poise~350000poise。例如,在制造高精细显示器用玻璃基板的情况下,利用成形体62成形的玻璃带3的应变点为655℃~750℃,优选680℃~730℃,在成形体62的下端62a的附近合流的熔融玻璃2的粘度为25000poise~100000poise,优选32000poise~80000poise。
控制装置(控制部)91是通过控制下述冷却辊72的冷却量来控制玻璃带3的两侧部3b的粘度。玻璃带3包括:中央区域3a,厚度大致固定;以及侧部3b,位于中央区域3a的两端,且比中央区域具有厚度。如果冷却辊72将玻璃带3的两侧部3b冷却,那么玻璃带3上沿从中央区域3a朝向两侧部3b的方向产生张力,因此控制装置91能够通过控制该张力来控制玻璃带3的板厚。
(2-2)上部区隔部件
上部区隔部件64是设置在成形体62的下端62a附近的一对板状隔热部件。如图4所示,上部区隔部件64配置在玻璃带3的厚度方向两侧。上部区隔部件64区隔出上部成形空间60与下部成形空间70,抑制热从上部成形空间60向下部成形空间70移动。
(2-3)冷却辊
冷却辊72是设置在下部成形空间70的悬臂辊。冷却辊72设置在上部区隔部件64的正下方。如图3所示,冷却辊72配置在玻璃带3的宽度方向两侧部。如图4所示,冷却辊72配置在玻璃带3的厚度方向两侧。玻璃带3在其宽度方向两侧部由冷却辊72夹持。冷却辊72将从上部成形空间60送来的玻璃带3冷却。
在下部成形空间70中,玻璃带3的宽度方向两侧部分别由两对冷却辊72夹住。通过朝向玻璃带3的两侧部的表面压抵冷却辊72,冷却辊72与玻璃带3的接触面积变大,而有效率地进行利用冷却辊72的玻璃带3的冷却。冷却辊72将与下述下拉辊82a~82g将玻璃带3向下方拉伸的力对抗的力赋予给玻璃带3。此外,根据冷却辊72的旋转速度与配置在最上方的下拉辊82a的旋转速度的差,决定玻璃带3的厚度。
冷却辊72在内部具有空冷管或水冷管。冷却辊72通过空冷管或水冷管被冷却。冷却辊72通过夹住玻璃带3的宽度方向两侧部而与玻璃带3接触。由此,热从玻璃带3向冷却辊72传递,因此玻璃带3的宽度方向两侧部被冷却。与冷却辊72接触而得以冷却的玻璃带3的宽度方向两侧部的粘度例如为109.0poise以上。
冷却辊72与玻璃带3之间的接触荷重能够通过控制装置91进行控制。接触荷重例如通过使用气缸的气压、弹簧的物理加重负荷调整冷却辊72的位置来控制。接触荷重越大,冷却辊72压抵玻璃带3的力越强。即使在利用冷却辊72夹持玻璃带3后,控制 装置91也能够通过控制气缸的气压、施加在弹簧的荷重来调节冷却辊72的铅垂方向及水平方向的位置,因此能够以适当的力保持玻璃带3,从而能够抑制玻璃带3的破损。
(2-4)温度调节单元
温度调节单元74设置在下部成形空间70。温度调节单元74设置在上部区隔部件64的下方且下部区隔部件76的上方。
在下部成形空间70中,玻璃带3被冷却到玻璃带3的宽度方向中心部的温度降低至缓冷点附近为止。温度调节单元74调节下部成形空间70中冷却的玻璃带3的温度。温度调节单元74是加热或冷却玻璃带3的单元。如图3所示,温度调节单元74包括中心部冷却单元74a及侧部冷却单元74b。中心部冷却单元74a调节玻璃带3的宽度方向的中央区域3a的温度。侧部冷却单元74b调节玻璃带3的宽度方向两侧部的温度。此处,玻璃带3的宽度方向的中央区域3a是指由玻璃带3的宽度方向两侧的侧部3b所夹的区域。两侧的侧部3b是指从玻璃带3两侧的端至朝向玻璃带3的宽度方向内侧行进例如200mm的位置的宽度方向范围内的区域。中央区域3a处于玻璃带3的宽度方向的宽度中从玻璃带3的宽度方向中心至宽度的一半的例如85%以内的范围。中央区域3a的范围能够根据玻璃带3的宽度方向长度而变化。
在下部成形空间70中,如图3所示,多个中心部冷却单元74a及多个侧部冷却单元74b分别沿玻璃带3所流下的方向即铅垂方向配置。中心部冷却单元74a以与玻璃带3的宽度方向中心部的表面对向的方式配置。侧部冷却单元74b以与玻璃带3的宽度方向两侧部的表面对向的方式配置。
温度调节单元74由控制装置91进行控制。各中心部冷却单元74a及各侧部冷却单元74b能够由控制装置91独立地进行控制。
(2-5)下部区隔部件
下部区隔部件76是设置在温度调节单元74下方的一对板状隔热部件。如图4所示,下部区隔部件76设置在玻璃带3的厚度方向两侧。下部区隔部件76在铅垂方向上区隔出下部成形空间70与缓冷空间80,抑制热从下部成形空间70向缓冷空间80移动。
(2-6)下拉辊
下拉辊82a~82g是设置在缓冷空间80的悬臂辊。在缓冷空间80中,下拉辊82a、下拉辊82b、···、下拉辊82f及下拉辊82g是从上方朝向下方隔开间隔而配置。下拉辊82a配置在最上方,下拉辊82g配置在最下方。
如图3所示,下拉辊82a~82g分别配置在玻璃带3的宽度方向两侧部。如图4所示,下拉辊82a~82g分别配置在玻璃带3的厚度方向两侧。即,玻璃带3的宽度方向 两侧部是从上方朝向下方由两对下拉辊82a、两对下拉辊82b、···、两对下拉辊82f及两对下拉辊82g夹住。
下拉辊82a~82g一边夹住通过下部成形空间70的玻璃带3的宽度方向两端部,一边旋转,由此将玻璃带3朝铅垂方向下方下拉。即,下拉辊82a~82g是用来将玻璃带3向下方搬送的辊。
各下拉辊82a~82g的角速度能够通过控制装置91而独立地进行控制。下拉辊82a~82g的角速度越大,玻璃带3向下方搬送的速度越大。
(2-7)加热器
加热器84a~84g设置在缓冷空间80。如图4所示,在缓冷空间80中,加热器84a、加热器84b、···、加热器84f及加热器84g从上方朝向下方隔开间隔而配置。加热器84a~84g分别配置在玻璃带3的厚度方向两侧。下拉辊82a~82g分别配置在加热器84a~84g与玻璃带3之间。
加热器84a~84g朝向玻璃带3的表面辐射热而对玻璃带3进行加热。通过使用加热器84a~84g,能够调节在缓冷空间80中向下方搬送的玻璃带3的温度。由此,加热器84a~84g能够在玻璃带3的搬送方向上,在玻璃带3形成规定的温度分布。
各加热器84a~84g的输出能够通过控制装置91独立地进行控制。另外,加热器84a~84g也可沿玻璃带3的宽度方向分割成多个加热器子单元(未图示),各加热器子单元的输出能够通过控制装置91独立地进行控制。该情况下,各加热器84a~84g对应于玻璃带3的宽度方向位置使发热量发生变化,由此能够在玻璃带3的宽度方向形成规定的温度分布。
此外,在各加热器84a~84g的附近设置有测定缓冷空间80的环境温度的热电偶(未图示)。热电偶例如测定玻璃带3的宽度方向中心部附近的环境温度与两侧部附近的环境温度。加热器84a~84g也可基于利用热电偶测定的缓冷空间80的环境温度来进行控制。
(2-8)隔热部件
隔热部件86设置在缓冷空间80。隔热部件86设置在沿玻璃带3的搬送方向相邻的两个下拉辊82a~82g之间的高度位置。如图4所示,隔热部件86是在玻璃带3的厚度方向两侧水平配置的一对隔热板。隔热部件86在铅垂方向上区隔缓冷空间80,抑制缓冷空间80中的铅垂方向的热移动。
隔热部件86是以不与向下方搬送的玻璃带3接触的方式设置。另外,隔热部件86是以能够调整至玻璃带3的表面的距离的方式设置。由此,隔热部件86抑制隔热部件86上方的空间与隔热部件86下方的空间之间的热移动。
(2-9)切断装置
切断装置98设置在缓冷空间80下方的空间。切断装置98将通过缓冷空间80的玻璃带3沿玻璃带3的宽度方向按规定尺寸切断。通过缓冷空间80的玻璃带3是冷却至室温附近的平坦的玻璃带3。
切断装置98以规定时间间隔切断玻璃带3。由此,在玻璃带3的搬送速度固定的情况下,量产出具有接近于最终产品的尺寸的玻璃基板。
(2-10)控制装置
控制装置91是主要包括CPU(Central Processing Unit,中央处理单元)、RAM(Random Access Memory,随机存取存储器)、ROM(Read Only Memory,只读存储器)及硬盘等的计算机。图6是控制装置91的框图。如图6所示,控制装置91与冷却辊驱动电机172、温度调节单元74、下拉辊驱动电机182、加热器84a~84g及切断装置驱动电机198连接。冷却辊驱动电机172是用来控制冷却辊72的位置及旋转速度等的电机。下拉辊驱动电机182是用来独立地控制各下拉辊82a~82g的位置及旋转速度等的电机。切断装置驱动电机198是用来控制切断装置98切断玻璃带3的时间间隔等的电机。控制装置91获取各构成要素的状态,且存储用来控制各构成要素的程序。
控制装置91能够控制冷却辊驱动电机172,获取及调节夹住玻璃带3的宽度方向侧部的一对冷却辊72与玻璃带3之间的接触荷重。控制装置91个别地控制各冷却辊的冷却量。控制装置91能够控制下拉辊驱动电机182,获取旋转着的各下拉辊82a~82g的转矩,调节各下拉辊82a~82g的角速度。例如,控制装置91从安装在冷却辊72、各下拉辊82a~82g的未图示的转矩传感器获取接触荷重、转矩。控制装置91也能够不利用转矩传感器,作为代替而基于来自检测冷却辊驱动电机172、下拉辊驱动电机182中通电电流的电流传感器的检测值,运算实际输出转矩,从而获取所运算出的实际输出转矩。控制装置91基于所获取的转矩,一边控制冷却辊72、各下拉辊82a~82g的旋转量,一边个别地控制各辊的冷却量。控制装置91能够调节温度调节单元74的输出及各加热器84a~84g的输出。控制装置91能够控制切断装置驱动电机198,调节切断装置98切断玻璃带3的时间间隔等。
(3)成形装置的动作
在上部成形空间60中,从搅拌装置30经由移送管50c被送至成形装置40的熔融玻璃2被供给至形成在成形体62的上表面62c的供给槽62b。从成形体62的供给槽62b溢流的熔融玻璃2沿着成形体62的两侧面流下,在成形体62的下端62a的附近合流。在成形体62的下端62a的附近,由合流的熔融玻璃2连续地成形玻璃带3。成形的玻璃 带3被送至下部成形空间70。
在下部成形空间70中,玻璃带3的宽度方向两侧部与冷却辊72进行接触而被急冷。另外,通过温度调节单元74调节玻璃带3的温度,直到玻璃带3的宽度方向中心部的温度降低至缓冷点。利用冷却辊72一边向下方搬送、一边冷却的玻璃带3被送至缓冷空间80。
在缓冷空间80中,玻璃带3一边由下拉辊82a~82g下拉,一边被逐渐冷却。玻璃带3的温度是以沿玻璃带3的宽度方向形成规定温度分布的方式由加热器84a~84g进行控制。在缓冷空间80中,玻璃带3的温度从缓冷点附近逐渐降低至相比于比应变点低200℃的温度更低的温度。
通过缓冷空间80的玻璃带3进而被冷却至室温附近,利用切断装置98切断成规定尺寸而获得玻璃基板。然后,进行玻璃基板的端面的研磨及清洗等。然后,将规定检查合格的玻璃基板进行包装并作为产品出货。
(4)控制装置的动作
控制装置91包含搬送部91a、获取部91b、判定部91c及控制部91d,这些部分是通过至少存储并执行四种程序而形成的模块。
控制装置91是像下述那样对应于伴随着成形体62的使用所产生的成形体62的形状变化,控制通过将成形步骤S4中所获得的玻璃带3的宽度方向两侧部进行冷却而施加在玻璃带3的宽度方向的张力。
搬送部91a调节以下动作:使用设置在成形体62下方的下拉辊82a~82g,将利用成形体62成形的玻璃带3在缓冷空间80中以规定的搬送速度向下方搬送。搬送部91a是通过控制下拉辊驱动电机182而调节各下拉辊82a~82g的旋转速度来调节玻璃带3的搬送速度。
获取部91b通过利用计算机模拟求出成形体62的形状的时间变化(形状变化),获取成形体62当前的形状相关的形状数据。具体来说,获取部91b是基于蠕变特性参数来获取成形体62当前的形状数据。蠕变特性参数是用来再现施加在成形体62的应力、成形体62的温度与基于蠕变变形的成形体62的应变速度之间的关系的参数。蠕变特性参数例如为由成形体62的材质、使用时间、尺寸、重量、温度、施加在成形体62的应力、熔融玻璃2的温度所决定的参数。当成形体62的温度越高且施加在成形体62的应力越大时,蠕变特性参数越大,成形体62的形状的变形量越大。此处,施加在成形体62的应力是沿成形体62的长度方向将成形体62压缩的力。另外,成形体62的应变速度并不依存于时间,而是假定为固定。首先,获取部91b通过测定来获取施加在成形体62 的应力为固定的条件下成形体62的应变速度的依存于成形体62的温度的变化的信息。其次,获取部91b通过测定来获取成形体62的温度为固定的条件下成形体62的应变速度的依存于施加在成形体62的应力的变化的信息。接着,获取部91b决定蠕变特性参数,所述蠕变特性参数能够再现成形体62的应变速度的温度依存变化及应力依存变化的测定值。然后,获取部91b通过计算机模拟,使用所决定的蠕变特性参数算出规定的温度及应力的条件下的成形体62的应变速度。进而,获取部91b通过使用已算出的应变速度求出成形体62的形状的时间变化,以此来获取成形体62当前的形状数据。图7是由获取部91b所获取的成形体62的形状数据的一例。图7表示从相对于利用成形体62成形的玻璃带3的表面垂直的方向观察的成形体62。在图7中,成形体62的蠕变变形比实际更强调地示出。图7中,未使用的成形体62的形状、即蠕变变形之前的成形体62的形状以虚线表示,且伴随着成形体62的使用而蠕变变形后的成形体62当前的形状以实线表示。
获取部91b根据基于成形体62的蠕变变形的形状数据,至少获取成形体62的上表面62c的铅垂方向的位移量L即上表面位移量作为成形体62的形状变化的信息。在图7中,上表面位移量是蠕变变形前的上表面62c与蠕变变形后的上表面62c之间的铅垂方向的尺寸差。此外,图7中,作为上表面位移量,示有成形体62的长度方向上的上表面位移量的最大值即最大上表面位移量。另外,获取部91b获取由玻璃基板形状测定装置(未图示)测定的玻璃基板的厚度数据。厚度数据例如为由玻璃基板制造装置1制造的玻璃基板的厚度的宽度方向的分布。
判定部91c判定由获取部91b获取的位移量L是否为基准量以下。此处,所谓基准量,是指对玻璃带3施加固定的张力(初始张力),使玻璃带3(玻璃基板)成形为成形预定厚度(例如0.2mm~0.8mm)时,板厚公差能够满足例如±0.05mm的量。在施加在玻璃带3的张力未从初始值发生变化的情况下,如果位移量L超过基准量,那么玻璃带3的板厚公差超过例如±0.05mm。因此,通过使施加在玻璃带3的张力相比于初始张力增大,玻璃带3的板厚公差被控制为例如±0.05mm以内。基准量能够根据初始张力、玻璃带3的成形预定板厚、板厚公差等而任意地变更,例如为3mm~30mm。
控制部91d以如下方式进行控制:将成形体62未发生位移时、即位移量L为0时施加在所成形的玻璃带3的宽度方向的张力设为基准张力(初始值的张力),通过控制冷却辊72的冷却量来将玻璃带3的宽度方向的两侧部3b进行冷却,由此,施加在玻璃带3的张力成为基准张力。在成形体62未发生位移的状态下,通过对玻璃带3的宽度方向施加基准张力,玻璃带3成为成形预定板厚,板厚公差满足±0.05mm。另外,当上位位 移量L不为0但为基准量以下时,通过对玻璃带3施加基准张力,即,不变更冷却辊72的冷却量便能使玻璃带3的板厚公差为例如±0.05mm以下。
当成形体62发生蠕变变形且位移量L超过基准量时,如果不控制冷却辊72的冷却量而是予以维持,即,如果施加在玻璃带3的张力保持着基准张力,那么成形预定厚度的玻璃带3无法成形,另外,板厚公差无法满足±0.05mm。因此,控制部91d除了施加基准张力以外,还对玻璃带3施加与成形体62的位移对应的张力。此处,成形体62的位移例如为成形体62在长度方向上的上表面位移。控制部91d基于由获取部91b获取的成形体62的形状数据,以玻璃带3的厚度成为成形预定厚度的方式,且以玻璃带3的宽度方向的板厚偏差变小的方式控制冷却辊72的冷却量,由此控制施加在玻璃带3的张力。成形体62的形状数据例如为作为成形体62在长度方向上的上表面位移量的分布的形状分布。控制部91d以根据形状分布求出的位移量L越大,对玻璃带3的宽度方向的张力越大的方式,控制冷却辊72的冷却量。作为根据形状分布求出的位移量L,例如使用最大上表面位移量。像这样,成形体62的形状变化是成形体62的上表面沿成形体62的供给槽62b的延伸方向从平面变化为弯曲面的变化,作为该形状变化的信息,本实施方式中使用位移量L。
图8是表示由成形体62成形的玻璃带3的一例的图。在成形体62的下端62a成形的玻璃带3如果从下端62a离开,那么会因自身的表面张力而导致中央区域3a朝向宽度方向中央开始收缩。因此,冷却辊72将玻璃带3的两侧部3b冷却而使两侧部3b的粘度上升,从中央区域3a朝向两侧部3b施加张力,以此方式抑制玻璃带3在宽度方向收缩,玻璃带3的中央区域3a的厚度变得均匀。但是,如果成形体62发生蠕变变形,那么玻璃带3的中央区域3a附近的熔融玻璃量增加,中央区域3a的厚度变化。图9是表示因成形体62的蠕变变形而导致中央区域3a附近的厚度增加的玻璃带3的一例的图。如果成形体62发生蠕变变形,那么从第1端部62d1与第2端部62d2之间溢出的熔融玻璃2的量增加,因此玻璃带3的中央区域3a附近的厚度增加。图9中,中央区域3a附近的厚度相比于成形预定厚度最大变厚D1,中央区域3a的厚度变得不均匀。因此,控制部91d对应于成形体62的形状数据,使冷却辊72的冷却量变化,从玻璃带3的中央区域3a朝向两侧部3b施加张力,以此方式抑制玻璃带3在宽度方向收缩,使玻璃带3的中央区域3a的厚度变得均匀。
图10是表示成形体62的位移量L与施加在玻璃带3的张力T的关系的图。控制部91d在通过判定部91c判定为成形体62的位移量L不超过L1的情况下,视为因成形体62的蠕变变形所导致的玻璃带3的中央区域3a的厚度的变化能够忽略,即板厚公差满 足例如±0.05mm,使施加在玻璃带3的张力T不从初始值T1(位移量L的范围:0以上且L1以下)发生变化。如果成形体62的位移量L为L1以下,那么控制部91d不使冷却辊72的冷却量变化,而将张力T维持为初始值T1,由此,成形的玻璃带3的板厚公差满足±0.05mm。控制部91d在通过判定部91c判定为成形体62的位移量L超过L1的情况下,如图10所示,以对玻璃带3施加对应于位移量L的张力T的方式进行控制。如果位移量L超过L1,那么如图9所示,玻璃带3的中央区域3a的厚度增加,厚度变得不均匀。因此,控制部91d以如下方式控制:以与位移量L对应的方式,从玻璃带3的中央区域3a朝向两侧部3b对玻璃带3施加大于初始值T1的张力T=T1+A×位移量L(位移量L的范围:L1以上且小于Lm,A:系数)。具体来说,控制部使冷却辊72的冷却量增加而使两侧部3b的粘度上升。如果两侧部3b的粘度变高,那么从中央区域3a朝向两侧部3b的张力T变大,位于玻璃带3的中央区域3a的熔融玻璃向两侧部3b被拉伸,中央区域3a的厚度接近于成形预定厚度,厚度变得均匀。控制部91d以如下方式控制:通过使两侧部3b的粘度增加至例如109.0poise至1014.5poise而使张力T变大。像这样,利用控制部91d进行的控制步骤包括以下步骤:当成形体62的形状变化、具体来说为成形体62的位移量L在预先设定的基准范围内(位移量L为L1以下)时,将施加在玻璃带3的宽度方向的张力维持为无形状变化时的基准张力(初始值T1);以及当成形体62的形状变化、具体来说为成形体62的位移量L超过基准范围(位移量L超过L1)时,对应于成形体62的形状变化的程度,将施加在玻璃带3的宽度方向的张力控制为大于基准张力(初始值T1)的张力。
此外,当位移量L的范围为L1以上且小于Lm时,将张力T控制为T1至Tm,由此,中央区域3a的厚度接近于成形预定厚度,厚度变得均匀,当位移量L超过Lm而发生位移时,仅凭控制张力T难以使中央区域3a的厚度接近于成形预定厚度并且难以使厚度均匀,因此通过判定部91c判定为已到达成形体62的定期更换时期。
另外,通过成形体62的蠕变变形,玻璃带3的表面凹凸差(板厚偏差)也会发生变化。刚通过成形体62的下端62a后的玻璃带3的体积收缩量随着从玻璃带3的侧部3b朝向中央区域3a而变大,因此拉伸应力在玻璃带3的中央区域3a发挥作用。由于中央区域3a附近的厚度变厚,从两侧部3b朝向中央区域3a的张力变大,所以玻璃带3的表面凹凸差变大。图11(a)是将图8的A-A线的截面放大的图,图11(b)是将图8的B-B线截面放大的图。在通过冷却辊72对玻璃带3施加张力T之前,玻璃带3朝向中央区域3a收缩,因此玻璃带3的表面凹凸差成为D2,在通过冷却辊72对玻璃带3施加张力T后,玻璃带3的表面凹凸差成为小于D2的D3。如果成形体62发生蠕变变形,那么玻璃带 3的表面凹凸差D2、D3也会变大。因此,通过以对应于位移量L的方式施加从中央区域3a朝向两侧部3b的张力T,玻璃带3向两侧部3b被拉伸,因此玻璃带3的表面凹凸差D3变小。为了使中央区域3a的厚度接近于成形预定厚度,以对应于位移量L的方式施加张力T,由此玻璃带3的表面凹凸差D3变小,玻璃带3的中央区域3a的厚度变得均匀。
另外,控制部91d也可通过对玻璃带3施加张力T来抑制有可能在玻璃带3的搬送方向上产生的条纹。条纹是在规定宽度上玻璃带3的厚度(高度)发生变动的一种应变,且在玻璃带3的搬送方向上呈条带状连续地产生。另外,条纹的主要原因也包含玻璃的粘性差。如果通过控制部91d控制冷却辊72的冷却量而向玻璃带3的宽度方向施加张力,那么作为玻璃带3的表面凹凸的一种的局部产生的条纹向玻璃带3的两端侧3b被拉伸,表面凹凸差变小,从而成形板厚公差满足±0.05mm的玻璃带。
像以上所说明的那样,在成形体62的下端62a,使施加在玻璃带3的张力T对应于成形体62的位移量L而变化,由此能够使中央区域3a的厚度接近于成形预定厚度并且使厚度均匀。当因成形体62的蠕变变形而导致成形体62的长度方向中央部向下方垂下而弯曲时,通过增大冷却辊72的冷却量而增大施加在玻璃带3的张力T,由此能够降低玻璃带3的宽度方向的板厚偏差。结果,玻璃基板制造装置1能够降低作为最终产品的玻璃基板的板厚偏差。
另外,在使用液相温度高的玻璃及应变点高的玻璃的玻璃基板的制造步骤中,由于成形体62的温度容易变高,所以成形体62的蠕变变形尤其容易成为问题。另外,由于近年来推进玻璃基板的大型化,成形体的长度方向尺寸变长,所以有因蠕变变形所导致的成形体62的弯曲变得更明显的倾向。本实施方式中,通过调节冷却辊72的冷却量,使施加在玻璃带3的张力T变化,能够有效地降低因成形体62的蠕变变形所导致的玻璃带3的宽度方向的板厚偏差。
(5-1)变化例A
在实施方式中,玻璃基板制造装置1的控制装置91的获取部91b通过利用计算机模拟求出成形体62的形状的时间变化,以此来获取成形体62的当前形状相关的形状数据。但是,获取部91b也可通过其他方法来获取成形体62的当前形状相关的形状数据。
例如,获取部91b也可基于成形体62的形状的实测值来获取形状数据。该情况下,必须预先收集成形体62的形状的实测值相关的数据以及成形体62的使用条件相关的数据并进行分析。成形体62的使用条件为玻璃基板制造装置1的运转时间、熔融玻璃2的温度、熔融玻璃2的粘度及上部成形空间60的温度等与成形体62相关的各种参数。 获取部91b基于成形体62的形状的实测值相关的数据与成形体62的使用条件相关的数据的相关关系,预测并获取当前使用的成形体62的形状数据。
另外,获取部91b也可基于利用成形体62成形的玻璃带3的板厚的实测值来获取形状数据。该情况下,获取部91b基于玻璃带3的宽度方向的板厚的实测值相关的数据,预测并获取当前使用的成形体62的形状数据。
(5-2)变化例B
在实施方式中,为了使施加在玻璃带3的张力T变化,控制冷却辊72的冷却量。但是,也可代替冷却辊72、或除冷却辊72以外,使用冷却装置使玻璃带3的两侧部3b的粘性变化,从而调节张力T。
冷却装置例如位于成形体62的下端62a与冷却辊72之间,设置在与玻璃带3的侧部3b对向的位置,将玻璃带3的两侧部3b进行冷却。控制部91d能够通过控制冷却装置来控制玻璃带3的两侧部3b的冷却量,因此能够任意地调节张力T。由于冷却装置与玻璃带3未直接接触,所以不会因接触而使玻璃带3变形,能够通过利用冷却装置进行的冷却量的控制来调节张力T。
(5-3)变化例C
在实施方式中,玻璃基板制造装置1的控制装置91的获取部91b通过利用计算机模拟求出成形体62的形状的时间变化,以此来获取成形体62的当前形状相关的形状数据。但是,获取部91b也能够通过获取成形装置40(成形体62)所成形的玻璃带3的总量(全长)而预测并获取当前使用的成形体62的形状数据。例如,获取部91b通过测定流入至成形装置40的熔融玻璃2的量、利用成形装置40成形的玻璃带3的厚度、宽度、重量等,获取成形装置40所成形的玻璃带3的总量(全长)。由于玻璃带3的总量(全长)与成形装置40的使用时间具有正相关关系,所以能够通过获取玻璃带3的总量(全长),预测因成形装置40(成形体62)的蠕变变形所产生的位移量L。控制部91d以玻璃带3的宽度方向的张力成为预先规定的基准张力的方式进行控制。预先规定的基准张力是如下张力的初始值:使玻璃带3(玻璃基板)成形为成形预定厚度的玻璃带3时,板厚公差能够满足±0.05mm。控制部91d是当位移量L为基准量以下时,以玻璃带3的宽度方向张力成为基准张力的方式控制,当位移量L超过基准量时,以对玻璃带3施加张力T的方式控制,所述张力T是与根据玻璃带3的总量(全长)预测的成形装置40(成形体62)的因蠕变变形所产生的位移量L对应。由此,能够使玻璃带3的中央区域3a的厚度接近于成形预定厚度并且使厚度均匀。
[符号的说明]
2 熔融玻璃
3 玻璃带
3a 中央区域
3b 侧部
62 成形体
62a 下端
72 冷却辊。
Claims (10)
1.一种玻璃基板的制造方法,其特征在于具备:成形步骤,对形成在成形体的上表面的供给槽供给熔融玻璃,使从所述供给槽的两侧溢出的所述熔融玻璃沿所述成形体的两侧面流下,使沿所述两侧面流下的所述熔融玻璃在所述成形体的下端合流而成形玻璃带;以及
控制步骤,对应于伴随着所述成形体的使用所产生的所述成形体的形状变化,控制通过将所述成形步骤后的所述玻璃带的宽度方向的两侧部进行冷却而施加在所述玻璃带的宽度方向的张力。
2.根据权利要求1所述的玻璃基板的制造方法,其中所述控制步骤包括以下步骤:
当所述形状变化在预先设定的基准范围内时,将施加在所述玻璃带的宽度方向的张力维持为无所述形状变化时的基准张力;以及
当所述形状变化超过所述基准范围时,对应于所述形状变化程度,将施加在所述玻璃带的宽度方向的张力控制为比所述基准张力大的张力。
3.根据权利要求1或2所述的玻璃基板的制造方法,其中所述形状变化是所述成形体的所述上表面沿所述成形体的所述供给槽的延伸方向从平面变化为弯曲面的变化。
4.根据权利要求1所述的玻璃基板的制造方法,其中所述控制步骤包括以下步骤:除了所述成形体在所述玻璃带的宽度方向未发生所述形状变化时施加在所述玻璃带的宽度方向的基准张力以外,还对所述玻璃带施加与所述成形体的所述形状变化对应的张力。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的玻璃基板的制造方法,其还具备:获取步骤,获取所述成形体的上表面的铅垂方向位移量作为所述形状变化的信息;以及
判定步骤,判定所述获取步骤中所获取的所述位移量是否为基准量以下;且
当所述判定步骤中判定所述位移量超过所述基准量时,在所述控制步骤中,基于预先规定的所述成形体的位移量与施加在所述玻璃带的宽度方向的张力的关系式,决定与所获取的所述位移量对应的张力。
6.根据权利要求5所述的玻璃基板的制造方法,其中在所述控制步骤中,所述位移量越大,所述张力越增大。
7.根据权利要求5或6所述的玻璃基板的制造方法,其中在所述获取步骤中,通过利用计算机模拟求出所述成形体的形状的时间变化来获取所述位移量。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的玻璃基板的制造方法,其中在所述控制步骤中,以所述玻璃带的厚度方向的板厚偏差成为基准值以下的方式控制所述张力。
9.一种玻璃基板的制造装置,其特征在于具备:
成形装置,对形成在成形体的上表面的供给槽供给熔融玻璃,使从所述供给槽的两侧溢出的所述熔融玻璃沿所述成形体的两侧面流下,使沿所述两侧面流下的所述熔融玻璃在所述成形体的下端合流而成形玻璃带;以及
控制装置,对应于伴随着所述成形体的使用所产生的所述成形体的形状变化,控制通过将所述成形步骤后的所述玻璃带的宽度方向两侧部进行冷却而施加在所述玻璃带的宽度方向的张力。
10.根据权利要求9所述的玻璃基板的制造装置,其中在所述控制装置中,除了所述成形体在所述玻璃带的宽度方向未发生所述形状变化时施加在所述玻璃带的宽度方向的基准张力以外,还对所述玻璃带施加与所述成形体的所述形状变化对应的张力,以此方式控制所述玻璃带的宽度方向的两侧部的冷却。
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