TWI658338B - Shutter device and control method thereof, lithography machine and exposure dose control method thereof - Google Patents

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Abstract

本發明公開了一種快門裝置及其控制方法、光刻機及其曝光劑量控制方法，該快門裝置包括：擋光單元和音圈馬達，其中，所述音圈馬達包括永磁模塊、驅動導軌模塊和線圈結構，所述線圈結構設置在所述驅動導軌模塊上，所述永磁模塊在所述驅動導軌模塊內部產生磁場，所述擋光單元包括兩個快門葉片，所述快門葉片與所述線圈結構連接，所述線圈結構通電後產生與所述驅動導軌模塊磁場方向相反或相同的磁場，使所述線圈結構沿所述驅動導軌模塊正向或反向運動，帶動兩個快門葉片打開或關閉，本發明通過設置音圈馬達，使音圈馬達的線圈結構直接與擋光單元連接，大大減小了快門葉片的開閉時間，進而提高了小劑量曝光產率，提高了單位時間內的光源利用率。

Description

快門裝置及其控制方法、光刻機及其曝光劑量控制方法
本發明涉及光刻機領域，特別涉及一種快門裝置及其控制方法、光刻機及其曝光劑量控制方法。
光刻技術是用於在基板表面上印刷具有特徵的構圖，經常使用的基板包括表面塗有光敏感介質的半導體晶片或玻璃基片，在光刻過程中，晶片放在晶片台上，藉由處在光刻設備內的曝光裝置，將特徵構圖投射到晶片表面。
光刻機的一個重要指標是曝光劑量，對於曝光劑量的精確控制直接影響著一台光刻機的刻蝕精度。
現有中低端光刻機的曝光系統採用高壓汞燈作為光源，曝光開始、結束由光路中的機械快門控制，曝光劑量大小由曝光時間確定，具體過程如下：首先藉由預熱和環境控制使高壓汞燈輸出光功率達到穩定；接著，計算曝光時間，打開快門開始曝光，同步計時開始；最後，時間到，關閉快門，曝光結束。
應用於曝光的快門機械形式根據快門葉片運動形式主要分為旋轉式快門及直線式快門，快門運動控制方式主要包含開環式控制及閉環式控制。
習知技術中揭示了雙葉片旋轉式直驅方式的快門，運動主體為永久磁鐵，採用改變線圈組內部電流方向產生磁場方向變化，吸附永久磁鐵直線 運動，但對速度未有明確體現。習知技術中還公開了一種電磁直線運動驅動結構，但該結構的應用工況為相機領域，通光孔徑直徑小於10mm，且相機工況的光強能量較低，並不適用於光刻機。
習知技術中還提出一種採用旋轉馬達作為驅動的單葉片的旋轉式快門，並採用閉環控制進行曝光開閉位置控制，快門最小開閉時間(從快門開始打開到完全關閉所需的最小時間)在150ms-170ms之間，在光源輻照強度為2000mW/cm2的工況下，採用該旋轉式快門可實現的最小曝光劑量為300mj，但是，此快門面臨的主要問題如下：(1)對於小於300mj的製程劑量需要藉由照度衰減結構的能量衰減方式實現小劑量曝光；(2)由於開閉時間的限制，小劑量曝光產率存在比較明顯劣勢；(3)由於照度衰減機構的存在以及快門開閉速度的限制，導致單位時間內光源利用率降低。
本發明提供一種快門裝置及其控制方法、光刻機及其曝光劑量控制方法，以減小快門開閉時間，提高小劑量曝光產率並提高光源利用率。
為解決上述技術問題，本發明提供一種快門裝置，包括：擋光單元和音圈馬達，其中，所述音圈馬達包括永磁模塊、驅動導軌模塊和線圈結構，所述線圈結構設置在所述驅動導軌模塊上，所述永磁模塊在所述驅動導軌模塊內部產生磁場，所述擋光單元包括兩個快門葉片，所述快門葉片與所述線圈結構連接，所述線圈結構通電後產生與所述驅動導軌模塊磁場方向相反或相同的 磁場，使所述線圈結構沿所述驅動導軌模塊正向或反向運動，帶動兩個快門葉片打開或關閉。
較佳地，所述永磁模塊包括對稱佈置的兩組永久磁鐵組，每組永久磁鐵組包括兩塊永久磁鐵，所述驅動導軌模塊設於所述兩塊永久磁鐵之間，所述線圈結構包括兩個線圈，一個線圈連接一個快門葉片且對應一組永久磁鐵組。
較佳地，所述驅動導軌模塊採用鐵芯。
較佳地，所述驅動導軌模塊為弧形或者半圓形。
較佳地，所述兩個快門葉片剪刀式鉸接，且兩個快門葉片之間在關閉狀態下存在重疊。
較佳地，所述快門葉片採用鋁製葉片。
較佳地，所述快門葉片表面經過黑色陽極氧化方法處理。
較佳地，所述快門裝置還包括罩設在音圈馬達和擋光單元外部的罩殼，所述罩殼上與擋光單元對應位置處開設有通光孔。
較佳地，所述罩殼上設有冷卻氣入口，用於通入壓縮空氣對所述音圈馬達和擋光單元進行冷卻。
較佳地，所述快門葉片的直徑大於所述通光孔的直徑。
較佳地，所述快門葉片與所述線圈結構之間還設置有軸承轉軸組件。
較佳地，所述軸承轉軸組件包括：軸承座、安裝在所述軸承座上的轉軸、設在所述轉軸上的軸承以及與所述軸承配合的軸套，所述快門葉片套設在所述轉軸上並與線圈結構連接。
較佳地，所述轉軸與所述軸承之間、所述軸承與所述軸套之間過渡配合。
較佳地，所述軸承採用雙深溝球軸承。
較佳地，所述快門裝置還包括位置探測器和位置探測片，所述位置探測器安裝在所述軸承座上，所述位置探測片安裝在所述軸套上且相對於快門葉片具有固定的位置。
較佳地，所述快門葉片的重心靠近所述轉軸的中心，且偏向於快門葉片的圓弧形邊緣一側。
較佳地，所述永磁模塊和驅動導軌模塊安裝固定在軸承座上。
本發明還提供如上所述的快門裝置的控制方法，包括：根據所需的光斑大小確定音圈馬達的輸出力；根據音圈馬達的輸出力確定由控制板卡向線圈結構輸出的電流，其中，所述控制板卡向線圈結構輸出正方向電流可控制快門葉片加速，所述控制板卡向線圈結構輸出反方向電流可控制快門葉片減速，藉由打開加速、打開減速、關閉加速和關閉減速四個速率控制階段實現所述快門葉片的開閉，同時設定快門葉片處於打開加速、打開減速、關閉加速和關閉減速狀態時的通電時間。
較佳地，所述方法還包括由所述控制板卡向線圈結構輸出遠小於控制快門葉片加速的正向電流及控制快門葉片減速的反向電流的電流，使快門葉片處於靜止狀態。
較佳地，根據所需的光斑大小確定音圈馬達的輸出力包括：根據所需的光斑大小確定單個快門葉片的旋轉行程，根據該旋轉行程計算開閉過程中快門葉片所需的推力，進而確定音圈馬達的輸出力。
較佳地，所述方法還包括：優化所述控制板卡向線圈結構輸出的電流峰值，對所述快門葉片進行S型速度曲線控制。
本發明還提供一種包括上述快門裝置的光刻機。
本發明還提供一種應用於所述的光刻機的曝光劑量控制方法，包括：接收曝光劑量指令，根據所述曝光劑量確定所述音圈馬達的輸出力，根據所述音圈馬達的輸出力確定控制板卡向線圈結構輸出的電流和通電時間，其中，所述控制板卡向線圈結構輸出正向電流使所述快門裝置進行打開加速動作，加速結束後所述控制板卡向線圈結構輸出反向電流使所述快門裝置進行打開減速動作；減速電流結束後，所述線圈結構控制板卡輸出保持電流進入等待階段；根據能量時間積分判定條件等待關閉命令下發，關閉命令下發後，所述控制板卡向線圈結構輸出正向電流使所述快門裝置進行關閉加速動作，加速結束後所述控制板卡向線圈結構輸出反向電流使得所述快門裝置進行關閉減速動作，從而完成單次曝光劑量控制過程。
與習知技術相比，本發明具有以下優點：本發明藉由採用兩組快門葉片配合，可以減小快門葉片行程；另一方面採用可以提供大扭矩的音圈馬達，兩者配合，使得本發明的光刻機曝光快門裝置可以實現以下技術指標：單葉片開閉角度達20°，通光直徑為40mm，最小開閉時間為28.4ms，大大提高了快門葉片的開閉時間，而且單個快門葉片的驅動平均功率15.3W；照度工況2500mW/cm2，快門葉片處光功率為170W時的最小曝光劑量為80mj，小劑量曝光產率至少提升了3倍，無需使用照度衰減機構，提高了單位時間內的光源利用率。
100‧‧‧音圈馬達
110‧‧‧永磁模塊
111‧‧‧永久磁鐵
120‧‧‧驅動導軌模塊
130‧‧‧線圈
140‧‧‧安裝座
200‧‧‧快門葉片
300‧‧‧軸承轉軸組件
310‧‧‧軸承座
320‧‧‧轉軸
330‧‧‧軸承
340‧‧‧軸套
350‧‧‧位置探測片
400‧‧‧位置探測器
500‧‧‧罩殼
510‧‧‧通光孔
1101、1102‧‧‧永久磁鐵組
C‧‧‧重心
d‧‧‧重疊寬度
I1‧‧‧正方向電流
I2‧‧‧反向電流
R‧‧‧兩快門葉片重合後的半徑
r‧‧‧通光孔的半徑
t1、t2、t3、t4‧‧‧通電時間
第1圖為本發明實施例1中快門裝置的結構示意圖。
第2圖為本發明實施例1中音圈馬達的結構示意圖。
第3圖為本發明實施例1中軸承轉軸組件的結構示意圖。
第4圖為本發明實施例1中快門葉片質心位置示意圖。
第5圖為本發明實施例1中快門葉片與罩殼之間的位置關係圖。
第6圖為本發明實施例1中快門葉片速率控制示意圖。
第7圖為本發明實施例1中快門裝置的開環電流控制原理示意圖。
第8圖為本發明實施例1中光刻機曝光過程能量探測示意圖。
第9圖為本發明實施例2中快門葉片優化速率控制示意圖。
為使本發明的上述目的、特徵和優點能夠更加明顯易懂，下面結合附圖對本發明的具體實施方式做詳細的說明，需說明的是，本發明圖式均採用簡化的形式且均使用非精準的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本發明實施例的目的。
實施例1
如第1至5圖所示，本發明的光刻機曝光快門裝置，包括：罩殼500、設置在所述罩殼500內的擋光單元、軸承轉軸組件300、音圈馬達100以及位置探測模塊，罩殼500也即是光刻機曝光快門裝置的總體外形尺寸例如為160mm×50mm×200mm，其中，所述擋光單元包括兩個快門葉片200，所述音圈 馬達100藉由所述軸承轉軸組件300控制所述快門葉片200動作，使所述快門葉片200繞轉軸320旋轉。
請重點參照第1至2圖，所述音圈馬達100包括：永磁模塊110、驅動導軌模塊120和線圈結構，其中，所述永磁模塊110包括：對稱佈置的兩組永久磁鐵組1101、1102，每組永久磁鐵組中包含兩塊永久磁鐵111，所述驅動導軌模塊120採用鐵芯，該鐵芯貫穿兩組永久磁鐵組1101、1102並設置在兩塊永久磁鐵111之間，所述線圈結構包括兩個線圈130，所述兩個線圈130設置在所述鐵芯上並與對應的快門葉片200連接，具體地，一組永久磁鐵組對應一個線圈130，一個線圈130連接一個快門葉片200，4個永久磁鐵111組成的兩組永久磁鐵組1101、1102在鐵芯內部產生順鐵芯方向的磁場，線圈130通電後，線圈130的磁場方向與鐵芯內部磁場方向相反或相同，藉由改變線圈130內電流的方向，便可以控制線圈130在鐵芯上進行加減速運動。
所述音圈馬達100還包括安裝座140，用於固定永久磁鐵組1101、1102及驅動導軌模塊120，需要說明的是，所述驅動導軌模塊120為弧形或者半圓形，本實施例將所述安裝座140和所述永磁模塊110也對應設置為弧形或半圓形，便於驅動所述兩組快門葉片200動作，因此，本實施例的圖2僅用作對音圈馬達100結構的輔助說明，不應對音圈馬達100的具體形狀做約束限定。
請重點參照第1和3圖，所述軸承轉軸組件300包括：軸承座310、安裝在所述軸承座310上的轉軸320、設在所述轉軸320上的軸承330以及與所述軸承330過渡配合的軸套340，兩個快門葉片200套在轉軸320上後與各自對應的線圈130連接，套在轉軸320上的快門葉片200依次通過軸承330、軸套340安裝在軸承座310上，所述轉軸320與所述軸承330之間、所述軸承330與軸套 340之間均採用過渡配合，可以極大程度減小快門葉片200的軸向擺動量，較佳地，所述永磁模塊110和驅動導軌模塊120安裝固定在軸承座310上，如第1圖所示。
較佳地，所述軸承330採用雙深溝球軸承，與採用單軸承結構相比，可以有效減小軸承座310與轉軸320高速運動過程中的晃動。
如第5圖所示，所述罩殼500上與擋光單元也即是快門葉片200對應的位置處開設有通光孔510，且所述罩殼500上設有冷卻氣入口，藉由該冷卻氣入口通入小流量的壓縮空氣，對線圈130和快門葉片200進行散熱處理，規避了由於熱影響導致線圈130內部電流不穩的風險，同時提高了快門葉片200的長期可靠性，為了進一步保證快門葉片200的耐熱性，本發明採用散熱係數較耐熱不銹鋼更優、轉動慣量更小的鋁製葉片，該鋁製葉片與上述的小流量壓縮空氣輔助配合，實現快門葉片200的冷卻散熱。
請參照第1至5圖，本發明的兩個快門葉片200採用剪刀式鉸接方式連接，進一步的，在未曝光狀態下，為有效減小兩快門葉片200之間的縫隙帶來的散射光和反射光進入照明系統中，兩個快門葉片200存在重疊，具體為，當快門葉片200的間隙(第1圖中垂直紙面方向的距離)為2mm時，設計重疊寬度(第1圖中以d表示)為8mm，增加了雜光在兩個快門葉片200之間的反射次數，進一步的，該快門葉片200需要採用硬質黑色陽極氧化方法進行處理，使快門葉片200的表面反射率小於6%，可以有效吸收雜散光；同時控制快門葉片200與罩殼500之間的間距2mm，並使得快門葉片200的直徑較通光孔510的孔徑單邊4mm，從而減小罩殼500上通光孔510的邊緣散射光影響。 如第1圖所示，通光孔510的半徑為r，兩快門葉片重合後的半徑為R，則要求R-r4mm。
較佳地，如第4圖所示，所述快門葉片200的重心C位於所述快門葉片200上轉軸320的下方，且偏向於快門葉片200圓弧側，使得快門葉片200的重力距大於軸承330的摩擦阻力距，使得快門葉片200在異常斷電狀態下，可以自行處於關閉擋光狀態，避免紫外光長時間光照對工件台或矽片造成影響。
較佳地，所述位置探測模塊包括位置探測器400和位置探測片350，位置探測器400有兩個，分別安裝在轉軸320兩側的所述軸承座310上，位置探測片350有兩個，均安裝在兩個快門葉片200中任意一個快門葉片200連接的軸套340上，兩個位置探測片350跟隨快門葉片200轉動而轉動，位置探測器400與位置探測片350的位置一一對應，用於識別快門葉片200的打開和關閉，本實施例中，如第1圖所示，兩個位置探測片350均安裝在圖中顯示的左邊的快門葉片200的軸套340上，兩個快門葉片200為關閉狀態時，右邊的位置探測器400可探測到右邊的位置探測片350的位置，並由右邊的位置探測器400反饋信號狀態‘1’，左邊的位置探測器400不可探測到左邊的位置探測片350的位置，因而左邊的位置探測器400反饋信號狀態‘0’，兩個位置探測器400組合反饋信號為‘10’，表示兩個所述快門葉片200為關閉狀態，同理，當兩個快門葉片200打開時，左邊的快門葉片200順時針轉動，右邊的快門葉片200逆時針轉動，同時兩個位置探測片350也相應地沿順時針轉動，使得右邊的位置探測片350脫離右邊的位置探測器，使得右邊的位置探測器400不可探測到右邊的位置探測片350，右邊的位置探測器400反饋信號狀態‘0’，左邊的位置探測器400 可探測到左邊的位置探測片350，左邊的位置探測器400反饋信號狀態‘1’，兩個位置探測器400反饋信號為‘01’，表示兩個快門葉片200為打開狀態，以上描述的僅為位置探測器400與位置探測片350的一種示意性設置位置及開閉狀態探測方法，該領域具有通常知識者容易理解的是，第1圖中左右兩個位置探測片350的設置位置也可互換，即兩個位置探測片350均安裝在圖中顯示的右邊的快門葉片200的軸套340上，兩個快門葉片200關閉狀態下，左邊的位置探測器400能夠探測到左邊的位置探測片350，右邊的位置探測器無法探測到右邊的位置探測片350；在兩個快門葉片200打開狀態下，則剛好相反，此外，也可以採用狀態‘0’來表示探測到位置探測片350，採用狀態‘1’來表示未探測到位置探測片350，除了以上描述的方式之外，還可以採用其它位置設置方式及開閉狀態探測方式來實現本發明，凡事根據位置探測器400與位置探測片350之間的探測狀態來反映快門葉片開閉狀態的實施方式均屬本申請的保護範圍。
由上可知，本實施例藉由採用兩個快門葉片200配合，可以減小快門葉片200的行程；另一方面採用可以提供大扭矩的音圈馬達100，兩者配合，使得本發明的光刻機曝光快門裝置可以實現以下技術指標：單個快門葉片200的開閉角度達20°，通光直徑為40mm，單個快門葉片200的驅動平均功率15.3W時，最小開閉時間達28.4ms，藉由縮小工作行程的方式大大減小了開閉時間；光源輻照強度為2500mW/cm2的工況下，快門葉片200處，光功率為170W時的最小曝光劑量為80mj，與習知技術相比，小劑量曝光產率至少提升了3倍，無需使用照度衰減機構，提高了單位時間內的光源利用率。
如第6圖所示，為本發明的光刻機曝光快門裝置的打開、關閉運動示意圖，即快門葉片的速率控制示意圖，其運動形式主要包括打開加速過程、打開減速過程、關閉加速過程和關閉減速過程。
參照第1至第5圖，本發明還提供一種光刻機曝光快門裝置的控制方法，本發明對快門裝置進行開環電流控制，具體包括：首先，根據曝光時所需的光斑大小來確定單個快門葉片200的旋轉行程，根據該旋轉行程計算開閉過程中快門葉片200所需的推力，進而確定音圈馬達100的輸出力，具體通過以下公式實現：L=0.5．ξ．t2...............................公式1
M=J．ξ...............................公式2
M=F．1...............................公式3
其中，L為單個快門葉片200的旋轉行程，最小開閉需求時間t為30ms(即，期望快門從開始打開到完全關閉的最小時間t不超過30ms)，單個快門葉片200的轉動慣量J為0.000042Kg．m2；M為轉動力矩大小，ξ為快門葉片200的角速度，l是線圈130的力臂長度。
由下述公式計算快門裝置開閉過程中，單個快門葉片200所需的推力F大小，即音圈馬達100的輸出力F大小：
另，考慮到摩擦力等因素，確定音圈馬達100的輸出力F大小為14N。
根據音圈馬達100的輸出力確定線圈130中所需通入的電流方向及大小，並可藉由控制板卡(未圖示)輸出相應的電流給線圈130，其中快門葉片狀態為靜止時，控制板卡輸出正方向電流I1時，快門葉片200打開，控制板 卡輸出反向電流I2時則快門葉片200關閉；在快門葉片200打開或關閉過程中，控制板卡輸出正方向電流I1時，快門葉片200處於打開加速或關閉加速過程，控制板卡輸出反向電流I2時，快門葉片200處於打開減速或關閉減速過程，同時設定快門葉片200處於打開加速、打開減速、關閉加速和關閉減速狀態時的通電時間t1、t2、t3和t4的大小，進而控制快門裝置的打開過程和關閉過程，當然，t1+t2+t3+t430ms，如第7圖所示，無動作時，控制板卡的輸出電流遠小於正、反向電流，使快門葉片200處於靜止狀態。
通過上述方式獲得的快門裝置的電氣參數主要包含：單個線圈130的電阻<6Ω，線圈130內電流<5A，功率<22W。
如第8圖所示，為曝光過程能量探測示意圖，快門劑量曝光控制流程包括：接收曝光劑量指令，控制板卡輸出正、反向電流使光刻機曝光快門裝置依次進行打開加速、打開減速動作；減速電流結束後，控制板卡輸出保持電流進入等待階段，所述保持電流指遠小於正、反向電流，使快門葉片200處於靜止狀態(圖中所示為保持於打開狀態)；根據能量時間積分判定條件等待關閉命令下發，關閉命令下發後，控制板卡輸出正、反向電流使得快門葉片200進行關閉加速、關閉減速動作。
實施例2
當光刻機曝光快門裝置的電功率小於20W時，可以藉由優化控制板卡的輸出電流的峰值，提高快門葉片200的開閉速度，實現在光源輻照強度為為3000mW/cm2的工況下，最小開閉時間達20ms，藉由比較第9圖和第6圖可發現，本實施例與實施例1的區別在於，本實施例在實施例1的基礎上，對控制板卡進行了優化，對擋光單元，即快門葉片200，進行S型速度曲線控制，如 此可以減小快門葉片200在打開位置及關閉位置的振動頻率及幅值，進而更加有效保證曝光劑量的精度及重複性。
顯然，該領域具有通常知識者可以對發明進行各種改動和變型而不脫離本發明的精神和範圍，這樣，倘若本發明的這些修改和變型屬本發明申請專利範圍及其等同技術的範圍之內，則本發明也意圖包括這些改動和變型在內。

Claims (14)

  1. 一種快門裝置的控制方法，該快門裝置包括擋光單元和音圈馬達，其中該音圈馬達包括永磁模塊、驅動導軌模塊和線圈結構，該線圈結構設置在該驅動導軌模塊上，該永磁模塊在該驅動導軌模塊內部產生磁場，該擋光單元包括兩個快門葉片，該快門葉片與該線圈結構連接，該線圈結構通電後產生與該驅動導軌模塊磁場方向相反或相同的磁場，使該線圈結構沿該驅動導軌模塊正向或反向運動，帶動該兩個快門葉片打開或關閉，該控制方法包括：根據所需的光斑大小確定該音圈馬達的輸出力；根據該音圈馬達的輸出力確定由控制板卡向該線圈結構輸出的電流，其中，該控制板卡向該線圈結構輸出正方向電流可控制該快門葉片加速，該控制板卡向該線圈結構輸出反方向電流可控制該快門葉片減速，藉由打開加速、打開減速、關閉加速和關閉減速四個速率控制階段實現該快門葉片的開閉，同時設定該快門葉片處於打開加速、打開減速、關閉加速和關閉減速狀態時的通電時間。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之控制方法，其進一步包括由該控制板卡向該線圈結構輸出遠小於控制該快門葉片加速的正向電流及控制該快門葉片減速的反向電流的電流，使該快門葉片處於靜止狀態。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之控制方法，其中，根據所需的光斑大小確定該音圈馬達的輸出力包括：根據所需的光斑大小確定單個快門葉片的旋轉行程，根據該旋轉行程計算開閉過程中該快門葉片所需的推力，進而確定該音圈馬達的輸出力。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之控制方法，其進一步包括：優化該控制板卡向該線圈結構輸出的電流峰值，對該快門葉片進行S型速度曲線控制。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之控制方法，其中，該永磁模塊包括對稱佈置的兩組永久磁鐵組，每組永久磁鐵組包括兩塊永久磁鐵，該驅動導軌模塊設於該兩塊永久磁鐵之間，該線圈結構包括兩個線圈，一個線圈連接一個快門葉片且對應一組永久磁鐵組。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之控制方法，其中，該驅動導軌模塊為弧形或者半圓形。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之控制方法，其中，該兩個快門葉片剪刀式鉸接，且該兩個快門葉片之間在關閉狀態下存在重疊。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之控制方法，其中，該快門裝置還包括罩設在該音圈馬達和該擋光單元外部的罩殼，該罩殼上與該擋光單元對應位置處開設有通光孔。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之控制方法，其中，該罩殼上設有冷卻氣入口，用於通入壓縮空氣對該音圈馬達和該擋光單元進行冷卻。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之控制方法，其中，該快門葉片與該線圈結構之間還設置有軸承轉軸組件。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之控制方法，其中，該軸承轉軸組件包括：軸承座、安裝在該軸承座上的轉軸、設在該轉軸上的軸承以及與該軸承配合的軸套，該快門葉片套設在該轉軸上並與該線圈結構連接。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之控制方法，其中，該快門裝置還包括位置探測器和位置探測片，該位置探測器安裝在該軸承座上，該位置探測片安裝在該軸套上且相對於該快門葉片具有固定的位置。
  13. 如申請專利範圍第11項所述之控制方法，其中，該快門葉片的重心靠近該轉軸的中心，且偏向於該快門葉片的圓弧形邊緣一側。
  14. 一種曝光劑量控制方法，應用如申請專利範圍第1至13項所述之快門裝置的控制方法，該曝光劑量控制方法包括：接收曝光劑量指令，根據該曝光劑量確定該音圈馬達的輸出力，根據該音圈馬達的輸出力確定控制板卡向該線圈結構輸出的電流和通電時間，其中，該控制板卡向該線圈結構輸出正向電流使該快門裝置進行打開加速動作，加速結束後該控制板卡向該線圈結構輸出反向電流使該快門裝置進行打開減速動作；減速電流結束後，該控制板卡向該線圈結構輸出保持電流進入等待階段；根據能量時間積分判定條件等待關閉命令下發，關閉命令下發後，該控制板卡向該線圈結構輸出正向電流使該快門裝置進行關閉加速動作，加速結束後該控制板卡向該線圈結構輸出反向電流使得該快門裝置進行關閉減速動作，從而完成單次曝光劑量控制過程。
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