JPH08262736A - 自動アパーチャ装置 - Google Patents
自動アパーチャ装置Info
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- JPH08262736A JPH08262736A JP8044727A JP4472796A JPH08262736A JP H08262736 A JPH08262736 A JP H08262736A JP 8044727 A JP8044727 A JP 8044727A JP 4472796 A JP4472796 A JP 4472796A JP H08262736 A JPH08262736 A JP H08262736A
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- Japan
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- axis
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/005—Diaphragms
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- Optics & Photonics (AREA)
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- Power Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Diaphragms For Cameras (AREA)
- Control Of Exposure In Printing And Copying (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 新規なコヒーレンスファクター調節用の自動
アパーチャ装置を提供する。 【解決手段】 本発明によるコヒーレンスファクター調
節用の自動アパーチャ装置は絞りアパーチャ及び前記ア
パーチャを自動に調節する駆動モータを具備する。前記
駆動モータは絞りアパーチャの中心をＸ軸及びＹ軸に微
細運動させるＸ及びＹ駆動モータと、絞りアパーチャの
半径を調節するための調節用モータとよりなる。アパー
チャを自動に調節させることにより、その半径を連続的
に可変させることができ、アパーチャの中心自体がＸ軸
及びＹ軸に微細運動するので、いずれのステッパの光軸
にも微細な整列が可能である。
アパーチャ装置を提供する。 【解決手段】 本発明によるコヒーレンスファクター調
節用の自動アパーチャ装置は絞りアパーチャ及び前記ア
パーチャを自動に調節する駆動モータを具備する。前記
駆動モータは絞りアパーチャの中心をＸ軸及びＹ軸に微
細運動させるＸ及びＹ駆動モータと、絞りアパーチャの
半径を調節するための調節用モータとよりなる。アパー
チャを自動に調節させることにより、その半径を連続的
に可変させることができ、アパーチャの中心自体がＸ軸
及びＹ軸に微細運動するので、いずれのステッパの光軸
にも微細な整列が可能である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置のリソグ
ラフィ工程に使用されるステッパのコヒーレンスファク
ターを自動的に調節するための自動アパーチャ(Auto-Ap
erture)装置に関する。
ラフィ工程に使用されるステッパのコヒーレンスファク
ターを自動的に調節するための自動アパーチャ(Auto-Ap
erture)装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体リソグラフィ工程の分解能及び焦
点の深度（ＤＯＦ：Depth of focus）はコヒーレンスフ
ァクターσにより異なる。ここで、コヒーレンスファク
ターσは、 σ＝ｌｄ／ＮＡ の関係にある。ここで、ｌｄは集光レンズにより投影レ
ンズの入口のひとみ上に結ばれる光学イメージの直径で
あり、ＮＡは投影レンズの開口数である。
点の深度（ＤＯＦ：Depth of focus）はコヒーレンスフ
ァクターσにより異なる。ここで、コヒーレンスファク
ターσは、 σ＝ｌｄ／ＮＡ の関係にある。ここで、ｌｄは集光レンズにより投影レ
ンズの入口のひとみ上に結ばれる光学イメージの直径で
あり、ＮＡは投影レンズの開口数である。
【０００３】分解能を向上させるため、最近注目の的と
なる変形照明方法と位相反転マスクなどを使用するため
には、それぞれの特性に合わせてコヒーレンスファクタ
ファクターσを調節して光の干渉性を調節しなければな
らない。
なる変形照明方法と位相反転マスクなどを使用するため
には、それぞれの特性に合わせてコヒーレンスファクタ
ファクターσを調節して光の干渉性を調節しなければな
らない。
【０００４】一般に、ステッパの実質的な光源の役割を
果たす蠅目レンズにより焦点が結ばれるので、コヒーレ
ンスファクターσはステッパ内の蠅目レンズの前方に位
置しているアパーチャにより調節される。
果たす蠅目レンズにより焦点が結ばれるので、コヒーレ
ンスファクターσはステッパ内の蠅目レンズの前方に位
置しているアパーチャにより調節される。
【０００５】図１は従来のアパーチャの装着方式により
発生する問題を説明するための図面であり、参照符号１
０はアパーチャを、２０は蠅目レンズをそれぞれ示す。
発生する問題を説明するための図面であり、参照符号１
０はアパーチャを、２０は蠅目レンズをそれぞれ示す。
【０００６】図１を参照すれば、従来の技術の問題点は
ステッパの光軸“ａ”とアパーチャ軸“ｂ”との微細な
整列機能がないので、照明の均一度が劣化しやすい。
ステッパの光軸“ａ”とアパーチャ軸“ｂ”との微細な
整列機能がないので、照明の均一度が劣化しやすい。
【０００７】最近、ステッパのコヒーレンスファクター
σを調節するためにプレート型と輪型のアパーチャが開
発された。
σを調節するためにプレート型と輪型のアパーチャが開
発された。
【０００８】図２Ａはプレート型のアパーチャを示した
ものであって、アパーチャプレート１２には多様な大き
さのアパーチャ１０を設け、これをアパーチャマウント
１４に着脱自在にする方式である。
ものであって、アパーチャプレート１２には多様な大き
さのアパーチャ１０を設け、これをアパーチャマウント
１４に着脱自在にする方式である。
【０００９】図２Ｂは輪型のアパーチャを示したもので
あって、多様な大きさのアパーチャの形成されたホイー
ルを回転させて所望のアパーチャを使用する方式であ
る。
あって、多様な大きさのアパーチャの形成されたホイー
ルを回転させて所望のアパーチャを使用する方式であ
る。
【００１０】しかしながら、前記方式はハードウエアが
予め備えられるべきなので、開発の時点に前記方式のア
パーチャが設けられない装備にそのアパーチャを設ける
ことは困難である。
予め備えられるべきなので、開発の時点に前記方式のア
パーチャが設けられない装備にそのアパーチャを設ける
ことは困難である。
【００１１】下記の表１は従来のアパーチャを設けたス
テッパで測定された照明の均一度を示す。ここで、“ノ
ーマル”はステッパにアパーチャを設けないサンプルで
ある。“ギャップ”は蠅目レンズとアパーチャとの間隔
を示し、“ａｎｇ．”は蠅目レンズを通過した光の発散
によりアパーチャの側壁で光のバラツキを無くすための
アパーチャの角度を示す。
テッパで測定された照明の均一度を示す。ここで、“ノ
ーマル”はステッパにアパーチャを設けないサンプルで
ある。“ギャップ”は蠅目レンズとアパーチャとの間隔
を示し、“ａｎｇ．”は蠅目レンズを通過した光の発散
によりアパーチャの側壁で光のバラツキを無くすための
アパーチャの角度を示す。
【００１２】
【表１】 前記表からわかるように、従来のアパーチャによれば、
前記アパーチャの装着により発生する陰影効果とバラツ
キ光の影響により光軸がずれて照明の均一度が劣化す
る。
前記アパーチャの装着により発生する陰影効果とバラツ
キ光の影響により光軸がずれて照明の均一度が劣化す
る。
【００１３】特に、量産工程の場合、初期にステッパを
設けた後、多様な環境的な影響により光軸が変わるの
で、アパーチャの中心位置もその変化に合わせて微細整
列を周期的に行わなければならない。このような機能を
従来のアパーチャは有していない。また、従来のアパー
チャは大きさにも制限があるという短所がある。
設けた後、多様な環境的な影響により光軸が変わるの
で、アパーチャの中心位置もその変化に合わせて微細整
列を周期的に行わなければならない。このような機能を
従来のアパーチャは有していない。また、従来のアパー
チャは大きさにも制限があるという短所がある。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は前述し
た従来のアパーチャの問題点を解決しうるコヒーレンス
ファクター調節用自動アパーチャ装置を提供するにあ
る。
た従来のアパーチャの問題点を解決しうるコヒーレンス
ファクター調節用自動アパーチャ装置を提供するにあ
る。
【００１５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の本発明はステッパのコヒーレンスファクターを調節す
るためのアパーチャ装置において、その半径及び中心が
外力により可変する絞りアパーチャ(iris aperture)
と、前記絞りアパーチャの半径及び中心を自動に調節す
るための駆動手段をそれぞれ具備することを特徴とす
る。
の本発明はステッパのコヒーレンスファクターを調節す
るためのアパーチャ装置において、その半径及び中心が
外力により可変する絞りアパーチャ(iris aperture)
と、前記絞りアパーチャの半径及び中心を自動に調節す
るための駆動手段をそれぞれ具備することを特徴とす
る。
【００１６】望ましくは、前記絞りアパーチャの半径を
調節するための駆動手段はステップモータからなる半径
調節モータと、該半径調節モータの駆動力に直線運動す
るボルト／ナットより構成されることを特徴とする。
調節するための駆動手段はステップモータからなる半径
調節モータと、該半径調節モータの駆動力に直線運動す
るボルト／ナットより構成されることを特徴とする。
【００１７】また、前記絞りアパーチャの半径を微細に
調節するために、前記半径調節モータと該モータ軸に連
結されたプーリを使用することを特徴とすることが最も
望ましい。
調節するために、前記半径調節モータと該モータ軸に連
結されたプーリを使用することを特徴とすることが最も
望ましい。
【００１８】望ましくは、前記絞りアパーチャの中心を
可変させるための駆動手段は前記アパーチャ中心のＸ軸
座標を微細に調節するためのＸ軸駆動モータ及び前記ア
パーチャ中心のＹ軸座標を微細に調節させるＹ軸駆動モ
ータを具備することを特徴とする。
可変させるための駆動手段は前記アパーチャ中心のＸ軸
座標を微細に調節するためのＸ軸駆動モータ及び前記ア
パーチャ中心のＹ軸座標を微細に調節させるＹ軸駆動モ
ータを具備することを特徴とする。
【００１９】さらに望ましくは、前記絞りアパーチャの
中心座標がスライディング方式で駆動されるように前記
Ｘ軸及びＹ軸駆動モータにそれぞれ連結されたＸ軸ガイ
ド及びＹ軸ガイドをさらに含むことを特徴とする。
中心座標がスライディング方式で駆動されるように前記
Ｘ軸及びＹ軸駆動モータにそれぞれ連結されたＸ軸ガイ
ド及びＹ軸ガイドをさらに含むことを特徴とする。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、添付した図面に基づき本発
明を詳細に説明する。
明を詳細に説明する。
【００２１】図３は本発明による絞りアパーチャを用い
たステッパの概略図であり、参照符号２００は蠅目レン
ズを、１００は前記蠅目レンズ２００の前方に位置しモ
ータにより駆動される絞りアパーチャを、３００はステ
ッパ内のビーム分割器を、そして、４００はエネルギー
モニターシステムをそれぞれ示す。参照符号１２０，１
３０，１４０は図４に後述されるステップモータであ
る。
たステッパの概略図であり、参照符号２００は蠅目レン
ズを、１００は前記蠅目レンズ２００の前方に位置しモ
ータにより駆動される絞りアパーチャを、３００はステ
ッパ内のビーム分割器を、そして、４００はエネルギー
モニターシステムをそれぞれ示す。参照符号１２０，１
３０，１４０は図４に後述されるステップモータであ
る。
【００２２】図３に示したように、本発明の自動アパー
チャ装置は既存のステッパ内にいずれの変形も加えず、
容易に設けることができる。
チャ装置は既存のステッパ内にいずれの変形も加えず、
容易に設けることができる。
【００２３】次の本発明の一実施例によりガイドスライ
ディング方式を採択した自動アパーチャ装置を図４の詳
細図に基づき説明する。
ディング方式を採択した自動アパーチャ装置を図４の詳
細図に基づき説明する。
【００２４】図４を参照すれば、本発明の自動アパーチ
ャ装置は、その半径及び中心が外力により可変されうる
絞りアパーチャ１００及び前記絞りアパーチャ１００を
自動的に調節するために外部から提供される三つの駆動
手段より構成されている。
ャ装置は、その半径及び中心が外力により可変されうる
絞りアパーチャ１００及び前記絞りアパーチャ１００を
自動的に調節するために外部から提供される三つの駆動
手段より構成されている。
【００２５】前記駆動手段は、絞りアパーチャ１１０の
半径を調節するための半径調節モータ１２０と、該モー
タ１２０により直線運動をするボルト／ナット１２５
と、絞りアパーチャ１１０の中心をＸ軸及びＹ軸に微細
に運動させるＸ軸及びＹ軸駆動モータ１３０，１４０と
より構成される。
半径を調節するための半径調節モータ１２０と、該モー
タ１２０により直線運動をするボルト／ナット１２５
と、絞りアパーチャ１１０の中心をＸ軸及びＹ軸に微細
に運動させるＸ軸及びＹ軸駆動モータ１３０，１４０と
より構成される。
【００２６】本実施例では前記Ｘ軸及びＹ軸駆動モータ
１３０，１４０により絞りアパーチャ１１０の中心がそ
れぞれ連結されたガイド１３５，１４５に沿ってスライ
ディング方式で運動することができる。
１３０，１４０により絞りアパーチャ１１０の中心がそ
れぞれ連結されたガイド１３５，１４５に沿ってスライ
ディング方式で運動することができる。
【００２７】本発明のコヒーレンスファクター調節用自
動アパーチャ装置によれば、前記Ｘ軸駆動モータ１３０
及びＹ軸駆動モータ１４０を用いて絞りアパーチャ１１
０の中心を微細に移動させて前記アパーチャ１１０の軸
をステッパの光軸に整列することができる。この際、Ｘ
軸及びＹ軸駆動モータ１３０，１４０はＸ軸ガイド１３
５及びＹ軸ガイド１４５によりスライディング方式で運
動する。かつ、絞りアパーチャ１１０の半径は、前記ア
パーチャの中心運動方法と同様に、半径調節用モータ１
２０及びボルト／ナット１２５により連続的に調整され
る。
動アパーチャ装置によれば、前記Ｘ軸駆動モータ１３０
及びＹ軸駆動モータ１４０を用いて絞りアパーチャ１１
０の中心を微細に移動させて前記アパーチャ１１０の軸
をステッパの光軸に整列することができる。この際、Ｘ
軸及びＹ軸駆動モータ１３０，１４０はＸ軸ガイド１３
５及びＹ軸ガイド１４５によりスライディング方式で運
動する。かつ、絞りアパーチャ１１０の半径は、前記ア
パーチャの中心運動方法と同様に、半径調節用モータ１
２０及びボルト／ナット１２５により連続的に調整され
る。
【００２８】前記半径調節用モータ１２０、Ｘ軸駆動モ
ータ１３０及びＹ軸駆動モータ１４０はステップモータ
より構成されうる。
ータ１３０及びＹ軸駆動モータ１４０はステップモータ
より構成されうる。
【００２９】前述した本発明の一実施例によれば、直線
運動力を発生させるモータを用いて絞りアパーチャの半
径を調節するので、前記半径の可変領域が限られる。
運動力を発生させるモータを用いて絞りアパーチャの半
径を調節するので、前記半径の可変領域が限られる。
【００３０】図５は本発明の他の実施例によるコヒーレ
ンスファクター調節用自動アパーチャ装置の詳細図であ
り、絞りアパーチャ１１０の半径の可変範囲を拡大させ
たものである。すなわち、半径調節用モータ軸にプーリ
２２０を連結して絞りアパーチャ１１０の半径を調節
し、Ｘ軸駆動モータ１３０及びＹ軸駆動モータ１４０に
より絞りアパーチャ１１０の中心座標を微細に運動させ
る。
ンスファクター調節用自動アパーチャ装置の詳細図であ
り、絞りアパーチャ１１０の半径の可変範囲を拡大させ
たものである。すなわち、半径調節用モータ軸にプーリ
２２０を連結して絞りアパーチャ１１０の半径を調節
し、Ｘ軸駆動モータ１３０及びＹ軸駆動モータ１４０に
より絞りアパーチャ１１０の中心座標を微細に運動させ
る。
【００３１】前述した本発明の他の実施例によれば、絞
りアパーチャ１１０の半径をモータとプーリ２２０を用
いて調節するので、前記半径の調節に制限はない。
りアパーチャ１１０の半径をモータとプーリ２２０を用
いて調節するので、前記半径の調節に制限はない。
【００３２】図示しないが、前述した自動アパーチャ装
置を制御しうる制御器を別途に設けることもできる。
置を制御しうる制御器を別途に設けることもできる。
【００３３】次の表２は本発明による自動アパーチャ装
置及び従来のアパーチャをそれぞれステッパに設けた後
に測定した照明の均一度の結果を示す。
置及び従来のアパーチャをそれぞれステッパに設けた後
に測定した照明の均一度の結果を示す。
【００３４】
【表２】 前記表からわかるように、本発明による自動アパーチャ
装置の場合、光の均一度が従来のアパーチャ装置を装着
した場合よりはるかに向上された。
装置の場合、光の均一度が従来のアパーチャ装置を装着
した場合よりはるかに向上された。
【００３５】これは本発明の自動アパーチャが従来のア
パーチャの機能とは異なり、アパーチャ半径の変化とア
パーチャ中心の微細な調整が可能なので、いずれの状態
のステッパにも光軸に対する微細整列が可能であること
がわかる。
パーチャの機能とは異なり、アパーチャ半径の変化とア
パーチャ中心の微細な調整が可能なので、いずれの状態
のステッパにも光軸に対する微細整列が可能であること
がわかる。
【００３６】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明によるコ
ヒーレンスファクター調節用の自動アパーチャ装置によ
れば、絞りアパーチャを自動に駆動させることにより、
その半径を連続的に可変させることができ、かつ、アパ
ーチャの中心自体がＸ軸及びＹ軸に微細に移動するの
で、いずれのステッパの光軸にも微細整列が可能であ
る。
ヒーレンスファクター調節用の自動アパーチャ装置によ
れば、絞りアパーチャを自動に駆動させることにより、
その半径を連続的に可変させることができ、かつ、アパ
ーチャの中心自体がＸ軸及びＹ軸に微細に移動するの
で、いずれのステッパの光軸にも微細整列が可能であ
る。
【００３７】また、本発明の自動アパーチャ装置は既存
に製作されたステッパにも別途の装置なしに容易に設け
ることができ、アパーチャの大きさにより別途のアパー
チャを装着すべき従来の方法とは異なり、アパーチャの
半径を連続的に可変させることができる。
に製作されたステッパにも別途の装置なしに容易に設け
ることができ、アパーチャの大きさにより別途のアパー
チャを装着すべき従来の方法とは異なり、アパーチャの
半径を連続的に可変させることができる。
【００３８】本発明は前記の実施例に限定されず、多く
の変形が本発明の技術的な思想内で当分野での通常の知
識を持つ者なら可能なのは明白である。
の変形が本発明の技術的な思想内で当分野での通常の知
識を持つ者なら可能なのは明白である。
【図１】 従来のアパーチャ方式により発生する問題を
説明するための図面である。
説明するための図面である。
【図２】 （Ａ）はコヒーレンスファクターを調節する
ための従来のプレート型アパーチャを説明するための図
面であり、（Ｂ）はコヒーレンスファクターを調節する
ための従来の輪型アパーチャを説明するための図面であ
る。
ための従来のプレート型アパーチャを説明するための図
面であり、（Ｂ）はコヒーレンスファクターを調節する
ための従来の輪型アパーチャを説明するための図面であ
る。
【図３】 本発明による絞りアパーチャを使用したステ
ッパの概略図である。
ッパの概略図である。
【図４】 本発明の一実施例によるコヒーレンスファク
ター調節用の自動アパーチャ装置の詳細図である。
ター調節用の自動アパーチャ装置の詳細図である。
【図５】 本発明の他の実施例によるコヒーレンスファ
クター調節用の自動アパーチャ装置の詳細図である。
クター調節用の自動アパーチャ装置の詳細図である。
１０ アパーチャ、１２，１４ アパーチャマウント、
２０ 蝿目レンズ、１００ アパーチャ、１２０，１３
０，１４０ ステップモータ、２００ 蝿目レンズ、３
００ ビーム分割器、４００ エネルギーモニターシス
テム
２０ 蝿目レンズ、１００ アパーチャ、１２０，１３
０，１４０ ステップモータ、２００ 蝿目レンズ、３
００ ビーム分割器、４００ エネルギーモニターシス
テム
Claims (7)
- 【請求項１】 ステッパのコヒーレンスファクターを調
節するためのアパーチャにおいて、 その半径及び中心が外力により可変する絞りアパーチャ
と、 前記絞りアパーチャの半径及び中心を自動に調節するた
めの駆動手段をそれぞれ具備することを特徴とするコヒ
ーレンスファクター調節用自動アパーチャ装置。 - 【請求項２】 前記絞りアパーチャの半径を調節するた
めの駆動手段はステップモータからなる半径調節モータ
より構成されることを特徴とする請求項１に記載の自動
アパーチャ装置。 - 【請求項３】 前記半径調節モータの駆動力により直線
運動するボルト／ナットをさらに具備することを特徴と
する請求項２に記載の自動アパーチャ装置。 - 【請求項４】 前記絞りアパーチャの半径を微細に調節
するための駆動手段として半径調節モータ及び該モータ
軸に連結されたプーリを使用することを特徴とする請求
項１に記載の自動アパーチャ装置。 - 【請求項５】 前記絞りアパーチャの中心を可変させる
ための駆動手段は前記アパーチャ中心のＸ軸座標を微細
に調節するためのＸ軸駆動モータ及び前記アパーチャ中
心のＹ軸座標を微細に調節させるＹ軸駆動モータを具備
することを特徴とする請求項１に記載の自動アパーチャ
装置。 - 【請求項６】 前記絞りアパーチャの中心座標がスライ
ディング方式で駆動されるように前記Ｘ軸及びＹ軸駆動
モータにそれぞれ連結されたＸ軸ガイド及びＹ軸ガイド
をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の自動ア
パーチャ装置。 - 【請求項７】 前記Ｘ軸及びＹ軸駆動モータはそれぞれ
一つのステップモータより構成されることを特徴とする
請求項５に記載の自動アパーチャ装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950004379A KR960035759A (ko) | 1995-03-03 | 1995-03-03 | 코히어런스 팩터 조절용 기구 및 그 조절방법 |
| KR1995-P-004379 | 1995-03-03 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08262736A true JPH08262736A (ja) | 1996-10-11 |
Family
ID=19409184
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8044727A Pending JPH08262736A (ja) | 1995-03-03 | 1996-03-01 | 自動アパーチャ装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0730204A1 (ja) |
| JP (1) | JPH08262736A (ja) |
| KR (1) | KR960035759A (ja) |
| CN (1) | CN1159602A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100512383C (zh) * | 2006-12-13 | 2009-07-08 | 中国科学院光电技术研究所 | 扩大ccd电视摄像系统调光范围的装置 |
| CN102121985B (zh) * | 2010-12-23 | 2012-09-05 | 福建福特科光电股份有限公司 | 激光雷达测距系统接收模块中的二次光路聚焦结构 |
| CN102096333B (zh) * | 2010-12-27 | 2012-11-21 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种可变矩形窗调节机构 |
| EP2677363A1 (en) * | 2012-06-20 | 2013-12-25 | bioMérieux | An optical device including a camera, a diaphragm and illumination means |
| US20140184621A1 (en) * | 2012-12-28 | 2014-07-03 | Pixtronix, Inc. | Display apparatus including dual actuation axis electromechanical systems light modulators |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4316189A (en) * | 1980-05-08 | 1982-02-16 | Westinghouse Electric Corp. | Electromechanical display apparatus |
| JP2699433B2 (ja) * | 1988-08-12 | 1998-01-19 | 株式会社ニコン | 投影型露光装置及び投影露光方法 |
| JP2893778B2 (ja) * | 1990-01-17 | 1999-05-24 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
| DE9110927U1 (ja) * | 1991-09-03 | 1991-12-19 | Max-Planck-Gesellschaft Zur Foerderung Der Wissenschaften Ev, 3400 Goettingen, De |
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1995
- 1995-03-03 KR KR1019950004379A patent/KR960035759A/ko not_active Application Discontinuation
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1996
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- 1996-03-01 CN CN96105524A patent/CN1159602A/zh active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| EP0730204A1 (en) | 1996-09-04 |
| CN1159602A (zh) | 1997-09-17 |
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