TWI631668B - 氮化物半導體結構 - Google Patents

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Abstract

一種氮化物半導體結構，包括基板、氮化物半導體層以 及位於基板以及氮化物半導體層之間的緩衝疊層。所述緩衝疊層包括重複堆疊的多個金屬氮化物複合層，其中每個金屬氮化物複合層是依序由第一、第二以及第三金屬氮化物薄膜所組成或者依序由第一、第三、第二以及第三金屬氮化物薄膜所組成。所述第一金屬氮化物薄膜的鋁濃度大於第三金屬氮化物薄膜的鋁濃度，且第三金屬氮化物薄膜的鋁濃度大於第二金屬氮化物薄膜的鋁濃度。

Description

氮化物半導體結構
本發明是有關於一種半導體結構，且特別是有關於一種氮化物半導體結構。
以氮化鎵為基底的化合物形成的半導體元件由於具有高耐熱性、高崩潰電壓(breakdown voltage)、高電子飽和速度、高電流密度，其可以在高頻率下運作、並提供較高的功率，因此不論在汽車電子、電源管理系統、照明、工業設備、可攜式產品、通信設備、消費類電子產品內都具有極高的發展潛力。
然而，現有用以成長含氮半導體的基板例如是藍寶石基板，其晶格大小並無法與氮化鎵的晶格匹配，因此在成長含氮半導體時容易形成缺陷或裂痕，進而無法製作良好的含氮半導體。另一方面，現有的特製基板的晶格大小雖然可以與氮化鎵的晶格大小匹配，但其價格極高，進而會導致含氮半導體裝置的整體製程不符成本。因此，如何在普遍使用的基板上成長良好的含氮半導體元件仍是人們欲解決的主要課題之一。
本發明提供一種氮化物半導體結構，其具有良好的晶格品質。
本發明的氮化物半導體結構包括基板、氮化物半導體層以及位於基板以及氮化物半導體層之間的緩衝疊層。所述緩衝疊層包括重複堆疊的多個金屬氮化物複合層，其中每個金屬氮化物複合層是依序由第一、第二以及第三金屬氮化物薄膜所組成。第一金屬氮化物薄膜的鋁濃度大於第三金屬氮化物薄膜的鋁濃度，且第三金屬氮化物薄膜的鋁濃度大於第二金屬氮化物薄膜的鋁濃度。
本發明的另一種氮化物半導體結構包括基板、氮化物半導體層以及位於基板以及氮化物半導體層之間的緩衝疊層。所述緩衝疊層包括重複堆疊的多個金屬氮化物複合層，其中每個金屬氮化物複合層是依序由第一、第三、第二以及第三金屬氮化物薄膜所組成。第一金屬氮化物薄膜的鋁濃度大於第三金屬氮化物薄膜的鋁濃度，且第三金屬氮化物薄膜的鋁濃度大於第二金屬氮化物薄膜的鋁濃度。
在本發明的各個實施例中，上述第二金屬氮化物薄膜包括氮化鋁鎵、氮化鎵、氮化鋁銦或氮化鋁銦鎵；上述第一金屬氮化物薄膜包括氮化鋁、氮化鋁銦、氮化鋁鎵或氮化鋁銦鎵；上述第三金屬氮化物薄膜包括氮化鋁鎵、氮化鋁銦或氮化鋁銦鎵。
在本發明的各個實施例中，上述第一金屬氮化物薄膜的 厚度在1000nm以下、上述第二金屬氮化物薄膜的厚度在1000nm以下、上述第三金屬氮化物薄膜的厚度在1000nm以下。
在本發明的各個實施例中，上述第一、第二、第三金屬氮化物薄膜各自具有一致的鋁濃度。
在本發明的各個實施例中，上述第一、第二、第三金屬氮化物薄膜各自具有不同的鋁濃度。
在本發明的各個實施例中，上述第一、第二、第三金屬氮化物薄膜的鋁濃度各自是以線性、指數型或曲線型變化。
在本發明的各個實施例中，上述緩衝疊層含有2至200層的所述金屬氮化物複合層。
在本發明的各個實施例中，上述基板的材料包括矽。
在本發明的各個實施例中，上述氮化物半導體結構還可包括磊晶層，位在基板以及緩衝疊層之間。
在本發明的各個實施例中，上述磊晶層包括氮化鋁層或者氮化鋁加氮化鋁鎵的疊層。
基於上述，本發明在基板以及氮化物半導體層之間設有緩衝疊層，且緩衝疊層包括重複堆疊的多個金屬氮化物複合層，且這些金屬氮化物複合層都有具備特定鋁濃度變化的多層金屬氮化物薄膜，所以能大幅改善基板以及氮化物半導體層之間晶格不匹配的問題。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
100‧‧‧基板
102‧‧‧緩衝疊層
104‧‧‧氮化物半導體層
200‧‧‧金屬氮化物複合層
202‧‧‧第一金屬氮化物薄膜
204‧‧‧第二金屬氮化物薄膜
206、300‧‧‧第三金屬氮化物薄膜
T、t1、t2、t3‧‧‧厚度
圖1是依照本發明的一實施例的一種氮化物半導體結構的示意圖。
圖2是圖1的區域A的局部放大示意圖。
圖3是依照本發明的另一實施例的一種氮化物半導體結構的局部放大示意圖。
本發明的實施例的氮化物半導體結構例如是一種半導體功率元件(power device)或發光元件(light emitting device)，本發明並不限於上述這些應用領域。
圖1是依照本發明的一實施例的一種氮化物半導體結構的示意圖。
請參照圖1，本實施例的氮化物半導體結構包括基板100、緩衝疊層102與氮化物半導體層104。緩衝疊層102是位於基板100及氮化物半導體層104之間，用以改善基板100以及氮化物半導體層104之間晶格不匹配的問題。所述氮化物半導體層104例如是由多個半導體層形成，其中包括有第一型摻雜半導體層、第二型摻雜半導體層以及主動層等，且氮化物半導體層104的材料例如是由氮化鎵(GaN)與氮化鋁鎵(AlGaN)所形成。基板100 例如是材料包含矽的矽基板，且基板100提供(111)結晶面供緩衝疊層102成長。所述緩衝疊層102包括重複堆疊的多個金屬氮化物複合層，且緩衝疊層102連接基板100以及氮化物半導體層104。
圖2是圖1的區域A的局部放大示意圖。在圖2中顯示的是緩衝疊層102中的金屬氮化物複合層200，且每個金屬氮化物複合層200是依序由第一金屬氮化物薄膜202、第二金屬氮化物薄膜204以及第三金屬氮化物薄膜206所組成。也就是說，在每個個金屬氮化物複合層200中，第一金屬氮化物薄膜202較其他兩層靠近基板100，第三金屬氮化物薄膜206則遠離基板100，而第二金屬氮化物薄膜204位於第一金屬氮化物薄膜202和第三金屬氮化物薄膜206之間。在本實施例中，第一金屬氮化物薄膜202的鋁濃度大於第三金屬氮化物薄膜206的鋁濃度，且第三金屬氮化物薄膜206的鋁濃度大於第二金屬氮化物薄膜204的鋁濃度。上述第二金屬氮化物薄膜204例如氮化鋁鎵、氮化鎵、氮化鋁銦、氮化鋁銦鎵等。上述第一金屬氮化物薄膜202例如氮化鋁、氮化鋁銦、氮化鋁鎵、氮化鋁銦鎵等。上述第三金屬氮化物薄膜206例如氮化鋁鎵、氮化鋁銦、氮化鋁銦鎵等。
如上所述，由於本實施例的氮化物半導體結構具有緩衝疊層102配置於基板100以及氮化物半導體層104之間，且緩衝疊層102包括多個金屬氮化物複合層200，這些金屬氮化物複合層200如圖2所示各自包括三個金屬氮化物薄膜202、204、206，且這三個金屬氮化物薄膜202、204、206的鋁濃度自基板100往氮 化物半導體層104依序呈現高濃度、低濃度、中濃度，因此可以適度的調整晶格大小供氮化物半導體層104成長。
具體來說，在本實施例中，第一金屬氮化物薄膜202、第二金屬氮化物薄膜204以及第三金屬氮化物薄膜206各自具有一致的鋁濃度，但本發明不限於此。在本發明的其他實施例中，上述的第一金屬氮化物薄膜202、第二金屬氮化物薄膜204以及第三金屬氮化物薄膜206各自的鋁濃度可以是以線性變化、指數型變化或曲線型變化的方式沿厚度方向分佈。
請再度參照圖2，本實施例的第一金屬氮化物薄膜202的厚度t1、第二金屬氮化物薄膜204的厚度t2以及第三金屬氮化物薄膜206的厚度t3均在1000nm以下。因此，單一層金屬氮化物複合層200的厚度T不會超過3000nm。至於緩衝疊層102中所含的金屬氮化物複合層200的數量，例如落在2層至100層的範圍內，但本發明不限於此。此外，在基板100及緩衝疊層102之間還可包括一層磊晶層(未繪示)，例如氮化鋁(AlN)層或者氮化鋁加氮化鋁鎵(AlGaN)的疊層。
本實施例的緩衝疊層102例如是以有機金屬化學氣相沈積法(Metal-organic Chemical Vapor Deposition,MOCVD)形成。以氮化鋁銦鎵為例，若是基板100為矽基板，可在MOCVD的反應腔體中將基板100加熱至攝氏1100度以上以去除表面上的氧化物，接著通入氨(Ammonia,NH3)、三甲基鋁(Trimethylaluminum,TMAl)來成長磊晶層，再通入NH3、H2、N2、三甲基鎵 (Trimethylgallium,TMGa)、TMAl與三甲基銦(Trimethylindium,TMIn)來依序形成第一金屬氮化物薄膜202、第二金屬氮化物薄膜204以及第三金屬氮化物薄膜206(均為氮化鋁銦鎵薄膜)，其中MOCVD腔體的溫度是維持在攝氏950度以上。上述的磊晶層、第一金屬氮化物薄膜202、第二金屬氮化物薄膜204以及第三金屬氮化物薄膜206的厚度可以藉由調整成長的時間來控制。
另一方面，第一金屬氮化物薄膜202、第二金屬氮化物薄膜204以及第三金屬氮化物薄膜206中的鋁濃度變化還可藉由通入的氣體比例來控制，藉以形成具有良好緩衝功能的緩衝疊層102。本實施例的金屬氮化物複合層200是藉由重複進行上述的方法完成的。
圖3是依照本發明的另一實施例的一種氮化物半導體結構的局部放大示意圖，其中採用與圖1~2相同的元件符號來表示相同或近似的元件，並且省略了部分構件與相同技術內容的說明。
請參照圖3，本實施例的氮化物半導體結構包括基板100、氮化物半導體層(未繪出)以及緩衝疊層102。與上一實施例不同處在於，所述緩衝疊層102中的每個金屬氮化物複合層200是依序由第一金屬氮化物薄膜202、第三金屬氮化物薄膜300、第二金屬氮化物薄膜204以及第三金屬氮化物薄膜206所組成。也就是說，在第一金屬氮化物薄膜202與第二金屬氮化物薄膜204之間加設一層第三金屬氮化物薄膜300，其中第一金屬氮化物薄膜202的鋁濃度大於第三金屬氮化物薄膜206與300的鋁濃度，且第 三金屬氮化物薄膜206與300的鋁濃度均大於第二金屬氮化物薄膜204的鋁濃度。上述第三金屬氮化物薄膜206與300可具有相同的鋁濃度；或者具有不同的鋁濃度，但是都小於第一金屬氮化物薄膜202的鋁濃度，且大於第二金屬氮化物薄膜204的鋁濃度。至於其他技術內容，可參考上一實施例，故不再贅述。
綜上所述，本發明的實施例的氮化物半導體結構包括緩衝疊層配置於基板以及氮化物半導體層之間，且緩衝疊層包括多個金屬氮化物複合層，每一個金屬氮化物複合層包括至少三層的金屬氮化物薄膜，且金屬氮化物薄膜的鋁濃度自基板往氮化物半導體層依序呈現“高濃度、低濃度、中濃度”或“高濃度、中濃度、低濃度、中濃度”，因此可以大幅改善基板以及氮化物半導體層之間晶格不匹配的問題。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

Claims (11)

  1. 一種氮化物半導體結構，包括：基板；氮化物半導體層，位於所述基板上；以及緩衝疊層，位於所述基板以及所述氮化物半導體層之間，所述緩衝疊層包括重複堆疊的多數個金屬氮化物複合層，其中每一個所述金屬氮化物複合層是依序由第一金屬氮化物薄膜、第二金屬氮化物薄膜以及第三金屬氮化物薄膜所組成，且所述第一金屬氮化物薄膜的鋁濃度大於所述第三金屬氮化物薄膜的鋁濃度，且所述第三金屬氮化物薄膜的鋁濃度大於所述第二金屬氮化物薄膜的鋁濃度，所述第一金屬氮化物薄膜、所述第二金屬氮化物薄膜、所述第三金屬氮化物薄膜的鋁濃度依序呈現高濃度、低濃度、中濃度。
  2. 一種氮化物半導體結構，包括：基板；氮化物半導體層，位於所述基板上；以及緩衝疊層，位於所述基板以及所述氮化物半導體層之間，所述緩衝疊層包括重複堆疊的多數個金屬氮化物複合層，其中每一個所述金屬氮化物複合層是依序由第一金屬氮化物薄膜、第三金屬氮化物薄膜、第二金屬氮化物薄膜以及第三金屬氮化物薄膜所組成，且所述第一金屬氮化物薄膜的鋁濃度大於所述第三金屬氮化物薄膜的鋁濃度，且所述第三金屬氮化物薄膜的鋁濃度大於所述第二金屬氮化物薄膜的鋁濃度。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的氮化物半導體結構，其中所述第二金屬氮化物薄膜包括氮化鋁鎵、氮化鎵、氮化鋁銦或氮化鋁銦鎵，所述第一金屬氮化物薄膜包括氮化鋁、氮化鋁銦、氮化鋁鎵或氮化鋁銦鎵，所述第三金屬氮化物薄膜包括氮化鋁鎵、氮化鋁銦或氮化鋁銦鎵。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的氮化物半導體結構，其中所述第一金屬氮化物薄膜的厚度在1000nm以下，所述第二金屬氮化物薄膜的厚度在1000nm以下，且所述第三金屬氮化物薄膜的厚度在1000nm以下。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的氮化物半導體結構，其中所述第一金屬氮化物薄膜、所述第二金屬氮化物薄膜、所述第三金屬氮化物薄膜各自具有一致的鋁濃度。
  6. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的氮化物半導體結構，其中所述第一金屬氮化物薄膜、所述第二金屬氮化物薄膜、所述第三金屬氮化物薄膜各自具有不同的鋁濃度。
  7. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的氮化物半導體結構，其中所述第一金屬氮化物薄膜、所述第二金屬氮化物薄膜以及所述第三金屬氮化物薄膜的鋁濃度各自是以線性、指數型或曲線型變化。
  8. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的氮化物半導體結構，其中所述緩衝疊層含有2至200層的所述金屬氮化物複合層。
  9. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的氮化物半導體結構，其中所述基板的材料包括矽。
  10. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的氮化物半導體結構，更包括磊晶層，位於所述基板以及所述緩衝疊層之間。
  11. 如申請專利範圍第10項所述的氮化物半導體結構，其中所述磊晶層包括氮化鋁層或者氮化鋁加氮化鋁鎵的疊層。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3451364B1 (en) * 2017-08-28 2020-02-26 Siltronic AG Heteroepitaxial wafer and method for producing a heteroepitaxial wafer
TWI735212B (zh) * 2020-04-24 2021-08-01 環球晶圓股份有限公司 具有超晶格疊層體的磊晶結構
TWI774596B (zh) * 2021-10-29 2022-08-11 環球晶圓股份有限公司 半導體磊晶結構

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201344804A (zh) * 2012-02-03 2013-11-01 Transphorm Inc 適於具有異質基板的三族氮化物元件的緩衝層結構
CN103515419A (zh) * 2012-06-27 2014-01-15 台湾积体电路制造股份有限公司 用于硅衬底上的iii-v族氮化物层的梯度氮化铝镓和超晶格缓冲层
TW201523704A (zh) * 2013-10-17 2015-06-16 Nanogan Ltd 無裂痕氮化鎵材料
TW201605077A (zh) * 2014-07-17 2016-02-01 漢磊半導體晶圓股份有限公司 氮化物半導體結構

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6649287B2 (en) 2000-12-14 2003-11-18 Nitronex Corporation Gallium nitride materials and methods
US7910937B2 (en) 2005-02-02 2011-03-22 Agency For Science, Technology And Research Method and structure for fabricating III-V nitride layers on silicon substrates
JP5383974B2 (ja) 2006-12-27 2014-01-08 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 半導体基板および半導体装置
US20080296625A1 (en) 2007-06-04 2008-12-04 Sharp Laboratories Of America Inc. Gallium nitride-on-silicon multilayered interface
JP4592742B2 (ja) 2007-12-27 2010-12-08 Ｄｏｗａエレクトロニクス株式会社 半導体材料、半導体材料の製造方法及び半導体素子
JP5634681B2 (ja) 2009-03-26 2014-12-03 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 半導体素子
GB2485418B (en) * 2010-11-15 2014-10-01 Dandan Zhu Semiconductor materials
JP5781292B2 (ja) 2010-11-16 2015-09-16 ローム株式会社 窒化物半導体素子および窒化物半導体パッケージ
JP2012146908A (ja) * 2011-01-14 2012-08-02 Sanken Electric Co Ltd 半導体ウェハ及び半導体装置
US9112077B1 (en) 2014-04-28 2015-08-18 Industrial Technology Research Institute Semiconductor structure
TWI602248B (zh) 2016-08-31 2017-10-11 聯鈞光電股份有限公司 氮化物半導體結構

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201344804A (zh) * 2012-02-03 2013-11-01 Transphorm Inc 適於具有異質基板的三族氮化物元件的緩衝層結構
CN103515419A (zh) * 2012-06-27 2014-01-15 台湾积体电路制造股份有限公司 用于硅衬底上的iii-v族氮化物层的梯度氮化铝镓和超晶格缓冲层
TW201523704A (zh) * 2013-10-17 2015-06-16 Nanogan Ltd 無裂痕氮化鎵材料
TW201605077A (zh) * 2014-07-17 2016-02-01 漢磊半導體晶圓股份有限公司 氮化物半導體結構

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