TWI599620B - Phthalocyanine compounds, near-infrared absorbing pigments, and near-infrared absorbing materials - Google Patents

Phthalocyanine compounds, near-infrared absorbing pigments, and near-infrared absorbing materials Download PDF

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Description

酞菁化合物、近紅外線吸收色素及近紅外線吸收材料
本發明係關於在近紅外線領域具有吸收能力之新穎酞菁化合物、及其製造方法。
於近紅外線領域具有吸收能力之化合物係廣泛利用作為光碟等之光記錄媒體之記錄層，或利用作為因墨化而能以近紅外線檢測機讀取之近紅外線吸收墨。又，該化合物亦可與黏合劑樹脂組合而塗料化且塗覆於塑膠或玻璃上，或亦可與樹脂混練而使用作為近紅外線吸收濾器。
此般於近紅外線領域具有吸收能力之化合物已知悉有酞菁系化合物。例如，專利文獻1中作為於有機溶劑中之溶解性優異且於近紅外領域具有吸收極大之化合物，則揭示一種具有特定構造之酞菁系化合物。然而，該化合物在耐光性及耐熱性上並不充分。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開平11-269399號公報
本發明之課題在於提供一種於800~1200nm之近紅外線波長領域具有吸收能力，且耐光性及耐熱性優異之酞菁化合物、其製造方法及該化合物之用途。
本發明者等，有鑑於上述之課題經過重複精心研究之結果，成功地開發具有特定構造之新穎酞菁化合物，並發現該酞菁化合物在耐光性及耐熱性上優異，故可解決本發明之課題。本發明即係基於此種知識見解所完成者。
即，本發明在於提供下述所示之酞菁化合物、其製造方法及該化合物之用途以及製造該酞菁化合物用之新穎中間體及其製造方法。
項1. 一種一般式(1)所表示之酞菁化合物；
(式中，X1、X2及X3係相同或相異地表示氧原子或硫原子。R1及R2係相同或相異地表示亦可具有取代基之芳基或亦可具有取代基之雜芳基。R3表示氫原子或亦可具有取代基之烷基，M表示2個之氫原子、2價之金屬或3價或4價之金屬化合物。)。
項2. 一種酞菁化合物，其係由一般式(1a)~(1d)所表示之至少1種所構成者；
(式中，X1、X2及X3係相同或相異地表示氧原子或硫原子。R1及R2係相同或相異地表示亦可具有取代基之芳基或亦可具有取代基之雜芳基。R3表示氫原子或亦可具有取代基之烷基，M表示2個之氫原子、2價之金屬或3價或4價之金屬化合物。)。
項3. 如項1或2之化合物，其中R1及R2為相同或相異之亦可具有取代基之芳基。
項4. 如項1~3中任一項之化合物，其中M為Cu、Zn、Co、Ni、Pd、Pb、MnOH、AlCl、FeCl、InCl、SnCl2、VO或TiO。
項5. 一種一般式(1)所表示之酞菁化合物之製造方法，其係使一般式(2)所表之化合物，與金屬或無機或有機金屬化合物，在鹼之存在下進行反應之方法；
(式中，X1、X2及X3係相同或相異地表示氧原子或硫原子。R1及R2係相同或相異地表示亦可具有取代基之芳基或亦可具有取代基之雜芳基。R3表示氫原子或亦可具有取代基之烷基，M表示2個之氫原子、2價之金屬或3價或4價之金屬化合物。)
(式中，X1、X2、X3、R1、R2及R3係與前述相同)。
項6. 一種一般式(2)所表示之化合物；
(式中，X1、X2及X3係相同或相異地表示氧原子或硫原子。R1及R2係相同或相異地表示亦可具有取代基之芳基或亦可具有取代基之雜芳基。R3表示氫原子或亦可具有取代基之烷基。)。
項7. 一種一般式(2)所表示之化合物之製造方法，其係包含使一般式(3)所表示之化合物與下述化合物(b)在鹼之存在下進行反應之步驟、及因應必要使前述步驟中取得之化合物與下述化合物(c)在鹼之存在下進行反應之步驟的方法；
(式中，X1、X2及X3係相同或相異地表示氧原子或硫原子。R1及R2係相同或相異地表示亦可具有取代基之芳基或亦可具有取代基之雜芳基。R3表示氫原子或亦可具有取代基之烷基。)
(式中，X2、X3及R2係與前述相同。)
【化8】R 1 X 1 H (b)
(式中，R1、X1係與前述相同。)
【化9】R 4 -Y (c)
(式中，R4表示亦可具有取代基之烷基，Y表示脫離基。)。
項8. 一種酞菁化合物，其係藉由如項5之方法所製造。
項9. 一種近紅外線吸收色素，其係由如項1~4中任一項之酞菁化合物所構成。
項10. 一種近紅外線吸收材料，其係含有如項1~4中任一項之酞菁化合物。
項11. 一種光熱轉換材料，其係含有如項1~4中任一項之酞菁化合物。
項12. 一種熱線吸收材料，其係含有如項1~4中任一項之酞菁化合物。
本發明之新穎酞菁化合物由於在800~1200nm之近紅外線吸收領域具有吸收能力，且耐光性及耐熱性優異，故可有用作為近紅外線吸收劑，且可適宜使用於近紅外線吸收材料等之各種之用途上。
以下，詳細說明本發明。
1.酞菁化合物
本發明之酞菁化合物為下述一般式(1)所表示之化合物。
(式中，X1、X2及X3為相同或相異地各自表示氧原子或硫原子。R1及R2為相同或相異地各自表示亦可具有取代基之芳基或亦可具有取代基之雜芳基。R3表示氫原子或亦可具有取代基之烷基，M表示2個之氫原子、2價之金屬或3價或4價之金屬化合物。)
上述一般式(1)所表示之酞菁化合物係未記載於文獻中之新穎化合物，於800~1200nm之近紅外線波長領域具有吸收能力，且耐光性及耐熱性優異，故係可有用作為近紅外線吸收劑之化合物。
更詳言之，本發明之酞菁化合物係由下述一般式(1a)~(1d)所表示之至少1種所構成。
(式中、X1、X2、X3、R1、R2、R3、M係與前述相同。)
作為R1及R2所示之芳基，例如可舉出單環、多環(例如，2環或3環)之芳基。具體地可舉出如苯基、萘基、蒽基、菲基、茀基等。
作為R1及R2所示之雜芳基，例如可舉出單環、多環(例如，2環或3環)之雜芳基。具體地可舉出如呋喃基、苯并呋喃基、吡啶基、嘧啶基、吡嗪基、嗒嗪基、噻吩基、苯并噻吩基、噁唑基、苯并噁唑基、噻唑 基、苯并噻唑基、吲哚基、咔唑基、吖啶基、咪唑基、苯并咪唑基、喹啉基、異喹啉基等。
作為該芳基或雜芳基上之取代基，例如可舉出烷基、鹵烷基、烷氧基、羥基烷基、烷基硫氧基(alkylthioxy)、烷基胺基、二烷基胺基、鹵素原子、醯基、烷氧基羰基、氰基、硝基等。於芳基上係可具有1~3個該取代基。
作為上述烷基，例如可舉出碳數1~12之直鏈或分枝鏈狀或環狀烷基。具體地可舉出如甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、s-丁基、t-丁基、n-戊基、2-甲基丁基、1-甲基丁基、neo-戊基、1,2-二甲基丙基、1,1-二甲基丙基、環戊基、n-己基、4-甲基戊基、3-甲基戊基、2-甲基戊基、1-甲基戊基、3,3-二甲基丁基、2,3-二甲基丁基、1,3-二甲基丁基、2,2-二甲基丁基、1,2-二甲基丁基、1,1-二甲基丁基、2-乙基丁基、1-乙基丁基、1,1,2-三甲基丙基、1-乙基-2-甲基丙基、環己基、n-庚基、2-甲基己基、3-甲基己基、4-甲基己基、5-甲基己基、2,4-二甲基戊基、n-辛基、2-乙基己基、2,5-二甲基己基、2,4,4-三甲基戊基、2,4-二甲基己基、2,2,4-三甲基戊基、t-辛基、n-壬基、3,5,5-三甲基己基、n-癸基、4-乙基辛基、4-乙基-4,5-二甲基己基、n-十一基、n-十二基、1,3,5,7-四甲基辛基、4-丁基辛基等。較佳為n-丁基、t-丁基、n-己基、n-辛基、2-乙基己基、t-辛基，特佳為t-丁基、t-辛基。尚且，本說明書中，「n-」意指normal、 「s-」意指secondary(sec-)、「t-」意指tertiary(tert-)。
作為上述鹵烷基，例如可舉出碳數1~6之鹵烷基。具體地可舉出如氯甲基、二氯甲基、三氯甲基、氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、三氟乙基、五氟丁基、九氟丁基、十一氟戊基、十三氟己基等。
作為上述烷氧基，例如可舉出碳數1~8之烷氧基。具體地可舉出如甲氧基、乙氧基、n-丙氧基、異丙氧基、n-丁氧基、異丁氧基、s-丁氧基、t-丁氧基、n-戊氧基、異戊氧基、新戊氧基、n-己氧基、環己氧基、n-庚氧基、n-辛氧基、2-乙基己氧基、t-辛氧基等。
作為上述羥基烷基，例如可舉出碳數1~8之羥基烷基。具體地可舉出如羥基甲基、2-羥基乙基、3-羥基丙基、4-羥基丁基、5-羥基戊基、6-羥基己基、7-羥基庚基、8-羥基辛基等。
作為上述烷基硫氧基(alkylthioxy)，例如可舉出碳數1~8之硫烷氧基(thioalkoxy)。具體地可舉出如甲基硫氧基、乙基硫氧基、n-丙基硫氧基、異丙基硫氧基、n-丁基硫氧基、異丁基硫氧基、s-丁基硫氧基、t-丁基硫氧基、n-戊基硫氧基、異戊基硫氧基、新戊基硫氧基、n-己基硫氧基、n-庚基硫氧基、n-辛基硫氧基、2-乙基己基硫氧基、t-辛基硫氧基等。
作為上述烷基胺基，例如可舉出經碳數1~12之直鏈或分枝鏈狀或環狀烷基所取代之胺基。作為烷基胺基之烷基，具體而言可舉出如甲基、乙基、n-丙基、異丙 基、n-丁基、異丁基、s-丁基、t-丁基、n-戊基、2-甲基丁基、1-甲基丁基、新戊基、1,2-二甲基丙基、1,1-二甲基丙基、環戊基、n-己基、4-甲基戊基、3-甲基戊基、2-甲基戊基、1-甲基戊基、3,3-二甲基丁基、2,3-二甲基丁基、1,3-二甲基丁基、2,2-二甲基丁基、1,2-二甲基丁基、1,1-二甲基丁基、2-乙基丁基、1-乙基丁基、1,1,2-三甲基丙基、1-乙基-2-甲基丙基、環己基、n-庚基、2-甲基己基、3-甲基己基、4-甲基己基、5-甲基己基、2,4-二甲基戊基、n-辛基、2-乙基己基、2,5-二甲基己基、2,4,4-三甲基戊基、2,4-二甲基己基、2,2,4-三甲基戊基、t-辛基、n-壬基、3,5,5-三甲基己基、n-癸基、4-乙基辛基、4-乙基-4,5-二甲基己基、n-十一基、n-十二基、1,3,5,7-四甲基辛基、4-丁基辛基等。
作為上述二烷基胺基，例如可舉出、經相同或相異之2個之碳數1~12之直鏈或分枝鏈狀或環狀烷基所取代之胺基。作為二烷基胺基之烷基，具體地可舉出與上述作為烷基胺基之烷基中所舉出者相同之烷基。
作為上述鹵素原子，例如可舉出氟、氯、溴及碘。
作為上述醯基，例如可舉出乙醯基、乙基羰基、三甲基乙醯基、苄醯基等。
作為上述烷氧基羰基，例如可舉出經碳數1~6之烷氧基所取代之羰基。具體地可舉出如甲氧基羰基、乙氧基羰基、n-丙氧基羰基、異丙氧基羰基、n-丁氧基羰 基、異丁氧基羰基、s-丁氧基羰基、t-丁氧基羰基、n-戊氧基羰基、n-己氧基羰基等。
作為R3所示之烷基，例如可舉出碳數1~12之直鏈或分枝鏈狀或環狀烷基。具體地可舉出如甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、異丁基、s-丁基、t-丁基、n-戊基、2-甲基丁基、1-甲基丁基、新戊基、1,2-二甲基丙基、1,1-二甲基丙基、環戊基、n-己基、4-甲基戊基、3-甲基戊基、2-甲基戊基、1-甲基戊基、3,3-二甲基丁基、2,3-二甲基丁基、1,3-二甲基丁基、2,2-二甲基丁基、1,2-二甲基丁基、1,1-二甲基丁基、2-乙基丁基、1-乙基丁基、1,1,2-三甲基丙基、1-乙基-2-甲基丙基、環己基、n-庚基、2-甲基己基、3-甲基己基、4-甲基己基、5-甲基己基、2,4-二甲基戊基、n-辛基、2-乙基己基、2,5-二甲基己基、2,4,4-三甲基戊基、2,4-二甲基己基、2,2,4-三甲基戊基、t-辛基、n-壬基、3,5,5-三甲基己基、n-癸基、4-乙基辛基、4-乙基-4,5-二甲基己基、n-十一基、n-十二基、1,3,5,7-四甲基辛基、4-丁基辛基等。較佳為甲基、乙基、n-丙基、n-丁基、n-戊基、n-己基、2-乙基己基、n-辛基。
作為該烷基上之取代基，例如可舉出鹵素原子、芳基、羥基、烷氧基等。在烷基上亦可具有1~10個該取代基。
作為具有取代基之烷基，具體地可舉出如2-氯乙基、2,2,2-三氟乙基、2,2,3,3,3-五氟丙基、苄基、1- 苯基乙基、2-苯基乙基、4-羥基丁基、2-甲氧基乙基、3-甲氧基丙基、2-異丙氧基乙基等。
作為M所示之2價之金屬，例如可舉出屬於周期表第3族~第15族之金屬原子。具體地可舉出如Cu、Zn、Fe、Co、Ni、Ru、Pb、Rh、Pd、Pt、Mn、Sn、Pb等。
又，作為M所示之3價或4價之金屬化合物，例如可舉出屬於周期表第3族~第15族之金屬之鹵化物、氫氧化物及氧化物等。具體地可舉出如AlCl、AlOH、InCl、FeCl、MnOH、SiCl2、SnCl2、GeCl2、Si(OH)2、Si(OCH3)2、Si(OPh)2、Si(OSiCH3)2、Sn(OH)2、Ge(OH)2、VO、TiO等。
上述一般式(1)或(1a)~(1d)所表示之酞菁化合物中，X1及X2係以至少一者係氧原子為佳，以X1及X2皆係氧原子為更佳。又，X3係以硫原子為佳。又，R1及R2係以相同或相異之亦可具有取代基之芳基為佳。特佳為相同或相異之苯基或萘基。又，從提升溶解性之觀點，該苯基或萘基係以經烷基所取代者為佳。R3係以氫原子為佳，M係以Cu、Zn、Co、Ni、Pd、Pb、MnOH、AlCl、FeCl、InCl、SnCl2、VO或TiO為佳，以VO或Cu為較佳。
2.酞菁化合物之製造方法
本發明之酞菁化合物係如下述反應式-1所示般，可藉 由使化合物(2)、與金屬或無機或有機金屬化合物，在鹼之存在下進行反應而製造。
(式中，X1、X2、X3、R1、R2、R3及M係與前述相同)
上述化合物(2)亦係為未記載於文獻中之新穎化合物，能成為本發明之酞菁化合物之製造原料之有用物質。於下述「3.酞菁化合物製造用中間體及其之製造方法」中說明關於該化合物之製造方法。
作為與上述化合物(2)反應之金屬，例如可舉出屬於周期表第3族~第15族之金屬。具體地可舉出如Al、Si、Ti、V、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ge、Ru、Rh、Pd、In、Sn、Pt、Pb等。
作為無機金屬化合物，例如可舉出上述金屬之鹵化物、羧酸鹽、硫酸鹽、硝酸鹽、氧化物、錯合物 等。具體地可舉出如氯化銅(I)、氯化銅(II)、溴化銅(I)、溴化銅(II)、碘化銅、氯化鎳(II)、溴化鎳(II)、乙酸鎳(II)、氯化鈷(II)、溴化鈷(II)、乙酸鈷(II)、氯化鐵(II)、氯化鐵(III)、氯化鋅、溴化鋅、碘化鋅、乙酸鋅、氯化釩(III)、氧三氯化釩、氯化鈀(II)、乙酸鈀、氯化鋁、氯化錳(II)、乙酸錳(II)、乙酸錳(III)、氯化鉛、乙酸鉛、氯化銦(III)、氯化鈦(III)、氯化鈦(IV)、氯化錫(II)、氯化錫(IV)、氯化釕(III)、氯化鉑(II)、四氯化矽等。
作為有機金屬化合物，例如可舉出上述金屬之羰基化合物。具體地可舉出如乙醯基丙酮錳等。
金屬或無機或有機金屬化合物之使用量，相對於化合物(2)1莫耳而言，通常在0.2莫耳以上即可，較佳為0.25~0.5莫耳。
作為鹼，例如可舉出金屬烷氧化物、二吖雙環十一烯(以下，亦稱為DBU)、二吖雙環壬烯等。
作為金屬烷氧化物，例如可舉出鈉或鉀之甲氧化物、乙氧化物、丙氧化物、丁氧化物、戊氧化物等。具體地可舉出如甲氧化鈉、甲氧化鉀、乙氧化鈉、乙氧化鉀、異丙氧化鈉、異丙氧化鉀、鈉-t-丁氧化物、鉀-t-丁氧化物(以下，亦稱為tBuOK或t-BuOK)等。較佳為鉀-t-丁氧化物或DBU。
鹼係相對於化合物(2)1莫耳而言，通常使用1~3莫耳程度，較佳使用1.2~1.8莫耳程度。
又，上述化合物(2)與金屬或無機或有機金屬 化合物之反應中，因應必要亦可配合例如甲醯胺、氨、脲等作氮源。較佳為甲醯胺。
氮源係相對於化合物(2)1莫耳而言，例如可使用1莫耳以上，較佳使用1~3莫耳程度。
上述化合物(2)與金屬或無機或有機金屬化合物之反應，通常係在溶劑中進行。溶劑只要係該反應為不活性之溶劑，即可廣泛使用公知之溶劑。例如，可舉出芳香族烴類、鹵化烴類、醚類、醇類、胺類、醯胺類、亞碸類、腈類之外，尚可舉出硝基苯等。
作為芳香族烴類，具體地可舉出如茬、甲基萘等。
作為鹵化烴類，具體地可舉出如氯苯、o-二氯苯、三氯苯、氯萘、四氯乙烯、三氯乙烯等。
作為醚類，具體地可舉出如二乙二醇二甲基醚等。
作為醇類，具體地可舉出如n-丙醇、異丙醇、n-丁醇、異丁醇、s-丁醇、t-丁醇、n-己醇(以下，亦稱為HexOH)、n-戊醇、環己醇、2-甲基-1-戊醇、1-庚醇、2-庚醇、1-辛醇、2-乙基己醇、苄基醇、乙二醇、丙二醇、甲氧基乙醇、乙氧基乙醇、丙氧基乙醇、丁氧基乙醇、二甲基胺基乙醇、二乙基胺基乙醇等。
作為胺類，具體地可舉出如三-n-丁基胺等。
作為醯胺類，具體地可舉出如N,N-二甲基甲醯胺(以下，亦稱為DMF)、N,N-二甲基乙醯胺(以下，亦 稱為DMA)、N-甲基吡咯啶酮(以下，亦稱為NMP)、1,3-二甲基咪唑啉酮等。
作為亞碸類，具體地可舉出如環丁碸、二甲基亞碸(以下，亦稱為DMSO)等。
作為腈類，可舉出如苯甲腈等。
此等溶劑可單獨使用1種，或可將2種以上混合使用。較佳為n-戊醇、n-己醇、1-庚醇、1-辛醇。
此等溶劑之使用量係根據使用之化合物之種類等而適宜設定即可，相對於化合物(2)1重量份而言，通常使用1~100重量份程度，較佳使用2~30重量份程度。
該反應係通常在90~240℃，較佳為110~200℃，更佳為120~170℃下施行。
反應時間係根據原料化合物之種類及反應溫度等而相異，雖並無法一概而論，但通常為1~24小時程度。
藉由上述反應而得之化合物係可藉由通常之分離手段而在反應系統內分離，再予以純化。作為該分離及純化手段，可廣泛使用公知之分離及純化手段，例如可舉出再結晶法、溶劑萃取法、管柱色層分析、凝膠層析法、製備層析法等，藉由結晶、過濾、洗淨、乾燥等之先前公知之方法，亦可高效率且高純度地取得酞菁化合物。
3.酞菁化合物製造用中間體及其之製造方法
本發明之上述一般式(2)所表示之製造酞菁化合物用 之中間體之中，下述一般式(2’)所表示之酞菁化合物係例如可藉由以下反應式-2所示之方法而製造。
(式中，X1、X2、X3、R1及R2係與前述相同)
如上述反應式-2所示般，首先使化合物(5)與化合物(a)反應而製造化合物(4)(步驟1)。其次，藉由使步驟1中取得之化合物(4)與化合物(6)反應，並再添加非質子性極性溶劑，而轉換成化合物(3)(步驟2)。並且，使取得之化合物(3)與化合物(b)反應而可製造化合物(2’)(步驟3)。
(步驟1)
化合物(4)通常係在溶劑中且鹼之存在下藉由使化合物(5)與化合物(a)反應而製造者。例如，可使用日本特開平01-045474號公報、日本特開平08-120186號公報中揭示之公知方法，更詳細而言，則如以下所述。
作為化合物(a)，可舉出酚類、萘酚類、硫酚 類等。具體而言，可舉出酚、2-甲基酚、3-甲基酚、4-甲基酚、2,3-二甲基酚、2,4-二甲基酚、2,5-二甲基酚、2,6-二甲基酚、2,3,5-三甲基酚、2,3,6-三甲基酚、2,4,5-三甲基酚、2,4,6-三甲基酚、2-乙基酚、3-乙基酚、4-乙基酚、2,3-二乙基酚、2,4-二乙基酚、2,5-二乙基酚、2,6-二乙基酚、2,3,5-三乙基酚、2,3,6-三乙基酚、2,4,5-三乙基酚、2,4,6-三乙基酚、2-n-丙基酚、3-n-丙基酚、4-n-丙基酚、2,3-二-n-丙基酚、2,4-二-n-丙基酚、2,5-二-n-丙基酚、2,6-二-n-丙基酚、2,3,5-三-n-丙基酚、2,3,6-三-n-丙基酚、2,4,5-三-n-丙基酚、2,4,6-三-n-丙基酚、2-異丙基酚、3-異丙基酚、4-異丙基酚、2,3-二異丙基酚、2,4-二異丙基酚、2,5-二異丙基酚、2,6-二異丙基酚、2,3,5-三異丙基酚、2,3,6-三異丙基酚、2,4,5-三異丙基酚、2,4,6-三異丙基酚、2-n-丁基酚、3-n-丁基酚、4-n-丁基酚、2,3-二-n-丁基酚、2,4-二-n-丁基酚、2,5-二-n-丁基酚、2,6-二-n-丁基酚、2,3,5-三-n-丁基酚、2,3,6-三-n-丁基酚、2,4,5-三-n-丁基酚、2,4,6-三-n-丁基酚、2-s-丁基酚、3-s-丁基酚、4-s-丁基酚、2-異丁基酚、3-異丁基酚、4-異丁基酚、2-t-丁基酚、3-t-丁基酚、4-t-丁基酚、2,3-二-t-丁基酚、2,4-二-t-丁基酚、2,5-二-t-丁基酚、2,6-二-t-丁基酚、2,3,5-三-t-丁基酚、2,3,6-三-t-丁基酚、2,4,5-三-t-丁基酚、2,4,6-三-t-丁基酚、2-n-戊基酚、3-n-戊基酚、4-n-戊基酚、2-t-戊基酚、3-t-戊基酚、4-t-戊基酚、2,4-二-t-戊基酚、2-n-己基酚、3-n-己基酚、4-n-己基酚、4-環己基酚、2-n-庚基 酚、3-n-庚基酚、4-n-庚基酚、2-n-辛基酚、3-n-辛基酚、4-n-辛基酚、2-(2-乙基己基)酚、3-(2-乙基己基)酚、4-(2-乙基己基)酚、2-t-辛基酚、3-t-辛基酚、4-t-辛基酚、2-n-壬基酚、3-n-壬基酚、4-n-壬基酚、2-n-癸基酚、3-n-癸基酚、4-n-癸基酚、2-n-十一基酚、3-n-十一基酚、4-n-十一基酚、2-n-十二基酚、3-n-十二基酚、4-n-十二基酚、2,6-二-t-丁基-4-乙基酚、4-t-丁基-2,6-二異丙基酚、4-s-丁基-2,6-二-t-丁基酚、4-十二基甲酚、2-(二甲基胺基)酚、3-(二甲基胺基)酚、4-(二甲基胺基)酚、2-(二乙基胺基)酚、3-(二乙基胺基)酚、4-(二乙基胺基)酚、2-(二-n-丁基胺基)酚、3-(二-n-丁基胺基)酚、4-(二-n-丁基胺基)酚、1-(4-羥基苯基)哌嗪、8-羥基久咯啶(8-hydroxyjulolidine)、2-(4-羥基苯基)-N,N-二甲基乙基胺、2,4,6-參(二甲基胺基甲基)酚、2-氟酚、3-氟酚、4-氟酚、5-氟酚、6-氟酚、2,3-二氟酚、2,4-二氟酚、2,5-二氟酚、2,6-二氟酚、2,3,5-三氟酚、2,3,6-三氟酚、2,4,5-三氟酚、2,4,6-三氟酚、2-三氟甲基酚、3-三氟甲基酚、4-三氟甲基酚、2-氯酚、3-氯酚、4-氯酚、5-氯酚、6-氯酚、2,3-二氯酚、2,4-二氯酚、2,5-二氯酚、2,6-二氯酚、2,3,5-氯酚、2,3,6-三氯酚、2,4,5-三氯酚、2,4,6-三氯酚、2-硝基酚、3-硝基酚、4-硝基酚、5-硝基酚、6-硝基酚、2,3-二硝基酚、2,4-二硝基酚、2,5-二硝基酚、2,6-二硝基酚、2-氰基酚、3-氰基酚、4-氰基酚、5-氰基酚、6-氰基酚、1-萘酚(α-萘酚)、2-萘酚(β-萘酚)、4-甲氧基-1-萘酚、5-甲氧基-1-萘酚、5-二甲基 胺基-1-萘酚、6-二甲基胺基-1-萘酚、6-氰基-2-萘酚、4-硝基-1-萘酚、苯硫酚、2-硫甲酚、3-硫甲酚、4-硫甲酚、2,3-二甲基苯硫酚、2,4-二甲基苯硫酚、2,5-二甲基苯硫酚、3,4-二甲基苯硫酚、3,5-二甲基苯硫酚、2,3,4-三甲基苯硫酚、2,3,5-三甲基苯硫酚、2,3,6-三甲基苯硫酚、2,4,5-三甲基苯硫酚、2,4,6-三甲基苯硫酚(2,4,6-三甲基硫酚)、2-乙基苯硫酚、3-乙基苯硫酚、4-乙基苯硫酚、2,4,6-三乙基苯硫酚、2-n-丙基苯硫酚、3-n-丙基苯硫酚、4-n-丙基苯硫酚、2-異丙基苯硫酚、3-異丙基苯硫酚、4-異丙基苯硫酚、2-n-丁基苯硫酚、3-n-丁基苯硫酚、4-n-丁基苯硫酚、2-t-丁基苯硫酚、3-t-丁基苯硫酚、4-t-丁基苯硫酚、2,4,6-三-t-丁基苯硫酚、2-n-戊基苯硫酚、3-n-戊基苯硫酚、4-n-戊基苯硫酚、2-t-戊基苯硫酚、3-t-戊基苯硫酚、4-t-戊基苯硫酚、4-n-己基苯硫酚、5-t-丁基-2-甲基苯硫酚2-氟苯硫酚、3-氟苯硫酚、4-氟苯硫酚、2,3-二氟苯硫酚、2,4-二氟苯硫酚、2,5-二氟苯硫酚、3,4-二氟苯硫酚、3,5-二氟苯硫酚、2,3,4-三氟苯硫酚、2,3,5-三氟苯硫酚、2,3,6-三氟苯硫酚、2,4,5-三氟苯硫酚、2,4,6-三氟苯硫酚、2-氯苯硫酚、3-氯苯硫酚、4-氯苯硫酚、2,3-二氯苯硫酚、2,4-二氯苯硫酚、2,5-二氯苯硫酚、3,4-二氯苯硫酚、3,5-二氯苯硫酚、2,3,4-三氯苯硫酚、2,3,5-三氯苯硫酚、2,3,6-三氯苯硫酚、2,4,5-三氯苯硫酚、2,4,6-三氯苯硫酚、2-溴苯硫酚、3-溴苯硫酚、4-溴苯硫酚、2-甲氧基苯硫酚、3-甲氧基苯硫酚、4-甲氧基苯硫酚、3,4-二甲氧 基苯硫酚、2-(甲硫基)苯硫酚、3-(甲硫基)苯硫酚、4-(甲硫基)苯硫酚、1-萘硫醇、2-萘硫醇。又，亦可使用2-巰基-5-甲氧基苯并噻唑、5-羥基吲哚、5-羥基-2-甲基苯并呋喃、8-巰基喹啉等。較佳為2,4,6-三甲基酚、1-萘酚、2-萘酚、2,4,6-三甲基苯硫酚、4-t-辛基酚。
化合物(a)之使用量，通常在相對於化合物(5)而言，則為0.9~2當量，較佳為0.9~1.5當量，更佳為0.95~1.1當量程度。
作為本反應中使用之鹼，例如可舉出鹼性物質等。具體地可舉出如氟化鉀、碳酸鉀、氫氧化鉀、氫氧化鈉等。較佳為氟化鉀、碳酸鉀。
此般鹼之使用量係因應所使用之鹼之種類及其使用量而適宜設定者，通常相對於化合物(5)而言，則設為0.9~3當量，較佳設為1~2當量，更佳設為1~1.3當量程度即可。
作為本反應所使用之溶劑只要係對該反應為不活性溶劑，即可廣泛使用公知之溶劑，但以使用丙酮、乙腈等為理想。
此等溶劑之使用量係根據使用之鹼之種類等而適宜設定即可，通常相對於化合物(5)1重量份而言，使用1~50重量份程度，較佳使用1~20重量份程度，更佳使用1.5~10重量份程度。
本反應通常在-10~40℃，較佳在-5~15℃下進行。
反應時間係根據所使用之鹼之種類、反應溫度等而相異，雖並無法一概而論，但通常在1~12小時程度該反應會完結。
藉由上述反應取得之化合物可藉由通常之分離手段在反應系統內分離，再予以純化。作為該分離及純化手段，例如可適用在上述「2.酞菁化合物之製造方法」中例舉之手段。
(步驟2)
化合物(3)通常係在鹼之存在下，於第一溶劑中使化合物(4)與化合物(6)反應後，藉由再添加與第一溶劑相異之第二溶劑而製造。
化合物(6)為以下一般式(6)：
(式中，X3表示氧原子或硫原子。)
所表示之化合物。亦即，化合物(6)為2-胺基酚或2-胺基硫酚。
化合物(6)之使用量，通常在相對於化合物(4)而言，則為0.8~1.5當量，較佳為0.9~1.3當量，更佳為 0.95~1.2當量程度。
作為本反應中使用之鹼，可使用公知之無機鹼及有機鹼。
作為無機鹼，例如可舉出鹼金屬碳酸鹽、鹼金屬氫氧化物、鹼金屬氫化物、鹼氟化物等。又，作為有機鹼，例如可舉出胺等。
作為鹼金屬碳酸鹽，具體地可舉出如碳酸鈉、碳酸鉀、重碳酸鈉等。
作為鹼金屬氫氧化物，具體地可舉出如氫氧化鈉、氫氧化鉀等。
作為鹼金屬氫化物，具體地可舉出如氫化鈉、氫化鉀等。
作為鹼氟化物，具體地可舉出如氟化鈉、氟化鉀等。
作為胺，具體地可舉出如三乙基胺、二異丙基乙基胺、吡啶等。
此等之鹼係可單獨使用1種或將2種以上混合使用。較佳為碳酸鉀。
此般鹼之使用量係因應所使用之化合物之種類及其使用量而適宜設定即可，通常在相對於化合物(4)而言，則設為1~10當量，較佳設為1~8當量，更佳設為1.2~3.5當量程度即可。
作為本反應中使用之第一溶劑，可廣泛使用對該反應為不活性之非質子性溶劑。可使用例如乙腈、丙 酮、THF、二噁烷等。較佳為乙腈。此等溶劑係可單獨使用1種單獨或將2種以上混合使用。
上述第一溶劑之使用量係根據使用之化合物之種類等而適宜設定即可，通常在相對於化合物(4)1重量份而言，使用0.5~50重量份程度，較佳使用1~30重量份程度，更佳使用1~20重量份程度即可。
作為本反應中使用之第二溶劑，可廣泛使用對該反應為不活性之非質子性溶劑且係與第一溶劑為相異之溶劑。例如，可使用DMSO、DMF、DMA、NMP、環丁碸等。較佳為DMA。此等溶劑係可單獨使用1種單獨或將2種以上混合使用。第二溶劑係在確認前述化合物(6)之消失後進行添加為佳。
上述第二溶劑之使用量係根據使用之化合物之種類等而適宜設定即可，通常相對於化合物(4)1重量份而言，使用0.5~50重量份程度，較佳使用1~30重量份程度，更佳使用1~20重量份程度。
本反應通常係在20~100℃程度，較佳在40~85℃下進行。
反應時間係根據所使用之化合物之種類、反應溫度等而相異，雖並無法一概而論，但第一溶劑下之反應時間為0.1~2小時程度，添加第二溶劑後之反應時間為0.4~10小時程度，步驟2全體通常係在0.5~12小時程度下該反應會完結。
藉由上述反應而得之化合物係可藉由通常之 分離手段在反應系統內分離，再予以純化。作為該分離及純化手段，例如可適用上述「2.酞菁化合物之製造方法」中例舉之手段。
(步驟3)
化合物(2’)通常係藉由在鹼之存在下，於溶劑中使化合物(3)與化合物(b)反應而製造。
作為化合物(b)，可舉出如酚類、萘酚類、硫酚類等。具體而言，可舉出在作為上述化合物(a)中例舉之化合物相同之化合物。
化合物(b)之使用量，通常在相對於化合物(3)而言，則為1~2.5當量，較佳為1.1~2當量，更佳為1.2~1.6當量程度。
作為本反應中使用之鹼，可使用公知之無機鹼及有機鹼。例如，可使用與在上述(步驟2)中例舉之鹼相同者。
上述鹼之使用量係因應所使用之化合物之種類及其使用量而適宜設定者，通常在相對於化合物(3)而言，設為1~10當量，較佳設為1~8當量，更佳設為1.2~3.5當量程度即可。
作為本反應所使用之溶劑，可廣泛使用對該反應為不活性之公知之非質子性極性溶劑。例如可舉出DMA、DMSO等。
上述溶劑之使用量係根據使用之化合物之種 類等而適宜設定即可，通常相對於化合物(3)1重量份而言，使用0.5~50重量份程度，較佳使用1~30重量份程度，更佳使用1~20重量份程度即可。
本反應通常係在20~120℃程度，較佳在40~90℃下進行。
反應時間係根據使用之化合物之種類、反應溫度等而相異，雖並無法一概而論，但通常在0.5~10小時程度下該反應會完結。
藉由上述反應而得之化合物係可藉由通常之分離手段而在反應系統內分離，再予以純化。作為該分離及純化手段，例如可適用在上述「2.酞菁化合物之製造方法」中例舉之手段。
並且，藉由上述反應而得之製造酞菁化合物用之中間體化合物(2’)係例如亦可藉由以下反應式-3所示之方法而轉換成中間體化合物(2”)。
(式中，X1、X2、X3、R1及R2係與前述相同。R4表示亦可具有取代基之烷基，Y表示脫離基。)
化合物(2”)通常係藉由在鹼之存在下，於溶劑中使化合物(2’)與化合物(c)反應而製造。
作為化合物(c)中之R4之亦可具有取代基之烷基，可舉出與上述R3相同者。
作為化合物(c)中之Y之脫離基，例如可舉出鹵素原子、p-甲苯磺醯基、甲烷磺醯基、三氟甲烷磺醯基等。
作為鹵素原子，可舉出氯、溴、碘。
作為化合物(c)，具體地可舉出氯化苄基、溴甲烷、溴乙烷、1-溴丙烷、2-溴丙烷、1-溴丁烷、2-溴丁烷、1-溴-2-甲基丙烷、溴化t-丁基、1-溴戊烷(以下，亦稱為溴化n-戊基或n-AmylBr)、1-溴-2-甲基丁烷、1-溴-3-甲基丁烷、2-溴-2-甲基丁烷、溴環戊烷、1-溴己烷、2-溴己烷、3-溴己烷、1-溴-4-甲基戊烷、1-溴-2-乙基丁烷、溴環己烷、1-溴庚烷、2-溴庚烷、3-溴庚烷、1-溴辛烷、2-溴辛烷、3-溴辛烷、4-溴辛烷、1-溴-2-乙基己烷、1-溴壬烷、1-溴癸烷、1-溴十一烷、1-溴十二烷、溴化2-苯基乙基、溴化3-苯基丙基、溴化4-苯基丁基、溴化5-苯基戊基、1-溴-2-甲氧基乙烷、1-溴-3-甲氧基丙烷、溴化3-(2-甲氧基乙氧基)丙基、2-(2-溴乙基)-1,3-二氧戊烷、4-溴-1-丁醇、5-溴-1-戊醇、6-溴-1-己醇、7-溴-1-庚醇、8-溴-1-辛醇、9-溴-1-壬醇、10-溴-1-癸醇、11-溴-1-十一醇、12- 溴-1-十二醇、碘甲烷、碘乙烷、1-碘丙烷、2-碘丙烷、1-碘丁烷、2-碘丁烷、1-碘-2-甲基丙烷、碘化t-丁基、1-碘戊烷、2-碘戊烷、3-碘戊烷、1-碘-3-甲基丁烷、1-碘-2-甲基丁烷、1-碘己烷、2-碘己烷、3-碘己烷、碘環己烷、1-碘庚烷、1-碘辛烷、1-碘壬烷、1-碘癸烷、1-碘十一烷、1-碘十二烷、三氟甲磺酸甲酯、三氟甲磺酸乙酯、三氟甲磺酸丙酯、三氟甲磺酸丁酯、三氟甲磺酸戊酯、三氟甲磺酸己酯、三氟甲磺酸庚酯、三氟甲磺酸辛酯、三氟甲磺酸2-乙基己酯、三氟甲磺酸壬酯、三氟甲磺酸癸酯、三氟甲磺酸十一酯、三氟甲磺酸十二酯、三氟甲磺酸2,2,2-三氟乙酯、p-甲苯磺酸甲酯、p-甲苯磺酸乙酯、p-甲苯磺酸丙酯、p-甲苯磺酸丁酯、p-甲苯磺戊酯、p-甲苯磺酸-2-甲基丁酯、p-甲苯磺酸己酯、p-甲苯磺酸環己酯、p-甲苯磺酸庚酯、p-甲苯磺酸辛酯、p-甲苯磺酸-2-乙基己酯、p-甲苯磺酸庚酯、p-甲苯磺酸癸酯、p-甲苯磺酸十一酯、p-甲苯磺酸十二酯、p-甲苯磺酸-2-氯乙酯、p-甲苯磺酸-2,2,2-三氟乙酯、p-甲苯磺酸-2,2,3,3,3-五氟丙酯、p-甲苯磺酸-2-甲氧基乙酯、p-甲苯磺酸-2-甲基丁酯、p-甲苯磺酸苯乙酯、甲烷磺酸甲酯、甲烷磺酸乙酯、甲烷磺酸丙酯、甲烷磺酸丁酯、甲烷磺酸戊酯、甲烷磺酸己酯、甲烷磺酸環己酯、甲烷磺酸庚酯、甲烷磺酸辛酯、甲烷磺酸-2-乙基己酯、甲烷磺酸壬酯、甲烷磺酸癸酯、甲烷磺酸十一酯、甲烷磺酸十二酯、甲烷磺酸-2,2,2-三氟乙酯、甲烷磺酸-2-甲氧基乙酯、甲烷磺酸-2-氯乙酯、甲烷磺酸-2-異丙氧基乙 酯等。
化合物(c)之使用量通常係相對於化合物(2’)而言，則為0.9~3當量，較佳為1~2當量，更佳為1.2~1.8當量程度。
作為本反應中使用之鹼，可使用公知之無機鹼及有機鹼。例如，可使用與上述(步驟2)中例舉之鹼為相同者。
上述鹼之使用量係因應所使用之化合物之種類及其使用量而適宜設定者，通常相對於化合物(2’)而言，則設為1~10當量，較佳設為1~5當量，更佳設為1.2~2.5當量程度即可。
作為本反應所使用之溶劑，可廣泛使用對該反應為不活性之公知之非質子性極性溶劑。例如，可舉出DMF、DMA、DMSO等。
上述溶劑之使用量係根據所使用之化合物之種類等而適宜設定即可，通常相對於化合物(2’)1重量份而言，使用0.5~50重量份程度，較佳使用1~30重量份程度，更佳使用1~20重量份程度使用即可。
本反應通常係在50~140℃程度，較佳在60~120℃下進行。反應時間係根據使用之化合物之種類、反應溫度等而相異，雖並無法一概而論，但通常在1~6小時間程度該反應會完結。
藉由上述反應而得之化合物係可藉由通常之分離手段而在反應系統內分離，再予以純化。作為該分離 及純化手段，例如可適用在上述「2.酞菁化合物之製造方法」中例舉之手段。
4.近紅外線吸收色素
本發明之酞菁化合物由於在800~1200nm之近紅外線波長領域具有吸收能力，故可使用作為近紅外線吸收色素。即，本發明之近紅外線吸收色素係由本發明之酞菁化合物所構成。
5.近紅外線吸收材料
本發明之酞菁化合物由於在800~1200nm之近紅外線波長領域具有吸收能力，故可使用作為近紅外線吸收材料，更詳言之，可使用於近紅外線吸收濾器、保護眼鏡、農業用膜、熱線截止濾器、受光元件、長波長雷射對應光記錄媒體、防偽造用之印刷墨、偽裝用塗裝等。即，本發明之近紅外線吸收材料含有本發明之酞菁化合物。
本發明之酞菁化合物係可直接，或藉由與黏合劑樹脂或添加物一同塗佈或混練於紙、塑膠片、塑膠膜、玻璃、樹脂等，硬塗覆，與單體混合使其聚合，而可作為近紅外線吸收材料使用於各種之用途上。
作為黏合劑樹脂，並特別限制，例如可舉出丙烯酸系單體之單獨聚合物或共聚物、纖維素系聚合物、乙烯系聚合物、縮合系聚合物、橡膠系熱可塑性聚合物、光聚合性化合物之聚合物等。
作為丙烯酸系單體，具體地可舉出如丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯等。
作為纖維素系聚合物，具體地可舉出如甲基纖維素、乙基纖維素、纖維素乙酸酯等。
作為乙烯系聚合物，具體地可舉出如聚苯乙烯、氯化乙烯-乙酸乙烯共聚物、聚乙烯吡咯啶酮、聚乙烯醇縮丁醛、聚乙烯醇等。
作為縮合系聚合物，具體地可舉出聚酯、聚醯胺等。
作為橡膠系熱可塑性聚合物，具體地可舉出丁二烯-苯乙烯共聚物等。
作為光聚合性化合物，具體地可舉出環氧化合物等。
作為塗佈或混合本發明之酞菁化合物之樹脂，例如可舉出透明樹脂等。具體地可舉出聚丙烯腈樹脂、甲基丙烯腈樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯樹脂、ABS樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚對酞酸乙二酯樹脂等之透明樹脂。
又，作為混合本發明之酞菁化合物之單體，例如可舉出六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、甲伸苯基二異氰酸酯、4,4’-二苯基甲烷二異氰酸酯、均三甲苯三異氰酸酯、1,4-雙(α,α’-二甲基異氰酸酯甲基)苯、1,3,5-參(3-丙硫基)異三聚氰酸酯、2,2’-二甲基丙二醇雙(2-硫代乙酸酯)等。可藉由使本發明之酞菁化合物與此等單體混合後進行聚合，而取得成形品。
6.光熱轉換材料
本發明之酞菁化合物由於在800~1200nm之近紅外線波長領域具有吸收能力，故可使用於吸收此領域之雷射光並轉換成熱之光熱轉換材料，更詳細而言，可使用於雷射直接製版(CTP)用原版、記錄材料(雷射感熱記錄材料、雷射熱轉印記錄材料等)等。即，本發明之光熱轉換材料含有本發明之酞菁化合物。
該光熱轉換材料除含有作為光熱轉換劑之本發明之酞菁化合物以外，亦可含有黏合劑樹脂等，作為該黏合劑樹脂，可舉出與上述近紅外線吸收材料相同者。
又，該光熱轉換材料除使用本發明之酞菁化合物作為光熱轉換劑以外，在不超出本發明之目的之範圍，亦可併用公知之各種近紅外線吸收劑。例如，可舉出公知之碳黑、苯胺黑等之顏料、多次甲基系色素(花青色素)、酞菁系色素、二硫醇金屬錯鹽系色素、萘醌系色素、蒽醌系色素、三苯基甲烷(類似)系色素、銨系色素、二亞銨(Diimonium)系色素、偶氮系色素、靛苯胺金屬錯合物色素、分子間型CT色素、染料系之色素等。
6-1.記錄材料(雷射感熱記錄材料、雷射熱轉印記錄材料)
將光熱轉換材料作為雷射感熱記錄材料或雷射熱轉印記錄材料等之記錄材料時，該材料中可配合發色成分或著色成分等而使用，亦可另外設置含有發色成分或著色成分 等之層。
作為發色成分或著色成分，並無特別限定，可使用公知之成分。例如可舉出，昇華性染顏料、電子供給性染料前驅物及電子受容性化合物之組合，因熱而以物理性、化學性變化形成畫像者(聚合性聚合物等)等。
作為雷射感熱記錄材料所使用之電子供給性染料前驅物，具體地可舉出三苯基甲烷系化合物、荧烷(floran)系化合物、酚噻嗪系化合物、吲哚基苯酞(Indolylphthalide)系化合物、隱色金黃胺(leuco auramine)系化合物、玫紅內醯胺(Rhodamine lactam)系化合物、三苯基甲烷酞內酯系化合物、三氮烯系化合物、螺吡喃系化合物、茀系化合物等。作為電子受容性化合物，可舉出酚性化合物、有機酸或其金屬鹽、鄰羥苯甲酸酯等。
又，作為雷射熱轉印記錄材料所使用之著色成分，具體地可舉出二氧化鈦、碳黑、氧化鋅、普魯士藍、硫化鎘、氧化鐵、鉛、鋅、鋇及鈣之鉻酸鹽等之無機顏料、偶氮系、硫靛藍系、蒽醌系、蒽嵌蒽醌系、三苯二噁嗪(Triphenodioxazine)系、酞菁系、喹吖啶酮系等之有機顏料。作為染料，可舉出酸性染料、直接染料、分散染料、油溶性染料、含金屬油溶性染料等。
6-2.直接製版用平版印刷原版
將光轉換材料作為直接製版用平版印刷原版時，於支撐體上設置光熱轉換層。光熱轉換層上可層合矽橡膠層， 亦可更層合保護層等。
作為支撐體，例如可舉出紙、層合有塑膠(例如聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯等)之紙、鋁(亦包括鋁合金)、鋅、銅等般之金屬之板、二乙酸纖維素、三乙酸纖維素、酪酸纖維素、聚對酞酸乙二酯、聚乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚乙烯縮醛等般之塑膠膜等。
光熱轉換層含有畫像形成成分、黏合劑樹脂等，且作為該黏合劑樹脂，可舉出與上述近紅外線吸材料相同者。又，亦可於光熱轉換層之上層合設置含有畫像形成成分之層。
作為畫像形成成分，並無特別限定，可使用因熱而以物理性、化學性變化形成畫像之公知之成分。根據情況不同，於光熱轉換層(感光層或感熱記錄層)上層合矽橡膠層，曝光後，藉由密著或剝離矽橡膠層而形成畫像部亦可。
通常，藉由使光熱轉換材料、畫像形成成分、黏合劑樹脂等分散或溶解於有機溶劑等，且塗佈支撐體於而製成印刷用平版印刷原版。
亦可於支撐體與光熱轉換層之間設置用以提升接著性或提升印刷特性之底塗層，且亦可對支撐體自身進行表面處理。作為所使用之底塗層，並無特別限定，可使用公知之成分。
光熱轉換層或矽橡膠層上亦可形成保護表面用之保護膜。例如，層合聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、聚 偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚對酞酸乙二酯、玻璃紙(cellophane)等，或將此等薄膜延伸而可作成保護膜。
7.熱線吸收材料
本發明之酞菁化合物由於在800~1200nm之近紅外線波長領域具有吸收能力，故可使用於熱線吸收材料。即、本發明之熱線吸收材料含有本發明之酞菁化合物。尚且，本說明書中，熱線吸收材料係意指在800~2500nm之波長領域具有吸收能力之材料者。本發明之熱線吸收材料由於含有本發明之酞菁化合物，故在800~1200nm之近紅外線波長領域下之吸收能力特別優異。
作為具體之熱線吸收材料，可舉層合玻璃用中間膜、隔熱膜等。又，使用該該層合玻璃用中間膜之層合玻璃亦被包含於本發明之熱線吸收材料中。該隔熱膜或層合玻璃之用途分別並未受到特別限定。作為層合玻璃之具體用途，例如可舉出車輛用、建築物用等。
該熱線吸收材料除本發明之酞菁化合物以外，亦使用熱線吸收劑。作為該熱線吸收劑，可舉出錫摻雜氧化銦(ITO)、銻摻雜氧化錫(ATO)、氧化鎢等之無機微粒子。該熱線吸收劑可將1種或2種以上予以組合使用。
該熱線吸收材料除含有本發明之酞菁化合物以外，亦可含有黏合劑樹脂等。作為該黏合劑樹脂，可舉出與上述近紅外線吸收材料中之黏合劑樹脂為相同者。
作為製造本發明之熱線吸收材料之方法，並 無特別限定。
在此，作為本發明之代表性熱線吸收材料，具體地說明關於使用含有本發明之酞菁化合物之層合玻璃用中間膜之層合玻璃之製造方法。首先，使用擠壓機、砑光輥等，將本發明之酞菁化合物與黏合劑樹脂、熱線吸收劑、及其他各種添加劑等一同地混練。其次，藉由擠壓法、壓延法等之製膜法將該混練物予以製膜，而可取得片狀之玻璃用中間膜(本發明之熱線吸收材料)。其次，將該玻璃用中間膜夾持於2枚以上之玻璃之間，藉由在規定之條件下(溫度．壓力等)進行壓著，而可取得層合玻璃(本發明之熱線吸收材料)。又，亦可層合含有本發明之酞菁化合物而成之第1層，與含有熱線吸收劑而成第2層而作成多層構造之中間膜。
[實施例]
以下，例舉實施例更詳細地說明本發明，但本發明並非係受到下述實施例任何限定者。
本發明中，各數值係如以下所述般進行測量。
<GCMS>
(股)島津製作所製氣相層析質量分析裝置GCMS-QP2010Plus(EI法)
<LCMS>
(股)島津製作所製高速液相層析質量分析計LCMS- 2010EV(ESI法)
<ESI-TOFMS>
日本電子(股)製質量分析計JMS-T100-LC
<MALDI TOF-MS>
Applied Biosystems公司製Voyager-DE STR
<波長(λmax)>
日本分光(股)製分光光度計V-570
測量中係調製8.0×10-6~11×10-6mol/L之氯仿溶液且使用光徑長1cm之石英比色槽(Quartz cell)。
<1H-NMR>
日本電子(股)製Lambda300(300MHz)
實施例1
(1)化合物(4-1)之調製
於裝有溫度計之100ml之4頸反應器中添加四氟酞腈(化合物(5))3.0g(15mmol)、氟化鉀15g(1.2eq.)及乙腈20ml，攪拌下冷卻至5℃。對此滴入2,4,6-三甲基硫酚(化合物(a-1)；純度77%)3.0g(1.0eq.)。滴入結束後，使混合物升溫至20℃，在20~25℃下反應2小時。反應結束後，將反應混合物釋出至水中，過濾並取出析出固體。以異丙醇充分洗淨取得之粗生成物並使其乾燥，而取得白色固體之化合物(4-1)3.7g(收率74%)。
GCMS m/z=332(M+)
(2)化合物(3-1)之調製
於裝有冷卻管及溫度計之300ml之4頸反應器中添加化合物(4-1)8.3g(25mmol、1.0eq.)、碳酸鉀8.6g(63mmol、2.5eq.)及乙腈75ml並攪拌。對此滴入2-胺基硫酚(化合物(6-1))3.1g(25mmol、1.0eq.)，升溫至75℃並使其反應30分。對此添加DMA80ml，再使其反應1小時。反應結束後，將反應混合物釋出至水中，過濾並取出析出固體。以甲醇充分洗淨取得之固體並使其乾燥，而取得橙色固體之化合物(3-1)7.1g(收率68%)。
LCMS m/z=416((M-H)-)
(3)化合物(2-1)之合成
於裝有冷卻管及溫度計之100ml之4頸反應器中添加 化合物(3-1)5.8g(14mmol、1.0eq.)、碳酸鉀3.9g(28mmol、2.0eq.)、DMSO 35ml及4-tert-辛基酚(化合物(b-1))4.0g(20mmol、1.4eq.)，在80℃下反應2小時。反應結束後、將反應混合物釋出至水中，過濾並取出析出固體。以甲醇充分洗淨取得之粗生成物，而取得橙色固體之化合物(2-1)7.4g(收率87%)。
LCMS m/z=602((M-H)-)
1H-NMR(CDCl3：δ ppm)7.14(d,2H)、7.08-7.02(m,1H)、6.95-6.87(m,2H)、6.75(s,2H)、6.61(d,1H)、6.37(t,3H)、2.17(d,9H)、1.68(s,2H)、1.31(s,6H)、0.70(d,9H)
(4)化合物(1-1)之合成
於裝有冷卻管及溫度計之100ml之4頸反應器中添加化合物(2-1)7.2g(12mmol、1.0eq.)、n-己醇33ml、甲醯胺0.82g(17mmol、1.4eq.)及t-BuOK 2.0g(16.8mmol、1.4eq.)，在110℃下攪拌1小時。以薄層層析法(TLC)確認原料僅為些許後，在90℃下對反應液添加VCl30.8g(4.8mmol、0.4eq.)。使反應液升溫至145℃反應2小時後，在空氣氣流下反應3小時。反應結束後，使反應混合物冷卻至室溫，添加甲苯30ml。將反應混合物釋出至甲醇(MeOH)150ml中並使固體析出。過濾並取出固體，且以甲醇進行洗淨。在100℃下乾燥而取得粗生成物5.1g。使取得之固體溶解於甲苯150ml中，加入活性白土 20g、矽膠10g並攪拌，過濾分離不溶物後進行濃縮，以甲醇充分洗淨，在130℃下乾燥而取得黑色固體之化合物(1-1)2.4g(收率24%)。
ESI-TOFMS m/z=2503.9((M+Na)+)
λmax 1005nm ε 114000(氯仿)
實施例2
(1)化合物(4-2)之調製
於裝有溫度計之100ml之4頸反應器中添加四氟酞腈(化合物(5))6.0g(30mmol)、氟化鉀15g(1.2eq.)及乙腈20ml，攪拌下冷卻至0℃。對此一點一點地投入β-萘酚(化合物(a-2))4.3g(1.0eq.)。投入結束後，使混合物在5℃以下反應1小時後，升溫至20℃且在20~25℃下反應2小時。反應結束後，將反應混合物釋出至水中，過濾並取出析出固體。以甲醇充分洗取得之粗製物，而得到白色固體之化合物(4-2)6.7g(收率69%)。
GCMS m/z=324(M+)
(2)化合物(3-2)之調製
於裝有冷卻管及溫度計之100ml之4頸反應器中添加化合物(4-2)6.5g(20mmol、1.0eq.)、碳酸鉀6.9g(50mmol、2.5eq.)及乙腈30ml並攪拌。對此滴入2-胺基硫酚(化合物(6-1))2.5g(20mmol、1.0eq.)，升溫至75℃使其反應30分。對此添加DMA30ml並再反應1小時。反應結束後，將反應混合物釋出至水中，過濾並取出析出固體。以甲醇充分洗淨取得之固體後，使其乾燥，而取得橙色固體之化合物(3-2)5.0g(收率61%)。
LCMS m/z=408((M-H)-)
(3)化合物(2-2)之合成
於裝有冷卻管及溫度計之200ml之4頸反應器中添加 化合物(3-2)24.5g(60mmol、1.0eq.)、碳酸鉀16.6g(120mmol、2.0eq.)、DMSO 35ml及4-tert-辛基酚(化合物(b-1))17.9g(84mmol、1.4eq.)，在80℃下反應2小時。反應結束後，將反應混合物釋出至水中，過濾並取出析出固體。以1/2之比使用甲醇/丙酮充分洗淨粗製物，而取得橙色固體之目的物26.1g(收率73%)。
LCMS m/z=594((M-H)-)
1H-NMR(CDCl3：δ ppm)7.80-7.64(m,3H)、7.49-7.38(m,2H)、7.16(d,2H)、7.06(t,1H)、6.94-6.76(m,4H)、6.66(d,1H)、6.52(m,3H)、1.68(s,2H)1.29(s,6H)、0.72(s,9H)
(4)化合物(1-2)之合成
於裝有冷卻管及溫度計之100ml之4頸反應器中添加化合物(2-2)15.5g(26mmol、1.0eq.)、n-己醇52ml、甲醯胺1.6g(36mmol、1.4eq.)、t-BuOK 4.1g(36.4mmol、1.4eq.)，在110℃下攪拌1小時。以TLC確認原料僅為些許後，在90℃下對反應液添加VCl31.6g(10mmol、0.4eq.)。使反應液升溫至145℃並反應2小時後，在空氣氣流下反應20小時。反應結束後，使反應混合物冷卻至室溫，添加甲苯30ml。將反應混合物釋出至MeOH200ml中而使固體析出。過濾且取除固體，並以甲醇洗淨。在100℃下乾燥而取得粗生成物15g。使取得之固體溶解於甲苯150ml中，添加活性白土30g、矽膠45g並予以攪拌，過濾分離不溶 物後進行濃縮，再以甲醇充分洗淨固體。在130℃下乾燥，而取得黑色固體之目的物8.9g(收率56%)。
λmax 990nm ε 98000 氯仿
ESI-TOFMS m/z=2471.8(M+)
實施例3
於裝有冷卻管及溫度計之100ml之4頸反應器中添加化合物(2-2)9.5g(16mmol、1.0eq.)、n-己醇32ml及DBU3.4g(22mmol、1.4eq.)，並升溫至80℃。對此添加CuCl 0.52g(5.3mmol、0.33eq.)。使反應液升溫至140℃並使其反應18小時。反應結束後，使反應混合物冷卻至室溫，添加甲苯30ml。將反應混合物釋出至MeOH200ml中而使固體析出。過濾且取除固體，並以甲醇洗淨固體。在100℃下乾燥而取得粗純化物15g。使取得之固體溶解於 甲苯150ml中，添加活性白土30g、矽膠45g並予以攪拌，過濾分離不溶物後進行濃縮，且以甲醇充分洗淨固體。在130℃下乾燥，而取得黑色固體之目的物3.0g(收率31%)。
λmax 1014nm ε 113000 氯仿
ESI-TOFMS m/z=2444.8(M+)
實施例4
(1)化合物(2-3)之調製
於裝有冷卻管及溫度計之100ml之4頸反應器中添加化合物(3-2)6.1g(15mmol、1.0eq.)、碳酸鉀4.1g(30mmol、2.0eq.)、DMSO 35ml及2,4,6-三甲基硫酚(化合物(b-2)；純度80%)4.0g(21mmol、1.4eq.)，在70℃下反應2小時。反應結束後，將反應混合物釋出至水中，過濾並取出析出固體。以1/1之比例使用甲醇/丙酮充分洗淨取得之粗生成物，而得到橙色固體之目的物8.0g(收率99%)。
LCMS m/z=540((M-H)-)
(2)化合物(2-4)之合成
於裝有冷卻管及溫度計之100ml之4頸反應器中添加化合物(2-3)7.6g(14mmol、1.0eq,)、碳酸鉀3.9g(28mmol、2.0eq.)、DMSO 30ml及溴化n-戊基3.2g(21mmol、1.5eq.)，在100℃下反應3小時。反應結束後，將反應混合物釋出至水中，過濾並取出析出固體。以乙醇充分洗淨取得之粗生成物，而得到黃色固體之目的物7.7g(收率89%)。
LCMS m/z=611(M+)
1H-NMR(CDCl3：δ ppm)7.79-7.70(m,2H)、7.53-7.35(m,3H)、7.23-7.18(m,1H)、7.02-6.84(m,4H)、6.57(s,2H)、6.47(d,1H)、4.19(t,2H)、2.24(s,6H)1.82(s,3H)1.72-1.57(m,2H)、1.41-1.19(m,4H)、0.84(t,3H)
(3)化合物(1-4)之合成
於裝有冷卻管及溫度計之100ml之4頸反應器中添加化合物(2-4)7.3g(12mmol、1.0eq.)、n-己醇36ml、甲醯胺0.76g(17mmol、1.4eq.)及t-BuOK 1.9g(17mmol、1.4eq.)，在100℃下攪拌1小時。以TLC確認原料僅為些許後，在90℃下對反應液添加VCl30.73g(4.8mmol、0.4eq.)。使反應液升溫至145℃並反應2小時後，在空氣氣流下反應3小時。反應結束後，使反應混合物冷卻至室溫，添加甲苯50ml。將反應混合物釋出至MeOH300ml中而使固體析出。過濾並取除固體，且甲醇進行洗淨。在100℃下乾燥洗淨後之固體，而得到粗生成物4.5g。使取得之固體溶解於甲苯60ml中，添加活性白土20g、矽膠20g並予以攪拌，過濾分離不溶物後進行濃縮，以甲醇充分洗淨固體，在130℃下乾燥，而取得黑色固體之目的物2.3g(收率30%)。
λmax 1014nm ε 113000 氯仿
ESI-TOFMS m/z=2513.7((M+H)+)
實施例5
(1)化合物(3-3)之調製
於裝有冷卻管及溫度計之100ml之4頸反應器中添加化合物(4-2)13.0g(40mmol、1.0eq.)、氟化鉀5.8g(100mmol、2.5eq.)及乙腈40ml並攪拌。對此滴入2-胺基酚4.4g(40mmol、1.0eq.)。升溫至75℃使其反應30分。對此添加DMA 40ml再使其反應1小時。反應結束後，將反應混合物釋出至水中，過濾並取出析出固體。以甲醇/丙酮之1/1溶液洗淨取得之固體後，使其乾燥而得到黃色固體之化合物(3-3)5.9g(收率37%)。
GCMS m/z=393(M+)
(2)化合物(2-5)之合成
於裝有冷卻管及溫度計之100ml之4頸反應器中添加化合物(3-3)5.9g(15mmol、1.0eq.)、碳酸鉀4.1g(30mmol、2.0eq.)、DMSO 30ml及4-tert-辛基酚4.3g(21mmol、1.4eq.)，且在80℃下反應2小時。反應結束後，將反應混合物釋出至水中，過濾並取出析出固體。使取得之粗生成物溶解於氯仿中，添加活性白土並予以攪拌，過濾分離不溶物後進行濃縮，以丙酮/甲醇進行再結晶而取得黃色固體之目的物2.4g(收率27%)。
LCMS m/z=578((M-H)-)
1H-NMR(THF-d8：δ ppm)8.5(s,1H),7.72(m,3H),7.37(m,2H),7.23(m,2H),7.15(d,J=2.7,1H),6.97(dd,J=9.0,2.4,1H),6.75(m,3H),6.61(m,1H),6.42(d,J=8.1,1H), 2.61(s,1H),1.71(s,2H),1.28(s,6H),0.70(s,9H)
(3)化合物(1-5)之合成
於裝有冷卻管及溫度計之25ml之3頸反應器中添加化合物(2-5)2.3g(4.0mmol、1.0eq.)、n-己醇8ml、甲醯胺0.25g(5.6mmol,1.4eq.)及t-BuOK 0.63g(5.6mmol,1.4eq.)，且在110℃下攪拌1小時。以TLC確認原料僅為些許後，在90℃下對反應液添加VCL3 0.24g(1.6mmol,0.4eq.)。使反應液升溫至145℃並反應2小時後，在空氣氣流下反應10小時。反應結束後，使反應混合物冷卻至室溫，添加甲苯8ml。將反應混合物釋出至MeOH 60ml中而使固體析出。過濾並取出固體，且以甲醇洗淨固體。在100℃下乾燥而取得粗生成物2.0g。使取得之固體溶解於甲苯20ml，添加活性白土10g、矽膠10g並予以攪拌，過濾分離不溶物後進行濃縮，且以甲醇充分洗淨，在130℃下乾燥而得到暗綠色固體之化合物(1-5)0.9g(收率38%)。
λmax 964nm ε 91000 氯仿
MALDI TOF-MS m/z=2383(M+)
實施例6
(1)化合物(4-3)之調製
於裝有溫度計之100ml之4頸反應器中添加四氟酞腈6.0g(30mmol)、氟化鉀15g(1.2eq.)及乙腈20ml，攪拌下冷卻至0℃。對此一點一點地投入α-萘酚4.3g(1.0eq.)。投入結束後，使混合物在5℃以下反應1小時後，升溫至20℃，在20~25℃下反應2小時。反應結束後，將反應混合物釋出至水中，過濾並取出析出固體。以甲醇充分洗淨取得之粗生成物，而取得白色固體之化合物(4-3)7.2g(收率74%)。
GCMS m/z=324(M+)
(2)化合物(3-4)之調製
於裝有冷卻管及溫度計之200ml之4頸反應器中添加化合物(4-3)16.2g(50mmol、1.0eq.)、碳酸鉀17.3g(125mmol、2.5eq.)及乙腈100ml並攪拌。對此滴入2-胺基硫酚6.3g(50mmol、1.0eq.)，升溫至75℃使其反應30分。對此添加DMA100ml，再使其反應1小時。反應結束後，將反應混合物釋出至水中，過濾並取出析出固體。以甲醇充分洗淨取得之固體並使其乾燥，而取得橙色固體之化合物(3-4)14.3g(收率70%)。
LCMS m/z=408((M-H)-)
(3)化合物(2-6)之合成
於裝有冷卻管及溫度計之200ml之4頸反應器中添加 化合物(3-4)20.5g(50mmol、1.0eq.)、碳酸鉀14g(100mmol、2.0eq.)、DMSO 75ml及2-甲基酚7.6g(70mmol、1.4eq.)，在70度下反應3小時。反應結束後，將反應混合物釋出至水中，過濾並取出析出固體。以2/1之比例使用甲醇/丙酮充分洗淨取得之粗生成物，而得到橙色固體之化合物(2-6)19g(收率76%)。
LCMS m/z=496((M-H)-)
(4)化合物(2-7)之合成
於裝有冷卻管及溫度計之100ml之4頸反應器中添加化合物(2-6)17g(35mmol、1.0eq.)、碳酸鉀10g(70mmol、2.0eq.)、DMSO 50mL及溴化n-戊基7.9g(53mmol、1.5eq.)且在70℃下反應2小時。反應結束後，將反應混合物釋出至水中，過濾並取出析出固體。以乙醇充分洗淨取得之粗生成物，而得到黃色固體之化合物(2-7)17.8g(收率90%)。
LCMS m/z=568((M+H)+)
1H-NMR(THF-d8：δ ppm)7.80(d,J=7.8,1H),7.56(d,J=9.0,1H),7.42(m,2H),7.26(m,4H),7.03(m,3H),6.84(t,J=6.0,1H),6.69(m,3H),4.30(t,J=6.9,2H),1.78(m,2H),1.46(m,7H),0.89(t,J=7.1,3H)
(5)化合物(1-6)之合成
於裝有冷卻管及溫度計之200ml之4頸反應器中添加 化合物(2-7)17g(30mmol、1.0eq.)、n-己醇60ml、甲醯胺1.9g(42mmol,1.4eq.)及t-BuOK4.7g(42mmol,1.4eq.)，且在100下攪拌1小時。以TLC確認原料僅為些許後，在90℃下對反應液添加VCl3 1.8g(12mmol,0.4eq.)。使反應液升溫至145℃並反應2小時後，在空氣氣流下反應3小時。反應結束後，使反應混合物冷卻至室溫，添加甲苯40ml。將反應混合物釋出至MeOH 300ml而使固體析出。過濾並取出固體並以甲醇進行洗淨。在100℃下乾燥而得到粗生成物14g。使取得之固體溶解於甲苯140ml中，添加活性白土42g並予以攪拌，過濾分離不溶物後進行濃縮，以甲醇充分洗淨，在130℃下乾燥而得到黑色固體之化合物(1-6)6.8g(收率39%)。
λmax 958nm ε 109000 氯仿
MALDI TOF-MS m/z=2335(M+)
試驗例1(耐熱性評價)
藉由(股)島津製作所製熱重量測量裝置TGA-50，測量實施例2中取得之酞菁化合物之熱分解溫度。
又，將日本特開平11-269399號公報中記載之下述式所表示之化合物作為比較例1，且同樣地測量熱分解溫度。
其結果係如表1所示。
試驗例2(耐光性評價) <薄膜製作>
使實施例2中取得之酞菁化合物10mg溶解於聚甲基丙烯酸酯18wt%甲苯溶液5ml中，藉由旋轉塗佈法塗佈於玻璃基板上並使其乾燥，而製成膜厚1.4μm之薄膜。
又，比較例1之化合物亦係同樣施行而製成膜厚1.4μm之薄膜。
<耐光試驗>
對上述<薄膜製作>中取得之薄膜照射氙光(142klux)336小時，且分別測量照射後之色素殘存率。殘存率係根據下述式所計算者。穿透率係指製成之薄膜在吸收極大波長下測量之值。其結果係如表1所示。
色素殘存率(%)=100×(照射後之穿透率)/(照射前之穿透率)
[產業上之可利用性]
本發明之酞菁化合物由於在800~1200nm之近紅外線吸收領域具有吸收能力且耐光性及耐熱性優異，故可適宜使用於近紅外線色素、近紅外線吸收材料、光熱轉換材料、熱線吸收材料等之各種用途上。

Claims (11)

  1. 一種一般式(1)所表示之酞菁化合物； 式中，X1、X2及X3係相同或相異地表示氧原子或硫原子，R1及R2係相同或相異地表示亦可具有取代基之芳基或亦可具有取代基之雜芳基，R3表示氫原子或亦可具有取代基之烷基，M表示2個之氫原子、2價之金屬或3價或4價之金屬化合物。
  2. 一種酞菁化合物，其係由一般式(1a)~(1d)所表示之至少1種所構成者； 式中，X1、X2及X3係相同或相異地表示氧原子或硫原子；R1及R2係相同或相異地表示亦可具有取代基之芳基或亦可具有取代基之雜芳基；R3表示氫原子或亦可具有取代基之烷基，M表示2個之氫原子、2價之金屬或3價或4價之金屬化合物。
  3. 如請求項1或2之化合物，其中R1及R2為同一或相異之亦可具有取代基之芳基。
  4. 如請求項1或2之化合物，其中M為Cu、Zn、Co、Ni、Pd、Pb、MnOH、AlCl、FeCl、InCl、SnCl2、 VO或TiO。
  5. 一種一般式(1)所表示之酞菁化合物之製造方法，其係使一般式(2)所表示之化合物，與金屬或無機或有機金屬化合物，在鹼之存在下進行反應； 式中，X1、X2及X3係相同或相異地表示氧原子或硫原子，R1及R2係相同或相異地表示亦可具有取代基之芳基或亦可具有取代基之雜芳基，R3表示氫原子或亦可具有取代基之烷基，M表示2個之氫原子、2價之金屬或3價或4價之金屬化合物； 式中，X1、X2、X3、R1、R2及R3係與前述相同。
  6. 一種一般式(2)所表示之化合物； 式中，X1、X2及X3係相同或相異地表示氧原子或硫原子，R1及R2係相同或相異地表示亦可具有取代基之芳基或亦可具有取代基之雜芳基，R3表示氫原子或亦可具有取代基之烷基。
  7. 一種一般式(2)所表示之化合物之製造方法，其係包含使一般式(3)所表示之化合物與下述化合物(b)在鹼之存在下進行反應之步驟，及因應必要使前述步驟中取得之化合物與下述化合物(c)在鹼之存在下進行反應之步驟； 式中、X1、X2及X3係相同或相異地表示氧原子或硫原子，R1及R2係相同或相異地表示亦可具有取代基之芳基或亦可具有取代基之雜芳基，R3表示氫原子或亦可具有取代基之烷基； 式中，X2、X3及R2係與前述相同；【化8】R 1 X 1 H (b)式中，R1、X1係與前述相同；【化9】R 4 -Y (c) 式中，R4表示亦可具有取代基之烷基，Y表示脫離基。
  8. 一種近紅外線吸收色素，其係由如請求項1或2之酞菁化合物所構成。
  9. 一種近紅外線吸收材料，其係含有如請求項1或2之酞菁化合物。
  10. 一種光熱轉換材料，其係含有如請求項1或2之酞菁化合物。
  11. 一種熱線吸收材料，其係含有如請求項1或2之酞菁化合物。
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