TWI594052B - Display device, lighting device, light guide plate, and a method of manufacturing the same - Google Patents

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TWI594052B
TWI594052B TW105109266A TW105109266A TWI594052B TW I594052 B TWI594052 B TW I594052B TW 105109266 A TW105109266 A TW 105109266A TW 105109266 A TW105109266 A TW 105109266A TW I594052 B TWI594052 B TW I594052B
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reflector
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TW105109266A
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Toshinori Uehara
Hayato Kurasawa
Masashi Mitsui
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Japan Display Inc
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Description

顯示裝置、照明裝置、導光板、及其製造方法 相關申請案的交叉參考
本申請案係基於且主張2015年4月10日申請之日本專利申請案第2015-081014號之優先權之利益；該案之全部內容係以引用之方式併入本文中。
本發明之實施形態係關於一種顯示裝置、照明裝置、導光板及其製造方法。
藉由控制外光之反射率而顯示圖像之反射型之顯示裝置，與具備背光燈之透過型之顯示裝置等相比具有可將消耗電力抑制得較低等之優點。
又，已知有於顯示面板之顯示面側配置有面發光型之照明裝置之反射型之顯示裝置。照明裝置例如具備光源、及供該光源之光入射且自與顯示面板對向之面出射之導光板。藉由配置照明裝置，可補充用於圖像顯示之光，而提高圖像之視認性。如此之照明裝置被稱為前照燈等。
於如上述之照明裝置中，藉由使傳播於導光板之光以較佳之角度範圍出射，可提高光之利用效率，且提高顯示裝置之視認性。
1‧‧‧導光體
2‧‧‧反射體
3‧‧‧虛設反射體
4‧‧‧輔助反射體
6‧‧‧各向異性散射層
7‧‧‧檢測線
10‧‧‧透明基材
10a‧‧‧第1主面
10b‧‧‧第2主面
11‧‧‧保護層
11a‧‧‧第1保護層
11b‧‧‧第2保護層
12‧‧‧低折射率層
20‧‧‧高反射層
20a‧‧‧反射面
21‧‧‧低反射層
30‧‧‧高反射層
30a‧‧‧反射面
31‧‧‧低反射層
40‧‧‧高反射層
40a‧‧‧反射面
41‧‧‧低反射層
70‧‧‧高反射層
71‧‧‧低反射層
100‧‧‧第1絕緣基板
101‧‧‧層間絕緣膜
102‧‧‧第1配向膜
200‧‧‧第2絕緣基板
201‧‧‧保護層
202‧‧‧第2配向膜
A0~A5‧‧‧區域
AR‧‧‧陣列基板
BM‧‧‧遮光層
C1‧‧‧重心
C2‧‧‧重心
C3‧‧‧曲率中心
CE‧‧‧共通電極
CFB‧‧‧彩色濾光片
CFG‧‧‧彩色濾光片
CFR‧‧‧彩色濾光片
CT‧‧‧對向基板
DA‧‧‧顯示區域
DSP‧‧‧顯示裝置
E1‧‧‧第1端部
E2‧‧‧第2端部
EP‧‧‧發光部
F1‧‧‧第1主面
F2‧‧‧第2主面
HS‧‧‧熱源
L0~L5‧‧‧邊界線
LA‧‧‧配線區域
LC‧‧‧液晶層
LD‧‧‧照明裝置
LG‧‧‧導光板
LM‧‧‧液晶分子
LS‧‧‧光源
M‧‧‧半色調光罩
OD‧‧‧光學元件
P1‧‧‧第1部分
P2‧‧‧第2部分
P3‧‧‧第3部分
PB‧‧‧子像素
PE1~PE3‧‧‧像素電極
PF‧‧‧輪廓
PG‧‧‧子像素
PL‧‧‧偏光板
PNL‧‧‧顯示面板
PR‧‧‧子像素
PT1‧‧‧凸圖案
PT1a‧‧‧孤立圖案
PT2‧‧‧凹圖案
PT3‧‧‧凹圖案
PT4‧‧‧凸圖案
PT4a‧‧‧連續圖案
PX‧‧‧主像素
R‧‧‧曲率半徑
R‧‧‧光阻
RT‧‧‧相位差板
RX‧‧‧檢測電極
SW1~SW3‧‧‧開關元件
TX‧‧‧驅動電極
UV‧‧‧紫外線
X‧‧‧第1方向
Y‧‧‧第2方向
Z‧‧‧第3方向
θ0~θ5‧‧‧傾斜角
圖1係顯示第1實施形態之照明裝置之概略構成之立體圖。
圖2係顯示第1實施形態之照明裝置之概略剖面之圖。
圖3(a)、(b)係顯示第1實施形態之照明裝置具備之反射體之概略形狀之一例之圖。
圖4(a)、(b)係說明第1實施形態之導光板之製造方法之一例之圖。
圖5(a)、(b)係說明第1實施形態之導光板之製造方法之一例之圖。
圖6(a)、(b)係說明第1實施形態之導光板之製造方法之一例之圖。
圖7係示意性顯示反射體之反射面之輪廓之圖。
圖8係顯示反射體之輪廓之一例之圖表。
圖9係示意性顯示反射體之配置之一例之圖。
圖10係顯示第2實施形態之照明裝置之概略剖面之圖。
圖11(a)、(b)係說明第2實施形態之導光板之製造方法之一例之圖。
圖12(a)、(b)係說明第2實施形態之導光板之製造方法之一例之圖。
圖13(a)、(b)係說明第2實施形態之導光板之製造方法之一例之圖。
圖14係顯示第3實施形態之照明裝置之概略剖面之圖。
圖15(a)、(b)係說明第3實施形態之導光板之製造方法之一例之圖。
圖16(a)、(b)係說明第3實施形態之導光板之製造方法之一例之圖。
圖17(a)、(b)係說明第3實施形態之導光板之製造方法之一例之圖。
圖18係顯示第4實施形態之照明裝置之概略剖面之圖。
圖19係說明第4實施形態之導光板之製造方法之一例之圖。
圖20係說明第4實施形態之導光板之製造方法之一例之圖。
圖21係說明第4實施形態之導光板之製造方法之一例之圖。
圖22係說明第4實施形態之導光板之製造方法之一例之圖。
圖23係顯示第5實施形態之顯示裝置之概略構成之立體圖。
圖24係顯示第5實施形態之顯示裝置之概略剖面之圖。
圖25係顯示第6實施形態之顯示裝置之概略構成之立體圖。
圖26(a)、(b)係說明第6實施形態之導光板之製造方法之一例之圖。
圖27(a)、(b)係說明第6實施形態之導光板之製造方法之一例之圖。
圖28(a)、(b)係說明第6實施形態之導光板之製造方法之一例之圖。
大體而言，一實施形態之顯示裝置具備顯示面板、光源、導光體、及複數個反射體。上述顯示面板具有顯示圖像之顯示區域。上述導光體具有面向上述光源之第1端部、上述第1端部之相反側之第2端部、跨及上述第1端部及上述第2端部而設置並與上述顯示面板對向之第1主面、及位於上述第1主面之相反側並跨及上述第1端部及上述第2端部而設置之第2主面。上述複數個反射體設置於上述導光體之內部，使自上述第1端部入射且傳播於上述導光體之光反射並自上述第1主面出射。再者，上述複數個反射體之各者係於上述導光體之厚度方向上配置於距上述第1主面或上述第2主面一定距離之位置，具有朝向上述第1主面之側且向上述第2主面之側凸之曲面狀之反射面，且，以可向第1主面照射來自第1端部之光之方式將反射面以傾斜之狀態配置。
又，一實施形態之照明裝置具備上述光源、上述導光體、及上 述複數個反射體。又，一實施形態之導光板具備上述導光體與上述複數個反射體。
又，一實施形態之導光板之製造方法包含：將表面為曲面狀之複數個凸圖案形成於基材之主面；形成將上述複數個凸圖案之各者至少部分覆蓋之複數個反射體；將以與上述凸圖案折射率大致相等之材料形成且覆蓋上述複數個反射體之保護層形成於上述基材之上述主面。
針對若干實施形態，參照圖式進行說明。
另，揭示僅為一例，於業者而言，關於針對保持發明主旨之適當變更可容易想到者，當然包含於本發明之範圍。又，圖式為了使說明更加明確，與實際之態樣相比，有對各部之寬度、厚度、形狀等示意性表示之情形，但僅為一例，並非限定本發明之解釋。於各圖中，有對連續配置之相同或類似之要件省略符號之情況。又，於本說明書與各圖中，對發揮與關於已出現之圖已前述者相同或類似功能之構成要件，有標註相同之參照符號，並省略重複之詳細說明之情況。
(第1實施形態)
於第1實施形態中，揭示照明裝置及導光板之一例。該照明裝置例如可作為液晶顯示裝置、應用了MEMS(Micro Electro Mechanical Systems：微機電系統)之顯示裝置、或具有電泳元件等之電子紙型之顯示裝置等之前照燈而利用。
圖1係顯示本實施形態之照明裝置LD之概略構成之立體圖。該照明裝置LD具備導光板LG、及光源LS。導光板LG具備：平板狀之導光體1，其具有特定厚度；及複數個反射體2(第1反射體)，其等設置於導光體1之內部。
導光體1具有第1端部E1、第1端部E1之相反側之第2端部E2、跨 及第1端部E1及第2端部E2而設置之第1主面F1、及位於第1主面F1之相反側且跨及第1端部E1及第2端部E2而設置之第2主面F2。第1端部E1及第2端部E2與第1方向X平行，相當於連接第1主面F1及第2主面F2之側面。
於圖1之例中，導光體1之第1主面F1及第2主面F2具有長方形之形狀，第1端部E1及第2端部E2相當於連接第1主面F1及第2主面F2各者之短邊之側面。第1主面F1及第2主面F2之長邊沿與第1方向X正交之第2方向Y而延伸。將導光體1之厚度方向定義為第3方向Z。第3方向Z為交叉於第1方向X及第2方向Y之方向，為例如與第1方向X及第2方向Y正交之方向。第1主面F1及第2主面F2之各者例如為與藉由第1方向X及第2方向Y規定之XY平面平行之面。導光體1之形狀並未限於此處例示者，亦可為第1端部E1及第2端部E2連接長方形之第1主面F1及第2主面F2各者之長邊之形狀，第1主面F1及第2主面F2亦可為正方形，或又可為其他形狀。
光源LS面向第1端部E1。作為該光源LS，例如可使用發光二極體或有機電致發光元件。於圖1之例中，顯示3個以上之光源LS沿第1端部E1排列之狀態，但光源LS亦可為2個，又可為1個。又，光源LS亦可為沿第1端部E1等配置之線狀光源。
圖2係顯示藉由第2方向Y及第3方向Z規定之YZ平面中之照明裝置LD之概略剖面之圖。導光體1具備：透明基材10，其具有第1主面10a及第1主面10a之相反側之第2主面10b；及保護層11，其設置於透明基材10之第2主面10b。透明基材10及保護層11係任一者皆具有高透光性。透明基材10可例如以玻璃或樹脂材料形成。保護層11可例如以樹脂材料形成。導光體1不僅包含透明基材10及保護層11，亦可進而包含其他層。於圖2中，概略性顯示透明基材10及保護層11之厚度，但實際上設想將透明基材10之厚度設得較圖示更大。作為一例，透明 基材10之厚度為0.5mm左右，保護層11之厚度為數μm~數十μm左右。
於圖2之例中，導光體1之第1端部E1及第2端部E2包含透明基材10及保護層11之端部。又，導光體1之第1主面F1相當於透明基材10之第1主面10a，導光體1之第2主面F2相當於保護層11之外表面(未與透明基材10相接之側之面)。
各反射體2例如任一者之形狀皆相同，且沿透明基材10之第2主面10b配置於保護層11之內部。於本實施形態中，反射體2於第2主面F2之側具有凸圓弧狀且圓頂狀，若採用其他表現，則於第2主面F2之側具有凸圓弧狀且一部分(第1端部E1之側之一半)缺損之碗形狀。反射體2具備：高反射層20，其較佳地反射傳播於導光體1之光；及低反射層21(或遮光層)，其光之反射率低於高反射層20。作為高反射層20，可利用例如鋁或銀等金屬材料。作為低反射層21，可利用例如反射率相對較低之金屬或金屬氧化膜。
高反射層20覆蓋配置於透明基材10之第2主面10b之凸圖案PT1之一部分。凸圖案PT1係例如半球狀或部分球面狀。另，於各實施形態中，於半球狀或部分球面狀之用語中不僅包含完整之球體之一部分之含義，亦包含類似於橢圓體等球體之形狀之一部分之含義。低反射層21覆蓋高反射層20之第2主面F2側之面。保護層11覆蓋反射體2、自反射體2露出之凸圖案PT1、及透明基材10之第2主面10b。凸圖案PT1可以與保護層11折射率大致相等之材料、例如與保護層11相同之材料形成。藉此，於凸圖案PT1與保護層11之邊界，自凸圖案PT1向保護層11之光或向其反向之光折射、或該等光反射等之光學影響幾乎消失。儘管存在凸圖案PT1與保護層11之邊界，光之直線性仍得以維持。以相同材料形成凸圖案PT1與保護層11之情形時，其等實質上成為一體，而幾乎無法視認該邊界。
於圖2之例中，透明基材10及保護層11之膜厚自第1端部E1跨及第2端部E2而大致一定。因此，各反射體2之各者係於導光體1之厚度方向(第3方向Z)上，配置於距第1主面F1或第2主面F2一定距離之位置。
光源LS之發光部EP面向第1端部E1(透明基材10之端部)。於圖2中，以虛線顯示來自發光部EP之光之路徑之一例。由發光部EP發出而自第1端部E1進入導光體1之光係一面被第1主面F1及第2主面F2等全反射一面向第2端部E2傳播。該光之一部分於被反射體2之高反射層20(後述之反射面20a)反射時違反第1主面F1上之全反射條件，而自第1主面F1出射。
圖3係顯示反射體2之概略形狀之一例之圖，圖3(a)顯示XY平面之反射體2與凸圖案PT1，圖3(b)顯示YZ平面之反射體2及凸圖案PT1等之剖視圖。如圖3(a)(b)所示，反射體2係覆蓋凸圖案PT1之表面中第2端部E2之側(圖中左側)之一半，未覆蓋第1端部E1之側(圖中右側)之一半。於此種狀態下，如圖3(a)所示，反射體2之重心C1與凸圖案PT1之重心C2於XY平面中錯開。重心C1較重心C2位於距光源LS更遠側(圖中左側)。
若根據其他觀點而言，則反射體2具有關於與第1主面F1或第2主面F2之法線方向(第3方向Z)平行之軸非對稱之立體形狀。例如，反射體2之形狀係相對於通過重心C1或重心C2於第3方向Z延伸之軸非旋轉對稱。
高反射層20之第1主面F1之側之面係沿著凸圖案PT1之表面之反射面20a。此種反射面20a係朝向第1主面F1之側及光源LS之側(圖中右側)且向第2主面F2之側凸之曲面狀。反射體2係以可向第1主面F1照射來自第1端部E1之光的方式將反射面20a以傾斜之狀態配置。於本實施形態中，反射面20a之曲率中心C3位於較反射面20a之第3方向Z之中心更 靠向第1主面F1之側。於圖3(b)中顯示反射面20a為以單一曲率中心C3作為中心之曲率半徑R之面之情形，但於反射面20a之曲率中心於各位置變化之情形時，可以使例如該等曲率中心之大部分或全部位於較反射面20a之對應部分更靠向第1主面F1之側之方式，設定反射面20a。
藉由使用具有此種形狀之反射面20a之反射體2，可將由反射面20a反射且自第1主面F1出射之光之角度控制於特定之角度範圍。即，與反射面20a為平面狀之情形、或雖為曲面但曲率中心C3位於第2主面F2之側之情形相比，可縮小自第1主面F1出射之光之角度範圍。
又，反射體2因其重心C1與凸圖案PT1之重心C2於XY平面中錯開，故可使自第1主面F1出射之光之角度具有各向異性。例如於圖2及圖3所示之反射體2中，可將自第1主面F1出射之光之角度以傾向第1端部E1之側之方式控制。
使用圖4至圖6說明導光板LG之製造方法之一例。於各圖中，顯示各製造步驟中之導光板LG之部分立體圖(a)、與YZ平面中之部分剖視圖(b)。
首先，如圖4(a)(b)所示，於透明基材10之第2主面10b形成複數個凸圖案PT1。凸圖案PT1例如藉由光微影而形成。該情形時，藉由例如加熱顯影後之凸圖案PT1，使至少一部分熔融，可如圖4(b)所示般使凸圖案PT1之角變圓，而形成為球面狀。另，凸圖案PT1之形成方法並未限定於光微影，亦可為利用噴墨等之印刷法或其他方法。形成各凸圖案PT1之位置可具有規則性，又可隨機。
繼而，如圖5(a)(b)所示，形成將複數個凸圖案PT1之各者至少部分覆蓋之複數個反射體2。例如於該步驟中，於設置有凸圖案PT1之透明基材10之第2主面10b，將高反射層20及低反射層21以該順序藉由蒸鍍或濺鍍而成膜，且將該等高反射層20及低反射層21藉由例如蝕刻而圖案化，從而形成圖5(a)(b)所示之形狀之反射體2。其後，如圖 6(a)(b)所示，於透明基材10之第2主面10b上形成覆蓋反射體2及凸圖案PT1之保護層11。藉此，完成導光板LG。
其次，對高反射層20之反射面20a可採用之具體形狀之一例進行敘述。反射面20a於沿著自導光體1之第1端部E1向第2端部E2之方向之剖面(YZ平面之剖面)中，與第1主面F1或平行於該第1主面F1之假想面之間所成之角度具有特定之傾斜角分佈。例如照明裝置LD如後述之第5實施形態般作為搭載於智慧型手機或平板終端等之反射型顯示裝置之前照燈而使用之情形時，該傾斜角分佈藉由使角度之峰值位於10°以上且50°以下，較佳30°以上且45°以下，更佳37°以上且43°以下，可提高顯示圖像之視認性。
關於反射面20a之傾斜角分佈及其峰值之測定方法，使用圖7及圖8進行說明。於測定時，首先測定反射面20a之輪廓。圖7係示意性顯示反射面20a之YZ平面中之輪廓PF之圖。該輪廓PF相當於例如通過反射體2之重心之YZ平面之反射面20a之形狀。
於傾斜角分佈之測定時，於第3方向Z上，將輪廓PF以等間隔分割成複數個區域。於圖7之例中，藉由以等間隔排列於第3方向Z之邊界線L0~L5，而將輪廓PF分割成6個區域A0~A5。
藉由測定各區域A0~A5之輪廓PF之傾斜角θ0~θ5，可獲得傾斜角分佈。例如，傾斜角θ0相當於連接輪廓PF之第1主面F1之側(圖中下側)之始點、與邊界線L0和輪廓PF相交之點之線段相對於第2方向Y之斜率。又，傾斜角θ1相當於連接邊界線L0與輪廓PF相交之點、與邊界線L1和輪廓PF相交之點之線段相對於第2方向Y之斜率。以下，傾斜角θ2~θ5亦可以相同之步驟測定。
另，於圖7中例示將輪廓PF分割成6個區域A0~A5之情形，但實際上較理想為例如分割成10以上之區域而測定各區域之傾斜角。將如此般測定之傾斜角分佈之一例顯示於圖8之圖表。於該圖表中，橫軸 為傾斜角(deg)，縱軸為分佈率(%)。此處，將傾斜角分佈以每5°之柱形圖顯示。分佈率相當於輪廓PF之全長中，與橫軸之傾斜角相當之長度之比例。所分割之各區域之傾斜角係假定為對各個區域所測定之傾斜角且為一定。於圖8之傾斜角分佈中，傾斜角之峰值位於40°附近，滿足上述之37°以上且43°以下之角度範圍之條件。
繼而，就導光體1中之反射體2之配置之具體例進行說明。
圖9係示意性顯示反射體2之配置之一例之圖，於上側顯示導光體1中之反射體2於XY平面內之配置，於下側顯示YZ平面中之剖面。反射體2係以自第1端部E1向第2端部E2於XY平面中之密度變高之方式配置。若從其他觀點而言，則反射體2自第1端部E1向第2端部E2增多每單位面積之設置數而配置。再者，於圖9之例中，導光板LG於導光體1之內部具備複數個虛設反射體3(第2反射體)。各虛設反射體3係以自第1端部E1向第2端部E2於XY平面中之密度變低之方式配置。若根據其他觀點而言，則虛設反射體3自第1端部E1向第2端部E2減少每單位面積之設置數而配置。例如，集合了反射體2及虛設反射體3之配置密度於XY平面中大致均一。
虛設反射體3具備與反射體2相同配置於第1主面F1之側之高反射層30、及覆蓋該高反射層30之低反射層31。虛設反射體3係未介隔凸圖案PT1，直接形成於透明基材10之第2主面10b。因此，高反射層30之反射面30a與第1主面F1相對向，且為大致平面。此種虛設反射體3可與反射體2於相同之製造步驟中同時形成。虛設反射體3之外形於在第3方向Z上俯視時，與反射體2之外形一致。入射至第1端部E1之來自光源LS之光之一部分於到達虛設反射體3之反射面30a時被全反射。該反射之光係由於反射面30a為平面，故未被賦予自第1主面F1出射之角度，而再次被第1主面F1全反射。另一方面，該光於到達反射體2之反射面20a時，由於反射面20a為曲面，故被賦予違反第1主面F1之全 反射條件之角度，而自第1主面F1出射。
根據以上說明之本實施形態之照明裝置LD，導光板LG具備複數個反射體2，該等反射體2具有朝向第1主面F1之側且曲率中心位於第1主面F1之側之曲面狀之反射面20a，因而可使傳播於導光體1之光自第1主面F1以特定之角度範圍出射。
又，反射體2具備覆蓋高反射層20之低反射層21。藉此，可防止自第2主面F2之側入射之光之藉由高反射層20之反射。藉由防止此種反射，可防止自第2主面F2之側觀察導光板LG時之眩光。例如如後述之第5實施形態般，於將照明裝置LD作為顯示裝置之前照燈使用之情形時，藉由防止眩光，可期待顯示於顯示裝置之圖像之視認性提高。
又，反射體2因其重心C1與凸圖案PT1之重心C2於XY平面中錯開，故可使自第1主面F1出射之光之角度具有各向異性。具體而言，如圖3所示，於本實施形態中，重心C1較重心C2位於距光源LS更遠側。於該情形時，由反射體2反射之來自光源LS之光係例如如圖2中虛線所示之路徑，具有大致傾向光源LS之側之角度而自第1主面F1出射。即，於本實施形態中，可實現自第1主面F1出射之光之角度成為大致傾向光源LS之側之角度之各向異性。此種照明裝置LD可於對出射光之角度需要各向異性之多種用途中使用。
又，來自光源LS之光之強度隨著趨向於第2端部E2而變弱，但藉由將反射體2之密度自第1端部E1向第2端部E2提高，可使自第1主面F1出射之光之亮度均一化。
又，藉由設置虛設反射體3，可將自第1主面F1向第2主面F2透過導光板LG之光之亮度於XY平面中大致均一化。例如該作用係如以第5實施形態後述般，對將照明裝置LD作為顯示裝置之前照燈使用之情形有益。
又，若使用本實施形態之導光板LG之製造方法形成反射體2，則 可容易製造於內部具備反射體2之導光板LG及具備該導光板LG之照明裝置LD。
除以上外，根據本實施形態亦可獲得多種較佳之作用。
(第2實施形態)
對第2實施形態進行說明。於本實施形態中，揭示導光板及照明裝置可採用之其他構造。於以下說明中，著眼於與第1實施形態之差異，對與第1實施形態相同或類似之要件標註相同符號並適當省略說明。
圖10係用以說明本實施形態之照明裝置LD之圖，顯示YZ平面中之照明裝置LD之概略剖面。該圖所示之照明裝置LD之導光板LG與第1實施形態相同，具備：導光體1，其包含透明基材10及保護層11；及反射體2。保護層11包含第1保護層11a、及第2保護層11b。反射體2之構造與第1實施形態相同。
第1保護層11a形成於透明基材10之第2主面10b。第1保護層11a具有複數個凹圖案PT2。凹圖案PT2係例如半球狀或部分球面狀。沿該等凹圖案PT2之內表面，反射體2配置於保護層11之內部。與第1實施形態之反射體2及凸圖案PT1之關係相同，於XY平面中，反射體2之重心與凹圖案PT2之重心錯開。反射體2之重心較凹圖案PT2之重心位於距光源LS更遠側(圖中左側)。
第2保護層11b覆蓋反射體2、自反射體2露出之凹圖案PT2、及第1保護層11a。第2保護層11b填滿凹圖案PT2之內部。第1保護層11a及第2保護層11b可以折射率彼此大致相等之材料、例如相同之材料形成。藉此，於第1保護層11a及第2保護層11b之邊界，自第1保護層11a向第2保護層11b之光或向其反向之光折射、或該等光反射等之光學影響幾乎消失。以相同材料形成第1保護層11a及第2保護層11b之情形時，其等實質上成為一體，而幾乎無法視認該邊界。
於圖10之例中，導光體1之第1主面F1相當於第2保護層11b之外表面(未與第1保護層11a相接之側之面)，導光體1之第2主面F2相當於透明基材10之第1主面10a。
於圖10中，如虛線所示，由光源LS之發光部EP發出而自第1端部E1進入導光體1之光係一面被第1主面F1及第2主面F2等全反射一面向第2端部E2傳播。該光之一部分於被反射體2之高反射層20(反射面20a)反射而到達第1主面F1時違反全反射條件，而自第1主面F1出射。
使用圖11至圖13說明本實施形態之導光板LG之製造方法之一例。於各圖中，顯示各製造步驟中之導光板LG之部分立體圖(a)、與YZ平面中之部分剖視圖(b)。
首先，如圖11(a)(b)所示，於透明基材10之第2主面10b形成第1保護層11a，且於該第1保護層11a形成複數個凹圖案PT2。凹圖案PT2可藉由例如機械性地凹設第1保護層11a而形成。又，凹圖案PT2亦可以具有感光性之樹脂材料之光阻形成第1保護層11a，且藉由利用光微影自該光阻去除相當於凹圖案PT2之部分而形成。該情形時，藉由例如加熱顯影後之凹圖案PT2，使至少一部分熔融，可如圖11(b)所示般使凹圖案PT2之角變圓，而形成為球面狀。形成各凹圖案PT2之位置可具有規則性，又可隨機。
繼而，如圖12(a)(b)所示，形成將複數個凹圖案PT2之各者至少部分覆蓋之複數個反射體2。例如於該步驟中，於設置有凹圖案PT2之第1保護層11a之表面，將高反射層20及低反射層21以該順序藉由蒸鍍或濺鍍而成膜，且將該等高反射層20及低反射層21藉由例如蝕刻而圖案化，從而形成圖12(a)(b)所示之形狀之反射體2。
其後，如圖13(a)(b)所示，於第1保護層11a上形成覆蓋反射體2及凹圖案PT2之第2保護層11b。藉此，完成導光板LG。
本實施形態所揭示之導光板LG，亦可獲得與第1實施形態相同之 作用。
(第3實施形態)
對第3實施形態進行說明。於本實施形態中，揭示導光板及照明裝置可採用之其他構造。於以下說明中，著眼於與第1實施形態之差異，對與第1實施形態相同或類似之要件標註相同符號並適當省略說明。
圖14係用以說明本實施形態之照明裝置LD之圖，顯示YZ平面中之照明裝置LD之概略剖面。該圖所示之照明裝置LD之導光板LG與第1實施形態相同，具備：導光體1，其包含透明基材10及保護層11；及反射體2。反射體2之構造與第1實施形態相同。
透明基材10於第2主面10b具有複數個凹圖案PT3。凹圖案PT3係例如半球狀或部分球面狀。沿該等凹圖案PT3之內表面配置有反射體2。與第1實施形態之反射體2及凸圖案PT1之關係相同，於XY平面中，反射體2之重心與凹圖案PT3之重心錯開。反射體2之重心較凹圖案PT3之重心位於距光源LS更遠側(圖中左側)。
保護層11覆蓋反射體2、自反射體2露出之凹圖案PT3、及透明基材10之第2主面10b。保護層11填滿凹圖案PT3之內部。
於圖14之例中，導光體1之第1主面F1相當於保護層11之外表面(未與透明基材10相接之側之面)，導光體1之第2主面F2相當於透明基材10之第1主面10a。
於圖14中，如虛線所示，由光源LS之發光部EP發出而自第1端部E1進入導光體1之光係一面被第1主面F1及第2主面F2等全反射一面向第2端部E2傳播。該光之一部分於被反射體2之高反射層20(反射面20a)反射而到達第1主面F1時違反全反射條件，而自第1主面F1出射。
使用圖15至圖17說明本實施形態之導光板LG之製造方法之一例。於各圖中，顯示各製造步驟中之導光板LG之部分立體圖(a)、與 YZ平面中之部分剖視圖(b)。
首先，如圖15(a)(b)所示，於透明基材10之第2主面10b形成複數個凹圖案PT3。凹圖案PT3可藉由例如機械性地凹設透明基材10而形成。又，凹圖案PT3亦可藉由除其形成位置外將透明基材10之第2主面10b設為掩模，利用氫氟酸水溶液等侵蝕第2主面10b而形成。形成各凹圖案PT3之位置可具有規則性，又可隨機。
繼而，如圖16(a)(b)所示，形成將複數個凹圖案PT3之各者至少部分覆蓋之複數個反射體2。例如於該步驟中，於設置有凹圖案PT3之透明基材10之第2主面10b，將高反射層20及低反射層21以該順序藉由蒸鍍或濺鍍而成膜，且將該等高反射層20及低反射層21藉由例如蝕刻而圖案化，從而形成圖16(a)(b)所示之形狀之反射體2。
其後，如圖17(a)(b)所示，於透明基材10之第2主面10b上，形成覆蓋反射體2、凹圖案PT3、及第2主面10b之保護層11。藉此，完成導光板LG。
本實施形態所揭示之導光板LG，亦可獲得與第1實施形態相同之作用。
(第4實施形態)
對第4實施形態進行說明。於本實施形態中，揭示導光板及照明裝置可採用之其他構造。於以下說明中，著眼於與第1實施形態之差異，對與第1實施形態相同或類似之要件標註相同符號並適當省略說明。
於光源LS附近，自第1端部E1入射至導光體1之光之一部分未滿足全反射條件，而自第2主面F2出射。於本實施形態中，揭示用以降低此種漏光之構造。
圖18係用以說明本實施形態之照明裝置LD之圖，顯示YZ平面中之照明裝置LD之概略剖面。該圖所示之照明裝置LD之導光板LG與第 1實施形態相同，具備：導光體1，其包含透明基材10及保護層11；及反射體2。透明基材10、保護層11、及反射體2之構造與第1實施形態相同。
導光體1進而具備覆蓋保護層11之外表面(未與透明基材10相接之側之面)之低折射率層12。該低折射率層12例如藉由折射率較保護層11更低之樹脂材料而形成。
導光板LG進而具備：輔助反射體4(第3反射體)，其於光源LS之附近設置於導光體1之內部。輔助反射體4例如設置於較各反射體2更靠向第1端部E1之側，沿第1端部E1於第1方向X延伸。輔助反射體4亦可自與導光體1之第1方向X相交之一側之端部連續延伸至另一側之端部為止，又可將複數個輔助反射體4於該等端部之間排列於第1方向X。
輔助反射體4具備：高反射層40，其較佳地反射傳播於導光體1之光；及低反射層41(或遮光層)，其光之反射率低於高反射層40。作為高反射層40，可利用例如鋁或銀等金屬材料。作為低反射層41，可利用例如反射率相對較低之金屬或金屬氧化膜。
高反射層40覆蓋配置於透明基材10之第2主面10b之凸圖案PT4之一部分。低反射層41覆蓋高反射層40之第2主面F2之側之面。凸圖案PT4具有例如於第1方向X延伸且排列於第2方向Y之複數個凸部。各凸部之表面之YZ平面之剖面形狀係較凸圖案PT1之表面整體上曲率更小之圓弧狀。高反射層40之第1主面F1側之面形成與凸圖案PT4之表面相同形狀之反射面40a。該反射面40a於沿著自第1端部E1向第2端部E2之方向之剖面(YZ平面之剖面)中，具有較反射體2之反射面20a整體上更小之曲率。
保護層11覆蓋反射體2、自反射體2露出之凸圖案PT1、輔助反射體4、自輔助反射體4露出之凸圖案PT4、及透明基材10之第2主面 10b。凸圖案PT1、PT4可以與保護層11折射率大致相等之材料，例如與保護層11相同之材料形成。藉此，於凸圖案PT1、PT4與保護層11之邊界，自凸圖案PT1、PT4向保護層11之光或向其反向之光折射、或該等光反射等之光學影響幾乎消失。以相同材料形成凸圖案PT1、PT4與保護層11之情形時，其等實質上成為一體，而幾乎無法視認其邊界。
於圖18之例中，導光體1之第1主面F1相當於透明基材10之第1主面10a，導光體1之第2主面F2相當於低折射率層12之外表面(未與保護層11相接之側之面)。
於圖18中，如虛線所示，由光源LS之發光部EP發出而自第1端部E1進入導光體1之光之一部分，係一面被輔助反射體4之高反射層40(反射面40a)反射一面向第2端部E2傳播。此種光於假設無輔助反射體4之情形時，係可能違反第2主面F2之全反射條件而自第2主面F2出射之光。藉由適度增大反射面40a之曲率，被反射面40a反射之光不易違反第1主面F1之全反射條件，幾乎不自第1主面F1出射。朝向第2主面F2之光之一部分係於保護層11與低折射率層12之邊界被反射。進入低折射率層12之光，亦因藉由於上述邊界之折射而以相對較淺之角度朝向第2主面F2，故容易滿足第2主面F2上之全反射條件。被反射體2之高反射層20(反射面20a)反射之光之一部分，係違反第1主面F1之全反射條件，而自第1主面F1出射。
使用圖19至圖22說明本實施形態之導光板LG之製造方法之一例。於各圖中，顯示各製造步驟中之導光板LG之部分剖面。
首先，如圖19所示，於透明基材10之第2主面10b形成具有感光性之樹脂材料之光阻R。繼而，如圖20所示，使用半色調光罩M且藉由紫外線(UV)曝光光阻R。半色調光罩M具有：第1部分P1，其透過紫外光之大致全部；第2部分P2，其遮蔽紫外光之大致全部；及第3部 分P3，其透過紫外光之一部分。第1部分P1係與例如凸圖案PT1、PT4之任一者皆未形成之位置對應而配置。第2部分P2例如配置於與凸圖案PT1對應之位置、及與凸圖案PT4之複數個凸部之各者對應之位置。第3部分P3係以隔著第2部分P2之方式配置，該第2部分P2係與凸圖案PT4之複數個凸部之各者對應。
若對曝光後之光阻R進行顯影且去除無用部分，則如圖21所示，可獲得成為凸圖案PT1之基礎之孤立圖案PT1a、及成為凸圖案PT4之基礎之連續圖案PT4a。連續圖案PT4a具有較與半色調光罩M之第2部分P2對應之位置而與第3部分P3對應之位置更薄之凹凸形狀。
如圖21所示，藉由施加來自熱源HS之熱，而焙燒該等圖案PT1a、PT4a。藉由該焙燒，圖案PT1a、PT4a熔融而使角變圓，如圖22所示般孤立圖案PT1a成為半球狀或部分球面狀之凸圖案PT1，連續圖案PT4a成為具有於第1方向X延伸之曲面狀之複數個凸部之凸圖案PT4。藉由適當保持透明基材10之潤濕性而於焙燒時之圖案PT1a、PT4a之應力變形產生差異，且於連續圖案PT4a中2階段之厚度交替連續，因而凸圖案PT1之曲率變大，凸圖案PT4之各凸部之曲率變小。
其後，藉由於凸圖案PT1上設置高反射層20及低反射層21而形成反射體2，且藉由於凸圖案PT4上設置高反射層40及低反射層41而形成輔助反射體4。高反射層20、40可以相同材料同時形成，低反射層21、41可以相同材料同時形成。再者，藉由將反射體2、輔助反射體4、自反射體2露出之凸圖案PT1、自輔助反射體4露出之凸圖案PT4、及透明基材10之第2主面10b以保護層11覆蓋，且於保護層11上形成低折射率層12，而完成導光板LG。
本實施形態所揭示之導光板LG，亦可獲得與第1實施形態相同之作用。再者，藉由設置輔助反射體4，可降低光源LS之附近自導光體1之第2主面F2之漏光。
(第5實施形態)
對第5實施形態進行說明。於本實施形態中，作為具備有作為前照燈而發揮功能之照明裝置之顯示裝置之一例，揭示反射型之液晶顯示裝置。液晶顯示裝置例如可用於智慧型手機、平板終端、行動電話終端、個人電腦、電視收像裝置、車載裝置、遊戲機器等多種裝置。另，顯示裝置並未限於液晶顯示裝置，亦可為例如應用MEMS之顯示裝置或電子紙型之顯示裝置等其他種類之顯示裝置。
圖23係顯示本實施形態之顯示裝置DSP之概略構成之立體圖。該顯示裝置DSP具備顯示面板PNL、及照明裝置LD。照明裝置LD具備導光板LG、及光源LS，且可應用第1至第4實施形態所揭示之照明裝置LD之任一者。
顯示面板PNL具備陣列基板AR、及對向基板CT。於圖23之例中，陣列基板AR及對向基板CT具有包含沿著第1方向X之一對短邊與沿著第2方向Y之一對長邊之長方形且板狀之形狀。陣列基板AR及對向基板CT係使一個短邊與2個長邊一致而貼合。陣列基板AR較對向基板CT第2方向Y之尺寸更大，陣列基板AR具有自對向基板CT露出之配線區域LA。於配線區域LA，設置有外部連接用之配線或端子等。顯示面板PNL具有顯示圖像之顯示區域DA。
照明裝置LD係以第1主面F1與對向基板CT相對向，且導光體1之第1端部E1及光源LS位於配線區域LA之側之方式配置。例如，光源LS與配線區域LA於XY平面中重疊。例如，第1主面F1於XY平面中與顯示區域DA之整體重疊。
如圖中虛線所示，來自光源LS之光係傳播於導光體1且其一部分被反射體2反射而自第1主面F1出射，並入射至顯示面板PNL。使用該光，顯示面板PNL於顯示區域DA顯示圖像。顯示面板PNL亦可進而使用於導光體1自第2主面F2透過至第1主面F1之外光，或僅使用該外 光，而顯示圖像。
圖24係顯示顯示裝置DSP之YZ平面中之概略剖面之圖。此處，對1個主像素PX包含子像素PR、PG、PB之情形進行說明。顯示裝置DSP具備陣列基板AR、對向基板CT、液晶層LC、及光學元件OD。
陣列基板AR具備第1絕緣基板100、開關元件SW1、SW2、SW3、層間絕緣膜101、像素電極(反射電極)PE1、PE2、PE3、及第1配向膜102等。開關元件SW1~SW3形成於第1絕緣基板100之與對向基板CT對向之側。開關元件SW1配置於子像素PR，開關元件SW2配置於子像素PG，開關元件SW3配置於子像素PB。層間絕緣膜101覆蓋開關元件SW1~SW3及第1絕緣基板100。像素電極PE1~PE3形成於層間絕緣膜101之與對向基板CT對向之側。像素電極PE1~PE3包含例如藉由鋁或銀等具有光反射性之金屬材料形成之反射層。像素電極PE1~PE3或反射層具有大致平坦之表面(鏡面)。像素電極PE1配置於子像素PR，與開關元件SW1電性連接。像素電極PE2配置於子像素PG，與開關元件SW2電性連接。像素電極PE3配置於子像素PB，與開關元件SW3電性連接。第1配向膜102覆蓋像素電極PE1~PE3及層間絕緣膜101。
對向基板CT具備第2絕緣基板200、遮光層BM、彩色濾光片CFR、CFG、CFB、保護層201、共通電極CE、及第2配向膜202等。遮光層BM形成於第2絕緣基板200之與陣列基板AR對向之側。彩色濾光片CFR、CFG、CFB形成於第2絕緣基板200之與陣列基板AR對向之側，其等之一部分與遮光層BM重疊。彩色濾光片CFR為紅色彩色濾光片，配置於子像素PR，與像素電極PE1對向。彩色濾光片CFG為綠色彩色濾光片，配置於子像素PG，與像素電極PE2對向。彩色濾光片CFB為藍色彩色濾光片，配置於子像素PB，與像素電極PE3對向。另，主像素PX進而包含其他顏色之子像素之情形時，對應顏色之彩 色濾光片配置於該子像素。於一例中，作為與紅色、綠色、藍色不同之其他顏色之彩色濾光片，亦可包含黃色、淡藍色、淡紅色等之彩色濾光片，又可包含實質上透明或白色之彩色濾光片。該等彩色濾光片CF係與顯示各個顏色之子像素對應而配置。保護層201覆蓋彩色濾光片CF。共通電極CE形成於保護層201之與陣列基板AR對向之側。該共通電極CE例如跨及主像素PX之全域而配置，與像素電極PE1~PE3對向。作為其他例，亦可將帶狀之共通電極CE於第1方向X或第2方向Y排列複數個。共通電極CE係藉由氧化銦錫(ITO)或氧化銦鋅(IZO)等透明之導電材料而形成。第2配向膜202覆蓋共通電極CE。
該等陣列基板AR及對向基板CT係以第1配向膜102及第2配向膜202對向之狀態貼合。液晶層LC包含液晶分子LM，且保持於第1配向膜102與第2配向膜202之間。
光學元件OD配置於對向基板CT之與液晶層LC相接之面相反側之面。光學元件OD例如包含相位差板RT及偏光板PL等。相位差板RT例如接著於第2絕緣基板200。例如，相位差板RT係積層1/4波長板與1/2波長板而構成，以降低波長依存性，於彩色顯示所利用之波長範圍內獲得期望之相位差之方式構成。偏光板PL積層於相位差板RT。
導光板LG進而具備具有與光之入射角度相應之散射各向異性之各向異性散射層6。各向異性散射層6例如接著於導光體1之第1主面F1。各向異性散射層6具有透過自特定方向入射之光，使自其它特定方向入射之光擴散之功能。
如圖中實線箭頭所示，自導光體1之第1主面F1出射之特定方向之光、或透過導光體1之特定方向之外光未擴散而透過各向異性散射層6，入射至顯示面板PNL。該光被像素電極PE1~PE3反射，再次到達各向異性散射層6並被擴散，而透過導光體1。該透過之光作為圖像被視認。各向異性散射層6亦可配置於偏光板PL與對向基板CT之間。
顯示裝置DSP之使用者例如以使圖23所示之配線區域LA之側靠近自身之狀態目測顯示區域DA。於此種使用態樣中，藉由以峰值位於上述範圍，即10°以上且50°以下，較佳30°以上且45°以下，更佳37°以上且43°以下之方式設定反射體2之傾斜角分佈，可使自第1主面F1出射之光及像素電極PE1~PE3所反射之光對於各向異性散射層6成良好角度，而提高顯示圖像之視認性。
又，藉由如使用圖9說明般設置虛設反射體3，可使被像素電極PE1、PE2、PE3等反射而透過導光體1之光之亮度於XY平面中大致均一化，而獲得無不均且良好之顯示圖像。
此外，根據本實施形態可獲得與其他實施形態相同之作用。
(第6實施形態)
對第6實施形態進行說明。於本實施形態中，揭示具備作為前照燈而發揮功能之照明裝置且具有作為觸控感測器(觸控面板、觸控螢幕)之功能之顯示裝置之一例。
圖25係顯示本實施形態之顯示裝置DSP之概略構成之立體圖。該顯示裝置DSP具備顯示面板PNL、及照明裝置LD。顯示裝置DSP為例如液晶顯示裝置，顯示面板PNL具有與第5實施形態相同之構造。照明裝置LD具備導光板LG、及光源LS，且可應用第1至第4實施形態所揭示之照明裝置LD之任一者。
顯示裝置DSP具備驅動電極TX、與檢測電極RX。驅動電極TX及檢測電極RX例如彼此對向。該等驅動電極TX及檢測電極RX構成靜電電容型之觸控感測器，可基於對驅動電極TX供給驅動信號時自檢測電極RX獲得之檢測信號之變化，檢測接觸或接近於顯示裝置DSP之物體。
於圖25之例中，複數個驅動電極TX設置於顯示面板PNL，該等複數個驅動電極TX於顯示區域DA中於第2方向Y延伸且排列於第1方 向X。各驅動電極TX可例如藉由ITO或IZO等透明之導電材料而形成。各驅動電極TX亦可設置於與照明裝置LD對向之顯示面板PNL之主面，又可設置於顯示面板PNL之內部。後者之情形時，可將圖24所示之共通電極CE作為驅動電極TX而利用。再者，亦可採用於照明裝置LD之第1主面F1形成驅動電極TX之構成。於該情形時，該等複數個驅動電極TX為了與檢測電極RX交叉，亦可採用形成為於第2方向Y延伸之帶狀且排列於第1方向X之構成。
另一方面，於圖25之例中，於導光板LG設置有複數個檢測電極RX，該等複數個檢測電極RX於與顯示區域DA對向之區域中於第1方向X延伸且排列於第2方向Y。各檢測電極RX可例如藉由ITO或IZO等透明之導電材料而形成。又，各檢測電極RX亦可藉由金屬細線即檢測線而形成。於該情形時，作為各檢測電極RX之圖案，可採用包含以波狀延伸之1或複數條檢測線之圖案、或包含網狀之檢測線之圖案等。亦可藉由於各檢測電極RX之間電性配置浮動之虛設檢測線，而使顯示區域DA之檢測線之分佈密度均一化。金屬細線即檢測線可遮蔽光，藉由使檢測線之分佈密度均一化，可降低對顯示區域DA所顯示之圖像之光學影響。
各檢測電極RX例如亦可設置於導光體1之第2主面F2，又可設置於導光體1之內部。於後者之情形時，可將各檢測電極RX與反射體2設置於同層，且以相同之製造步驟形成各檢測電極RX及反射體2。
關於該製造步驟之一例，使用圖26至圖28進行說明。此處，作為一例，設想除檢測電極RX外導光板LG具有與第1實施形態相同之構成之情形。於各圖中，顯示各製造步驟中之導光板LG之部分立體圖(a)、與XZ平面之部分剖視圖(b)。
首先，如圖26(a)(b)所示，於透明基材10之第2主面10b形成複數個凸圖案PT1。
繼而，如圖27(a)所示，於透明基材10之第2主面10b形成檢測線7。於圖27(a)之例中，檢測線7與第1端部E1大致平行地延伸，與形成於第2主面10b之複數個凸圖案PT1中之一部分重疊。於該步驟中，與檢測線7之形成同時，相對於未與檢測線7重疊之凸圖案PT1形成反射體2。藉由將凸圖案PT1之直徑設得較檢測線7之寬度更大，可擴大重疊之容限，而緩和製造上之精度要求。檢測線7例如將凸圖案PT1部分覆蓋。於圖示之例中，以於第1端部E1之側露出凸圖案PT1之方式形成有檢測線7。亦可不將反射體2形成於未與檢測線7重疊之凸圖案PT1。於形成上述之虛設檢測線之情形時，對於該檢測線，亦可以與凸圖案PT1重疊之方式配置。
如圖27(b)所示，檢測線7具備高反射層70、及低反射層71。將成為高反射層20、70之基礎之膜、與成為低反射層21、71之基礎之膜按該順序形成後，將該等膜圖案化成反射體2及檢測線7之形狀，藉此可同時形成反射體2及檢測線7。若對高反射層20、70使用鋁或銀，則不僅可獲得良好之反射能力，還可獲得良好之觸控檢測能力。
於形成反射體2及檢測線7後，如圖28(a)(b)所示，於透明基材10之第2主面10b上形成覆蓋反射體2、檢測線7、及凸圖案PT1等之保護層11。藉此，完成導光板LG。
此處，對導光板LG具有與第1實施形態相同之構成之情形進行敘述，但即使為導光板LG具有與第2至第4實施形態相同之構成之情形，亦可將反射體2與檢測線7以相同之製造步驟形成於同層。
藉由以於第1端部E1之側露出凸圖案PT1之方式形成檢測線7，可使檢測線7中與凸圖案PT1重疊之部分與反射體2相同地作用，使被該部分之高反射層70反射而自第1主面F1出射之光之角度具有各向異性。
另，觸控感測器之功能亦可以與本實施形態不同之方法賦予至 顯示裝置DSP。例如，亦可將驅動電極TX及檢測電極RX之兩者設置於顯示面板PNL。該情形時，可例如將檢測電極RX設置於對向基板CT之外表面(與照明裝置LD對向之側之面)，且將共通電極CE作為驅動電極TX而使用。或，亦可採用將驅動電極TX及檢測電極RX之兩者於相同面上交替配置之構成。作為其他方法，亦可於與顯示面板PNL及照明裝置LD不同之基板之一主面設置驅動電極TX，且於另一主面設置檢測電極RX，並將該基板設置於導光體1之第2主面F2之側或第1主面F1與顯示面板PNL之間。
於圖27及圖28中，例示使檢測線7與凸圖案PT1重疊且使檢測線7之一部分與反射體2相同發揮功能之情形，但檢測線7亦可設置於不與凸圖案PT1重疊之位置。於該情形時，亦可採用驅動電極TX於第1方向X延伸且排列於第2方向Y，檢測電極RX於第2方向Y延伸且排列於第1方向X之構成。
又，於本實施形態中，對使用驅動電極TX與檢測電極RX之所謂之相互電容檢測方式之觸控感測器進行說明，但觸控感測器之檢測方式亦可為其他方式。例如，亦可採用僅使用檢測電極RX之所謂之自電容檢測方式。於該檢測方式中，可基於檢測電極RX具有之自電容之變化，檢測接觸或接近於顯示裝置DSP之物體。
雖已說明本發明之若干實施形態，但該等實施形態係作為例子而提示者，並未意圖限定發明之範圍。該等新穎之實施形態可以其他各種形態實施，於不脫離發明之主旨之範圍內，可進行各種省略、置換、及變更。該等實施形態或其變形包含於發明之範圍或主旨，且包含於申請專利範圍所記載之發明及其均等之範圍。
例如，各實施形態所揭示之構成，可適當組合。
又，於各實施形態中，為了使自導光體1之第1主面F1出射之光之角度具有各向異性，使反射體2之重心與各圖案PT1、PT2、PT3之 重心於XY平面中錯開。然而，亦可使反射體2之重心與各圖案PT1、PT2、PT3之重心於XY平面中一致，而不具有各向異性。於該情形時，若為反射面20a之曲率中心位於較反射面20a更靠向第1主面F1之側之形狀，則可將由反射面20a反射而自第1主面F1出射之光之角度集中於特定範圍。
於各實施形態中，亦可於導光體1之第2主面F2之側，配置蓋玻片等其他要件。此種其他要件亦可視為導光板LG之一部分，又可視為照明裝置LD之一部分。又，亦可視為顯示裝置DSP之一部分。
1‧‧‧導光體
2‧‧‧反射體
10‧‧‧透明基材
10a‧‧‧第1主面
10b‧‧‧第2主面
11‧‧‧保護層
20‧‧‧高反射層
21‧‧‧低反射層
E1‧‧‧第1端部
E2‧‧‧第2端部
EP‧‧‧發光部
F1‧‧‧第1主面
F2‧‧‧第2主面
LD‧‧‧照明裝置
LG‧‧‧導光板
LS‧‧‧光源
PT1‧‧‧凸圖案
X‧‧‧第1方向
Y‧‧‧第2方向
Z‧‧‧第3方向

Claims (15)

  1. 一種顯示裝置，其包含：顯示面板，其包含顯示圖像之顯示區域；光源；導光體，其包含面向上述光源之第1端部、上述第1端部之相反側之第2端部、跨及上述第1端部及上述第2端部而設並與上述顯示面板對向之第1主面、及位於上述第1主面之相反側並跨及上述第1端部及上述第2端部而設之第2主面；複數個第1反射體，其等以自上述第1端部向上述第2端部增多每單位面積之設置數的方式設置於上述導光體之內部，使自上述第1端部入射且傳播於上述導光體之光反射並自上述第1主面出射；及複數個第2反射體，其等以自上述第1端部向上述第2端部減少每單位面積之設置數的方式設置於上述導光體之內部；且上述複數個第1反射體之各者，係於上述導光體之厚度方向上配置於距上述第1主面或上述第2主面一定距離之位置，且包含朝向上述第1主面之側並向上述第2主面之側凸之曲面狀之第1反射面，並且，以可向上述第1主面照射來自上述第1端部之光之方式將上述第1反射面以傾斜之狀態配置；上述複數個第2反射體之各者係包含與上述第1主面相對向之大致平面之第2反射面，且自上述第1主面或上述第2主面之法線方向俯視上述導光體時之外形與上述第1反射體一致。
  2. 如請求項1之顯示裝置，其中進而包含用於檢測接近上述顯示區域之物體之設置於上述導光體之檢測線。
  3. 如請求項2之顯示裝置，其中上述複數個第1反射體係上述檢測線之一部分。
  4. 一種照明裝置，其包含：光源；導光體，其包含面向上述光源之第1端部、上述第1端部之相反側之第2端部、跨及上述第1端部及上述第2端部而設之第1主面、及位於上述第1主面之相反側並跨及上述第1端部及上述第2端部而設之第2主面；複數個第1反射體，其等以自上述第1端部向上述第2端部增多每單位面積之設置數的方式設置於上述導光體之內部，使自上述第1端部入射且傳播於上述導光體之光反射並自上述第1主面出射；及複數個第2反射體，其等以自上述第1端部向上述第2端部減少每單位面積之設置數的方式設置於上述導光體之內部；且上述複數個第1反射體之各者，係於上述導光體之厚度方向上配置於距上述第1主面或上述第2主面一定距離之位置，且包含朝向上述第1主面之側並向上述第2主面之側凸之曲面狀之第1反射面，並且，以可向上述第1主面照射來自上述第1端部之光之方式將上述第1反射面以傾斜之狀態配置；上述複數個第2反射體之各者係包含與上述第1主面相對向之大致平面之第2反射面，且自上述第1主面或上述第2主面之法線方向俯視上述導光體時之外形與上述第1反射體一致。
  5. 一種導光板，其包含：導光體，其包含第1端部、上述第1端部之相反側之第2端部、跨及上述第1端部及上述第2端部而設之第1主面、及位於上述第1主面之相反側並跨及上述第1端部及上述第2端部而設之第2主 面；複數個第1反射體，其等以自上述第1端部向上述第2端部增多每單位面積之設置數的方式設置於上述導光體之內部，使傳播於上述導光體之光反射並自上述第1主面出射；及複數個第2反射體，其等以自上述第1端部向上述第2端部減少每單位面積之設置數的方式設置於上述導光體之內部；且上述複數個第1反射體之各者，係於上述導光體之厚度方向上配置於距上述第1主面或上述第2主面一定距離之位置，且包含朝向上述第1主面之側並向上述第2主面之側凸之曲面狀之第1反射面，並且，以可向上述第1主面照射來自上述第1端部之光之方式將上述第1反射面以傾斜之狀態配置；上述複數個第2反射體之各者係包含與上述第1主面相對向之大致平面之第2反射面，且自上述第1主面或上述第2主面之法線方向俯視上述導光體時之外形與上述第1反射體一致。
  6. 如請求項5之導光板，其中上述第1反射體包含：第1高反射層，其包含上述第1反射面；及第1低反射層，其自上述第1反射面之相反側覆蓋上述第1高反射層。
  7. 如請求項5之導光板，其中上述第1反射體具有相對於與上述第1主面或上述第2主面之法線方向平行之軸非對稱之形狀。
  8. 如請求項5至7中任一項之導光板，其中上述導光體包含：基材，其包含上述第1主面；及保護層，其包含上述第2主面，並覆蓋上述基材之一面；且 上述第1反射體設置於上述保護層之內部。
  9. 如請求項5至7中任一項之導光板，其中上述導光體包含：基材，其包含上述第2主面；及保護層，其包含上述第1主面，並覆蓋上述基材之一面；且上述第1反射體設置於上述保護層之內部。
  10. 如請求項5至7中任一項之導光板，其中上述導光體包含：基材，其包含上述第2主面；及保護層，其包含上述第1主面，並覆蓋上述基材之一面；且上述基材於藉由上述保護層覆蓋之一面具有凹圖案；上述第1反射體設置於上述凹圖案之內部。
  11. 如請求項5之導光板，其中上述導光體包含：基材，其包含上述第1主面；低折射率層，其包含上述第2主面；及保護層，其配置於上述基材與上述低折射率層之間，覆蓋上述基材之一面；且上述低折射率層之折射率較上述保護層低。
  12. 如請求項5至7中任一項之導光板，其中上述第2反射體包含：第2高反射層，其包含上述第2反射面；及第2低反射層，其自上述第2反射面之相反側覆蓋上述第2高反射層。
  13. 如請求項5至7中任一項之導光板，其中上述第1反射面於沿著自上述第1端部向上述第2端部之方向之 剖面中，與上述第1主面之間所成之角度具有峰值位於10°以上且50°以下之傾斜角分佈。
  14. 如請求項5至7中任一項之導光板，其中進而包含：第3反射體，其於上述導光體之內部設置於較上述複數個第1反射體靠上述第1端部側，並包含朝向上述第1主面之側且曲率中心位於上述第1主面之側之曲面狀之第3反射面；且於沿著自上述第1端部向上述第2端部之方向之剖面中，上述第3反射體之上述第3反射面具有較上述第1反射體之上述第1反射面小之曲率。
  15. 如請求項5至7中任一項之導光板，其中進而包含：各向異性散射層，其配置於上述第1主面，具有根據光之入射角度之散射各向異性。
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