CN102425745A - 发光模块 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种发光模块，包括：一光源及一导光板。光源朝导光板之一入光面发光。导光板之出光面上配置有多个线性立体单元。导光板之反射面包含多个第一立体单元群及一第二立体单元群。第一立体单元群分别位于反射面对应线性立体单元之垂直投影位置内，各别包含多个并行线性立体单元之第一线性微结构。第二立体单元群位于反射面上第一立体单元群以外之区域，由多个第二线性微结构所组成。第一、第二线性微结构不相同，皆并行线性立体单元及入光面。第二线性微结构之垂直落差、最大宽度及分布密度至少其中之一系随其与入光面之距离大小成正比。可以改善导光板出光面非预期的线性亮纹，从而均匀化导光板出光面的出光亮度。
Description
技术领域
本发明涉及一种发光模块，尤其涉及一种发光模块的结构。
背景技术
现阶段之发光模块中，含有线性凹沟或凸条之微结构图案之导光板系统中，其一面间隔地配置有多个线性凹沟或凸条之微结构图案。由于导光板发光时，出光面对应各线性凹沟或凸条之位置，会显示出多条对应之线性亮纹，导致出光面整体之出光不均匀，必须使用更多的光学覆盖片来弥补，相当耗费材料成本，有待加以进一步改良。
为此，若能提供一种发光模块的设计，可满足上述之需求，或至少为具有此缺陷提供一种解决之道，即成为亟待解决之一重要课题。
发明内容
本发明需要解决的技术问题是提供了一种发光模块，旨在解决上述的问题。
为了解决上述技术问题，本发明是通过以下技术方案实现的：
本发明包括：一第一光源；以及一导光板；所述的导光板包括：
一出光面；该出光面包括多个线性立体单元相互平行且间隔地配置于该出光面上；
一反射面；该反射面与该出光面相互对立；
一第一入光面；该第一入光面介于该出光面及该反射面之间，该第一入光面平行每一该些线性立体单元，该第一光源朝该第一入光面发光；
多个第一立体单元群；该多个第一立体单元群分别一对一地位于该反射面对应此些线性立体单元之一垂直投影位置内，每一该些第一立体单元群包含多个相互平行之第一线性微结构，该些第一线性微结构皆平行该些线性立体单元；以及
一第二立体单元群；该第二立体单元群位于该反射面上除了该些第一立体单元群以外之其它区域，该第二立体单元群是由多个相互平行之第二线性微结构所组成，该些第二线性微结构皆平行该些线性立体单元，该些第二线性微结构于该反射面上之垂直落差、最大宽度及分布密度至少其中之一是随着该些第二线性微结构分别与该第一入光面之距离大小成正比；该些第一线性微结构不同于该些第二线性微结构。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：可以改善导光板出光面非预期的线性亮纹，从而均匀化导光板出光面的出光亮度。
附图说明
第1图绘示本发明发光模块之立体示意图。
第2A图绘示本发明发光模块在第一实施例在一变化下之侧视图。
第2B图绘示本发明发光模块在第一实施例在另一变化下之侧视图。
第2C图绘示本发明发光模块在第一实施例在又一变化下之侧视图。
第3A图绘示本发明发光模块在第二实施例在一变化下之侧视图。
第3B图绘示本发明发光模块在第二实施例在另一变化下之侧视图。
第3C图绘示本发明发光模块在第二实施例在又一变化下之侧视图。
第4A图绘示本发明发光模块在第三实施例在一变化下之侧视图。
第4B图绘示本发明发光模块在第三实施例在另一变化下之侧视图。
第4C图绘示本发明发光模块在第三实施例在又一变化下之侧视图。
第5A图绘示本发明发光模块在第四实施例在一变化下之侧视图。
第5B图绘示本发明发光模块在第四实施例在另一变化下之侧视图。
第5C图绘示本发明发光模块在第四实施例在又一变化下之侧视图。
第6A图绘示本发明发光模块在第五实施例在一变化下之侧视图。
第6B图绘示本发明发光模块在第五实施例在另一变化下之侧视图。
第6C图绘示本发明发光模块于第五实施例于又一变化下之侧视图。
第7图绘示本发明发光模块在第六实施例之侧视图。
第8A图-第8D图绘示本发明发光模块之线性立体单元或线性微结构之多种外型变化示意图。
具体实施方式
下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细描述：
本发明所提供之一种发光模块，包含一第一光源及一导光板。导光板包含一第一入光面、一出光面、一反射面、多个第一立体单元群及一第二立体单元群。第一光源朝第一入光面发光。出光面包含多个线性立体单元相互平行且间隔地配置于出光面上。反射面与出光面相互对立。第一入光面介于出光面及反射面之间，第一入光面平行各线性立体单元。第一立体单元群分别一对一地位于反射面对应此些线性立体单元之一垂直投影位置内，各第一立体单元群包含多个相互平行之第一线性微结构，第一线性微结构皆并行线性立体单元。第二立体单元群位于反射面上除了第一立体单元群以外之其它区域。第二立体单元群是由多个相互平行之第二线性微结构所组成，第二线性微结构皆并行线性立体单元，第二线性微结构于反射面上之垂直落差、最大宽度及分布密度至少其中之一是随着第二线性微结构分别与第一入光面之距离大小成正比。第一线性微结构不同于第二线性微结构。
请参照第1图所示，第1图绘示本发明发光模块在第一实施例下之立体示意图。
第一实施例中，发光模块100包含一第一光源200及一导光板300。第一光源200例如是发光二极管灯条(LED light bar)，包含多个发光二极管组件210。导光板300包含相互对立之一出光面320及一反射面330，以及环绕其出光面320与反射面330之多个侧边，其中任一侧边的面积小于出光面320或反射面330之面积，且介于出光面320及反射面330之间。其中一侧边可当作一第一入光面310，以使第一光源200配置于第一入光面310之一旁，而可供朝第一入光面310发光。出光面320上平行且间隔地配置有多个线性立体单元321。线性立体单元321共同之长轴走向(如Y轴方向)与第一入光面310之长轴走向(如Y轴方向)平行。线性立体单元321于此实施例中为凸条(如V型凸条600B)，然而，本发明在此实施例中并不限线性立体单元为凸条或凹沟。
线性立体单元321具有一垂直落差V及一最大宽度T及一分布密度。线性立体单元321之垂直落差V即凸条之垂直最高高度或凹沟之垂直最深深度。线性立体单元321之最大宽度T即凸条或凹沟之截面绩之最大宽度。此些线性立体单元321之分布密度例如可视任二相邻线性立体单元321间之距离S大小，其距离越小，密度越大，反之，小其距离越大，密度越小。线性立体单元321之垂直落差V、最大宽度T与分布密度(如距离S)至少其中之一彼此皆相同，此实施例中，线性立体单元321之垂直落差V、最大宽度T与分布密度(如距离S)彼此皆相同。导光板300之反射面330更包含多个第一立体单元群400及一第二立体单元群500。此些第一立体单元群400分别一对一地充分位于此些线性立体单元321分别对应于反射面330之垂直投影位置330P内。各第一立体单元群400是由多个第一线性微结构410所组成。此些第一线性微结构410之长轴走向(如Y轴方向)相互平行，且也与线性立体单元321及第一入光面310之长轴走向(如Y轴方向)相互平行。
此些第一线性微结构410具有多种第一亮度影响变量，亮度影响变量意指可影响反射光线于反射面330之亮度的因子。第一亮度影响变量之种类例如包含此些第一线性微结构410在反射面330上之垂直落差及最大宽度及分布密度。此实施例中，各第一立体单元群400中之此些第一线性微结构410之第一亮度影响变量皆一致，即各第一立体单元群400中之此些第一线性微结构410于反射面330上之垂直落差H、最大宽度W及分布密度(如间距G)彼此皆一致(参阅第2A图)。
第二立体单元群500位于反射面330上除了此些第一立体单元群400之其它区域。第二立体单元群500是由多个相互平行之第二线性微结构510所组成。第二线性微结构510之长轴走向(如Y轴方向)皆与此些线性立体单元321、第一线性微结构410及第一入光面310之长轴走向(如Y轴方向)相互平行。
请参照第1图所示，此些第二线性微结构510具有多种第二亮度影响变量，亮度影响变量意指可影响反射光线于反射面330之亮度的因子。第二亮度影响变量之种类例如包含此些第二线性微结构510于反射面330上之垂直落差及最大宽度及分布密度。此些第二亮度影响变量其中之一是随着第二线性微结构510与第一入光面310之距离大小成正比，也就是，第二线性微结构510与第一入光面310之距离越大，此第二亮度影响变量之值越大，可供反射光线之亮度越大，详见后文。
请参照第2A图-第2C图所示，第2A图绘示本发明发光模块101a于第一实施例在一变化下之侧视图；第2B图绘示本发明发光模块101b在第一实施例在另一变化下之侧视图；以及第2C图绘示本发明发光模块101c在第一实施例于又一变化下之侧视图。
参阅第2A图所示，此些第二线性微结构510a在反射面330上之垂直落差系随着此些第二线性微结构510a分别与第一入光面310之距离大小成正比，也就是，沿着X轴方向，越远离第一入光面310之第二线性微结构510a，其垂直落差将逐渐增大。举例来说，较接近第一入光面310之一个第二线性微结构510a之一垂直落差H1小于较远离第一入光面310之一个第二线性微结构510a之一垂直落差H2，而此垂直落差H2小于更远离第一入光面310之其中一个第二线性微结构510a之垂直落差H3，即垂直落差H1＜垂直落差H2＜垂直落差H3。此外，各第一立体单元群400之此些第一线性微结构410之垂直落差皆小于第二立体单元群500之第二线性微结构510a之垂直落差。
参阅第2B图所示，此些第二线性微结构510b在反射面330上之最大宽度是随着此些第二线性微结构510b分别与第一入光面310之距离大小成正比，意即，沿着X轴方向，越远离第一入光面310之第二线性微结构510b，其最大宽度逐渐增大。举例来说，较接近第一入光面310之一个第二线性微结构510b之一最大宽度W1小于较远离第一入光面310之一个第二线性微结构510b之一最大宽度W2，而此最大宽度W2小于更远离第一入光面310之其中一个第二线性微结构510b之最大宽度W3，即最大宽度W1＜最大宽度W2＜最大宽度W3。此外，各第一立体单元群400之此些第一线性微结构410之最大宽度皆小于第二立体单元群500之第二线性微结构之最大宽度510b。
参阅第2C图所示，此些第二线性微结构510c在反射面330上之分布密度是随着此些第二线性微结构510c分别与第一入光面310之距离大小成正比，也就是，沿着X轴方向，越远离第一入光面310之第二线性微结构510c，其分布密度将逐渐转变密集。举例来说，较接近第一入光面310之二第二线性微结构510c之间距G1大于较远离第一入光面310之二第二线性微结构510c之间距G2，而此间距G2大于更远离第一入光面310之其中二第二线性微结构510c之间距G3，即间距G1＞间距G2＞间距G3。此外，各第一立体单元群400之此些第一线性微结构410之间距皆大于第二立体单元群500之第二线性微结构510c之最大宽度，也就是，各第一立体单元群400之此些第一线性微结构410之分布密度皆小于第二立体单元群500之第二线性微结构510c之分布密度。
如此，由于此些第一线性微结构之多种第一亮度影响变量其中之一小于此些第二线性微结构之多种第二亮度影响变量其中之一，使得相对出光面之线性立体单元之其它部份便显得较为相对明亮，此时，出光面之线性立体单元之线性亮纹便显得较为淡化，进而产生均匀化出光面整体之亮度。请参照第3A图至第3C图所示，第3A图绘示本发明发光模块102a在第二实施例在一变化下之侧视图；第3B图绘示本发明发光模块102b在第二实施例在另一变化下之侧视图；第3C图绘示本发明发光模块102c在第二实施例在又一变化下之侧视图。
第二实施例中，发光模块100包含一第一光源200及一导光板300。导光板300包含一出光面320、一反射面330及第一入光面310，出光面320包含多个线性立体单元321。导光板300之反射面330更包含多个第一立体单元群400及一第二立体单元群500。各第一立体单元群400是由多个第一线性微结构411a-411c所组成。第二立体单元群500是由多个相互平行之第二线性微结构510a-510c所组成。
第二实施例之第一光源200之特征、导光板300之特征、线性立体单元321之排列及第二线性微结构510a-510c之排列皆与第一实施例大致相同，以下仅就不同之处加以描述，其相同之处便不再加以赘述。此第二实施例中，此些第一亮度影响变量其中之一是随着第一线性微结构411a-411c与第一入光面310之距离大小成正比，意即，第一线性微结构411a-411c与第一入光面310之距离越大，此第一亮度影响变量之值越大，可供反射光线之亮度越大。也就是，此些第一线性微结构411a-411c在反射面330上之垂直落差、最大宽度及分布密度至少其中之一是随着第一线性微结构411a-411c与第一入光面310之距离大小成正比。
参阅第3A图所示，此些第一线性微结构411a在反射面330上之垂直落差是随着此些第一线性微结构411a分别与第一入光面310之距离大小成正比，也就是，沿着X轴方向，越远离第一入光面310之第一线性微结构411a，其垂直落差将逐渐增大。举例来说，较接近第一入光面310之一个第一线性微结构411a之一垂直落差H4小于较远离第一入光面310之一个第一线性微结构411a之一垂直落差H5，而此垂直落差H5小于更远离第一入光面310之其中一个第一线性微结构411a之垂直落差H6，即垂直落差H4＜垂直落差H5＜垂直落差H6。此外，各第一立体单元群400之此些第一线性微结构411a之垂直落差皆小于其两相对侧之第二立体单元群500内的此些第二线性微结构510a之垂直落差。
参阅第3B图所示，此些第一线性微结构411b在反射面330上之最大宽度是随着此些第一线性微结构411b分别与第一入光面310之距离大小成正比，也就是，沿着X轴方向，越远离第一入光面310之第一线性微结构411b，其最大宽度逐渐增大。举例来说，较接近第一入光面310之一个第一线性微结构411b之一最大宽度W4小于较远离第一入光面310之一个第一线性微结构411b之一最大宽度W5，而此最大宽度W5小于更远离第一入光面310之其中一个第一线性微结构411b之最大宽度W6，即最大宽度W4＜最大宽度W5＜最大宽度W6。此外，各第一立体单元群400之此些第一线性微结构411b之最大宽度皆小于其两相对侧之第二立体单元群500内的此些第二线性微结构510b之最大宽度。
参阅第3C图所示，此些第一线性微结构411c在反射面330上之分布密度是随着此些第一线性微结构411c分别与第一入光面310之距离大小成正比，也就是，沿着X轴方向，越远离第一入光面310之第一线性微结构411c，其分布密度将逐渐转变密集。举例来说，较接近第一入光面310之二第一线性微结构411c之间距G4大于较远离第一入光面310之二第一线性微结构411c之间距G5，而此间距G5大于更远离第一入光面310之其中二第一线性微结构411c之间距G6，即间距G4＞间距G5＞间距G6。各第一立体单元群400之此些第一线性微结构411c之分布密度皆大于其两相对侧之第二立体单元群500内的此些第二线性微结构510c之分布密度。请参照第4A图至第4C图所示，第4A图绘示本发明发光模块103a在第三实施例在一变化下之侧视图；第4B图绘示本发明发光模块103b在第三实施例在另一变化下之侧视图；以及第3C图绘示本发明发光模块103c在第三实施例于在一变化下之侧视图。
第三实施例中，发光模块100包含一第一光源200及一导光板300。导光板300包含一出光面320、一反射面330及第一入光面310，出光面320包含多个线性立体单元321。导光板300之反射面330更包含多个第一立体单元群400及一第二立体单元群500。各第一立体单元群400是由多个第一线性微结构412a-412c所组成。第二立体单元群500是由多个相互平行之第二线性微结构510a-510c所组成。
第三实施例之第一光源200之特征、导光板300之特征、线性立体单元321之排列及第二线性微结构510之排列皆与第一实施例大致相同，以下仅就不同之处加以描述，其相同之处便不再加以赘述。
此第三实施例中，各第一立体单元群400中之所有该些第一线性微结构412a-412c之此些第一亮度影响变量其中之一是以位于中间地址之第一线性微结构412a-412c分别朝其两旁第一线性微结构412a-412c之方向产生递减。也就是，各第一立体单元群400中之所有平行排列之第一线性微结构412a-412c(如N个)中之一中间顺位(N/2或(N/2)+1)之第一线性微结构412a-412c，例如此第一立体单元群400之所有平行排列之第一线性微结构412a-412c为N个，中间顺位之第一线性微结构为第N/2或(N/2)+1个。具体来说，此些第一线性微结构412a-412c在反射面330上之垂直落差V、最大宽度T及分布密度至少其中之一是随着中间顺位之第一线性微结构412a-412c分别朝其两旁第一线性微结构412a-412c之方向产生递减。此些第二线性微结构510a-510c在反射面330上之垂直落差、最大宽度及分布密度至少其中之一仍随着第二线性微结构510a-510c与第一入光面310之距离大小成正比。
参阅第4A图所示，任一第一立体单元群400中之此些第一线性微结构412a在反射面330上之垂直落差是随着中间顺位之第一线性微结构412a分别朝其两旁第一线性微结构412a之方向产生递减，也就是，此些第一线性微结构412a中越远离位于中间顺位(位于一通过线性立体单元321顶点之假想中线C)之第一线性微结构412a，其垂直落差越小。举例来说，中间顺位之第一线性微结构412a之垂直落差H7大于其一旁之第一线性微结构412a之垂直落差H8。
参阅第4B图所示，任一第一立体单元群400中之此些第一线性微结构412b在反射面330上之最大宽度是随着中间顺位之第一线性微结构412b分别朝其两旁第一线性微结构412b之方向产生递减，也就是，此些第一线性微结构412b中越远离位于中间顺位(位于一通过线性立体单元321顶点之假想中线C)之第一线性微结构412b，其最大宽度越小。举例来说，中间顺位之第一线性微结构412b之最大宽度W7大于其一旁之第一线性微结构412b之最大宽度W8。
参阅第4C图所示，任一第一立体单元群400中之此些第一线性微结构412c于反射面330上之分布密度是随着中间顺位之二第一线性微结构412c分别朝其两旁第一线性微结构412c之方向产生递减，也就是，此些第一线性微结构412c相邻彼此间的间距中，越远离位于中间顺位(位于一通过线性立体单元321顶点之假想中线C)之第一线性微结构412c，其间距越大。举例来说，中间顺位之二第一线性微结构412c之间距G7小于其一旁之二第一线性微结构之间距G8。
请参照第5A图至第5C图所示，第5A图绘示本发明发光模块104a在第四实施例于一变化下之侧视图；第5B图绘示本发明发光模块104b于第四实施例在另一变化下之侧视图；以及第5C图绘示本发明发光模块104c在第四实施例在又一变化下之侧视图。
第四实施例中，发光模块100包含一第一光源200及一导光板300。导光板300包含一出光面320、一反射面330及第一入光面310，出光面320包含多个线性立体单元321。导光板300之反射面330更包含多个第一立体单元群400及一第二立体单元群500。各第一立体单元群400是由多个第一线性微结构410所组成。第二立体单元群500是由多个相互平行之第二线性微结构510所组成。
第四实施例之第一光源200之特征、导光板300之特征、第一线性微结构410之排列及第二线性微结构510之排列皆与第一实施例大致相同，以下仅就不同之处加以描述，其相同之处便不再加以赘述。
此实施例中，此些线性立体单元322a-322c之垂直落差V、最大宽度T与分布密度(如距离S)至少其中之一系随着线性立体单元322a-322c分别与第一入光面310之距离大小成正比。
参阅第5A图所示，此些线性立体单元322a在发光面320上之垂直落差是随着此些线性立体单元322a分别与第一入光面310之距离大小成正比，也就是，沿着X轴方向，越远离第一入光面310之线性立体单元322a，其垂直落差将逐渐增大。举例来说，较接近第一入光面310之一个线性立体单元322a之垂直落差V1小于较远离第一入光面310之一个线性立体单元322a之垂直落差V2，而此垂直落差V2小于更远离第一入光面310之其中一个线性立体单元322a之垂直落差V3，即垂直落差V1＜垂直落差V2＜垂直落差V3。
参阅第5B图所示，此些线性立体单元322b在发光面320上之最大宽度是随着此些线性立体单元322b分别与第一入光面310之距离大小成正比，也就是，沿着X轴方向，越远离第一入光面310之线性立体单元322b，其最大宽度将逐渐增大。举例来说，较接近第一入光面310之一个线性立体单元322b之最大宽度T1小于较远离第一入光面310之一个线性立体单元322b之最大宽度T2，而此最大宽度T2小于更远离第一入光面310之其中一个线性立体单元322b之最大宽度T3，即最大宽度T1＜最大宽度T2＜最大宽度T3。
参阅第5C图所示，此些线性立体单元322c在发光面320上之分布密度是随着此些线性立体单元322c分别与第一入光面310之距离大小成正比，也就是，沿着X轴方向，越远离第一入光面310之此些线性立体单元322c，其分布密度将逐渐密集。举例来说，较接近第一入光面310之二个线性立体单元322c之距离S 1大于较远离第一入光面310之二个线性立体单元322c之距离S2，而此距离S2大于更远离第一入光面310之其中二个线性立体单元322c之距离S3，即距离S1＜距离S2＜距离S3。
请参照第6A图至第6C图所示，第6A图绘示本发明发光模块105a在第五实施例在一变化下之侧视图；第6B图绘示本发明发光模块105b在第五实施例在另一变化下之侧视图；以及第6C图绘示本发明发光模块105c在第五实施例在又一变化下之侧视图。
第五实施例中，发光模块100包含一第一光源200及一导光板300。导光板300包含一出光面320、一反射面330及第一入光面310，出光面320包含多个线性立体单元322a-322c。导光板300之反射面330更包含多个第一立体单元群400及一第二立体单元群500。各第一立体单元群400是由多个第一线性微结构412a-412c所组成。第二立体单元群500是由多个相互平行之第二线性微结构510a-510c所组成。
第五实施例之第一光源200之特征、导光板300之特征、第一线性微结构410之排列及第二线性微结构510之排列皆与第三实施例大致相同，以下仅就不同之处加以描述，其相同之处便不再加以赘述。此实施例中，此些线性立体单元322a-322c之垂直落差V、最大宽度T与分布密度(如距离S)至少其中之一是随着线性立体单元322a-322c分别与第一入光面310之距离大小成正比。
参阅第6A图所示，此些线性立体单元322a于发光面320上之垂直落差系随着此些线性立体单元322a分别与第一入光面310之距离大小成正比，也就是，沿着X轴方向，越远离第一入光面310之线性立体单元322a，其垂直落差将逐渐增大。可参考第5A图之例子来说，较接近第一入光面310之一个线性立体单元322a之垂直落差V1小于较远离第一入光面310之一个线性立体单元322a之垂直落差V2，而此垂直落差V2小于更远离第一入光面310之其中一个线性立体单元322a之垂直落差V3，即垂直落差V1＜垂直落差V2＜垂直落差V3。
参阅第6B图所示，此些线性立体单元于发光面上之最大宽度系随着此些线性立体单元分别与第一入光面310之距离大小成正比，也就是，沿着X轴方向，越远离第一入光面310之线性立体单元，其最大宽度将逐渐增大。可参考第5B图之例子来说，较接近第一入光面310之一个线性立体单元322b之最大宽度T1小于较远离第一入光面310之一个线性立体单元322b之最大宽度T2，而此最大宽度T2小于更远离第一入光面310之其中一个线性立体单元322b之最大宽度T3，即最大宽度T1＜最大宽度T2＜最大宽度T3。
参阅第6C图所示，此些线性立体单元在发光面上之分布密度是随着此些线性立体单元分别与第一入光面310之距离大小成正比，也就是，沿着X轴方向，越远离第一入光面310之此些线性立体单元，其分布密度将逐渐密集。可参考第5C图之例子来说，较接近第一入光面310之二个线性立体单元322c之距离S1大于较远离第一入光面310之二个线性立体单元322c之距离S2，而此距离S2大于更远离第一入光面310之其中二个线性立体单元322c之距离S3，即距离S1＜距离S2＜距离S3。
请参照第7图所示，第7图绘示本发明发光模块在第六实施例之侧视图。
发光模块106包含一导光板300、一第一光源200及一第二光源220。第一光源200与第二光源220例如是发光二极管灯条(LED light bar)，包含多个发光二极管组件210a(同第1图所示)。导光板300包含相互对立之一出光面320及一反射面330，以及环绕其出光面320与反射面330之多个侧边，其中任一侧边的面积小于出光面320或反射面330之面积，且介于出光面320及反射面330之间。其中两相对侧边可当作一第一入光面310以及第二入光面312。第一光源200配置于第一入光面310之一旁，而可供朝第一入光面310发光。第二光源220配置于第二入光面312之一旁，而可供朝第二入光面312发光。出光面320上平行且间隔地配置有多个线性立体单元321。
导光板300之反射面330更包含多个第一立体单元群400及一第二立体单元群500。各第一立体单元群400是由多个第一线性微结构410所组成。第二立体单元群500是由多个相互平行之第二线性微结构510所组成。此些线性立体单元321彼此皆相同，即此些线性立体单元321之垂直落差、最大宽度与分布密度彼此皆相同。各第一立体单元群400中之所有第一线性微结构410彼此皆相同，即各第一立体单元群400中之所有第一线性微结构410之垂直落差、最大宽度与分布密度彼此皆相同。此些第二线性微结构510之亮度影响变量(例如垂直落差、最大宽度及分布密度至少其中之一)由出光面320之一假想中分线K分别朝第一入光面310与第二入光面312之方向逐渐递减，也就是，越接近第一入光面310与第二入光面312之此些第二线性微结构510，其亮度影响变量越小，可供反射光线之亮度越小。上述假想中分线K是指出光面上与X轴方向垂直之一中心线，且此中心线分别至第一入光面与第二入光面之距离一致。举例来说，最接近假想中分线K之一个第二线性微结构510所具之垂直落差H9便大于较远离假想中分线K之另一个第二线性微结构510所具之垂直落差H10。
此外，各第一立体单元群400之第一线性微结构410之垂直落差(如H11，第7图)小于第二线性微结构510之垂直落差(如H10，第7图)；或者/以及，各第一立体单元群400之第一线性微结构410之最大宽度小于第二线性微结构510之最大宽度(图中未示)；或者/以及，各第一立体单元群400之第一线性微结构410之分布密度小于第二线性微结构510之分布密度(图中未示)。
第六实施例之第一光源200之特征、第二光源200之特征、导光板300之特征、第一线性微结构410之排列及第二线性微结构510之排列皆与第一实施例大致相同，以下便不再加以赘述。
请参照第8A图-第8D图所示，第8A图-第8D图绘示本发明发光模块之线性立体单元或线性微结构之多种外型变化示意图。
上述各实施例中之线性立体单元、第一线性微结构或第二线性微结构皆属相同种类之线性光学微结构，其外型不限凸出线性光学微结构与凹陷之线性光学微结构。凸出线性光学微结构例如可为一V型凸条600B或U型凸条600C(第8C图)，然而，本发明不限于此。凹陷之线性光学微结构例如可一V型凹沟600A(第8A图)或U型凹沟600D(第8D图)，然而，本发明不限于此。
此外，复请参阅第8A图所示，V型凹沟600A之两相对内壁呈凸弧状，或着，复请参阅第8B图所示，本发明线性立体单元之另一种外型，例如V型凸条600B之两相对侧壁呈凹弧状。
需了解到，以下定义沿用于上述各实施例中：此些第一线性微结构(或第二线性微结构、线性立体单元)在反射面或出光面上所呈现出之垂直落差，是指此些第一线性微结构(或第二线性微结构、线性立体单元)自反射面或出光面表面朝其最远凹/凸点之垂直距离。此些第一线性微结构(或第二线性微结构、线性立体单元)于反射面或出光面上所呈现出之最大宽度，系指此些第一线性微结构(或第二线性微结构、线性立体单元)之截面积之最大宽度距离。
此些第一线性微结构(第二线性微结构或线性立体单元)在反射面或出光面上所呈现出之分布密度，是指单位面积下所具有相同数量之网点彼此之疏密程度，当此些第一线性微结构(第二线性微结构或线性立体单元)在反射面上之分布密度越大，此些第一线性微结构(第二线性微结构或线性立体单元)彼此之间越拥挤，彼此之间距越小；反之，当此些第一线性微结构(第二线性微结构或线性立体单元)在反射面上之分布密度越小，此些第一线性微结构(第二线性微结构或线性立体单元)彼此之间越疏远，彼此之间距越大。
本发明所揭露如上之各实施例中，并非用以限定本发明，任何熟习此技艺的，在不脱离本发明之精神和范围内，当可作各种之更动与润饰，因此本发明之保护范围当视后附的权利要求范围所界定的为准。
Claims (16)
1.一种发光模块，包括：一第一光源；以及一导光板；其特征在于：所述的导光板包括：
一出光面；该出光面包括多个线性立体单元相互平行且间隔地配置于该出光面上；
一反射面；该反射面与该出光面相互对立；
一第一入光面；该第一入光面介于该出光面及该反射面之间，该第一入光面平行每一该些线性立体单元，该第一光源朝该第一入光面发光；
多个第一立体单元群；该多个第一立体单元群分别一对一地位于该反射面对应此些线性立体单元之一垂直投影位置内，每一该些第一立体单元群包含多个相互平行之第一线性微结构，该些第一线性微结构皆平行该些线性立体单元；以及
一第二立体单元群；该第二立体单元群位于该反射面上除了该些第一立体单元群以外之其它区域，该第二立体单元群是由多个相互平行之第二线性微结构所组成，该些第二线性微结构皆平行该些线性立体单元，该些第二线性微结构于该反射面上之垂直落差、最大宽度及分布密度至少其中之一是随着该些第二线性微结构分别与该第一入光面之距离大小成正比；该些第一线性微结构不同于该些第二线性微结构。
2.根据权利要求1所述的发光模块，其特征在于：每一该些第一立体单元群之该些第一线性微结构之垂直落差、最大宽度与分布密度至少其中之一小于该些第二线性微结构之垂直落差、最大宽度与分布密度至少其中之一。
3.根据权利要求1所述的发光模块，其特征在于：该些线性立体单元之垂直落差、最大宽度与分布密度至少其中之一彼此皆相同。
4.根据权利要求3所述的发光模块，其特征在于：每一该些第一立体单元群中之所有该些第一线性微结构之垂直落差、最大宽度与分布密度至少其中之一彼此皆相同。
5.根据权利要求3所述的发光模块，其特征在于：每一该些第一立体单元群中之所有该些第一线性微结构之垂直落差、最大宽度及分布密度至少其中之一是随着该些第一线性微结构分别与该第一入光面之距离大小成正比。
6.根据权利要求3所述的发光模块，其特征在于：每一该些第一立体单元群中之所有该些第一线性微结构之垂直落差、最大宽度及分布密度至少其中之一是以位于中间地址之该一第一线性微结构分别朝其两旁该些第一线性微结构之方向产生递减。
7.根据权利要求1所述的发光模块，其特征在于：该些线性立体单元之垂直落差、最大宽度与分布密度至少其中之一是随着该些线性立体单元分别与该第一入光面之距离大小成正比。
8.根据权利要求7所述的发光模块，其特征在于：该些第二线性微结构于该反射面上之垂直落差是随着该些第二线性微结构分别与该第一入光面之距离大小成正比。
9.根据权利要求7所述的发光模块，其特征在于：每一该些第一立体单元群中之所有该些第一线性微结构之垂直落差、最大宽度及分布密度至少其中之一是以位于中间地址之该一第一线性微结构分别朝其两旁之该些第一线性微结构之方向产生递减。
10.根据权利要求1所述的发光模块，其特征在于还包括：一第二光源，且该导光板还包括：一第二入光面；该第二入光面相对该第一入光面，且该第二光源朝该第二入光面发光。
11.根据权利要求10所述的发光模块，其特征在于：该些线性立体单元共同之一长轴走向与该第一入光面及该第二入光面之长轴走向相互平行，且该些线性立体单元之垂直落差、最大宽度与分布密度至少其中之一彼此皆相同，每一该些第一立体单元群中之所有该些第一线性微结构之垂直落差、最大宽度与分布密度至少其中之一彼此皆相同，且每一该些第一立体单元群之该些第一线性微结构之垂直落差、最大宽度与分布密度至少其中之一小于该些第二线性微结构之垂直落差、最大宽度与分布密度至少其中之一。
12.根据权利要求1所述的发光模块，其特征在于：每一该些线性立体单元为一V型凹沟或U型凹沟。
13.根据权利要求1所述的发光模块，其特征在于：每一该些第一线性微结构为一V型凹沟或U型凹沟。
14.根据权利要求1所述的发光模块，其特征在于：每一该些第二线性微结构为一V型凹沟或U型凹沟。
15.根据权利要求12或者13或者14所述的发光模块，其特征在于：该V型凹沟之两相对内壁呈凸弧状。
16.根据权利要求12或者13或者14所述的发光模块，其特征在于：该V型凸条之两相对侧壁呈凹弧状。
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