TWI579601B - 偏光鏡保護薄膜 - Google Patents

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Description

偏光鏡保護薄膜
本發明係關於透明性優異，亮度高，具有良好的耐熱性、耐濕性，對聚乙烯醇(PVA)系黏著劑等的親水性黏著劑之黏著性優異，由聚丙烯系樹脂所成之偏光鏡保護薄膜。
偏光板一般係在具有偏光機能的偏光薄膜之兩面，隔著黏著劑層而積層有保護薄膜者。作為現在已知之代表性的偏光薄膜，有以碘或二色性染料將聚乙烯醇系薄膜染色之聚乙烯醇系偏光薄膜。此等偏光薄膜係藉由將聚乙烯醇的水溶液製膜，使其單軸延伸並染色，或在染色後單軸延伸後，較佳為以硼化合物進行耐久性處理而製作。另一方面，作為保護薄膜，由於光學的透明性、無配向性等優異，廣泛使用三乙醯纖維素(TAC)等之乙酸纖維素系薄膜。而且，於聚乙烯醇系偏光薄膜與保護薄膜之貼合中，由於聚乙烯醇系薄膜和乙酸纖維素系薄膜皆為親水性，一般使用親水性的黏著劑。
然而，於保護薄膜使用乙酸纖維素系薄膜的偏光板，由於有耐濕性差之缺點，若長時間置於高濕環境下，則有吸水率變大之問題。由於吸水若加重，則親 水性黏著劑的黏著力會降低，在偏光薄膜與保護薄膜之層間發生剝離，結果引起偏光物性的降低，或損害尺寸安定性。又，於保護薄膜使用乙酸纖維素系薄膜的偏光板，有耐熱性亦差的傾向，若置於高溫下，則有亮度降低，透明性變得不充分之情況。
因此，作為至少一側的保護薄膜，嘗試使用聚丙烯樹脂薄膜代替乙酸纖維素系薄膜(參照專利文獻1、2)。聚丙烯樹脂薄膜具備雙折射小、透明性高、透濕性低之偏光板(偏光鏡)的保護薄膜所要求之特性。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2008-146023號公報
[專利文獻2]日本特開2007-334295號公報
然而，聚丙烯系樹脂由於在構造中不具有極性基，與由聚乙烯醇系樹脂所成的偏光薄膜之黏著性係不充分。
例如於專利文獻1中，使用PVA系黏著劑將由金屬芳香類觸媒所合成的聚丙烯樹脂黏合於偏光薄膜，然而茲認為此情況的偏光薄膜與保護薄膜間之黏著性不足。又，專利文獻2中，雖然藉由對聚丙烯樹脂施加電暈處理而提高黏著性，卻依然在PVA系黏著劑中添加水溶性聚醯胺環氧樹脂等，而使完全黏著需要非常長的時間。
本發明係鑒於上述實情而完成者。即，本發明之課題在於提供一種具有聚丙烯樹脂薄膜之優異的耐濕性與高透明性，同時對聚乙烯醇系黏著劑等的親水性黏著劑之黏著性高的偏光鏡保護薄膜。
即，本發明係如下所述。
(1)一種偏光鏡保護薄膜，其特徵為在由聚丙烯系樹脂所構成的基材薄膜之至少一面上，積層有以聚烯烴樹脂作為主成分之含有極性基的酸改性樹脂組成物所構成之黏著改良層成為最表面之積層薄膜，而且在550nm所測定之遲滯值為100nm以下。
(2)如前述(1)記載之偏光鏡保護薄膜，其中前述酸改性樹脂組成物係主要由酸改性聚烯烴樹脂所構成。
(3)如前述(2)記載之偏光鏡保護薄膜，其中構成黏著改良層的酸改性聚烯烴樹脂之酸改性量為0.1質量%以上。
(4)如前述(2)或(3)記載之偏光鏡保護薄膜，其中前述酸改性聚烯烴樹脂係含有極性基的聚丙烯系樹脂。
(5)如前述(1)~(4)中任一項記載之偏光鏡保護薄膜，其中薄膜之配向主軸的最大歪斜為5度以下。
(6)如前述(1)~(5)中任一項記載之偏光鏡保護薄膜，其係未延伸薄膜。
(7)一種偏光板，其特徵為藉由黏著劑貼合如前述(1)~(6)中任一項記載之偏光鏡保護薄膜與偏光薄膜所成。
(8)如前述(7)記載之偏光板，其中黏著劑係聚乙烯醇系黏著劑。
(9)如前述(7)或(8)記載之偏光板，其中將貼合有偏光鏡保護薄膜之面配置在光源側而使用。
本發明的偏光鏡保護薄膜係透明性優異，遲滯值(retardation)小，具有良好的耐熱性、耐濕性，對聚乙烯醇系的黏著劑之黏著性優異。因此，適合作為偏光鏡保護薄膜。
[實施發明之形態]
<偏光鏡保護薄膜>
本發明的偏光鏡保護薄膜係使用於偏光板等的偏光鏡之保護薄膜，係貼合於構成偏光板的偏光薄膜上，保護偏光薄膜者。
本發明的偏光鏡保護薄膜係在基材薄膜的至少一面上，積層有黏著改良層成為最表面之積層薄膜。
本發明的偏光鏡保護薄膜係可為由基材薄膜與黏著改良層所成之2層構成，也可為3層以上之多層構成。3層以上的多層構成之情況，只要至少2層為前述基材薄膜及黏著改良層，則其它層係沒有特別的限定，例如可為易滑層。又，3層以上的多層構成之情況，除了至少將黏著改良層配置在最表面以外，各層的積層順序係 沒有限定。
(基材薄膜)
本發明中的基材薄膜係由聚丙烯系樹脂所構成。在此，所謂的聚丙烯系樹脂，就是主要由丙烯的單元所成之樹脂，一般為結晶性者。聚丙烯系樹脂除了丙烯的均聚物，還可為丙烯和可與其共聚合的共聚單體之共聚物。再者，當聚丙烯系樹脂為共聚物時，可為無規共聚物，也可為嵌段共聚物。
作為可與前述丙烯共聚合之共聚單體，例如可舉出乙烯或碳原子數4~20(較佳為碳原子數5~19)之α-烯烴。在此，作為α-烯烴，具體可舉出1-丁烯、2-甲基-1-丙烯(以上為C4)，1-戊烯、2-甲基-1-丁烯、3-甲基-1-丁烯(以上為C5)，1-己烯、2-乙基-1-丁烯、2,3-二甲基-1-丁烯、2-甲基-1-戊烯、3-甲基-1-戊烯、4-甲基-1-戊烯、3,3-二甲基-1-丁烯(以上為C6)，1-庚烯、2-甲基-1-己烯、2,3-二甲基-1-戊烯、2-乙基-1-戊烯、2-甲基-3-乙基-1-丁烯(以上為C7)，1-辛烯、5-甲基-1-庚烯、2-乙基-1-己烯、3,3-二甲基-1-己烯、2-甲基-3-乙基-1-戊烯、2,3,4-三甲基-1-戊烯、2-丙基-1-戊烯、2,3-二乙基-1-丁烯(以上為C8)，1-壬烯(C9)，1-癸烯(C10)，1-十一烯(C11)，1-十二烯(C12)，1-十三烯(C13)，1-十四烯(C14)，1-十五烯(C15)，1-十六烯(C16)，1-十七烯(C17)，1-十八烯(C18)，1-十九烯(C19)等。
前述聚丙烯系樹脂例如可藉由使用以如己烷、庚烷、辛烷、癸烷、環己烷、甲基環己烷、苯、甲苯 、二甲苯的烴化合物為代表之惰性溶劑的溶液聚合法，使用液狀的單體作為溶劑之塊狀聚合法，使氣體的單體照原樣地聚合之氣相聚合法等而製造。此等方法之聚合係可以分批式進行，也可以連續式進行。
前述聚丙烯系樹脂的立體規則性係可為同排、對排、雜排中的任一者。
前述聚丙烯系樹脂依照JIS-K7210在溫度230℃、負重21.18N所測定的熔體流速(MFR)較佳為0.1~200g/10分鐘，更佳為0.5~50g/10分鐘。藉由使用MFR在此範圍的聚丙烯系樹脂，於不對擠壓機施加大負荷下可得到均勻的薄膜。
基材薄膜的厚度係沒有特別的限制，較佳為5~200μm，更佳為10~150μm。基材薄膜的厚度若為此範圍，則容易將包含遲滯值的光學特性控制在規定的範圍。
在不妨礙本發明的效果之範圍內，基材薄膜亦可摻合眾所周知的添加物。作為添加物，例如可舉出抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、滑劑、造核劑、防霧劑、防黏連劑等。作為抗氧化劑，例如可使用酚系抗氧化劑、磷系抗氧化劑、硫系抗氧化劑、受阻胺系光安定劑等。又，例如亦可使用在一分子中兼備具有酚系抗氧化機構的單元與具有磷系抗氧化機構的單元之複合型抗氧化劑。作為紫外線吸收劑，例如除了如2-羥基二苯基酮系或羥苯基苯并三唑系之紫外線吸收劑，還可使用苯甲酸酯系的紫外線遮斷劑等。抗靜電劑係可為聚合 物型、寡聚物型、單體型中的任一者。作為滑劑，例如可使用如芥酸醯胺或油酸醯胺之高級脂肪酸醯胺，如硬脂酸之高級脂肪酸及其鹽等。作為造核劑，例如可使用山梨糖醇系造核劑、有機磷酸鹽系造核劑、如聚乙烯基環烷之高分子系造核劑等。作為防黏連劑，可使用球狀或接近該形狀的微粒子，不論無機系、有機系。此等的添加物係可僅為1種，也可併用2種以上。
(黏著改良層)
本發明中的黏著改良層係以聚烯烴樹脂作為主成分之含有極性基的酸改性樹脂組成物所構成。酸改性樹脂組成物較佳為主要由酸改性聚烯烴樹脂所構成。再者，當酸改性樹脂組成物係以酸改性聚烯烴樹脂作為主成分時，聚烯烴樹脂變成具有極性基，但本發明不受此所限定，例如亦可在聚烯烴樹脂以外的其它樹脂中導入極性基，將在未改性聚烯烴樹脂中混合有該其它樹脂之組成物當作酸改性樹脂組成物。
酸改性聚烯烴樹脂係含有至少一種類之極性基的聚烯烴樹脂，可舉出碳原子數2~20的鏈狀或環狀烯烴作為骨架者。作為其骨架，較佳可舉出具有乙烯、丙烯、丁烯、己烯、辛烯、甲基戊烯、環狀烯烴等者。本發明中的酸改性聚烯烴樹脂，尤其從與構成基材薄膜的聚丙烯系樹脂之黏著性之點來看，較佳為含有丙烯單體作為骨架之聚丙烯系樹脂。酸改性聚烯烴樹脂係可使用一種類的上述單體之均聚物，也可使用二種以上的單體之共聚物。
酸改性聚烯烴樹脂所具有的極性基，可按照 緊貼對象之構件的種類或必要的緊貼力等來適宜選擇，但較佳為至少含有羧基，例如可舉出羧酸基、羧酸金屬鹽基、酸酐基(馬來酸酐基等)等。極性基可為一種，也可含有二種以上。
又，本發明之酸改性聚烯烴樹脂中的極性基 ，係可直接導入聚烯烴樹脂的高分子鏈中。另外，視情況而定，本發明中的酸改性聚烯烴樹脂，亦可使用使在分子鏈的末端或內部導入的例如羧酸基或羥基等，與能和此等反應的化合物反應以改性者。
本發明中，構成黏著改良層的酸改性聚烯烴 樹脂之酸改性量較佳為0.1質量%以上，更佳為0.2質量%以上，尤佳為0.3質量%以上。酸改性聚烯烴樹脂的酸改性量低於0.1質量%時，在使用PVA系黏著劑貼合於偏光薄膜之際，無法得到充分的黏著性。酸改性量的上限係沒有特別的限制，但較佳為1質量%以下，更佳為0.7質量%以下，尤佳為0.5質量%以下。
再者，本發明中酸改性聚烯烴樹脂的酸改性 量，例如用馬來酸(酐)改性聚烯烴樹脂時，可藉由實施例記載之方法測定。即，以丙酮萃取由酸改性聚烯烴樹脂所製作之薄片，去除未反應的馬來酸(酐)，進行風乾，得到評價用試料，對於此評價用試料，藉由紅外分光計測定吸光度，以起因於馬來酸的酸酐基中之羰基所造成的C-O伸縮之吸收、與起因於馬來酸的羧酸中之羰基所造成的C-O伸縮之吸收為基礎，進行計算即可。即使以馬 來酸(酐)以外之酸進行改性時，也可利用起因於該酸所具有的特有之基所造成的吸收來算出酸改性量。
於本發明中，黏著改良層係以前述酸改性聚 烯烴樹脂作為主構成成分而形成。構成黏著改良層的酸改性聚烯烴樹脂係可僅為1種，也可為2種以上。又，黏著改良層係可由摻合有不含極性基的酸未改性聚烯烴樹脂(例如聚丙烯)或其它種類的樹脂之酸改性樹脂組成物所構成。以含有酸改性聚烯烴樹脂以外的樹脂之酸改性樹脂組成物來構成時，酸改性聚烯烴樹脂的含量較佳為10質量%以上，更佳為30質量%以上，尤佳為50質量%以上，特佳為90質量%以上。
黏著改良層係可對前述基材薄膜單面積層， 也可兩面積層。
黏著改良層的厚度雖然沒有特別的限定，但總厚度較佳為2~200μm，更佳為5~150μm。又，一個黏著改良層之厚度較佳為1~100μm，更佳為2.5~75μm。
前述基材薄膜/黏著改良層的厚度構成比較 佳為100/1~3/1，更佳為20/1~4/1。兩者的厚度比若為此範圍，則變得容易取得亮度的降低抑制效果與黏著性改良效果之平衡。
於黏著改良層，在不損害本發明目的之範圍 內，亦可施加電暈放電處理、輝光放電處理、火焰處理、紫外線照射處理、電子線照射處理、臭氧處理等之表面活性化處理。
(偏光鏡保護薄膜之製造方法)
本發明的偏光鏡保護薄膜之製造方法係沒有特別的限定。例如，可採用(1)將基材薄膜形成材料與黏著改良層形成材料予以熔融共壓出成型之方法，(2)在預先製膜的基材薄膜上將黏著改良層形成材料壓出積層之方法，(3)將預先製膜的基材薄膜與預先製膜的黏著改良層予以乾積層之方法等，於經濟性之點，較佳為(1)之熔融共壓出成型之方法。採用(2)及(3)之方法時，作為基材薄膜及黏著改良層之製膜方法，可採用熔融壓出成型方法等公眾知悉之方法，而且亦可利用市售的薄膜。
於上述(1)熔融共壓出成型之情況及上述(2) 及(3)之方法中，將基材薄膜或黏著改良層予以熔融壓出成型之情況的熔融(共)壓出成型法，係沒有特別的限制，例如可採用T模頭法、吹脹法等。又，以上述(1)之熔融共壓出成型所形成的積層薄膜(偏光鏡保護薄膜)及上述(2)及(3)之方法的熔融共壓出成型所形成的基材薄膜或黏著改良層，係可為未延伸的薄膜，也可進行延伸處理，但為了壓低遲滯值，較佳為以上述熔融(共)壓出成型所形成的(積層)薄膜為未延伸之狀態，即未延伸之薄膜。
於上述熔融壓出成型法中，一般將熔融的樹 脂以壓出機自模頭壓出成片狀，藉由使該片緊貼於冷卻輥而冷卻固化、製膜。
使所壓出的片緊貼於冷卻輥之方法係沒有特 別的限定，例如可舉出藉由壓輥來推壓之方法、藉由氣壓來推壓之方法、吸引法、靜電緊貼法等。藉由該方法 ，容易得到透明性高、遲滯值小之薄膜。作為藉由氣壓來推壓之方法，例如可舉出藉由空氣等之氣壓來壓住之所謂空氣刀法等之方法，作為吸引法，例如可舉出藉由減壓噴嘴來吸引而使其緊貼之真空腔室法，作為靜電緊貼法，可舉出藉由靜電力使其緊貼之方法。使此等壓出片緊貼於冷卻輥之方法，係可單獨使用，也可併用複數之方法，但於提高所得之薄膜的厚度精度上，以後者實施者為較佳的實施態樣。
(偏光鏡保護薄膜特性)
本發明的偏光鏡保護薄膜之厚度較佳為5~500μm，更佳為10~300μm，尤佳為20~200μm，但取決於層構成及製造方法等而大幅變化。
本發明的偏光鏡保護薄膜之寬度方向及長度 方向在120℃×30分鐘的熱收縮率較佳為1.0%以下，更佳為0.8%以下。於熱收縮率超過1.0%之情況中，在後加工步驟中進行加熱加工處理時，或作為顯示器用途等的構件長時間在高溫下使用時，由於薄膜會大幅收縮，在光學軸發生歪斜，發生平面性惡化、皺紋、捲曲等而不宜。
本發明的偏光鏡保護薄膜在550nm測定之遲 滯值的值為100nm以下係為重要。本發明者對於貼合偏光鏡保護薄膜時的虹斑進行專心的觀察，結果發現藉由使偏光鏡保護薄膜的遲滯值成為100nm以下，可消除虹斑，而達成本發明。本發明的薄膜之遲滯值的值較佳為80nm以下，更佳為50nm以下，尤佳為45nm以下。
遲滯值若大，則由於光的穿透率之波長依賴 性變大，因而發生虹斑。因此，藉由使遲滯值成為上述範圍，波長依賴性小，可抑制虹斑之發生。
又，本發明的偏光鏡保護薄膜係薄膜寬度方 向中遲滯值的變動較佳為100nm/m以下。即，本發明的偏光鏡保護薄膜係在薄膜寬度方向1m中測定上述遲滯值時之最大值與最小值之差較佳為100nm以下。藉此，即使在對應於大畫面化的廣範圍薄膜中，薄膜平面之遲滯值也安定，可抑制色斑之發生。上述薄膜寬度方向中的遲滯值之變動更佳為80nm/m以下，尤佳為50nm/m以下，特佳為20nm/m以下。
本發明的偏光鏡保護薄膜之配向主軸的最大歪斜較佳為5度以下，更佳為3度以下，尤佳為2度以下。若大於5度，則因在黑顯示時發生漏光，對比降低而不宜。再者，所謂配向主軸的最大歪斜，就是薄膜寬度方向的配向主軸之偏差的大小，相當於測量光學軸傾斜角度時之振幅。配向主軸的最大歪斜例如可藉由實施例中記載之方法來測定。
本發明的偏光鏡保護薄膜之寬度方向的長度係因應規格而沒有特別的限定，較佳為1.0m以上，更佳為1.5m以上，尤佳為2.0m以上，特佳為3.0m以上。薄膜寬度方向為上述範圍時，可合適地對應大畫面用途之偏光板。
<偏光板>
本發明中的偏光板係藉由黏著劑貼合上述本發明的 偏光鏡保護薄膜與偏光薄膜所成。
偏光薄膜只要是具有偏光機能的薄膜或片，則沒有特別的限制，例如較佳可舉出在聚乙烯醇(PVA)等染上碘或二色性色素者等。
黏著劑只要是透明而且與偏光鏡保護薄膜與 偏光薄膜兩者有黏著性者，則沒有限定。例如，可舉出因熱或UV等的活性光線等而具有交聯性者。例如，除了對偏光鏡保護薄膜與偏光薄膜兩者之親和性高之透明單體、寡聚物及聚合物與交聯劑之摻合物，還有在分子中具有引起交聯反應的官能基之透明單體、寡聚物及聚合物，或該透明單體、寡聚物及聚合物與交聯劑之摻合物。
作為黏著劑，較佳為聚乙烯醇(PVA)系黏著 劑。偏光薄膜由於以聚乙烯醇(PVA)系聚合物作為主成分者居多，故作為上述黏著劑，較佳為由PVA系聚合物所成之PVA系黏著劑。
作為PVA系聚合物，例如可舉出將聚乙酸乙烯酯皂化而得之聚乙烯醇，其衍生物，更且與和乙酸乙烯酯有共聚合性的單體之共聚物的皂化物，將聚乙烯醇縮醛化、胺基甲酸酯化、醚化、接枝化、磷酸酯化等之改性聚乙烯醇等。作為與前述乙酸乙烯酯有共聚合性的單體，可舉出馬來酸(酐)、富馬酸、巴豆酸、伊康酸、(甲基)丙烯酸等的不飽和羧酸及其酯類；乙烯、丙烯等的α-烯烴、(甲基)烯丙基磺酸(鈉)、磺酸鈉(單烷基馬來酸酯)、二磺酸鈉烷基馬來酸酯、N-羥甲基丙烯醯胺、丙烯醯胺 烷基磺酸鹼鹽、N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基吡咯啶酮衍生物等。此等PVA系聚合物係可僅使用1種，也可併用2種以上。再者，PVA系聚合物之皂化度雖然沒有限定，但較佳為60~85%。
作為使用PVA系聚合物時的交聯劑，雖然沒 有特別的限定，但較佳為水溶性或水分散性者。例如，具有羥基與交聯性者，可舉出三聚氰胺系、異氰酸酯系、碳化二亞胺系、唑啉系、環氧系等之化合物。從塗布液的經時安定性之點來看，較佳為三聚氰胺系、異氰酸酯系、碳化二亞胺系、唑啉系之化合物。再者，作為交聯劑，較佳為具有聚乙烯醇構造的三聚氰胺系化合物或異氰酸酯系化合物。又，為了促進交聯反應，較佳為按照需要適宜使用觸媒等。
本發明的偏光板係可為在偏光薄膜的一面接 合有本發明的偏光鏡保護薄膜者，也可為在偏光薄膜的兩面接合有本發明的偏光鏡保護薄膜者。又，亦可為在偏光薄膜的一面接合本發明的偏光鏡保護薄膜，在另一面接合以往使用的各種保護薄膜(例如三乙醯纖維素(TAC)薄膜等)者。
本發明的偏光板較佳為將貼合有偏光鏡保護薄膜的面配置在光源側而使用。
本案係以2011年12月27日申請的日本專利申請第2011-285256號為基礎，主張優先權之利益者。2011年12月27日申請的日本發明專利第2011-285256號的說明書之全部內容係在本案中為了參考而援用。
[實施例]
以下，舉出實施例及比較例來更具體說明本發明，惟本發明係不受以下的實施例等所限制，在可適合上述‧下述之宗旨的範圍下，當然亦可適當地變更而實施，且彼等皆包含在本發明的技術範圍。
再者，以下的實施例、比較例中之物性的評價方法係如以下。
1.正面亮度降低
使用色彩亮度計測裝置(HILAND公司製「RISA-COLOR/ONE-II」)來進行測定。於由聚乙烯醇(PVA)與碘所成的偏光薄膜之一面，以偏光薄膜的吸收軸與偏光鏡保護薄膜之流動方向呈平行之方式，用聚乙烯醇系黏著劑(KURARAY公司製「Poval」)貼附實施例、比較例所得之偏光鏡保護薄膜，在另一面貼附三乙醯纖維素(TAC)薄膜，以製作偏光板。以偏光鏡保護薄膜成為光源側之方式，將所得之偏光板水平地配置在背光上，液晶畫面成為白顯示狀態，在偏光板表面起的垂直方向1m之位置固定CCD照相機，測定此面板的中央部50mm四方之平均亮度，將所得之亮度當作Is。
另一方面，於與上述同樣的由聚乙烯醇(PVA)與碘所成之偏光薄膜的兩面，用與上述同樣的聚乙烯醇系黏著劑貼附與上述同樣的TAC薄膜，以製作偏光板。使用此偏光板，進行與上述同樣的測定，將所得之亮度當作Ib，藉由下述(1)式來算出正面亮度降低率(%)。
亮度降低率(%)=(Ib-Is/Ib)×100(%) (1)
2.黏著性
於實施例、比較例所得的偏光鏡保護薄膜之黏著改良層側的表面上，以乾燥後的聚乙烯醇層之厚度成為2μm之方式，用線桿塗布已調整至固體成分濃度5質量%的皂化度為100莫耳%之聚乙烯醇水溶液，在70℃乾燥5分鐘而製作評價用試料。於聚乙烯醇水溶液中，使用使判定變容易的已加有藍色染料者。將所得之評價用試料的形成聚乙烯醇層之面的相反面(即基材薄膜面)黏貼於已貼附在厚度5mm的玻璃板上的雙面膠帶。其次，使用間隙間隔2mm的刀具導軌，附加貫穿聚乙烯醇層且達到基材薄膜之100個方格狀的刀傷。接著，將黏著帶(NICHIBAN公司製「Cellotape(註冊商標)CT-24」；24mm寬)貼附於100個方格狀的切傷面。貼附時以橡皮擦來按壓在界面所殘留的空氣而使其完全緊貼。然後，實施5次強力垂直地撕下黏著帶之操作。計算聚乙烯醇層未剝落之方格的個數，評價黏著性。當聚乙烯醇層未剝落的方格之數超過70個時，判斷黏著性為「良」，為70個以下時，判斷黏著性為「不良」。
3.霧度
使用霧度測定器(日本電色工業股份有限公司製「NDH-5000」)，依照JIS-K7136進行測定。
4.遲滯值、光學軸傾斜角度(配向主軸之最大歪斜)
使用相位差薄膜‧光學材料檢查裝置(大塚電子公司製「RETS100」)進行測定。試料的實施例、比較例所得 之偏光鏡保護薄膜的大小設為10cm×10cm，偏光鏡保護薄膜係以對入射光呈垂直的方式設置，在550nm測定，測定光點直徑為2mm，光源使用100W鹵素燈。測定台使用自動傾斜旋轉台，測定模式為以1點測定來進行中央部之測定。藉由同時顯示遲滯值與光學軸傾斜角度(配向主軸的最大歪斜)之設定，得到在波長550nm之遲滯值與光學軸傾斜角度(配向主軸之最大歪斜)之值。
5.熱收縮率
依照JIS-K7133進行測定。加熱條件係以120℃×30分鐘進行。
6.酸改性聚烯烴樹脂之酸改性量
將酸改性聚烯烴樹脂加熱加壓(230℃)以製作薄片(10~17mg/cm2)，費5小時以丙酮萃取此薄片後，風乾，得到評價用試料。藉由紅外分光計來測定此評價用試料之吸光度，由下式求得。
馬來酸酐改性量(pprm)=(A1790cm-1/(8.5×t)+(A1710cm-1/(10.0×t))×106
A1790cm-1：起因於馬來酸之酸酐基中之羰基所造成的C-O伸縮之吸光度值(absorbance)
A1710cm-1：起因於馬來酸之羧酸中的羰基所造成的C-O伸縮之吸光度值(absorbance)
t=薄片之厚度(μg/cm2)
(實施例1)
使用第1~第3之3台的熔融壓出機，積層由聚丙烯樹脂所成之基材薄膜與由酸改性聚烯烴樹脂的聚丙烯系黏 著性樹脂所成之黏著改良層，得到偏光鏡保護薄膜。即，作為基材薄膜形成材料，對第1擠壓機(池貝鐵工公司製「PCM30擠壓機」)與第2擠壓機(池貝鐵工公司製「PCM45擠壓機」)供應聚丙烯樹脂(住友化學公司製「住友NOBRENE(註冊商標)FLX80E4」；熔體流速：7g/10分鐘(230℃))，作為形成冷卻輥側之表層的黏著改良層形成材料，對第3擠壓機(池貝鐵工公司製「PCM30擠壓機」)供應聚丙烯系的黏著性樹脂(三井化學公司製「Admer(註冊商標)QF551」；熔體流速：5.7g/10分鐘(230℃)，酸改性量0.36質量%)，於樹脂溫度250℃，藉由T模頭方式熔融共壓出，其次藉由鏡面的冷卻輥進行冷卻，而得到偏光鏡保護薄膜。厚度構成比為黏著改良層/基材薄膜=11μm/69μm。上述冷卻時的薄膜對冷卻輥之緊貼係藉由靜電緊貼法進行。冷卻輥的表面溫度係設定在20℃。薄膜係以5m/分鐘之速度捲取。
表1中顯示所得之偏光鏡保護薄膜的特性。可知對PVA系偏光薄膜的黏著性良好。
(實施例2)
除了作為供應給第3擠壓機(池貝鐵工公司製「PCM30擠壓機」)的黏著改良層形成材料，使用聚丙烯系的黏著性樹脂(三菱化學公司製「Modic(註冊商標)AP P565」；熔體流速：5g/10分鐘(230℃)，酸改性量0.4質量%)以外，藉由與實施例1同樣之方法來製作偏光鏡保護薄膜。
表1中顯示所得之偏光鏡保護薄膜的特性。可知對 PVA系偏光薄膜的黏著性良好。
(比較例1)
將聚丙烯樹脂(住友化學公司製「住友NOBRENE(註冊商標)W151」；熔體流速：7.0g/10分鐘(230℃))供應給擠壓機(池貝鐵工公司製「PCM45擠壓機」)，於樹脂溫度250℃，以T模頭方式熔融共壓出，其次藉由鏡面的冷卻輥進行冷卻，得到厚度30μm的單層偏光鏡保護薄膜。冷卻輥的表面溫度係設定在20℃。薄膜係以5m/分鐘之速度捲取。
表1中顯示所得之偏光鏡保護薄膜的特性。可知對PVA系偏光薄膜的黏著性不充分。
[產業上之可利用性]
本發明的偏光鏡保護薄膜例如若使用於液晶顯示裝置等，則可有助於LCD的薄型化、低成本化，產業上的可利用性極高。

Claims (9)

  1. 一種偏光鏡保護薄膜，其特徵為在由聚丙烯系樹脂所構成的基材薄膜之至少一面上，積層有以聚烯烴樹脂作為主成分之含有極性基的酸改性樹脂組成物所構成之黏著改良層成為最表面之積層薄膜，而且在550nm所測定之遲滯值為100nm以下。
  2. 如申請專利範圍第1項之偏光鏡保護薄膜，其中該酸改性樹脂組成物係主要由酸改性聚烯烴樹脂所構成。
  3. 如申請專利範圍第2項之偏光鏡保護薄膜，其中構成黏著改良層的酸改性聚烯烴樹脂之酸改性量為0.1質量%以上。
  4. 如申請專利範圍第2或3項之偏光鏡保護薄膜，其中該酸改性聚烯烴樹脂係含有極性基的聚丙烯系樹脂。
  5. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之偏光鏡保護薄膜，其中薄膜之配向主軸的最大歪斜為5度以下。
  6. 如申請專利範圍第1至3項中任一項之偏光鏡保護薄膜，其係未延伸薄膜。
  7. 一種偏光板，其特徵為藉由黏著劑貼合如申請專利範圍第1至6項中任一項之偏光鏡保護薄膜與偏光薄膜所成。
  8. 如申請專利範圍第7項之偏光板，其中黏著劑係聚乙烯醇系黏著劑。
  9. 如申請專利範圍第7或8項之偏光板，其中將貼合有偏光鏡保護薄膜之面配置在光源側而使用。
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