TWI575642B - 成膜裝置 - Google Patents

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Description

成膜裝置
本發明係關於一種成膜裝置，詳細而言係關於一種構成成膜裝置之裝入、取出室之結構。
例如，作為將功能膜成膜於半導體基板等上之成膜裝置，可舉出PVD(Physical Vapor Deposition：物理氣相沉積)裝置或CVD(Chemical Vapor Deposition：化學氣相沉積)裝置等。
以此種PVD裝置或CVD裝置等為代表的成膜裝置至少包含：成膜室，其對基板進行成膜；及裝入、取出室(負載、卸載腔室)，其係經由具有氣密性之閘閥(開關部)而連通成膜室。
裝入、取出室係例如將基板從大氣氛圍之空間(一側面)裝入至裝入、取出室的內部，待將腔室內減壓後，打開形成於與處於減壓氛圍之成膜室連通之另一側面的閘閥，且將裝入於腔室內之基板送入成膜室內。又，裝入、取出室係於減壓氛圍下，取出在成膜室內成膜有功能膜之基板，且通過另一側面搬送至裝入、取出室內(腔室內)，待腔室內為大氣氛圍後，從一側面送出成膜完成之基板。
即，裝入、取出室係為了在內部為減壓氛圍之成膜室、與處於大氣氛圍之成膜裝置之外部之間，以將成膜室之內部保持為減壓氛圍的狀態，裝入取出基板所使用之交接腔室。
如此之裝入、取出室，先前為高效地裝入取出複數之基板，例如具有搬送機構，其係沿水平方向搬送將基板之一面以沿鉛直方向直立之狀態予以保持的載台(縱型載台)(例如，參照國際公開第2010/116721號公報及國際公開第2008/129983號公報)。
如此之先前之裝入、取出室係把將要進行成膜之基板(成膜前基板)裝入至裝入、取出室，其後減壓該裝入、取出室內部(腔室內)，使基板朝水平方向之一方之位置移動，使其由連通於成膜室之位置(搬送位置)退避。接著，使成膜完成之基板從內部為減壓氛圍之成膜室朝裝入、取出室移動，使成膜完成之基板移動至水平方向之另一方之位置。又，其後使將要進行成膜之基板朝連通於成膜室之搬送位置移動，將該基板導入成膜室。繼而，使成膜完成之基板再次朝搬送位置移動後，待作為裝入、取出室之腔室內由減壓氛圍變回大氣氛圍後，將該成膜完成之基板取出至裝入、取出室外部。
然而，如上所述之具備沿水平方向使保持基板垂直之載台在連通於成膜室之搬送位置與退避位置之間移動之裝入、取出室的成膜裝置，存在沿裝入、取出室之水平方向之寬度增大的問題。即，在裝入、取出室中，為不與位於搬送位置之載台干涉，必須確保水平方向上有足夠寬度的退避位置，故難以減小裝入、取出室之沿水平方向之寬度。
且，由於難以減小裝入、取出室之沿水平方向之寬度，故不得不增大裝入、取出室之內容積，致使裝入、取出室內部由大氣氛圍減壓至真空氛圍之排氣時間變長。因此，其結果存在在成膜室與成膜室外部之間取出裝入載台時所需之更替時間即裝入、取出效率降低之問題。
又，為使保持基板垂直之載台沿水平方向在連通於成膜室之搬送位置與退避位置之間移動，除使載台朝水平方向移動之移動裝置以外，還需朝水平方向延伸之軌道或齒輪等眾多構成零件，故存在成本增加之問題。
再者，因伴隨該種朝水平方向延伸之軌道或齒輪等之機械性運轉之零件所產生之微粒，污染裝入、取出室之內部，從而亦有使基板通過裝入、取出室時基板之表面受污染之虞。
本發明係鑒於上述問題而完成者，其目的在於提供一種具有裝入、取出效率優良，容易小型化，且構成簡單可以低成本製造之裝入、取出室的成膜裝置。
為解決上述問題，本發明以多種形態提供如下之成膜裝置。
即，本發明之成膜裝置包含：成膜室，其於基板上形成被覆膜；載台，其以使上述基板之一面沿著鉛直方向之方式垂直保持上述基板；裝入、取出室，其以與上述成膜室連通之方式經由開關部而配置；及移動機構，其設置於上述裝入、取出室內，使上述載台在可在與上述成膜室之間插卸上述載台之搬送位置、與鄰接於上述搬送位置之退避位置之間移動，且使上述載台朝相對於鉛直方向及水平方向分別成大於0°小於90°之特定角度的傾斜方向上下移動。
較好的是，上述移動機構在上述搬送位置與相對於上述搬送位置而位於斜上方的上述退避位置之間，使上述載台沿上述傾斜方向直線性上下移動。
上述移動機構較好為包含：第一移動機構，其係使上述載台在上述搬送位置與相對於上述搬送位置位於一方之斜上方的第一退避位置之間移動；及第二移動機構，其係使上述載台在上述搬送位置與相對於上述搬送位置位於另一方之斜上方的第二退避位置之間移動。
較好的是，於上述第一移動機構與上述第二移動機構中分別具備支持上述載台並使其移動之伸縮構件，且上述第一移動機構之伸縮構件與上述第二移動機構之伸縮構件係以相互交叉之方式配置。
較好的是，上述移動機構以相對於水平方向45°以上、85°以下之角度使上述載台於傾斜方向上下移動。
本發明之成膜裝置較好為進而包含加熱部，其設置於上述裝入、取出室之靠近上述退避位置之位置，用以加熱上述基板。
本發明之成膜裝置，較好的是，上述移動機構進而包含第三移動機構，其係使上述載台沿鉛直方向移動。
[發明之效果]
根據本發明之成膜裝置，在裝入、取出室中，使載台朝相對於水平方向成特定角度之傾斜方向(即、鉛直方向及水平方向)移動。例如，在相對於搬送位置位於斜上方的退避位置與搬送位置之間，使載台沿傾斜方向直線性上下移動。藉由進行如此動作，與先前使載台沿水平方向朝與搬送位置並排地退避之情形相比較，可實現成膜裝置之小型化。特別，由於係以在鉛直方向及水平方向上移位之方式使載台退避，故可減少載台在鉛直方向上移位程度、及載台在水平方向上之移動距離。進而，可以鄰接之複數個載台之邊緣於鉛直方向重合之狀態，將複數個載台收納於裝入、取出室。因此，可省略水平方向上複數個載台之重合，其結果可縮小裝入、取出室沿水平方向之寬度，實現成膜裝置之小型化。
又，在構成先前之成膜裝置之裝入、取出室中，為使載台僅沿水平方向移動，需要沿水平方向敷設之軌道或與其扣合之滾輪等。因此，先前之成膜裝置存在裝置複雜化且成本較高之問題。另一方面，在構成本發明之成膜裝置的裝入、取出室中，由於設置將載台朝與鉛直方向及水平方向分別成大於0°小於90°之角度，即傾斜方向升高之移動機構，例如，一對油壓缸或氣壓缸等即可，故可降低成膜裝置之製造成本。
再者，本發明中，在構成成膜裝置之裝入、取出室中，使載台朝特定位置退避時，係將其朝向對鉛直方向及水平方向分別成大於0°小於90°之角度、即傾斜方向升高。因此，可減少如先前般沿水平方向敷設之軌道或與其扣合之滾輪等之機械性摩擦、接觸所產生的振動。因此，可抑制在裝入、取出室中產生微粒，從而可維持基板表面或裝入、取出室內部之清潔狀態。
以下，參照圖面，對本發明之成膜裝置之一實施形態加以說明。另，本實施形態係為使發明之要旨更好理解而具體加以說明者，只要無特別指定，並非意欲限定本發明。又，以下說明中所用之圖面係採用可於圖面上辨識各構成要件程度之大小，故各構成要件之尺寸及比例與實際情況有適當不同。
圖1係顯示本發明之成膜裝置之一實施形態之連續型PVD裝置(以下簡單稱為成膜裝置)整體的概要圖。
在本實施形態之成膜裝置10中，串聯設置有成膜室(成膜腔室)11、裝入、取出室(負載、卸載腔室)12、及堆疊器(移載裝置)13。成膜室11及裝入、取出室12係藉由使下文所述之閘閥開口而連通。又，裝入、取出室12及堆疊器13係同樣藉由使閘閥開口而連通。又，載置有基板W之載台14可在成膜室11、裝入、取出室12、及堆疊器13之間相互移動。
於成膜室11與裝入、取出室12之間，形成有將成膜室11及裝入、取出室12之空間內氣密保持的閘閥16。又，於裝入、取出室12與堆疊器13之間，亦形成有將裝入、取出室12與堆疊器13之空間內氣密保持的閘閥17。該等閘閥16、17係於載台14移動時開放，在載台14不移動時關閉。
成膜室(成膜腔室)11具有可氣密保持內部之腔室本體21。且，於該腔室本體21內設置有加熱器22、及陰極單元23。
於腔室本體21之一面(一側面)形成有可使搭載有基板W之載台14通過的開口24，且於該側面經由閘閥16可連通地連接有裝入、取出室12。此種腔室本體21之內部，可利用真空泵(省略圖示)予以減壓。
陰極單元23係以面對導入至腔室本體21之基板W之一面(一方之基板面)的方式形成，藉由濺鍍靶材，於基板W之一面上使功能膜成膜。
加熱器22係將導入至腔室本體21之基板W加熱至最適於成膜的溫度。作為該種加熱器22，例如使用護套加熱器、紅外線加熱器。
堆疊器13係以例如可收納複數個載台14之方式形成，且經由閘閥(開關部)17可連通地連接於裝入、取出室12。於此種堆疊器13中，暫時載置成膜前之基板，且在將成膜後之基板向進行其他步驟之裝置送出時，中繼基板。堆疊器13之內部只要維持大氣氛圍即可。
圖2係俯視構成成膜裝置之裝入、取出室的剖面圖。圖3係從堆疊器觀察之裝入、取出室之剖面圖。
裝入、取出室(負載、卸載腔室)12具備可維持內部空間為氣密狀態之腔室本體31。於腔室本體31之正面側(正面位置)形成有連通成膜室(成膜腔室)11與腔室本體31之開口32。在該正面位置中，經由閘閥16連接有成膜室11與腔室本體31。又，於腔室本體31之背面側(背面位置)形成有連通堆疊器(移載裝置)13與腔室本體31之開口33。在該背面位置中，經由閘閥17連接有堆疊器13與腔室本體31。
於腔室本體31之一側面31a(第1側面)，形成有加熱器(加熱部)34。該加熱器(加熱部)34係下文所述用以加熱位於退避位置之基板W的裝置。作為該加熱器係例如使用護套加熱器或紅外線加熱器。
又，於腔室本體31之另一側面31b(與第1側面相反之第2側面)設置有真空泵35。真空泵35係在閘閥16、17為閉鎖之狀態下排出腔室本體31內之氣體，並減壓腔室本體31，藉此使腔室本體31內成為真空狀態。
對此種裝入、取出室12裝入取出之載台14係以使基板W之一面Wa沿鉛直方向G之方式垂直地保持基板W之所謂的縱型載台。載台14例如係保持矽晶圓等之基板W之邊緣部分，且以直立於大致鉛直方向之狀態保持基板W。
於靠近腔室本體31之底面31c的位置，形成有移動機構40及搬送軌道36。又，移動機構40係以貫通構成底面31c之壁部的方式，設置於腔室本體31(裝入、取出室12)之下部。搬送軌道36係以在與腔室本體31之成膜室11相連的開口32及與堆疊器13相連的開口33之間延伸之方式形成。保持基板W之載台14係在搬送軌道36上移動。另，於該種搬送軌道36中途，適當配置有以使載台14移動之搬送輥軸等構成的旋轉機構(省略圖示)。
移動機構40包含第一移動機構41、第二移動機構42、及第三移動機構43而構成。該等第一移動機構41、第二移動機構42、及第三移動機構43分別由具有可伸縮之伸縮構件41a、42a、43a之例如油壓缸或氣壓缸構成。
第一移動機構41係以沿著伸縮構件41a之延長方向相對於鉛直方向G及水平方向F分別成大於0°小於90°之特定角度的傾斜方向(即，鉛直方向及水平方向)延伸之方式配置。例如，使第一移動機構41之伸縮構件41a相對於水平方向F成45°以上85°以下之角度、在本實施形態中例如成60°之方式配置第一移動機構41。
第二移動機構42係以沿著伸縮構件42a之延長方向相對於垂直方向G及水平方向F分別成大於0°小於90°之特定角度的傾斜方向延伸之方式配置。又，第二移動機構42係以使伸縮構件42a與第一移動機構41之伸縮構件41a相互交叉之方式配置。例如，係以第二移動機構42之伸縮構件42a相對於水平方向F與第一移動機構41之伸縮構件41a在反方向上成45°以上85°以下之角度，本實施形態中例如成60°之方式配置第二移動機構42。
另，以相互交叉之方式配置之第一移動機構41之伸縮構件41a與第二移動機構42之伸縮構件42a，可在腔室本體31之深度方向(搬送軌道36之延長方向)，相互錯開位置地配置。
於此種第一移動機構41之伸縮構件41a之前端部分、及第二移動機構42之伸縮構件42a之前端部分，分別形成有支持載台14之支持部41b、42b。
作為該支持部41b、42b，例如係採用可於搬送軌道36之一部分被切除之部分(凹部、缺口部)配置載台14之構成搬送軌道36之延長部的構件。支持部41b、42b係支持載台14之兩端部分。
第三移動機構43係以使伸縮構件43a之延長方向沿鉛直方向G延伸之方式配置。該種第三移動機構43係使載台14自搬送軌道36脫離，使載台14停止移動。
關於具有如上構成之裝入、取出室之作用，參照圖2、圖4A~圖6D加以說明。圖4A~圖6D係階段性顯示構成本發明之成膜裝置之裝入、取出室之動作的剖面圖。
另，以下說明中，將說明由載台14取出成膜前之基板而送入成膜室11，且自成膜室11取出成膜完成之基板並送入載台14之一連串動作。
首先，在閉鎖設置於成膜室11與裝入、取出室12間之閘閥16的狀態下，開放閘閥17，使裝入、取出室12與堆疊器13連通。此時，裝入、取出室12之內部之氛圍係與堆疊器13之內部相同，為大氣氛圍。接著，將支持有成膜前之基板W1之載台14A搭載於搬送軌道36，且由堆疊器13將載台14A導入裝入、取出室12內(參照圖4A)。
載台14A到達裝入、取出室12內之特定位置，即搬送位置P0後，使第三移動機構43動作，伸縮構件43a沿鉛直方向G朝上方向延伸。藉由該動作，載台14A自搬送軌道36脫離(離開)，載台14A之移動停止(參照圖4B)。
其次，使第二移動機構42動作，令伸縮構件42a以相對於鉛直方向G及水平方向F分別成大於0°小於90°之特定的角度朝斜上方延伸。藉由該動作，使位於搬送位置P0之載台14A載至形成於伸縮構件42a之前端部分之支持部42b。其後，載台14A係沿傾斜方向(即，鉛直方向及水平方向)直線移動。藉此，載台14A由搬送位置P0，向位於朝向一斜上方之方向(第1移動方向)上的第一退避位置P1移動(參照圖4C)。該第一退避位置P1係腔室本體31(裝入、取出室12)之內部中靠近加熱器34之位置。
其次，在閉鎖閘閥17後，使真空泵35動作，減壓裝入、取出室12之內部，使其變成與成膜室11之內部相同程度之真空狀態。接著，開放閘閥16，使裝入、取出室12連通成膜室11後，將載置有配置於成膜室11內之成膜完成之基板W2的載台14B載至搬送軌道36上，並將載台14B導入裝入、取出室12內(參照圖4D)。
載台14B到達裝入、取出室12內特定位置，即搬送位置P0後，使第三移動機構43動作，伸縮構件43a沿鉛直方向G朝上方向延伸。藉由該動作，載台14B自搬送軌道36脫離(離開)，載台14B停止移動(參照圖5A)。
此時，關於載台14A、14B之高度(鉛直方向G中之面31c至載台14A、14B的距離)，其中位於第一退避位置P1之載台14A之高度係不同於位於搬送位置P0之載台14B之高度。又，在水平方向F中，載台14A之位置與載台14B之位置不同。藉由如此改變載台14A及載台14B之高度及位置，鉛直方向G中即使是位於搬送位置P0之載台14B之邊緣部分與載台14A之邊緣部分有部分重合的位置，仍不會使載台14A、14B相互干涉(接觸)。
又，載置於位於第一退避位置P1之載台14A上的基板W1較好為藉由加熱器(加熱部)34，在導入成膜室11前，預先使其升溫至特定之成膜溫度。藉此，在基板W1被導入成膜室11後，可節約使其升溫至特定成膜溫度之時間，進而可更有效地在短時間內進行成膜。
其次，使第一移動機構41動作，將伸縮構件41a相對於鉛直方向G及水平方向F，即與伸縮構件42a以相對於鉛直軸線對稱之方向的特定角度，向斜上方延伸。藉由該動作，使位於搬送位置P0之載台14B載至形成於伸縮構件41a之前端部分之支持部41b上。接著，載台14B沿傾斜方向直線移動。藉此，載台14B從搬送位置P0朝位於朝向另一斜上方之方向(第2移動方向)的第二退避位置P2移動(參照圖5B)。該第二退避位置P2在腔室本體31(裝入、取出室12)之內部中，係自加熱器34離開之位置，且係與第一退避位置P1相反之位置。
其後，再次使第二移動機構42動作，將伸縮構件42a相對於鉛直方向G及水平方向F以特定角度收縮至斜下方。藉由該動作，使位於第一退避位置P1之載台14A沿傾斜方向直線移動，返回至搬送位置P0(參照圖5C)。此時，由於第三移動機構43之伸縮構件43a係處於沿鉛直方向G朝上方向延伸的狀態，故載台14A係保持自搬送軌道36離開之狀態。
載台14A到達搬送位置P0後，使第三移動機構43動作，將伸縮構件43a沿鉛直方向G收縮至下方向，藉此將載台14A載置於搬送軌道36(參照圖5D)。接著，沿搬送軌道36將載台14A送入成膜室11(參照圖6A)。將預先以加熱器34升溫至特定成膜溫度的基板W1導入成膜室11後，迅速進行成膜處理。
另一方面，待載台14A被送入成膜室11後，將閘閥16閉鎖，使裝入、取出室12恢復大氣氛圍。繼而，開放閉鎖之閘閥17，使其與大氣氛圍下之堆疊器13連通。
其後，再次使第一移動機構41動作，將伸縮構件41a相對於鉛直方向G及水平方向F以特定角度收縮至斜下方。藉由該動作，使位於第二退避位置P2之載台14B沿傾斜方向直線移動，返回至搬送位置P0(參照圖6B)。同時，由於第三移動機構43之伸縮構件43a係處於沿鉛直方向G朝上方向延伸的狀態，故載台14B係保持自搬送軌道36離開之狀態。
其後，載台14B到達搬送位置P0後，使第三移動機構43動作，將伸縮構件43a沿鉛直方向G收縮至下方向，藉此使載台14B載置於搬送軌道36(參照圖6C)。接著，將載台14B沿搬送軌道36送出至堆疊器13(參照圖6D)。藉此，將成膜完成之基板W2取出至堆疊器13，將成膜前之基板W1與成膜後之基板W2經由裝入、取出室12有效地替換之1次步驟完成。
另，在上述實施形態中，作為使載台朝傾斜方向移動之移動機構，雖以具備第一移動機構與第二移動機構之結構加以說明，但亦可採用具備任一移動機構之結構。
又，在上述實施形態中，雖以具備使載台朝鉛直方向移動之第三移動機構的結構加以說明，但亦可藉由設置使載台停止的裝置來作為與上述移動機構不同之裝置，而不特別具備第三移動機構。
如上所述，在本發明之成膜裝置中，係使載台14相對於鉛直方向及水平方向分別成大於0°小於90°之特定角度的傾斜方向移動。例如，在相對於搬送位置P0位於斜上方之退避位置P1、P2與搬送位置P0之間，使載台14沿傾斜方向直線性上下移動。藉由進行如此之動作，與先前使載台沿水平方向F與搬送位置並排退避的情形相比較，可實現成膜裝置10之小型化。尤其是，藉由以鉛直方向G上偏移之方式使載台14退避，可以在使鄰接之複數個載台之邊緣於鉛直方向G重合之狀態下，將複數個載台收納於裝入、取出室12內。因此，可省略水平方向中複數個載台之重合，其結果可縮小裝入、取出室12沿水平方向F之寬度，實現成膜裝置10之小型化。
作為一例，先前可將三個載台並排於水平方向之裝入、取出室的寬度為565 mm。另一方面，如本發明所述，將三個載台中之兩個載台於鉛直方向及水平方向以特定角度傾斜、即可使載台沿斜上方向退避之裝入、取出室的寬度為305 mm。即，本發明之成膜裝置由於可省略水平方向中載台之重合，故可使裝入、取出室之寬度減為約先前之一半左右。
又，構成先前之成膜裝置之裝入、取出室，為使載台沿水平方向F移動，須有沿水平方向敷設之軌道或與其扣合之滾輪等。因此，先前之成膜裝置中存在裝置複雜化且成本較高之問題。另一方面，構成本發明之成膜裝置的裝入、取出室，由於僅需設置將載台朝鉛直方向及水平方向、即朝傾斜方向升高之移動機構，例如設置一對油壓缸或氣壓缸等即可，故可降低成膜裝置之製造成本。
再者，本發明中，在裝入、取出室中使載台退避至特定位置時，係將其朝鉛直方向及水平方向即傾斜方向升高。因此，可減少如先前般沿水平方向敷設之軌道或與其扣合之滾輪等之機械性摩擦、接觸所產生的振動。故，可抑制在裝入、取出室中產生微粒，從而維持基板表面或裝入、取出室之內部之清潔狀態。
[產業上之可利用性]
本發明可適用於具備裝入、取出室之成膜裝置。
10．．．成膜裝置
11．．．成膜室(成膜腔室)
12．．．裝入、取出室(負載、卸載腔室)
13．．．堆疊器(移載裝置)
14．．．載台
14A．．．載台
14B．．．載台
16．．．閘閥
17．．．閘閥
21．．．腔室本體
22．．．加熱器
23．．．陰極單元
24．．．開口
31．．．腔室本體
31a．．．一側面(第1側面)
31b．．．另一側面(第2側面)
31c．．．底面
32．．．開口
33．．．開口
34．．．加熱器
35．．．真空泵
36．．．搬送軌道
40．．．移動機構
41．．．第一移動機構
41a．．．伸縮構件
41b．．．支持部
42．．．第二移動機構
42a．．．伸縮構件
42b．．．支持部
43．．．第三移動機構
43a．．．伸縮構件
F．．．水平方向
G．．．鉛直方向
P0．．．移動位置
P1．．．第一退避位置
P2．．．第二退避位置
W．．．基板
W1．．．基板
W2．．．基板
Wa．．．基板W之一面
圖1係顯示本發明之成膜裝置之概要圖。
圖2係俯視構成本發明之成膜裝置之裝入、取出室之剖面圖。
圖3係從堆疊器觀察之裝入、取出室之剖面圖。
圖4A係顯示構成本發明之成膜裝置之裝入、取出室之動作之剖面圖。
圖4B係顯示構成本發明之成膜裝置之裝入、取出室之動作之剖面圖。
圖4C係顯示構成本發明之成膜裝置之裝入、取出室之動作之剖面圖。
圖4D係顯示構成本發明之成膜裝置之裝入、取出室之動作之剖面圖。
圖5A係顯示構成本發明之成膜裝置之裝入、取出室之動作之剖面圖。
圖5B係顯示構成本發明之成膜裝置之裝入、取出室之動作之剖面圖。
圖5C係顯示構成本發明之成膜裝置之裝入、取出室之動作之剖面圖。
圖5D係顯示構成本發明之成膜裝置之裝入、取出室之動作之剖面圖。
圖6A係顯示構成本發明之成膜裝置之裝入、取出室之動作之剖面圖。
圖6B係顯示構成本發明之成膜裝置之裝入、取出室之動作之剖面圖。
圖6C係顯示構成本發明之成膜裝置之裝入、取出室之動作之剖面圖。
圖6D係顯示構成本發明之成膜裝置之裝入、取出室之動作之剖面圖。
12．．．裝入、取出室(負載、卸載腔室)
14．．．載台
31．．．腔室本體
31c．．．底面
32．．．開口
34．．．加熱器
35．．．真空泵
36．．．搬送軌道
40．．．移動機構
41．．．第一移動機構
42．．．第二移動機構
43．．．第三移動機構
41a．．．伸縮構件
42a．．．伸縮構件
42b．．．支持部
43a．．．伸縮構件
W．．．基板
Wa．．．基板W之一面
G．．．鉛直方向
F．．．水平方向

Claims (7)

  1. 一種成膜裝置，其特徵為包含：成膜室，其於基板上形成被覆膜；載台，其以使形成有上述被覆膜之上述基板之一面沿著鉛直方向之方式垂直保持上述基板；裝入、取出室，其以與上述成膜室連通之方式經由開關部而配置；及移動機構，其設置於上述裝入、取出室內，使上述載台在可在與上述成膜室之間插卸上述載台之搬送位置、與鄰接於上述搬送位置之退避位置之間移動，從鉛直方向下側保持上述載台，該載台垂直保持上述基板，且沿搬送方向觀察位於上述搬送位置之載台時，以上述搬送位置為基點，使上述載台朝相對於鉛直方向及水平方向分別成大於0°小於90°之特定角度的傾斜方向上下移動。
  2. 如請求項1之成膜裝置，其中上述移動機構係在上述搬送位置與相對於上述搬送位置而位於斜上方的上述退避位置之間，使上述載台沿上述傾斜方向直線性上下移動。
  3. 如請求項1之成膜裝置，其中上述移動機構包含：第一移動機構，其使上述載台在上述搬送位置與相對於上述搬送位置位於一方之斜上方的第一退避位置之間移動；及 第二移動機構，其使上述載台在上述搬送位置與相對於上述搬送位置位於另一方之斜上方的第二退避位置之間移動。
  4. 如請求項3之成膜裝置，其中於上述第一移動機構與上述第二移動機構中分別具備支持上述載台並使其移動之伸縮構件，且上述第一移動機構之伸縮構件與上述第二移動機構之伸縮構件係以相互交叉之方式配置。
  5. 如請求項1至4中任一項之成膜裝置，其中上述移動機構係以相對於水平方向45°以上、85°以下之角度使上述載台於傾斜方向上下移動。
  6. 如請求項1至4中任一項之成膜裝置，其中進而包含加熱部，其設置於上述裝入、取出室之靠近上述退避位置之位置，用以加熱上述基板。
  7. 如請求項1至4中任一項之成膜裝置，其中上述移動機構進而包含第三移動機構，其使上述載台沿鉛直方向移動。
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