TWI572736B - 前驅物輸送的方法與裝置 - Google Patents

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拉札拉姆傑戴夫
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Description

前驅物輸送的方法與裝置
本發明之具體實施例一般而言與基材處理有關，更具體的係與輸送一氣體混合物至一處理腔室的方法與裝置有關。
化學氣相沈積(CVD)製程可以用來沈積薄膜或其他類似基材。在液體反應CVD系統中，一載體氣體可以氣泡化，穿過一液體前驅物容器，以形成一氣體混合物。接著可以輸送該混合物至一基材處理中使用之處理腔室。該輸送方法可能與安瓿有關，其中使該載體氣體流動通過位於該安瓿中之一受熱液體前驅物，以形成該氣體混合物。於一時間框中進行該安瓿中該液體前驅物條件的動態控制是不可能的，像是在該基材交換或其他類似情況之間的處理運轉期間。據此，為了調整像是該安瓿中該液體前驅物之溫度、體積或是濃度等的參數，該處理系統必須離線，例如，置換該安瓿或是使該液體前驅物溫度上升至一適合操作的溫度。
據此，本發明係已經提供輸送一氣體混合物至一處 理腔室之改良方法及裝置。
在此提供輸送一種氣體混合物至一處理腔室的方法與裝置。在某些具體實施例中，一前驅物輸送裝置可以包含一安瓿，該安瓿具有一主體，該主體具備一第一空間以持有一液體前驅物、具有一入口用以接收該液體前驅物與一載體氣體，以及具有一出口用以流動來自該安瓿之該液體前驅物與該載體氣體的氣體混合物；一第一加熱器係位靠近於或位於該第一空間中，以加熱該第一空間中位靠近於或位於一第一位置處之該液體前驅物，該第一位置係於該第一空間之中該液體前驅物與該載體氣體接觸的位置；而一熱轉換裝置係位靠近於該主體，以進行將熱提供至該安瓿或從該安瓿移除熱之至少一項功能。
在某些具體實施例中，一種利用一前驅物輸送裝置處理一基材的系統可以包含一處理腔室、一安瓿、一第一加熱器、一熱轉換裝置、一液體前驅物來源及一載體氣源；該處理腔室用於處理一基材；該安瓿具有一主體、一入口與一出口，該主體具備一第一空間以持有一液體前驅物，該入口用以接收該液體前驅物與一載體氣體，而該出口用以流動來自該安瓿之該液體前驅物與該載體氣體的氣體混合物，其中該出口與該處理腔室連接，以從該安瓿輸送該氣體混合物至該處理腔室之一內部空間；該第一加熱器位靠近於或位於該第一空間中，以加熱該第一空間中位靠近於或位於一位置處之該液體前驅物，該位置係於該第一空間之中該液體前驅物 與該載體氣體接觸的位置；該熱轉換裝置位靠近於該主體，以進行將熱提供至該安瓿或從該安瓿移除熱之至少一項功能；該液體前驅物來源與該安瓿之入口連接，以提供該液體前驅物至該安瓿，而無需從該處理腔室中斷與該安瓿的連接；而該載體氣源與該安瓿之入口連接，以提供該載體氣體，其中該液體前驅物與該載體氣體係以交替供應該液體前驅物與該載體氣體至該安瓿之入口的方式連接至該入口。
在某些具體實施例中，一種輸送一氣體混合物至一處理腔室之方法包含使一載體氣體流動通過一液體前驅物以形成一氣體混合物並將該氣體混合物輸送至該處理腔室，該液體前驅物位於一安瓿之一第一空間中，該安瓿則與該處理腔室連接；及調整該安瓿之一或更多個參數，以在不移除該安瓿的情況下，控制一處理運轉期間於該處理腔室中一基材轉換時間框內該氣體混合物的形成。
本發明之其他與進一步具體實施例將於以下敘述。
100‧‧‧安瓿
102‧‧‧主體
103‧‧‧加熱器
104‧‧‧第一空間
105‧‧‧入口
106‧‧‧熱轉換裝置
107‧‧‧出口
108‧‧‧導管
110‧‧‧入口
112‧‧‧出口
114‧‧‧中央埠口
116‧‧‧燒結盤
200‧‧‧裝置
201‧‧‧導管
202‧‧‧液體前驅物來源
203‧‧‧溶質來源
204‧‧‧載體氣源
205‧‧‧溶劑來源
206‧‧‧第一閥
207‧‧‧加熱器
208‧‧‧第二閥
209‧‧‧導管
210‧‧‧沈積線路
211‧‧‧加熱器
212‧‧‧處理腔室
213‧‧‧導管
214‧‧‧排放線路
216‧‧‧背壓控制器
218‧‧‧濃度監測器
220‧‧‧氣源
300‧‧‧方法
302‧‧‧步驟
304‧‧‧步驟
本發明之具體實施例係於以上進行總結並於以下詳細討論，並可由參考該等伴隨圖示中所描繪之本發明例證具體實施例的方式獲得瞭解。然而要注意該等伴隨圖示僅描繪本發明之一般具體實施例，因此不應該視其為構想之限制，本發明係允許其他相同之有效具體實施例。
第1A圖及第1B圖分別描繪根據本發明某些具體實施例之一安瓿的立體圖示與結構側視圖。
第2圖描繪根據本發明某些具體實施例之一前驅物 輸送裝置的結構圖示。
第3圖描繪根據本發明某些具體實施例之輸送一氣體混合物至一處理腔室之方法流程圖。
為了協助瞭解，已經盡可能使用相同的參考數字以標註對於該等圖式而言所通用之相同元件。該等圖式並不按比例繪製，且為了清楚起見可能被簡化。在不特別說明下，一具體實施例之該等元件與特徵係可有利地與其他具體實施例整合。
在此提供輸送一汽化混合物至一處理腔室之方法與裝置。本發明之方法與裝置能有利地協助一安瓿中一液體前驅物的動態控制，該安瓿則例如像是起泡器，因此可以對一基材處理系統提供具有一需求濃度之一致、可重複性的氣體混合物輸送。
第1A圖及第1B圖描繪根據本發明某些具體實施例之一安瓿100的結構側視圖。在某些具體實施例中，該安瓿100包含一主體102，該主體102具有一第一空間104以持有一液體前驅物於其中。在某些具體實施例中，該主體102係以不鏽鋼製成。在某些具體實施例中，該第一空間104可以介於大約100立方公分(cm3)至大約200 cm3的範圍。一加熱器103(例如，一第一加熱器)係可位靠近於或位於該第一空間104中，以加熱位於該第一空間104中之該液體前驅物。該加熱器103可如所示位於該第一空間104下方。替代的，該加熱器103可以位於該第一空間104之中或大約該第一空 間104接近該液體前驅物的位置。
在某些具體實施例中，該安瓿100包含位靠近該主體102之一熱轉換裝置106，以進行將熱提供至該安瓿100或從該安瓿100移除熱之至少一項功能。示例之熱轉換裝置可以包含一加熱套或其他類似裝置，因此於之間循環一熱轉換媒介。如第1A圖與第1B圖所描繪，該熱轉換裝置106可以包含一或更多個導管108，位於或為鄰近於該安瓿100之主體102，以使一熱轉換媒介於其中流動。如同所描繪，該一或更多個導管108可以包含一入口105與一出口107，以接收並回流該熱轉換媒介。示例之熱轉換媒介可以包含下述一或更多種媒介：去離子水、GALDEN®熱轉換流體或其他類似媒介。在某些具體實施例中，該熱轉換裝置106之一外部表面係由一塑膠粉末塗敷熱絕緣材料所絕緣。
該安瓿100包含一入口110以接收一液體前驅物與一載體氣體，以及包含一出口112以流動來自該安瓿100之該液體前驅物與該載體氣體的氣體混合物。該入口110與出口112可以流暢的方式與該第一空間104連接。
一中央埠口114可以連接至該主體102。該中央埠口114可以包含及/或協助將一液體前驅物程度感測器113引入至該第一空間104，以測量該第一空間104中該液體前驅物的程度。該中央埠口114可以包含及/或協助將一熱電耦115引入至該第一空間104，以測量該第一空間104中的溫度。
一燒結盤116可以介於該入口110與該出口112之間，位於該主體102的第一空間104中。該燒結盤116可以 協助該安瓿100中該氣泡化載體氣體與該液體前驅物之間的均勻及最大接觸。該燒結盤116的進一步具體實施例係於本發明受讓人之2011年6月28日美國專利號7,969,911中所述，其標題為「Apparatus and methods for chemical vapor deposition」，其係藉由引用形式而整體併入本文。
第2圖描繪根據本發明某些具體實施例之一前驅物輸送裝置的結構圖示。該前驅物輸送裝置200可以包含如以上敘述之該安瓿100。該裝置200可以包含一液體前驅物來源202以提供該液體前驅物，並包含一載體氣源204以提供該載體氣體至該安瓿100入口110。該液體前驅物來源202可以包含一溶質來源203與一溶劑來源205，該溶質來源203則像是包含該液體前驅物的濃縮形式，該溶劑來源205則像是包含用以稀釋該液體前驅物的溶劑。該溶質與溶劑來源203、205可以分別各自提供溶質與溶劑至該安瓿100之該第一空間104。替代的，該溶質與溶劑可在抵達該安瓿100入口110之前被預先混合。同樣的，該載體氣源204可以提供一或更多種載體氣體，其可在抵達該安瓿100入口110之前被預先混合，或各自提供至該安瓿100入口110。
如第2圖所描繪，該液體前驅物來源202與該載體氣源204可以透過一導管201連接至該安瓿100入口110。該液體前驅物來源202與該載體氣源204可以被連接至該入口110，因此該液體前驅物與該載體氣體可以如以下所討論般交替供應至該安瓿100。
例如，一第一閥206可以位於該液體前驅物來源202 與該安瓿100入口110之間。在某些具體實施例中，一加熱器207(例如，一第二加熱器)可以位靠近於一導管209，該導管209將該液體前驅物來源202連接至該第一閥206。同樣的，一第二閥208可以位於該載體氣源204與該安瓿100入口110之間。在某些具體實施例中，一加熱器211(例如，一第三加熱器)可以位靠近於一導管213，該導管213將該載體氣源204連接至該第二閥208。一液體流量計222可如所示位於該液體前驅物來源202與該安瓿100入口110之間。替代的，該液體流量計222可位於該液體前驅物來源202與該入口110之間任意適當位置，像是位於沿著該導管209或該導管201的任意適當位置。
該第一閥206與該第二閥208可以選擇性開啟或關閉，以允許交替供應該載體氣體與該液體前驅物至該安瓿100入口110，像是如描繪般透過該導管201供應。該液體前驅物程度感測器可以控制該第一閥206與該第二閥208的操作。在某些具體實施例中，像是為了補充或保持該第一空間104中該液體前驅物體積於一需求程度時，該液體前驅物程度感測器可以使該第二閥208關閉，並使該第一閥206開啟，以使液體前驅物從該液體前驅物來源202流動至該安瓿100第一空間104。在某些具體實施例中，在該安瓿100第一空間104中該液體前驅物體積已經補充之後，該液體前驅物程度感測器可以使該第一閥206關閉，並使該第二閥208開啟，以允許該載體氣體從該載體氣源204流動至該安瓿100。
該裝置200可以包含一沈積線路210，允許該氣體 混合物從該安瓿100出口112流動至一處理腔室212。一排放線路214可以連接至該安瓿100出口112，以減輕該安瓿100中的壓力，例如像是當該液體前驅物被加入至該安瓿100之中時。該排放線路214與該沈積線路210可以例如透過一三向閥或其他類似裝置交替對該出口112開放。在某些具體實施例中，一背壓控制器216可以連接至該出口112，以維持該安瓿100第一空間104中減壓條件介於大約200至大約600托耳(Torr)之間的範圍。
該裝置200可以包含位於該安瓿100出口112與該沈積及排放線路210、214之間的一濃度監測器218。該濃度監測器218可以測量離開該出口112之該氣體混合物濃度。該濃度監測器218具有可操作性，以調整該加熱器103、207、211、該熱轉換裝置106、液體前驅物來源202或載體氣源204之一或更多者，以控制離開該出口112之該氣體混合物濃度。
一第二載體氣源220可以位於該濃度監測器218與該沈積及排放線路210、214之間，以提供一第二載體氣體，以在需要時進一步稀釋離開該安瓿100之該出口112之該氣體混合物。替代的，該第二載體氣源220與該載體氣源204可為相同。
第3圖描繪根據本發明某些具體實施例之輸送一氣體混合物至一處理腔室之方法300流程圖。以下係根據該安瓿100與該前驅物輸送裝置200之具體實施例敘述該方法300；然而，其他裝置也可以使用以下討論之本發明方法。
在某些具體實施例中，該方法300係開始於存在於 該安瓿100第一空間104中之該液體前驅物，係具有需求程度，例如具有需求之體積程度，或介於該需求程度之一允差之中。該需求程度係於該燒結盤116位置上方。此外，該液體前驅物可被加熱至適合氣泡化的需求溫度，像是使用該加熱器103、該熱轉換裝置106或該加熱器207之一或更多者。
該方法300一般而言於步驟302開始，其中使該載體氣體流動通過位於該安瓿100第一空間104中之該液體前驅物，以形成一氣體混合物，並輸送該氣體混合物至該處理腔室212。該載體氣體可由該載體氣源204提供至該安瓿100入口110。該載體氣體可在進入該安瓿100之前，選擇性由該加熱器211加熱。
示例液體前驅物可以包含溶質與溶劑。例如，溶質可以包含三甲基銦(In(Ch3)3)、三氯化鎵(GaCl3)、三氯化銦(InCl3)或其他類似溶質之一或更多項。示例溶劑可以包含十六烷、N,N-二甲基月桂胺、聚醚其他類似溶劑之一或更多項。示例載體氣體可以包含一惰性氣體，像是氫氣(H2)或氮氣(N2)之一或更多者。
該第一空間104協助對於離開該出口112之氣體混合物的濃度即時控制。其例如大約100 cm3至大約200 cm3的小型體積與加熱器103、207、211、液體前驅物來源202與載體氣源204之一或更多者的組合，可進行該前驅物的補充及/或調整各種參數，以一致地重新產生具有需求濃度的氣體混合物。
據此，在步驟304，可以調整該安瓿100之一或多 個參數，以控制在一處理運轉期間於該處理腔室中於一基材轉換時間框中的氣體混合物形成，而無需從該前驅物輸送裝置200移除該安瓿100。示例一基材轉換時間框可以包含連續基材轉換之間、在處理像是大約10次基材或較少次基材的數次基材處理之後、於處理連續基材或數次基材之間的腔室清洗期間，或其他類似時間框。於步驟104處的調整係於一處理運轉期間發生的動態處理，而非在該處理腔室212的停機時間進行調整，像是在該處理腔室212處於操作模式並正於處理基材時進行調整，而不在像是在該腔室212係由一操作者所使用時進行調整。此外，於步驟104處的調整並不需要移除及/或置換該安瓿100便可進行。
於步驟104處可調整之該安瓿100之示例參數則包含該第一空間104中該液體前驅物的體積、該第一空間104中該液體前驅物的溫度、該第一空間104的環境溫度，例如未由該液體前驅物所佔據之該第一空間104部分中的溫度、該第一空間104中該液體前驅物的濃度以及其他類似參數之一或更多者。
例如在某些具體實施例中，於步驟302處流動通過該第一空間之該載體氣體，係使該液體前驅物於該第一空間104中汽化，伴隨的是初始溫度下降。因此，用以加熱在該第一空間104中剩餘液體前驅物所提供的能量總量，便可能從用以加熱該液體前驅物所提供之初始能量總量進行調整。對用以加熱在該第一空間104中剩餘液體前驅物所提供的能量總量進行調整可能是必須的，例如，係用以使該液體前驅物 保持如在初始階段時的相同汽化率，因此該氣體混合物的濃度便能以可靠方式重新產生，以在該腔室212中進行後續基材處理。
該液體前驅物的溫度可以被調整，例如藉由調整該加熱器103、該熱轉換裝置106或進入載體氣體溫度之一或更多項的方式進行，像是利用該加熱器211的方式進行調整。
例如在某些具體實施例中，於步驟302處流動通過該第一空間之該載體氣體，係使該液體前驅物汽化，因此使該第一空間中的液體前驅物下降至一需求程度以下。例如，該需求程度可為在氣泡化期間進行最佳載體氣體接觸所需要的體積程度。據此，該液體前驅物量便可於該第一空間104中補充至該需求程度，或是補充至該需求程度之一允差範圍中。
該液體前驅物量可以於該第一空間104中調整，例如利用使來自該液體前驅物來源202之該液體前驅物流動通過該第一閥206至該安瓿100入口110的方式。此外，該液體前驅物的溫度一在補充之前不管是將最近的液體前驅物提供至入口110還是使該液體前驅物保留在該第一空間104中一可以結合補充動作進行調整，像是透過調整該加熱器103、207或該熱轉換裝置106之一或多項的方式，以使該液體前驅物的溫度達到使液體前驅物適合形成具有一需求濃度之氣體混合物的需求溫度，以進行處理。
在某些具體實施例中，該液體前驅物可以包含一溶質與溶劑。該安瓿100中該液體前驅物的濃度可以直接或間 接監測，像是監測隨即透過該出口112離開該安瓿100之該前驅物液體載體氣體前驅物混合物的濃度。例如，該溶質與溶劑可以具有不同的汽化率，而該液體前驅物的濃度，例如在該溶劑中該溶質的濃度便可能改變。這種濃度的改變可能影響該氣體混合物的濃度。據此在某些具體實施例中，可以提供來自該溶質來源203之溶質及/或該溶劑來源205之溶劑，以補充該第一空間104中該液體前驅物至需求濃度。例如，該溶質與該溶劑可以分別提供，或者該溶質與溶劑可以以一適當濃度預先混合，因此當添加至該第一空間104中存在之該液體前驅物時，便達到該第一空間104中該液體前驅物的需求濃度。如以上討論之具體實施例，可在使該溶質及/或溶劑流至該安瓿100之前，對該溶質及/或溶劑進行預先加熱，或對該溶質及/或溶劑進行原位加熱，像是利用該加熱器103及/或該熱轉換裝置106加熱，以提供該第一空間104中具有需求濃度及/或需求溫度之液體前驅物。
雖然以上敘述以對本發明具體實施例進行引導，但在不背離本發明基本構想下，可以擬出本發明之其他與進一步具體實施例。
100‧‧‧安瓿
102‧‧‧主體
105‧‧‧入口
106‧‧‧熱轉換裝置
107‧‧‧出口
108‧‧‧導管
110‧‧‧入口
112‧‧‧出口
114‧‧‧中央埠口

Claims (18)

  1. 一種前驅物輸送裝置，包括：一安瓿，具有一主體、一入口與一出口，該主體具備一第一空間以持有一液體前驅物，該入口用以接收該液體前驅物與一載體氣體，而該出口用以流動來自該安瓿之該液體前驅物與該載體氣體的一氣體混合物；一第一加熱器，位靠近於或位於該第一空間中，以加熱該第一空間中位靠近於或位於一第一位置處之該液體前驅物，該第一位置係於該第一空間之中該液體前驅物與該載體氣體接觸的位置；一熱轉換裝置，位靠近於該主體，以進行將熱提供至該安瓿或從該安瓿移除熱之至少一項功能；以及一燒結盤，位於該安瓿第一空間中該第一位置處，以於該液體前驅物位於該第一空間中時，促進該液體前驅物與該載體氣體的接觸。
  2. 如請求項1所述之裝置，進一步包括：一液體前驅物來源，與該安瓿之該入口連接，以提供該液體前驅物；以及一載體氣源，與該安瓿之該入口連接，以提供該載體氣體，其中該液體前驅物與該載體氣體係以交替供應該液體前驅物與該載體氣體至該安瓿之該入口的方式連接至該入口。
  3. 如請求項1所述之裝置，其中該熱轉換裝置進一步包括： 一或多個導管，位於或位相鄰於該安瓿之該主體，以使一熱轉換媒介於其中流動。
  4. 如請求項1所述之裝置，進一步包括：一液體前驅物程度感測器，與該第一空間連接，以測量該第一空間中該液體前驅物的一程度；以及一熱電耦，與該安瓿連接，以測量該安瓿中的一溫度。
  5. 一種利用一前驅物輸送裝置處理一基材之系統，包括一處理腔室，用以處理一基材；一安瓿，具有一主體、一入口與一出口，該主體具備一第一空間以持有一液體前驅物，該入口用以接收該液體前驅物與一載體氣體，而該出口用以流動來自該安瓿之該液體前驅物與該載體氣體的一氣體混合物，其中該出口與該處理腔室連接，以從該安瓿輸送該氣體混合物至該處理腔室之一內部空間；一第一加熱器，位靠近於或位於該第一空間中，以加熱該第一空間中位靠近於或位於一第一位置處之該液體前驅物，該第一位置係於該第一空間之中該液體前驅物與該載體氣體接觸的位置；一燒結盤，位於該安瓿第一空間中該第一位置處，以於該液體前驅物位於該第一空間中時，促進該液體前驅物與該載體氣體的接觸；一熱轉換裝置，位靠近於該主體，以進行將熱提供至該安瓿或從該安瓿移除熱之至少一項功能； 一液體前驅物來源，與該安瓿之該入口連接，以提供該液體前驅物至該安瓿，而無需從該處理腔室中斷與該安瓿的連接；及一載體氣源，與該安瓿之該入口連接，以提供該載體氣體，其中該液體前驅物與該載體氣體係以交替供應該液體前驅物與該載體氣體至該安瓿之該入口的方式連接至該入口。
  6. 如請求項5所述之系統，進一步包括：一濃度感測器，位於該安瓿之該出口與該處理腔室之間，以監測離開該安瓿出口之該氣體混合物的一濃度；及一第二載體氣源，位於該濃度感測器與該處理腔室之間，以選擇性提供一第二載體氣體，以稀釋該氣體混合物。
  7. 如請求項5所述之系統，其中該熱轉換裝置進一步包括一或更多個導管，位於或位相鄰於該安瓿之該主體，以使一熱轉換媒介於其中流動，並進一步包括：一熱轉換媒介來源，與該一或更多個導管連接，以使一熱轉換媒介通過該一或更多個導管循環。
  8. 如請求項5至7任一項所述之系統，進一步包括：一液體前驅物程度感測器，與該第一空間連接，以測量該第一空間中該液體前驅物的一程度；及一熱電耦，與該安瓿連接，以測量該安瓿中的一溫度。
  9. 如請求項5至7任一項所述之系統，其中該液體前驅物來源進一步包括：一溶質來源，提供一溶質至該安瓿；及 一溶劑來源，提供一溶劑至該安瓿。
  10. 如請求項5至7任一項所述之系統，進一步包括：一第二加熱器，位於該液體前驅物來源與該安瓿之間，以在進入至該安瓿之前，加熱由該液體前驅物來源所提供之一液體前驅物；及一第三加熱器，位於該載體氣源與該安瓿之間，以在進入至該安瓿之前，加熱由該載體氣源所提供之一載體氣體。
  11. 一種輸送一氣體混合物至一處理腔室之方法，包括：使一載體氣體流動通過一液體前驅物以形成一氣體混合物並輸送該氣體混合物至該處理腔室，該液體前驅物位於一安瓿之一第一空間中，該安瓿則與該處理腔室連接；調整該安瓿之一或多個參數，以在不移除該安瓿的情況下，控制一處理運轉期間於該處理腔室中一基材轉換時間框內該氣體混合物的形成；以及利用提供能量至該第一空間中具有位於其中之該液體前驅物之一部份，以及對該第一空間中至少一剩餘部分進行至少加熱或冷卻之一動作的方式，控制該第一空間中該液體前驅物的一溫度。
  12. 如請求項11所述之方法，其中一旦使該載體氣體流動通過該液體前驅物，該第一空間中的液體前驅物剩餘量的一溫度便從一最初溫度下降；及其中調整該安瓿之該一或更多個參數係進一步包括： 從提供用以加熱該液體前驅物之一最初能量總量，調整為提供用以加熱該第一空間中液體前驅物剩餘量之能量總量，以維持如同在最初溫度下該液體前驅物的相同汽化率。
  13. 如請求項11所述之方法，其中一旦使該載體氣體流動通過該液體前驅物，該第一空間中的液體前驅物剩餘量便下降至一需求程度以下；及其中調整該安瓿之該一或更多個參數係進一步包括：使該液體前驅物流動至該第一空間，直到補足該第一空間中該液體前驅物至該需求程度為止。
  14. 如請求項13所述之方法，進一步包括：在使該液體前驅物流動至該第一空間之前，控制該液體前驅物之該溫度。
  15. 如請求項11所述之方法，其中該液體前驅物進一步包括一溶質與一溶劑，且其中一旦使該載體氣體流動通過該液體前驅物，該第一空間中液體前驅物的剩餘量係下降至一需求濃度以下，且其中調整該安瓿之該一或更多個參數係進一步包括：使該溶質或該溶劑之至少之一流動至該第一空間，直到補足該第一空間中該液體前驅物至該需求濃度為止。
  16. 如請求項11至15任一項所述之方法，進一步包括：在使該載體氣體流動通過位於該第一空間中該液體前驅物之前，控制該載體氣體之該溫度。
  17. 如請求項11至15任一項所述之方法，進一步包括： 在該氣體混合物離開該第一空間之後，監測該氣體混合物的該濃度；以及如果該濃度係於一需求濃度以上，便在輸送該氣體混合物至該處理腔室之前，稀釋該氣體混合物之該監測濃度。
  18. 如請求項11所述之方法，進一步包括：在使該液體前驅物流動至該第一空間之前，控制該液體前驅物的該溫度；及在使該載體氣體流動至該第一空間之前，控制該載體氣體的該溫度。
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