TWI569048B - Method for manufacturing optical members with adhesive - Google Patents
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Description
本發明係關於一種較佳地使用於液晶面板或液晶顯示裝置之製造之附黏著劑之光學構件的製造方法。詳細而言,關於一種自於黏著劑層之兩面設置有剝離膜之黏著劑片剝離一剝離膜而將該黏著劑層貼附至光學構件,從而製造附黏著劑之光學構件之方法。
通常,構成液晶顯示裝置之液晶面板係包括如下構成:偏光板或相位差膜等光學構件介隔黏著劑層而貼合於液晶單元。通常為用以貼合於液晶單元之光學構件係於向液晶單元之貼合面,形成黏著劑層,進而作為以剝離膜暫時黏保護該黏著劑層之表面之構造之附黏著劑的光學構件而生產。
此種附黏著劑之光學構件係藉由如下方法而製造之情形較多:自於黏著劑層之兩面設置有可剝離之膜(剝離膜)之黏著劑片剝離一剝離膜而將該黏著劑層貼附至光學構件。即,黏著劑片係剝離膜分別設置於黏著劑層之正背,呈如用作普通之文具或工作用之雙面膠帶之構造,但普通之雙面膠帶係黏著劑層與剝離膜1片:一片地對應,與此相對,黏著劑片係於在黏著劑層之兩面設置有剝離膜之方面存在差異。設置有藉由自該黏著劑片剝離一剝離膜而將藉此所露出之黏著劑面貼合至光學構件之表面之方法製造的黏著劑層之光學構件、即附黏著劑之光學構件係以該狀態保管或流通。而且,於即將貼合至液晶單元前,剝離暫時黏保護該黏著劑面之剝離膜,從而藉此所露出之黏著劑
面貼合至液晶單元。再者,此處所言之黏著劑亦存在稱為感壓接著劑之情形,又,剝離膜亦存在稱為分隔件或分隔膜之情形。
於貼合於黏著劑片之兩面之剝離膜自黏著劑層之剝離力相同的情形時,若向外側拉伸剝離兩方之剝離膜,則如下情形較多:黏著劑層之某個部分伴隨一剝離膜而剝離,黏著劑層之其他部分伴隨另一剝離膜而剝離。該現象係亦俗稱「淚狀分離」,若產生淚狀分離,則無法於光學構件,形成均勻之黏著劑層。
因此,自先前以來,作為黏著劑片,採用有如下者:相對於黏著劑層,使表示相對較小之剝離力之剝離膜(亦稱為「輕剝離膜」)、及表示相對較大之剝離力之剝離膜(亦稱為「重剝離膜」)分別貼合於黏著劑層之兩面。剝離膜係藉由如下方式而製造:於包含如聚對苯二甲酸乙二酯之透明樹脂之膜,塗佈如聚矽氧油之脫模劑。而且,市售有以如下方式設計之各種剝離膜:改變脫模劑之組成及/或處理方法,藉此相對於某一個黏著劑層之剝離力不同。
以下,揭示對如下方法進行揭示之先行技術文獻之例:為了於光學構件,形成黏著劑層,使用於剝離膜上,設置有黏著劑層之黏著劑片。於日本專利特開2003-177241號公報(專利文獻1)中,揭示有用以於偏光板等光學構件(於該文獻中,表記為「液晶顯示器用構件」),貼裝黏著劑層之黏著劑片(於該文獻中,表記為「黏著劑轉印膠帶」)。於該文獻中,提出有設為如下構造之情形:由黏著力不同之2層以上構成黏著劑層,並且以2片剝離膜夾持該黏著劑層。而且,亦揭示有如下情形:使相對於該等2片剝離膜之黏著劑層之剝離力具有差,從而使兩者之比成為固定範圍。
於日本專利特開2004-10647號公報(專利文獻2)中,揭示有如下情形:於在黏著劑層之兩面,設置有剝離膜之附剝離膜之黏著劑片中,由聚烯烴系膜構成剝離膜之至少一者,並且使兩面之剝離膜相對
於黏著劑層之剝離力之差成為0.1N/25mm以上。於日本專利特開2004-196939號公報(專利文獻3)中,相同地揭示有如下情形:於在黏著劑層之兩面,設置有剝離膜之附剝離膜之黏著劑片中,於寬度方向兩端,設置1~50mm之無黏著劑層之部分,並且使兩面之剝離膜相對於黏著劑層之剝離力之差成為10mN/25mm以上,即成為0.01N/25mm以上。又,於日本專利特開2005-154689號公報(專利文獻4)中,揭示有如下情形:於以於剝離膜之單面,設置有黏著劑層之狀態設為卷軸狀,且黏著劑層與該剝離膜之另一面接觸之附剝離膜之黏著劑片中,將剝離膜之與黏著劑層相接之兩面之表面粗糙度均設為0.1μm以下,並且使剝離膜兩面之相對於黏著劑層之剝離力之差成為10mN/25mm以上,即成為0.01N/25mm以上。
進而,於國際公開第2010/038697號(專利文獻5)中,揭示有如下情形:使搬送轉向輥碰觸於在黏著劑層之一側積層有輕剝離膜,且於另一側積層有重剝離膜之黏著劑片,從而一面改變輕剝離膜之搬送方向及/或剝離後之黏著劑層與重剝離膜之積層物的搬送方向,一面剝離輕剝離膜。
如上述專利文獻4,將剝離膜僅設為1片,且對該剝離膜相對於兩面之黏著劑層之剝離力設置差之方法係根據黏著劑的種類而剝離力存在差異,故需要以如下方式設計:針對設為對象之每一黏著劑而變更施加至剝離膜之兩面之脫模處理,從而對該黏著劑賦予相抵之剝離力。因此,將剝離膜僅設為1片之方法係使成本大幅變高,因此不於工業中採用,而如下之方法成為主流:如專利文獻1~3及5中所揭示之、於2片剝離膜之間夾持黏著劑層,使於各個剝離膜相對於黏著劑層之剝離力具有差。
根據此種情況,如亦於之前敍述般,市售有以藉由改變脫模劑之組成及/或處理方法而使相對於黏著劑層之剝離力不同之方式設計
的各種剝離膜,其中將表示適於設為對象之黏著劑層之剝離力者選作輕剝離膜及重剝離膜,將該等輕剝離膜及重剝離膜貼附至黏著劑層之兩面而生產黏著劑片。然而,於該情形時,需要自數個剝離膜中選擇表示適當之剝離力之輕剝離膜及重剝離膜,故黏著劑片之設計管理變煩雜而成本仍變高。
另一方面,若為了將輕剝離膜與重剝離膜相對於黏著劑層之剝離力之差、或兩者之比設為固定範圍,過度地縮小輕剝離膜之剝離力,則存在如下情形:該輕剝離膜自黏著劑層浮升;或於該輕剝離膜與黏著劑層之間,產生觀察到伴隨局部之剝離之條紋或氣泡之稱為穿隧的不良。又,若過度地增大重剝離膜之剝離力,則重剝離膜變得難以剝離,從而於自附黏著劑之光學構件剝離該重剝離膜而貼合至液晶單元之階段,引起重剝離膜之未剝離問題,於極端之情形時,亦存在導致液晶面板生產線之停止之情形。
本發明者等人係根據如下等觀點而反覆研究,結果以至完成本發明:以採用於黏著劑層之兩面,設置有剝離膜之黏著劑片之情形為基礎,將使用於此之2片剝離膜設為實際上相同者,若無需對兩者相對於黏著劑層之剝離力附加差,則認為黏著劑片之設計管理變容易而導致成本下降,從而是否於該狀態下,亦可不引起所謂之淚狀分離而自黏著劑層剝離一剝離膜。
因此,本發明之課題在於,提供一種製造附黏著劑之光學構件之方法,該方法係使用於黏著劑層之兩面,設置有剝離膜之黏著劑片,可不依存於各個剝離膜之剝離力,且不引起所謂之淚狀分離,而容易地自黏著劑層剝離一剝離膜,從而使於剝離該剝離膜後露出之黏著劑層貼合至光學構件。
即,根據本發明,提供一種方法,其係經過自依序積層有第一
剝離膜、黏著劑層、及第二剝離膜之黏著劑片剝離第一剝離膜而使黏著劑層露出之剝離步驟、及使於該剝離步驟中露出之黏著劑層貼合至光學構件之貼合步驟,製造依序積層有光學構件、黏著劑層、及第二剝離膜之附黏著劑之光學構件;且上述黏著劑片之第一剝離膜與黏著劑層之間之剝離力、及第二剝離膜與黏著劑層之間之剝離力係於分別以0.3m/分之剝離速度進行試驗時,均處於超過0.02N/25mm且未達0.15N/25mm之範圍內,且兩個剝離力之差小於0.01N/25mm,上述剝離步驟係以如下方式進行:於第一剝離膜自黏著劑層剝離之剝離點中,第一剝離膜以不會撓曲之方式直線前進,第二剝離膜以不自貼裝有黏著劑層之面之相反側施加推壓力之方式而連同黏著劑層一併向與第一剝離膜之直線前進方向不同的方向搬送,從而第一剝離膜自黏著劑層剝離。
於該方法中,構成黏著劑片之黏著劑層係可為普通之透明之黏著劑層,且亦可為含有光擴散劑之所謂之光擴散黏著劑層。特別是,於由在剝離力中幾乎不存在差之剝離膜夾持光擴散黏著劑層之兩面之情形時,若向外側拉伸剝離各個剝離膜,則易於引起所謂之淚狀分離,與此相對,若採用上述本發明之方法,則可不引起淚狀分離而自黏著劑層剝離第一剝離膜,因此於使光擴散黏著劑層貼合至光學構件之情形時,亦可有效地使用。又,於該等方法中,貼合有黏著劑層之光學構件之典型之例為偏光板。
藉由該等方法製造之附黏著劑之光學構件係可藉由如下方式設為液晶面板:剝離存在於該附黏著劑之光學構件之黏著劑層上之第二剝離膜,從而將藉此露出之黏著劑層貼合至液晶單元。
本發明之方法係於設為實際上不於構成黏著劑片之第一剝離膜與黏著劑層之間之剝離力、及第二剝離膜與黏著劑層之間之剝離力中設置差之狀態、即設為第一剝離膜與第二剝離膜亦可為實際上相同者
之狀態後,在第一剝離膜自黏著劑層剝離之剝離點中,第一剝離膜係以不會撓曲之方式直線前進,第二剝離膜係以不自貼裝有黏著劑層之面之相反側施加推壓力之方式而向與第一剝離膜之直線前進方向不同之方向搬送。
藉此,幾乎不依存於第一剝離膜及第二剝離膜之各者自黏著劑層之剝離力,而黏著劑層自然地自第一剝離膜剝離,從而連同第二剝離膜一併向該第二剝離膜之搬送方向移送。因此,變得難以產生黏著劑層局部地殘留於第一剝離膜上之所謂之淚狀分離。如上所述,黏著劑層係自然地自第一剝離膜剝離,因此無需根據與黏著劑層之關係,選擇第一剝離膜及第二剝離膜之組合,從而黏著劑片之設計管理變得容易。而且,自第一剝離膜剝離,且殘留於第二剝離膜上之黏著劑層係成為無缺損等之良好之狀態,因此可藉由在下一貼合步驟中,使該露出之黏著劑層貼合至光學構件,而製造於黏著劑層中無缺陷之良好之品質之附黏著劑的光學膜。
因此,根據該方法,可減少附黏著劑之光學構件或液晶面板之生產成本。
1‧‧‧黏著劑層
2‧‧‧第一剝離膜
3‧‧‧第二剝離膜
5‧‧‧黏著劑片
10‧‧‧第二剝離膜與黏著劑層之積層體(成為用以製
造黏著劑片之中間體,亦成為向光學構件貼合前之黏著劑片)
15‧‧‧偏光膜
16、17‧‧‧透明保護膜
20‧‧‧光學構件(偏光板)
25‧‧‧附黏著劑之光學構件
30、33、36、40‧‧‧捲出輥
31‧‧‧塗佈機
32‧‧‧乾燥機
34、41‧‧‧貼合輥
35、39、42‧‧‧捲取輥
37‧‧‧上游張力輥
38‧‧‧下游張力輥
45‧‧‧雙面膠帶
50‧‧‧玻璃基板
A‧‧‧黏著劑片之放大剖面圖
L‧‧‧第一剝離膜之直線前進區間
P‧‧‧剝離點
圖1(A)(B)(C)(D)係模式性地表示獲得附黏著劑之光學構件為止之各構件之層構成的剖面圖。
圖2係模式性地表示藉由連續線而製造黏著劑片時之裝置之配置例之側視圖。
圖3係模式性地表示藉由連續線而製造附黏著劑之光學構件時之裝置之配置例的側視圖。
圖4(A)(B)(C)係模式性地表示剝離步驟未滿足於本發明中規定之必要條件,因此易於引起淚狀分離之幾個例之側視圖。
圖5(A)(B)係模式性地表示測定下文將述之實施例之剝離膜之剝
離力的狀態之剖面圖。
圖6(A)(B)(C)(D)係模式性地表示下文將述之實施例之高速剝離試驗之狀態的剖面圖。
圖7(A)(B)(C)係模式性地表示下文將述之實施例之手剝離試驗之狀態的剖面圖。
一面亦適當地參照隨附之圖式,一面詳細地對本發明之實施形態進行說明。圖1係以模式性之剖面圖表示藉由本發明之方法獲得附黏著劑之光學構件為止之各構件的層構成者。
參照圖1,本發明之方法係首先準備黏著劑片5,該黏著劑片5係如該圖(A)所示般依序積層有第一剝離膜2、黏著劑層1、及第二剝離膜3。其次,自該黏著劑片5剝離第一剝離膜2而如該圖(B)所示般設為第二剝離膜3與黏著劑層1之積層體,即黏著劑層1露出之貼合前黏著劑片10。另外,準備該圖(C)所示之光學構件20。接著,使於該圖(B)之貼合前黏著劑片10露出之黏著劑層1貼合至該圖(C)之光學構件20,從而如該圖(D)所示般製造依序積層有光學構件20、黏著劑層1、及第二剝離膜3之附黏著劑之光學構件25。於圖1中,表示有光學構件20為於偏光膜15之兩面,貼合有透明保護膜16、17之偏光板之例。光學構件係除此之外,亦可為相位差膜等,通常相對於具有光學特性,且設置黏著劑層之各種構件,可應用本發明之方法。
自圖1之(A)所示之黏著劑片5剝離第一剝離膜2而獲得該圖(B)所示之貼合前黏著劑片10為止的步驟係相當於在本發明中所言之剝離步驟。又,使該圖(B)所示之貼合前黏著劑片10貼合至該圖(C)所示之光學構件20而獲得該(D)所示之附黏著劑的光學構件25為止之步驟係相當於在本發明中所言之貼合步驟。
於本發明中,作為圖1(A)所示之黏著劑片5,採用如下者:第一
剝離膜2與黏著劑層1之間之剝離力、及第二剝離膜3與黏著劑層1之間之剝離力均處於超過0.02N/25mm且未達0.15N/25mm之範圍內,且兩個剝離力之差未達0.01N/25mm。此處所言之剝離力係以0.3m/分之剝離速度進行試驗時之值。
具體之剝離力之試驗方法係如參照下文將述之圖5而示於實施例。即,介隔雙面膠帶而將以25mm之寬度裁斷之黏著劑片之一剝離膜側(於圖5中為第二剝離膜3側)貼合至玻璃板,於該狀態下,握持未貼合於玻璃板之剝離膜(於圖5中為第一剝離膜2)之長度方向(與寬度為25mm之一邊正交之方向)一端,以0.3m/分之剝離速度向180度方向(折返而沿膜面之方向)剝離該握持之剝離膜(於圖5中為第一剝離膜2),藉此求出該握持之剝離膜(於圖5中為第一剝離膜2)自黏著劑層之剝離力。於剝離一剝離膜後殘留之黏著劑貼裝於另一剝離膜之積層體係於自為了事先貼合至玻璃板而使用之雙面膠帶剝離後,將其黏著劑層側貼合至玻璃板,於該狀態下,握持處於與玻璃板相反側之剝離膜(於圖5中為第二剝離膜3)之長度方向一端,以0.3m/分之剝離速度向180度方向(折返而沿膜面之方向)剝離該握持之剝離膜(於圖5中為第二剝離膜3),藉此求出該握持之剝離膜(於圖5中為第二剝離膜3)自黏著劑層之剝離力。
若第一剝離膜2與黏著劑層1之間之剝離力及/或第二剝離膜3與黏著劑層1之間之剝離力變得小於0.02N/25mm以下,則易於產生如下之不良。即,剝離膜2、3與黏著劑層1引起分層(層間剝離),從而變得易於產生剝離膜2、3自黏著劑層1浮升之所謂之穿隧現象。又,為了縮小剝離力,需要較多地塗佈脫模劑,結果於脫模劑包含聚矽氧油之情形時,若較多地塗佈包含該聚矽氧油之脫模劑,則產生聚矽氧油之滲出,從而於將黏著劑片捲取成輥狀時,存在亦產生如下之現象之可能性:塗佈於一剝離膜之脫模劑二次轉印(所謂之背面轉印)至另一
剝離膜之表面。
另一方面,若第一剝離膜2與黏著劑層1之間之剝離力及/或第二剝離膜3與黏著劑層1之間之剝離力變得大於0.15N/25mm以上,則易於產生如下之不良。即,於在液晶面板製造線上,將於自其黏著劑片剝離一剝離膜,並貼合至光學構件而獲得之黏著劑層貼合有剝離膜之狀態之附黏著劑的光學構件貼合至液晶單元時,於剝離膜之表面,接著剝離用膠帶,相反側之光學構件係藉由吸附板而抽吸,於該狀態下,提拉剝離用膠帶而使剝離膜剝離,從而將黏著劑層貼合至液晶單元,結果若剝離膜自黏著劑層之剝離力過大,則剝離用膠帶相對於剝離膜之接著力之減退較快而剝離用膠帶之更換週期變快,從而易於導致提高液晶面板之生產成本。又,若剝離膜自黏著劑層之剝離力過大,則即便拉伸剝離用膠帶,亦無法將剝離膜自黏著劑層剝離,從而亦存在使液晶面板製造線停止之可能性。
又,如上所述,使第一剝離膜2自黏著劑層1之剝離力、與第二剝離膜3自黏著劑層1之剝離力之差小至未達0.01N/25mm。亦可為不於兩個剝離力中設置差之狀態,即第一剝離膜與第二剝離膜係亦可為實際上相同者。於該情形時,第一剝離膜2與第二剝離膜3係可使用以相同之條件製造者,故可謀求製造步驟之縮短化或製造成本之減少。於本說明書中,存在如下情形:將第一剝離膜2與黏著劑層1之間之剝離力僅稱為「第一剝離膜2之剝離力」,將第二剝離膜3與黏著劑層1之間之剝離力僅稱為「第二剝離膜3之剝離力」。
首先,參照圖2,對藉由連續線而製造黏著劑片之方法進行說明。圖2係以模式性之側視圖表示藉由連續線而製造黏著劑片時之裝置之配置例者。圖示之例係於第二剝離膜3之表面,形成黏著劑層,於該黏著劑層之表面,貼合第一剝離膜2而製造黏著劑片5,從而捲取
至捲取輥35。若按照順序進行說明,則捲取於捲出輥30之第二剝離膜3係自該捲出輥30捲出,從而於該第二剝離膜3之脫模處理面,塗佈自塗佈機31供給之黏著劑組成物。所塗佈之黏著劑組成物係藉由乾燥機32乾燥而成為黏著劑層,從而成為第二剝離膜3與黏著劑層之積層體10。捲取於其他捲出輥33之第一剝離膜2係自該捲出輥33捲出,從而積層至自乾燥機32搬送而來之第二剝離膜3與黏著劑層之積層體10之黏著劑層表面,即積層至該積層體10之脫模處理面,從而藉由貼合輥34之貼合壓力而貼合。所獲得之黏著劑片5係捲取至捲取輥35而保管。於圖2中,曲線箭頭係意味著輥之旋轉方向。
如上所述,黏著劑片5係通常經過塗佈步驟、乾燥步驟、及貼合步驟而製造,該塗佈步驟係於第二剝離膜3,塗佈黏著劑組成物,該乾燥步驟係將該黏著劑組成物乾燥而形成黏著劑層,該貼合步驟係使第一剝離膜貼合至所獲得之黏著劑層。經過塗佈步驟及乾燥步驟而獲得之第二剝離膜3與黏著劑層之積層體10係成為用以製造黏著劑片之中間體。
再者,如於背景技術項中所說明般,如下情形較多:於應用於光學構件之先前之黏著劑片中,作為貼合至兩面之剝離膜,使用相對於黏著劑層之剝離力不同者。於該情形時,藉由如下方式製造:將剝離力相對較大之重剝離膜設為圖2之第二剝離膜3,並於其脫模處理面設置黏著劑層,將剝離力較小之輕剝離膜設為圖2之第一剝離膜,並於設置於上述重剝離膜(第二剝離膜)3上之黏著劑層,貼合該輕剝離膜(第一剝離膜)2之脫模處理面。
於本發明中,如之前所說明般,無需於第一剝離膜2相對於黏著劑層之剝離力、與第二剝離膜3相對於黏著劑層之剝離力之間,設置實質性之差。因此,於圖2中,為了方便而以如下方式描繪,即於塗佈步驟中,在第二剝離膜3之脫模處理面塗佈黏著劑組成物,於此後
之貼合步驟中,使第一剝離膜2之脫模處理面貼合至所獲得之黏著劑層,但即便第一剝離膜2與第二剝離膜3相反亦無妨。即,參照圖1,本發明中使用之黏著劑片5係只要為於相對於黏著劑層1之剝離力之差未達0.01N/25mm的2片剝離膜2、3之間夾持有黏著劑層1之狀態者即可,且只要將該等2片剝離膜中之一者設為第一剝離膜2,將另一者設為第二剝離膜3而應用以上敍述之本發明之方法即可。
黏著劑組成物之塗佈係可藉由公知之方法而進行,例如可使用模嘴塗機、凹版輥塗敷機、刮刀式塗敷機等。於塗佈黏著劑組成物後,如圖2所示搬通過乾燥爐32,藉此形成黏著劑層。黏著劑層之厚度係通常為1~100μm左右。
第一剝離膜2及第二剝離膜3係通常由已實施脫模處理之樹脂膜構成。作為構成剝離膜之樹脂,例如可採用如聚萘二甲酸乙二酯、聚間苯二甲酸乙二酯、及聚對苯二甲酸丁二酯之聚酯系樹脂、或聚烯烴系樹脂、聚醯胺系樹脂、纖維素系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚苯硫醚系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚氯亞乙烯系樹脂、各種液晶性高分子、各種生物降解性樹脂等。於該等樹脂中,就耐熱性、或此後之脫模處理之容易度等觀點而言,較佳為聚對苯二甲酸乙二酯、或聚萘二甲酸乙二酯,若進而考慮成本之方面,則聚對苯二甲酸乙二酯最實用。當然,亦可根據所需,組合2種以上之樹脂而使用。
上述樹脂可為未延伸者,亦可為延伸成單軸或雙軸者。其中,較佳為配向主軸之最大應變為10度以下之單軸或雙軸延伸膜。於剝離膜中,可使用單體膜,亦可使用積層有複數個單體膜之積層膜。剝離膜之厚度係例如可設為5~200μm左右。
對剝離膜之表面實施之脫模處理係可藉由將脫模劑塗佈至膜表面之方法而進行。脫模劑係可使用任意者,但特佳為脫模特性優異之聚矽氧系脫模劑。作為聚矽氧系脫模劑,可使用以相對低溫硬化之加
成反應型聚矽氧系脫模劑、不賦予熱之類型之丙烯酸系聚矽氧系脫模劑、或紫外線硬化型之含有環氧基之聚矽氧系脫模劑等。剝離力係可根據脫模劑之厚度、有無添加至脫模劑之低聚物、或該低聚物之量而調節。
較佳為,脫模劑之塗佈量係設為0.01~3g/m2左右。若脫模劑之塗佈量未達0.01g/m2,則剝離膜之剝離力變大,從而剝離性能不足而變得難以將剝離膜自黏著劑層剝離。另一方面,若脫模劑之塗佈量超過3g/m2,則剝離力變小,但於將已實施脫模處理之剝離膜捲取於輥狀時,變得易於引起塗佈面上之脫模劑附著固化至未實施脫模處理之另一面(背面)之所謂的黏連。
構成圖1所示之黏著劑片5之黏著劑層1係可使用以丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯系聚合物、聚胺基甲酸酯系聚合物、聚醚系聚合物等為基礎聚合物之黏著劑組成物而形成。其中,就透明性、潤濕性、及凝聚力之觀點而言,又,就包含耐候性及耐熱性之耐久性等之觀點而言,可較佳地使用以丙烯酸系聚合物(丙烯酸樹脂)為基礎聚合物之丙烯酸系黏著劑。
通常,作為構成丙烯酸系黏著劑之丙烯酸樹脂係丙烯酸系共聚物有用,該丙烯酸系共聚物係以來自(甲基)丙烯酸酯之結構單元為主成分,且具有來自不飽和單體之結構單元,該不飽和單體係具有如以游離羧基、羥基、胺基、環氧環為首之雜環基之可交聯之極性官能基。較佳為,具有極性官能基之不飽和單體亦為(甲基)丙烯酸系化合物。構成丙烯酸系黏著劑之丙烯酸樹脂係較佳為具有20℃以下之玻璃轉移溫度,進而較佳為具有0℃以下之玻璃轉移溫度。又,透膠層析術(GPC)之標準聚苯乙烯換算之重量平均分子量為10萬以上者較佳。
通常,於以丙烯酸樹脂為主成分之黏著劑組成物中,調配交聯
劑。交聯劑係如下之化合物:於分子內,具有至少2個可與構成丙烯酸樹脂之極性官能基反應而形成交聯結構之官能基。具體而言,可列舉異氰酸酯系化合物、環氧系化合物、金屬螯合化合物、氮丙啶系化合物等。
較佳為,為了提高黏著劑層與液晶單元玻璃之密接性,於以丙烯酸樹脂為主成分之黏著劑組成物中,含有亦稱為矽烷偶合劑之矽烷化合物。於調配交聯劑前,亦可預先於黏著劑組成物中,調配矽烷系化合物。
又,亦可於黏著劑組成物中,含有離子性化合物。藉此,對黏著劑層1賦予防靜電性。作為離子性化合物,例如可使用具有咪唑鎓陽離子、吡啶鎓陽離子、銨陽離子等之化合物。
黏著劑層係可含有光擴散劑,藉此可對黏著劑層本身賦予光擴散性。含有光擴散劑之黏著劑層夾持於2片剝離膜之黏著劑片係於剝離一剝離膜時,特別易於產生淚狀分離,因此於由此種黏著劑片製造附黏著劑之光學構件之情形時,本發明之方法有效。較佳為,光擴散劑係通常為有機或無機之微粒子,且其形狀為球狀。
有機微粒子係通常包含樹脂(高分子化合物),若列舉可成為光擴散劑之樹脂之例,則有如聚苯乙烯、聚乙烯、或聚丙烯之聚烯烴系樹脂、如聚甲基丙烯酸酯系樹脂、或聚丙烯酸酯系樹脂之丙烯酸樹脂、聚矽氧樹脂、苯并胍胺樹脂、三聚氰胺樹脂等。當然,該等樹脂係亦可為由2種以上之單體獲得之共聚物。進而,具有交聯結構之樹脂微粒子亦可有效地用作光擴散劑。另一方面,若列舉可成為光擴散劑之無機微粒子之例,則有氧化矽微粒子、氧化鈦微粒子、氧化鋁微粒子等。若考慮相對於構成黏著劑組成物之丙烯酸樹脂之分散性、黏著劑組成物之塗佈性、所獲得之黏著劑層之光學特性等,則作為光擴散劑,較佳為包含聚矽氧樹脂、或丙烯酸樹脂(通常為聚甲基丙烯酸甲
酯系樹脂)之微粒子。
於調配光擴散劑而賦予光擴散性之情形時,該光擴散劑係較佳為與構成黏著劑組成物之丙烯酸樹脂之間,具有0.01以上0.07以下之折射率差,進而較佳為具有0.01以上0.04以下之折射率差。若兩者之折射率差低於0.01,則不會對所獲得之黏著劑層賦予所需之光擴散性,結果成為接近透明之黏著劑者。另一方面,若兩者之折射率差變得過大,則強烈地表現光擴散性,因此使自正面觀察液晶顯示裝置時之白亮度下降。
以上所說明之各成分中之除光擴散劑外之成分係以溶解於有機溶劑之狀態混合。於調配光擴散劑之情形時,可使光擴散劑分散至該混合溶液而調製。黏著劑組成物係例如使丙烯酸樹脂溶解至如甲苯或乙酸乙酯之有機溶劑中,又,使交聯劑、矽烷化合物、離子性化合物、及光擴散劑中之必需之成分溶解或分散,進而使根據所需而調配之以下之各成分溶解或分散,從而調製成具有10~40重量%左右之固形物成分濃度之溶液狀態。
上述黏著劑組成物(溶液)係亦可更包含交聯觸媒、耐候穩定劑、增黏劑、塑化劑、軟化劑、染料、顏料等。若將交聯觸媒連同交聯劑一併調配至黏著劑組成物,則可藉由短時間之熟成而製備黏著劑層1。因此,於所獲得之附黏著劑之光學構件、或應用有該附黏著劑之光學構件之液晶顯示裝置等中,可抑制於黏著劑層1與光學構件之間產生浮升或剝離、或於黏著劑層1內引起發泡,又,亦可使二次加工性進一步變良好。作為交聯觸媒,例如可列舉如己二胺、乙二胺、聚伸乙基亞胺、六亞甲基四胺、二伸乙基三胺、三伸乙基四胺、異佛爾酮二胺、三亞甲基二胺、聚胺樹脂、三聚氰胺樹脂之胺系化合物等。於將胺系化合物作為交聯觸媒而調配至黏著劑之情形時,作為交聯劑,較佳為異氰酸酯系化合物。
圖3係以模式性之側視圖表示藉由連續線而製造附黏著劑之光學構件時之裝置的配置例者。圖示之例係以如下之方式構成:自黏著劑片5剝離第一剝離膜2,將所獲得之第二剝離膜3與黏著劑層1之積層體即貼合前黏著劑片10之黏著劑層1貼合至光學構件20之表面,從而藉由捲取輥42而捲取以此方式獲得之附黏著劑之光學構件25。於圖3中,直線箭頭係意味著膜之搬送方向,曲線箭頭係意味著輥之旋轉方向。一面參照圖3,一面對本發明之附黏著劑之光學構件25之製造方法進行說明。
捲取於捲出輥36之黏著劑片5係自該捲出輥36捲出。接著,於上游張力輥37與下游張力輥38之間,對構成黏著劑片5之第一剝離膜2附加張力,從而第一剝離膜2以不會撓曲之方式直線前進,另一方面,於該第一剝離膜2之直線前進區間L之間之某個點(剝離點P),第二剝離膜3連同黏著劑層1成為兩者之積層體、即向光學構件之貼合前黏著劑片10,從而向與第一剝離膜2之直線前進方向不同之方向搬送。此時,不對第二剝離膜3自其貼裝有黏著劑層1之面之相反側施加推壓力。
於圖3中,自捲出輥36捲出之黏著劑片5係於緊鄰上游張力輥37之後之下游側,描繪一點鏈線之抽出線而如放大剖面圖A所示,成為依序積層有第一剝離膜2、黏著劑層1、及第二剝離膜3之狀態,從而該狀態僅使第一剝離膜2向下游側張力輥38之方向直線前進而自黏著劑層1剝離。所剝離之第一剝離膜2係於經過下游側張力輥38後,捲取至捲取輥39。另一方面,剝離第一剝離膜2後之第二剝離膜3與黏著劑層1之積層體即貼合前黏著劑片10係該黏著劑層1側重疊至自其他捲出輥40捲出之光學構件20而藉由貼合輥41貼合,從而設為附黏著劑之光學構件25。所獲得之附黏著劑之光學構件25係捲取至捲取輥42。
於圖3中,自黏著劑片5剝離第一剝離膜2之步驟係相當於在本發明中所言之剝離步驟,藉由貼合輥41而使剝離第一剝離膜2後之第二剝離膜3與黏著劑層1之積層體即貼合前黏著劑片10貼合至光學構件20之步驟係相當於在本發明中所言的貼合步驟。
如上所述,於剝離步驟中,在上游張力輥37與下游張力輥38之間,對第一剝離膜2附加張力,從而以第一剝離膜2不會撓曲之方式使該第一剝離膜2直線前進。此時之張力係可藉由如下等方法賦予:於捲出輥36與捲取輥39之間,使於圓周速度中具有差;或將張力輥作為支持體而改變膜之搬送方向。於使於圓周速度中具有差之情形時,藉由使捲取輥39之圓周速度快於捲出輥36之圓周速度,而對第一剝離膜2賦予張力。又,於藉由張力輥而改變膜之搬送方向之情形時,例如若如圖3般將下游張力輥38作為支持體而較大地變更第一剝離膜2之搬送方向,則於上游張力輥37與下游張力輥38之間賦予張力。
賦予至第一剝離膜2之張力之大小係只要相對大於第二剝離膜3與黏著劑層1之間之剝離力即可。若賦予至第一剝離膜2之張力變得大於第二剝離膜3與黏著劑層1之間之剝離力,則於以不施加推壓力之方式,向與第一剝離膜2之搬送方向(張力方向)不同之方向剝離第二剝離膜3時,難以產生黏著劑層1殘留於第一剝離膜2之所謂之淚狀分離。
剝離上述第二剝離膜3時之速度係根據生產性、作業性、對下文將述之黏著劑層1與光學構件20實施之表面活化處理等而變動,但較佳為設定為3~50m/分左右。
剝離步驟係於圖3所示之直線前進區間L進行,但第一剝離膜2自黏著劑層1剝離之剝離點P係於直送區間L之範圍內,根據張力之變動等製造條件之變化而移動。剝離點P係例如於直線前進區間L內,在
剝離點之上游側與下游側,分別設置探測剝離點之感測器,於藉由該等感測器而探測剝離面之情形時,調節捲出輥36或捲取輥39之圓周速度、或調整上游張力輥37與下游張力輥38之間隔,藉此適當地調節附加至第一剝離膜2之張力,從而可將剝離點P保持於感測器之間。作為使用之感測器,只要為可檢測剝離點者,則可適當地選自超音波感測器、或光學感測器等公知之感測器。為了維持向直線前進方向搬送第一剝離膜2而賦予之張力係可藉由公知之張力控制器而測定、控制。
圖4係模式性地表示上述剝離步驟未滿足於本發明中規定之必要條件,因此易於引起淚狀分離之幾個例之側視圖,且放大表示圖3之直線前進區間L及其周邊部。圖4中之直線箭頭係表示膜之搬送方向。圖4(A)係對第二剝離膜3賦予張力而使直線前進,且第一剝離膜2係以不施加推壓力之方式剝離之形態之製造線的構成。該形態係與於本發明中規定之方法不同地,對第二剝離膜3賦予有張力,故於第一剝離膜2產生黏著劑層1之附隨。圖4(B)係於附加至第一剝離膜2與第二剝離膜3之應力相同之條件下,剝離膜之形態之製造線之構成。該形態係於附加至第一剝離膜2與第二剝離膜3之張力中不存在差,故產生黏著劑層1之淚狀分離。又,圖4(C)係第二剝離膜3及黏著劑層1使用支持體而剝離、即對第二剝離膜3賦予推壓力而剝離之形態之製造線之構成。該形態係藉由支持體而亦對第二剝離膜3賦予張力,故於黏著劑層1,產生淚狀分離。如上所述,不滿足於本發明中規定之必要條件之剝離形態係存在如下傾向:黏著劑層1易於附隨於第一剝離膜2;或黏著劑層1易於引起淚狀分離。
如以上說明,本發明之附黏著劑之光學構件之製造方法之特徵在於,對第一剝離膜2賦予大於第二剝離膜3之剝離力之張力,以不施加推壓力之方式,向與第一剝離膜2之搬送方向不同之方向剝離第二剝離膜3。根據該方法,於使用具有於本發明中所規定之剝離力之剝
離膜時,無關第一剝離膜2之剝離力、及第二剝離膜3之剝離力之大小關係而不會產生淚狀分離,從而可自黏著劑片5剝離第一剝離膜2。此時,第一剝離膜2之剝離力與第二剝離膜3係可使用實際上相同者,故無需如先前般將剝離力設定於特定之範圍內。藉此,無需以剝離力成為特定之範圍內之方式,選擇剝離膜或黏著劑層而設計管理變容易,從而可減少黏著劑片5及附黏著劑之光學構件之製造成本。
貼合步驟係於經過剝離步驟之第二剝離膜3與黏著劑層1之積層體即貼合前黏著劑片10之黏著劑層1的表面,貼合光學構件20。一面參照之前之圖3,一面對貼合步驟進行說明。上述貼合前黏著劑片10係於連續之貼合步驟中,其黏著劑層1側積層至自捲出輥40捲出之光學構件20之表面,從而藉由貼合輥41附加貼合壓力而貼合。藉此,可製造於光學構件20,依序積層有黏著劑層1及第二剝離膜3之附黏著劑之光學構件25。所製造之附黏著劑之偏光板25係捲取至捲取輥42而保管。
較佳為,為了提高黏著劑層1與光學構件20之接著力,預先對黏著劑層1及/或光學構件20之接著面實施電暈放電處理。所謂電暈放電處理係指如下之處理:對電極間附加高電壓而放電,從而將配置於此之樹脂膜或黏著劑層之表面活化。較佳為,電暈放電處理之輸出係設定為200~1,000W左右而進行。若電暈放電處理之輸出為200W以上,則該處理之效果變明顯,從而黏著劑層1與透明樹脂膜17之間之接著力提高。又,若電暈放電處理之輸出為1,000W以下,則易於藉由該處理而產生之粉塵之產生得到抑制。電暈放電處理之效果係根據電極之種類、電極間隔、電壓、溫度等而變動,但較佳為將被處理物之移動速度設定為3~50m/分左右。
如亦於之前進行說明般,於本發明中,設置黏著劑層之光學構件係具有光學特性者,作為該光學構件之典型之例,可列舉偏光板或相位差膜。可尤佳地使用偏光板。
所謂偏光板係指,相對於自然光等入射光,具有出射偏光之功能之光學構件。於偏光板中,有直線偏光板、偏光分離板、及橢圓偏光板等,該直線偏光板係表示吸收具有某個方向之振動面之直線偏光,且使具有與該振動面正交之振動面的直線偏光透過之性質,該偏光分離板係表示反射具有某個方向之振動面之直線偏光,且使具有與該振動面正交之振動面的直線偏光透過之性質,該橢圓偏光板係積層有偏光板與相位差膜。於該等中,以直線偏光板為代表。以下,具體地對該直線偏光板進行說明。以下,將直線偏光板僅稱為偏光板。
如於圖1(C)中以剖面模式圖所示,偏光板係呈如下構造之情形較多:於偏光膜15之兩面,分別貼合有第一透明保護膜16及第二透明保護膜17。
偏光膜15係可由如下者構成:於經單軸延伸之聚乙烯醇系樹脂膜,吸附配向有如碘或二色性染料之二色性色素。此種偏光膜係通常藉由如下方式製造:相對於聚乙烯醇系樹脂膜,實施單軸延伸、利用二色性色素之染色、及硼酸處理。偏光膜15之厚度係例如可設為2~40μm左右。
作為聚乙烯醇系樹脂,可使用將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化者。聚乙酸乙烯酯系樹脂係除乙酸乙烯酯之均聚物即聚乙酸乙烯酯外,可為乙酸乙烯酯與可與該乙酸乙烯酯共聚之其他單體之共聚物等。作為可與乙酸乙烯酯共聚之其他單體,例如可列舉不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和碸酸類、具有銨基之丙烯醯胺類等。
偏光膜15係於其兩面,分別貼合有透明保護膜16、17。該等透明保護膜16、17係例如可由如甲基丙烯酸甲酯系樹脂之丙烯酸系樹
脂、烯烴系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、纖維素系樹脂、苯乙烯系樹脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯系共聚樹脂、丙烯腈-苯乙烯系共聚樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚縮醛系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、改性聚苯醚系樹脂、聚酯系樹脂(例如,聚對苯二甲酸丁二酯或聚對苯二甲酸乙二酯系等)、聚碸系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、環氧系樹脂、氧雜環丁烷系樹脂等構成。該等透明樹脂係可於不阻礙透明性或與偏光膜15之接著性之範圍內,含有添加物。透明保護膜16、17係可將其厚度設為5~200μm左右,但較佳為處於20~120μm之範圍內。
貼合至偏光膜之一面之透明保護膜、特別是設置有黏著劑層1、於形成液晶面板時成為液晶單元側之第二透明保護膜17係可設為延伸而賦予有相位差者。於採用賦予有相位差之膜即相位差膜之情形時,只要根據應用該偏光板之液晶單元之模式,選擇具有適當之相位差值者即可。例如,相對於垂直配向(Vertical Alignment:VA)模式之液晶單元,可使用正A板、雙軸性之膜、或負C板,該正A板係具有正之固有雙折射之高分子膜單軸延伸而折射率橢圓體具有nx>ny≒nz之關係,該雙軸性之膜係實施橫延伸或逐次雙軸延伸而具有nx>ny>nz之關係,該負C板係具有nx≒ny>nz之關係。又,相對於橫向電場(In-Plane Switching:IPS(共平面切換))模式之液晶單元,可較佳地使用折射率橢圓體具有nx≒ny≒nz之關係之大致無配向之膜。此處,nx為膜之面內遲相軸(x軸)方向之折射率,ny為面內遲相軸(y軸:與遲相軸於面內正交之軸)方向之折射率,而且nz為厚度(z軸)方向之折射率。
相對於VA模式之液晶單元,作為第二透明保護膜17,可特佳地使用雙軸延伸之雙軸性之相位差膜。於使用雙軸性之相位差膜之情形時,成為該雙軸性之標準之Nz係數係由以下之式(1)定義。又,將膜
厚設為d時之面內之相位差值Re、及厚度方向之相位差值Rth係分別由以下之式(2)及(3)定義。
Nz=(nx-nz)/(nx-ny) (1)
Re=(nx-ny)×d (2)
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (3)
進而,根據上述式(1)~(3),Nz係數、與面內之相位差值Re及厚度方向之相位差值Rth之關係係可由以下之式(4)表示。
Nz=Rth/Re+0.5 (4)
於作為第二透明保護膜17而使用雙軸性之相位差膜之情形時,該面內之相位差值Re係處於30~300nm之範圍內,尤佳為處於50~260nm之範圍內。又,Nz係數係處於1.1~7之範圍內,尤佳為處於1.4~5之範圍內。根據該等範圍,只要結合應用之液晶顯示裝置所要求之視角特性而適當地選擇光學特性之值即可。
另一方面,相對於成為遠離液晶單元之側之第一透明保護膜16,實施選自硬塗處理、防靜電處理、抗反射處理、防污處理、防眩處理等中之表面處理,藉此可賦予防劃傷或提高視認性等功能。
偏光板20係藉由如下方式獲得:分別介隔接著劑而於以上所說明之偏光膜15,貼合第一透明保護膜16及第二透明保護膜17。使用於貼合之接著劑係通常為包含透明樹脂者,且可使用聚乙烯醇系樹脂之水溶液等水系之接著劑,亦可使用藉由紫外線之照射而硬化之紫外線硬化型接著劑。形成設置於偏光膜15之兩面之接著劑層之接著劑可為同種,亦可為異種。
藉由本發明而製造之附黏著劑之光學構件係可用作液晶面板之構成構件。圖1之(D)所示之附黏著劑之光學構件(附黏著劑之偏光板)25係自此剝離第二剝離膜3而將藉此露出之黏著劑層1積層至液晶
單元,從而設為液晶面板。液晶面板係由液晶單元、配置於液晶單元之視認側之前表面側偏光板、及配置於與液晶單元之視認側為相反側之背面側偏光板構成,從而成為液晶顯示裝置之構成構件。
液晶顯示裝置係由液晶面板、依次配置於與該液晶面板之視認側為相反側之光擴散板、及背光構成。於液晶顯示裝置中,液晶面板係以其背面側偏光板成為背光側之方式配置。此處,所謂背面側係指,將液晶面板搭載於液晶顯示裝置時之背光側,所謂視認側(前表面側)係指,與將液晶面板搭載於液晶顯示裝置時之背光為相反側,即觀看該顯示裝置之人所處之側。藉由本發明而製造之附黏著劑之偏光板25係可使用於前表面側偏光板,亦可使用於背面側偏光板。
液晶單元係如下之元件:藉由對在玻璃基板之間密封有液晶物質之單元進行電性控制而顯示圖像。作為液晶單元之模式,可採用VA模式、IPS模式、使用有藍相之液晶之液晶驅動模式等公知之模式。
於將附黏著劑之偏光板25貼合至液晶單元時,自黏著劑層1剝離第二剝離膜3而將藉此露出之黏著劑層1之面貼合至液晶單元之表面。附黏著劑之偏光板25係可將保管成輥狀者捲出成片狀而藉由卷對單元(roll-to-cell)方式,貼合至液晶單元,亦可藉由片對單元(sheet-to-cell)方式,將以切片成片狀之狀態保管者貼合至液晶單元。
背光係用以向液晶單元供給顯示用光之裝置。於背光中,有稱為邊緣照明式者、及稱為正下方型者。邊緣照明式之背光係由導光板、配置於該導光板之側面之冷陰極管或LED(Light Emitting Diode,發光二極體)等光源構成,來自光源之光係通過導光板而照射液晶面板。又,正下方型背光係由配置於液晶面板之背面側之複數個光源構成,來自該複數個光源之光係通過上述光擴散板而照射液晶面板。背光之種類係可適當地選擇採用與液晶顯示裝置之用途對應者。
配置於液晶面板與背光之間之光擴散板係具有如下功能之光學構件:使來自背光之光擴散,從而將經均勻化之光供給至液晶面板。作為光擴散板,例如可使用如下等者:使作為光擴散劑之粒子分散至熱塑性樹脂而賦予光擴散性;於熱塑性樹脂膜之表面,形成凹凸而賦予光擴散性;於熱塑性樹脂膜之表面,設置分散有粒子之樹脂組成物之塗佈層而賦予光擴散性。光擴散板係通常具有0.1~5mm左右之厚度。
亦可於光擴散板與液晶面板之間,配置亮度提高膜[由3M公司(於日本稱為住友3M(股))以“DBEF”之商品名銷售之反射型偏光膜等係相當於該亮度提高膜]、或與配置於背光之正上方之光擴散板不同之光擴散膜等表示其他光學功能性之片或膜。表示其他光學功能性之片或膜係可視需要配置複數種,又,亦可配置複數片。
以下,表示具體之實驗例而進一步詳細地對本發明進行說明,但本發明並不限定於該等例。於例中,表示使用量或含量之份及%係若無特別記載,則為重量基準。
準備已實施脫模處理之以下之4種聚對苯二甲酸乙二酯膜,並將各者用作剝離膜。以下所示之膜係按照自黏著劑層之剝離力之順序排列,上方為剝離力較小者,下方為剝離力較大者。
剝離膜1:由三菱樹脂(股)銷售之商品名“MRF”,
剝離膜2:由三菱樹脂(股)銷售之商品名“MRE(MT125)”,
剝離膜3:由三菱樹脂(股)銷售之商品名“MRV(08)”,
剝離膜4:由帝人(股)銷售之商品名“A71-T1”。
向包括冷卻管、氮導入管、溫度計、及攪拌機之反應器,饋入乙酸乙酯為169.8份、丙烯酸丁酯為98.6份、丙烯酸2-羥乙基酯為1.0份、及丙烯酸為0.4份之混合溶液,從而一面由氮氣置換裝置內之空氣而設為不含氧,一面將內溫提昇至55℃。其次,總量添加將0.14份之聚合起始劑即偶氮二異丁腈溶解於5份之乙酸乙酯之溶液。此後,一面將內溫保持為54~56℃,一面保溫12小時,最後添加乙酸乙酯而以丙烯酸樹脂之濃度成為28%之方式進行調節。所獲得之丙烯酸樹脂係利用透膠層析術之聚苯乙烯換算之重量平均分子量Mw為134萬,重量平均分子量Mw與數平均分子量Mn之比Mw/Mn為1.7,折射率為1.46。
作為調配至黏著劑組成物之異氰酸酯系交聯劑、矽烷化合物、成為防靜電劑之離子性化合物、及光擴散劑,分別使用以下者。括有“”之名稱係商品名。
“Coronate L”:以75%之濃度包含甲苯二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成體之乙酸乙酯溶液,自日本聚胺基甲酸酯工業(股)購得。
“KBM-403”:3-甘油氧丙基三甲氧基矽烷,液體,自信越化學工業(股)購得。
“FC-4400”:具有式(C4H9)3(CH3)N+(CF3SO2)2N-之結構之三丁基甲基銨,雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺,熔點為26℃,自住友3M(股)購得。
“MX-1000”:平均粒徑為10μm,折射率為1.49,球狀類型之
丙烯酸樹脂微粒子,自綜研化學(股)購得。
向於以上之(b)中所調製之丙烯酸樹脂之乙酸乙酯溶液(然而,以下係作為其固形物成分量而表示),分別按照以下之比率調配上述異氰酸酯系交聯劑、矽烷化合物、離子性化合物、及光擴散劑而調製丙烯酸系黏著劑組成物。
異氰酸酯系交聯劑0.16份
矽烷化合物0.5份
離子性化合物1.0份
光擴散劑35份
將以上之(a)所示之4種剝離膜按照表1所示之組合用作第一剝離膜2及第二剝離膜3,於該第一剝離膜2與第二剝離膜3之間,夾持由在以上之(c)中所調製之丙烯酸系黏著劑組成物形成之黏著劑層而製作黏著劑片。具體之操作係如下。首先,使用敷料器,於第二剝離膜之脫模處理面,以乾燥後之厚度成為25μm之方式塗佈上述黏著劑組成物,從而以90℃乾燥2分鐘而獲得片狀黏著劑。繼而,於藉由貼合機,使於以上所獲得之片狀黏著劑之與第二剝離膜相反側之面(黏著劑面)貼合於第一剝離膜的脫模處理面後,以23℃之溫度且65%之相對濕度之條件熟成10天而製作黏著劑片A~D。
於在以上之(d)中製作黏著劑片時,於剛剛使形成於第二剝離膜上之黏著劑層貼合於第一剝離膜之脫模處理面後,藉由目測而觀察有無第一剝離膜與黏著劑層之間之分層現象(存在因穿隧產生之條紋或氣泡)。結果係表示於表1之「穿隧」之欄。
按照以下之順序,對在以上之(d)中所製作之各個黏著劑片測定第一剝離膜自黏著劑層之剝離力。首先,使用超級切割器,自黏著劑片裁斷長度150mm×寬度25mm之試驗片。接著,如圖5(A)所示,於第二剝離膜3之表面,貼附市售之雙面膠帶45,進而使用手壓輥,將雙面膠帶45之相反面貼附至玻璃基板50[康寧(Corning)公司製造之商品名“EAGLE XG”]。於該狀態下,使用自動立體測圖儀[島津製作所(股)製造之製品名“AGS-X”]而握持第一剝離膜2之長度方向一端(寬度為25mm之一邊),以5,000g之負重範圍、及0.3m/分之剝離速度,向180度方向(折返而沿膜面之方向,即圖中之曲線箭頭方向)拉伸而自黏著劑層1剝離,將此時之剝離力記錄至圖表。測定剛剛開始後與測定即將結束前係資料不穩定,故截除測定開始後20%之資料與測定結束前20%之資料而僅自資料相對穩定之中間部分即60%之範圍算出平均值,從而將該平均值設為剝離力。對各黏著劑片A~D進行試驗而將結果示於表1。
自雙面膠帶45剝離於以上之(f)中剝離第一剝離膜後之第二剝離膜/黏著劑層之積層體。其次,如圖5(B)所示,使用手壓輥而將該黏著劑層1貼附於與以上之(f)所示者相同之玻璃基板“EAGLE XG”。於該狀態下,使用與以上之(f)所示者相同之自動立體測圖儀“AGS-X”而握持第二剝離膜3之長度方向一端,除此之外係以與以上之(f)相同之條件測定剝離力而將結果示於表1。
對於在以上之(g)中所求出之第二剝離膜3之剝離力成為0.15N/25mm之黏著劑片C,自該黏著劑片C剝離第一剝離膜而將黏著劑層貼合至光學構件,從而設為附黏著劑之光學構件,於在即將向液晶單元貼
合前剝離第二剝離膜時,判斷為易於產生該第二剝離膜之未剝離之問題,於表1之「第二剝離膜未剝離之可能性」之欄中,表示為「有」。其他黏著劑片A、B及D係第二剝離膜之剝離力低於0.15N/25mm,因此判斷為難以產生該未剝離問題,於表1之該項目中,表示為「無」。
如表1所示,黏著劑片D係第一剝離膜2之剝離力小至0.02N/25mm,故產生穿隧。又,黏著劑片C係第二剝離膜3之剝離力大至0.15N/25mm,故於在即將貼合至液晶單元前,剝離該第二剝離膜時,引起未剝離之問題之可能性較大。
其次,使用於以上所製作之黏著劑片A~D中之、判斷為未於第一剝離膜產生穿隧,且亦未於第二剝離膜產生未剝離之問題之黏著劑片A及B而進行剝離試驗,從而表示評估淚狀分離之有無之實驗例。
使用超級切割器,自黏著劑片A裁斷長度500mm×寬度25mm之試驗片。接著,如圖6(A)所示,於其第一剝離膜2之表面,貼附市售之厚度約為0.1mm之雙面膠帶45,進而使用手壓輥,將雙面膠帶45之相反面貼附於玻璃基板50[康寧公司製造之商品名“EAGLE XG”]。
於該狀態下,使用剝離試驗機[韓國之CHUNG BUK TECHNOLOGY CO.製造之製品名“SSA-034-SD(Double Type)”],握持第二剝離膜3之長度方向一端(寬度為25mm之一邊),從而將負重範圍設為5,000g,以5m/分、10m/分、及15m/分之3個水準改變剝離速度而向圖中之曲線箭頭方向拉伸剝離第二剝離膜3,將此時之剝離力記錄於圖表。測定剛剛開始後與測定即將結束前係資料不穩定,故截除測定開始後20%之資料與測定結束前20%之資料而僅自資料相對穩定之中間部分即60%之範圍算出平均值,從而將該平均值設為剝離力。將結果示於表2。該試驗係藉由將第一剝離膜2固定於水平方向,向與該水平方向不同之方向拉伸第二剝離膜3而進行,且不自第二剝離膜3之黏著劑層之相反側施加因輥等產生之特別的推壓力。因此,相對而言,相當於如下之狀態:第一剝離膜2係以不會撓曲之方式直線前進,第二剝離膜3係不自黏著劑層之相反側施加推壓力而向與第一剝離膜2定位之水平方向不同之方向搬送。
使用超級切割器,自黏著劑片A裁斷長度400mm×寬度25mm之試驗片。接著,如圖7(A)所示,由一個人之左右兩個手握持第一剝離膜2之長度方向兩端而向圖中之朝向外側之2根直線箭頭方向拉伸,另一個人以對該方向賦予某種左右張力之狀態,握持第二剝離膜3之一端而向圖中之曲線箭頭方向提拉該第二剝離膜3,從而剝離第二剝離膜3。該試驗亦藉由將第一剝離膜2固定於水平方向,向與該水平方向不同之方向拉伸第二剝離膜3而進行,且不自第二剝離膜3之黏著劑層之相反側施加因輥等產生之特別之推壓力。因此,相對而言,相當於如下之狀態:第一剝離膜2係以不會撓曲之方式直線前進,第二剝離膜3係以不自黏著劑層之相反側施加推壓力之方式而向與第一剝離膜2定位之水平方向不同之方向搬送。
於分別進行以上之(a)高速剝離試驗、及(b)手剝離試驗後,藉由目測而觀察第一剝離膜2之表面。接著,根據殘留於該第一剝離膜2之表面之黏著劑之量,區分以下之等級0~3之4個階段,從而評估有無淚狀分離。僅係等級0無淚狀分離,相當於黏著劑層1全部移至第二剝離膜3之狀態。再者,等級3之狀態係如下之狀態:並非為淚狀分離,但黏著劑層1殘留於並未意圖之第一剝離膜2。將結果示於表2。
等級3:黏著劑全部殘留於第一剝離膜2。
等級2:黏著劑之超過50%且未達100%殘留於第一剝離膜2。
等級1:黏著劑之超過0%且50%以下殘留於第一剝離膜2。
等級0:黏著劑完全不殘留於第一剝離膜2。
將黏著劑片A改變成黏著劑片B,除此之外係進行與實施例1相同之試驗,從而將結果匯總於表2。
與實施例1之(a)相同地,自黏著劑片A裁斷長度500mm×寬度25mm之試驗片,但如圖6(B)所示,以如下之方式變更,即,介隔雙面膠帶45而將第二剝離膜3側貼合至玻璃基板50,向圖中之曲線箭頭方向拉伸剝離第一剝離膜2,除此之外係進行與實施例1之(a)相同之試驗。將結果示於表2。該試驗係藉由將第二剝離膜3固定於水平方向,向與該水平方向不同之方向拉伸第一剝離膜2而進行,且不自第一剝離膜2之黏著劑層之相反側施加因輥等產生之特別的推壓力。因此,相對而言,相當於如下之狀態:第二剝離膜3係以不會撓曲之方式直線前進,第一剝離膜2係以不自黏著劑層之相反側施加推壓力之方式
而向與第二剝離膜3定位之水平方向不同之方向搬送。即,該試驗係相當於之前所說明之圖4(A)之狀態。
與實施例1之(b)相同地,自黏著劑片A裁斷長度400mm×寬度25mm之試驗片,但如圖7(B)所示,由一個人之左右兩個手握持第二剝離膜3之長度方向兩端而向圖中之朝向外側之2根直線箭頭方向拉伸,另一個人以對該方向賦予某種左右張力之狀態,握持第一剝離膜2之一端而向圖中之曲線箭頭方向提拉該第一剝離膜2,從而剝離第一剝離膜2。結果係依據實施例1評估而示於表2。該試驗亦藉由將第二剝離膜3固定於水平方向,向與該水平方向不同之方向拉伸第一剝離膜2而進行,且不自第一剝離膜2之黏著劑層之相反側施加因輥等產生之特別的推壓力。因此,相對而言,相當於如下之狀態:第二剝離膜3係以不會撓曲之方式直線前進,第一剝離膜2係以不自黏著劑層之相反側施加推壓力之方式而向與第二剝離膜3定位之水平方向不同之方向搬送。
將黏著劑片A改變成黏著劑片B,除此之外係進行與比較例1相同之試驗,從而將結果匯總於表2。
與實施例1之(a)相同地,自黏著劑片A裁斷長度500mm×寬度25mm之試驗片,但如圖6(C)所示,僅於該試驗片之第一剝離膜2之外側長度方向一端(寬度為25mm之一端),以25mm之寬度貼附厚度約為0.1mm之雙面膠帶45,進而將雙面膠帶45之相反面貼附於玻璃基板50。以於該狀態下,向圖中之曲線箭頭方向拉伸剝離第二剝離膜3之方式變更,除此之外係進行與實施例1之(a)相同之試驗,從而將結果示於表2。該試驗係如圖6(C)所示般以於第一剝離膜2及第二剝離膜3
產生撓曲之狀態進行,因此為接近之前所說明之圖9(B)之狀態。
與實施例1之(b)相同地,自黏著劑片A裁斷長度400mm×寬度25mm之試驗片,但如圖7(C)所示,進行如下之試驗:由一個人之左右兩個手握持該試驗片之長度方向一端之第一剝離膜2與第二剝離膜3,從而向圖中之朝向左右之曲線箭頭方向拉伸而剝離兩者。將結果示於表2。
與比較例3之(a)相同地,自黏著劑片A裁斷長度500mm×寬度25mm之試驗片,但如圖6(D)所示,僅於該試驗片之第二剝離膜3之外側長度方向一端(寬度為25mm之一端),以25mm之寬度貼附厚度約為0.1mm之雙面膠帶45,進而將雙面膠帶45之相反面貼附於玻璃基板50。以於該狀態下,向圖中之曲線箭頭方向拉伸剝離第一剝離膜2之方式變更,除此之外係進行與比較例3之(a)相同之實驗,從而將結果示於表2。如圖6(D)所示,該試驗亦以於第一剝離膜2及第二剝離膜3產生撓曲之狀態進行,因此為接近之前所說明之圖4(B)之狀態。
再者,相當於該例之手剝離試驗係與比較例3之(b)相同,因此於表2之「手剝離試驗」之欄中,僅記載為「同上」。意為「與比較例3相同」。
將黏著劑片A改變成黏著劑片B,除此之外係進行與比較例3及4相同之實驗,從而將結果示於表2。
如表2所示,於將剝離膜剝離時,若將第一剝離膜2設為水平狀態,向與該水平狀態不同之方向拉伸第二剝離膜3,則不會產生淚狀分離而黏著劑層1伴隨第二剝離膜3剝離,與此相對,若將第二剝離膜3設為水平狀態,向與該水平狀態不同之方向拉伸第一剝離膜,則黏著劑層1全部移行至經拉伸之第一剝離膜2側,又,若以第一剝離膜撓曲之狀態拉伸,則產生淚狀分離。根據該等結果,可知如下情形:當第一剝離膜2以不會撓曲之方式直線前進,且第二剝離膜3以不自貼裝有黏著劑層1之面之相反側施加推壓力之方式而向與第一剝離膜2之直線前進方向不同之方向搬送時,則黏著劑層1不會引起淚狀分離而伴隨第二剝離膜3剝離。
Claims (3)
- 一種附黏著劑之光學構件之製造方法,其特徵在於:其係經過剝離步驟、及貼合步驟而製造依序積層有光學構件、黏著劑層、及第二剝離膜之附黏著劑之光學構件,該剝離步驟係自依序積層有第一剝離膜、上述黏著劑層、及上述第二剝離膜之黏著劑片剝離上述第一剝離膜而使上述黏著劑層露出,該貼合步驟係使於上述剝離步驟中露出之上述黏著劑層貼合至上述光學構件,且上述第一剝離膜與上述黏著劑層之間之剝離力、及上述第二剝離膜與上述黏著劑層之間之剝離力係於分別以0.3m/分之剝離速度進行試驗時,均處於超過0.02N/25mm且未達0.15N/25mm之範圍內,且兩個剝離力之差未達0.01N/25mm,上述剝離步驟係以如下方式進行:對上述第一剝離膜附加張力,且該張力之大小係相對大於上述第二剝離膜與上述黏著劑層之間之剝離力,於上述第一剝離膜自上述黏著劑層剝離之剝離點,上述第一剝離膜以不會撓曲之方式直線前進,上述第二剝離膜以不自貼著有上述黏著劑層之面之相反側施加推壓力之方式,連同上述黏著劑層一併向與上述第一剝離膜之直線前進方向不同之方向搬送,從而上述第一剝離膜自上述黏著劑層剝離。
- 如請求項1之附黏著劑之光學構件之製造方法,其中上述黏著劑層係含有光擴散劑。
- 如請求項1或2之附黏著劑之光學構件之製造方法,其中上述光學構件為偏光板。
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