TWI559436B - 輸送系統 - Google Patents
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Description
本發明關於一種輸送系統,其輸送一輸送物件。
例如,日本專利申請案JP2004-221277A揭述一輸送系統,其包括一製程線對製程線輸送裝置及操作於一製造設備中。製程線對製程線輸送裝置係一輸送一輸送物件於複數個製程線之各二相對應者之間之裝置,各製程線包括複數個相對應之製造裝置。在日本專利申請案JP2004-221277A所述之製造設備中,其設有三半導體製程線、製程線對製程線輸送裝置及一主電腦。在此製造設備中,製程線對製程線輸送裝置輸送一輸送物件(更明確的是容置於一匣盒中之矽晶圓)至另一製程線等等(輸送物件在其中一製程線處理),及主電腦控制各製程線及製程線對製程線輸送裝置。再者,各製程線具有一儲存裝置(亦稱為一儲存器)及一輸送車。儲存裝置係儲存由製程線對製程線輸送裝置輸送之輸送物件,及輸送車將輸送物件輸送於儲存裝置與其中一相對應半導體製造裝置之間。
當輸送裝置之輸送完成後經過一預定時間時,輸送車移動至一等候位置,除非其收到另一輸送指令。由此,例如輸送車所排放灰塵對製造裝置之影響即減低或受限。
各製程線之製造裝置配置方式在於將輸送損失減低或減到最小,即使是在輸送不同類型輸送物件情況中,以符合多樣產品少量生產的需求。
例如,在輸送系統中,其輸送物件是在由一製程線之製造裝置完成一製程後,從一製程線轉移至另一製程線,及若一或多個製造裝置因故障或維持工作而停在一製程線的時,則需藉由使用另一製造裝置以處理輸送物件。為了符合此一需要,可以想見使用另一製程線(鄰近於該製程線之製程線)之一或多個製造裝置,其功能相同於該製程線之製造裝置者,以利繼續輸送物件之處理。通常,具有相同功能之製造裝置皆聚集在一起,以達到製造設備之要求,即使製造裝置設在不同製程線中。
在此情況中,當在一製程線中之製造裝置停止前已在製造裝置中處理的輸送物件輸送至另一製程線之製造裝置時,輸送物件必須輸送通過後續之輸送路徑。亦即,已在製程線之製造裝置中處理的輸送物件係藉由該製程線之輸送車輸送至該製程線之儲存裝置。隨後,放置於該製程線之儲存裝置上的輸送物件再藉由製程線對製程線輸送裝置輸送至另一製程線之儲存裝置。接著,放置於該另一製程線之儲存裝置上的輸送物件係藉由該另一製程線之輸送車輸送至該另一製程線之相對應製造裝置。
在此,當輸送物件藉由使用製程線對製程線輸送裝置及二儲存裝置,從一製程線輸送至另一製程線時,即使是彼此相鄰設置之一製程線及另一製程線,輸送路徑仍需加長。再者,其必須使用正常情況下不必要的製程線對製程線輸送裝置。因此,這對其餘製程線之製程線對製程線輸送上將有所影響。所以,整體輸送系統之輸送時間即不利地增加。
本發明有鑑於上述缺點,因此,本發明之一目的在提供一種輸送系統,其可限制輸送一輸送物件於製程線之間所需的輸送時間增加,即使是將輸送物件輸送於一不同製程線(其係非正常情況下所使用之製程線)之製造裝置。
根據本發明,其提供一種輸送系統,包括一製程線對製程線輸送裝置、一第一輸送車、一第二輸送車及一中繼儲存裝置。製程線對製程線輸送裝置係組態用於輸送一輸送物件於複數個製程線之二相對應者之間,製程線包括一第一製程線及一第二製程線。複數個製程線各包括複數個相對應者之製造裝置。第一輸送車係組態用於輸送輸送物件於第一製程線之一第一儲存裝置與複數個相對應製造裝置之其中一者之間,及第一製程線之複數個相對應製造裝置之各兩相對應者之間。第一儲存裝置係組態用於承接由製程線對製程線輸送裝置輸送至第一儲存裝置之輸送物件。第二輸送車係組態用於輸送輸送物件於第二製程線之
一第二儲存裝置與複數個相對應製造裝置之其中一者之間,及第二製程線之複數個相對應製造裝置之各兩相對應者之間。第二儲存裝置係組態用於承接由製程線對製程線輸送裝置輸送至第二儲存裝置之輸送物件。中繼儲存裝置設置於一相對應位置,中繼儲存裝置係在此處組態用於從第一輸送車及第二輸送車之其中一者承接輸送物件及傳送所承接之輸送物件至第一輸送車及第二輸送車之另一者。
10‧‧‧製造設備
20‧‧‧第一製程線
21‧‧‧清洗裝置
22a-22h‧‧‧擴散爐裝置
23‧‧‧儲存裝置
30‧‧‧第二製程線
31‧‧‧清洗裝置
32a-32h‧‧‧擴散爐裝置
33‧‧‧儲存裝置
40‧‧‧輸送系統
41‧‧‧高架吊車輸送器(OHT)
41a‧‧‧軌道
42‧‧‧軌道引導式車(RGV)
42a‧‧‧軌道
43‧‧‧RGV
43a‧‧‧軌道
44‧‧‧中繼儲存裝置
44a‧‧‧承接表面
44t‧‧‧旋轉平臺
45‧‧‧控制裝置
46‧‧‧中繼儲存裝置
46a‧‧‧承接表面
46t‧‧‧旋轉平臺
47‧‧‧承接部
51‧‧‧車單元
52‧‧‧轉移手單元
52a‧‧‧旋轉裝置
52b‧‧‧伸出及退回裝置
52c‧‧‧夾箝裝置
52c1、52c2‧‧‧臂件
W‧‧‧輸送物件
L‧‧‧旋轉軸
Lo‧‧‧旋轉中心
本文內所述之圖式僅供說明用,而絕非用於限制本發明之範疇。
圖1係示意圖,揭示根據本發明之一實施例之一輸送系統之布局;圖2係示意立體圖,示意地揭示本實施例之一軌道引導式車之結構;圖3係示意圖,用於揭述本實施例之一中繼儲存裝置之平臺之承接表面的旋轉狀態;圖4係示意立體圖,示意地揭示一整體製造設備之控制系統,其包括本實施例之輸送系統;及圖5係示意圖,揭示本實施例之中繼儲存裝置之一修改型式。
本發明之一實施例將參考附圖說明於後。
圖1中所示之一輸送系統40係一使用在製造設備(工廠)10中之輸送系統,製造設備用於製造半導體裝置。更明確地說,輸送系統40將一輸送物件輸送至複數個製程線(亦稱為區域)的其中各一相對應者,輸送物件係一製造物件(亦或是一承接製造物件之容器),各製程線具有複數個相對應之製造裝置(亦稱為工具)。輸送系統40執行製程線對製程線之輸送(亦稱為線間輸送或區間輸送)及製程線內部之輸送(亦稱為線內輸送或區內輸送)兩者。輸送物件的製程線對製程線之輸送係界定為輸送物件在各兩相對應製程線之間之輸送。製程線內部之輸送則界定為輸送物件在對應製程線內之輸送。在本實施例之製程線對製程線輸送中,輸送物件(材料)輸送於各兩相對應製程線之間,包括一第一製程線(亦稱為第一區域)20及一第二製程線(亦稱為第二區域)30。在本實施例之製程線內部輸送中,輸送物件輸送於例如一相對應製程線中的各兩相對應製造裝置之間。
在本實施例中,輸送於第一製程線20及第二製程線30之間之輸送物件係例如一需要清洗處理與熱處理之半導體晶圓。
再者,第一製程線20具有一清洗裝置(做為一製造裝置)21及複數個擴散爐裝置(做為製造裝置)22a-22h。清洗裝置21執行半導體晶圓之清洗處理。各擴散爐裝置22a-22h則在各清洗過之半導體晶圓上執行預定之熱處理。清洗裝置21具有一轉移機構。清洗裝置21之轉移
機構將放置於其一階台上之輸送物件轉移至一清洗槽內。隨後,轉移機構將清洗過之輸送物件從清洗槽轉移至清洗裝置21之階台。各擴散爐裝置22a-22h具有一轉移機構。擴散爐裝置22a-22h之轉移機構將放置於其一階台上之輸送物件轉移至擴散爐裝置22a-22h之一熔爐內。隨後,轉移機構將輸送物件送回到擴散爐裝置22a-22h之階台。各擴散爐裝置22a-h可建構成具有相同熱處理功能。另者,一或多個擴散爐裝置22a-22h可建構成具有不同熱處理功能,即不同於其餘擴散爐裝置22a-22h者。
第一製程線20亦具有一儲存裝置(亦稱為一儲存器)23,例如一開槽器,其設於第一製程線20之一製程線內輸送路徑一端。儲存器23在功能上如同一場所,可供處理前之輸送物件及處理後之輸送物件暫時放置於其上。
第二製程線30具有一清洗裝置31、複數個擴散爐裝置32a-32h及一儲存裝置(亦稱為一儲存器)33,其具有分別相似於第一製程線20的清洗裝置21、擴散爐裝置22a-22h及儲存裝置23者之功能。第一製程線20之清洗裝置21、擴散爐裝置22a-22h及儲存裝置23分別相對於第二製程線30之清洗裝置31、擴散爐裝置32a-32h及儲存裝置33,同時軌道42a、43a(容後詳述)介置於其間,使得具有相似功能之相似製造裝置即在一垂直於軌道42a、43a縱向之方向上彼此相對(參閱圖1)。儲存裝置23做為一第一儲存裝置,及儲存裝置33做為一第二儲存
裝置。
接著,輸送系統40之一特徵將說明於後。
輸送系統40具有一、二或多數個高架吊車輸送器(OHT)41、二軌道引導式車(RGV)42、43、一中繼儲存裝置(亦稱為一中繼儲存器)44及一控制裝置45。高架吊車輸送器41做為一製程線對製程線輸送裝置(亦稱為一區間輸送裝置)。軌道引導式車42、43分別做為第一製程線20之製程線內輸送裝置(亦稱為一區內輸送裝置)及第二製程線30之製程線內輸送裝置(亦稱為一區內輸送裝置)。控制裝置45控制輸送系統40之整體輸送。
高架吊車輸送器41從控制裝置45接收一指令及沿著一軌道41a行進(軌道懸吊於一天花板),並抓持輸送物件。高架吊車輸送器41係在設於對應製程線之製程線內輸送路徑末端的對應儲存裝置處拾起或落下(亦即,取或放)輸送物件。
軌道引導式車42係一輸送車,其將輸送物件輸送於第一製程線20之儲存裝置23與其中一製造裝置(亦即,清洗裝置21及擴散爐裝置22a-22h)之間,及第一製程線20之各兩相對應製造裝置之間。在此,應該注意的是軌道引導式車42及軌道引導式車43實質具有相同結構及相同功能。因此,在文後之說明中,將僅參考圖2詳細說明軌道引導式車42之結構及功能,而軌道引導式車43之結構說明即不予以贅述。圖2係示意立體圖,示意地揭示軌
道引導式車42之結構。
軌道引導式車42抓持輸送物件並同時沿著軌道42a行進,軌道在沿著一列裝置方向之一直線輸送路徑上延伸,第一製程線20之儲存裝置23、清洗裝置21及擴散爐裝置22a-22h即依此順序沿該路徑配置。軌道引導式車42做為一第一輸送車。
如圖2中所示,軌道引導式車42具有一車單元51及一轉移手單元52。車單元51具有一載具,以攜載轉移手單元52。車單元51沿著軌道42a行進。轉移手單元52設置於車單元51上。轉移手單元52具有一旋轉裝置52a、一伸出及退回裝置52b及一夾箝裝置52c。旋轉裝置52a設置於車單元51之一頂表面上。旋轉裝置52a可相對於車單元51之頂表面而從一旋轉參考位置旋轉360度,當軌道引導式車42放置於相對應之製造裝置前方時,透過伸出及退回裝置52b而受到旋轉裝置52a支撐之夾箝裝置52c係朝向對立於相對應之製造裝置。伸出及退回裝置52b設置於旋轉裝置52a之一上表面上。伸出及退回裝置52b可在一垂直於旋轉裝置52a的旋轉軸線之方向上伸出及退回,亦可在旋轉裝置52a的旋轉軸線方向上從一輸送位置伸出及退回,輸送位置即伸出及退回裝置52b在輸送輸送物件時之位置。夾箝裝置52c設置於伸出及退回裝置52b之一上端部分,其相對立於旋轉裝置52a。夾箝裝置52c可以在夾箝裝置52c之二臂件52c1、52c2夾持輸送物件時之一夾持狀態與夾箝裝置52c之臂件52c1、52c2釋
放輸送物件時之一釋放狀態之間驅動。
藉由上述構造,當從控制裝置45接收一指令,而在儲存裝置23或其中一相對應製造裝置之階台拾起輸送物件時,軌道引導式車42即依下列方式操作。
首先,車單元51沿著軌道42a行進,以將轉移手單元52移至對應階台。在對應階台處,伸出及退回裝置52b伸出或退回至一預定位置,將夾箝裝置52c放在一位置,夾箝裝置52c在此可夾持位於階台上之輸送物件。接著,夾箝裝置52c夾持輸送物件。隨後,伸出及退回裝置52b在夾箝裝置52c夾持輸送物件情況下回到輸送位置。由此,輸送物件即由軌道引導式車42夾持(更明確地說,是由軌道引導式車42之夾箝裝置52c),以達成輸送物件藉由軌道引導式車42之輸送。
再者,當從控制裝置45接收一指令,而將輸送物件落下至儲存裝置23或其中一相對應製造裝置之階台上時,軌道引導式車42即依下列方式操作。
首先,車單元51沿著軌道42a行進,以將夾持輸送物件之轉移手單元52移至對應階台。在對應階台處,伸出及退回裝置52b伸出或退回至一預定位置,將夾箝裝置52c所夾持之輸送物件放在階台上。接著,當夾箝裝置52c釋放所夾持之輸送物件時,所夾持之輸送物件即放在階台上。
各製造裝置之階台係設於軌道42a之同一側上。因此,在各製造裝置之階台拾起或落下(拿起或放置)輸送
物件時,旋轉裝置52a定位於旋轉參考位置。對比之下,假如輸送物件是在儲存裝置處拾起或落下,例如位於軌道42a相反側上之中繼儲存裝置44,其在垂直於軌道42a縱向之方向上相對立於各製造裝置,則旋轉裝置52a係在旋轉裝置52a從旋轉參考位置旋轉180度的狀態。
再者,軌道引導式車43抓持輸送物件並同時沿著軌道43a行進,軌道在沿著一列裝置方向之一直線輸送路徑上延伸,第二製程線30之儲存裝置33、清洗裝置31及擴散爐裝置32a-32h即依此順序沿該路徑配置。相似於軌道引導式車42的是,軌道引導式車43具有車單元51及轉移手單元52,且其將輸送物件輸送於各兩相對應之儲存裝置33與製造裝置之間(亦即,清洗裝置31及擴散爐裝置32a-32h)之間。軌道引導式車43做為一第二輸送車。
圖3係示意圖,用於揭述中繼儲存裝置44之一旋轉平臺44t之一承接表面44a之旋轉狀態。
中繼儲存裝置44係一中繼階台,供輸送物件放置於其上。中繼儲存裝置44係組態用於從軌道引導式車42及軌道引導式車43其中一者承接輸送物件W,及將承接之輸送物件W傳送至軌道引導式車42及軌道引導式車43之另一者。更明確地說,中繼儲存裝置44設置於一相對應位置,即在軌道42a與軌道43a之間及供輸送物件可在此處利用各軌道引導式車42及軌道引導式車43在中繼儲存裝置44拾起或落下。特別是,中繼儲存裝置44包括一
旋轉機構(圖中未示)。當旋轉機構操作時,平臺44t之承接表面44a繞著一旋轉軸L之一旋轉中心Lo(亦即,旋轉軸L之一旋轉軸線)而在平臺44t之承接表面44a之所在平面中旋轉至少180度,如圖3中所示。旋轉機構回應於一從軌道引導式車42或軌道引導式車43輸出之指令而驅動旋轉180度,其已將輸送物件放置於平臺44t之承接表面44a上。在圖3中,平臺44t之承接表面44a旋轉前之輸送物件W係以實線表示,及平臺44t之承接表面44a旋轉後之輸送物件W係以點虛線表示。
圖4係示意圖,揭示包括輸送系統40之製造設備10之一整體控制系統。
如圖4中所示,控制裝置45回應於從一控制整個工廠的上終端輸出之一輸送指令,其使用高架吊車輸送器41執行製程線對製程線輸送控制操作、及使用軌道引導式車42、43執行製程線內部輸送控制操作。再者,控制裝置45回應於輸送指令,其執行一拾起/落下之控制操作(一取/放控制操作),以在各儲存裝置23、33處拾起或落下輸送物件。
接著,常態之製程線對製程線輸送(其使用由控制裝置45控制之高架吊車輸送器41)、及常態之製程線內部輸送(其使用由控制裝置45控制之軌道引導式車42、43)將揭述於後。更明確地說,文後將揭述需在第一製程線之清洗裝置21及擴散爐裝置22c處理的半導體晶圓係做為輸送物件而進行輸送。
首先,輸送物件由高架吊車輸送器41輸送至第一製程線20之儲存裝置23。接著,放置於儲存裝置23上之輸送物件由軌道引導式車42拾起及輸送至清洗裝置21之階台。隨後,在清洗裝置21內之製程完成後放置於清洗裝置21之階台上的輸送物件即由軌道引導式車42拾起及輸送至擴散爐裝置22c之階台。隨後,在擴散爐裝置22c內之製程完成後放置於擴散爐裝置22c之階台上的輸送物件即由軌道引導式車42拾起及輸送至儲存裝置23。隨後,在第一製程線20內之製程完成後放置於儲存裝置23上的輸送物件即由高架吊車輸送器41拾起及透過製程線對製程線輸送以輸送至下一製程。
接著,文後將揭述第一製程線20之所有擴散爐裝置22a-22h皆停止的情形,例如因維修操作而使得第二製程線30之擴散爐裝置32c(其等效於第一製程線20之擴散爐裝置22c,亦即其功能可相比於第一製程線20之擴散爐裝置22c)用於替代擴散爐裝置22c。
在此情況中,軌道引導式車42拾起在清洗裝置21內之製程完成後放置於清洗裝置21之階台上的輸送物件,及抓持清洗過的輸送物件之軌道引導式車42行進至中繼儲存裝置44。此時,軌道引導式車42之旋轉裝置52a在夾箝裝置52c抓持輸送物件情況下,從旋轉參考位置旋轉180度。依此方式,輸送物件可以放置於位在軌道42a相反側之中繼儲存裝置44上,其在垂直於軌道42a縱向之方向上相對立於第一製程線20之製造裝置(清洗裝置21
及擴散爐裝置22a-22h)之階台。隨後,由夾箝裝置52c夾持之輸送物件係藉由伸出及退回裝置52b伸展而移動至平臺44t之承接表面44a上方位置,及輸送物件透過夾箝裝置52c之釋放操作將夾持之輸送物件釋出而放置於平臺44t之承接表面44a上。然後,平臺44t之承接表面44a回應於一從軌道引導式車42輸出之指令而旋轉180度(參閱圖3)。
平臺44t之承接表面44a旋轉原因即說明於後。亦即,如上所述,第一製程線20之軌道42a及第二製程線30之軌道43a彼此相對。因此,平臺44t之承接表面44a旋轉,以利於處理輸送物件在階台上之方位(亦即,旋轉位置)指定於各製造裝置之階台時的情況。
在平臺44t之承接表面44a旋轉180度後,已有輸送物件放置於其上之軌道引導式車43係在軌道引導式車43之旋轉裝置52a從其旋轉參考位置旋轉180度的情況下行進至中繼儲存裝置44。接著,軌道引導式車43之夾箝裝置52c夾持平臺44t之承接表面44a上之輸送物件。接著,軌道引導式車43之伸出及退回裝置52b即在輸送物件由夾箝裝置52c夾持的情況下回到輸送位置。隨後,軌道引導式車43之旋轉裝置52a旋轉至旋轉參考位置。接著,軌道引導式車43行進至擴散爐裝置32c之階台及將輸送物件放置於擴散爐裝置32c之階台上。隨後,在擴散爐裝置32c內之製程完成後放置於擴散爐裝置32c之階台上的輸送物件即由軌道引導式車43拾起及輸送至儲存裝
置33。隨後,在第二製程線30內之製程完成後放置於儲存裝置33上的輸送物件即由高架吊車輸送器41拾起及透過製程線對製程線輸送以輸送至下一製程。
如上所述,在本實施例之輸送系統40中,中繼儲存裝置44設於對應位置,輸送物件可在此處由軌道引導式車42及軌道引導式車43兩者拾起及落下。
因此,例如在由第一製程線20之先前製造裝置(在上述例子中為清洗裝置21)處理過的輸送物件輸送至第二製程線30之後續製造裝置(在上述例子中為擴散爐裝置32c)的情況中,已在先前製造裝置處拾起輸送物件的軌道引導式車42將輸送物件輸送至中繼儲存裝置44。接著,已由軌道引導式車42放置於中繼儲存裝置44上之輸送物件係由軌道引導式車43拾起及輸送至後續製造裝置。如上所述,輸送物件可以透過使用軌道引導式車42、43之製程線內部輸送組合型態,從一製程線之先前製造裝置輸送至下一製程線之後續製造裝置,而不使用製程線對製程線輸送用之高架吊車輸送器41。因此,即使是在輸送物件輸送於不同製程線之製造裝置之間的情況中,其仍可限縮輸送時間增加,而此為製程線對製程線輸送上所需者。
尤其,即使是當中繼儲存裝置44設置於軌道引導式車42之輸送路徑與軌道引導式車43之輸送路徑之間時,用於承接輸送物件的平臺44t之承接表面44a係組態用於可在承接表面44a所在平面中旋轉至少180度。因此,即
使是在輸送物件之方位(亦即,旋轉位置)指定於各製造裝置之階台的情況中,平臺44t之承接表面44a仍可旋轉以將輸送物件放置於指定方位。因此,軌道引導式車42、43各可輸送輸送物件,且不需要顧慮輸送物件之方位。
在此,應該注意的是中繼儲存裝置44可回應於一從軌道引導式車42、43輸出之指令而旋轉平臺44t之承接表面44a,軌道引導式車將放置於中繼儲存裝置44之承接表面44a上的輸送物件拾起。或者,中繼儲存裝置44可回應於一從控制裝置45輸出之指令而旋轉平臺44t之承接表面44a。再者,中繼儲存裝置44可以建構藉由例如一感測器,以感應輸送物件出現在承接表面44a上。在此情況中,中繼儲存裝置44可回應於感測器之感應結果而旋轉平臺44t之承接表面44a。
再者,在第一製程線20及第二製程線30之所有製造裝置不需要輸送物件放置於相對應指定方位(亦即,相對應指定旋轉位置)的情況中,中繼儲存裝置44之旋轉功能可以省略。
圖5係示意圖,揭示上述實施例之中繼儲存裝置之一修改型式。
欲替代中繼儲存裝置44,可以使用一具有一承接表面之中繼儲存裝置,承接表面具有一用於支撐輸送物件之承接部,及具有沿著承接表面的所在平面且相距於承接表面中心之旋轉中心Lo。
更明確地說,可以使用圖5中所示之中繼儲存裝置46。在中繼儲存裝置46中,旋轉平臺46t之承接表面46a具有承接部(或簡稱為一部位)47,以支撐其上之輸送物件。承接部47在前側上相距於旋轉軸L之旋轉中心Lo。因此,放置於承接部47上之輸送物件整體相距於旋轉軸L之旋轉中心Lo。
因此,透過圖3與圖5之間的比較可知,圖5中之承接表面46a旋轉180度後,輸送物件W之位置進一步移離圖3中之承接表面44a旋轉180度後輸送物件W之位置。藉此,即使是在中繼儲存裝置46無法放置較靠近軌道引導式車42、43的情況中,承接部47可放置較靠近軌道引導式車42、43。
或者,欲替代中繼儲存裝置44,可以使用一具有一平臺承接表面之中繼儲存裝置,承接表面包括一承接部(相似於圖5之承接部47),其在後側上相距於旋轉軸L之旋轉中心Lo(而非圖5之前側)。由此,輸送物件在前後方向上之移動距離即減少。藉此,即使是在不易將軌道42a移離軌道43a的情況中,仍可使用上述中繼儲存裝置。
本發明並不限於上述實施例及其修改型式。亦即,上述實施例及修改型式可以實施如下。
(1)本發明並不限於用於製造半導體裝置的製造設備之輸送系統。亦即,本發明可施加於任意其他適當之輸送系統,其在任意其他適當製造設備(例如液晶顯示器
(LCD)或類似者之製造設備)中執行製程線對製程線輸送及製程線內部輸送。在此情況,製程線對製程線輸送中,一相對應輸送物件(例如液晶顯示器或類似者)輸送於各兩相對應製程線之間,各製程線包括複數個製造裝置。再者,在製程線內部輸送中,相對應之輸送物件是在製程線內部輸送。
(2)本發明並不限於該製造設備之輸送系統,即其相對應之製造裝置係在各相對應製程線中之相對應輸送路徑之一方向上呈前後配置。例如,本發明同樣可施加於一製造設備之一輸送系統,即其製造裝置係沿軌道引導式車42、43之相對應彎曲軌道呈前後配置。再者,本發明可施加於一製造設備之一輸送系統,即其製造裝置係呈三維式配置,以致使其中一製造裝置設置於另一製造裝置上方。
(3)製程線內部輸送之輸送車並不限於軌道引導式車42、43。例如,製程線內部輸送之各輸送車可以是一自動引導式車(AGV)。
(4)在軌道引導式車42、43中,若伸出及退回裝置52b可伸出及退回,將夾箝裝置52c放置於中繼儲存裝置44的平臺44t之承接表面44a,而未使用旋轉裝置52a,則旋轉裝置52a可以省略。
(5)製程線對製程線輸送裝置(或製程線對製程線輸送方式)並不限於高架吊車輸送器41。例如,製程線對製程線輸送裝置(或製程線對製程線輸送方式)可以是
行進於在天花板高度空間之架空纜車(OHS)。
(6)輸送物件W不限於半導體晶圓。亦即,輸送物件W可以是一需要在其上做另一處理或檢驗之物體(物品)。例如,輸送物件W可以是一匣盒(半導體晶圓盒),例如機械界面標準(SMIF)或前開式晶圓盒(FOUP),用於收納多數個(例如,25個)半導體晶圓及執行一就地清洗環境。
其他優點及修改型式仍可由習於此技者發現。因此,以廣義而論之本發明並不侷限於特定細節、代表性之裝置、及文內揭示之說明範例。
10‧‧‧製造設備
20‧‧‧第一製程線
21‧‧‧清洗裝置
22a-22h‧‧‧擴散爐裝置
23‧‧‧儲存裝置
30‧‧‧第二製程線
31‧‧‧清洗裝置
32a-32h‧‧‧擴散爐裝置
33‧‧‧儲存裝置
40‧‧‧輸送系統
41‧‧‧高架吊車輸送器(OHT)
41a‧‧‧軌道
42‧‧‧軌道引導式車(RGV)
42a‧‧‧軌道
43‧‧‧RGV
43a‧‧‧軌道
44‧‧‧中繼儲存裝置
Claims (3)
- 一種輸送系統,其包含:一製程線對製程線輸送裝置(41),係組態成用於輸送一輸送物件(W)於複數個製程線之二相對應者之間,該製程線包括一第一製程線(20)及一第二製程線(30),其中該複數個製程線各包括複數個相對應的製造裝置(21,22a-22h;31,32a-32h);一第一輸送車(42),係組態成用於輸送該輸送物件(W)於該第一製程線(20)之一第一儲存裝置(23)與該複數個相對應的製造裝置(21,22a-22h)之其中一者之間,及該第一製程線(20)之該複數個相對應的製造裝置(21,22a-22h)之各兩相對應者之間,其中該第一儲存裝置(23)係組態成用於承接由該製程線對製程線輸送裝置(41)輸送至該第一儲存裝置(23)之該輸送物件(W);一第二輸送車(43),係組態成用於輸送該輸送物件(W)於該第二製程線(30)之一第二儲存裝置(33)與該複數個相對應的製造裝置(31,32a-32h)之其中一者之間,及該第二製程線(30)之該複數個相對應的製造裝置(31,32a-32h)之各兩相對應者之間,其中該第二儲存裝置(33)係組態成用於承接由該製程線對製程線輸送裝置(41)輸送至該第二儲存裝置(33)之該輸送物件(W);一中繼儲存裝置(44,46),其從該第一輸送車 (42)及該第二輸送車(43)之其中一者承接該輸送物件(W)及傳送所承接之該輸送物件(W)至該第一輸送車(42)及該第二輸送車(43)之另一者;該中繼儲存裝置(44,46)設置於該第一輸送車(42)之一輸送路徑及該第二輸送車(43)之一輸送路徑之間;及該中繼儲存裝置(44,46)之一承接表面(44a,46a)將該輸送物件承接於其上,且當該輸送物件從該第一輸送車(42)及該第二輸送車(43)之該一者被供應到該中繼儲存裝置(44,46)時,該承接表面(44a,46a)在該承接表面(44a,46a)之一平面中繞著單一旋轉軸旋轉至少180度,該單一旋轉軸垂直於該承接表面(44a,46a)的該平面。
- 如申請專利範圍第1項之輸送系統,其中該中繼儲存裝置(46)之該承接表面(46a)之一部位(47)係組態用於支撐該輸送物件(W),及該承接表面(46a)之該部位(47)係在該承接表面(46a)之該平面中設置相距於該承接表面(46a)之一旋轉中心(Lo)。
- 如申請專利範圍第1項之輸送系統,其中當備有該第一輸送車(42)及該第二輸送車(43)之其中一者的該第一製程線(20)及該第二製程線(30)之一相對應者之該複數個相對應製造裝置至少一者不操作時,該中繼儲存裝置(44,46)從該第一輸送車(42)及該第二輸送車(43)之其中一者承接該輸送物件(W),及傳送所承接 之該輸送物件(W)至該第一輸送車(42)及該第二輸送車(43)之另一者,藉此要求該輸送物件經由該中繼儲存裝置(44,46)輸送至該第一製程線(20)及該第二製程線(30)之另一者之該複數個相對應製造裝置至少一者,其等效於該第一製程線(20)及該第二製程線(30)之該相對應者之該複數個相對應製造裝置至少一者。
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