TWI558486B - 用於壓鑄熔融金屬流之澆注管 - Google Patents

Description

用於壓鑄熔融金屬流之澆注管

本發明係有關於耐火構件，尤其是指用於連續鑄造作業中熔融金屬之轉送之耐火澆注管。

於金屬連續鑄造中(特別是鋼)，熔融金屬流通常自第一金屬冶金容器，經由耐火澆注管，轉送入第二金屬冶金容器或模。此等管通常稱為水口或管罩，並有用來轉送熔融金屬之管孔。澆注管包含浸入式水口(SEN)或浸入式管罩(SES)，其在接收容器或模的液面下方排出熔融金屬。

液態金屬自管孔之下游端，經由一或更多出口排出。澆注管之一重要功能係以平穩及穩定方式，不中斷及無破裂地排出熔融金屬。平穩、穩定的排出有助於處理和改進成品之品質。澆注管之第二重要功能係在接收容器或模中確立液態金屬內之適當動態狀況，俾有助於進一步處理。產生適當動態狀況可能要求澆注管具有複數個出口，此等出口配置成，使熔融金屬流在自管排出時轉朝一或更多方向。

基於若干理由，較佳係誘發模內之旋轉流，熔融金屬被排出該模內。液流之旋轉會增加模之液態熔池內部之滯流時間，以增進夾雜物之更佳浮動。液流之旋轉亦產生溫度均一化，減少沿鋼鐵固化前緣所形成枝晶之成長。液流之旋轉在連續級鋼不中斷地流經澆注管時，亦減少鋼級混合。

各種技術業已用來圖謀提供液流之旋轉。電磁攪動裝置可置於入水口下方。入水口亦已設計成可在使用中旋轉。入水口亦已設計成具有正切管之管孔之彎曲出口。

於習知技術中出現各種缺點。電磁攪動裝置於有害環境中的使用壽命有限，入水口之旋轉容許氧與熔融金屬流接觸，且在所有模配置中，彎曲出口未能成功地誘發旋轉流。

德國專利DE1802884揭示一種用於鋼筋鑄造旋轉給料管。然而，該裝置缺乏澆口分配器，該澆口分配器具有相對於橫軸，較孔更大的半徑。

法國專利FR2156373揭示用於熔融金屬連續鑄造之方法及設備。然而，該設備缺乏澆口分配器，該澆口分配器具有相對於橫軸，較孔更大的半徑。

法國專利FR2521886揭示一種旋轉安置連續鑄造熔融金屬於錠模中之裝置。然而，該裝置缺乏澆口分配器，該澆口分配器具有相對於橫軸，較孔更大的半徑。

英國專利GB2198376揭示一種用於連續鑄造之浸入管。然而，該管缺乏澆口分配器，該澆口分配器具有相對於橫軸，較孔更大的半徑。

日本專利JP6227026揭示一種用於連續鑄造設備之浸入水口。然而，該水口缺乏澆口分配器，該澆口分配器具有相對於橫軸，較孔更大的半徑。

蘇俄專利RU2236326揭示一種用以從中間澆包至模連續鑄造鋼之方法以及用以執行該方法之可浸入水口。然而，該水口缺乏澆口分配器，該澆口分配器具有相對於橫軸，較孔更大的半徑。

蘇聯專利SU1565573揭示一種用以在連續鑄造中攪動熔融金屬之配置。然而，該裝置缺乏澆口分配器，該澆口分配器具有相對於橫軸，較孔更大的半徑。

一需要持續進行的耐火澆注管，其在各種模配置中可不使用額外電機裝置，即可產生旋轉流。理論上，此種管亦可改進流入鑄模之熔融金屬流，或改進鑄造金屬之性質。

本發明係有關用於熔融金屬鑄造之澆注管。澆注管包含至少二出口，且相對於習知技術，提供流入模內部之更有效旋轉流，熔融材料從澆注管流入模內。液流之旋轉增加液態模熔池內部之滯流時間，產生夾雜物之更佳浮動，減少沿鋼鐵固化前緣所形成枝晶之成長，並在連續級鋼不中斷地通過澆注管時，容許鋼級混合之可觀減少。旋轉流之特定配置亦可減少誘發高擾流級之相競表面流。利用本發明來產生旋轉流可替代使用電磁攪拌模內容物，以提供熱均一及最佳模粉末熔化。這些優點導致成品改進。

於範圍廣大的態樣中，該構件包括具有擴大之澆口分配器之澆注管，其與出口直接流體連通。出口孔以特定角度、配置及特定之相對尺寸繞澆口分配器配設，以產生旋轉流。

於一態樣中，本發明包括出口，其包含：一內壁，與澆口分配器及澆注管之外表面連通；以及一外壁，與澆口分配器及澆注管之外表面連通。外壁及內壁可完全直立或可包含直立部，或可以相對於出口之垂直面較出口之其他表面更小的角度配置。外壁於橫剖面具有較內壁更大的長度。出口之外壁或出口之外壁之橫突起不與管孔相交，或不與管孔之縱突起相交。於某些實施例中，出口之外壁正切一與管孔同心之圓，並具有較管孔更大的半徑，或正切澆口分配器。於某些實施例中，出口在外部無阻礙；在出口外部無本發明之構件之任何部分，且其中該部分與出口之橫剖面之向外突起相交。本發明之某些實施例之特徵在於，無連接澆口分配器與澆注管底面之底孔。本發明之某些實施例之特徵在於多數澆口，經由此等澆口，直線可自澆口分配器貫穿至熔流管之外壁。本發明之某些實施例之特徵在於，無旋轉組件。

於本發明之一實施例中，出口以繞澆口分配器周邊之旋轉角度θ規則地隔開，且出口具有至少2r_pd sin(θ/2)²之澆口寬度，其中r_pd係澆口分配器半徑，且θ係繞澆口所佔據之澆口分配器周邊之旋旋轉角度，其以弧度表示。

於本發明之另一實施例中，出口配置成4πr_b＞nr_pd(θ)＞1.3πr_b，其中r_b係管孔半徑，n係出口數，r_pd係澆口分配器半徑，且θ係繞澆口所佔據之澆口分配器周邊之旋轉角度，其以弧度表示。

於本發明之另一實施例中，出口具有在橫剖面中等於或小於θ/2之非零展開角角度。

於本發明之另一實施例中，出口配置成3πr_b ²＞hna＞0.5πr_b ²，其中r_b係管孔半徑，h係出口高度，n係出口數，且a係孔入口之寬度。就絕對值而言，本發明實施例使用具有等於或大於8 mm之出口高度之出口，有助於製造本發明之澆注管，並促進液態金屬之可鑄造性。

於本發明之又一實施例中，出口配置成繞出口所佔據之澆口分配器周邊之最大角度θ為arccos(r_pd/r_ex)，並因此a<r_pd((r_ex-r_pd)/r_ex)，其中a為澆口入口之寬度，r_pd係澆口分配器半徑，且r_ex係澆口分配器之橫剖面中的澆注管半徑。就絕對值而言，本發明實施例使用具有等於或大於8 mm之出口高度之出口，俾有助於製造本發明之澆注管，並促進液態金屬之可鑄造性。

本發明之設計元素，包括出口數、澆口分配器之大小及配置、澆口壁高度、澆口壁寬度、澆口壁展開口角度以及自澆口分配器之縱軸經過該澆口至澆注管外部之直線之欠缺，導致出口軸周圍之流體在經由出口向外流出時發生渦流。減少流經本發明之澆注管之出口之流體的噴射動量，如與模壁接觸之噴流之強度。習知澆注管呈現入口與出口間流速的增加；於本發明中，該增加減至最小，或者，在某些情況下減少。本發明之澆注管在出口內及外產生彎曲流路。具有四澆口及六澆口之本發明之澆注管產生均一及均勻分布之渦流速度。渦流可採螺旋液流之螺旋之形式，以澆口軸為其軸。噴射動量之減少使得本發明之澆注管可配置成在澆口的外部及橫剖面中無裙部或屏蔽下使用。

透過以下對實施本發明之較佳方法之說明，當可理解本發明之其他細節、目的及優點。

本發明包括澆注管，用於熔融金屬之連續鑄造。澆注管包括一管孔，其流體連接至少二出口。澆注管意指管罩、水口及用來導引熔融金屬流之其他耐火元件，例如包含浸入式入口管罩及入水口。本發明特別適於具有一出口之澆注管，該出口適用來輸送熔融金屬於諸如模之接收容器中金屬表面之下方。

第1圖顯示澆注管10之縱剖視圖。澆注管10包括一入口12及一出口14，由一管孔16及一澆口分配器18連接。澆注管10容許熔融金屬流自入口12之上游端，經管孔到澆口分配器18之下游端、具有縱軸20及徑向範圍24之澆口分配器18，而後到達出口14。出口14由一孔之周邊所界定，該孔貫穿澆注管10，自澆口分配器18之澆口分配器徑向範圍24至澆注管外表面28。出口之周邊可為任何方便的一般形狀，包括唯不限於卵形，多邊形或其組合。便利地是，出口之一般形狀實質上為矩形，且可為具有弧度角隅之矩形。在具有實質上矩形之出口情況下，出口可具有出口壁、接近澆注管上游端之出口上表面以及接近澆注管下游端之出口下表面。出口壁連接出口上表面至出口下表面。本發明之個別實施例可具有多數出口壁，其以不平行於縱軸20之直線描述。於本實施例中，管孔16具有小於澆口分配器之徑向範圍24之管孔徑向範圍30。於本發明之某些實施例中，口集器皿部從澆口分配器18向下延伸，並與其流體連通。於本發明之替代實施例中，底孔連接澆口分配器18至澆注管底面38。

第2圖顯示第1圖所示本發明澆注管實施例之沿第1圖之A-A剖線之剖視圖。四個出口14流體連接澆口分配器18至澆注管10之外表面28。本實施例中之各出口14具有局部界定出口之內出口壁40及外出口壁42。外出口壁42在垂直於縱軸20之水平面具有的長度較出口壁40大。澆口分配器之徑向範圍24大於管孔徑向範圍30。至少一外出口壁42正切具有較內口壁之徑向範圍更大之徑向範圍之圓。於圖示之實施例中，各外出口壁42正切具有較內管孔壁之半徑更大之半徑之圓，且於本實施例中，各外出口壁42正切澆口分配器18之徑向範圍24所界定之圓。本實施例中的各出口14具有展開口；澆口分配器之徑向範圍24中各澆口之橫剖面積小於澆注管外表面28之橫剖面積。

第3圖顯示澆注管10之縱剖視圖。澆注管10包括入口12及出口14，藉管孔16及澆口分配器18流體連接。澆注管10容許熔融金屬流自入口12之上游端，經管孔，至澆口分配器18之下游端、具有徑向範圍24之澆口分配器18，而後至出口14。出口14由從澆口分配器18之徑向範圍24經澆注管10貫穿至澆注管外表面28之孔之周邊所界定。出口之周邊可為任何方便的一般形狀，其包含惟不限於卵形、多邊形或其組合。方便地是，出口之一般形狀實質上為矩形，且可為角隅具有弧度之矩形。在具有實質上矩形之出口情況下，出口可具有出口壁、接近澆注管上游端之出口上表面以及接近澆注管下游端之出口下表面。出口壁連接出口上表面至出口下表面。位於入口12之管孔內之座插件62容許管孔管裝配至澆注管上方的容器。座插件62例如可由諸如氧化鋯之耐火材料形成。位於座插件62下方之管孔內之下座插件64例如可由諸如氧化鋯之耐火材料形成。位於澆注管10之外周之懸索套筒66使澆注管能耐在懸索產生的機械及化學應力。懸索套筒66例如可由諸如鋯之耐火材料形成。位於澆注管下部之外部之絕緣纖維68保護澆注管之外部。絕緣纖維68可由耐火材料之纖維形成。

第4圖顯示第3圖所示本發明澆注管實施例之沿第3圖之A-A剖線之剖視圖。六個出口14流體連接澆口分配器18至澆注管10至外表面28。本實施例中之各出口14具有局部界定出口之內出口壁40及外出口壁42。外出口壁42在水平面具有的長度較出口壁40大。澆口分配器18之徑向範圍24大於管孔之徑向範圍30。至少一外出口壁42正切具有較內管孔壁之半徑更大之半徑之圓。於圖示之實施例中，各外出口壁42正切具有較內管孔壁之半徑更大之半徑之圓，且於本實施例中，各外出口壁42正切澆口分配器18之徑向範圍24所界定之圓。本實施例中的各出口14具有展開口；澆口分配器之徑向範圍24中各口之橫剖面積小於澆注管外表面28之澆口之橫剖面積。

第5圖顯示本發明實施例之澆注管一部分90之立體圖。此圖顯示澆口分配器及澆注管之水平相鄰部分。管孔之下端澆口分配器之上端相接；圖示澆口分配器之徑向範圍24與管孔之徑向範圍30間之表面代表澆口分配器之上表面。澆口分配器之範圍24與外表面16間之澆口分配器之部分容納出口。圖示單一出口有內出口壁40及外出口壁42。圖示內出口壁40有單一投影線92；該投影線正切與澆口分配器同軸之圓，此澆口分配器具有小於管孔之徑向範圍30之徑向範圍。圖示外出口壁42之水平投影線94。外出口壁42之平面正切與澆口分配器同軸之圓，此澆口分配器具有較管孔之徑向範圍30之半徑。於圖示之實施例中，外出口壁42之平面正切具有與澆口分配器之徑向範圍24相同之半徑之圓。澆口展開角度108係內出口壁40與外出口壁42間之角度。內出口壁40之投影不與澆口分配器之軸20相交。

第6圖顯示沿水平貫穿澆口分配器之平面剖斷之澆注管10實施例之側視立體圖。管孔16與澆口分配器18流體連通。五個出口14之每一者具有局部界定出口之內出口壁40及外出口壁42。外出口壁42正切澆口上方大於管孔直徑之圓；該配置稱為偏置配置。

第7圖顯示本發明之澆注管10實施例之側視角立體圖。於本實施例中，出口14配置成出口上游表面及出口下游表面不在水平面中。各澆口之軸自水平方向110位移。澆口軸112可於水平面下方位移角度114，或於水平面上方位移角度116。於某些實施例中，澆注管具有複數個出口，其有至少一澆口圍繞軸伸入水平面上方之澆注管之周邊，並有至少一澆口圍繞軸伸入水平面下方之澆注管之周邊。於某些實施例中，澆注管具有偶數澆口，以及圍繞澆注管周邊之連續澆口，此等連續澆口具有交錯向上及向下位移之軸線。於其他實施例中，澆注管具有偶數澆口，及圍繞澆注管周邊之連續澆口，此等連續澆口具有交錯向上及向下位移之軸線。本發明之特定實施例可具有四個側向澆口，繞澆注管之周邊，以90度的間隔定位。本實施例中的每一澆口具有2度的展開口以改進自澆口之噴射擴散。二澆口具有15度的向下角度，另二澆口則具有5度的向上角度。於本發明之各個實施例中，澆口可具有2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14或15度的展開口，範圍自1度至15度、1度至12度、2度至10度、2度至8度或頂多θ/2之正值，其中θ係繞口所佔據之澆口分配器周邊之以弧度表示之旋轉角度。

第8圖係本發明之澆注管實施例之各種幾何元素之俯視圖。圓表示澆口分配器之徑向範圍24。另一圓表示管孔之徑向範圍30。管孔半徑120表示管孔之半徑至管孔之徑向範圍30之距離。澆口分配器之半徑122表示自澆口分配器之中心至澆口分配器之徑向範圍24之距離。亦以符號θ標示之旋旋轉角度124表示個別澆口所佔據澆口分配器周邊之角度。口寬度128，垂直於出口14之軸，位於澆口與澆口分配器之接觸點之澆口寬度以字母a標示。水平面中開口之展開角度108表示內澆口壁40及外澆口壁42間之角度，其亦以符號γ標示。入口線132表示具有內澆口壁及外澆口壁之給定孔之內口壁-澆口分配器與外口壁之交點-澆口分配器交點間之距離。出口角度134表示入口線132與外澆口壁42間之角度。

第9圖係本發明澆注管實施例中所含澆口分配器18及五個出口14之熔流總成150內壁之底視圖。澆口分配器具有較管孔之徑向範圍30大之澆口分配器之徑向範圍24。水平面中開口之展開角度108以符號γ標示。以符號θ標示旋旋轉角度124表示個別澆口所佔據澆口分配器周邊之角度。口寬度128，垂直於口軸，位於澆口與澆口分配器之接觸點之澆口寬度以字母a標示。水平面中開口之展開角度108以符號γ標示。入口線132表示具有內澆口壁40及外澆口壁42之給定孔之內澆口壁-澆口分配器與外澆口壁之交點-澆口分配器交點間之距離。出口角度134表示入口線132與外澆口壁42間之角度。

第10圖係本發明之澆注管實施例之各種幾何元素之俯視圖。圓表示澆口分配器之徑向範圍24。另一圓表示管孔之徑向範圍30。圍繞管孔之徑向範圍及澆口分配器之徑向範圍之圓表示澆注管之外表面28。澆口分配器縱軸20與該澆口分配器之水平面相交。出口14局部以內澆口壁40及外澆口壁42描述。符號θ標示之旋旋轉角度度124表示個別澆口所佔據澆口分配器周邊之角度。繞澆口分配器之澆注管之壁厚142以澆口分配器之徑向範圍24與澆注管之外表面28間之距離表示。澆口分配器外徑144表示澆口分配器縱軸20與澆口分配器之外表面28間之距離。出口線146表示水平面中自澆口分配器20之縱軸起之徑線。就本發明之某些實施例而言，自澆口分配器縱軸20起的所有出口線在到達澆口分配器之外表面28之前，與出口壁相交。

第11圖係本發明之流管實施例中所含澆口分配器及五個出口之熔流總成180之內壁之側視立體圖。圖示出口14有澆口高度182。

本發明之澆注管使用若干設計元件之一個或更多個。

1)其至少有兩個出口。根據本發明，澆注管可具有三個、四個、五個、六個或更多數目的出口。

2)澆口分配器之徑向範圍大於管孔之徑向範圍。

r_pd＞r_b

其中，r_pd係澆口分配器之徑向範圍，r_b係管孔之徑向範圍。

3)用以製造或鑄造液態金屬之入口之寬度等於或大於8 mm。繞澆口所佔據之澆口分配器周邊之以弧度表示之旋旋轉角度度依循數學關係式

其中r_pd係以毫米表示之澆口分配器半徑，且θ係繞澆口所佔據之澆口分配器周邊之以弧度表示之旋旋轉角度度。

4)就一既定孔而言，距內口壁-澆口分配器交點及外口壁-澆口分配器交點之弧長等於r_pd乘以θ，並依循關係式

4πr_b＞nr_pd(θ)＞1.3πr_b

其中r_b係管孔半徑，n係出口數，r_pd係澆口分配器半徑，且θ係繞澆口所佔據之澆口分配器周邊之以弧度表示之旋旋轉角度。

孔之內口壁與外口壁間之展開角度γ依循以下關係：

π/2＞γ＞0

其中弧度以γ表示。

6)澆口高度以以下關係表示：

3πr_b ²＞hna＞0.5πr_b ²

其中r_b係管孔半徑，h係出口高度，n係出口數，且a係入口之寬度。就絕對值而言，本發明實施例使用具有等於或大於8 mm之出口高度之出口，俾有助於製造本發明之澆注管，並促進液態金屬之可鑄造性。

7)若在橫剖面中無從澆口分配器之縱軸，經出口，到澆注管外部之直線，繞出口所佔據之澆口分配器周邊之角度θ以以下關係表示：

θ＜arccos r_ex/r_pd

或者澆注管配置配置成：

a＜r_pd(r_ex-r_pd)/r_ex

其中，a為入口之寬度，r_pd係澆口分配器半徑，r_ex係澆口分配器之橫剖面中的澆注管半徑。就絕對值而言，本發明實施例使用具有等於或大於8 mm之出口高度之出口，俾有助於製造本發明之澆注管，並促進液態金屬之可鑄造性。

8)出口在外部無本發明之其他元件阻礙；在出口外部無本發明之構件之任何部分，且其中該部分與出口之橫剖面之向外突出部相交。

於顯示幾何函數關係之本發明之一實施例中，澆注管具有四個孔(n=4)。孔徑r_b為20mm，且澆口分配器半徑r_pd為25mm。θ之最小角度由下式求出。

θ=2asin((8/(2r_pd)))=2asin((8/(2×25)))=47.1度

就四個孔而言，距內口壁-澆口分配器與外口壁之交點-給定孔之澆口分配器交點之適當弧長範圍由以下推出：

4π(20)＞4(25)(θ)＞1.3π(20)

144度＞(θ)＞46.8度

於本發明之一圖示之實施例中，澆注管具有四個孔(n=4)。管孔半徑r_b為20mm，且澆口分配器半徑r_pd為40mm。θ之最小角度由下式求出。

θ=2asin((8/(2r_pd)))=2asin((8/(2×40)))=36.87度

就四個孔而言，距內澆口壁-澆口分配器與外口壁之交點-給定孔之澆口分配器交點之適當弧長範圍由以下推出：

4π(20)＞4(40)(θ)＞1.3π(20)

90度＞θ＞26.7度

於本發明之特定實施例中，澆口分配器之徑向範圍與管孔之半徑相差2.5mm，相差大於2.5mm、5mm或大於5mm的值。於本發明之特定實施例中，澆口分配器之徑向範圍較管孔之半徑大25%，或至少25%。

出口數、澆口分配器之增大徑向範圍、出口外壁之偏位配置、入口之寬度、就一既定孔而言，距內澆口壁-澆口分配器交點及外澆口壁-澆口分配器交點之弧長、孔壁之展開角度、孔高、以及水平面中自澆口分配器之縱軸經出口至澆注管之直線之缺乏，單獨地或組合地在流體經出口向外流出時，繞出口軸產生流體渦流。相對於習知之設計，澆口幾何造成流經出口之流體之噴射動量減少。因此，若本發明之澆注管置於模中，與模壁接觸之噴流之強度即減小。在矩形模及圓形模中觀察到該噴射強度的減少。此外，本發明之澆注管提供較習知澆注管更小的出口速度對入口速度比。於圓形和矩形模中，本發明之四澆口澆注管可產生1.04、1.03、1.00或更小的平均出口速度對入口速度比。於圓形和矩形模中，本發明之六澆口澆注管可產生0.73或更小的平均出口速度對入口速度比。本發明之澆注管於出口內及外產生彎曲流體路徑。具有四澆口及六澆口之澆注管產生均一及均勻分布之渦流速度。

本發明可作若干修改及變更。因此，須知，在以下申請專利範圍內，可用異於具體說明之方式實施。

10．．．澆注管

12．．．入口

14．．．出口

16．．．管孔

18．．．澆口分配器

20．．．縱軸

24．．．澆口分配器徑向範圍

28．．．外表面

30．．．管孔徑向範圍

38．．．澆注管底面

40．．．內口壁

42．．．外口壁

62．．．座插件

64．．．下座插件

66．．．懸索套筒

68．．．絕緣纖維

90．．．澆注管之一部分

92．．．投影線

94．．．水平投影線

108．．．口展開角度

110．．．水平方向

112．．．口軸

114．．．角度

116．．．角度

120．．．管孔半徑

122．．．澆口分配器半徑

124．．．旋旋轉角度度

128．．．口寬度

132．．．入口線

134．．．出口角度

142．．．壁厚

144．．．澆口分配器外徑

146．．．出口線

150,180．．．熔流總成

182．．．口高度

第1圖顯示本發明之澆注管實施例沿縱剖面之剖視圖。

第2圖顯示第1圖所示本發明之澆注管實施例沿橫剖面之A-A剖線剖視圖。

第3圖顯示本發明之澆注管實施例沿縱面之剖視圖。

第4圖顯示第3圖所示本發明之澆注管實施例沿橫剖面之A-A剖線剖視圖。

第5圖顯示本發明實施例之澆注管一部分之立體圖。

第6圖顯示沿橫切澆口分配器之平面剖視之本發明澆注管實施例之立體圖。

第7圖顯示本發明澆注管實施例之側另一視角立體圖。

第8圖顯示用來說明本發明澆注管之澆口分配器及出口之俯視圖。

第9圖顯示本發明澆注管實施例之澆口分配器之內壁自底部起之立體圖。

第10圖顯示用來描述本發明澆注管之澆口分配器及出口之幾何形狀之圖式。

第11圖顯示本發明澆注管實施例之澆口分配器之內表面之另一視角立體圖。

20．．．縱軸

24．．．澆口分配器徑向範圍

28．．．外表面

30．．．管孔徑向範圍

40．．．內口壁

42．．．外口壁

90．．．澆注管之一部分

92．．．投影線

94．．．水平投影線

108．．．口展開角度

Claims (17)

1. 一種澆注管，用於壓鑄從上游位置至下游位置之熔融金屬流，該澆注管具有澆注管中心縱軸，並包括界定流體連通之管孔與澆口分配器之外表面，以及具有至少二出口之外表面，其中每個出口具有筆直的中心縱軸，其中該等出口與該澆口分配器流體連通，其中該澆口分配器位於該管孔之下游，且該澆口分配器具有相對於縱軸較該管孔更大之半徑，且其中該等出口的該等中心縱軸未與該澆注管中心縱軸相交，且其中該等出口包括內壁和外壁，其與該澆口分配器和該外表面連通，其中該外壁具有較內壁大的長度，其中該等出口以繞該澆口分配器周邊的旋轉角度θ規則分隔，其中該等出口具有至少2r_pd sin(θ/2)²之澆口寬度，其中r_pd係該澆口分配器半徑，且θ係繞該澆口所佔據之該澆口分配器周邊之旋轉角度，其以弧度表示。
2. 如申請專利範圍第1項之澆注管，其中該澆口分配器之半徑係小於該管孔之半徑的兩倍。
3. 如申請專利範圍第1項之澆注管，其中該等出口之外壁之橫突起不與該管孔相交。
4. 如申請專利範圍第1項之澆注管，其中該等出口之外壁之橫突起不與該管孔之縱突起相交。
5. 如申請專利範圍第1項之澆注管，其中該等出口之外壁正切與該管孔之同心之圓，並具有較該管孔大的半徑。
6. 如申請專利範圍第1項之澆注管，其中該等出口之外壁正切該澆口分配器。
7. 如申請專利範圍第1項之澆注管，其中該等出口配置成4πr_b>nr_pd(θ)>1.3πr_b，其中r_b係管孔半徑，n係出口數，r_pd係澆口分配器半徑，且θ係該繞孔所佔據之該澆口分配器周邊之旋轉角度，其以弧度表示。
8. 如申請專利範圍第1項之澆注管，其中該等出口具有在橫剖面中正交於該澆注管的該縱軸之非零展開口角度，其等於或小於θ/2，其中，θ係繞該澆口所佔據之該澆口分配器周邊之旋轉角度，其以弧度表示。
9. 如申請專利範圍第1項之澆注管，其中該等出口配置成3πr_b ²>hna>0.5πr_b ²，其中r_b係管孔半徑，h係出口高度，n係出口數，且a係澆口入口之寬度。
10. 如申請專利範圍第1項之澆注管，其中該外表面具有四個澆口。
11. 如申請專利範圍第1項之澆注管，其中該外表面具有六個澆口。
12. 如申請專利範圍第1項之澆注管，其中該外表面具有五個澆口。
13. 如申請專利範圍第1項之澆注管，其中繞該澆注管周邊之至少一澆口具有中心縱軸，其朝向正交於該澆注管的該縱軸之水平面上方。
14. 如申請專利範圍第1項之澆注管，其中繞該澆注管周邊之至少一澆口具有中心縱軸，其朝向正交於該澆注管的該縱軸之水平面下方。
15. 如申請專利範圍第1項之澆注管，其中繞該澆注管周邊之至少一澆口具有中心縱軸，其朝向正交於該澆注管的該縱軸之水平面下方之軸，且其中繞該澆注管周邊之至少一澆口具有中心縱軸，朝向正交於該澆注管的該縱軸之水平面上方。
16. 如申請專利範圍第1項之澆注管，其中該澆口分配器之相對於該縱軸的直徑係大於該管孔之整體長度的半徑。
17. 如申請專利範圍第1項之澆注管，其中每個出口的該內壁係被屏蔽而與該澆口分配器的該縱軸隔開。