TWI558419B - 用於降低或減少牙齒敏感性之口腔保健組成物 - Google Patents
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Description
本申請案乃是2008年12月18日所提申之美國專利申請案第12/338,598號的部分接續申請案,其為2008年4月16日所提申之美國專利申請案第12/103,919號的部分接續申請案,後者又為2007年4月30日所提申之美國專利申請案第11/742,039號的部分接續申請案,上述各件申請案的完整內容係被納入於此以供參照。
本發明包括一種用於降低及/或減少牙齒敏感之感覺的口腔保健組成物。該組成物包括一黏附材,且部分地包括具有2-5微米之顆粒尺寸的顆粒。本發明之範圍內亦包括數種包含這些組成物之應用的方法,諸如用於降低牙齒敏感性的方法。
牙本質(Dentin)是牙齒中位於琺琅質(enamel)和齒堊質(cementum)內部的一個部分,其由於大量被稱作為牙本質小管的細微管道或小管而具有放射狀溝紋的外觀。這些小管從牙髓腔延伸至牙本質週邊,且通常在其基部處直徑約為2微米,而於其週邊處略窄。由於這些小管通常被琺琅質或齒堊質所覆蓋,所以通常不會被暴露於口腔環境中。至於齒堊質則通常由牙齦覆蓋。
根據一般了解,部分地或完全地被暴露出之小管會導致牙齒敏感,此乃是一種刺激且疼痛的病況。在這個理論中,牙齦線的後退會暴露出齒堊質而造成侵蝕。受到侵蝕的齒堊質轉而暴露出中空的牙本質小管。因為牙齒內外的物質和能量移轉係經由這些小管來加速,所以被暴露出之小管會致使位於牙齒內部的神經格外地受到口部外來刺激的影響。諸如熱、冷、化學品以及物理和機械性壓力等尋常環境刺激,或諸如刷牙等的刺激,皆會經由開放性牙本質小管而刺激神經,從而產生疼痛。敏感性牙齒的疼痛似乎是從這些刺激所導致,這些刺激顯然會導致牙本質小管內的流體移動,而活化牙髓神經末梢。
傳統上已採用兩種手段來治療或改善牙齒敏感。在一種手段中,藉由施用各種藥劑來改變神經附近的化學環境,以使得神經不會受到刺激或是不會受到劇烈的刺激。供用於此種化學手段的習知藥劑包括鉀鹽(諸如硝酸鉀、碳酸氫鉀、氯化鉀)以及鍶、鋅鹽以及氯鹽。
第二種手段涉及神經的機械性遮蔽,諸如藉由以「小管阻斷劑」來完全地或部分地阻斷牙本質小管。先前技術中已揭露的藥劑包括諸如陽離子性氧化鋁、黏土、水可溶性或水可膨脹性聚電解質、草酸鹽、非晶形磷酸鈣、羥基磷灰石、順丁烯二酸共聚物和聚乙烯顆粒。
然而,由於化學和機械性手段二者均需要將一或多種額外的物質納入潔齒劑中,所以它們可以在技術上或是成本增加上導致調配的困難點。緣此,本項技術中需要一種潔齒劑,使用後可預防或降低牙齒敏感,而不會帶來顯著的加工或調配缺點。
本發明包括一種口腔保健組成物,其包含一黏附材以及氧化矽顆粒,其中該口腔保健組成物提供一不超過受蝕牙本質之流體流速之約45%的流體流速。在一態樣中,組成物包含具有為3 μm至5 μm之顆粒尺寸分佈(PSD)的氧化矽顆粒。在另一態樣中,組成物包含具有為3 μm至5 μm之顆粒尺寸中間值的氧化矽顆粒。在另一態樣中,該組成物包含具有為3 μm至5 μm之平均顆粒尺寸的氧化矽顆粒。在本發明之一態樣中,組成物包含具有為2 μm至5 μm之顆粒尺寸分佈(PSD)的氧化矽顆粒。在另一態樣中,組成物包含具有為2 μm至5 μm之顆粒尺寸中間值的氧化矽顆粒。在另一態樣中,該組成物包含具有為2 μm至5 μm之平均顆粒尺寸的氧化矽顆粒。在另一態樣中,組成物包含具有為2.7 μm至4.0 μm之平均顆粒尺寸的氧化矽顆粒。在另一態樣中,組成物包含一群氧化矽顆粒,該等氧化矽顆粒具有選自於由2 μm、2.5 μm、3 μm、3.5 μm、4 μm、4.5 μm和5 μm所構成之群組中的顆粒尺寸,其中該群氧化矽顆粒包含於該口腔保健組成物內至少20%的總體氧化矽顆粒。在另一態樣中,組成物包含具有為3 μm至5 μm之顆粒尺寸中間值、為1.5 μm至3 μm之d10,以及為6 μm至11 μm之d90的氧化矽顆粒。在另一態樣中,組成物包含具有為2 μm至4 μm之顆粒尺寸中間值、為0.5 μm至2 μm之d10,以及為5 μm至10 μm之d90的氧化矽顆粒。
在本發明之一態樣中,一組成物包含有氧化矽顆粒,其中該組成物具有至少20%之累進顆粒尺寸體積分數3.95 μm(AUC 3.95),以及其中該口腔保健組成物提供不超過受蝕牙本質之流體流速之約45%的流體流速。在另一態樣中,一組成物包含有氧化矽顆粒,其中該等氧化矽顆粒包含一群具有至少40%之累進顆粒尺寸體積分數(AUC 3.95)的氧化矽顆粒起始材料,其中該口腔保健組成物提供不超過受蝕牙本質之流體流速之約45%的流體流速。
在一態樣中,一組成物中的氧化矽顆粒的孔隙度為低於0.45 cc/g呈600埃或更小之孔隙。
在一態樣中,在一組成物中之黏附材是一種具有界於100,000和2,500,000之間(包括限值在內)之數目平均分子量的聚合物。在一態樣中,該黏附材係選自於由下列所構成的聚合物:聚乙烯膦酸、聚(1-膦酸基丙烯)磺酸、聚(β-苯乙烯膦酸)、α-苯乙烯膦酸、合成陰離子性聚合物型聚羧酸酯、順丁烯二酸酐、順丁烯二酸以及甲基乙烯基醚。在另一態樣中,該黏附分子是一種由甲基乙烯基醚和順丁烯二酸酐所構成的聚合物。
在本發明之一態樣中,組成物係被調配成選自於嗽洗劑、糊劑、凝膠、膠、可溶性菱錠(dissolvable lozenge)和膜片的形式。在另一態樣中,該組成物被調配成選自於可溶性膜片的形式。
在本發明之一態樣中,一組成物包含非氧化矽型去敏劑。在一態樣中,該去敏劑係選自於由硝酸鹽、精胺酸酯、碳酸氫鹽、硝酸鉀、氯化鉀、精胺酸-碳酸氫鹽-植酸鹽(phytate)複合物、檸檬酸鉀和精胺酸所構成之群組中。
在一態樣中,一組成物另包含殺細菌劑。在一態樣中,組成物另包含2,4,4’-三氯-2’-羥基二苯醚。
在一態樣中,組成物另包含選自於化學性增白劑、不透明性增白劑和抗牙菌斑劑的藥劑。在一態樣中,組成物另包含界面活性劑系統,該系統包含月桂基硫酸鈉和椰油醯基乙磺酸鈉(tauranol)。在一態樣中,界面活性劑系統係基本上由月桂基硫酸鈉和椰油醯基乙磺酸鈉呈為1:5至1:3的比例所組成。
在一態樣中,一組成物另包含一選自於下列者之藥劑:亞錫離子劑;氟化物;氟化鈉;雙氯苯雙胍己烷(chlorhexidine);己聯雙辛胍(alexidine);雙辛氫啶(hexetidine);血根鹼(sanguinarine);氯化烷基二甲基苄銨(benzalkonium chloride);水楊醯苯胺(salicylanilide);度米芬(domiphen bromide);十六烷基氯化吡啶(CPC);十四烷基氯化吡啶(TPC);N-十四烷基-4-乙基氯化吡啶(TDEPC);奧替尼啶(octenidine);地莫匹醇(delmopinol);辛哌醇(octapinol);乳酸鏈球菌素(nisin);鋅離子劑;銅離子劑;精油;呋喃酮;細菌素(bacteriocins)、月桂醯精胺酸乙酯、木蘭花萃出物、金屬離子源,精胺酸碳酸氫鹽、和厚朴酚(honokiol)、厚朴酚(magonol)、熊果酸(ursolic acid)、胹酸(ursic acid)、桑色素(morin)、沙棘萃出物、過氧化物、酵素、茶花萃出物(Camellia extract)、類黃酮、黃烷(flavan)、鹵化二苯醚、肌酸以及蜂膠。
在一態樣中,本發明提供數種用於降低牙齒敏感性的組成物和方法。在一態樣中,一種用於降低牙齒敏感性的方法係包含將在此所提供之口腔保健組成物施加於哺乳動物牙齒的表面。在另一態樣中,一種用於降低牙齒敏感性的方法係包含將本案申請專利範圍第1項之口腔保健組成物施加於哺乳動物牙齒的表面,其中該黏附材係選自於由聚乙烯膦酸、聚(1-膦酸基丙烯)磺酸、聚(β-苯乙烯膦酸)、α-苯乙烯膦酸、合成陰離子性聚合物型聚羧酸酯、順丁烯二酸酐、順丁烯二酸和甲基乙烯基醚所構成的聚合物。在一態樣中,一種用於降低牙齒敏感性的方法係包含將在此所提供之口腔保健組成物施加於哺乳動物牙齒的表面,其中該等顆粒的孔隙度為低於0.45 cc/g呈600埃或更小之孔隙。
在一態樣中係提供一種方法以供用於保護牙本質免於酸調控型降解作用,該方法包含將在此所提供之口腔保健組成物施加於哺乳動物牙齒的表面。
在另一態樣中係提供一種方法以維持或增進哺乳動物的全身性健康,包含將一組成物施加於哺乳動物的口腔表面至少每日一次且歷時一段持續的時間,其中該組成物包含在此所提供之一口腔保健組成物,其中該等氧化矽顆粒係以為5重量%或更高的含量存在於該組成物中,以及選自於下列者的藥劑:三氯生(triclosan);三氯生單磷酸酯(triclosan monophosphate);雙氯苯雙胍己烷;己聯雙辛胍;雙辛氫啶;血根鹼;氯化烷基二甲基苄銨;水楊醯苯胺;度米芬;十六烷基氯化吡啶(CPC);十四烷基氯化吡啶(TPC);N-十四烷基-4乙基氯化吡啶(TDEPC);奧替尼啶;地莫匹醇;辛哌醇;乳酸鏈球菌素;鋅離子劑;銅離子劑;精油;呋喃酮;細菌素、月桂醯精胺酸乙酯、木蘭花萃出物、金屬離子源、精胺酸碳酸氫鹽、和厚朴酚、厚朴酚、熊果酸、胹酸、桑色素、沙棘萃出物、過氧化物、酵素、茶花萃出物、類黃酮、黃烷、鹵化二苯醚、肌酸以及蜂膠。
亦包括一種用於將牙本質小管封堵於哺乳動物牙齒之表面內的方法,其包含將一種含有一黏附材和一種氧化矽顆粒的組成物施加於該牙齒表面,該氧化矽顆粒具有不大於牙本質小管的顆粒尺寸中間值。在一態樣中,一種用於將牙本質小管封堵於哺乳動物牙齒之表面內的方法,其包含將在此所提供之組成物施加於該牙齒表面。在一態樣中,施加方法是一種除了刷擦該牙齒表面以外的方法。在另一態樣中係提供一種在少於一日內使牙齒去敏感化的方法,該方法包含將在此所提供之組成物施加於該牙齒表面。
本發明包括一種用於增進牙齒之鉀通量的方法,該方法包含將在此所提供之組成物施加於該牙齒表面。亦包括一種增進既有含鉀去敏感潔齒劑之鉀通量的方法,該方法包含將在此所提供之一組成物施加於該牙齒表面。在一態樣中,一種用於增進既有含鉀去敏感潔齒劑之鉀通量的方法係包含將在此所提供之組成物施加於該牙齒表面,其中該組成物係在該既有潔齒劑施加於該牙齒之前施加、在該既有潔齒劑施加於該牙齒時同時施加、在該既有潔齒劑施加於該牙齒時同時且與該既有潔齒劑配成混合物進行施加,或是藉由此等方式之任何組合進行施加。
在此所述發明包括口腔保健組成物,其含有少(a)一黏附材以及(b)一種氧化矽顆粒。該氧化矽顆粒可具有不大於牙本質小管的平均顆粒尺寸,抑或是任擇地可具有為8微米或更低的顆粒尺寸中間值。這些顆粒可呈5重量%或更高的含量而存在。該等組成物可含有額外的治療性和非治療性成份,且亦可供用於實行多種方法,這些方法均落於本發明的範圍內。舉例而言,這些位於本發明的範圍內的組成物和方法可供用於降低或消除哺乳動物的牙齒敏感性、改善/維持全身性健康及/或封堵牙本質小管。
顆粒尺寸分佈係運用具馬文Mastersizer 2000型顆粒尺寸分析儀(Malvern Particle Size Analyzer,Model Mastersizer 2000)(或是類似型號)(Malvern Instruments,Inc.,Southborough,MA)來進行測量,其中令氦-氖氣體雷射光束放射通過一透明腔室,該透明腔室含有氧化矽,例如懸浮於水性溶液內的氧化矽水溶膠顆粒。撞擊到該等顆粒的光束與顆粒尺寸成反比的角度散射。光檢測器在數個預定角度上測量光量。隨後藉由一微電腦系統處理與所測得之光通量值成正比的電訊號,對照於由樣品和水性分散劑之折射率所定義之理論粒子所預測的圖形,以測定諸如氧化矽水溶膠的顆粒尺寸分佈。咸明瞭,其他用於測量顆粒尺寸的方法亦為本項技藝所熟知,且基於本說明書所揭露之內容,於所屬技術領域中具有通常知識者將可明瞭如何計算本發明之氧化矽顆粒的顆粒尺寸中間值、平均顆粒尺寸及/或顆粒尺寸分佈。
氧化矽和氧化矽組成物。在一態樣中,適用於本發明之口腔用組成物的氧化矽顆粒包括諸如具有為3至4微米之顆粒尺寸分佈,或是任擇地具有為5至7微米之顆粒尺寸分佈,任擇地具有為3至5微米之顆粒尺寸分佈,任擇地具有為2至5微米之顆粒尺寸分佈,抑或是任擇地具有為2至4微米之顆粒尺寸分佈的氧化矽顆粒。
落於本發明範圍內的口腔用組成物亦包括數個具有不大於哺乳動物牙本質小管之平均直徑的顆粒尺寸中間值之顆粒,以使得一或多個顆粒能夠被放入(lodge)小管內,從而影響所感受到的牙齒敏感性之降低或消除。
在一態樣中,適用的氧化矽顆粒可具有諸如為8微米或更低的顆粒尺寸中間值,任擇地具有為3至4微米的顆粒尺寸中間值,任擇地具有為5至7微米的顆粒尺寸中間值,任擇地具有為3至5微米的顆粒尺寸中間值,任擇地具有為2至5微米的顆粒尺寸中間值,抑或是任擇地具有為2至4微米的顆粒尺寸中間值。
在一具體例中,一種氧化矽顆粒具有為2.0微米之顆粒尺寸。在另一具體例中,一種氧化矽顆粒具有為2.5微米之顆粒尺寸。在另一具體例中,一種氧化矽顆粒具有為3.0微米之顆粒尺寸。在另一具體例中,一種氧化矽顆粒具有為3.5微米之顆粒尺寸。在另一具體例中,一種氧化矽顆粒具有為4.0微米之顆粒尺寸。在另一具體例中,一種氧化矽顆粒具有為4.5微米之顆粒尺寸。在另一具體例中,一種氧化矽顆粒具有為5.0微米之顆粒尺寸。在本發明之一態樣中,該氧化矽顆粒尺寸為顆粒尺寸中間值。在另一態樣中,該氧化矽顆粒尺寸為一平均(平均值)顆粒尺寸。在一具體例中,該氧化矽顆粒係包含於含氧化矽顆粒組成物內之總體氧化矽顆粒的至少5%、至少10%、至少15%、至少20%、至少25%、至少30%、至少35%或是至少40%。
在本發明之一態樣中,一種氧化矽具有以下列參數為特徵的顆粒尺寸:為約2 μm至約4 μm之顆粒尺寸中間值、為約0.5 μm至約2 μm之d10以及為約5 μm至約10 μm之d90。在此所使用的d10意指顆粒具有為取樣族群之10%閾值的直徑(亦即,該族群中有10%係等於或小於該d10值),以及d90意指顆粒具有為取樣族群之90%閾值的直徑(亦即,該族群中有90%係等於或小於該d90值)。在另一態樣中,一種氧化矽具有以下列為特徵的顆粒尺寸:一為約3 μm至約5 μm之顆粒尺寸中間值,一為約1.5 μm至約3 μm之d10以及一為約6 μm至約11 μm之d90。
在本發明的另一態樣中,於含氧化矽潔齒劑內的氧化矽中至少一部分具有3.95 μm之d50(亦即,該氧化矽顆粒族群中有50%係等於或小於該d50值)。Sorbosil AC43型氧化矽具有3.95 μm之d50。藉由一非限制性實例,該d50係運用在此所敘述的顆粒尺寸測量技術來測定(例如MALVERN MASTERSIZER)。在一具體例中,藉由一顆粒尺寸測量法所測得之曲線(AUC)的下方面積來進行判定,一含氧化矽潔齒劑係具有一位於或低於3.95 μm的顆粒族群。如在此所使用者,「AUC 3.95」此用語意指顆粒的累進體積分數3.95 μm。藉由一非限制性實例,一組成物中具有20%之顆粒3.95 μm被稱為具有為20%的累進顆粒尺寸體積分數(AUC 3.95)。
在一具體例中,本發明的含氧化矽潔齒劑具有一最少為18%的AUC 3.95數值。在另一具體例中,本發明的含氧化矽潔齒劑包含最少為20%的AUC 3.95數值。在另一具體例中,本發明的含氧化矽潔齒劑包含最少為22%的AUC 3.95數值。在另一具體例中,本發明的含氧化矽潔齒劑具有最少為24%的AUC 3.95數值。在另一具體例中,本發明的含氧化矽潔齒劑具有最少為26%的AUC 3.95數值。在另一具體例中,本發明的含氧化矽潔齒劑具有最少為30%的AUC 3.95數值。
在另一具體例中,本發明的含氧化矽潔齒劑包含具有為至少40%之AUC 3.95數值的氧化矽起始材料。在另一具體例中,本發明的含氧化矽潔齒劑包含具有為至少42%之AUC 3.95數值的氧化矽起始材料。在另一具體例中,本發明的含氧化矽潔齒劑包含具有為至少45%之AUC 3.95數值的氧化矽起始材料。在另一具體例中,本發明的含氧化矽潔齒劑包含具有為至少50%之AUC 3.95數值的氧化矽起始材料。在本發明之一態樣中,一種氧化矽起始材料為一種小顆粒氧化矽。
在本發明之一態樣中,該等氧化矽顆粒的孔隙度為低於0.45 cc/g呈約600埃或更小之孔隙。
在一具體例中,該氧化矽一種INEOS(現為PQ Corp.)的Sorbosil AC43型氧化矽。在一具體例中,AC43型氧化矽具有但不限於下列性質:2.7-4.0微米的平均顆粒尺寸(如藉由MALVERN MASTERSIZER所測定者)、+45 μm的篩餘物、在105℃下最高為8.0%的水份損耗率、在1000℃下最高為14.0%的燒灼損耗率,以及在水性懸浮液中為5.5-7.5的pH值。
在一具體例中,該等氧化矽顆粒最初在組成物中即具有所欲顆粒尺寸,或是最初在組成物中呈較大的尺寸,只要顆粒的結構可致使其能夠藉由諸如牙刷刷擦時施加機械力而破裂或崩解成為所希望的顆粒尺寸即可。
該氧化矽顆粒可藉由所屬技術領域中已被知悉或爾後才發展出的任何手段來製備,若有需要亦可經表面改性,以增進顆粒黏附至牙齒表面的能力。實例可見於諸如美國專利申請案第11/271,306號,該份文獻的內容係納入於此以供參照。該氧化矽顆粒係以總體組成物重量的5%或更高之含量而存在於組成物中。任擇地,該氧化矽顆粒係呈5重量%、6重量%、7重量%、8重量%、9重量%、10重量%、15重量%、20重量%或25重量%的含量。
任何研磨劑微粒均可供運用,且可選自於碳酸氫鈉、磷酸鈣(例如二水磷酸二鈣)、硫酸鈣、沈澱型碳酸鈣、氧化矽(例如,水合氧化矽)、氧化鐵、氧化鋁、珍珠岩、諸如聚乙烯等塑膠顆粒以及此等之組合。特別是,該研磨劑可選自於磷酸鈣(例如二水磷酸二鈣)、硫酸鈣、沈澱型碳酸鈣、氧化矽(例如,水合氧化矽)、焦磷酸鈣以及組合。任何類型的氧化矽均可供運用,諸如沈澱型氧化矽或矽膠。在一具體例中,商業上可購得的氧化矽可供運用,諸如在此所述可從英國公司Ineos Silicas,Warrington所購得的INEOS AC43。在一具體例中,如在此所詳述,一種氧化矽係具有為3 μm至5 μm的顆粒尺寸中間值。在另一具體例中,如在此所詳述,一種氧化矽及/或含氧化矽口腔用組成物提供不高於受蝕牙本質流體流速之約45%的流體流速。
依據本發明,多種研磨劑可供運用。在此所詳述有一種包含氧化矽顆粒的研磨劑。另一類型的研磨劑為粉化氧化矽,特別是美國專利第3,538,230號中所定義的氧化矽乾凝膠。此外,如美國專利第4,358,437號中所述,呈研磨劑形式的粉化形式碳酸鈣是另一類型的研磨劑。
聚 合物和黏附材。本發明的口腔用組成物亦包括一黏附材。該黏附材可為本技術領域中已被知悉或爾後才發展出的任何黏附材,其接合於哺乳動物牙齒表面及/或接合於亦可存在於牙齒表面上的異質生物性薄膜。接合作用可藉由任何手段而發生,諸如離子交互作用、凡得瓦爾力、疏水性-親水性交互作用等。該黏附材可諸如為甲殼素(chitosan)、幾丁質(chitin)、膠或海洋性膠體(marine colloid)。另一種被思及的黏附材包括黏附至牙齒表面的任何均聚物或共聚物(以下總稱為「聚合物」)。這些聚合物可包括聚(環氧乙烷)聚合物(諸如得自於陶氏化學(Dow Chemical)的POLYOX)、線性PVP和交聯型PVP、PEG/PPG共聚物(諸如BASF Pluracare L1220)、酯膠、蟲膠(shellac)、壓敏型聚矽氧黏著劑(諸如得自於Dow-Corning的BioPSA)、甲基丙烯酸酯或此等之混合物。在一具體例中,一共聚物包含聚(甲基乙烯基醚/順丁烯二酸酐)。在另一具體例中,一共聚物包含聚(甲基乙烯基醚/順丁烯二酸)。在另一具體例中,一共聚物包含聚(甲基乙烯基醚/順丁烯二酸)半酯。在另一具體例中,一共聚物包含聚(甲基乙烯基醚/順丁烯二酸)混合鹽。
具有任何分子量的聚合物均可供運用,包括具有諸如50,000至500,000、500,000至2,500,000或是2,500,000至10,000,000之分子量(由數目平均或重量平均所計算出者)。在一具體例中,聚合物具有為130,000的分子量。在一具體例中,聚合物具有為200,000的分子量。在一具體例中,聚合物具有為690,000的分子量。在一具體例中,聚合物具有一為1,000,000的分子量。在一具體例中,聚合物具有為1,250,000的分子量。在一具體例中,聚合物具有為1,980,000的分子量。在一具體例中,聚合物具有為2,500,000的分子量。在另一具體例中,一聚合物具有為5,000,000的分子量。
在一具體例中,一甲基乙烯基醚和順丁烯二酸酐所構成的共聚物可呈為1:4至4:1之單體比例而供運用。可供應用作為黏附材的其他聚合物包括美國專利公開案第2006/0024246號中所載述者,該份文獻的內容係納入於此以供參照。
商業上可購得的聚合物可供用於本發明中。咸了解,商業上可購得之聚合物的準確尺寸、重量及/或組成會隨著時間而變化。依據在此所提供的揭露內容,所屬技術領域中具有通常知識者會明瞭如何判定這些聚合物是否可供用於本發明。
牙本質傳導性評鑑法:如牙本質傳導性測驗過程所測定者,經本發明之組合所處理的牙本質會產生不大於受蝕牙本質之流速值之45%、25%、20%、15%或10%的流體流速。
牙本質傳導性測驗過程:牙齒敏感性的降低係藉由所測得之流體流速的降低而顯示於此,該測得之流體流速為牙本質傳導性的一個量度。
利用一鑽石鋸將拔出的人類臼齒於齒冠和齒根處切斷。將牙髓移除,並穩定地設置所得到的牙本質片段,例如設置在一壓克力塊體上。管道是從形成在位於牙髓腔正下方之壓克力安置塊體的孔洞連接。該牙本質片段連接至用以測量流體流速(導水性)的裝置。請參見Zhang et al.,“The effects of pain free desensitizer on dentine permeability and tubule occlusion over time,in vitro”,Journal of Clinical Periodontol,25(11 Pt 1): 884-91(Nov,1998),該份文獻的內容係納入於此以供參照。
運用檸檬酸來侵蝕牙本質的上表面。通過受蝕牙本質的流體流速係在70 cm的水壓下進行測量。隨後,利用本發明之口腔用組成物以3份去離子水進行稀釋所得到的漿液來處理牙本質表面,並再次測量流體流速。請參見Pashley et al.,“Effects of desensitizing dentifrices in vitro,”J. Periodontol.,55(9): 522-525(Sep,1984)。
在一態樣中,本發明的含氧化矽組成物可使牙齒去敏感化。在另一態樣中,本發明的含氧化矽組成物提供了較既有去敏感潔齒劑更為優越的牙齒去敏感效果。藉由一非限制性實例,本發明的含氧化矽潔齒劑係藉由提供相較於既有潔齒劑或既有去敏感潔齒劑更高的去敏感效果、藉由提供相較於既有潔齒劑或既有去敏感潔齒劑更快速的去敏感效果,抑或是藉由提供除了其他效應以外特別組合提供更高的去敏感效果及更快速的去敏感效果,而提供牙齒去敏感效果。在一具體例中,本發明的含氧化矽組成物係在不存有任何其他的去敏劑的情況下提供了去敏感效果及/或更優異的去敏感效果。在另一具體例中,本發明的含氧化矽組成物提供了去敏感效果及/或更優異的去敏感效果,且如在此所述,可含有一或多種額外的去敏劑。
本發明亦涵蓋數種使用及/或施加含氧化矽去敏感組成物的方法。在一具體例中,含氧化矽組成物可經由既有的刷擦技術(例如,運用牙刷)而施加於牙齒。在另一具體例中,含氧化矽組成物可經由既有的刷擦技術以外的方法而施加於牙齒。其他的施加方法包括人工施加(例如,運用一或多個手指、摩擦牙齒表面、以畫圈動作進行摩擦等方式,而將組成物施加至牙齒),或是運用任何既有的牙科用具或施加器進行施加。依據本說明書的揭露內容可明瞭,任何用以將組成物塗抹在牙齒上且選擇性地應用各種程度之物理壓力的方法,均為本發明所涵蓋。
依據本發明所進行的牙齒去敏感化可藉由在此所述及的任何技術或是所屬技術領域中具有通常知識者所知悉的任何技術來測量。在一具體例中,如在此所詳述,依據本發明的組成物所進行的牙齒去敏感程度可藉由測量鉀通量來確認。
此外,本發明提供數種組成物和方法,以擴大、增進及/或補充運用以鉀為主之去敏感潔齒劑所獲得的去敏感效果。在一態樣中,本發明之組成物係用於封堵牙本質小管,以抑制流體流動向外,同時容許鉀離子向內流入小管內。在另一態樣中,如在此所詳述,本發明提供數種用於致使牙齒去敏感化的組成物和方法,其中去敏感化的程度係藉由在20 cm之牙髓壓力下測量鉀通量來確認。在一具體例中,本發明的組成物在20 cm之牙髓壓力下具有相較於該組成物在零牙髓壓力下所得鉀通量值更高出20%的鉀通量值。
令人意外地發現到,小顆粒氧化矽/聚合物封堵組成物與鉀去敏劑所構成之組合促使鉀朝內傳輸經過牙本質小管。在一具體例中,本發明提供數種組成物和方法,以增進運用既有含鉀潔齒劑施加於牙齒所測得的鉀通量值。此鉀通量變化可如在此所詳述的方式來測定。本發明涵蓋運用既有含鉀潔齒劑時所獲得的任何鉀通量增進,其係藉由共同施加既有含鉀潔齒劑以及本發明之含氧化矽組成物、藉由施加本發明之含氧化矽組成物後再施加一既有含鉀潔齒劑、抑或是藉由施加包含既有含鉀潔齒劑和本發明之含氧化矽組成物的混合物來進行調節。
本發明包括一種用於增進牙齒的一或多個牙本質小管中之鉀通量的方法,該方法包含將在此所述組成物施加至牙齒表面。將組成物施加於牙齒表面致使該組成物導入一或多個牙本質小管內。該組成物係藉由在此所敘述或是先前技術中已知悉的任何方法而施加至牙齒。鉀通量、鉀通量之速率以及鉀通量速率上的變化可如在此所詳述的方式來確認。
本案亦包括一種用於增進既有含鉀去敏感潔齒劑之鉀通量的方法,該方法包含將在此所述組成物施加至牙齒表面。在一態樣中,一種用於增進既有含鉀去敏感潔齒劑之鉀通量的方法係包含將在此所述組成物施加至牙齒表面,其中該組成物係在該既有潔齒劑施加於該牙齒之前施加、在該既有潔齒劑施加於該牙齒時同時施加、在該既有潔齒劑施加於該牙齒時同時且與該既有潔齒劑配成混合物進行施加,或是藉由此等方式之任何組合進行施加。
口腔保健組成物:該口腔保健組成物可包括可視需要而包括任何其他治療用、化妝用及/或美觀用材料。這些實例包括非氧化矽型去敏劑(尤其是硝酸鹽、精胺酸酯、碳酸氫鹽、硝酸鉀、精胺酸-碳酸氫鹽-植酸鹽複合物、檸檬酸鉀以及精胺酸)、化學性增白劑(諸如過氧化物釋放化合物)、不透明性增白劑(諸如羥基磷灰石)以及抗牙菌斑劑。可供納入於本發明之口腔保健組成物的其他選擇包括三氯生;亞錫離子劑;雙氯苯雙胍己烷;己聯雙辛胍;雙辛氫啶;血根鹼;氯化烷基二甲基苄銨;水楊醯苯胺;度米芬;十六烷基氯化吡啶(CPC);十四烷基氯化吡啶(TPC);N-十四烷基-4-乙基氯化吡啶(TDEPC);奧替尼啶;地莫匹醇;辛哌醇;乳酸鏈球菌素;鋅離子劑;銅離子劑;精油;呋喃酮;細菌素、月桂醯精胺酸乙酯、木蘭花萃出物、金屬離子源、精胺酸碳酸氫鹽、和厚朴酚、厚朴酚、熊果酸、胹酸、桑色素、沙棘萃出物、酵素、茶花萃出物、類黃酮、黃烷、鹵化二苯醚、肌酸以及蜂膠。
在此所述口腔保健組成物可被調配成能夠容許該黏附材和顆粒與牙齒表面相接觸的任何傳輸形式。例如,這些組成物可被調配成口部嗽洗劑、糊劑、凝膠、菱錠(可溶解或可咀嚼)、噴劑、膠以及膜片(完全地或部分地可溶解或或不可溶解)。該組成物可含有任何習用的賦形劑或載劑,雖然它們視所選定的劑型或調劑手段而有所變化。賦形劑或載劑可包括諸如濕潤劑、呈色劑、調味劑、甘油、山梨糖醇、木糖醇及/或丙二醇、水或其他溶劑、原膠基質(gum bases)、增稠劑、界面活性劑、鹿角菜膠(鹿角苔)、三仙膠以及羧甲基纖維素鈉、澱粉、聚乙烯吡咯酮、羥乙基丙基纖維素、羥丁基甲基纖維素、羥丙基甲基纖維素和羥乙基纖維素以及非晶形氧化矽。
若有需要,可包含界面活性劑。適用的界面活性劑之實例包括高級脂肪酸單甘油酯單硫酸酯的水溶性鹽,諸如氫化椰子油脂肪酸的單硫酸酯化單甘油酯之鈉鹽;高級烷基硫酸鹽,諸如月桂基硫酸鈉;烷基芳基磺酸鹽,諸如十二烷基苯磺酸鈉;高級烷基磺基乙酸鹽,諸如月桂基磺基乙酸鈉;1,2-二羥基丙磺酸的高級脂肪酸酯;以及低級脂族胺基羧酸化合物的實質飽和高級脂族醯胺,諸如在脂肪酸、烷基或醯基基團中具有12-16個碳者等等。最後提及之醯胺的實例包括N-月桂基肌胺酸,以及N-月桂基、N-肉豆蔻醯基或N-棕櫚醯基肌胺酸的鈉、鉀和乙醇胺鹽。其他化合物包括諸如非陰離性聚氧乙烯界面活性劑,諸如Polyoxamer 407、Steareth 30、Polysorbate 20以及蓖麻油;以及兩性界面活性劑,諸如椰油醯胺基丙基甜菜鹼(tegobaine)以及椰油醯胺基丙基甜菜鹼月桂基糖苷;環氧乙烷與各種含氫化合物所構成的縮合產物,這些含氫化合物可與環氧乙烷進行反應且具有長烴鏈(例如12至20個碳原子的脂族鏈),而這些縮合產物(ethoxamers)含有數個親水性聚氧乙烯部分,諸如聚(環氧乙烷)與脂肪酸、脂肪醇、脂肪醯胺和其他脂肪部分所構成的縮合產物以及與環氧丙烯和聚環氧丙烯所構成的縮合產物。
在一具體例中,該口腔用組成物包括含月桂基硫酸鈉(SLS)和椰油醯基乙磺酸鈉的界面活性劑系統。若有需要,該SLS和椰油醯基乙磺酸鈉可呈為1:5至1:3的比例。
本發明的口腔保健組成物可藉由任何在本技術領域已知的手段來製備。例如,潔齒劑的製備方法係屬已知,諸如在美國專利第3,966,863號、第3,980,767號、第4,328,205號和第4,358,437號中所敘述者,這些文獻的內容係納入於此以供參照。一般而言,在一既有混合機內將任何濕潤劑(例如,甘油、山梨糖醇、丙二醇及/或聚乙二醇)振盪分散於水中。在分散液中加入羧甲基纖維素(CMC)、鹿角菜膠或三仙膠等增稠劑;任何陰離子性聚羧酸酯;任何鹽類,諸如氟化鈉抗齵齒劑;以及任何增甜劑。
將所得混合物施以振盪,直到形成均質凝膠為止。在該凝膠相中添加如TiO2所使用之任何染料,並另添加調節組成物之pH值所需要的任何酸或鹼。將這些組份予以混合,直到獲得均相為止。
隨後,將混合物移轉至高速/真空混合機,其中界面活性劑組份被加入於該混合物中。接著加入所使用的氧化矽。令諸如三氯生等任何水不溶性試劑溶解於即將被納入潔齒劑中的香精油內,並將該溶液隨著界面活性劑加入混合物中,隨後在20至50毫米汞柱的真空下施以高速混合,歷時5至30分鐘。所得產物為一種均質、半固體、可壓擠的糊劑或凝膠產物。
應用方法:本發明亦在其範圍內包括有數種相關方法。例如,本發明在其範圍內包括用於降低和用於封堵哺乳動物牙齒之牙本質小管的方法,用於保護牙本質免於酸調控型降解作用的方法,以及用於降低牙齒敏感性的方法。
這些方法各包括將前述組成物中之任一者施加於牙齒表面的步驟。施加可藉由任何方法進行,只要令該黏附材和顆粒與牙齒表面相接觸即可。施加可藉由刷擦、以牙線施加、預防、刺激、擦拭、漱洗(口腔沖洗)、泡沫體/凝膠及盤中施加、咀嚼、噴灑、塗抹等方式來達成,或是藉由膜片或條帶進行施加。
依據本發明的方法,牙齒敏感性可藉由將本發明的組成物施加至牙齒表面來降低。一組成物可如在此所詳述者係利用一傳統方法進行施加,抑或是藉由任何器具或施加器進行施行,無論其是否通常與牙科應用有關。在一具體例中,運用一或多個人類手指將牙齒敏感性-降低組成物施加於一或多個牙齒。可運用一手指將組成物抹塗於牙齒之表面,或是將組成物施加於牙齒之表面。
任擇地,本發明包括藉由將組成物施加於口腔表面(口腔的硬和軟組織)而增進或維持哺乳動物之全身性健康的方法。供用此一方法的組成物可為前述任一者,但其含有下列至少一者:三氯生;三氯生單磷酸酯;雙氯苯雙胍己烷;己聯雙辛胍;雙辛氫啶;血根鹼;氯化烷基二甲基苄銨;水楊醯苯胺;度米芬;十六烷基氯化吡啶(CPC);十四烷基氯化吡啶(TPC);N-十四烷基-4-乙基氯化吡啶(TDEPC);奧替尼啶;地莫匹醇;辛哌醇;乳酸鏈球菌素;鋅離子劑;銅離子劑;精油;呋喃酮;細菌素、月桂醯精胺酸乙酯、木蘭花萃出物、金屬離子源、精胺酸碳酸氫鹽、和厚朴酚、厚朴酚、熊果酸、胹酸、桑色素、沙棘萃出物、過氧化物、酵素、茶花萃出物、類黃酮、黃烷、鹵化二苯醚、肌酸以及蜂膠。施加可為至少一日一次,縱然每日高達五次較佳,且可持續進行一段時間,諸如一週、高達一年、高達三年或終其一生。
利用表1所載材料和用量以及後述程序製得四種呈糊劑形式的組成物。組成物A是一種對照組組成物,其不含有該特定的氧化矽顆粒。
糖精化鈉和氟化鈉係溶解於水中。三氯生係溶解於調味成份中。
將甘油和丙二醇予以混合。將CMC鈉和Iota型鹿角菜膠予以分散;將二氧化鈦加入混合物中;隨後添加山梨糖醇。將配於水內的糖精化鈉和氟化鈉加入其中,並於49℃下將它混合15分鐘;接著,於49℃下添加該PMV/MA共聚物和氫氧化鈉(50%)(混合5分鐘);整個混合物投入一混合機中,並予以混合;隨後,在完全真空下,高速添加該研磨劑氧化矽和Ineos AC43型氧化矽顆粒。
添加預先混合之調味劑和三氯生以及硫酸鈉粉末,在完全真空下,以中等速度將它混合10分鐘。解除真空,並監控整個批料的均勻度。
運用前述過程來測量應用各個組成物(A-D)所造成之通過牙本質樣品的流體流動。
經組成物C-D(聚合物和小顆粒氧化矽)所處理的牙本質會產生為受蝕牙本質流體流動值5-22%的流體流速,其明顯地低於僅含聚合物的組成物A所得者。針對不含小顆粒氧化矽/聚合物的典型市售潔齒劑所得到的數值為受蝕牙本質之數值的50-100%(參照:Pashley DH et al,Effect of desensitizing dentrifices. J. Periodontol,1984: 55: 522-525)。因此,組成物C-D對於流體流速產生了顯著的降低。
所觀察到的此一傳導性降低是牙齒敏感性降低的一個量度。雖然不希望被任何特定的理論所侷限,但至少由本發明之含氧化矽口腔保健組成物所導致牙本質小管部分的封堵促成了牙齒敏感性的降低。
類似地,相較於經組成物A所處理的受蝕牙本質,經組成物C處理的受蝕牙本質所攝得的共軛焦顯微鏡影像顯示出開放性牙本質小管的明顯封堵/塗覆。此外,由組成物C所造成的封堵性塗覆對於可樂所造成的酸溶蝕具有阻抗性。
就包含有三氯生/共聚物/小顆粒氧化矽/NaF之口腔用組成物在保護牙本質免於酸侵襲上的能力進行檢驗。從拔取之臼齒切出數個人類牙本質塊體,並以指甲油遮蔽之,僅留下咬合面暴露出。測量牙本質的表面積(公分2),將這些塊體予以侵蝕(1分鐘,6%檸檬酸),並置入經磷酸鹽緩衝化之生理食鹽水內(PBS),歷時5分鐘,並施予超音波振盪。將數個呈一式二份形式的牙本質塊體分成三組,並以PBS、既有潔齒劑或在此所敘述之測驗潔齒劑處理1分鐘,該測驗潔齒劑包含三氯生/共聚物/小顆粒氧化矽/NaF,其中該氧化矽顆粒尺寸分佈介於2 μm和8 μm之間。既有潔齒劑以及依據本發明之測驗潔齒劑均含有1100 ppm NaF。將這些牙本質塊體予以潤洗,並於PBS內培育30分鐘。令該循環重覆總共進行6次處理,接著再於6%檸檬酸中進行3分鐘的酸挑戰。運用原子吸收光譜法來分析該檸檬酸挑戰溶液的溶解性鈣濃度。
牙本質塊體的所有3個處理組在每平方公分的鈣損失上存在統計學差異(p<0.05,單因子變異數分析,涂基氏T-測驗(p<0.05,one-way ANOVA,Tukey’s T-test)),而經本發明之三氯生/共聚物/小顆粒氧化矽/NaF口腔用組成物所處理的牙本質展現出最低量的鈣損失(請參見表3)。
相較於被既有氟化物潔齒劑所處理的牙本質,經本發明之三氯生/共聚物/小顆粒氧化矽/NaF口腔用組成物所處理的牙本質對於酸侵襲提供了明顯較佳的保護作用。
對於三氯生/共聚物/小顆粒氧化矽/NaF潔齒劑之降低過敏有效性的臨床研究
此一歷時8週之雙盲平行組別臨床研究的目標在於探討在氧化矽基質內含有0.3%三氯生、2.0%聚甲基乙烯基醚/順丁烯二酸酐(PMV/MA)共聚物、小顆粒氧化矽和0.243%氟化鈉的潔齒劑在降低牙本質過敏上的有效性。
遵循一基準過敏性檢驗,將82位合格成人隨機分成二個處理組以比較對於觸覺和噴氣刺激的過敏分數:(1)在氧化矽基質內含有0.3%三氯生、2.0% PMV/MA共聚物、小顆粒氧化矽和0.243% NaF的潔齒劑(測驗潔齒劑);以及(2)在氧化矽基質內含有0.243% NaF的既有商業上可購得之非去敏感潔齒劑(對照組潔齒劑)。這些個體受指示僅運用指定的潔齒劑產品以及所提供的軟毛成人牙刷在家刷牙,每日2次(早晨和晚上),每次1分鐘。使用產品4和8週後,重覆進行過敏性檢驗。
82位個體完成了所有的研究訪談。在4週和8週的檢驗中,測驗潔齒劑組相較於對照組潔齒劑組皆展示出統計學上顯著更佳的觸覺過敏分數,分別改善了31.6%和52.1%。此外,在4週和8週的檢驗中,測驗潔齒劑組相較於對照組潔齒劑組皆展示出統計學上顯著更佳的噴氣過敏分數,分別改善了17.8%和23.6%。
此一臨床研究的結果支持下列結論:一種在氧化矽基質內含有0.3%三氯生、2.0%共聚物、小顆粒氧化矽和0.243%
NaF而呈潔齒劑形式的本發明口腔用組成物,在經過4和8週的產品使用後,相較於既有商業上可購得之非去敏感性氟化物潔齒劑,可獲致(1)在使用產品4和8週後顯著降低過敏,以及獲致(2)顯著改善牙本質過敏。
此一在6個獨立檢測部位處所進行的雙盲平行組別臨床研究之目標在於,探討含有0.3%三氯生、2.0% PMV/MA共聚物、小顆粒氧化矽和0.243%氟化鈉的潔齒劑在降低牙本質過敏上的有效性。
遵循一基準過敏性檢驗,將366位合格成人隨機分成二個處理組以比較對於觸覺和噴氣刺激的過敏分數:(1)運用含有0.3%三氯生、2.0% PMV/MA共聚物、小顆粒氧化矽和0.243%氟化鈉的潔齒劑(測驗潔齒劑);(2)運用含有0.3%三氯生、2.0% PMV/MA共聚物和0.243%氟化鈉的既有商業上可購得之潔齒劑(對照組潔齒劑)。
這些個體受指示僅運用指定的潔齒劑產品以及所提供的軟毛牙刷在家刷牙,每日2次(早晨和晚上),每次1分鐘。使用產品4和8週後,重覆進行過敏性檢驗。
350位個體完成了所有的研究訪談。在4週和8週的檢驗中,測驗潔齒劑組相較於對照組潔齒劑組皆展示出統計學上顯著更佳的觸覺過敏分數,分別改善了11.5%和17.9%。此外,在4週和8週的檢驗中,測驗潔齒劑組相較於對照組潔齒劑組皆展示出統計學上顯著更佳的噴氣過敏分數,分別改善了16.1%和23.3%。
此一臨床研究的結果支持下列結論:相較於商業上可購得之對照組潔齒劑,含有0.3%三氯生、2.0%共聚物、小顆粒氧化矽和0.243%氟化鈉的潔齒劑於使用超過4和8週的一段時間後可有效於降低牙本質過敏。
此一實驗顯示本發明之口腔用組成物對於舒緩牙齒敏感性具有增進的有效性,其係藉由運用牙本質小管封堵系統與既有鉀去敏劑相組合,特別是本發明的口腔用組成物包含一種氧化矽,該氧化矽具有以下列參數為特徵的顆粒尺寸:為約2 μm至約4 μm的顆粒尺寸中間值、為約0.5 μm至約2 μm的d10以及為約5 μm至約10 μm的d90,以及具有2,000,000之分子量中間值的聚甲基乙烯基醚/順丁烯二酸酐共聚物(「測驗潔齒劑」)以及硝酸鉀去敏劑。「組成物E」(表4)被製備出並經分析,以供這些實驗之用。
有關牙本質過敏最被廣泛接受的解釋是以布氏水動力理論(Brnnstrm’s hydrodynamic theory)為基礎,其主張諸如冷、熱、壓力、酸或甜等各種刺激向內或向外地置換牙本質小管中之流體而活化位於牙髓/牙本質界面處的神經末梢,進而導致疼痛。為治療過敏,有兩種主要的方法已證實有效:1.藉由令鉀離子傳輸經過牙本質而使神經去敏化,以及2.藉由封堵牙本質小管來減少流體運動。令人意外地發現到,小顆粒氧化矽/聚合物封堵組成物與一鉀去敏劑所構成之組合會促使鉀向內傳輸經過牙本質小管。
1. 共軛焦顯微鏡技術
應用共軛焦顯微鏡技術在5%、7.5%和10%(w/w)等三個不同的氧化矽顆粒位準下,檢視測驗潔齒劑之氧化矽在封堵有效上的劑量反應性研究。在14次刷拭處理和2次酸挑戰暴露之後,10%的氧化矽顆粒相較於既有去敏感商品顯現出更為優異的封堵效應。將牙本質盤予以處理14次,以模擬7日的刷牙程序。進行可樂挑戰,俾於受測產品之間具有明確的區別。共軛焦顯微影像示於第1圖(變焦50x50 μm),其顯示測驗潔齒劑具有更為優異的保護/去敏感效應。表面影像沒有變化(請參見第1圖第2欄)指出,測驗潔齒劑的封堵效果在可樂挑戰後仍舊保持。
2. 水力傳導性
進行水力傳導性測驗以評價牙本質片段的封堵程度,該牙本質片段係連接至用於測量水相對於時間之置換量的感測器。封堵有效性與牙本質片段受潔齒劑處理後所導致的水力傳導性或水通透性降低有關。基準值係在先前受到侵蝕而具有最大開放性小管和最高通透性的牙本質片段上測得(「0%封堵度」)。受潔齒劑處理後所導致的水力傳導性降低係以通透性降低百分率計算而顯示出封堵的效果。經顯示,測驗潔齒劑在此測試中的效果相較於既有去敏感商品高出50%。
第2圖顯示利用水力傳導性所測定之各組成物相較於其本身之基準值所觀察到的封堵百分率。此一結果與共軛焦顯微鏡技術所得結果相一致,亦即,就測驗潔齒劑可觀察到最高的封堵百分率。
針對組成物E,水力傳導性測試過程係經變化以容許就一種用於立即舒緩的替代性施加方法進行測試,該方法涉及運用一個手指將牙膏摩擦/塗抹於一敏感性牙齒上。運用10 μl PBS來潤濕牙本質片段的表面,以模擬口中之濕潤牙齒。運用一個手指將未經稀釋之(「未攙混」)組成物E施加至牙本質片段,並以畫圈動作摩擦1分鐘。以經蒸餾之去離子水將樣品予以潤洗,並於70 cm之水壓下測量水力傳導性。應用一既有非去敏感潔齒劑來重覆實驗過程(對照組潔齒劑,表5)。在經組成物E所處理之牙本質上觀察到統計學上顯著較低的傳導性(司徒登氏t-測驗,p<0.05)顯示,運用一種不同方法(亦即,除了既有刷牙方法以外的方法)來施加本發明的潔齒劑以進行單一次處理即獲致優異的封堵效果。相較於既有的潔齒劑和施加方法,此種優異的封堵效果可快速致使牙齒去敏感化。
鉀通量(“K flux”)法顯示出封堵劑藉由阻塞牙本質小管而在降低向外的流體流動上產生有益的效應。相同的壓力阻塞效應有助於硝酸鉀等神經去敏劑的向內流動。第3圖繪示出該鉀通量實驗的一個示意圖。
人類牙本質盤係以組成物E(測驗潔齒劑)或是一既有去敏感組成物商品(含有相同位準之硝酸鉀)來塗刷並設置在一帕氏分離腔室(Pashley’s split chamber)中,該帕氏分離腔室容許在預定的時間間隔內收集恆定的水流。將鉀溶液的數個分量加入位於上部腔室中的受處理牙本質盤上。如第3A圖所示,第一組分液係於零壓力下收集而得(亦即,下部腔室與收集器對齊,對於水流無阻抗力,而容許離子擴散通過該牙本質盤)。接著,如第3B圖所示,將收集器抬高以模擬為20cm H20的牙牙髓壓力。因高度差所造成的反壓會延遲離子流動,致使收集器中之濃度較低。藉由HPLC來分析分液中的溶解性鉀。依據斐克擴散定律(Fick’s law of diffusion),將濃度值換算成通量,在此以x10-10 mol/cm2.s來表示。在實驗結束時,計算出鉀通量以測定經塗刷之盤體在牙髓壓力下對於鉀傳輸的相對有效性。
第4圖顯示兩個受測產品與對照組的比較。各組成物係呈一式三份進行評鑑,且每日研究一個盤體。實驗係以下列方式進行:將牙本質盤設置在一帕氏分離腔室中,並分別塗刷以測驗潔齒劑、既有牙齒去敏感商品或是磷酸緩衝液(PBS)。經塗刷後,將盤體(位於腔室內)充分潤洗,並將腔室收集至實驗系統。藉由一注射泵以0.2毫升/分鐘之速率供應恆定水流,分液收集器每10分鐘變換一次。
開始時,在將NaCl溶液加入上部腔室以潤洗系統後,收集3個分液。在第4個分液中加入一個別鉀源,亦即,研究產品的牙膏漿液,受PBS處理之樣品則為KNO3溶液。將腔室和收集器予以對齊,以針對18個分液或在180分鐘內具有為0 cm H20的最終壓力。在此一假想條件下,可從鉀的擴散作用(以x10-10 mol/cm2.s來表示)推衍出封堵有效性,其中經PBS-處理之盤體因缺乏封堵作用而獲致最高的K通量。經過18個分液後,令腔室相對於收集器降低位置,以模擬具有20 cm H2O之牙髓壓力的活體內狀態。此時,預期鉀流會因腔室/收集器的高度差所造成之反壓而降低。在牙髓壓力下顯現最小變化或是最高鉀通量的盤體即較有效於將鉀離子傳輸至具有暴露牙本質小管的牙齒。減少水壓對於離子擴散之負面效應的封堵系統終將獲致較高的鉀通量。第4圖所示結果明確地顯示,在20 cm H2O下,測驗潔齒劑相較於刷塗有既有去敏感商品和刷塗有PBS之盤體顯現出最高的鉀通量。第5圖繪示出兩種研究產品和PBS在牙髓壓力下所產生的平均通量比較。
第6圖顯示在施加模擬牙髓壓力後從鉀通量百分率的角度可觀察到相同的趨勢。這些結果指出測驗潔齒劑相較於既有去敏感商品具有更快速的作用。
此一實驗確認了令一有效率的封堵系統來阻礙朝外反向流體流動對於離子擴散之不利作用的理論,亦即,本發明之組成物一測驗潔齒劑一所提供的封堵作用對於幫助鉀擴散通過人類牙本質更為有效。
表6顯示針對各種含氧化矽組成物和氧化矽起始材料所測得的AUC 3.95值,包括本發明之含氧化矽組成物以及本發明之含氧化矽組成物中所使用的氧化矽起始材料。
第1圖顯示在經酸處理之哺乳動物牙本質基材中以本發明之口腔保健組成物相對於兩種不同的既有去敏感潔齒劑進行處理所發生的封堵作用之比較。標準型含氧化矽去敏感潔齒劑示於第1和3欄,而本發明的含氧化矽潔齒劑示於第2欄。
第2圖顯示經本發明之口腔保健組成物所處理之牙本質片段相對於經既有潔齒劑所處理者在水力傳導性(%封堵度)上的降低。
第3圖是實例3鉀通量實驗的一個示意圖。第3A圖顯示第一組分液係在零壓力下收集得到,而第3B圖顯示將收集器抬高以模擬為20cm H20的牙髓壓力。
第4圖顯示以本發明之口腔保健組成物相對於以既有潔齒劑所測得的鉀通量間之差異。
第5圖顯示在20 cm H20之模擬牙髓壓力下的鉀通量。
第6圖顯示牙髓壓力從0 cm H20改變成為20 cm H20時的鉀通量變化。
Claims (28)
- 一種口腔保健組成物,其包含:a.一黏附材,其中該黏附材是一聚合物,該聚合物具有介於1,250,000和2,500,000之間且包括上、下限值在內的數目平均分子量,其中該黏附材係選自於聚乙烯膦酸、聚(1-膦酸基丙烯)磺酸、聚(β-苯乙烯膦酸)、α-苯乙烯膦酸、合成陰離子性聚合物型聚羧酸酯、順丁烯二酸酐、順丁烯二酸和甲基乙烯基醚的聚合物;以及b.氧化矽顆粒,其中該口腔保健組成物提供不超過受蝕牙本質流體流速之約45%的流體流速,其中該組成物具有為至少20%的累進顆粒尺寸體積(AUC 3.95),且其中該等氧化矽顆粒包含一群起始材料氧化矽顆粒,該一群起始材料氧化矽顆粒具有為至少40%的累進顆粒尺寸體積(AUC 3.95),其中氧化矽顆粒具有2μm至5μm的顆粒尺寸分佈、顆粒尺寸中間值或平均顆粒尺寸。
- 一種口腔保健組成物,其包含:a.一黏附材,其中該黏附材是一聚合物,該聚合物具有介於1,250,000和2,500,000之間且包括上、下限值在內的數目平均分子量,其中該黏附材係選自於聚乙烯膦酸、聚(1-膦酸基丙烯)磺酸、聚(β-苯乙烯膦酸)、α-苯乙烯膦酸、合成陰離子性聚合物型聚羧酸酯、順丁烯二酸酐、順丁烯二酸和甲基乙烯基醚的聚合物;以 及b.氧化矽顆粒,具有為2.7μm至4.0μm的平均顆粒尺寸,其中該口腔保健組成物提供不超過受蝕牙本質流體流速之約45%的流體流速,其中該組成物具有為至少20%的累進顆粒尺寸體積(AUC 3.95),且其中該等氧化矽顆粒包含一群起始材料氧化矽顆粒,該一群起始材料氧化矽顆粒具有為至少40%的累進顆粒尺寸體積(AUC 3.95)。
- 一種口腔保健組成物,其包含:a.一黏附材,其中該黏附材是一聚合物,該聚合物具有介於1,250,000和2,500,000之間且包括上、下限值在內的數目平均分子量,其中該黏附材係選自於聚乙烯膦酸、聚(1-膦酸基丙烯)磺酸、聚(β-苯乙烯膦酸)、α-苯乙烯膦酸、合成陰離子性聚合物型聚羧酸酯、順丁烯二酸酐、順丁烯二酸和甲基乙烯基醚的聚合物;以及b.一群氧化矽顆粒,具有選自於由2μm、2.5μm、3μm、3.5μm、4μm、4.5μm和5μm所構成之群組中的顆粒尺寸,其中該群氧化矽顆粒包含位於該口腔保健組成物中之總體氧化矽顆粒的至少20%;其中該口腔保健組成物提供不超過受蝕牙本質流體流速之約45%的流體流速,其中該組成物具有為至少20%的累進顆粒尺寸體積(AUC 3.95),且其中該等氧化矽 顆粒包含一群起始材料氧化矽顆粒,該一群起始材料氧化矽顆粒具有為至少40%的累進顆粒尺寸體積(AUC 3.95)。
- 一種口腔保健組成物,其包含:a.一黏附材,其中該黏附材是一聚合物,該聚合物具有介於1,250,000和2,500,000之間且包括上、下限值在內的數目平均分子量,其中該黏附材係選自於聚乙烯膦酸、聚(1-膦酸基丙烯)磺酸、聚(β-苯乙烯膦酸)、α-苯乙烯膦酸、合成陰離子性聚合物型聚羧酸酯、順丁烯二酸酐、順丁烯二酸和甲基乙烯基醚的聚合物;以及b.氧化矽顆粒,具有為3μm至5μm的顆粒尺寸中間值、為1.5μm至3μm的d10,以及為6μm至11μm的d90,其中該口腔保健組成物提供不超過受蝕牙本質流體流速之約45%的流體流速,其中該組成物具有為至少20%的累進顆粒尺寸體積(AUC 3.95),且其中該等氧化矽顆粒包含一群起始材料氧化矽顆粒,該一群起始材料氧化矽顆粒具有為至少40%的累進顆粒尺寸體積(AUC 3.95)。
- 一種口腔保健組成物,其包含:a.一黏附材,其中該黏附材是一聚合物,該聚合物具有介於1,250,000和2,500,000之間且包括上、下限值在內的數目平均分子量,其中該黏附材係選自於聚乙烯膦酸、聚(1-膦酸基丙烯)磺酸、聚(β-苯乙烯膦酸)、α- 苯乙烯膦酸、合成陰離子性聚合物型聚羧酸酯、順丁烯二酸酐、順丁烯二酸和甲基乙烯基醚的聚合物;以及b.氧化矽顆粒,具有為2μm至4μm的顆粒尺寸中間值、為0.5μm至2μm的d10,以及為5μm至10μm的d90,其中該口腔保健組成物提供不超過受蝕牙本質流體流速之約45%的流體流速,其中該組成物具有為至少20%的累進顆粒尺寸體積(AUC 3.95),且其中該等氧化矽顆粒包含一群起始材料氧化矽顆粒,該一群起始材料氧化矽顆粒具有為至少40%的累進顆粒尺寸體積(AUC 3.95)。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,其中該等氧化矽顆粒的孔隙度為低於0.45cc/g呈600埃或更小之孔隙。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,其中該黏附分子為一由甲基乙烯基醚和順丁烯二酸酐所構成的聚合物。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,其中該組成物被調配成一選自於嗽洗劑、糊劑、凝膠、膠、可溶性菱錠和膜片的形式。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,其中該組成物被調配成一選自於可溶性膜片的形式。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,其另包含一非氧化矽型去敏劑。
- 如申請專利範圍第10項之組成物,其中該去敏劑係選自於由硝酸鹽、精胺酸酯、碳酸氫鹽、硝酸鉀、氯化 鉀、精胺酸-碳酸氫鹽-植酸鹽(phytate)複合物、檸檬酸鉀和精胺酸所構成的群組中。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,其另包含一殺細菌劑。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,其另包含一選自於化學性增白劑、不透明性增白劑和抗牙菌斑劑的藥劑。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,其另包含2,4,4’-三氯-2’-羥基二苯醚。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,其另包含一界面活性劑系統,該界面活性劑系統包含月桂基硫酸鈉和椰油醯基乙磺酸鈉(tauranol)。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,其另包含一界面活性劑系統,該界面活性劑系統係基本上由月桂基硫酸鈉和椰油醯基乙磺酸鈉呈為1:5至1:3的比例所組成。
- 如申請專利範圍第1項之組成物,其另包含一選自於下列者之藥劑:亞錫離子劑;氟化物;氟化鈉;雙氯苯雙胍己烷(chlorhexidine);己聯雙辛胍(alexidine);雙辛氫啶(hexetidine);血根鹼(sanguinarine);氯化烷基二甲基苄銨(benzalkonium chloride);水楊醯苯胺(salicylanilide);度米芬(domiphen bromide);十六烷基氯化吡啶(CPC);十四烷基氯化吡啶(TPC);N-十四烷基-4-乙基氯化吡啶(TDEPC);奥替尼啶(octenidine);地莫匹醇(delmopinol);辛哌醇(octapinol);乳酸鏈球菌素(nisin);鋅離子劑;銅離 子劑;精油;呋喃酮;細菌素(bacteriocins)、月桂醯精胺酸乙酯、木蘭花萃出物、金屬離子源、精胺酸碳酸氫鹽、和厚朴酚(honokiol)、厚朴酚(magonol)、熊果酸(ursolic acid)、胹酸(ursic acid)、桑色素(morin)、沙棘萃出物、過氧化物、酵素、茶花萃出物(a Camellia extract)、類黃酮、黃烷(flavan)、鹵化二苯醚、肌酸以及蜂膠。
- 一種如申請專利範圍第1項之口腔保健組成物之用途,係用於製造用於降低牙齒敏感性的口腔產品,其中該口腔產品之施用包含將該口腔產品施加於哺乳動物牙齒的表面。
- 一種如申請專利範圍第1項之口腔保健組成物之用途,係用於製造用於降低牙齒敏感性的口腔產品,其中該口腔產品之施用包含將該口腔產品施加於哺乳動物牙齒的表面,其中該黏附材係選自於由聚乙烯膦酸、聚(1-膦酸基丙烯)磺酸、聚(β-苯乙烯膦酸)、α-苯乙烯膦酸、合成陰離子性聚合物型聚羧酸酯、順丁烯二酸酐、順丁烯二酸和甲基乙烯基醚所構成的聚合物。
- 一種如申請專利範圍第1項之口腔保健組成物之用途,係用於製造用於降低牙齒敏感性的口腔產品,其中該口腔產品之施用包含將該口腔產品施加於哺乳動物牙齒的表面,其中該等顆粒的孔隙度為低於0.45cc/g呈600埃或更小之孔隙。
- 一種如申請專利範圍第1項之口腔保健組成物之用 途,係用於製造用於保護牙本質免於酸調控型降解作用的口腔產品,其中該口腔產品之施用包含將該口腔產品施加於哺乳動物牙齒的表面。
- 一種組成物之用途,係用於製造用於維持或增進哺乳動物之全身性健康的口腔產品,其中該口腔產品之施用包含將組成物施加於哺乳動物的口腔表面至少每日一次且歷時一段持續的時間,其中該組成物包含:a.申請專利範圍第1項之口腔保健組成物,其中該等氧化矽顆粒係以為5重量%或更高的含量存在於該組成物中,以及b.選自於下列者的藥劑:三氯生(triclosan);三氯生單磷酸酯(triclosan monophosphate);雙氯苯雙胍己烷;己聯雙辛胍;雙辛氫啶;血根鹼;氯化烷基二甲基苄銨;水楊醯苯胺;度米芬;十六烷基氯化吡啶(CPC);十四烷基氯化吡啶(TPC);N-十四烷基-4乙基氯化吡啶(TDEPC);奥替尼啶;地莫匹醇;辛哌醇;乳酸鏈球菌素;鋅離子劑;銅離子劑;精油;呋喃酮;細菌素、月桂醯精胺酸乙酯、木蘭花萃出物、金屬離子源、氟化物、亞錫離子、精胺酸碳酸氫鹽、和厚朴酚、厚朴酚、熊果酸、胹酸、桑色素、沙棘萃出物、過氧化物、酵素、茶花萃出物、類黃酮、黃烷、鹵化二苯醚、肌酸以及蜂膠。
- 一種組成物之用途,係用於製造用於將牙本質小管封 堵於哺乳動物牙齒之表面內的口腔產品,其中該口腔產品之施用包含將口腔產品施加於該牙齒表面,其中該組成物為如申請專利範圍第1項之口腔保健組成物。
- 一種如申請專利範圍第1項之組成物之用途,係用於製造用於將牙本質小管封堵於哺乳動物牙齒之表面內的口腔產品,其中該口腔產品之施用包含將該口腔產品施加於該牙齒表面。
- 如申請專利範圍第24項之用途,其中該口腔產品的施用為除了刷塗該牙齒表面以外的方法。
- 一種如申請專利範圍第1項之組成物之用途,係用於製造用於在少於一日內使牙齒去敏感化的口腔產品,其中該口腔產品的施用包含將該口腔產品施加於該牙齒之表面。
- 一種如申請專利範圍第1項之組成物之用途,係用於製造用於增進經過一或多個牙本質小管之鉀通量的口腔產品,其中該口腔產品的施用包含將該口腔產品施加於牙齒之表面。
- 一種如申請專利範圍第1項之組成物之用途,係用於製造用於增進既有含鉀去敏感潔齒劑之鉀通量的口腔產品,其中該口腔產品的施用包含將該口腔產品施加於牙齒表面,其中該口腔產品係以下列方式施加:(a)在該既有潔齒劑施加於該牙齒之前,(b)與該既有潔齒劑施加於該牙齒同時,或是(c)與該既有潔齒劑施加於該牙齒同時且與該既有潔 齒劑配成混合物,或是藉由(a)-(c)所構成之任何組合。
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