TWI550352B - 感光性樹脂組成物、硬化膜的形成方法、硬化膜、有機ｅｌ顯示裝置及液晶顯示裝置 - Google Patents

Description

感光性樹脂組成物、硬化膜的形成方法、硬化膜、有機EL顯示裝置及液晶顯示裝置

本發明涉及一種感光性樹脂組成物、硬化膜的形成方法、硬化膜、有機EL顯示裝置及液晶顯示裝置。

更詳細來說，本發明涉及一種適於形成有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置、集成電路元件、固體攝像元件等的電子零件的平坦化膜、保護膜或層間絕緣膜的正型感光性樹脂組成物及使用該正型感光性樹脂組成物的硬化膜的形成方法。

在有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置等中，設置著經圖案形成的層間絕緣膜。該層間絕緣膜的形成時，廣泛使用感光性樹脂組成物，其原因在於：用以獲得必要的圖案形狀的製程數少，而且可以獲得充分的平坦性等。

對於所述顯示裝置中的層間絕緣膜，除了期望絕緣性、耐溶劑性、耐熱性及氧化銦錫(Indium Tin Oxide，ITO)濺鍍適性優良等硬化膜的物性以外，期望高透明性。因此，嘗試使用透明性優良的丙烯酸系樹脂作為形成膜的成分。

另一方面，作為傳真(facsimile)、電子複印機、固體攝像元件等的晶載彩色濾光片(on chip color filter)的成像光學系統或光纖連接器(optical fiber connector)的光學系統材料，使用具有3 μm~100 μm左右的透鏡徑的微透鏡、或將這些微透鏡規則地排列而成的微透鏡陣列。

在微透鏡或微透鏡陣列的形成時，已知以下方法：形 成相當於透鏡的抗蝕劑圖案後，藉由加熱處理使其熔融流動(melt flow)，而直接用作透鏡的方法；或將熔融流動的透鏡圖案作為遮罩，藉由乾式蝕刻使透鏡形狀轉印到底層上的方法等。所述透鏡圖案的形成時，廣泛使用感光性樹脂組成物。

此種感光性樹脂組成物例如可以舉出：日本專利特開平10-26829號公報、日本專利特開2004-264623號公報及日本專利特開2008-3532號公報。

該顯示裝置類的製造時，使用蝕刻液、剝離液、N-甲基吡咯烷酮(NMP)等多種化學液，對這些化學液的耐性變得需要。例如，日本專利特開2008-3532號公報中公開了與對作為剝離液的MEA(單乙醇胺)的耐性提高有關的發明，但關於對其他化學液特別是NMP的耐性提高，則未作記載。

本發明所欲解決的課題在於提供一種感光性樹脂組成物，該感光性樹脂組成物的硬化後的耐化學品性高，且即使進行加熱也能獲得透明性降低小的硬化膜，並且具有非常高的感度。

另外，本發明所欲解決的其他課題在於提供一種使用所述感光性樹脂組成物的硬化膜及其製造方法、具備所述硬化膜的有機EL顯示裝置及液晶顯示裝置。

本發明的所述課題是藉由以下的<1>、<11>、<15>、<17>或<18>所記載的手段來解決。以下也一併 記載作為優選實施態樣的<2>~<10>、<12>~<14>及<16>。

<1>一種感光性樹脂組成物，其特徵在於：包含：(成分A)具有縮醛結構且藉由酸的作用鹼溶解性發生變化的樹脂、(成分B)光酸產生劑、(成分C)交聯劑及(成分D)溶劑，且成分C包含封端異氰酸酯化合物，所述封端異氰酸酯化合物的母結構為縮二脲結構；<2>根據所述<1>所記載的感光性樹脂組成物，其特徵在於：所述封端異氰酸酯化合物的異氰酸酯基是經封端劑加以封端，所述封端劑是選自由肟化合物、內醯胺化合物、酚化合物、醇化合物、胺化合物、活性亞甲基化合物、吡唑化合物、硫醇化合物、咪唑系化合物及醯亞胺系化合物所組成的組群中；<3>根據所述<1>或<2>所記載的感光性樹脂組成物，其特徵在於：所述封端異氰酸酯化合物是利用封端劑將具有縮二脲結構的多聚物的異氰酸酯基封端而成，所述具有縮二脲結構的多聚物是將選自由甲苯二異氰酸酯(TDI)、二苯基甲烷二異氰酸酯(MDI)、六亞甲基二異氰酸酯(HDI)及異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)所組成的組群中的化合物多聚化而獲得；<4>根據所述<1>至<3>中任一項所記載的感光性樹脂組成物，其特徵在於：相對於感光性樹脂組成物的總固體成分量，所述封端異氰酸酯化合物的含量為0.1質量%~8質量%的範圍； <5>根據所述<1>至<4>中任一項所記載的感光性樹脂組成物，其特徵在於：成分A為含有結構單元(a1)的聚合物，所述結構單元(a1)具有利用縮醛結構保護羧基所得的殘基；<6>根據所述<1>至<5>中任一項所記載的感光性樹脂組成物，其特徵在於：成分A為含有結構單元(a2)的聚合物，所述結構單元(a2)具有羧基或酚性羥基；<7>根據所述<1>至<6>中任一項所記載的感光性樹脂組成物，其特徵在於：成分B為肟磺酸酯化合物；<8>根據所述<1>~<7>中任一項所記載的感光性樹脂組成物，其特徵在於：成分A為含有具有交聯性基的結構單元(a3)的聚合物；<9>根據所述<8>所記載的感光性樹脂組成物，其特徵在於：具有交聯性基的結構單元(a3)中所含的交聯性基為選自由環氧基、氧雜環丁基及-NH-CH₂-O-R(R表示氫原子或碳數為1~20的烷基)所表示的基團所組成的組群中的至少一種；<10>根據所述<1>至<9>中任一項所記載的感光性樹脂組成物，其特徵在於進一步含有抗氧化劑；<11>一種硬化膜的形成方法，其特徵在於包括以下製程：(1)應用製程，將根據所述<1>至<10>中任一項所記載的感光性樹脂組成物應用到基板上；(2)溶劑除去製程，從所應用的感光性樹脂組成物中除去溶劑；(3)曝光製程，利用活性光線對除去了溶劑的感光性樹脂組成物 進行曝光；(4)顯影製程，利用水性顯影液對經曝光的感光性樹脂組成物進行顯影；及(5)後烘烤製程，對經顯影的感光性樹脂組成物進行熱硬化；<12>根據所述<11>所記載的硬化膜的形成方法，其特徵在於：在所述顯影製程後、所述後烘烤製程前，包括對經顯影的感光性樹脂組成物進行全面曝光的製程；<13>根據所述<11>所記載的硬化膜的形成方法，其特徵在於：在所述顯影製程後、所述後烘烤製程前，不包括對經顯影的感光性樹脂組成物進行全面曝光的製程；<14>根據所述<11>至<13>中任一項所記載的硬化膜的形成方法，其特徵在於更包括(6)乾式蝕刻製程，對具有進行熱硬化而獲得的硬化膜的基板進行乾式蝕刻；<15>一種硬化膜，其特徵在於：利用根據所述<11>至<14>中任一項所記載的方法而形成；<16>根據所述<15>所記載的硬化膜，其特徵在於：所述硬化膜為層間絕緣膜；<17>一種有機EL顯示裝置，其特徵在於具備根據所述<15>或<16>所記載的硬化膜；<18>一種液晶顯示裝置，其特徵在於具備根據所述<15>或<16>所記載的硬化膜。

根據本發明，可以提供一種感光性樹脂組成物，該感光性樹脂組成物的硬化後的耐化學品性高，且即使進行加 熱也能獲得透明性降低小的硬化膜，具有非常高的感度。

另外，根據本發明，可以提供一種使用所述感光性樹脂組成物的硬化膜及其製造方法、具備所述硬化膜的有機EL顯示裝置及液晶顯示裝置。

以下，對本發明加以詳細說明。

此外，說明書中，“下限~上限”的記載表示“下限以上、上限以下”，“上限~下限”的記載表示“上限以下、下限以上”。即表示包含上限及下限的數值範圍。

另外，將“(成分A)具有縮醛結構且藉由酸的作用鹼溶解性發生變化的樹脂”等也簡稱為“成分A”等，將“具有利用縮醛結構保護羧基所得的殘基的結構單元(a1)”等也簡稱為“結構單元(a1)”等。

另外，有時將表示“丙烯酸酯”、“甲基丙烯酸酯”兩者或任一者的情況記作“(甲基)丙烯酸酯”，將表示“丙烯醯基”、“甲基丙烯醯基”兩者或任一者的情況記作“(甲基)丙烯醯基”。

(感光性樹脂組成物)

本發明的感光性樹脂組成物的特徵在於：含有(成分A)具有縮醛結構且藉由酸的作用鹼溶解性發生變化的樹脂、(成分B)光酸產生劑、(成分C)交聯劑及(成分D)溶劑，且成分C包含封端異氰酸酯化合物，所述封端異氰酸酯化合物的母結構為縮二脲結構。

通常來說，顯示裝置類的製造時所使用的蝕刻液、剝 離液、N-甲基吡咯烷酮(NMP)等各種化學液對硬化膜的作用原理、滲透力等存在差異，對某種化學液的耐性提高並不直接意味著對其他化學液的耐性提高，因此特別關於對NMP的化學液耐性提高進行了努力研究，結果想到了本發明。另外，作為預料之外的效果，藉由使用本發明的感光性樹脂組成物，可以製造並無顯示不均的高品質的顯示裝置。

另外，本發明的感光性樹脂組成物優選正型感光性樹脂組成物，更優選化學增幅型的正型感光性樹脂組成物(化學增幅正型感光性樹脂組成物)。

此外，本說明書中，有時將曝光後的加熱處理(Post Exposure Baking)稱為PEB。

以下，對構成感光性樹脂組成物的各成分加以說明。

此外，在本說明書中的基團(原子團)的表述中，未記載取代及未經取代的表述包含不具有取代基的基團，並且也包含具有取代基的基團。例如所謂“烷基”，不僅是指不具有取代基的烷基(未經取代的烷基)，也包含具有取代基的烷基(取代烷基)。

(成分A)具有縮醛結構且藉由酸的作用鹼溶解性發生變化的樹脂

本發明的感光性樹脂組成物含有(成分A)具有縮醛結構且藉由酸的作用鹼溶解性發生變化的樹脂。

另外，成分A優選的是至少含有結構單元(a1)、結構單元(a2)的聚合物，所述結構單元(a1)具有利用縮 醛結構保護羧基所得的殘基，所述結構單元(a2)具有羧基或酚性羥基。

另外，成分A也可以含有所述結構單元(a1)及結構單元(a2)以外的結構單元。

成分A為藉由酸的作用鹼溶解性發生變化的樹脂，優選的是含有具有利用縮醛結構保護羧基所得的殘基的結構單元(a1)、且所述縮醛結構分解時成為鹼可溶性的樹脂。

另外，本發明中所謂“鹼可溶性”，是指將該化合物(樹脂)的溶液塗布在基板上，並在90℃下加熱2分鐘，由此形成的該化合物(樹脂)的塗膜(厚度為3 μm)對23℃下的0.4質量%氫氧化四甲基銨水溶液的溶解速度為0.01 μm/s以上，所謂“鹼不溶性”，是指將該化合物(樹脂)的溶液塗布在基板上，並在90℃下加熱2分鐘，由此形成的該化合物(樹脂)的塗膜(厚度為3 μm)對23℃下的0.4質量%氫氧化四甲基銨水溶液的溶解速度小於0.01 μm/s、優選的是小於0.005 μm/s。

另外，所謂“藉由酸的作用鹼溶解性發生變化”，是指使酸作用之前與之後，對23℃下的0.4質量%氫氧化四甲基銨水溶液的溶解速度發生變化。

成分A優選丙烯酸系聚合物。

本發明中的“丙烯酸系聚合物”為加成聚合型的樹脂，為含有來源於(甲基)丙烯酸或其酯的結構單元的聚合物，也可以含有來源於(甲基)丙烯酸或其酯的結構單元以外的結構單元、例如來源於苯乙烯類的結構單元或來源於 乙烯系化合物的結構單元等。另外，也可以一起含有來源於(甲基)丙烯酸及其酯的結構單元。

成分A中優選的是相對於成分A中的所有單體單元而使來源於(甲基)丙烯酸或其酯的單體單元為50莫耳%以上，更優選的是80莫耳%以上，特別優選的是僅包含來源於(甲基)丙烯酸或其酯的單體單元的聚合物。

此外，將“來源於(甲基)丙烯酸及/或其酯的單體單元”也稱為“丙烯酸系單體單元”。另外，(甲基)丙烯酸是指甲基丙烯酸及/或丙烯酸。

本發明中的“縮醛結構”中，只要無特別說明，則包括狹義的縮醛結構及縮酮結構兩者。

成分A可以具有縮醛結構或縮酮結構，也可以具有縮醛結構及縮酮結構兩者。

縮醛結構優選下述式(I)所表示的結構。

R¹及R²分別獨立表示氫原子、直鏈狀或分支狀烷基或環烷基。其中，R¹及R²的至少一個表示烷基或環烷基。

R³表示直鏈狀或分支狀烷基、環烷基或芳烷基。

R¹或R²與R³也可以連結而形成環狀醚。

另外，式(I)中的波線部分表示與其他結構的鍵合位 置。

式(I)的R¹及R²的烷基優選碳數為1~6的直鏈狀或分支狀烷基。作為R¹及R²的環烷基優選碳數為3~6的環烷基。

R³的烷基優選碳數為1~10的直鏈狀或分支狀烷基。 作為R³的環烷基優選碳數為3~10的環烷基。

R³的芳烷基優選碳數為7~10的芳烷基。

當R¹或R²與R³連結而形成環狀醚時，優選的是R¹或R²與R³連結而形成碳數為2~5的伸烷基鏈。

R³的烷基、環烷基、芳烷基也可以具有取代基，取代基例如可以舉出烷基、烷氧基、鹵素原子，取代基的碳數優選6以下。

在式(I)中R¹及R²的其中一個為氫原子的羧酸的縮醛酯結構(-COOR⁷)中的R⁷例如可以舉出：1-甲氧基乙基、1-乙氧基乙基、1-正丙氧基乙基、1-異丙氧基乙基、1-正丁氧基乙基、1-異丁氧基乙基、1-第二丁氧基乙基、1-第三丁氧基乙基、1-環戊氧基乙基、1-環己氧基乙基、1-降冰片氧基乙基、1-冰片氧基乙基、1-苄氧基乙基、1-苯乙氧基乙基、環己基(甲氧基)甲基、環己基(乙氧基)甲基、環己基(正丙氧基)甲基、環己基(異丙氧基)甲基、環己基(環己氧基)甲基、環己基(苄氧基)甲基、α-甲氧基苄基、α-乙氧基苄基、α-正丙氧基苄基、α-異丙氧基苄基、α-環己氧基苄基、α-苄氧基苄基、2-苯基-1-甲氧基乙基、2-苯基-1-乙氧基乙基、2-苯基-1-正丙氧基乙基、2-苯基-1-異丙氧 基乙基、2-苯基-1-環己氧基乙基、2-苯基-1-苄氧基乙基、2-四氫呋喃基、2-四氫吡喃基等。

在式(I)中R¹及R²均不為氫原子的羧酸的縮酮酯結構(-COOR⁸)中的R⁸例如可以舉出：1-甲基-1-甲氧基乙基、1-甲基-1-乙氧基乙基、1-甲基-1-正丙氧基乙基、1-甲基-1-異丙氧基乙基、1-甲基-1-正丁氧基乙基、1-甲基-1-異丁氧基乙基、1-甲基-1-第二丁氧基乙基、1-甲基-1-第三丁氧基乙基、1-甲基-1-環戊氧基乙基、1-甲基-1-環己氧基乙基、1-甲基-1-降冰片氧基乙基、1-甲基-1-冰片氧基乙基、1-甲基-1-苄基氧基乙基、1-甲基-1-苯乙氧基乙基、1-環己基-1-甲氧基乙基、1-環己基-1-乙氧基乙基、1-環己基-1-正丙氧基乙基、1-環己基-1-異丙氧基乙基、1-環己基-1-環己氧基乙基、1-環己基-1-苄氧基乙基、1-苯基-1-甲氧基乙基、1-苯基-1-乙氧基乙基、1-苯基-1-正丙氧基乙基、1-苯基-1-異丙氧基乙基、1-苯基-1-環己氧基乙基、1-苯基-1-苄氧基乙基、1-苄基-1-甲氧基乙基、1-苄基-1-乙氧基乙基、1-苄基-1-正丙氧基乙基、1-苄基-1-異丙氧基乙基、1-苄基-1-環己氧基乙基、1-苄基-1-苄氧基乙基、2-甲基2-四氫呋喃基、2-甲基-2-四氫吡喃基、1-甲氧基環戊基、1-甲氧基-環己基等。

在所述羧酸的縮醛酯結構或縮酮酯結構中，從製程穩定性的觀點來看，更優選縮醛酯結構。羧酸的縮醛酯結構(-COOR⁷)中的優選的R⁷優選1-乙氧基乙基、1-環己氧基乙基、2-四氫呋喃基、2-四氫吡喃基，從感度的觀點來 看，特別優選1-乙氧基乙基、1-環己氧基乙基。

<具有利用縮醛結構保護羧基所得的殘基的結構單元(a1)>

成分A優選的是至少含有結構單元(a1)，該結構單元(a1)具有利用縮醛結構保護羧基所得的殘基。

作為用於形成結構單元(a1)的化合物，只要為藉由保護羧基而可以成為用於形成結構單元(a1)的化合物的化合物，便可使用。具有羧基的化合物例如可以舉出：丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸、α-甲基-對羧基苯乙烯等單羧酸；馬來酸、富馬酸、檸康酸、中康酸、衣康酸等二羧酸，特別優選丙烯酸、甲基丙烯酸。另外，作為結構單元(a1)，可以舉出利用縮醛結構保護這些羧基而成的來源於羧酸的結構單元作為優選的結構單元。

作為用於形成結構單元(a1)的自由基聚合性單體的優選的具體例，例如可以舉出：甲基丙烯酸-1-乙氧基乙酯、丙烯酸-1-乙氧基乙酯、甲基丙烯酸-1-甲氧基乙酯、丙烯酸-1-甲氧基乙酯、甲基丙烯酸-1-正丁氧基乙酯、丙烯酸-1-正丁氧基乙酯、甲基丙烯酸-1-異丁氧基乙酯、丙烯酸-1-異丁氧基乙酯、甲基丙烯酸-1-(2-乙基己氧基)乙酯、丙烯酸-1-(2-乙基己氧基)乙酯、甲基丙烯酸-1-正丙氧基乙酯、丙烯酸-1-正丙氧基乙酯、甲基丙烯酸-1-環己氧基乙酯、丙烯酸-1-環己氧基乙酯、甲基丙烯酸-1-(2-環己基乙氧基)乙酯、丙烯酸-1-(2-環己基乙氧基)乙酯、甲基丙烯酸-1-苄氧基乙酯、丙烯酸-1-苄氧基乙酯、甲基丙烯酸四氫-2H-吡喃 -2-基酯、丙烯酸四氫-2H-吡喃-2-基酯、甲基丙烯酸四氫呋喃-2-基酯、丙烯酸四氫呋喃-2-基酯等。其中，特別優選甲基丙烯酸-1-乙氧基乙酯、丙烯酸-1-乙氧基乙酯、甲基丙烯酸四氫呋喃-2-基酯、丙烯酸四氫呋喃-2-基酯、甲基丙烯酸-1-環己氧基乙酯及丙烯酸-1-環己氧基乙酯。這些結構單元(a1)可以單獨使用一種或組合使用兩種以上。

用於形成結構單元(a1)的自由基聚合性單體可以使用市售品，也可以使用利用眾所周知的方法合成的物質。例如若為下述式(II)所表示的單體，則可以像下述所示那樣使(甲基)丙烯酸在酸催化劑的存在下與乙烯醚化合物反應而合成。

在式(II)中，R⁶表示氫原子或甲基，R⁵與式(I)中的R³為相同含意。

另外，結構單元(a1)也可以藉由以下方式來形成：使要保護的羧基與後述結構單元(a2)~結構單元(a5)或其前驅物聚合後，使羧基與乙烯醚化合物反應。此外，像這樣而形成的優選的結構單元的具體例與來源於所述自由基聚合性單體的優選具體例的結構單元相同。

結構單元(a1)優選下述式(5)所表示的結構單元。

式(5)中，R¹表示氫原子或碳數為1~4的烷基，L¹表示羰基或伸苯基，R²¹~R²⁷分別獨立表示氫原子或碳數為1~4的烷基。

結構單元(a1)的優選具體例可以例示下述結構單元(a1-1)~結構單元(a1-8)。這些中，特別優選的是(a1-1)~(a1-4)、(a1-7)及(a1-8)所表示的結構單元。

[化5]

在含有所述結構單元(a1)的聚合物實質上不含具有交聯性基的結構單元(a3)的情況下，在含有所述結構單元(a1)的聚合物中，形成結構單元(a1)的單體單元的含有率優選20莫耳%~100莫耳%，更優選30莫耳%~90莫耳%。

在含有所述結構單元(a1)的聚合物含有結構單元(a3)的情況下，在含有該結構單元(a1)及結構單元(a3)的聚合物中，從感度的觀點來看，形成結構單元(a1)的單體單元的含有率優選3莫耳%~70莫耳%，更優選10莫耳%~60莫耳%。另外，特別在所述結構單元(a1)中的所述酸分解性基為以縮醛的形式保護羧基而成的保護羧基的結構單元的情況下，形成結構單元(a1)的單體單元的 含有率優選20莫耳%~50莫耳%，更優選30莫耳%~45莫耳%。

<具有羧基或酚性羥基的結構單元(a2)>

成分A優選的是至少含有具有羧基或酚性羥基的結構單元(a2)，更優選的是至少含有具有羧基的結構單元(a2-1)。

具有羧基的結構單元(a2-1)例如可以舉出：來源於不飽和單羧酸、不飽和二羧酸、不飽和三羧酸等分子中具有至少一個羧基的不飽和羧酸等的結構單元。

用於獲得具有羧基的結構單元(a2-1)的不飽和羧酸可以使用以下例示的不飽和羧酸。

即，不飽和單羧酸可以例示丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸、α-氯丙烯酸、肉桂酸等。

另外，不飽和二羧酸可以例示馬來酸、富馬酸、衣康酸、檸康酸、中康酸等。

另外，用於獲得具有羧基的結構單元(a2-1)的不飽和多元羧酸也可為其酸酐。具體可以舉出馬來酸酐、衣康酸酐、檸康酸酐等。另外，不飽和多元羧酸也可為多元羧酸的單(2-甲基丙烯醯氧基烷基)酯，例如可以舉出琥珀酸單(2-丙烯醯氧基乙基)酯、琥珀酸單(2-甲基丙烯醯氧基乙基)酯、鄰苯二甲酸單(2-丙烯醯氧基乙基)酯、鄰苯二甲酸單(2-甲基丙烯醯氧基乙基)酯等。

進而，不飽和多元羧酸也可為該不飽和多元羧酸的兩末端二羧基聚合物的單(甲基)丙烯酸酯，例如可以舉出ω- 羧基聚己內酯單丙烯酸酯、ω-羧基聚己內酯單甲基丙烯酸酯等。

另外，不飽和羧酸也可以使用丙烯酸-2-羧乙酯、甲基丙烯酸-2-羧乙酯、馬來酸單烷基酯、富馬酸單烷基酯、4-羧基苯乙烯等。

其中，從顯影性的觀點來看，為了形成具有羧基的結構單元(a2-1)，優選的是使用丙烯酸、甲基丙烯酸，更優選的是使用甲基丙烯酸。

另外，具有羧基的結構單元(a2-1)也可以藉由使具有羥基的結構單元與酸酐反應而獲得。

酸酐可以使用眾所周知的酸酐，具體可以舉出：馬來酸酐、琥珀酸酐、衣康酸酐、鄰苯二甲酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、氯菌酸酐等二元酸酐；偏苯三甲酸酐、均苯四甲酸酐、二苯甲酮四羧酸酐、聯苯四羧酸酐等酸酐。這些中，從顯影性的觀點來看，優選鄰苯二甲酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐或琥珀酸酐。

用於形成具有酚性羥基的結構單元(a2-2)的自由基聚合性單體例如可以舉出以下自由基聚合性單體作為優選的自由基聚合性單體：對羥基苯乙烯、α-甲基-對羥基苯乙烯等羥基苯乙烯類，日本專利特開2008-40183號公報的段落0011~段落0016中記載的化合物，日本專利第2888454號公報的段落0007~段落0010中記載的4-羥基苯甲酸衍生物類、4-羥基苯甲酸與甲基丙烯酸縮水甘油酯的加成反應物、4-羥基苯甲酸與丙烯酸縮水甘油酯的加成反應物等。

用於形成結構單元(a2)的自由基聚合性單體中，更優選甲基丙烯酸、丙烯酸、日本專利特開2008-40183號公報的段落0011~段落0016中記載的化合物、日本專利第2888454號公報的段落0007~段落0010中記載的4-羥基苯甲酸衍生物類、4-羥基苯甲酸與甲基丙烯酸縮水甘油酯的加成反應物、4-羥基苯甲酸與丙烯酸縮水甘油酯的加成反應物，從透明性的觀點來看，特別優選甲基丙烯酸、丙烯酸。這些結構單元可以單獨使用一種或組合使用兩種以上。

結構單元(a2)優選的是以成分A不成為鹼可溶性的範圍而導入。在成分A含有結構單元(a2)的情況下，構成成分A的所有單體單元中，形成結構單元(a2)的單體單元的含有率優選2莫耳%~20莫耳%，更優選2莫耳%~15莫耳%，特別優選3莫耳%~15莫耳%。藉由以所述的比例含有結構單元(a2)，可以獲得高感度，另外顯影性也變良好。

<具有交聯基的結構單元(a3)>

成分A也可以含有具有交聯基的結構單元(a3)。所述交聯基只要為藉由加熱處理而引起硬化反應的基團，則並無特別限定。優選的具有交聯基的結構單元的態樣可以舉出：含有選自由環氧基、氧雜環丁基、-NH-CH₂-O-R(R表示氫原子或碳數為1~20的烷基)所表示的基團及乙烯性不飽和基所組成的組群中的至少一個的結構單元，優選的是選自環氧基、氧雜環丁基及-NH-CH₂-O-R(R表示氫 原子或碳數為1~20的烷基)所表示的基團中的至少一種。其中，成分A更優選的是含有具有環氧基及氧雜環丁基中的至少一個的結構單元，特別優選的是含有具有氧雜環丁基的結構單元。更詳細來說，可以舉出以下結構單元。

<<具有環氧基及/或氧雜環丁基的結構單元(a3-1)>>

成分A優選的是含有具有環氧基及/或氧雜環丁基的結構單元(結構單元(a3-1))。所述3員環的環狀醚基也被稱為環氧基，4員環的環狀醚基也被稱為氧雜環丁基。所述具有環氧基及/或氧雜環丁基的結構單元(a3-1)優選具有脂環式環氧基及/或氧雜環丁基的結構單元，更優選具有氧雜環丁基的結構單元。

所述具有環氧基及/或氧雜環丁基的結構單元(a3-1)只要在一個結構單元中具有至少一個環氧基或氧雜環丁基便可，也可以具有一個以上的環氧基及一個以上的氧雜環丁基、兩個以上的環氧基或兩個以上的氧雜環丁基，並無特別限定，優選的是具有合計一個~三個的環氧基及/或氧雜環丁基，更優選的是具有合計一個或兩個的環氧基及/或氧雜環丁基，進而優選的是具有一個環氧基或氧雜環丁基。

作為用於形成具有環氧基的結構單元的自由基聚合性單體的具體例，例如可以舉出：丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、α-乙基丙烯酸縮水甘油酯、α-正丙基丙烯酸縮水甘油酯、α-正丁基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯 酸-3,4-環氧丁酯、甲基丙烯酸-3,4-環氧丁酯、丙烯酸-3,4-環氧環己基甲酯、甲基丙烯酸-3,4-環氧環己基甲酯、α-乙基丙烯酸-3,4-環氧環己基甲酯、鄰乙烯基苄基縮水甘油醚、間乙烯基苄基縮水甘油醚、對乙烯基苄基縮水甘油醚、日本專利第4168443號公報的段落編號0031~段落編號0035中記載的含有脂環式環氧骨架的化合物等。

作為用於形成具有氧雜環丁基的結構單元的自由基聚合性單體的具體例，例如可以舉出日本專利特開2001-330953號公報的段落編號0011~段落編號0016中記載的具有氧雜環丁基的(甲基)丙烯酸酯等。

所述用於形成具有環氧基及/或氧雜環丁基的結構單元(a3-1)的自由基聚合性單體的具體例優選含有甲基丙烯酸酯結構的單體、含有丙烯酸酯結構的單體。

這些單體中，更優選的是日本專利第4168443號公報的段落編號0034~段落編號0035中記載的含有脂環式環氧骨架的化合物及日本專利特開2001-330953號公報的段落編號0011~段落編號0016中記載的具有氧雜環丁基的(甲基)丙烯酸酯，特別優選的是日本專利特開2001-330953號公報的段落編號0011~段落編號0016中記載的具有氧雜環丁基的(甲基)丙烯酸酯。這些中，優選的是甲基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸-3,4-環氧環己基甲酯、甲基丙烯酸-3,4-環氧環己基甲酯、丙烯酸(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲酯及甲基丙烯酸(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲酯，最優選的是丙烯酸(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲酯及甲基丙烯酸(3-乙 基氧雜環丁烷-3-基)甲酯。這些結構單元可以單獨使用一種或組合使用兩種以上。

所述具有環氧基及/或氧雜環丁基的結構單元(a3-1)可以參考日本專利特開2011-215590號公報的段落編號0053~段落編號0055的記載。

所述具有環氧基及/或氧雜環丁基的結構單元(a3-1)的優選具體例可以例示下述結構單元。此外，R表示氫原子或甲基。

在本發明中，從感度的觀點來看，優選氧雜環丁基。另外，從透射率(透明性)的觀點來看，優選脂環式環氧基及氧雜環丁基。根據以上內容，在本發明中，作為環氧基及/或氧雜環丁基優選脂環式環氧基及氧雜環丁基，特別優選氧雜環丁基。

<<具有乙烯性不飽和基的結構單元(a3-2)>>

可以舉出具有乙烯性不飽和基的結構單元(a3-2)(以下也稱為“結構單元(a3-2)”)作為所述具有交聯基的結構單元(a3)之一。所述具有乙烯性不飽和基的結構單元(a3-2)優選側鏈上具有乙烯性不飽和基的結構單元，更 優選末端具有乙烯性不飽和基、且具有碳數為3~16的側鏈的結構單元，進而優選具有下述式(a3-2-1)所表示的側鏈的結構單元。

(式(a3-2-1)中，R³⁰¹表示碳數為1~13的二價連結基，R³⁰²表示氫原子或甲基，＊表示連結於具有交聯基的結構單元(a3)的主鏈的部位)

R³⁰¹為碳數為1~13的二價連結基，且含有烯基、環烯基、伸芳基或將這些基團組合而成的基團，也可以含有酯鍵、醚鍵、醯胺鍵、胺基甲酸酯鍵等鍵。另外，二價連結基也可以在任意的位置上具有羥基、羧基等取代基。R³⁰¹的具體例可以舉出下述二價連結基。

[化9]

所述式(a3-2-1)所表示的側鏈中，優選包含所述R³⁰¹所表示的二價連結基的脂肪族的側鏈。

除此以外，關於具有乙烯性不飽和基的結構單元(a3-2)，可以參考日本專利特開2011-215580號公報的段落編號0077~段落編號0090的記載。

<<具有-NH-CH₂-O-R(R表示氫原子或碳數為1~20的烷基)所表示的基的結構單元(a3-3)>>

本發明中所用的共聚物亦優選具有-NH-CH₂-O-R(R表示氫原子或碳數為1~20的烷基)所表示的基的結構單元(a3-3)。藉由含有結構單元(a3-3)，可以藉由緩慢的加熱處理而引起硬化反應，並可以獲得各種特性優良的硬化膜。這裏，R優選碳數為1~9的烷基，更優選碳數為1~4的烷基。另外，烷基為直鏈、分支或環狀的烷基的任一個，優選直鏈或分支的烷基。結構單元(a3-3)更優選具有下述式(a3-3-1)所表示的基團的結構單元。

式中，R³³¹表示氫原子或甲基，R³³²表示碳數為1~20的烷基。

R³³²優選碳數為1~9的烷基，更優選碳數為1~4的烷基。另外，烷基可為直鏈、分支或環狀的烷基的任一種，優選直鏈或分支的烷基。

R³³²的具體例可以舉出甲基、乙基、正丁基、異丁基、環己基或正己基。其中，優選異丁基、正丁基或甲基。

<<結構單元(a3)的優選態樣>>

在含有所述結構單元(a3)的聚合物實質上不含結構單元(a1)的情況下，構成含有結構單元(a3)的聚合物的所有單體單元中，形成結構單元(a3)的單體單元的含量優選5莫耳%~90莫耳%，更優選20莫耳%~80莫耳%。

在含有所述結構單元(a3)的聚合物含有所述結構單元(a1)的情況下，構成含有結構單元(a3)的聚合物的所有單體單元中，從感度的觀點來看，形成結構單元(a3)的單體單元的含量優選3莫耳%~70莫耳%，更優選10莫 耳%~60莫耳%。

在本發明中，進而無論為哪種態樣，構成成分A的所有單體單元中，形成結構單元(a3)的單體單元的含量優選3莫耳%~70莫耳%，更優選10莫耳%~60莫耳%。

若為所述數值的範圍內，則由感光性樹脂組成物所得的硬化膜的透明性及ITO濺鍍耐性變良好。

<其他結構單元(a4)>

成分A也可以在不妨礙本發明效果的範圍內含有所述結構單元(a1)~結構單元(a3)以外的結構單元(a4)。

用於形成結構單元(a4)的自由基聚合性單體例如可以舉出日本專利特開2004-264623號公報的段落0021~段落0024中記載的化合物(其中，將上文所述的結構單元(a1)~結構單元(a3)除外)。

這些中，從提高電特性的觀點來看，優選(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯、丙烯酸環己酯那樣的含有脂環結構的(甲基)丙烯酸酯類，或(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯那樣的不含脂環結構的(甲基)丙烯酸烷基酯。另外，從透明性的觀點來看，優選(甲基)丙烯酸甲酯。另外，從蝕刻耐性的觀點來看，優選苯乙烯或α-甲基苯乙烯等苯乙烯類。另外，從提高感度的觀點來看，也優選具有酚性羥基以外的羥基或伸烷氧基的結構單元。

成分A可以含有單獨一種或兩種以上的結構單元(a4)，也可以不含有，優選的是不含有，即成分A為包 含選自由結構單元(a1)~結構單元(a3)所組成的組群中的結構單元的樹脂。

在構成成分A的所有單體單元中，形成結構單元(a4)的單體單元的含有率優選0莫耳%~40莫耳%。在成分A含有結構單元(a4)的情況下，在構成成分A的所有單體單元中，形成結構單元(a4)的單體單元的含有率優選1莫耳%~40莫耳%，更優選5莫耳%~30莫耳%，特別優選5莫耳%~25莫耳%。

成分A的重量平均分子量優選1,000~50,000，更優選2,000~30,000，進而優選3,000~20,000。此外，本發明中的重量平均分子量為由凝膠滲透色譜法(Gel Permeation Chromatography，GPC)所得的聚苯乙烯換算重量平均分子量。

另外，導入成分A所含有的各結構單元的方法可為聚合法，也可為高分子反應法，也可以併用這兩種方法。

在聚合法中，預先合成含有既定的官能基的單體後，將這些單體共聚合。即，可以藉由以下方式來合成：在有機溶劑中，使用自由基聚合起始劑將自由基聚合性單體混合物聚合，所述自由基聚合性單體混合物包含用於形成結構單元(a1)、結構單元(a2)、結構單元(a3)及視需要的結構單元(a4)的自由基聚合性單體。

在高分子反應法中，進行聚合反應後，利用所得的共聚物的結構單元中所含的反應性基將必要的官能基導入到結構單元中。

相對於感光性樹脂組成物的總固體成分，本發明的感光性樹脂組成物中的成分A的含量優選20質量%~99質量%，更優選25質量%~97質量%，進而優選30質量%~95質量%。若含量為該範圍，則顯影時的圖案形成性變良好。此外，所謂感光性樹脂組成物的固體成分量，表示將溶劑等揮發性成分除外的量。成分A在感光性樹脂組成物中可以單獨使用一種或組合使用兩種以上。

本發明的感光性樹脂組成物也可以另含有與成分A不同的聚合物成分。在含有與成分A不同的聚合物成分的情況下，在所有聚合物成分中，所述聚合物成分的調配量優選80質量%以下，更優選70質量%以下，進而優選60質量%以下。

與成分A不同的聚合物成分的結構單元可以例示上述具有羧基或酚性羥基的結構單元(a2)、具有交聯性基的結構單元(a3)等，也可以在不妨礙本發明效果的範圍內，含有結構單元(a2)及結構單元(a3)以外的結構單元(a4)。

特別在成分A為不含有所述具有交聯基的結構單元(a3)的樹脂的情況下，本發明的感光性樹脂組成物優選的是進一步含有以下樹脂，該樹脂含有具有交聯基的結構單元(a3)，更優選的是進一步含有以下樹脂，該樹脂含有具有羧基或酚性羥基的結構單元(a2)及具有交聯基的結構單元(a3)。

這種聚合物優選側鏈上具有羧基的樹脂。例如可以舉 出：日本專利特開昭59-44615號、日本專利特公昭54-34327號、日本專利特公昭58-12577號、日本專利特公昭54-25957號、日本專利特開昭59-53836號、日本專利特開昭59-71048號的各公報中記載那樣的甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、丁烯酸共聚物、馬來酸共聚物、部分酯化馬來酸共聚物等，以及側鏈上具有羧基的酸性纖維素衍生物、使酸酐加成於具有羥基的聚合物所得的物質等，進而也可以舉出側鏈上具有(甲基)丙烯醯基的高分子聚合物作為優選的樹脂。

例如可以舉出：(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯/(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸共聚物、日本專利特開平7-140654號公報中記載的(甲基)丙烯酸-2-羥丙酯/聚苯乙烯巨單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸-2-羥基-3-苯氧基丙酯/聚甲基丙烯酸甲酯巨單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸-2-羥乙酯/聚苯乙烯巨單體/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸-2-羥乙酯/聚苯乙烯巨單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物等。

此外，也可以使用日本專利特開平7-207211號公報、日本專利特開平8-259876號公報、日本專利特開平10-300922號公報、日本專利特開平11-140144號公報、日本專利特開平11-174224號公報、日本專利特開2000-56118號公報、日本專利特開2003-233179號公報、日本專利特開2009-52020號公報等中記載的眾所周知的 高分子化合物。

這些聚合物可以僅含有一種，也可以含有兩種以上。

這些聚合物也可以使用市售的SMA 1000P、SMA 2000P、SMA 3000P、SMA 1440F、SMA 17352P、SMA 2625P、SMA 3840F(以上為沙多瑪(Sartomer)公司製造)、亞路風(ARUFON)UC-3000、亞路風(ARUFON)UC-3510、亞路風(ARUFON)UC-3900、亞路風(ARUFON)UC-3910、亞路風(ARUFON)UC-3920、亞路風(ARUFON)UC-3080(以上為東亞合成(股)製造)、莊克力(Joncryl)690、莊克力(Joncryl)678、莊克力(Joncryl)67、莊克力(Joncryl)586(以上為BASF公司製造)等。

(成分B)光酸產生劑

本發明的感光性樹脂組成物含有(成分B)光酸產生劑。

本發明中使用的(成分B)光酸產生劑優選的是感應波長為300 nm以上、優選的是波長為300 nm~450 nm的活性光線而產生酸的化合物，其化學結構並無限制。另外，關於不直接感應波長為300 nm以上的活性光線的光酸產生劑，只要是藉由與增感劑併用而感應波長為300 nm以上的活性光線，並產生酸的化合物，則可以與增感劑組合而優選地使用。

本發明中使用的光酸產生劑優選產生酸解離常數(pKa)為4以下的酸的光酸產生劑，更優選產生pKa為3以下的酸的光酸產生劑。

此外，關於pKa，可以利用眾所周知的測定方法、眾所周知的計算方法及/或文獻值等而求出值。

光酸產生劑的例子可以舉出：三氯甲基-均三嗪類、鋶鹽或錪鹽、四級銨鹽類、重氮甲烷化合物、醯亞胺磺酸酯化合物及肟磺酸酯化合物等。這些中，從高感度的觀點來看，優選的是使用肟磺酸酯化合物。這些光酸產生劑可以單獨使用一種或組合使用兩種以上。

這些化合物的具體例可以例示以下化合物。三氯甲基-均三嗪類可以例示：2-(3-氯苯基)-雙(4,6-三氯甲基)-均三嗪、2-(4-甲氧基苯基)-雙(4,6-三氯甲基)-均三嗪、2-(4-甲硫基苯基)-雙(4,6-三氯甲基)-均三嗪、2-(4-甲氧基-β-苯乙烯基)-雙(4,6-三氯甲基)-均三嗪、2-胡椒基-雙(4,6-三氯甲基)-均三嗪、2-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-雙(4,6-三氯甲基)-均三嗪、2-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-雙(4,6-三氯甲基)-均三嗪、2-[2-(4-二乙基胺基-2-甲基苯基)乙烯基]-雙(4,6-三氯甲基)-均三嗪或2-(4-甲氧基萘基)-雙(4,6-三氯甲基)-均三嗪等。

二芳基錪鹽類可以例示：二苯基錪三氟乙酸鹽、二苯基錪三氟甲磺酸鹽、4-甲氧基苯基苯基錪三氟甲磺酸鹽、4-甲氧基苯基苯基錪三氟乙酸鹽、苯基-4-(2'-羥基-1'-十四烷氧基)苯基錪三氟甲磺酸鹽、4-(2'-羥基-1'-十四烷氧基)苯基錪六氟銻酸鹽或苯基-4-(2'-羥基-1'-十四烷氧基)苯基錪對甲苯磺酸鹽等。

三芳基鋶鹽類可以例示：三苯基鋶三氟甲磺酸鹽、三 苯基鋶三氟乙酸鹽、4-甲氧基苯基二苯基鋶三氟甲磺酸鹽、4-甲氧基苯基二苯基鋶三氟乙酸鹽、4-苯硫基苯基二苯基鋶三氟甲磺酸鹽或4-苯硫基苯基二苯基鋶三氟乙酸鹽等。

四級銨鹽類可以例示：四甲基銨丁基三(2,6-二氟苯基)硼酸鹽、四甲基銨己基三(對氯苯基)硼酸鹽、四甲基銨己基三(3-三氟甲基苯基)硼酸鹽、苄基二甲基苯基銨丁基三(2,6-二氟苯基)硼酸鹽、苄基二甲基苯基銨己基三(對氯苯基)硼酸鹽、苄基二甲基苯基銨己基三(3-三氟甲基苯基)硼酸鹽等。

重氮甲烷衍生物可以例示：雙(環己基磺醯基)重氮甲烷、雙(第三丁基磺醯基)重氮甲烷、雙(對甲苯磺醯基)重氮甲烷等。

醯亞胺磺酸酯衍生物可以例示：三氟甲基磺醯氧基雙環[2.2.1]-庚-5-烯-二羧基醯亞胺、丁二醯亞胺三氟甲基磺酸酯、鄰苯二甲醯亞胺三氟甲基磺酸酯、N-羥基萘二甲醯亞胺甲烷磺酸酯、N-羥基-5-降冰片烯-2,3-二羧基醯亞胺丙磺酸酯等。

本發明的感光性樹脂組成物優選的是含有具有至少一個下述式(1)所表示的肟磺酸酯殘基的肟磺酸酯化合物作為(成分B)光酸產生劑。此外，波線部分表示與其他化學結構的鍵合位置。

[化11]

上述具有至少一個式(1)所表示的肟磺酸酯殘基的化合物優選下述式(OS-3)、式(OS-4)或式(OS-5)所表示的肟磺酸酯化合物。

式(OS-3)~式(OS-5)中，R¹表示烷基、芳基或雜芳基，多個存在的R²分別獨立表示氫原子、烷基、芳基或鹵素原子，多個存在的R⁶分別獨立表示鹵素原子、烷基、烷氧基、磺酸基、胺基磺醯基或烷氧基磺醯基，X表示O或S，n表示1或2，m表示0~6的整數。

所述式(OS-3)~式(OS-5)中，R¹所表示的烷基、芳基或雜芳基也可以具有取代基。

所述式(OS-3)~式(OS-5)中，R¹所表示的烷基優選的是可以具有取代基的總碳數為1~30的烷基。

R¹所表示的烷基可以具有的取代基可以舉出：鹵素原子、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基、芳 氧基羰基、胺基羰基。

所述式(OS-3)~式(OS-5)中，R¹所表示的烷基可以舉出：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、正己基、正辛基、正癸基、正十二烷基、三氟甲基、全氟丙基、全氟己基、苄基等。

另外，所述式(OS-3)~式(OS-5)中，R¹所表示的芳基優選的是可以具有取代基的總碳數為6~30的芳基。

R¹所表示的芳基可以具有的取代基可以舉出：鹵素原子、烷基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺基羰基、磺酸基、胺基磺醯基、烷氧基磺醯基。

R¹所表示的芳基優選苯基、對甲基苯基、對氯苯基、五氯苯基、五氟苯基、鄰甲氧基苯基、對苯氧基苯基。

另外，所述式(OS-3)~式(OS-5)中，R¹所表示的雜芳基優選的是可以具有取代基的總碳數為4~30的雜芳基。

R¹所表示的雜芳基可以具有的取代基可以舉出：鹵素原子、烷基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺基羰基、磺酸基、胺基磺醯基、烷氧基磺醯基。

所述式(OS-3)~式(OS-5)中，R¹所表示的雜芳基只要為至少一個雜芳香環即可，例如雜芳香環與苯環也可以縮環。

R¹所表示的雜芳基可以舉出：從可以具有取代基的選 自由噻吩環、吡咯環、噻唑環、咪唑環、呋喃環、苯並噻吩環、苯並噻唑環及苯並咪唑環所組成的組群中的環中去掉一個氫原子所得的基團。

所述式(OS-3)~式(OS-5)中，R²優選氫原子、烷基或芳基，更優選氫原子或烷基。

所述式(OS-3)~式(OS-5)中，在化合物中存在兩個以上的R²中，優選的是一個或兩個為烷基、芳基或鹵素原子，更優選的是一個為烷基、芳基或鹵素原子，特別優選的是一個為烷基、且其餘為氫原子。

所述式(OS-3)~式(OS-5)中，R²所表示的烷基或芳基也可以具有取代基。

R²所表示的烷基或芳基可以具有的取代基可以例示與所述R¹的烷基或芳基可以具有的取代基相同的基團。

所述式(OS-3)~式(OS-5)中，R²所表示的烷基優選的是可以具有取代基的總碳數為1~12的烷基，更優選的是可以具有取代基的總碳數為1~6的烷基。

R²所表示的烷基優選甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、正己基、烯丙基、氯甲基、溴甲基、甲氧基甲基、苄基，更優選甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、正己基，進而優選甲基、乙基、正丙基、正丁基、正己基，特別優選甲基。

所述式(OS-3)~式(OS-5)中，R²所表示的芳基優選可以具有取代基的總碳數為6~30的芳基。

R²所表示的芳基優選苯基、對甲基苯基、鄰氯苯基、 對氯苯基、鄰甲氧基苯基、對苯氧基苯基。

R²所表示的鹵素原子可以舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。這些中，優選氯原子、溴原子。

所述式(OS-3)~式(OS-5)中，X表示O或S，優選O。

所述式(OS-3)~式(OS-5)中，含有X作為環員的環為5員環或6員環。

所述式(OS-3)~式(OS-5)中，n表示1或2，當X為O時，n優選1，另外當X為S時，n優選2。

所述式(OS-3)~式(OS-5)中，R⁶所表示的烷基及烷氧基也可以具有取代基。

所述式(OS-3)~式(OS-5)中，R⁶所表示的烷基優選的是可以具有取代基的總碳數為1~30的烷基。

R⁶所表示的烷基可以具有的取代基可以舉出鹵素原子、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺基羰基。

所述式(OS-3)~式(OS-5)中，R⁶所表示的烷基優選甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、正己基、正辛基、正癸基、正十二烷基、三氟甲基、全氟丙基、全氟己基、苄基。

所述式(OS-3)~式(OS-5)中，R⁶所表示的烷氧基優選的是可以具有取代基的總碳數為1~30的烷氧基。

R⁶所表示的烷氧基可以具有的取代基可以舉出鹵素原子、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷氧基羰基、 芳氧基羰基、胺基羰基。

所述式(OS-3)~式(OS-5)中，R⁶所表示的烷氧基優選甲氧基、乙氧基、丁氧基、己氧基、苯氧基乙氧基、三氯甲氧基或乙氧基乙氧基。

R⁶的胺基磺醯基可以舉出甲基胺基磺醯基、二甲基胺基磺醯基、苯基胺基磺醯基、甲基苯基胺基磺醯基、胺基磺醯基。

R⁶所表示的烷氧基磺醯基可以舉出甲氧基磺醯基、乙氧基磺醯基、丙氧基磺醯基、丁氧基磺醯基。

另外，所述式(OS-3)~式(OS-5)中，m表示0~6的整數，優選0~2的整數，更優選0或1，特別優選0。

另外，所述式(OS-3)所表示的化合物特別優選下述式(OS-6)、式(OS-10)或式(OS-11)所表示的化合物，所述式(OS-4)所表示的化合物特別優選下述式(OS-7)所表示的化合物，所述式(OS-5)所表示的化合物特別優選下述式(OS-8)或式(OS-9)所表示的化合物。

式(OS-6)~式(OS-11)中，R¹表示烷基、芳基或雜芳基，R⁷表示氫原子或溴原子，R⁸表示氫原子、碳數為1~8的烷基、鹵素原子、氯甲基、溴甲基、溴乙基、甲氧基甲基、苯基或氯苯基，R⁹表示氫原子、鹵素原子、甲基或甲氧基，R¹⁰表示氫原子或甲基。

所述式(OS-6)~式(OS-11)中的R¹與所述式(OS-3)~式(OS-5)中的R¹為相同含意，優選態樣也相同。

所述式(OS-6)中的R⁷表示氫原子或溴原子，優選氫原子。

所述式(OS-6)~式(OS-11)中的R⁸表示氫原子、碳數為1~8的烷基、鹵素原子、氯甲基、溴甲基、溴乙基、甲氧基甲基、苯基或氯苯基，優選碳數為1~8的烷基、鹵素原子或苯基，更優選碳數為1~8的烷基，進而優選碳數為1~6的烷基，特別優選甲基。

所述式(OS-8)及式(OS-9)中的R⁹表示氫原子、鹵素原子、甲基或甲氧基，優選氫原子。

所述式(OS-8)~式(OS-11)中的R¹⁰表示氫原子或甲基，優選氫原子。

另外，所述肟磺酸酯化合物中，肟的立體結構(E、Z)可為任一種，也可為混合物。

所述式(OS-3)~式(OS-5)所表示的肟磺酸酯化合物的具體例可以舉出下述例示化合物，本發明不限定於這些化合物。

上述具有至少一個所述式(1)所表示的肟磺酸酯基的肟磺酸酯化合物的適當的其他態樣可以舉出下述式(OS-1)所表示的化合物。

上述式(OS-1)中，R¹表示氫原子、烷基、烯基、烷氧基、烷氧基羰基、醯基、胺甲醯基、胺磺醯基、磺基、氰基、芳基或雜芳基。R²表示烷基或芳基。

X表示-O-、-S-、-NH-、-NR⁵-、-CH₂-、-CR⁶H-、或-CR⁶R⁷-，R⁵~R⁷表示烷基或芳基。

R²¹~R²⁴分別獨立表示氫原子、鹵素原子、烷基、烯基、烷氧基、胺基、烷氧基羰基、烷基羰基、芳基羰基、醯胺基、磺基、氰基或芳基。R²¹~R²⁴中的兩個也可以分別相互鍵合而形成環。

R²¹~R²⁴優選氫原子、鹵素原子及烷基，另外，也另可以優選地舉出R²¹~R²⁴中的至少兩個相互鍵合而形成芳基的態樣。其中，從感度的觀點來說，優選的是R²¹~R²⁴均為氫原子的態樣。

所述取代基均可以進一步具有取代基。

所述式(OS-1)所表示的化合物更優選下述式(OS-2)所表示的化合物。

所述式(OS-2)中，R¹、R²、R²¹~R²⁴分別與式(OS-1)中的R¹、R²、R²¹~R²⁴為相同含意，另外優選例也相同。

這些中，更優選式(OS-1)及式(OS-2)中的R¹為氰基或芳基的態樣，最優選以式(OS-2)所表示且R¹為氰基、苯基或萘基的態樣。

另外，在所述肟磺酸酯化合物中，肟或苯並噻唑環的立體結構(E、Z等)分別可為任一種，也可為混合物。

以下，示出本發明中可以適當地使用的式(OS-1)所表示的化合物的具體例(例示化合物b-1~例示化合物b-34)，但本發明不限定於這些化合物。此外，具體例中，Me表示甲基，Et表示乙基，Bn表示苄基，Ph表示苯基。

[化24]

[化26]

[化29]

所述化合物中，從兼具感度與穩定性的觀點來看，優選b-9、b-16、b-31、b-33。

具有至少一個式(1)所表示的肟磺酸酯殘基的化合物的適當的態樣之一為下述式(2-1)所表示的化合物。式 (2-1)所表示的化合物為式(2)中的R^2A與R^1A鍵合而形成5員環的化合物。

式(2-1)中，R^3A表示碳數為1~8的烷基、對甲苯甲醯基、苯基、樟腦基、三氟甲基或九氟丁基，X表示烷基、烷氧基或鹵素原子，t表示0~3的整數，當t為2或3時，多個X可以相同也可以不同。

所述式(2-1)的R^3A中的碳數為1~8的烷基及九氟丁基可以為直鏈，也可以具有分支。另外，所述R^3A的烷基的碳數優選1~4，更優選1~3。

另外，所述R^3A的樟腦基(camphoryl)與硫原子的鍵合位置並無特別限制，優選10位。即，所述樟腦基優選10-樟腦基。

所述式(2-1)中的R^3A優選甲基、正丙基、正辛基、對甲苯甲醯基或樟腦基，更優選正丙基、正辛基、對甲苯甲醯基或樟腦基，進而優選正丙基或對甲苯甲醯基。

X所表示的烷基優選碳原子數為1~4的直鏈狀或分支狀烷基。

X所表示的烷氧基優選碳原子數為1~4的直鏈狀或 分支狀烷氧基。

X所表示的鹵素原子優選氯原子或氟原子。

t優選0或1。

式(2-1)中，特別優選t為1，X為甲基，X的取代位置為鄰位，R^3A為碳原子數為1~10的直鏈狀烷基、7,7-二甲基-2-氧雜降冰片基甲基或對甲苯甲醯基的化合物。

式(2-1)所表示的肟磺酸酯化合物的具體例可以舉出下述化合物(i)、化合物(ii)、化合物(iii)、化合物(iv)等，這些化合物可以單獨使用一種，也可以併用兩種以上。化合物(i)~化合物(iv)可以作為市售品而獲取。

另外，也可以與其他種類的特定光酸產生劑組合使用。

具有至少一個式(1)所表示的肟磺酸酯殘基的化合物優選下述式(2-2)所表示的化合物。

[化34]

式(2-2)中，R^4A表示鹵素原子、羥基、碳原子數為1~4的烷基、碳原子數為1~4的烷氧基或硝基，L表示0~5的整數。R^5A表示碳原子數為1~10的烷基、碳原子數為1~10的烷氧基、碳原子數為1~5的鹵化烷基、碳原子數為1~5的鹵化烷氧基、可經W取代的苯基、可經W取代的萘基或可經W取代的蒽基，W表示鹵素原子、氰基、硝基、碳原子數為1~10的烷基、碳原子數為1~10的烷氧基、碳原子數為1~5的鹵化烷基或碳原子數為1~5的鹵化烷氧基。

式(2-2)中的R^5A優選甲基、乙基、正丙基、正丁基、正辛基、三氟甲基、五氟乙基、全氟-正丙基、全氟-正丁基、對甲苯基、4-氯苯基或五氟苯基，特別優選甲基、乙基、正丙基、正丁基或對甲苯基。

R^4A所表示的鹵素原子優選氟原子、氯原子或溴原子。

R^4A所表示的碳原子數為1~4的烷基優選甲基或乙基。

R^4A所表示的碳原子數為1~4的烷氧基優選甲氧基或乙氧基。

L優選0~2，特別優選0~1。

具有至少一個式(1)所表示的肟磺酸酯殘基的化合物中，包含在式(2-2)所表示的化合物中的化合物的優選態樣為式(2-2)中R^4A表示苯基或4-甲氧基苯基，且R^5A表示甲基、乙基、正丙基、正丁基或4-甲苯基的態樣。

以下，示出具有至少一個式(1)所表示的肟磺酸酯殘基的化合物中包含在式(2-2)所表示的化合物中的化合物的特別優選的例子，但本發明不限定於這些例子。

α-(甲基磺醯氧基亞胺基)苄基氰(R^4A=苯基、R^5A=甲基)

α-(乙基磺醯氧基亞胺基)苄基氰(R^4A=苯基、R^5A=乙基)

α-(正丙基磺醯氧基亞胺基)苄基氰(R^4A=苯基、R^5A=正丙基)

α-(正丁基磺醯氧基亞胺基)苄基氰(R^4A=苯基、R^5A=正丁基)

α-(4-甲苯磺醯氧基亞胺基)苄基氰(R^4A=苯基、R^5A=4-甲苯基)

α-[(甲基磺醯氧基亞胺基)-4-甲氧基苯基]乙腈(R^4A=4-甲氧基苯基、R^5A=甲基)

α-[(乙基磺醯氧基亞胺基)-4-甲氧基苯基]乙腈(R^4A=4-甲氧基苯基、R^5A=乙基)

α-[(正丙基磺醯氧基亞胺基)-4-甲氧基苯基]乙腈(R^4A=4-甲氧基苯基、R^5A=正丙基)

α-[(正丁基磺醯氧基亞胺基)-4-甲氧基苯基]乙腈(R^4A =4-甲氧基苯基、R^5A=正丁基)

α-[(4-甲苯磺醯氧基亞胺基)-4-甲氧基苯基]乙腈(R^4A=4-甲氧基苯基、R^5A=4-甲苯基)

本發明的感光性樹脂組成物優選的是不含1,2-醌二疊氮化合物作為感應活性光線的(成分B)光酸產生劑。其原因在於：1,2-醌二疊氮化合物雖然藉由逐次型光化學反應而生成羧基，但其量子產率為1以下，感度低於肟磺酸酯化合物。

相對於此，肟磺酸酯化合物感應活性光線而生成的酸作為催化劑對被保護的酸性基的脫保護發揮作用，因此藉由一個光量子的作用而生成的酸有助於多次脫保護反應，量子產率超過1而成為例如10的數次方那樣的大的值，一般推測可以獲得高感度作為所謂化學增幅的結果。

在本發明的感光性樹脂組成物中，相對於成分A 100質量份，(成分B)光酸產生劑優選的是使用0.1質量份~10質量份，更優選的是使用0.5質量份~10質量份。

(成分C)交聯劑

本發明的感光性樹脂組成物含有(成分C)交聯劑。

另外，本發明的感光性樹脂組成物中的(成分C)交聯劑的特徵在於：包含母結構為縮二脲結構的封端異氰酸酯化合物。

一般推測，所述封端異氰酸酯化合物在後烘烤時脫保護而生成異氰酸酯基，與活性氫化合物、例如在成分A含有結構單元(a4)的情況下與其羥基、在成分A含有結構 單元(a1)或結構單元(a2)的情況下與羧基或酚性羥基反應，形成交聯結構。

另外，本發明的感光性樹脂組成物也可以含有分子內具有兩個以上的環氧基或氧雜環丁基的化合物、含烷氧基甲基的交聯劑及/或具有至少一個乙烯性不飽和雙鍵的化合物等作為成分C。

-封端異氰酸酯化合物-

本發明的感光性樹脂組成物中的封端異氰酸酯化合物是母結構為縮二脲結構的封端異氰酸酯化合物。從硬化性的觀點來看，本發明中的封端異氰酸酯系化合物優選的是一分子內具有兩個以上的封端異氰酸酯基的化合物。

此外，所謂本發明中的封端異氰酸酯基，是指可以藉由熱而生成異氰酸酯基的基團，例如可以優選地例示使封端劑與異氰酸酯基反應而保護異氰酸酯基所得的基團。另外，所述封端異氰酸酯基優選的是可以藉由90℃~250℃的熱而生成異氰酸酯基的基團。

用於合成封端異氰酸酯化合物的母結構的異氰酸酯化合物只要在一分子中具有兩個以上的異氰酸酯基便可，也可為脂肪族、脂環族或芳香族的聚異氰酸酯，例如可以適當地使用：2,4-甲苯二異氰酸酯、2,6-甲苯二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、1,6-六亞甲基二異氰酸酯、1,3-三亞甲基二異氰酸酯、1,4-四亞甲基二異氰酸酯、2,2,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、2,4,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、1,9-九亞甲基二異氰酸酯、1,10-十亞甲基二異氰酸酯、1,4- 環己烷二異氰酸酯、2,2'-二乙基醚二異氰酸酯、二苯基甲烷-4,4'-二異氰酸酯、鄰二甲苯二異氰酸酯、間二甲苯二異氰酸酯、對二甲苯二異氰酸酯、亞甲基雙(環己基異氰酸酯)、環己烷-1,3-二亞甲基二異氰酸酯、環己烷-1,4-二亞甲基二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、對伸苯基二異氰酸酯、3,3'-亞甲基二甲苯-4,4'-二異氰酸酯、4,4'-二苯基醚二異氰酸酯、四氯伸苯基二異氰酸酯、降冰片烷二異氰酸酯、氫化1,3-二甲苯二異氰酸酯、氫化1,4-二甲苯二異氰酸酯等異氰酸酯化合物及由這些化合物衍生的預聚物型的骨架的化合物。這些中，特別優選甲苯二異氰酸酯(TDI)或二苯基甲烷二異氰酸酯(MDI)、六亞甲基二異氰酸酯(HDI)、異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)。

所謂所述縮二脲結構，是指下述式(bi)所表示的結構，優選下述式(bi-1)所表示的結構，更優選下述式(bi-2)所表示的結構。此外，下述式中，波線部分為與其他結構的鍵合部分。

式(bi-1)及式(bi-2)中，R¹、R²及R³分別獨立表示脂肪族、脂環族或芳香族系二異氰酸酯的異氰酸酯基以 外的殘基，R⁴及R⁵分別獨立表示氫原子、烷基或芳基。

所用的脂肪族、脂環族或芳香族系二異氰酸酯可以優選地使用上文所記載的脂肪族、脂環族或芳香族的聚異氰酸酯中作為二異氰酸酯的化合物。

封端異氰酸酯化合物中的縮二脲結構的形成方法並無特別限制，只要利用眾所周知的方法來形成便可，例如可以藉由異氰酸酯化合物的三聚化而容易地形成。

形成所述封端異氰酸酯化合物的封端結構的封端劑可以舉出：肟化合物、內醯胺化合物、酚化合物、醇化合物、胺化合物、活性亞甲基化合物、吡唑化合物、硫醇化合物、咪唑系化合物、醯亞胺系化合物等。這些中，特別優選的是選自肟化合物、內醯胺化合物、酚化合物、醇化合物、吡唑化合物中的封端劑。

所述肟化合物可以舉出肟及酮肟，具體可以例示丙酮肟、甲醛肟(formaldoxime)、環己烷肟、甲基乙基酮肟、環己酮肟、二苯甲酮肟、丙酮肟等。

所述內醯胺化合物可以例示ε-己內醯胺、γ-丁內醯胺等。

所述酚化合物可以例示苯酚、萘酚、甲酚、二甲苯酚、鹵素取代苯酚等。

所述醇化合物可以例示甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、環己醇、乙二醇單烷基醚、丙二醇單烷基醚、乳酸烷基酯等。

所述胺化合物可以舉出一級胺及二級胺，芳香族胺、脂肪族胺、脂環族胺均可，可以例示苯胺、二苯胺、乙烯 亞胺、聚乙烯亞胺等。

所述活性亞甲基化合物可以例示丙二酸二乙酯、丙二酸二甲酯、乙醯乙酸乙酯、乙醯乙酸甲酯等。

所述吡唑化合物可以例示吡唑、甲基吡唑、二甲基吡唑等。

所述硫醇化合物可以例示烷基硫醇、芳基硫醇等。

本發明的感光性樹脂組成物中使用的母結構為縮二脲結構的封端異氰酸酯化合物可以作為市售品而獲取，例如可以舉出多耐德(Duranate)17B-60PX、17B-60P(以上為旭化成化學(股)製造)。

在本發明的感光性樹脂組成物中，相對於感光性樹脂組成物的總固體成分，母結構為縮二脲結構的封端異氰酸酯化合物優選0.1質量%~8質量%，更優選0.2質量%~7質量%，最優選0.5質量%~5質量%。也可以併用兩種以上。

-含烷氧基甲基的交聯劑-

另外，在本發明的感光性樹脂組成物中，除了所述封端異氰酸酯以外，可以使用已知的交聯劑，例如可以適當地使用含烷氧基甲基的交聯劑。

含烷氧基甲基的交聯劑的具體例可以優選地舉出烷氧基甲基化三聚氰胺、烷氧基甲基化苯代三聚氰胺、烷氧基甲基化甘脲及烷氧基甲基化脲等。這些化合物可以分別藉由將羥甲基化三聚氰胺、羥甲基化苯代三聚氰胺、羥甲基化甘脲或羥甲基化脲的羥甲基轉變為烷氧基甲基而獲 得。

該烷氧基甲基的種類並無特別限定，例如可以舉出甲氧基甲基、乙氧基甲基、丙氧基甲基、丁氧基甲基等，從逸氣的產生量的觀點來看，特別優選甲氧基甲基。

這些含烷氧基甲基的交聯劑中，可以舉出烷氧基甲基化三聚氰胺、烷氧基甲基化苯代三聚氰胺、烷氧基甲基化甘脲作為優選的含烷氧基甲基的交聯劑，從耐化學品性效果的觀點來看，特別優選烷氧基甲基化三聚氰胺。

這些含烷氧基甲基的交聯劑可以作為市售品而獲得，例如可以優選地使用：塞梅爾(Cymel)300、301、303、370、325、327、701、266、267、238、1141、272、202、1156、1158、1123、1170、1174、UFR65、300(以上為三井氰胺(股)製造)，尼卡拉克(Nikalac)MX-750、-032、-706、-708、-40、-31、-270、-280、-290、尼卡拉克(Nikalac)MS-11、尼卡拉克(Nikalac)MW-30HM、-100LM、-390、(以上為三和化學(股)製造)等。

在本發明的感光性樹脂組成物含有含烷氧基甲基的交聯劑的情況下，相對於感光性樹脂組成物的總固體成分，本發明的感光性樹脂組成物中的含烷氧基甲基的交聯劑的添加量優選0.1質量%~10質量%，更優選0.2質量%~7質量%，最優選0.5質量%~5質量%。

-分子內具有兩個以上的環氧基或氧雜環丁基的化合物-

本發明的感光性樹脂組成物優選的是含有分子內具 有兩個以上的環氧基或氧雜環丁基的化合物作為成分C。

分子內具有兩個以上的環氧基的化合物的具體例可以舉出：雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、脂肪族環氧化合物等。所述脂肪族環氧化合物為具有直鏈及/或分支的碳鏈及環氧基的樹脂，且在碳鏈上除了氫原子以外鍵合著氧原子、氮原子、硫原子、氯原子等。所述脂肪族環氧化合物特別優選的是包含直鏈及/或分支的碳鏈、氫原子及環氧基的樹脂、或該樹脂經羥基取代而成的樹脂。環氧基的個數優選1~4，更優選2或3。

這些樹脂可以作為市售品而獲取。例如，雙酚A型環氧樹脂為JER827、JER828、JER834、JER1001、JER1002、JER1003、JER1055、JER1007、JER1009、JER1010(以上為日本環氧樹脂(股)製造)、艾比克隆(EPICLON)860、艾比克隆(EPICLON)1050、艾比克隆(EPICLON)1051、艾比克隆(EPICLON)1055(以上為DIC(股)製造)等，雙酚F型環氧樹脂為JER806、JER807、JER4004、JER4005、JER4007、JER4010(以上為日本環氧樹脂(股)製造)、艾比克隆(EPICLON)830、艾比克隆(EPICLON)835(以上為DIC(股)製造)、LCE-21、RE-602S(以上為日本化藥(股)製造)等，苯酚酚醛清漆型環氧樹脂為JER152、JER154、JER157S70、JER157S65(以上為日本環氧樹脂(股)製造)、艾比克隆(EPICLON)N-740、艾比克隆(EPICLON)N-740、艾比克隆(EPICLON)N-770、 艾比克隆(EPICLON)N-775(以上為DIC(股)製造)等，甲酚酚醛清漆型環氧樹脂為艾比克隆(EPICLON)N-660、艾比克隆(EPICLON)N-665、艾比克隆(EPICLON)N-670、艾比克隆(EPICLON)N-673、艾比克隆(EPICLON)N-680、艾比克隆(EPICLON)N-690、艾比克隆(EPICLON)N-695(以上為DIC(股)製造)、EOCN-1020(以上為日本化藥(股)製造)等，脂肪族環氧樹脂為艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4080S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4085S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4088S(以上為艾迪科(ADEKA)(股)製造)，脂肪族環氧化合物為賽洛西德(Celloxide)2021P、賽洛西德(Celloxide)2081、賽洛西德(Celloxide)2083、賽洛西德(Celloxide)2085、EHPE 3150、艾博裏德(EPOLEAD)PB 3600、艾博裏德(EPOLEAD)PB 4700(以上為大賽璐化學工業(股)製造)等。此外，也可以舉出艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4000S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4003S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4010S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4011S(以上為艾迪科(ADEKA)(股)製造)、NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502(以上為艾迪科(ADEKA)(股)製造)等。

另外，脂肪族環氧化合物可以舉出下述式(X-1)所表示的化合物。

[化36]

式(X-1)中，A表示直鏈或分支的烴基，也可以具有羥基作為取代基，n表示1~4的整數。

式(X-1)中的A的碳數優選1~20，更優選1~15，進而優選2~10，特別優選2~6。

式(X-1)中的n表示1~4的整數，優選2或3。

脂肪族環氧化合物更優選下述式(X-2)所表示的化合物。

式(X-2)中，A'表示直鏈或分支的烴基，也可以具有羥基作為取代基，n表示1~4的整數。

式(X-2)中的A'的碳數優選1~18，更優選1~13，進而優選2~8。

式(X-2)中的n表示1~4的整數，優選2或3。

本發明中可以優選地使用的脂肪族環氧化合物可以舉出：代那考爾(Denacol)EX-611、EX-612、EX-614、 EX-614B、EX-622、EX-512、EX-521、EX-411、EX-421、EX-313、EX-314、EX-321、EX-211、EX-212、EX-810、EX-811、EX-850、EX-851、EX-821、EX-830、EX-832、EX-841、EX-911、EX-941、EX-920、EX-931、EX-212L、EX-214L、EX-321L、EX-850L、EX-211L、EX-946L、DLC-201、DLC-203、DLC-204、DLC-205、DLC-206、DLC-301、DLC-402(以上為長瀨化成(股)製造)，YH-300、YH-301、YH-302、YH-315、YH-324、YH-325(以上為新日鐵化學(股)製造)等。

這些中，特別優選下述所示的三羥甲基丙烷三縮水甘油醚或新戊二醇二縮水甘油醚。所述化合物中，EX-321、EX-321L、EX-211、EX-211L(以上為長瀨化成(股)製造)相當於這些化合物。

這些化合物可以單獨使用一種或組合使用兩種以上。

這些化合物中，可以優選地舉出環氧樹脂及脂肪族環氧化合物，可以更優選地舉出雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂及脂肪族環氧化合物，可以特別優選地舉出雙酚A型環氧樹脂及脂肪族環氧化合物。

分子內具有兩個以上的氧雜環丁基的化合物的具體例可以使用阿榮氧雜環丁烷(Aron Oxetane)OXT-121、OXT-221、OX-SQ、PNOX(以上為東亞合成(股)製造)。

另外，含有氧雜環丁基的化合物優選的是單獨使用或與含有環氧基的化合物混合而使用。

在本發明的感光性樹脂組成物中使用分子內具有兩個以上的環氧基或氧雜環丁基的化合物的情況下，相對於成分A 100質量份，分子內具有兩個以上的環氧基或氧雜環丁基的化合物在感光性樹脂組成物中的添加量優選0.1質量份~50質量份，更優選0.5質量份~30質量份，進而優選1質量份~10質量份。

-具有至少一個乙烯性不飽和雙鍵的化合物-

具有至少一個乙烯性不飽和雙鍵的化合物可以適當地使用單官能(甲基)丙烯酸酯、二官能(甲基)丙烯酸酯、三官能以上的(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸酯化合物。

單官能(甲基)丙烯酸酯例如可以舉出：(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯、卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸-3-甲氧基丁酯、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-2-羥基丙基鄰苯二甲酸酯等。

二官能(甲基)丙烯酸酯例如可以舉出：乙二醇(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙苯氧基乙醇茀二(甲基)丙烯酸酯、雙苯氧基乙醇茀二丙烯酸酯等。

三官能以上的(甲基)丙烯酸酯例如可以舉出：三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三((甲基)丙烯醯氧基乙基)磷酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。

這些具有至少一個乙烯性不飽和雙鍵的化合物可以單獨使用一種或組合使用兩種以上。

在本發明的感光性樹脂組成物中使用具有一個乙烯性不飽和雙鍵的化合物的情況下，相對於成分A 100質量份，本發明的感光性樹脂組成物中的具有至少一個乙烯性不飽和雙鍵的化合物的使用比例優選50質量份以下，更優選30質量份以下。藉由以這種比例含有具有至少一個乙烯性不飽和雙鍵的化合物，可以使由本發明的感光性樹脂組成物所得的硬化膜的耐熱性及表面硬度等提高。在添加具有至少一個乙烯性不飽和雙鍵的化合物的情況下，優選的是添加後述熱自由基產生劑。

(成分D)溶劑

本發明的感光性樹脂組成物含有(成分D)溶劑。

本發明的感光性樹脂組成物優選的是製備成以下液 體：將作為必需成分的成分A~成分C及作為優選成分的後述各種添加劑的任意成分溶解或分散於(成分D)溶劑中而成的液體。

本發明的感光性樹脂組成物中使用的(成分D)溶劑可以使用眾所周知的溶劑，可以例示乙二醇單烷基醚類、乙二醇二烷基醚類、乙二醇單烷基醚乙酸酯類、丙二醇單烷基醚類、丙二醇二烷基醚類、丙二醇單烷基醚乙酸酯類、二乙二醇二烷基醚類、二乙二醇單烷基醚乙酸酯類、二丙二醇單烷基醚類、二丙二醇二烷基醚類、二丙二醇單烷基醚乙酸酯類、酯類、酮類、醯胺類、內酯類等。

本發明的感光性樹脂組成物中使用的(成分D)溶劑例如可以舉出：(1)乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丙醚、乙二醇單丁醚等乙二醇單烷基醚類；(2)乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、乙二醇二丙醚等乙二醇二烷基醚類；(3)乙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、乙二醇單丙醚乙酸酯、乙二醇單丁醚乙酸酯等乙二醇單烷基醚乙酸酯類；(4)丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單丙醚、丙二醇單丁醚等丙二醇單烷基醚類；(5)丙二醇二甲醚、丙二醇二乙醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚等丙二醇二烷基醚類；(6)丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯、丙二醇單丁醚乙酸酯等丙二醇單烷基醚乙酸酯類；(7)二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇乙基甲基醚等二乙二醇二烷基醚類；(8)二乙二 醇單甲醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇單丙醚乙酸酯、二乙二醇單丁醚乙酸酯等二乙二醇單烷基醚乙酸酯類；(9)二丙二醇單甲醚、二丙二醇單乙醚、二丙二醇單丙醚、二丙二醇單丁醚等二丙二醇單烷基醚類；(10)二丙二醇二甲醚、二丙二醇二乙醚、二丙二醇乙基甲基醚等二丙二醇二烷基醚類；(11)二丙二醇單甲醚乙酸酯、二丙二醇單乙醚乙酸酯、二丙二醇單丙醚乙酸酯、二丙二醇單丁醚乙酸酯等二丙二醇單烷基醚乙酸酯類；(12)乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸正丙酯、乳酸異丙酯、乳酸正丁酯、乳酸異丁酯、乳酸正戊酯、乳酸異戊酯等乳酸酯類；(13)乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、乙酸正戊酯、乙酸異戊酯、乙酸正己酯、乙酸-2-乙基己酯、丙酸乙酯、丙酸正丙酯、丙酸異丙酯、丙酸正丁酯、丙酸異丁酯、丁酸甲酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸異丙酯、丁酸正丁酯、丁酸異丁酯等脂肪族羧酸酯類；(14)羥基乙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、2-羥基-3-甲基丁酸乙酯、甲氧基乙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丁酸酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯等其他酯類；(15)甲基乙基酮、甲基丙基酮、甲基-正丁基酮、甲基異丁基酮、2-庚酮、3-庚酮、4-庚酮、環己酮等酮類； (16)N-甲基甲醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基乙醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯烷酮等醯胺類；(17)γ-丁內酯等內酯類等。

另外，在這些溶劑中，進一步視需要也可以添加苄基乙基醚、二己醚、乙二醇單苯醚乙酸酯、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、異佛爾酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苄醇、苯甲醚、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、馬來酸二乙酯、碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯等溶劑。

所述溶劑中，特別優選二乙二醇乙基甲基醚、丙二醇單甲醚乙酸酯。

本發明中可以使用的溶劑可以單獨使用一種或併用兩種以上。

相對於成分A 100質量份，本發明的感光性樹脂組成物中的(成分D)溶劑的含量優選50質量份~3,000質量份，更優選100質量份~2,000質量份，進而優選150質量份~1,500質量份。

<其他成分>

本發明的感光性樹脂組成物將所述成分A~成分D作為必需成分，也可以含有其他任意成分。任意成分可以舉出：(成分E)增感劑、(成分F)鹼性化合物、(成分G)界面活性劑、(成分H)密接改良劑、(成分I)顯影促進劑、(成分J)抗氧化劑、(成分K)塑化劑、(成分L)熱自由基產生劑、(成分M)熱酸產生劑、(成分N)酸增殖劑、紫外線吸收劑、增黏劑及有機或無機的防沉澱劑 等。本發明中可以使用的添加劑不限定於這些物質，可以使用該領域中眾所周知的各種添加劑。

作為其他成分，本發明的感光性樹脂組成物從基板密接性的觀點來看，優選的是含有(成分H)密接改良劑，從液保存穩定性的觀點來看，優選的是含有(成分F)鹼性化合物，從塗布性的觀點來看，優選的是含有(成分G)界面活性劑(氟系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等)。

另外，從感度的觀點來看，優選的是含有(成分I)顯影促進劑。另外，從感度的觀點來看，優選的是添加(成分E)增感劑。

以下，對本發明的感光性樹脂組成物中可以含有的其他成分進行說明。

(成分E)增感劑

本發明的感光性樹脂組成物優選的是含有(成分E)光增感劑。

藉由含有光增感劑，對於提高曝光感度來說有效，在曝光光源為g線、h線混合線的情況下特別有效。

光增感劑優選蒽衍生物、吖啶酮衍生物、噻噸酮衍生物、香豆素衍生物、鹼性苯乙烯基衍生物、二苯乙烯基苯衍生物。

蒽衍生物優選蒽、9,10-二丁氧基蒽、9,10-二氯蒽、2-乙基-9,10-二甲氧基蒽、9-羥基甲基蒽、9-溴蒽、9-氯蒽、9,10-二溴蒽、2-乙基蒽、9,10-二甲氧基蒽。

吖啶酮衍生物優選吖啶酮、N-丁基-2-氯吖啶酮、N- 甲基吖啶酮、2-甲氧基吖啶酮、N-乙基-2-甲氧基吖啶酮。

噻噸酮衍生物優選噻噸酮、二乙基噻噸酮、1-氯-4-丙氧基噻噸酮、2-氯噻噸酮。

香豆素衍生物優選香豆素-1、香豆素-6H、香豆素-110、香豆素-102。

鹼性苯乙烯基衍生物可以舉出2-(4-二甲基胺基苯乙烯基)苯並噁唑、2-(4-二甲基胺基苯乙烯基)苯並噻唑、2-(4-二甲基胺基苯乙烯基)萘並噻唑。

二苯乙烯基苯衍生物可以舉出二苯乙烯基苯、二(4-甲氧基苯乙烯基)苯、二(3,4,5-三甲氧基苯乙烯基)苯。

這些光增感劑中，優選蒽衍生物，更優選9,10-二烷氧基蒽(烷氧基的碳數為1~6)。

光增感劑的具體例可以舉出下述化合物。此外，下述中，Me表示甲基，Et表示乙基，Bu表示丁基。

相對於成分A及成分B的總含量100質量份，本發明 的感光性樹脂組成物中的光增感劑的含量優選0.1質量份~10質量份，更優選0.5質量份~10質量份。若光增感劑的含量為0.1質量份以上，則容易獲得所需的感度，另外若為10質量份以下，則容易確保塗膜的透明性。

(成分F)鹼性化合物

從液保存穩定性的觀點來看，本發明的感光性樹脂組成物優選的是含有(成分F)鹼性化合物。

鹼性化合物可以從化學增幅抗蝕劑中所用的化合物中任意選擇使用。例如可以舉出脂肪族胺、芳香族胺、雜環式胺、氫氧化四級銨及羧酸的四級銨鹽等。

脂肪族胺例如可以舉出：三甲胺、二乙胺、三乙胺、二正丙胺、三正丙胺、二正戊胺、三正戊胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二環己胺、二環己基甲胺等。

芳香族胺例如可以舉出：苯胺、苄胺、N,N-二甲基苯胺、二苯胺等。

雜環式胺例如可以舉出：吡啶、2-甲基吡啶、4-甲基吡啶、2-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2-苯基吡啶、4-苯基吡啶、N-甲基-4-苯基吡啶、4-二甲基胺基吡啶、咪唑、苯並咪唑、4-甲基咪唑、2-苯基苯並咪唑、2,4,5-三苯基咪唑、煙鹼、煙鹼酸、煙鹼醯胺、喹啉、8-羥基喹啉、吡嗪、吡唑、噠嗪、嘌呤、吡咯啶、呱啶、呱嗪、嗎啉、4-甲基嗎啉、N-環己基-N'-[2-(4-嗎啉基)乙基]硫脲、1,5-二氮雜雙環[4.3.0]-5-壬烯、1,8-二氮雜雙環[5.3.0]-7-十一烯等。

氫氧化四級銨例如可以舉出：氫氧化四甲基銨、氫氧 化四乙基銨、氫氧化四正丁基銨、氫氧化四正己基銨等。

羧酸的四級銨鹽例如可以舉出：四甲基銨乙酸鹽、四甲基銨苯甲酸鹽、四正丁基銨乙酸鹽、四正丁基銨苯甲酸鹽等。

本發明中可以使用的鹼性化合物可以單獨使用一種，也可以併用兩種以上。

相對於成分A 100質量份，本發明的感光性樹脂組成物中的(成分F)鹼性化合物的含量優選0.001質量份~1質量份，更優選0.002質量份~0.2質量份。

(成分G)界面活性劑(氟系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等)

本發明的感光性樹脂組成物優選的是含有(成分G)界面活性劑(氟系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等)。

界面活性劑可以舉出含有下述所示的結構單元A及結構單元B的共聚物(3)作為優選例。該共聚物的重量平均分子量(Mw)優選1,000以上、10,000以下，更優選1,500以上、5,000以下。重量平均分子量為利用凝膠滲透色譜法測定的聚苯乙烯換算的值。

共聚物(3)中，R²¹及R²³分別獨立表示氫原子或甲基，R²²表示碳數為1以上、4以下的直鏈伸烷基，R²⁴表示氫原子或碳數為1以上、4以下的烷基，L表示碳數為3以上、6以下的伸烷基，p及q為表示聚合比的質量百分率，p表示10質量%以上、80質量%以下的數值，q表示20質量%以上、90質量%以下的數值，r表示1以上、18以下的整數，n表示1以上、10以下的整數。

結構單元B中的L優選下述式(4)所表示的伸烷基。

式(4)中，R²⁵表示碳數為1以上、4以下的烷基，從相溶性及對被塗布面的濡濕性的方面來說，優選碳數為1以上、3以下的烷基，更優選碳數為2或3的烷基。

另外，p與q的和(p+q)優選的是p+q=100、即100質量%。

氟系界面活性劑、矽酮系界面活性劑的例子具體可以舉出：日本專利特開昭62-36663號、日本專利特開昭61-226746號、日本專利特開昭61-226745號、日本專利特開昭62-170950號、日本專利特開昭63-34540號、日本專利特開平7-230165號、日本專利特開平8-62834號、日本專利特開平9-54432號、日本專利特開平9-5988號、日本專利特開2001-330953號等各公報記載的界面活性劑，也 可以使用市售的界面活性劑。可以使用的市售的界面活性劑例如可以舉出：艾夫托普(F-top)EF301、EF303(以上為新秋田化成(股)製造)，佛羅拉德(Fluorad)FC430、431(以上為住友3M(股)製造)，美佳法克(Megaface)F171、F173、F176、F189、R08(以上為DIC(股)製造)，沙福隆(Surflon)S-382、SC101、102、103、104、105、106(以上為旭硝子(股)製造)，波利佛斯(PolyFox)系列(歐諾瓦(OMNOVA)公司製造)等氟系界面活性劑或矽酮系界面活性劑。另外，多晶矽氧烷聚合物KP-341(信越化學工業(股)製造)也可以用作矽酮系界面活性劑。

這些界面活性劑可以單獨使用一種或混合使用兩種以上。另外，也可以併用氟系界面活性劑與矽酮系界面活性劑。

相對於成分A 100質量份，本發明的感光性樹脂組成物中的(成分G)界面活性劑(氟系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等)的添加量優選10質量份以下，更優選0.01質量份~10質量份，進而優選0.01質量份~1質量份。

(成分H)密接改良劑

本發明的感光性樹脂組成物優選的是含有(成分H)密接改良劑。

本發明的感光性樹脂組成物中可以使用的(成分H)密接改良劑為使成為基板的無機物例如矽、氧化矽、氮化矽等矽化合物、金、銅、鋁、鉬、鈦等金屬與絕緣膜的密 接性提高的化合物。具體可以舉出矽烷偶合劑、硫醇系化合物等。作為本發明中使用的(成分H)密接改良劑的矽烷偶合劑是以界面的改質為目的，並無特別限定，可以使用眾所周知的矽烷偶合劑。

優選的矽烷偶合劑可以舉出：1,2-雙(三乙氧基矽烷基)乙烷、1,4-雙(三甲氧基矽烷基)丁烷、1-甲基二甲氧基矽烷基-4-三甲氧基矽烷基丁烷、1,4-雙(甲基二甲氧基矽烷基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽烷基)戊烷、1,4-雙(三甲氧基矽烷基)戊烷、1-甲基二甲氧基矽烷基-5-三甲氧基矽烷基戊烷、1,5-雙(甲基二甲氧基矽烷基)戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽烷基)己烷、1,4-雙(三甲氧基矽烷基)己烷、1,5-雙(三甲氧基矽烷基)己烷、2,5-雙(三甲氧基矽烷基)己烷、1,6-雙(甲基二甲氧基矽烷基)己烷、1,7-雙(三甲氧基矽烷基)庚烷、2,5-雙(三甲氧基矽烷基)庚烷、2,6-雙(三甲氧基矽烷基)庚烷、1,8-雙(三甲氧基矽烷基)辛烷、2,5-雙(三甲氧基矽烷基)辛烷、2，7-雙(三甲氧基矽烷基)辛烷、1,9-雙(三甲氧基矽烷基)壬烷、2,7-雙(三甲氧基矽烷基)壬烷、1,10-雙(三甲氧基矽烷基)癸烷、3,8-雙(三甲氧基矽烷基)癸烷、乙烯基三氯矽烷、1,3-雙(三氯矽烷)丙烷、1,3-雙(三溴矽烷)丙烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、β-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、對苯乙烯基三甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三 甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、N-(β-胺基乙基)-γ-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-(β-胺基乙基)-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-(β-胺基乙基)-γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-巰基丙基三甲氧基矽烷、γ-巰基丙基三乙氧基矽烷、巰基甲基三甲氧基矽烷、二甲氧基-3-巰基丙基甲基矽烷、2-(2-胺基乙硫基乙基)二乙氧基甲基矽烷、3-(2-乙醯氧基乙硫基丙基)二甲氧基甲基矽烷、2-(2-胺基乙硫基乙基)三乙氧基矽烷、二甲氧基甲基-3-(3-苯氧基丙硫基丙基)矽烷、雙(三乙氧基矽烷基丙基)二硫醚、雙(三乙氧基矽烷基丙基)四硫醚、1,4-雙(三乙氧基矽烷基)苯、雙(三乙氧基矽烷基)乙烷、1,6-雙(三甲氧基矽烷基)己烷、1,8-雙(三乙氧基矽烷基)辛烷、1,2-雙(三甲氧基矽烷基)癸烷、雙(三乙氧基矽烷基丙基)胺、雙(三甲氧基矽烷基丙基)脲、γ-氯丙基三甲氧基矽烷、γ-三乙氧基矽烷基丙基(甲基)丙烯酸酯、γ-脲基丙基三乙氧基矽烷、三甲基矽烷醇、二苯基矽烷二醇、三苯基矽烷醇等。

除此以外，可以舉出以下所示的化合物作為優選的化合物，但本發明不受這些化合物的限制。

[化42]

[化44]

[化46]

所述各式中，R及R¹分別表示選自以下結構中的部分結構。在分子內存在多個R及R¹的情況下，這些可彼此相同也可不同，從合成適性的方面來看，優選的是相同。

所述矽烷偶合劑也可以適宜合成而獲得，但從成本的方面來說優選的是使用市售品，例如信越化學工業(股)、東麗道康寧(股)、邁圖高新材料(Momentive Performance Materials)(股)、智索(Chisso)(股)等所市售的矽烷產品、矽烷偶合劑等市售品相當於所述矽烷偶合劑，因此本發明的樹脂組成物中也可以根據目的而適宜選擇使用這些市售品。

這些中，可以適當地使用γ-縮水甘油氧基丙基三烷氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三烷氧基矽烷、雙(三乙氧 基矽烷基丙基)二硫醚、雙(三乙氧基矽烷基丙基)四硫醚。

另外，本發明中，密接改良劑也可以例示式(H-1)所表示的密接改良劑。

(R^H1)_4-n'-Si-(OR^H2)_n' (H-1)

(式(H-1)中，R^H1表示不具有反應性基的取代基，R^H2表示烷基，n'表示1~3的整數)

式(H-1)所表示的密接改良劑可以例示下述化合物。此外，下述化合物中的Ph表示苯基。

[化48]

[化49]

這些密接改良劑可以單獨使用一種或組合使用兩種以上。這些密接改良劑對於與基板的密接性的提高有效，並且對於與基板的斜角的調整也有效。

相對於成分A 100質量份，本發明的感光性樹脂組成物中的(成分H)密接改良劑的含量優選0.1質量份~20質量份，更優選0.5質量份~10質量份。

(成分I)顯影促進劑

本發明的感光性樹脂組成物優選的是含有(成分I)顯影促進劑。

(成分I)顯影促進劑可以使用具有顯影促進效果的任意的化合物，優選的是具有選自由羧基、酚性羥基及伸烷氧基所組成的組群中的至少一種結構的化合物，更優選具有羧基或酚性羥基的化合物，最優選具有酚性羥基的化合物。

另外，(成分I)顯影促進劑的分子量優選100~2,000，進而優選150~1,500，最優選150~1,000。

作為顯影促進劑的例子，具有伸烷氧基的化合物可以舉出：聚乙二醇、聚乙二醇的單甲醚、聚乙二醇的二甲醚、聚乙二醇甘油酯、聚丙二醇甘油酯、聚丙二醇二甘油酯、聚丁二醇、聚乙二醇-雙酚A醚、聚丙二醇-雙酚A醚、聚氧亞乙基的烷基醚、聚氧亞乙基的烷基酯及日本專利特開平9-222724號公報中記載的化合物等。

具有羧基的化合物可以舉出日本專利特開2000-66406號公報、日本專利特開平9-6001號公報、日本專利特開平10-20501號公報、日本專利特開平11-338150號公報等中記載的化合物。

具有酚性羥基的化合物可以舉出日本專利特開2005-346024號公報、日本專利特開平10-133366號公報、日本專利特開平9-194415號公報、日本專利特開平9-222724號公報、日本專利特開平11-171810號公報、日本專利特開2007-121766號公報、日本專利特開平9-297396號公報、日本專利特開2003-43679號公報等中記載的化合物。這些中，適當的是苯環數為2個~10個的酚化合物，進而適當的是苯環數為2個~5個的酚化合物。特別優選的化合物可以舉出日本專利特開平10-133366號公報中作為溶解促進劑而公開的酚性化合物。

(成分I)顯影促進劑可以單獨使用一種，也可以併用兩種以上。

從感度及殘膜率的觀點來看，將成分A設定為100質量份時，本發明的感光性樹脂組成物中的(成分I)顯影促進劑的添加量優選0.1質量份~30質量份，更優選0.2質量份~20質量份，最優選0.5質量份~10質量份。

(成分J)抗氧化劑

本發明的感光性樹脂組成物也可以含有(成分J)抗氧化劑。作為(成分J)抗氧化劑，可以含有眾所周知的抗氧化劑。藉由添加(成分J)抗氧化劑，有以下優點：可以防止硬化膜的著色，或可以減少由分解導致的膜厚減少，另外耐熱透明性優良。

這種抗氧化劑例如可以舉出：磷系抗氧化劑、醯胺類、醯肼類、受阻胺系抗氧化劑、硫系抗氧化劑、酚系抗氧化劑、抗壞血酸類、硫酸鋅、糖類、亞硝酸鹽、亞硫酸鹽、硫代硫酸鹽、羥基胺衍生物等。這些中，從硬化膜的著色、膜厚減少的觀點來看，特別優選酚系抗氧化劑、醯胺系抗氧化劑、醯肼系抗氧化劑、硫系抗氧化劑。這些抗氧化劑可以單獨使用一種，也可以混合使用兩種以上。

酚系抗氧化劑的市售品例如可以舉出：艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-15、艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-18、艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-20、艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-23、艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-30、艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-37、艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-40、艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-50、艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-51、艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-60、 艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-70、艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-80、艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-330、艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-412S、艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-503、艾迪科斯塔波(ADK Stab)A-611、艾迪科斯塔波(ADK Stab)A-612、艾迪科斯塔波(ADK Stab)A-613、艾迪科斯塔波(ADK Stab)PEP-4C、艾迪科斯塔波(ADK Stab)PEP-8、艾迪科斯塔波(ADK Stab)PEP-8W、艾迪科斯塔波(ADK Stab)PEP-24G、艾迪科斯塔波(ADK Stab)PEP-36、艾迪科斯塔波(ADK Stab)PEP-36Z、艾迪科斯塔波(ADK Stab)HP-10、艾迪科斯塔波(ADK Stab)2112、艾迪科斯塔波(ADK Stab)260、艾迪科斯塔波(ADK Stab)522A、艾迪科斯塔波(ADK Stab)1178、艾迪科斯塔波(ADK Stab)1500、艾迪科斯塔波(ADK Stab)C、艾迪科斯塔波(ADK Stab)135A、艾迪科斯塔波(ADK Stab)3010、艾迪科斯塔波(ADK Stab)TPP、艾迪科斯塔波(ADK Stab)CDA-1、艾迪科斯塔波(ADK Stab)CDA-6、艾迪科斯塔波(ADK Stab)ZS-27、艾迪科斯塔波(ADK Stab)ZS-90、艾迪科斯塔波(ADK Stab)ZS-91(以上為艾迪科(ADEKA)(股)製造)，易璐佳諾斯(Irganox)245FF、易璐佳諾斯(Irganox)1010FF、易璐佳諾斯(Irganox)MD1024、易璐佳諾斯(Irganox)1035FF、易璐佳諾斯(Irganox)1098、易璐佳諾斯(Irganox)1330、易璐佳諾斯(Irganox)1520L、易璐佳諾斯(Irganox)3114、易璐佳諾斯(Irganox)1726、易璐佳佛斯(Irgafos)168、易璐佳莫得(Irgamod)295 (BASF(股)製造)等。其中，可以適當地使用艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-60、艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-80、易璐佳諾斯(Irganox)1726、易璐佳諾斯(Irganox)1035FF、易璐佳諾斯(Irganox)1098。

相對於感光性樹脂組成物的總固體成分，(成分J)抗氧化劑的含量優選0.1質量%~6質量%，更優選0.2質量%~5質量%，特別優選0.5質量%~4質量%。藉由設定在該範圍內，可以獲得所形成的膜的充分的透明性，且圖案形成時的感度也變良好。

另外，作為抗氧化劑以外的添加劑，也可以將“高分子添加劑的新展開(日刊工業報社(股)公司)”中記載的各種紫外線吸收劑或金屬鈍化劑等添加到本發明的感光性樹脂組成物中。

(成分K)塑化劑

本發明的感光性樹脂組成物也可以含有(成分K)塑化劑。

(成分K)塑化劑例如可以舉出：鄰苯二甲酸二丁酯、鄰苯二甲酸二辛酯、鄰苯二甲酸二-十二烷基酯、聚乙二醇、甘油、二甲基甘油鄰苯二甲酸酯、酒石酸二丁酯、己二酸二辛酯、三乙醯基甘油等。

相對於成分A 100質量份，本發明的感光性樹脂組成物中的(成分K)塑化劑的含量優選0.1質量份~30質量份，更優選1質量份~10質量份。

(成分L)熱自由基產生劑

本發明的感光性樹脂組成物也可以含有(成分L)熱自由基產生劑，在含有上文所述的具有至少一個乙烯性不飽和雙鍵的化合物那樣的乙烯性不飽和化合物的情況下，優選的是含有(成分L)熱自由基產生劑。

本發明中的熱自由基產生劑可以使用眾所周知的熱自由基產生劑。

熱自由基產生劑為藉由熱能而產生自由基，引發或促進聚合性化合物的聚合反應的化合物。藉由添加熱自由基產生劑，有時所得的硬化膜變得更強韌，耐熱性、耐溶劑性提高。

優選的熱自由基產生劑可以舉出：芳香族酮類、鎓氯化合物、有機過氧化物、硫化合物、六芳基聯咪唑化合物、酮肟酯化合物、硼酸氯化合物、嗪鎓(azinium)化合物、茂金屬化合物、活性酯化合物、具有碳鹵素鍵的化合物、偶氮系化合物、聯苄化合物等。

(成分L)熱自由基產生劑可以單獨使用一種，也可以併用兩種以上。

從膜物性提高的觀點來看，在將成分A設定為100質量份時，本發明的感光性樹脂組成物中的(成分L)熱自由基產生劑的含量優選0.01質量份~50質量份，更優選0.1質量份~20質量份，最優選0.5質量份~10質量份。

(成分M)熱酸產生劑

本發明中，為了改良低溫硬化時的膜物性等，也可以使用(成分M)熱酸產生劑。

本發明的熱酸產生劑為藉由熱而產生酸的化合物，通常為熱分解點為130℃~250℃、優選150℃~220℃的範圍的化合物，例如為藉由加熱而產生磺酸、羧酸、二磺醯亞胺等低親核性的酸的化合物。

產生酸優選的是pKa強至2以下的磺酸或經拉電子性基取代的烷基羧酸或芳基羧酸、同樣地經拉電子性基取代的二磺醯亞胺等。拉電子性基可以舉出氟原子等鹵素原子、三氟甲基等鹵代烷基、硝基、氰基。

另外，本發明中也優選的是使用藉由曝光光的照射而實質上不產生酸、且藉由熱而產生酸的磺酸酯。藉由曝光光的照射而實質上不產生酸的情況可以藉由以下方式來判定：根據化合物的曝光前後的紅外(Infrared，IR)光譜、核磁共振(Nuclear Magnetic Resonance，NMR)光譜測定，光譜中並無變化。

磺酸酯的分子量優選230~1,000、更優選230~800。

本發明中可以使用的磺酸酯可以使用市售品，也可以使用利用眾所周知的方法合成的化合物。磺酸酯例如可以藉由在鹼性條件下使磺醯氯或磺酸酐與對應的多元醇反應而合成。

在將成分A設定為100質量份時，(成分M)熱酸產生劑在感光性樹脂組成物中的含量優選0.5質量份~20質量份，特別優選1質量份~15質量份。

(成分N)酸增殖劑

本發明的感光性樹脂組成物中，為了提高感度，可以 使用(成分N)酸增殖劑。

本發明中所用的酸增殖劑為可以藉由酸催化反應而進一步產生酸，使反應系內的酸濃度上升的化合物，且為在不存在酸的狀態下穩定地存在的化合物。這種化合物藉由一次反應而增加一個以上的酸，因此伴隨著反應的進行而反應加速，但由於所產生的酸自身會誘發自分解，因此這裏所產生的酸的強度優選的是酸解離常數(pKa)為3以下，特別優選2以下。

酸增殖劑的具體例可以舉出日本專利特開平10-1508號公報的段落0203~段落0223、日本專利特開平10-282642號公報的段落0016~段落0055及日本專利特表平9-512498號公報第39頁第12行~第47頁第2行中記載的化合物。

本發明中可以使用的酸增殖劑可以舉出：藉由由酸產生劑產生的酸而分解，產生二氯乙酸、三氯乙酸、甲磺酸、苯磺酸、三氟甲磺酸、苯基膦酸等pKa為3以下的酸的化合物。

相對於(成分B)光酸產生劑100質量份，酸增殖劑在感光性樹脂組成物中的含量優選是設定為10質量份~1,000質量份，從曝光部與未曝光部的溶解對比度的觀點來看，進而優選20質量份~500質量份。

<感光性樹脂組成物的製備方法>

將成分A~成分C及(成分D)溶劑的必需成分以既定的比例且利用任意方法混合，攪拌溶解而製備感光性樹 脂組成物。例如，也可以將成分A、成分B或成分C分別預先製成溶解在(成分D)溶劑中的溶液後，將這些溶液以既定的比例混合而製備感光性樹脂組成物。像這樣而製備的感光性樹脂組成物可以使用孔徑為0.1 μm左右的過濾器等進行過濾後供使用。

(硬化膜的形成方法)

其次，對本發明的硬化膜的形成方法進行說明。

本發明的硬化膜的形成方法除了使用本發明的正型感光性樹脂組成物以外，並無特別限制，優選的是包括以下(1)~(5)的製程。

(1)將本發明的感光性樹脂組成物應用到基板上的製程；(2)從所應用的感光性樹脂組成物中除去溶劑的製程；(3)利用活性光線對除去了溶劑的感光性樹脂組成物進行曝光的製程；(4)利用水性顯影液對經曝光的感光性樹脂組成物進行顯影的製程；(5)對經顯影的感光性樹脂組成物進行熱硬化的後烘烤製程。

以下對各製程依次進行說明。

然後，對使用本發明的感光性樹脂組成物的硬化膜的形成方法進行具體說明。

<應用製程及溶劑除去製程>

在(1)應用製程中，優選的是將本發明的感光性樹脂組成物應用(優選的是塗布)到基板上而製成含有溶劑的濕潤膜。優選的是將感光性樹脂組成物塗布到基板上之前進行鹼清洗或等離子清洗等基板的清洗，更優選的是進一步在基板清洗後利用六甲基二矽氮烷對基板表面進行處理。藉由進行該處理，有感光性樹脂組成物對基板的密接性提高的傾向。利用六甲基二矽氮烷對基板表面進行處理的方法並無特別限定，例如可以舉出預先將基板暴露在六甲基二矽氮烷蒸氣中的方法等。

所述基板可以舉出無機基板、樹脂、樹脂複合材料等。

無機基板例如可以舉出：玻璃、石英、矽、氮化矽及在這些材料般的基板上蒸鍍鉬、鈦、鋁、銅等而成的複合基板。

作為樹脂，可以舉出包含以下樹脂的基板：聚對苯二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚碸、聚醚碸、聚芳酯、烯丙基二甘醇碳酸酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚醚醯亞胺、聚苯並唑(polybenzazole)、聚苯硫醚、聚環烯烴、降冰片烯樹脂、聚氯三氟乙烯等氟樹脂、液晶聚合物、丙烯酸系樹脂、環氧樹脂、矽酮樹脂、離子聚合物樹脂、氰酸酯樹脂、交聯富馬酸二酯樹脂、環狀聚烯烴、聚芳香族醚、馬來醯亞胺-烯烴共聚物、纖維素、環硫樹脂(episulfide resin)等合成樹脂。

這些基板很少情況下以所述形態直接使用，通常是根 據最終產品的形態而形成例如薄膜電晶體(Thin Film Transistor，TFT)元件那樣的多層積層結構。

對基板的應用方法並無特別限定，例如可以使用狹縫塗布法、噴霧法、輥塗布法、旋轉塗布法、流延塗布法、狹縫及旋轉法等方法。進而，也可以應用日本專利特開2009-145395號公報中記載那樣的所謂預濕法。

應用時的濕式膜厚並無特別限定，能以與用途對應的膜厚而塗布，優選的是以0.5 μm~10 μm的範圍使用。

另外，(2)溶劑除去製程的加熱條件為不使未曝光部中的成分A在鹼顯影液中成為可溶性的範圍，也根據各成分的種類或調配比而不同，優選的是70℃~120℃、30秒鐘~300秒鐘左右。

<曝光製程>

在(3)曝光製程中，在設置著塗膜的基板上隔著具有既定圖案的遮罩來照射活性光線。在該製程中，光酸產生劑分解而產生酸。藉由所產生的酸的催化作用，例如將塗膜成分中所含的酸分解性基水解，生成羧基或酚性羥基。

活性光線的曝光光源可以使用低壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、發光二極管(Light Emitting Diode，LED)光源、準分子雷射產生裝置等，可以優選地使用g線(436 nm)、i線(365 nm)、h線(405 nm)等具有300 nm以上、450 nm以下的波長的活性光線。另外，視需要也可以藉由長波長截止濾波器、短波長截止濾波器、高通濾波器那樣的分光濾波器來調整照射光。

曝光裝置可以使用：鏡面投影對準曝光器(mirror projection aligner)、步進機(stepper)、掃描儀(scanner)、接近式(proximity)、接觸式、微透鏡陣列、雷射曝光等各種方式的曝光機。

為了在生成酸催化劑的區域中使所述水解反應加快，可以進行曝光後加熱處理(Post Exposure Bake，以下也稱為“PEB”)。藉由PEB，例如可以促進由成分A可以具有的酸分解性基生成羧基或酚性羥基。在進行PEB的情況下，溫度優選30℃以上、130℃以下，更優選40℃以上、110℃以下，特別優選50℃以上、100℃以下。

成分A可以具有的酸分解性基由於酸分解的活化能量低，容易因由於曝光而來源於酸產生劑的酸發生分解，優選的是產生羧基或酚性羥基，因此未必要進行PEB，也可以藉由顯影來形成正型圖像。

<顯影製程>

在(4)顯影製程中，例如使用鹼性顯影液對含有游離的羧基或酚性羥基的共聚物進行顯影。藉由將含有容易溶解在鹼性顯影液中的優選的是具有羧基或酚性羥基的樹脂組成物的曝光部區域除去，而形成正型圖像。

顯影製程中使用的顯影液中，優選的是含有鹼性化合物。鹼性化合物例如可以使用：氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀等鹼金屬氫氧化物類；碳酸鈉、碳酸鉀等鹼金屬碳酸鹽類；重碳酸鈉、重碳酸鉀等鹼金屬重碳酸鹽類；氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化膽鹼等氫氧化銨類； 矽酸鈉、偏矽酸鈉等的水溶液。另外，也可以將在所述鹼類的水溶液中添加適當量的甲醇或乙醇等水溶性有機溶劑或界面活性劑所得的水溶液用作顯影液。

優選的顯影液可以舉出：氫氧化四乙基銨的0.4質量%水溶液、0.5質量%水溶液、0.7質量%水溶液、2.38質量%水溶液。

顯影液的pH值優選10.0~14.0。

顯影時間優選30秒鐘~500秒鐘，另外顯影方法可為覆液法、浸漬法等的任一種。顯影後，可以進行優選的是30秒鐘~300秒鐘的流水清洗，形成所需的圖案。

顯影後，也可以進行淋洗製程。在淋洗製程中，利用純水等清洗顯影後的基板，由此進行附著的顯影液除去、顯影殘渣除去。淋洗方法可以使用眾所周知的方法。例如可以舉出沖淋淋洗或浸漬淋洗等。

<後烘烤製程(交聯製程)>

在(5)後烘烤製程中，對所得的正型圖像進行加熱，由此將例如成分A可以具有的酸分解性基熱分解而生成羧基或酚性羥基，與交聯性基、交聯劑等交聯，借此可以形成硬化膜。該加熱優選的是使用熱板或烘箱等的加熱裝置，於既定的溫度例如180℃~250℃下，以既定的時間例如若為熱板上則以5分鐘~90分鐘、若為烘箱則以30分鐘~120分鐘進行加熱處理。藉由像這樣進行交聯反應，可以形成耐熱性、硬度等更優良的保護膜或層間絕緣膜。另外，進行加熱處理時，藉由在氮氣環境下進行，也可以 進一步提高透明性。

也可以在後烘烤之前，於相對較低的溫度下進行烘烤後實施後烘烤(追加中烘烤製程)。在進行中烘烤的情況下，優選的是在90℃~150℃下加熱1分鐘~60分鐘後，在200℃以上的高溫下進行後烘烤。另外，也可以將中烘烤、後烘烤分為三階段以上的多階段來進行加熱。可以藉由設定這種中烘烤、後烘烤來調整圖案的斜角。這些烘烤的加熱可以使用熱板、烘箱、紅外線加熱器等眾所周知的加熱方法。

此外，在根據所選擇的各材料的特性而預料到交聯度不足的情況下，可以在後烘烤之前，利用活性光線對形成了圖案的基板進行全面再曝光(後曝光)之後，進行後烘烤，借此由存在於未曝光部分中的光酸產生劑產生酸，作為促進交聯製程的催化劑而發揮功能，從而可以促進膜的硬化反應。在包括後曝光製程的情況下，優選的曝光量優選100 mJ/cm²~3,000 mJ/cm²，特別優選100 mJ/cm²~500 mJ/cm²。

另一方面，在所述以外的情況下，也可以不進行再曝光製程。可以提高生產性，並且提升高溫、高濕狀態下的穩定性。

進而，由本發明的感光性樹脂組成物所得的硬化膜也可以用作乾式蝕刻抗蝕劑。在將藉由後烘烤製程進行熱硬化而獲得的硬化膜用作乾式蝕刻抗蝕劑的情況下，作為蝕刻處理，可以進行灰化、等離子蝕刻、臭氧蝕刻等乾式蝕 刻處理。

利用本發明的感光性樹脂組成物，可以獲得絕緣性優良、在高溫下經烘烤的情況下也具有高透明性的硬化膜，作為層間絕緣膜而有用。使用本發明的感光性樹脂組成物而形成的層間絕緣膜具有高透明性，且硬化膜物性優良，因此在有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置的用途中有用。

本發明的有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置除了將使用所述本發明的感光性樹脂組成物而形成的硬化膜用作平坦化膜或層間絕緣膜以外，並無特別限制，可以舉出採用各種結構的眾所周知的各種有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置。

例如，本發明的有機EL顯示裝置及液晶顯示裝置所具備的薄膜電晶體(Thin-Film Transistor，TFT)的具體例可以舉出非晶矽-TFT、低溫多晶矽-TFT、氧化物半導體TFT等。本發明的硬化膜由於電特性優良，因此可以組合到這些TFT上而優選地使用。

另外，本發明的液晶顯示裝置可以採用的液晶顯示裝置的方式可以舉出：扭轉向列(Twisted Nematic，TN)方式、垂直配向(Vertical Alignment，VA)方式、共面切換(In-Plane-Switching，IPS)方式、邊緣場切換(Fringe Field Switching，FFS)方式、光學補償彎曲(Optical Compensated Bend，OCB)方式等。

另外，本發明的液晶顯示裝置可以採用的液晶配向膜的具體配向方式可以舉出摩擦配向法、光配向法等。另外， 也可以利用日本專利特開2003-149647號公報或日本專利特開2011-257734號公報中記載的聚合物穩定配向(Polymer Sustained Alignment，PSA)技術來進行聚合物配向支撐。

圖1為表示應用使用本發明的感光性樹脂組成物的硬化膜作為絕緣膜、平坦化膜的有機EL顯示裝置的一例的構成的示意性截面圖。

圖1中所示的有機EL顯示裝置為底部發射型的有機EL顯示裝置。

圖1中，在玻璃基板6上形成底部閘極型的TFT1，以覆蓋該TFT1的狀態而形成包含Si₃N₄的絕緣膜3。在絕緣膜3中形成這裏省略圖示的接觸孔後，在絕緣膜3上形成藉由該接觸孔而連接於TFT1的配線2(高度為1.0 μm)。配線2是用來使TFT1間或在此後的製程中所形成的有機EL元件與TFT1連接。

進而，為了使由於配線2的形成所導致的凹凸變平坦，以填埋由配線2所致的凹凸的狀態而在絕緣膜3上形成平坦化膜4。

在平坦化膜4上形成底部發射型的有機EL元件。即，在平坦化膜4上，藉由接觸孔7與配線2連接而形成包含ITO的第一電極5。第一電極5相當於有機EL元件的陽極。

形成覆蓋第一電極5的周緣的形狀的絕緣膜8，藉由設置該絕緣膜8，可以防止第一電極5與此後的製程中將形成的第二電極之間的短路。

進而，圖1中雖未圖示，但隔著所需的圖案遮罩而依次蒸鍍設置電洞傳輸層、有機發光層、電子傳輸層，然後在基板上方的整個面上形成包含Al的第二電極，使用密封用玻璃板及紫外線硬化型環氧樹脂貼合，由此進行密封，獲得對各有機EL元件連接用來驅動該有機EL元件的TFT1而成的主動矩陣型的有機EL顯示裝置。

圖2為表示應用使用本發明的感光性樹脂組成物的硬化膜的液晶顯示裝置的一例的構成的示意性截面圖。

圖2所示的液晶顯示裝置為主動矩陣方式的液晶顯示裝置。

圖2中，液晶顯示裝置10為在背面上具有背光單元12的液晶面板，且所述液晶面板中，配置著與貼附了偏光膜的兩片玻璃基板14、15之間配置的所有像素相對應的TFT16的元件。對於形成在玻璃基板上的各元件，藉由硬化膜17中形成的接觸孔18而進行形成像素電極的ITO透明電極19的配線。在ITO透明電極19上，設置著液晶20的層及配置了黑色矩陣的紅綠藍(Red Green Blue，RGB)彩色濾光片22。

[實例]

以下，舉出實例對本發明進行更具體說明。以下實例中所示的材料、使用量、比例、處理內容、處理順序等可以在不偏離本發明主旨的範圍內適宜變更。因此，本發明的範圍不限定於以下示出的具體例。此外，只要無特別說明，則“份”、“%”為質量基準。

以下合成例中，以下符號分別表示以下化合物。

V-65：2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)(和光純藥工業(股)製造)

V-601：二甲基-2,2'-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)(和光純藥工業(股)製造)

MAEVE：甲基丙烯酸-1-乙氧基乙酯(合成品)

MATHF：甲基丙烯酸四氫呋喃-2-基酯(合成品)

MATHP：甲基丙烯酸四氫-2H-吡喃-2-基酯(新中村化學工業(股)製造)

CHOEMA：甲基丙烯酸-1-(環己氧基)乙酯(合成品)

StOEVE：4-(1-乙氧基乙氧基)苯乙烯(合成品)

NBMA：正丁氧基甲基丙烯醯胺(三菱麗陽(股)製造)

GMA：甲基丙烯酸縮水甘油酯(和光純藥工業(股)製造)

OXE-30：甲基丙烯酸(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲酯(大阪有機化學工業(股)製造)

HEMA：甲基丙烯酸-2-羥基乙酯(和光純藥工業(股)製造)

St：苯乙烯(和光純藥工業(股)製造)

MMA：甲基丙烯酸甲酯(和光純藥工業(股)製造)

BzMA：甲基丙烯酸苄酯(和光純藥工業(股)製造)

MAA：甲基丙烯酸(和光純藥工業(股)製造)

AA：丙烯酸(和光純藥工業(股)製造)

DCPM：甲基丙烯酸二環戊酯(日立化成工業(股)製造)

HS-EDM：二乙二醇乙基甲基醚(東邦化學工業(股)製造，海索夫(Hisolve)EDM)

<MATHF的合成>

預先將甲基丙烯酸(86 g、1 mol)冷卻到15℃，添加樟腦磺酸(4.6 g、0.02 mol)。在該溶液中滴加2-二氫呋喃(71 g、1 mol、1.0當量)。攪拌1小時後，添加飽和碳酸氫鈉(500 mL)，利用乙酸乙酯(500 mL)萃取，利用硫酸鎂乾燥後，將不溶物過濾後在40℃以下減壓濃縮，將殘渣的黃色油狀物減壓蒸餾，以無色油狀物的形式獲得沸點(bp.)54℃~56℃/3.5 mmHg餾分的甲基丙烯酸四氫呋喃-2-基酯(MATHF)125 g(產率80%)。

<MAEVE的合成>

在乙基乙烯醚144.2份(2莫耳當量)中添加吩噻嗪0.5份，在反應系中一面冷卻到10℃以下一面滴加甲基丙烯酸86.1份(1莫耳當量)後，在室溫(25℃)下攪拌4小時。添加對甲苯磺酸吡啶鎓5.0份後，在室溫下攪拌2小時，在室溫下放置一夜。在反應液中添加碳酸氫鈉5份及硫酸鈉5份，在室溫下攪拌1小時，將不溶物過濾後在40℃以下減壓濃縮，將殘渣的黃色油狀物減壓蒸餾，以無色油狀物的形式獲得沸點(bp.)43℃~45℃/7 mmHg餾分的甲基丙烯酸-1-乙氧基乙酯134.0份。

此外，CHOEMA及MATHF是除了將乙基乙烯醚變 更為對應的化合物以外，利用與所述甲基丙烯酸-1-乙氧基乙酯相同的方法合成。

[聚合物A1的合成]

將所得的甲基丙烯酸-1-乙氧基乙酯66.41份(0.42莫耳當量)、甲基丙烯酸6.89份(0.08莫耳當量)、GMA 49.75份(0.35莫耳當量)、甲基丙烯酸-2-羥乙酯19.52份(0.15莫耳等量)及PGMEA 132.5份的混合溶液在氮氣流下加熱到70℃。一面攪拌該混合溶液，一面用2.5小時滴加自由基聚合起始劑V-65(和光純藥工業(股)製造，12.4份)及PGMEA 100.0份的混合溶液。滴加結束後，在70℃下反應4小時，由此獲得聚合物A1的PGMEA溶液(固體成分濃度：40%)。所得的聚合物A1的利用凝膠滲透色譜法(GPC)測定的重量平均分子量為8,000。

[聚合物A2~聚合物A5的合成]

將聚合物A1的合成中使用的各單體變更為表1中記載的各結構單元(a1)~(a4)，並將各結構單元的使用量變更為表1中記載的量，除此以外，與聚合物A1的合成同樣地分別合成聚合物A2~聚合物A5。此外，自由基聚合起始劑V-65的添加量是以成為表1中記載的分子量的方式分別調整。

[聚合物A'1的合成]

將HS-EDM(82份)在氮氣流下在90℃下加熱攪拌。用2小時滴加MATHF(43份(40.5莫耳%當量))、OXE-30(48份(37.5莫耳%當量))、MAA(6份(9.5莫耳%當量))、HEMA(11份(12.5莫耳%當量))、自由基聚合起始劑V-601(商品名，和光純藥工業(股)製造，4.3份)及PGMEA(82份)的混合溶液，進而在90℃下反應2小時，由此獲得聚合物A'1的PGMEA溶液(固體成分濃度：40%)。

所得的聚合物A'1的利用凝膠滲透色譜法(GPC)測定的重量平均分子量為15,000。

<其他聚合物A'2~A'12的合成>

將所使用的各單體及其使用量變更為下述表2中記載的單體及量以外，與聚合物A'1的合成同樣地分別合成各共聚物。

表2中未特別附帶單位的數值是以mol%為單位。另外，起始劑的數值為將單體成分設定為100 mol%時的mol%。

固體成分濃度可以藉由以下的式子來計算。

固體成分濃度：單體質量/(單體質量+溶劑質量)×100(單位：質量%)

另外，使用V-601作為起始劑的情況下將反應溫度設定為90℃，使用V-65作為起始劑的情況下將反應溫度設定為70℃。

<實例1~實例11、實例66及實例67以及比較例1~比較例4> (1)感光性樹脂組成物的製備

將下述表3所示的各成分混合而製成均勻的溶液之後，使用具有0.1 μm的孔徑的聚四氟乙烯製過濾器進行過濾，分別製備實例1~實例11、實例66及實例67以及比較例1~比較例4的感光性樹脂組成物的溶液。

<比較例5：日本專利特開平10-26829號公報的實例1中記載的組成物>

使用具備回流冷凝器的燒瓶，對該燒瓶內進行氮氣置換後，將在乳酸乙酯中溶解作為聚合起始劑的2,2'-偶氮雙異丁腈7.0 g而成的溶液200 g添加到燒瓶內。然後，添加苯乙烯35 g、甲基丙烯酸20 g、甲基丙烯酸第三丁酯30 g及甲基丙烯酸-2-羥乙酯15 g後，一面緩緩攪拌一面使液溫上升到70℃，將該溫度保持7小時而使單體共聚合，獲得 共聚物溶液(共聚物成分為31.6質量%)300 g。

利用乳酸乙酯將上述所得的共聚物溶液以共聚物成分成為23質量%的方式稀釋，使該共聚物溶液100 g(共聚物成分為23 g)在二苯基錪-9,10-二甲氧基蒽-2-磺酸鹽0.69 g及界面活性劑BM-1000(BM Chemie公司製造)中溶解混合。然後，利用孔徑為0.22 μm的微孔過濾器對溶液進行過濾，由此獲得比較例5的感光性樹脂組成物。

<比較例6：日本專利特開2004-264623號公報的實例1中記載的組成物>

在具備冷凝管、攪拌機的燒瓶中添加2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)7質量份、二乙二醇乙基甲基醚200質量份。然後添加甲基丙烯酸-1-(環己氧基)乙酯40質量份、苯乙烯5質量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯45質量份、甲基丙烯酸-2-羥乙酯10質量份及α-甲基苯乙烯二聚物3質量份並進行氮氣置換後，緩緩開始攪拌。使溶液的溫度上升到70℃，將該溫度保持5小時而獲得含有共聚物的聚合物溶液。所得的共聚物的聚苯乙烯換算重量平均分子量(Mw)為11,000。另外，這裏所得的聚合物溶液的固體成分濃度為31.6質量%。

將相當於共聚物100質量份(固體成分)的量的上述所得的聚合物溶液、及4,7-二-正丁氧基-1-萘基四氫噻吩鎓三氟甲磺酸鹽5質量份以固體成分濃度成為30質量%的方式溶解在二乙二醇甲基乙基醚中後，利用孔徑為0.2 μm的薄膜過濾器進行過濾，製備比較例6的感光性樹脂組成物。

此外，表3中的簡稱如下。

B1：CGI-1397(日本汽巴(股)製造)

B2：PAI-101(綠(Midori)化學(股)製造)

B3：下述化合物

B4：下述化合物

C1：多耐德(Duranate)17B-60PX(旭化成化學(股)製造)

此外，C1是母結構為縮二脲結構、且封端結構為肟酯結構的封端異氰酸酯化合物。

C3：尼卡拉克(Nikalac)MW-100LM(烷氧基甲基化三聚氰胺化合物，三和化學(股)製造)

C4：多耐德(Duranate)D101(旭化成化學(股)製造)

C5：塔耐德(Takanate)D-110N(三井化學(股)製造)

此外，C4及C5是母結構為縮二脲結構、且封端結構為肟酯結構的封端異氰酸酯化合物。

C6：維塔共(VESTAGON)B1065(德固賽AG公司製造)

此外，C6為具有脲二酮結構(非縮二脲結構)的封端異氰酸酯化合物。

C7：JER-157S65(多官能酚醛清漆型環氧樹脂，交聯劑，三菱化學(股)製造)

D1：丙二醇單甲醚乙酸酯

F1：下述結構的化合物

G1：下述結構的化合物W-3

H1：3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷(KBM-403(信越化學工業(股)製造))

[B3的合成]

在2-萘酚(10 g)、氯苯(30 mL)的懸濁溶液中添加氯化鋁(10.6 g)、2-氯丙醯氯(10.1 g)，將混合液加熱到40℃並反應2小時。在冰浴冷卻下，在反應液中滴加4N HCl水溶液(60 mL)，添加乙酸乙酯(50 mL)進行分液。在有機層中添加碳酸鉀(19.2 g)，在40℃下反應1小時後，添加2N HCl水溶液(60 mL)進行分液，將有機層濃縮後，利用二異丙醚(10 mL)將結晶再製漿，過濾、乾燥而獲得酮化合物(6.5 g)。

在所得的酮化合物(3.0 g)、甲醇(30 mL)的懸濁溶液中添加乙酸(7.3 g)、50質量%羥基胺水溶液(8.0 g)，加熱回流。放置冷卻後，添加水(50 mL)，對析出的結晶進行過濾、冷甲醇清洗後，乾燥而獲得肟化合物(2.4 g)。

使所得的肟化合物(1.8 g)溶解在丙酮(20 mL)中，在冰浴冷卻下添加三乙胺(1.5 g)、對甲苯磺醯氯(2.4 g)， 升溫到室溫後反應1小時。在反應液中添加水(50 mL)，對析出的結晶進行過濾後，利用甲醇(20 mL)進行再製漿，過濾、乾燥而獲得B3(2.3 g)。

此外，B3的¹H-NMR光譜(300 MHz、CDCl₃)為δ=8.3(d,1H),8.0(d,2H),7.9(d,1H),7.8(d,1H),7.6(dd,1H),7.4(dd,1H),7.3(d,2H),7.1(d,1H),5.6(q,1H),2.4(s,3H),1.7(d,3H)。

[B4的合成]

使2-萘酚(20 g)溶解在N,N-二甲基乙醯胺(150 mL)中，添加碳酸鉀(28.7 g)、2-溴辛酸乙酯(52.2 g)並在100℃下反應2小時。在反應液中添加水(300 mL)、乙酸乙酯(200 mL)進行分液，將有機層濃縮後，添加48質量%氫氧化鈉水溶液(23 g)、乙醇(50 mL)、水(50 mL)，反應2小時。將反應液倒到1N HCl水溶液(500 mL)中，對析出的結晶進行過濾、水洗而獲得羧酸粗體後，添加聚磷酸30 g並在170℃下反應30分鐘。將反應液倒到水(300 mL)中，添加乙酸乙酯(300 mL)進行分液，將有機層濃縮後利用矽膠管柱色譜儀進行純化，獲得酮化合物(10 g)。

在所得的酮化合物(10.0 g)、甲醇(100 mL)的懸濁溶液中添加乙酸鈉(30.6 g)、鹽酸羥基胺(25.9 g)、硫酸鎂(4.5 g)，加熱回流24小時。放置冷卻後，添加水(150 mL)、乙酸乙酯(150 mL)進行分液，利用水80 mL將有機層分液4次，濃縮後利用矽膠管柱色譜儀進行 純化，獲得肟化合物(5.8 g)。

對所得的肟(3.1 g)與B3同樣地進行磺酸酯化，獲得B4(3.2 g)。

此外，B4的¹H-NMR光譜(300 MHz、CDCl₃)為δ=8.3(d,1H),8.0(d,2H),7.9(d,1H),7.8(d,1H),7.6(dd,1H),7.5(dd,1H),7.3(d,2H),7.1(d,1H),5.6(dd,1H),2.4(s,3H),2.2(ddt,1H),1.9(ddt,1H),1.4~1.2(m,8H),0.8(t,3H)。

<實例12~實例28及比較例7~比較例14> (1)感光性樹脂組成物的製備

將下述表4所示的各成分混合而製成均勻的溶液後，使用具有0.1 μm的孔徑的聚四氟乙烯製過濾器進行過濾，分別製備實例12~實例28及比較例7~比較例14的感光性樹脂組成物的溶液。此外，表4中的添加量的單位為質量份，比率為質量基準。

此外，聚合物及光酸產生劑以外的表4中的簡稱如下。

C'1：多耐德(Duranate)17B-60PX(旭化成化學(股)製造)

C'2：多耐德(Duranate)17B-60P(旭化成化學(股)製造)

此外，C'1及C'2是母結構為縮二脲結構、且封端結構為肟酯結構的封端異氰酸酯化合物。

C'6：尼卡拉克(Nikalac)MW-100LM(烷氧基甲基化三聚氰胺化合物，三和化學(股)製造)

C'7：多耐德(Duranate)D101(旭化成化學(股)製造)

C'8：塔耐德(Takanate)D-110N(三井化學(股)製造)

此外，C'7及C'8為非封端異氰酸酯化合物、即異氰酸酯化合物。

C'9：維塔共(VESTAGON)B1065(德固賽AG公司製造)

此外，C'9為具有脲二酮結構(非縮二脲結構)的封端異氰酸酯化合物。

C'10：JER-157S65(多官能酚醛清漆型環氧樹脂，交聯劑，三菱化學(股)製造)

C'11：代那考爾(Denacol)EX-321L(液狀脂肪族環氧化合物，長瀨化成(股)製造)

C'12：代那考爾(Denacol)EX-211L(液狀脂肪族環 氧化合物，長瀨化成(股)製造)

D1：所述化合物(丙二醇單甲醚乙酸酯)

F1：所述化合物

G1：所述化合物(化合物W-3)

H'1：3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷(KBM-403(信越化學工業(股)製造))

H'2：雙(三乙氧基矽烷基丙基)二硫醚(Z-6920(東麗道康寧(股)製造))

H'3：雙(三乙氧基矽烷基丙基)四硫醚(KBE-846(信越化學工業(股)製造))

I'1：易璐佳諾斯(Irganox)1726(抗氧化劑，BASF公司製造)

I'2：易璐佳諾斯(Irganox)1035FF(抗氧化劑，BASF公司製造)

I'3：易璐佳諾斯(Irganox)1098(抗氧化劑，BASF公司製造)

I'4：艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-60(抗氧化劑，艾迪科(ADEKA)(股)製造)

I'5：艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-70(抗氧化劑，艾迪科(ADEKA)(股)製造)

表4中的(成分B)光酸產生劑的簡稱如下。

B'1：易璐佳卡爾(IRGACURE)PAG-103(商品名，下述所示的結構，BASF公司製造)

B'2：PAI-101(商品名，所述B2所示的結構，綠化 學(股)製造)

B'5：下述所示的結構(合成例將於後述)

B'6：下述所示的結構(合成例將於後述)

<B'5的合成> 1-1.合成中間體B'5A的合成

將2-胺基苯硫醇31.3 g(東京化成工業(股)製造)在室溫(25℃)下溶解在甲苯100 mL(和光純藥工業(股)製造)中。然後，在所得的溶液中滴加苯基乙醯氯40.6 g(東京化成工業(股)製造)，在室溫下攪拌1小時，然後在100℃下攪拌2小時而進行反應。在所得的反應液中 加入水500 mL而使析出的鹽溶解，萃取甲苯油分，利用旋轉蒸發器使萃取液濃縮，獲得了合成中間體B'5A。

1-2. B'5的合成

將像上文所述那樣獲得的合成中間體B'5A 2.25 g混合到四氫呋喃10 mL(和光純藥工業(股)製造)中後，放入到冰浴中而將反應液冷卻到5℃以下。然後，在反應液中滴加氫氧化四甲基銨4.37 g(25質量%甲醇溶液，Alfa Acer公司製造)，在冰浴下攪拌0.5小時而進行反應。進而，一面將內溫保持在20℃以下一面滴加亞硝酸異戊酯7.03 g，滴加結束後使反應液升溫到室溫為止後，攪拌1小時。

繼而，將反應液冷卻到5℃以下後，投入對甲苯磺醯氯(1.9 g)(東京化成工業(股)製造)，一面保持10℃以下一面攪拌1小時。然後投入水80 mL，在0℃下攪拌1小時。將所得的析出物過濾後，投入異丙醇(IPA)60 mL，加熱到50℃並攪拌1小時，進行熱過濾、乾燥，由此獲得B'5(上文所述的結構)1.8 g。

所得的B'5的¹H-NMR光譜(300 MHz、氘代DMSO((D₃C)₂S=O))為δ=8.2~8.17(m,1H),8.03~8.00(m,1H),7.95~7.9(m,2H),7.6~7.45(m,9H),2.45(s,3H)。

根據所述¹H-NMR測定結果推測，所得的B'5為單獨一種幾何異構物。

<B'6的合成>

在2-萘酚(10 g)、氯苯(30 mL)的懸濁溶液中添 加氯化鋁(10.6 g)、2-氯丙醯氯(10.1 g)，將混合液加熱到40℃並反應2小時。在冰浴冷卻下，在反應液中滴加4N HCl水溶液(60 mL)，添加乙酸乙酯(50 mL)進行分液。在有機層中添加碳酸鉀(19.2 g)，在40℃下反應1小時後，添加2N HCl水溶液(60 mL)進行分液，將有機層濃縮後，利用二異丙醚(10 mL)將結晶再製漿，過濾、乾燥而獲得酮化合物(6.5 g)。

在所得的酮化合物(3.0 g)、甲醇(30 mL)的懸濁溶液中添加乙酸(7.3 g)、50質量%羥基胺水溶液(8.0 g)，進行加熱回流。放置冷卻後，添加水(50 mL)，對析出的結晶進行過濾、冷甲醇清洗後，乾燥而獲得肟化合物(2.4 g)。

使所得的肟化合物(1.8 g)溶解在丙酮(20 mL)中，在冰浴冷卻下添加三乙胺(1.5 g)、對甲苯磺醯氯(2.4 g)，升溫到室溫並反應1小時。在反應液中添加水(50 mL)，對析出的結晶進行過濾後，利用甲醇(20 mL)再製漿，過濾、乾燥而獲得B'6(上文所述的結構)2.3 g。

此外，B'6的¹H-NMR光譜(300 MHz、CDCl₃)為δ=8.3(d,1H),8.0(d,2H),7.9(d,1H),7.8(d,1H),7.6(dd,1H),7.4(dd,1H),7.3(d,2H),7.1(d,1H),5.6(q,1H),2.4(s,3H),1.7(d,3H)。

<實例29~實例65及比較例15> (1)感光性樹脂組成物的製備

將下述表5所示的各成分混合而製成均勻的溶液後， 使用具有0.1 μm的孔徑的聚四氟乙烯製過濾器進行過濾，分別製備實例29~實例65及比較例15的感光性樹脂組成物的溶液。此外，表5中的添加量的單位為質量份，比率為質量基準。

此外，A'1~A'12及光酸產生劑以外的表5中的簡稱如下。

A'13：亞路風(ARUFON)UC-3910(東亞合成(股)製造)

A'14：莊克力(Joncryl)67(BASF公司製造)

C"1：多耐德(Duranate)17B-60PX(旭化成化學(股)製造)

此外，C"1是母結構為縮二脲結構、且封端結構為肟酯結構的封端異氰酸酯化合物。

C"10：JER-157S65(多官能酚醛清漆型環氧樹脂，交聯劑，三菱化學(股)製造)

C"13：具有甲苯二異氰酸酯(TDI)的甲基乙基酮肟封端結構、且母結構為縮二脲結構的封端異氰酸酯

C"14：具有二苯基甲烷二異氰酸酯(MDI)的甲基乙基酮肟封端結構、且母結構為縮二脲結構的封端異氰酸酯

C"15：具有六亞甲基二異氰酸酯(HDI)的甲基乙基酮肟封端結構、且母結構為縮二脲結構的封端異氰酸酯

C"16：具有六亞甲基二異氰酸酯(HDI)的ε-己內醯胺封端結構、且母結構為縮二脲結構的封端異氰酸酯

C"17：具有六亞甲基二異氰酸酯(HDI)的苯酚封端結構、且母結構為縮二脲結構的封端異氰酸酯

C"18：具有六亞甲基二異氰酸酯(HDI)的丁醇封端結構、且母結構為縮二脲結構的封端異氰酸酯

C"19：具有六亞甲基二異氰酸酯(HDI)的二苯基胺封 端結構、且母結構為縮二脲結構的封端異氰酸酯

C"20：具有六亞甲基二異氰酸酯(HDI)的乙醯乙酸乙酯封端結構、且母結構為縮二脲結構的封端異氰酸酯

C"21：具有六亞甲基二異氰酸酯(HDI)的二甲基吡唑封端結構、且母結構為縮二脲結構的封端異氰酸酯

C"22：具有六亞甲基二異氰酸酯(HDI)的烷基硫醇封端結構、且母結構為縮二脲結構的封端異氰酸酯

C"23：具有異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)的甲基乙基酮肟封端結構、且母結構為縮二脲結構的封端異氰酸酯

C"24：具有異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)的ε-己內醯胺封端結構、且母結構為縮二脲結構的封端異氰酸酯

C"25：具有異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)的苯酚封端結構、且母結構為縮二脲結構的封端異氰酸酯

C"26：具有異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)的乙醯乙酸乙酯封端結構、且母結構為縮二脲結構的封端異氰酸酯

C"27：具有異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)的二甲基吡唑封端結構、且母結構為縮二脲結構的封端異氰酸酯

D1：所述化合物(丙二醇單甲醚乙酸酯)

E"1：DBA(9,10-二丁氧基蒽，川崎化成工業(股)製造)

F2：下述結構的化合物(化合物F-2)

[化1]

G1：所述化合物(化合物W-3)

H"1：3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷(KBM-403(信越化學工業(股)製造))

H"4：己基三甲氧基矽烷(KBM-3063(信越化學工業(股)製造))

I"2：易璐佳諾斯(Irganox)1035FF(抗氧化劑，BASF公司製造)

I"3：易璐佳諾斯(Irganox)1098(抗氧化劑，BASF公司製造)

I"4：艾迪科斯塔波(ADK Stab)AO-60(抗氧化劑，艾迪科(ADEKA)(股)製造)

表5中的(成分B)光酸產生劑的簡稱如下。

B"6：下述所示的結構(合成例將於後述)

B"7：下述結構的化合物(按照日本專利特表2002-528451號公報的段落0108中記載的方法合成)

[化57]

<B"6的合成>

在2-萘酚(10 g)、氯苯(30 mL)的懸濁溶液中添加氯化鋁(10.6 g)、2-氯丙醯氯(10.1 g)，將混合液加熱到40℃並反應2小時。在冰浴冷卻下，在反應液中滴加4N HCl水溶液(60 mL)，添加乙酸乙酯(50 mL)進行分液。在有機層中添加碳酸鉀(19.2 g)，在40℃下反應1小時後，添加2N HCl水溶液(60 mL)進行分液，將有機層濃縮後，利用二異丙醚(10 mL)將結晶再製漿，過濾、乾燥而獲得酮化合物(6.5 g)。

在所得的酮化合物(3.0 g)、甲醇(30 mL)的懸濁溶液中添加乙酸(7.3 g)、50質量%羥基胺水溶液(8.0 g)，進行加熱回流。放置冷卻後，添加水(50 mL)，對析出的結晶進行過濾、冷甲醇清洗後，乾燥而獲得肟化合物(2.4 g)。

使所得的肟化合物(1.8 g)溶解在丙酮(20 mL)中，在冰浴冷卻下添加三乙胺(1.5 g)、對甲苯磺醯氯(2.4 g)，升溫到室溫並反應1小時。在反應液中添加水(50 mL)，對析出的結晶進行過濾後，利用甲醇(20 mL)再製漿，過濾、乾燥而獲得B"6(上文所述的結構)2.3 g。

此外，B"6的¹H-NMR光譜(300 MHz、CDCl₃)為δ=8.3(d,1H),8.0(d,2H),7.9(d,1H),7.8(d,1H),7.6(dd,1H),7.4(dd,1H),7.3(d,2H),7.1(d,1H),5.6(q,1H),2.4(s,3H),1.7(d,3H)。

<C"13的合成>

將甲苯二異氰酸酯的縮二脲體100質量份、甲基乙基酮肟50質量份添加到反應容器中，在100℃下反應6小時，由此獲得包含透明的黏稠液體的封端異氰酸酯C"13。IR測定的結果為，確認到不存在由NCO基引起的2,250 cm^-1的吸收峰(C"13主要含有三官能的具有封端異氰酸酯基的封端異氰酸酯化合物)。

<C"14~C"27的合成>

除了變更合成時所使用的二異氰酸酯的縮二脲體及封端化合物以外，與C"13的合成同樣地進行合成。

(2)感光性樹脂組成物的評價 (感度的評價)

在具有矽氧化膜的矽晶片上分別旋轉塗布實例1~實例67及比較例1~比較例15的感光性樹脂組成物的溶液後，在90℃下在熱板上預烘烤120秒鐘而形成膜厚為3 μm的塗膜。

然後，使用i線步進機(思朗科技(Xenon)(股)製造的FPA-3000i5⁺)，隔著既定的遮罩進行曝光。曝光後將基板在室溫下放置10分鐘後，利用0.4%的氫氧化四甲基銨水溶液在23℃下利用覆液法顯影60秒鐘，進而利用 超純水淋洗45秒鐘。將藉由這些操作以1：1解析10 μm的線與間隙時的最適曝光量(Eopt)作為感度。在曝光量低於70 mJ/cm²的情況下，感度可謂是高感度。將評價結果示於表6~表8中。此外，表6的感度一欄中“＊”表示在200 mJ/cm²的情況下無法形成圖案。

(耐熱透明性的評價)

在玻璃基板(伊格爾(Eagle)2000，康寧公司製造)上旋轉塗布實例1~實例67及比較例1~比較例15的感光性樹脂組成物的溶液後，在90℃下在熱板上預烘烤120秒鐘而形成膜厚為3 μm的塗膜。利用0.4%的氫氧化四甲基銨水溶液在23℃下利用覆液法對所得的塗膜進行60秒鐘顯影，進而以超純水淋洗45秒鐘後，利用思朗科技(Xenon)(股)製造PLA-501F曝光機(超高壓水銀燈)以累計照射量成為300 mJ/cm²(照度：20 mW/cm²)的方式曝光，其後利用烘箱對該基板在230℃下加熱1小時而獲得硬化膜。利用烘箱對所得的硬化膜在230℃下進一步加熱2小時後，使用分光光度計“150-20型雙射束(Double beam)(日立製作所(股)製造)”利用400 nm~800 nm的範圍的波長來測定光線透射率。將此時的最低光線透射率的評價(耐熱透明性的評價)示於表6~表8中。

評價基準如下。此外，最低光線透射率的值是換算為在230℃下加熱2小時後的膜厚2 μm左右的值。

0：92%以上

1：87%以上、小於92%

2：85%以上、小於87%

3：82%以上、小於85%

4：小於82%

(耐化學品性的評價)

在玻璃基板(伊格爾(Eagle)2000，康寧公司製造)上旋轉塗布實例1~實例67及比較例1~比較例15的感光性樹脂組成物的溶液後，在90℃下在熱板上預烘烤120秒鐘而形成膜厚為3 μm的塗膜。利用思朗科技(Xenon)(股)製造PLA-501F曝光機(超高壓水銀燈)以累計照射量成為300 mJ/cm²(照度：20 mW/cm²)的方式對所得的塗膜進行曝光，其後利用烘箱對該基板在230℃下加熱1小時而獲得硬化膜。使所得的硬化膜在70℃下在N-甲基吡咯烷酮(NMP)中浸漬10分鐘，測定浸漬前後的膜厚。以下定義為“膨潤率”，按照以下基準進行評價。

膨潤率(%)=浸漬後的膜厚(μm)/浸漬前的膜厚(μm)×100-100

0：膨潤率小於2%

1：膨潤率為2%以上、小於4%

2：膨潤率為4%以上、小於6%

3：膨潤率為6%以上、小於8%

4：膨潤率為8%以上

(顯示裝置中的顯示不均的評價)

利用以下方法製作使用薄膜電晶體(TFT)的液晶顯示裝置(參照圖1、圖2)。在日本專利第3321003號公報的 圖1及圖2中記載的主動矩陣型液晶顯示裝置中，像以下那樣形成硬化膜17作為層間絕緣膜，獲得液晶顯示裝置。

即，在玻璃基板6上形成底部閘極型的TFT1，以覆蓋該TFT1的狀態形成包含Si₃N₄的絕緣膜3。然後，在該絕緣膜3中形成接觸孔後，在絕緣膜3上形成藉由該接觸孔而連接於TFT1的配線2(高度為1.0 μm)。

進而，為了使由於配線2的形成所導致的凹凸變平坦，而以填埋由配線2所致的凹凸的狀態在絕緣膜3上形成平坦化膜4。絕緣膜3上的平坦化膜4的形成是將實例1~實例67、比較例1~比較例15的各感光性樹脂組成物旋轉塗布在基板上，在熱板上預烘烤(90℃×2分鐘)後，從遮罩上使用高壓水銀燈以25 mJ/cm²(照度為20 mW/cm²)照射i線(365 nm)後，利用鹼水溶液進行顯影而形成圖案，在230℃下進行60分鐘的加熱處理。塗布所述感光性樹脂組成物時的塗布性良好，曝光、顯影、煅燒後所得的硬化膜中確認不到皺褶或龜裂的產生。進而，配線2的平均階差為500 nm，所製作的平坦化膜4的膜厚為2,000 nm。

對所得的液晶顯示裝置施加驅動電壓，目測觀察輸入灰度的測試信號時的灰度顯示，根據下述評價基準來評價是否產生了顯示不均。

0：完全未見不均(非常良好)

1：在玻璃基板的邊緣部分略微可見不均，但顯示部中並無問題(良好)

2：顯示部中略微可見不均，但為實用水平(普通)

3：顯示部中有不均(稍差)

4：顯示部中有強烈的不均(非常差)

由表6~表8得知，本發明的感光性樹脂組成物均是感 度非常高，耐熱透明性良好，且耐化學品性優良。另外得知，也並無液晶顯示不均，可以製造高品質的面板。

相對於此，得知與本發明的感光性樹脂組成物不同的比較例的感光性樹脂組成物均無法滿足感度、耐熱透明性、耐化學品性、顯示不均的所有項目。

<實例68>

在實例43的顯示不均評價中，僅變更以下塗布製程，獲得同樣的液晶顯示裝置。

即，利用狹縫塗布法(東京電子(股)製造的CL1700)塗布實例43的感光性樹脂組成物後，在90℃、120秒的條件下在熱板上藉由加熱而除去溶劑，形成膜厚為4.0 μm的感光性樹脂組成物層。所得的塗膜為平坦且無不均的良好的面狀。另外，作為液晶顯示裝置的性能也與實例43同樣地良好。

<實例69>

在實例43的顯示不均評價中，僅變更以下的塗布製程，獲得同樣的液晶顯示裝置。

即，利用狹縫及旋轉法(大日本網屏(股)製造的SF-700G3)塗布實例43的感光性樹脂組成物後，在90℃、120秒的條件下在熱板上藉由加熱而除去溶劑，形成膜厚為4.0 μm的感光性樹脂組成物層。所得的塗膜為平坦且無不均的良好的面狀。另外，作為液晶顯示裝置的性能也與實例43同樣地良好。

<實例70>

將實例43的顯示不均評價中獲得的液晶顯示裝置在120℃、100%RH的高溫高濕條件下曝露一周後分解，評價硬化膜的底層密接性，結果密接性良好。

<實例71>

利用以下方法製作使用薄膜電晶體(TFT)的有機EL顯示裝置(參照圖1)。

在玻璃基板6上形成底部閘極型的TFT1，以覆蓋該TFT1的狀態形成包含Si₃N₄的絕緣膜3。然後，在該絕緣膜3上形成這裏省略圖示的接觸孔後，在絕緣膜3上形成藉由該接觸孔而連接於TFT1的配線2(高度為1.0 μm)。該配線2是用來使TFT1間或在此後的製程中所形成的有機EL元件與TFT1連接。

進而，為了使由於配線2的形成所導致的凹凸變平坦，以填埋由配線2所致的凹凸的狀態在絕緣膜3上形成平坦化層4。絕緣膜3上的平坦化膜4的形成是將實例43的感光性樹脂組成物旋轉塗布在基板上，在熱板上預烘烤(90℃、2分鐘)後，從遮罩上使用高壓水銀燈以45 mJ/cm²(照度為20 mW/cm²)照射i線(365 nm)後，利用鹼水溶液進行顯影而形成圖案，在230℃下進行60分鐘的加熱處理。塗布該感光性樹脂組成物時的塗布性良好，曝光、顯影、煅燒後所得的硬化膜中確認不到皺褶或龜裂的產生。進而，配線2的平均階差為500 nm，所製作的平坦化膜4的膜厚為2,000 nm。

然後，在所得的平坦化膜4上形成底部發射型的有機 EL元件。首先，在平坦化膜4上，使包含ITO的第一電極5藉由接觸孔7與配線2連接而形成。之後，塗布抗蝕劑並進行預烘烤，隔著所需圖案的遮罩曝光，進行顯影。將該抗蝕劑圖案作為遮罩，藉由使用ITO蝕刻劑的濕式蝕刻進行圖案加工。然後，使用抗蝕劑剝離液(單乙醇胺與二甲基亞碸(DMSO)的混合液)將該抗蝕劑圖案剝離。像這樣而獲得的第一電極5相當於有機EL元件的陽極。

接著，形成覆蓋第一電極5的周緣的形狀的絕緣膜8。對於絕緣膜，使用實例43的感光性樹脂組成物利用與上文所述相同的方法來形成絕緣膜8。藉由設置該絕緣膜，可以防止第一電極5與此後的製程中所形成的第二電極之間的短路。

進而，在真空蒸鍍裝置內，隔著所需的圖案遮罩依次蒸鍍設置電洞傳輸層、有機發光層、電子傳輸層。然後，在基板上方的整個面上形成包含Al的第二電極。將所得的所述基板從蒸鍍機中取出，使用密封用玻璃板及紫外線硬化型環氧樹脂貼合，由此加以密封。

像上文所述那樣，可以獲得對各有機EL元件連接用來驅動該有機EL元件的TFT1而成的主動矩陣型的有機EL顯示裝置。藉由驅動電路施加電壓，結果得知表現出良好的顯示特性，且為可靠性高的有機EL顯示裝置。

1、16‧‧‧TFT(薄膜電晶體)

2‧‧‧配線

3、8‧‧‧絕緣膜

4‧‧‧平坦化膜

5‧‧‧第一電極

6、14、15‧‧‧玻璃基板

7、18‧‧‧接觸孔

10‧‧‧液晶顯示裝置

12‧‧‧背光單元

17‧‧‧硬化膜

19‧‧‧ITO透明電極

20‧‧‧液晶

22‧‧‧彩色濾光片

圖1為表示應用使用本發明的感光性樹脂組成物的硬化膜作為絕緣膜、平坦化膜的有機EL顯示裝置的一例的 構成的示意性截面圖。

圖2為表示應用使用本發明的感光性樹脂組成物的硬化膜的液晶顯示裝置的一例的構成的示意性截面圖。

1‧‧‧TFT(薄膜電晶體)

2‧‧‧配線

3、8‧‧‧絕緣膜

4‧‧‧平坦化膜

5‧‧‧第一電極

6‧‧‧玻璃基板

7‧‧‧接觸孔

Claims (17)

1. 一種感光性樹脂組成物，其特徵在於其為化學增幅正型感光性樹脂組成物，其含有：(成分A)具有縮醛結構且藉由酸的作用鹼溶解性發生變化的樹脂、(成分B)光酸產生劑、(成分C)交聯劑、及(成分D)溶劑，且成分A為含有具有交聯性基的結構單元(a3)的聚合物及/或所述感光性樹脂組成物更含有成分A以外的含有具有交聯性基的結構單元(a3)的聚合物，成分C包含封端異氰酸酯化合物，所述封端異氰酸酯化合物的母結構為縮二脲結構。
2. 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，其中，所述封端異氰酸酯化合物的異氰酸酯基是經封端劑加以封端，所述封端劑是選自由肟化合物、內醯胺化合物、酚化合物、醇化合物、胺化合物、活性亞甲基化合物、吡唑化合物、硫醇化合物、咪唑系化合物及醯亞胺系化合物所組成的組群中。
3. 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，其中，所述封端異氰酸酯化合物為利用封端劑將具有縮二脲結構的多聚物的異氰酸酯基封端而成，所述具有縮二脲結構的多聚物的異氰酸酯基是將選自由甲苯二異氰酸酯(TDI)、二苯基甲烷二異氰酸酯(MDI)、六亞甲基 二異氰酸酯(HDI)及異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)所組成的組群中的化合物多聚化而獲得。
4. 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，其中，相對於感光性樹脂組成物的總固體成分量，所述封端異氰酸酯化合物的含量為0.1質量%~8質量%的範圍。
5. 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，其中，所述成分A為含有結構單元(a1)的聚合物，所述結構單元(a1)具有利用縮醛結構保護羧基所得的殘基。
6. 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，其中，所述成分A為含有結構單元(a2)的聚合物，所述結構單元(a2)具有羧基或酚性羥基。
7. 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，其中，所述成分B為肟磺酸酯化合物。
8. 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，其中，具有交聯性基的結構單元(a3)中所含的交聯性基為選自由環氧基、氧雜環丁基及-NH-CH₂-O-R所表示的基團所組成的組群中的至少一種，R表示氫原子或碳數為1~20的烷基。
9. 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，其中進一步含有抗氧化劑。
10. 一種硬化膜的形成方法，其特徵在於包括以下製程： (1)應用製程，將如申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述的感光性樹脂組成物應用到基板上；(2)溶劑除去製程，從所應用的感光性樹脂組成物中除去溶劑；(3)曝光製程，利用活性光線對除去了溶劑的感光性樹脂組成物進行曝光；(4)顯影製程，利用水性顯影液對經曝光的感光性樹脂組成物進行顯影；及(5)後烘烤製程，對經顯影的感光性樹脂組成物進行熱硬化。
11. 如申請專利範圍第10項所述的硬化膜的形成方法，其中，在所述顯影製程後、所述後烘烤製程前，包括對經顯影的感光性樹脂組成物進行全面曝光的製程。
12. 如申請專利範圍第10項所述的硬化膜的形成方法，其中，在所述顯影製程後、所述後烘烤製程前，不包括對經顯影的感光性樹脂組成物進行全面曝光的製程。
13. 如申請專利範圍第10項所述的硬化膜的形成方法，其中，更包括(6)乾式蝕刻製程，對具有硬化膜的基板進行乾式蝕刻，所述硬化膜是進行熱硬化而獲得。
14. 一種硬化膜，其特徵在於：利用如申請專利範圍第10項所述的方法而形成。
15. 如申請專利範圍第14項所述的硬化膜，其特徵在於：所述硬化膜為層間絕緣膜。
16. 一種有機EL顯示裝置，其特徵在於：具備如申 請專利範圍第14項所述的硬化膜。
17. 一種液晶顯示裝置，其特徵在於：具備如申請專利範圍第14項所述的硬化膜。