TWI542045B - 發光裝置及其製作方法 - Google Patents

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TWI542045B TW103139968A TW103139968A TWI542045B TW I542045 B TWI542045 B TW I542045B TW 103139968 A TW103139968 A TW 103139968A TW 103139968 A TW103139968 A TW 103139968A TW I542045 B TWI542045 B TW I542045B
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Description

發光裝置及其製作方法
本發明係一種發光元件及其製作方法以及一種發光元件陣列及其製作方法，特別是一種發光裝置及其製作方法。
習知發光二極體(LED)封裝技術係先在晶片座(sub-mount)上點膠，再將發光二極體晶片固定於晶片座上，進而形成一發光二極體元件，此步驟稱為固晶(Die Bonding)。固晶膠材主要為具導電性的銀膠或其他非導電性環氧樹脂。之後將發光二極體元件組合於電路板上。覆晶(flip chip)式的發光二極體係使二極體結構中的p型半導體導電層與n型半導體導電層，暴露於同一側，以能將陰、陽極電極製作於二極體結構的同一側上，因而可直接將設置有陰、陽極電極的發光二極體結構覆置於一錫料(solder)上。如此，能免除採用傳統金屬拉線(wire bonding)的需求。然而習知之覆晶式發光二極體仍需透過切割、固晶等封裝步驟，才能與電路板連結。因此，若覆晶式發光二極體的電極具有足夠大的接觸面積，便能夠省略習知之封裝步驟。
一般傳統LED的操作電流約為數十至數百個毫安培(mA)，但亮度往往不足以應付一般照明所需。若組合大量的LED以提高亮度，則LED照明元件的體積將增加而導致市場上之競爭性降低。因此，提昇單顆LED之晶粒亮度，成為必然之趨勢。然而，當LED朝向高亮度發展時，單一LED的操作電流及功率增加為傳統LED的數倍至數百倍，例如，一個高亮度的LED的操作電流約為數百毫安培至數個安培，使得LED所產生的熱問題不容忽視。LED的性能會因為”熱”而降低，例如熱效應會影響LED的發光波長，半導體特性也因熱而產生亮度衰減，更嚴重時甚至造成元件損壞。因此，高功率LED如何散熱成 為LED的重要議題。
美國專利申請號2004/0188696以及2004/023189(為2004/0188696之分割案)中分別揭示了一種使用表面黏著技術(Surface Mount Technology,SMT)的LED封裝結構與方法，其中每一封裝結構含有一LED晶片。每一LED晶片先以覆晶的形式，藉由凸塊(bonding bump)黏著於在一晶片座(sub-mount)之前側(front side)上。在晶片座中具有預先鑿出之開孔陣列，並填以金屬以形成通道陣列(via array)。此晶片的電極可藉由此通道陣列連接至晶片座的具有錫料的後側(back side)。此通道陣列亦可作為LED晶片之散熱路徑。在每一LED晶片與次基板黏著之後，再將次基板切割，以進行後續之LED封裝。
然而，在美國專利申請號2004/0188696以及2004/023189中之晶片座，需鑿出填以金屬的通道陣列(via array)，增加製程成本。此外，每一LED晶片黏著於晶片座的步驟，也會增加製作的複雜度。因此，若能具有一種發光二極體，不需晶片座，亦具有良好的散熱路徑，可在市場上具有優勢。
本發明揭示一種發光裝置的製作方法，其包含步驟：提供一第一載板，其具有複數第一金屬接觸；提供一基材；形成複數發光疊層以及複數溝槽於基材上，其中複數發光疊層藉由複數溝槽與彼此分離；連接複數發光疊層與第一載板；形成一封裝材料共同地位於複數發光疊層上；以及切割第一載板以及封裝材料以形成複數晶粒級的發光元件單元。
於本發明之一實施例中，發光裝置的製作方法更包含形成一第一波長轉換層於一第一發光疊層上，第一波長轉換層將第一發光疊層發出的光轉換為一第一光；形成一第二波長轉換層於一第二發光疊層上，第二波長轉換層將第二發光疊層發出的光轉換為一第二光；以及提供一個第三發光疊層，第三發光疊層之上方並未有任何波長轉換材料，其中第一發光疊層、第二發光疊層以及第三發光疊層發出的光為藍光，第一光為綠光且第二光為紅光。
100、200a、200b、與200c‧‧‧發光結構
11、21‧‧‧基材
102‧‧‧第一導電層
104‧‧‧活性層
106‧‧‧第二導電層
107a、107b‧‧‧電極或接合墊
120‧‧‧保護層
122‧‧‧第一介電層
140、240‧‧‧第二介電層
222a、222b、222c、240a、240b、240c、280‧‧‧介電層
160、260a、260b、260c、162、262a、262b、262c‧‧‧金屬層
20、30、32、32’‧‧‧發光元件陣列
21‧‧‧基材
22‧‧‧錫料
13、23‧‧‧電路載板
24‧‧‧透明封裝材料
25‧‧‧發光元件封裝
10、10a、10b、10c、20a、20b、20c、300、300a、300b、300c、300d、300a’、300b’、300c’、300d’‧‧‧發光元件
102a‧‧‧表面
101‧‧‧發光疊層
221‧‧‧反射層
260、260’‧‧‧第一金屬層
262、262’‧‧‧第二金屬層
290‧‧‧不透光層
22‧‧‧金屬接觸
22a‧‧‧導電通道
294‧‧‧第一波長轉換層
296‧‧‧第二波長轉換層
35、36、36’、65、66、37‧‧‧紅綠藍發光元件單元
S1、S6’‧‧‧第一寬度
S2‧‧‧第一長度
d1、d1’‧‧‧第二寬度
d2‧‧‧第二長度
S3、S3’‧‧‧第一距離
S4‧‧‧第二距離
S5‧‧‧第三距離
298‧‧‧波長轉換層
S1‧‧‧第一長度
S6‧‧‧第一寬度
680‧‧‧填充材料
76‧‧‧顯示模組
73‧‧‧第二電路載板
72‧‧‧電路
78‧‧‧照明模組
80‧‧‧燈泡
82‧‧‧光學透鏡
85‧‧‧散熱槽
87‧‧‧連結部
88‧‧‧電連接器
第1A圖至第1E圖係為依照本發明實施例之發光元件製作方法的示意圖；第1F圖係為本發明實施例之發光元件之應用示意圖；第2A圖至第2D圖係為依照本發明實施例之發光元件陣列製作方法的示意圖；第2E圖係為依照本發明實施例之發光元件陣列與電路板連結之示意圖；第2F圖係為依照本發明實施例之具有粗化表面之第一導電層的發光元件陣列之示意圖；第2G圖係為依照本發明實施例之發光元件陣列之封裝示意圖；第3A圖至第3G圖係為依照本發明實施例之發光裝置的製作方法流程各階段所對應之剖面圖；第4A圖係為如第3F圖所示之發光元件陣列以覆晶的形式與電路載板連接的俯視圖；第4B圖係為依照本發明實施例之晶粒級的紅綠藍發光元件單元包含如第3G圖所示之紅綠藍發光元件群組之俯視圖；第5A圖係為依照本發明實施例之發光元件陣列以覆晶的形式與電路載板連接的俯視圖；第5B圖係為依照本發明實施例之單一發光元件的晶粒級的發光元件單元之俯視圖；第5C圖係為依照本發明實施例之單一發光元件的晶粒級的發光元件單元之剖面圖；第5D圖係為依照本發明實施例之單一發光元件的晶粒級的發光元件單元之俯視圖；第5E圖係為依照本發明實施例之單一發光元件的晶粒級的發光元件單元之剖面圖；第6A圖係為依照本發明實施例之晶粒級的紅綠藍發光元件單元的剖面圖第6B圖係為第6A圖所示之發光元件陣列中的單顆發光元件之示意圖； 第6C圖係為依照本發明實施例之發光元件陣列中的單顆發光元件之示意圖；第7A圖至第7G圖係為依照本發明實施例之一種發光裝置的製作方法流程各階段所對應之剖面圖；第7H圖係為依照本發明實施例之晶粒級的紅綠藍發光元件單元包含如圖7G所示之紅綠藍發光元件群組之俯視圖；第7I圖係為依照本發明實施例之單一發光元件的晶粒級的發光元件單元之剖面圖；第7J圖係為依照本發明實施例之單一發光元件的晶粒級的發光元件單元之俯視圖；第8A圖係為依照本發明實施例之顯示模組之示意圖；第8B圖係為依照本發明實施例之顯示模組之示意圖；以及第9圖係為依照本發明實施例之燈泡元件分解圖。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。在圖式中，元件之形狀或厚度可擴大或縮小。需特別注意的是，圖中未繪示或描述之元件，可以是熟習此技藝之人士所知之形式。本發明所列舉之各實施例僅用以說明本發明，並非用以限制本發明之範圍。任何人對本發明所作之任何顯而易知之修飾或變更皆不脫離本發明之精神與範圍。
參照第1A第至第1E圖，係為依照本發明實施例之一種發光元件的製作方法流程各階段所對應之剖面圖。在第1A圖中，首先形成一發光結構100，其包含一基材11、一第一導電層102以做為一包覆層、一活性層104位於第一導電層102上以作為一發光層、一第二導電層106於此活性層104上以作為另一包覆層。較佳地，如第1A圖所示，一電極或接合墊(bonding pad)107a位於第一導電層102之暴露的部分上，另一電極或接合墊107b位在第二導電層106上。電極或接合墊107a與107b之材料(例如鋁)與製作方法應為習此技藝者所熟知，在此不加贅述。此外，在一實施例中，發光結構100更包含一保護層 (passivation layer)120，以保護此發光結構100。此保護層120的材料(例如二氧化矽)與製作方法亦為習此技藝者所熟知，在此加不贅述。
在一實施例中，第一導電層102為一n型半導體導電層，而第二導電層106為一p型半導體導電層。n型半導體導電層102、p型半導體導電層106為任何習知或未來中可見者之半導體材料，較佳者為Ⅲ-V(三/五)族化合物半導體，例如氮化鋁鎵銦(AlxGayln(1-x-y)N)或磷化鋁鎵銦(AlxGayIn(1-x-y)P)，其中0≦x≦1，0≦y≦1，0≦x+y≦1，並視情況進一步被p/n型摻質所摻雜。而活性層104亦可使用習知之半導體材料與結構，例如材料可為氮化鋁鎵銦(AlxGayln(1-x-y)N)或磷化鋁鎵銦(AlxGayln(1-x-y)P)等，而結構可為單量子井(Single Quantum Well,SQW)、多重量子井(Multiple Quantum Well,MQW)與雙異質(Double Heterosture,DH)，其發光原理與機制係為習知之技術，在此不再贅述。此外，發光結構100可藉由有機金屬化學氣相沉積(MOCVD)、分子束磊晶成長(molecular beam epitaxy,MBE)製程、或氫化物氣相磊晶成長(hydride vapor phase epitaxy,HVPE)製程等製作。
接著，如第1B圖所示，形成一第一介電層122於此發光結構100上。較佳地，第一介電層122為一透明介電層，且其厚度D≦20μm，藉此有效地傳導發光結構100所產生之熱。第一介電層122的材料可為二氧化矽(SiO2)、氮化矽(Si3N4)、或是其組合，而其可藉由MOCVD或是MBE製作。
之後，參見第1C圖，形成一第二介電層140於第一介電層122上。第二介電層140的材料可為二氧化矽、氮化矽、聚亞醯胺(polyimide)、BCB(bisbenzocyclobutene)以及光阻劑(photoresist)中選擇其一。較佳地，第二介電層140之厚度約25μm，係藉由一印刷技術而形成。
參見第1D圖，在第二介電層140形成之後，形成金屬層160，金屬層160位於發光結構100上並電性接觸第一導電層102，且部分之金屬層160位於第一介電層122上；以及形成金屬層162，金屬層162位於發光結構100上並電性接觸第二導電層106，且部分之金屬層162位於第一介電層122上。其中，第一介電層122與第二介電層140隔絕金屬層160與金屬層162。金屬層160或金屬層162的材料可選自金(Au)、鋁(Al)、銀(Ag)、其等之合金，或其他習知的金屬。較佳地，金屬層160與金屬層162係藉由一印刷技術或電鍍而共同形成。經由上述步驟，即完成發光元件10。
在一實施例中，第一介電層122為一透明介電層，而第一介電層 122與金屬層160及/或金屬層162之接觸面供反射發光結構100發出之光，因而可有效提升發光元件10之光輸出強度。此外，金屬層160及/或金屬層162亦作為發光結構100之散熱路徑，當金屬層160及金屬層162具有較大的接觸面積A1、A2，也有助於有效且快速的散熱。
參見第1E圖，形成如同第1D圖所示之結構之後，發光元件的製作方法更包含一移除基材11之步驟，藉以暴露出第一導電層102。基材11可以例如是一藍寶石基材或是砷化鎵基材。當基材11為藍寶石基材，可藉由準分子雷射(excimer laser)移除基材11。準分子雷射可以為一具有能量為400毫焦耳/平方公分(mJ/cm2)、波長為248奈米以及脈衝寬度(pulse width)為38奈秒(ns)的氟化氪(KrF)準分子雷射。在較高的溫度中，例如60℃，當準分子雷射照射在藍寶石基材上時，藍寶石基材被移除以暴露出第一導電層102。另外，當基材11為砷化鎵基材，一比例為1：35之氨水(NH4OH)與過氧化氫(H2O2)的溶液或是一比例為5：3：5之磷酸(H3PO4)、過氧化氫(H2O2)與水的溶液可以用於移除砷化鎵基材，藉以暴露出第一導電層102。
移除基材11之後，發光元件的製作方法更包含粗化第一導電層102的表面102a。例如，當第一導電層102為一氮化鋁鎵銦(AlxGayln(1-x-y)N)層，其表面102a可以藉由蝕刻液粗化，蝕刻液可例如為氫氧化鉀(KOH)溶液。此外，當第一導電層102為一磷化鋁鎵銦(AlxGayIn(1-x-y)P)層，一鹽酸(HCl)以及磷酸的溶液可用於粗化第一導電層102的表面102a，粗化時間可例如為15秒。第一導電層102的粗化表面102a可降低發生全反射的可能性，藉以增加發光元件的光取出效率。
第1E圖所示之發光元件10以及第1D圖所示之發光元件10a、10b、10c提供足夠大的接觸面積(較佳為至少佔據發光元件10截面積之一半)，發光元件10a、10b、10c係利用錫料(solder)12直接與電路載板13連接，而不需要固晶(Die Bonding)與金屬拉線(Wire Bonding)等過程。在一實施例中，發光元件10a發出紅光(R)、發光元件10b發出綠光(G)、發光元件10c發出藍光(B)，三者分別與電路載板13連接以供影像顯示之用途。
參照第2A圖至第2D圖，係為依照本發明實施例之一種發光元件陣列的製作方法流程各階段所對應之剖面圖。在第2A圖中，首先提供一基材21，例如一藍寶石(Sapphire)基材、砷化鎵(GaAs)基材、或是其他習此技藝者所熟 知之基材與其組合。接著，在基材21上形成複數個發光結構200a、200b、與200c。發光結構200a、200b、與200c的材料與製作方法可參考第1A圖至第1D圖的發光結構100。相似地，發光結構200a、200b、與200c可藉由有機金屬化學氣相沉積(MOCVD)製程、分子束磊晶成長(molecular beam epitaxy,MBE)製程、或氫化物氣相磊晶成長(hydride vapor phase epitaxy,HVPE)製程等製作。
接著，如第2B圖所示，形成一介電層222a於發光結構200a上、形成一介電層222b於發光結構200b上、形成一介電層222c於發光結構200c上。較佳地，如同第1B圖所示之介電層122，介電層222a、222b、222c為一透明介電層，且其厚度D≦20μm，藉此有效地傳導發光結構200a、200b、200c所產生之熱。介電層222a、222b、222c的材料可為二氧化矽、氮化矽或其等之組合，而其可藉由MOCVD或是MBE製作。
之後，參見第2C圖，形成介電層240a於介電層222a上、形成介電層240b於介電層222b上、形成介電層240c於介電層222c上。介電層240a、240b、240c的材料可為二氧化矽、氮化矽、聚亞醯胺(polyimide)、BCB(bisbenzocyclobutene)以及光阻劑(photoresist)中選擇其一。較佳地，如同第1C圖所示之介電層第二140，介電層240a、240b、240c之厚度分別約為25μm，且係藉由一印刷技術而形成。在一實施例中，在發光結構200a、200b、200c之間，更形成一介電層280，藉以電絕緣發光元件20a、20b、與20c(如第2D圖所示)。在此實施例中，介電層280之材料與介電層240a、240b、240c的材料相同，例如聚亞醯胺，並利用一製程(例如一印刷技術)與介電層240a、240b、240c共同形成。在另一實施例中，介電層280之材料不同於介電層240a、240b、240c的材料，且藉由不同製程形成。
參見第2D圖，形成金屬層260a、260b、260c；以及形成金屬層262a、262b、262c。金屬層260a、260b、260c、262a、262b、與262c的材料可選自金(Au)、鋁(Al)、銀(Ag)或其等之合金。較佳地，金屬層260a、260b、260c、262a、262b、與262c係藉由一印刷技術或是電鍍而共同形成。經由上述步驟，即完成具有發光元件20a、20b、與20c之發光元件陣列20。
如第2E圖至第2F圖所示，在一實施例中，發光元件20a、20b、與20c提供足夠大的接觸面積，以利用錫料(solder)22直接與電路載板23連接。再使基材21與發光元件陣列20分離，發光元件陣列20便可作為影像顯示之用。 例如，利用錫料22直接連接發光元件20a、20b、與20c與電路載板23之後，發光元件的製作方法更包含一移除基材21之步驟。基材11可以例如是一藍寶石基材，且可藉由準分子雷射(excimer laser)移除。準分子雷射可以為一具有能量為400毫焦耳/平方公分(mJ/cm2)、波長為248奈米以及脈衝寬度(pulse width)為38奈秒(ns)的氟化氪(KrF)準分子雷射。在較高的溫度中，例如60℃，當準分子雷射照射在藍寶石基材上時，藍寶石基材便被移除以暴露出第一導電層102。另外，當基材11為砷化鎵基材，一比例為1：35之氨水(NH4OH)與過氧化氫(H2O2)的溶液或是一比例為5：3：5之磷酸(H3PO4)、過氧化氫(H2O2)與水的溶液可用於移除砷化鎵基材，藉以暴露出第一導電層102。
移除基材21之後，發光裝置的製作方法更包含粗化第一導電層102的表面102a。例如，當第一導電層102為一氮化鋁鎵銦(AlxGayln(1-x-y)N)層，其表面102a可以藉由蝕刻液粗化，蝕刻液可例如為氫氧化鉀(KOH)溶液。此外，當第一導電層102為一磷化鋁鎵銦(AlxGayIn1-x-yP)層，一鹽酸(HCl)以及磷酸的溶液可用於粗化第一導電層102的表面102a，粗化時間可例如為15秒。第一導電層102的粗化表面102a可降低發生全反射的可能性，藉以增加發光元件的光取出效率。一實施例中，如第2G圖所示，一透明封裝材料24係用於包覆包含發光元件20a、20b、與20c之發光元件陣列20且連接電路載板23，進而形成發光元件封裝25，其中透明封裝材料24可例如為環氧樹脂或是其他習知技藝者所熟知之適合的材料。
參照第3A圖至第3G圖，係為依照本發明實施例之一種發光裝置的製作方法流程各階段所對應之剖面圖。參見第3A圖，提供一基材21，其為單晶且包含藍寶石、砷化鎵、氮化鎵或矽；磊晶成長一第一導電層102於基材21上，第一導電層102係做為一包覆層；磊晶成長一包含多重量子井(Multiple Quantum Well,MQW)結構的活性層104於第一導電層102上，其中活性層104係作為一發光層；以及磊晶成長一第二導電層106於活性層104上，其中第二導電層106係做為另一包覆層。接著，蝕刻第一導電層102、活性層104以及第二導電層106以在基材21上形成複數藉由溝槽(圖未標)而彼此分離的發光疊層101，且每一發光疊層101中，一部分的第一導電層102是暴露的。接著，每一發光疊層101上形成有一保護層120，且保護層120覆蓋部分的第一導電層102、部分的第二導電層106以及發光疊層101的一側壁。接著，於每一第一導電層102的 暴露的部位上設置一與第一導電層102電性連接的電極或接合墊107a，以及於每一第二導電層106上設置一與第二導電層106電性連接的電極或接合墊107b。
之後，參見第3B圖，於每一保護層120上設置一反射層221，以及於每一保護層120上形成一覆蓋反射層221之第一介電層122。對於發光疊層101發出的光，反射層221具有一等同於或是大於80%的反射率。反射層221之材料包含金屬，例如銀、銀合金、鋁或鋁合金。在一實施例中，反射層221的材料包含混有無機粒子的高分子，其中無機粒子由金屬氧化物組成或是由具有反射率等於或是大於1.8之材料組成，反射層221的材料例如為混有氧化鈦粒子的環氧樹脂。各反射層221係完全地被各自對應的保護層120以及第一介電層122覆蓋，藉以電絕緣各反射層221與各自對應的發光疊層101。於另一實施例中，保護層120是被省略的，且反射層221是直接形成於第二導電層106上且電性連接第二導電層106。之後，如第3C圖所示，於基材21上以及溝槽之間以及於每一發光疊層101上形成一第二介電層240，且各第二介電層240暴露各自對應的電極或接合墊107a以及電極或接合墊107b。之後，於每一第二介電層240之間以及於部分的對應之第一介電層122上形成一第一金屬層260以及一第二金屬層262。第一金屬層260以及第二金屬層262係分別形成於對應的電極或接合墊107a以及電極或接合墊107b上。第一金屬層260以及第二金屬層262之材料包含金、鋁、銀或其等之合金。於一實施例中，第一金屬層260以及第二金屬層262係藉由一印刷技術或是電鍍而共同形成。
如第3D圖所示，圖案化位於相鄰發光疊層101之間的第二介電層240藉以於第二介電層240裡形成凹槽，凹槽暴露一部分的基材21且將第二介電層240隔開以形成介電層240a，之後形成一不透光層290於凹槽中。於一實施例中，不透光層290作為一反射層或是一光吸收層，藉以反射或是吸收對應的發光疊層101發出的光且避免被鄰近的發光疊層101發出的光互相影響或產生串擾(crosstalk)。對於對應的發光疊層101發出的光，不透光層290具有一小於50%的穿透率(transmittance)。不透光層290的材料包含金屬或是包含混有無機粒子的高分子，其中無機粒子由金屬氧化物組成或是由具有反射率等於或是大於1.8之材料組成，反射層221的材料例如為混有氧化鈦粒子的環氧樹脂。至此，包含複數發光元件300的發光元件陣列30製作完成。如第3E圖所示，提供一電路載板 23，其包含有複數位於電路載板23之上表面以及下表面的金屬接觸22以及包含有複數貫穿電路載板23的導電通道22a，其中導電通道22a可連接位於電路載板之上表面上的金屬接觸22以及位於電路載板之下表面上的金屬接觸22。於一實施例中，電路載板23包含錫料(solder)。電路載板23包含FR-4、BT(Bismaleimide-Triazine)樹脂、陶瓷或玻璃。電路載板23之厚度介於50至200微米之間以足夠支撐發光元件且依舊具有小體積。發光元件陣列30藉由對準各發光元件300的第一金屬層260與第二金屬層262至對應的金屬接觸22而直接以覆晶的形式與電路載板23連接。值得注意的是，發光元件陣列30與電路載板23之間金屬接觸22以外的區域可能形成有空隙。另外可選擇性地以填充材料填充於空隙裡以增進連結強度以及機械支撐。連接發光元件陣列30與電路載板23之後，移除發光元件陣列30的基材21。於一實施例中，基材包含藍寶石，發光疊層101包含氮化鎵，且移除基材21的方法包含於較高的溫度中，例如60℃，使用一準分子雷射照射在第一導電層102與基材21的介面，接著分離基材21與第一導電層102。準分子雷射可以為一具有能量為400毫焦耳/平方公分(mJ/cm2)、波長為248奈米以及脈衝寬度(pulse width)為38奈秒(ns)的氟化氪(KrF)準分子雷射。於另一實施例中，當基材21為砷化鎵基材，移除基材21的方法包含使用一比例為1：35之氨水(NH4OH)與過氧化氫(H2O2)的混和物或是一比例為5：3：5之磷酸(H3PO4)、過氧化氫(H2O2)與水的混和物藉以蝕刻至可以完全地移除基材21且暴露各發光元件300的第一導電層102、介電層240a以及不透光層290。
如第3F圖所示，移除基材21之後，發光裝置的製作方法更包括粗化第一導電層102之曓露的表面。於一實施例中，第一導電層102包含氮化鋁鎵銦(AlxGayln(1-x-y)N，其中0≦x,y≦0)，可使用氫氧化鉀(KOH)溶液蝕刻第一導電層102曓露的表面以形成一粗化表面102a。於另一實施例中，第一導電層102包含磷化鋁鎵銦(AlxGayIn(1-x-y)P)，可使用鹽酸(HCl)或是磷酸的溶液蝕刻第一導電層102曓露的表面以形成一粗化表面102a，粗化時間可例如為15秒。每一第一導電層102的粗化表面102a可降低各發光元件300內的光發生全反射的可能性，藉以增加發光元件的光取出效率。於粗化步驟之後，複數凹陷區域位於粗化表面102a且實質上被介電層240a環繞。於一實施例中，為了形成一用於顯示器的晶粒級的紅綠藍發光元件單元，本實施例之製作方法可選擇性地於發光元件300b上塗佈一第一波長轉換層294以轉換光，如第3F圖所示。例如，發光元件 300b之發光疊層101，其發出之主要波長介於430奈米至470奈米之間的藍光，被轉換為第一轉換光，例如為一具有主要波長介於610奈米至690奈米之間的紅光。進一步的，一第二波長轉換層296可選擇性地塗佈在發光元件300c上藉以將發光元件300c所發出的光轉換為一第二轉換光，例如為一具有主要波長介於500奈米至570奈米之間的綠光。發光元件300a並未塗佈任何波長轉換材料，以直接自發光元件300a之粗化表面102a發出藍光。於一實施例中，第一或第二波長轉換層藉由聚集奈米級的量子點(quantum dot)或是奈米級的螢光粉以形成一具有厚度實質一致的膜，且藉由一黏結層(圖未示)連結至發光疊層101。於另一實施例中，第一或第二波長轉換層包含具有奈米級的量子點或是奈米級的螢光粉，其平均直徑或平均特徵長度介於10奈米至500奈米之間。每個奈米級的量子點或奈米級的螢光粉之長度或是特徵長度實質上小於1000奈米。奈米級的量子點包含半導體材料，例如一具有組成為ZnxCdyMg1-x-ySe的II-VI(二/六)族化合物半導體，其中x以及y可調變為使II-VI(二/六)族化合物半導體光激發後發出綠或紅光。「特徵長度」定義為一螢光粉或是一量子點之任兩端點之間的最大距離。之後，將例如為環氧樹脂或是矽氧樹脂(silicone)的透明封裝材料24塗佈於發光元件陣列32之上表面以將波長轉換材料固定於發光疊層101，且作為發光元件陣列32之發光元件300a、300b、300c的光學透鏡。於另一實施例中，覆蓋發光元件300a、300b、300c的波長轉換層之材料是相同的。
第4A圖為如第3F圖所示之發光元件陣列32以覆晶的形式與電路載板23連接的俯視圖。發光元件陣列32以及電路載板23兩者為具有相同或類似尺寸的晶圓形式。發光元件陣列32包含於二維空間中交錯且連續設置的複數紅綠藍發光元件群組，且如圖中虛線圈起的部位所示，每一群組包含一個發光元件300a、一個發光元件300b以及一個發光元件300c。
最後，執行一切割(dicing)步驟同時切割發光元件陣列32以及電路載板23，形成如第3G圖所示之複數晶粒級的紅綠藍發光元件單元35，各晶粒級的紅綠藍發光元件單元35包含一發出藍光的藍色發光元件300a、一發出紅光的紅色發光元件300b以及一發出綠光的綠色發光元件300c。晶粒級的紅綠藍發光元件單元35是一種不含封裝且為一種表面黏著型的裝置，亦即，於切割步驟之後，不需要傳統的封裝步驟即可直接與一印刷電路載板黏接。透明封裝材料24係共同地覆蓋發光元件300a、300b以及300且不延伸至發光元件300a、300b 以及300c之側壁。於一實施例中，切割(dicing)步驟同時切割發光元件陣列32以及電路載板23以形成複數晶粒級的紅綠藍發光元件單元，其中各晶粒級的紅綠藍發光元件單元包含複數紅綠藍發光元件群組。複數紅綠藍發光元件群組於一個紅綠藍發光元件單元中係以I＊J陣列排列，其中I以及J是正整數，且I與J中至少一是大於1。I與J之比例較佳地是接近或是等於1/1、3/2、4/3或16/9。
參照第4B圖，係為晶粒級的紅綠藍發光元件單元35包含如第3G圖所示之紅綠藍發光元件群組。晶粒級的紅綠藍發光元件單元35是為具有一第一長邊以及一第一短邊的第一矩形，其中第一短邊具有一第一寬度S1且第一長邊具有一大於第一寬度S1的第一長度S2。每一發光疊層101為具有一第二長邊以及一第二短邊的第二矩形，其中第二短邊具有一第二寬度d1且第二長邊具有一大於第二寬度d1的第二長度d2。發光疊層101的第二短邊實質上設置於平行於晶粒級的紅綠藍發光元件單元35的第一長邊或實質上設置於垂直於晶粒級的紅綠藍發光元件單元35的第一短邊。於一實施例中，紅綠藍發光元件單元35可作為室內顯示平板的一個像素。為了使具有對角線為40吋且像素解析度為1024*768的電視顯示全部使用發光元件像素，每一像素的面積需小於約0.64平方毫米(mm2)。因此，紅綠藍發光元件單元35的面積可例如為小於0.36mm2。第一長度S2以及第一寬度S1皆小於0.6毫米，且紅綠藍發光元件單元35的長寬比，亦即S2/S1，較佳地係小於2/1。根據本發明所揭露之實施例，第一金屬層260以及第二金屬層262之間的距離，亦即第一距離S3，受限於發光元件陣列以及電路載板於連接步驟中的對位控制。第一距離S3等於或是大於25微米(micron)且小於150微米，藉以確保製程容差且提供足夠做為導電用的接觸面積。紅綠藍發光元件單元35之其中一邊緣與紅綠藍發光元件單元35的其中一發光疊層101之間的距離，亦即第二距離S4，受限於切割步驟的容差。第二距離S4等於或是大於25微米且小於60微米，藉以確保切割步驟的容差以及維持小體積的優點。兩個相鄰發光元件之間的距離，亦即第三距離S5受限於微影蝕刻步驟，且小於50微米，或較佳地小於25微米，藉以於發光疊層101之間保留較多的面積。對於紅綠藍發光元件單元35中每一發光疊層101而言，第二寬度d1介於20至150微米之間且第二長度d2介於20至550微米之間。紅綠藍發光元件單元35的面積與發光疊層101的總面積之比例小於2或介於1.1至2之間，且較佳地係介於1.2至1.8之間。發光疊層101的面積取決於所需的亮度以及像素尺寸。值得注 意的是，紅綠藍發光元件單元35的形狀亦可為四邊皆與第一寬度S1相同的正方形。於一實施例中，一像素包含兩個紅綠藍發光元件單元35，其中一個用於正常操作，另一個用於備用以防正常操作的紅綠藍發光元件單元35故障。第一寬度S1較佳地係小於0.3毫米，藉以使兩個紅綠藍發光元件單元35設置於一個像素內。本發明的優點在於，可以實現發光元件作為一平面電視的像素元件，且解析度更可以提升至像素解析度為1024*768的兩倍或是四倍。於另一實施例中，一紅綠藍發光元件單元35包含兩個紅綠藍發光元件群組，其中一個用於正常操作，另一個用於備用以防正常操作的紅綠藍發光元件群組故障。
參照第5A圖至第5C圖，係為依照本發明實施例之一種晶粒級的發光元件單元，其製造方法以及結構與第3A圖至第3G圖所示之實施例以及相關之揭示內容相似，不同的地方在於，於切割步驟之前，發光元件陣列34包含複數相同的發光元件300d，如第5A圖所示。每一發光元件300d係塗佈相同或不同的波長轉換層298，波長轉換層298用於轉換對應的發光元件300d之發光疊層101發出的光，例如，將主要波長介於430奈米至470奈米之間的藍光轉換為黃光、綠光或是從光的轉換光。參照第5B圖以及第5C圖，係為切割步驟後，包含單一發光元件的晶粒級的發光元件單元36之俯視圖以及剖面圖。晶粒級的發光元件單元36的尺寸與第4B圖所示之晶粒級的紅綠藍發光元件單元35的尺寸相似或相同。晶粒級的發光元件單元36為具有一第一長邊以及一第一短邊的第一矩形，其中第一長邊具有第一長度S1，且第一短邊具有小於第一長度S1的第一寬度S6。每一發光疊層101為具有一第二長邊以及一第二短邊的第二矩形，其中第二短邊具有一第二寬度d1且第二長邊具有一大於第二寬度d1的第二長度d2。發光疊層101的第二短邊實質上設置於平行於晶粒級的紅綠藍發光元件單元36的第一短邊或實質上設置於垂直於晶粒級的紅綠藍發光元件單元36的第一長邊。於一實施例中，紅綠藍發光元件單元36是用於一室內顯示平板的的像素之其中一部分。紅綠藍發光元件單元36的面積可例如為小於0.12mm2。第一長度S1以及第一寬度S6皆小於0.2毫米，且紅綠藍發光元件單元36的長寬比，亦即S1/S6，較佳地係小於2/1。根據本發明，第一金屬層260以及第二金屬層262之間的距離，亦即第一距離S3，受限於發光元件陣列以及電路載板於連接步驟中的對位控制。第一距離S3等於或是大於25微米且小於150微米，以確保製程容差且提供足夠做為導電用的接觸面積。紅綠藍發光元件單元36之其 中一邊緣與其發光疊層101之間的距離，亦即第二距離S4，受限於切割步驟的容差。第二距離S4等於或是大於25微米且小於60微米，藉以確保切割步驟的容差以及維持小體積的優點。對於晶粒級的紅綠藍發光元件單元36中的發光疊層101而言，第二寬度d1介於20至150微米之間且第二長度d2於20至550微米之間。晶粒級的紅綠藍發光元件單元36的面積與發光疊層101的總面積比例小於2或介於1.1至2之間，且較佳地係介於1.2至1.8之間。發光疊層101的面積取決於所需的亮度以及像素尺寸。值得注意的是，紅綠藍發光元件單元36的形狀亦可為四邊皆與第一寬度S6相同的正方形。相似的，發光疊層101的形狀亦可為四邊皆與第二寬度d1相同的正方形。於一實施例中，一像素包含至少三個晶粒級的紅綠藍發光元件單元36，藉以發出藍、紅以及綠光。
參照第5D圖至第5E圖，係為依照本發明實施例之一種晶粒級的發光元件單元，其製造方法以及結構與第5A圖至第5C圖所示之實施例以及相關之揭示內容相似，不同的地方在於，不透光層290可選擇性地省略。紅綠藍發光元件單元36’是直接表面黏著於一包含於一燈具的光板。發光疊層101之面積取決於所需的亮度以及光板或燈具的尺寸。對於例如小於0.3瓦之低功率的應用而言，紅綠藍發光元件單元36’的發光疊層101之面積係為100mil2至200mil2，對於例如介於0.3至0.9瓦之間的中功率之應用而言，紅綠藍發光元件單元36’的發光疊層101之面積係為201mil2至900mil2，對於例如高於0.9瓦的高功率之應用而言，紅綠藍發光元件單元36’的發光疊層101之面積係大於900mil2。環繞發光疊層101的介電層240a可作為將光取出晶粒級的發光元件單元36’的耦合透鏡(coupling lens)。晶粒級的發光元件單元36’的面積與發光疊層101的面積之比例等於或大於9，且較佳地係等於或大於15，藉以具有較佳的光取出效率以及光分散性。於本發明中，第一金屬層260以及第二金屬層262之間的距離，亦即第一距離S3’，受限於發光元件陣列以及電路載板於連接步驟中的對位控制。第一距離S3’等於或是大於25微米且小於150微米，藉以確保製程容差且提供足夠做為導電用的接觸面積。值得注意的是，晶粒級的發光元件單元36’的形狀亦可為四邊皆與第一寬度S6’相同的正方形。同樣的，發光疊層101的形狀亦可為四邊皆與第二寬度d1’相同的正方形。第一寬度S6’與第二寬度d1’相同或是大於第二寬度d1’的三倍，較佳地，第一寬度S6’與第二寬度d1’相同或是大於第二寬度d1’的四倍，以使晶粒級的發光元件單元36’ 具有較佳的光取出效率。於一實例中，介電層於發光疊層101的側壁具有不相同的厚度，因此第一寬度S6’與第二寬度d1’的第一比例(S6’/d1’)不同於第一長度S1’與第二長度d2’的第二比例(S1’/d2’)，以達到於操作時，俯視晶粒級的發光元件單元36’，其具有不對稱的光場的特性。此外，第一比例至少為第二比例的兩倍，或較佳地係為第二比例的四倍。
參照第6A圖，係為依照本發明實施例之一晶粒級的紅綠藍發光元件單元65的剖面圖，其製造方法以及結構與第3A圖至第3G圖所示之實施例以及相關之揭示內容相似，不同的地方在於，一填充材料680係填充於包含發光元件300a’、300b’以及300c’的發光元件陣列32’以及電路載板23之間的空隙，藉以提高兩者的連接強度以及提供電路載板以及發光元件之間的電流路徑。填充材料680包含異方導電膠(anisotropic conductive film，ACF)，其具有在發光元件陣列32’與電路載板23之間以垂直路徑傳導電流以及在發光元件陣列32’與電路載板23之間以平行於發光元件陣列32’或電路載板的橫向路徑絕緣電流的能力。填充材料680係於連接發光元件陣列至電路載板23之前塗佈於電路載板23上。於一實施例中，第一金屬層260’以及第二金屬層262’皆未接觸電路載板23的金屬接觸22。填充材料680係位於第一金屬層260’、第二金屬層262’與金屬接觸22之間，藉以在第一金屬層260’、第二金屬層262’以及金屬接觸22之間傳導電流。第一金屬層260’以及第二金屬層262’係經圖案化，因此在面對金屬接觸22的表面為一具有複數凹部以及凸部的粗化表面。故，發光元件陣列與電路載板的接觸面積增加，發光元件陣列與電路載板的連接強度亦提升。複數凹部以及凸部具有規則形狀或是不規則形狀，且表面粗糙度(Ra)係介於0.5至5微米之間。使用異方導電膠作為填充材料的的優點在於第一金屬層260’與第二金屬層262’之間的距離，即如第4B圖所示之第一距離S3，可小於25微米。
第6B圖係為第6A圖所示之發光元件陣列32’中的單顆發光元件300d’之示意圖。填充材料680以及第一金屬層260’與第二金屬層262’之圖案化的表面亦可以應用於如第5A圖至第5C圖所示之實施例，藉以形成如第6B圖所示之結構。填充材料680係填充於發光元件300d’以及電路載板23之間的空隙，以提高兩者的連接強度以及提供電路載板與發光元件之間的電流路徑。填充材料680包含異方導電膠(anisotropic conductive film，ACF)，其具有在發 光元件300d’與電路載板23之間以垂直路徑傳導電流以及在發光元件300d’與電路載板23之間以平行於發光元件300d’或電路載板的橫向路徑絕緣電流的能力。填充材料680係於連接發光元件陣列至電路載板23之前塗佈於電路載板23上。於一實施例中，第一金屬層260’以及第二金屬層262’皆未接觸電路載板23的金屬接觸22。填充材料680係位於第一金屬層260’、第二金屬層262’與金屬接觸22之間，藉以在第一金屬層260’、第二金屬層262’以及金屬接觸22之間傳導電流。第一金屬層260’以及第二金屬層262’係經圖案化，因此在面對金屬接觸22的表面上有複數凹部以及凸部。故，發光元件與電路載板的接觸面積增加，發光元件與電路載板的連接強度亦提升。複數凹部以及凸部具有規則形狀或是不規則形狀，且表面粗糙度(Ra)係介於0.5至5微米之間。同樣地，填充材料680以及第一金屬層260’與第二金屬層262’之圖案化的表面亦可以應用於上述如第5E圖所示之實施例，以形成如第6C圖所示之結構。
參照第7A圖至第7G圖，係為依照本發明實施例之一種發光裝置的製作方法流程各階段所對應之剖面圖，其中第7A圖至第7D圖之步驟以及結構與第2A圖至第2D圖所示之實施例以及相關之揭示內容相似，第7F圖至第7G圖之步驟以及結構與第3E圖至第3F圖所示之實施例以及相關之揭示內容相似，不同的地方在於，如第7C圖所示，介電層240a、240b、240c、280係為一光阻劑，例如為正光阻劑或是負光阻劑；如第7D圖至第7E圖所示，於形成金屬層260a、260b、260c以及形成金屬層262a、262b、262c之後，所述的製作方法更包含移除介電層240a、240b、240c、280，因此形成空隙於兩相鄰的發光元件之間以及單一發光元件之金屬層之間；如第7F圖至第7G圖所示，移除基材21之後，兩相鄰的發光元件藉由空隙以彼此分離，且所述的製作方法更包括粗化第一導電層102曓露的表面以形成一粗化表面102a，粗化的方法如前所述，在此便不再贅述。於一實施例中，為了形成一用於顯示或照明的晶粒級(chip-scale)的紅綠藍發光元件，其製作方法可選擇性地於發光元件300b上塗佈一第一波長轉換層294，如第7G圖所示，以將發光元件300b所發出的光轉換為一第一轉換光。進一步的，一第二波長轉換層296可選擇性地塗佈在發光元件300c上藉以將發光元件300c所發出的光轉換為一第二轉換光。發光元件300a並未塗佈任何波長轉換材料，以直接自發光元件300a之粗化表面102a發出藍光。各轉換層的形成方式以及材料如前所述，在此不再贅述。第7H圖係為依照本發明實施例之 晶粒級的紅綠藍發光元件單元包含如第7G圖所示之紅綠藍發光元件群組之俯視圖，紅綠藍發光元件單元37之第一寬度S1、第一長度S2、第二長度d2、第一距離S3、第二距離S4、第二寬度d1、第三距離S5如第4B圖所示之實施例以及相關之揭示內容所述，在此不再贅述，不同的地方在於，發光疊層101並未被介電層240a以及不透光層290環繞。於形成第一波長轉換層294以及第二波長轉換層296之後，不需塗佈前述實施例之透明封裝材料24，直接執行切割(dicing)步驟以直接切割電路載板23而不需經由切割發光元件陣列32，形成複數晶粒級的紅綠藍發光元件單元。參照第7I圖以及第7J圖，係為切割步驟後，包含單一發光元件的晶粒級的發光元件單元37之剖面圖以及俯視圖。晶粒級的發光元件單元37之第一長度S1、第一寬度S6、第二寬度d1、第二長度d2、第一距離S3以及第二距離S4如圖5B所示之實施例以及相關之揭示內容所述，在此不再贅述，不同的地方在於，發光疊層101、第一金屬層260以及第二金屬層262之的側壁並未有介電層240a以及不透光層290；此外，波長轉換層298上並未有透明封裝材料24。
參照第8A圖，係為依照本發明實施例之一種顯示模組76，其包含複數位於第二電路載板73上的晶粒級的紅綠藍發光元件單元65。例如，任兩個相鄰的晶粒級的紅綠藍發光元件單元65是由一間距彼此分離或是無縫地設置而使兩者互相接觸。第二電路載板73包含電路72，電路72是與紅綠藍發光元件單元65之各發光元件電性連接，藉以獨立控制每一紅綠藍發光元件單元65中的藍、紅以及綠色發光元件。於一實施例中，顯示模組76包含M列以及N行的晶粒級的紅綠藍發光元件單元65以用於一具有X*Y像素解析度的顯示器，其中M/N=1/1、3/2、4/3或16/9，X=a*M，Y=b*N，且a以及b皆為等於或大於2的正整數。顯示模組76於一平方英吋之面積中，包含超過500個的紅綠藍發光元件單元65。也就是說，顯示模組76於一平方英吋之面積中，包含超過1500個發光疊層101。於另一實施例中，每一晶粒級的紅綠藍發光元件單元包含複數紅綠藍發光元件群組，且每一群組如之前所述，包含一藍色發光元件、一紅色發光元件以及一綠色發光元件。複數紅綠藍發光元件群組於一個晶粒級的紅綠藍發光元件單元中係以I＊J陣列排列，其中I以及J是正整數，且I與J中至少一是大於1。I與J之比例較佳地是接近或是等於1/1、3/2、4/3或16/9。於一晶粒級的紅綠藍發光元件單元中，分別來自於兩相鄰的紅綠藍發光元件群組的兩 相鄰的發光疊層之間的距離，實質上等於分別來自於兩相鄰的晶粒級的紅綠藍發光元件單元之兩相鄰的發光疊層之間的距離。顯示模組76包含M列以及N行的晶粒級的紅綠藍發光元件單元65以用於一具有X*Y像素解析度的顯示器，其中M/N=1/1、3/2、4/3或16/9，X=a*M*I，Y=b*N*J，且a以及b皆為等於或大於2的正整數。顯示模組76於一平方英吋之面積中，包含超過500個的紅綠藍發光元件群組。也就是說，顯示模組76於一平方英吋之面積中，包含超過1500個發光疊層101。每一紅綠藍發光元件單元以及紅綠藍發光元件單元中的每一發光元件皆可藉由電路載板23以及第二電路載板73上形成的電路獨立驅動。第二電路載板73的材料班還FR-4、BT(Bismaleimide-Triazine)樹脂、陶瓷或是玻璃。第8B圖係為依照本發明實施例之一種照明模組78的示意圖。照明模組78包括複數位於第二電路載板73上的晶粒級的發光元件單元66。依據施加的驅動電壓，晶粒級的發光元件單元66可藉由第二電路載板73上的電路以串聯或是並聯方式連接。於一實施例中，照明模組78係被設置於一如第9所示之燈泡80內。燈泡80進一步包含一覆蓋照明模組78的光學透鏡82，一具有一連接表面且照明模組78是位於連接表面的散熱槽85，一與散熱槽85連接的連結部87，以及一與連結部87連接且與照明模組78電性連接的電連接器88。
以上所述之實施例僅係為說明本發明之技術思想及特點，其目的在使熟習此項技藝之人士能夠瞭解本發明之內容並據以實施，當不能以之限定本發明之專利範圍，即大凡依本發明所揭示之精神所作之均等變化或修飾，仍應涵蓋在本發明之專利範圍內。
32‧‧‧發光元件陣列
300a、300b、300c‧‧‧發光元件
102a‧‧‧表面
240a‧‧‧介電層
290‧‧‧不透光層
294‧‧‧第一波長轉換層
296‧‧‧第二波長轉換層
23‧‧‧電路載板
22a‧‧‧導電通道
22‧‧‧金屬接觸
102‧‧‧第一導電層
24‧‧‧透明封裝材料

Claims (19)

  1. 一種發光裝置的製作方法，包含：提供一第一載板，其具有複數第一金屬接觸；提供一基材；形成一疊層結構於該基材上，其中該疊層結構包括一第一導電層、一活性層、以及一第二導電層；連接該疊層結構與該第一載板；移除該基材；形成一封裝材料於該疊層結構上；形成複數溝槽於該基材上以使該疊層結構包括複數藉由該等溝槽彼此分離的發光疊層；以及切割該第一載板以及該封裝材料以形成複數晶粒級的發光元件單元。
  2. 如請求項1所述之方法，其更包含於該等發光疊層上形成複數金屬層以與該等第一金屬接觸連接。
  3. 如請求項1所述之方法，其更包含形成一不透光層於該等溝槽中且環繞該等發光疊層，藉以避免相鄰的發光疊層發出的光互相影響或串擾(crosstalk)。
  4. 如請求項1所述之方法，其更包含形成一第一波長轉換層於一第一發光疊層上，該第一波長轉換層將該第一發光疊層發出的光轉換為一第一光，其中該第一發光疊層為該等發光疊層 之其中之一。
  5. 如請求項4所述之方法，其更包含形成一第二波長轉換層於一第二發光疊層上，該第二波長轉換層將該第二發光疊層發出的光轉換為一第二光，其中該第二發光疊層為該等發光疊層之其中之一。
  6. 如請求項5所述之方法，其中該等發光疊層包含一第三發光疊層，該第三發光疊層之上方並未有任何波長轉換材料，其中該第一發光疊層、該第二發光疊層以及該第三發光疊層發出的光為藍光，該第一光為綠光且該第二光為紅光。
  7. 如請求項1所述之方法，其更包含形成一不透光層於該等溝槽中，其中該封裝材料是位於該等溝槽以及該不透光層之上。
  8. 如請求項7所述之方法，其更包含形成一介電層於該等溝槽中且於該不透光層以及該等發光疊層之間。
  9. 如請求項2所述之方法，其更包含圖案化該等金屬層以使該等金屬層的表面形成粗化表面。
  10. 如請求項1所述之方法，於該移除該基材以暴露該等發光疊層之一曝露表面之後，其更包含粗化該發光疊層之該曝露表面。
  11. 如請求項1所述之方法，其更包含形成一反射層於該疊層結構以及該第一載板之間。
  12. 如請求項1所述之方法，於該連接該疊層結構與該第一載板之該等第一金屬接觸之前，其更包含形成一填充材料，該填充材料實質上是形成於該第一載板之一表面的上方。
  13. 如請求項12所述之方法，其中該填充材料是導電的，且該疊層結構是藉由該填充材料與該第一載板電性連接。
  14. 如請求項1所述之方法，其中該等第一金屬接觸自該第一載板之一頂面延伸至該第一載板之底面。
  15. 如請求項1所述之方法，其更包含提供一具有複數第二金屬接觸的第二載板，以及連接該等晶粒級的發光元件單元與該第二載板的該等第二金屬接觸。
  16. 如請求項1所述之方法，其中該等發光疊層是以一小於25微米的間距彼此分離。
  17. 如請求項1所述之方法，其中該等晶粒級的發光元件單元的其中之一具有一小於0.36平方毫米(mm2)的面積。
  18. 如請求項1所述之方法，其中該等晶粒級的發光元件單元的其中之一包含單個發光疊層，且該晶粒級的發光元件單元的面積與該單個發光疊層的面積之比例是等於或是大於9。
  19. 如請求項1所述之方法，其中該等晶粒級的發光元件單元的其中之一包含複數發光疊層，且該晶粒級的發光元件單元的面積與該等發光疊層之總面積的比例是小於2。
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