TWI533065B - 顯示面板 - Google Patents

Description

顯示面板

本發明是有關於一種顯示面板，且特別是有關於一種可改善漏光問題的顯示面板。

隨著科技的進步，體積龐大的陰極射線管(Cathode Ray Tube，CRT)顯示器已經漸漸地走入歷史。因此，液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)、有機發光二極體顯示器(Organic Light Emitting Diode display，OLED display)、電泳顯示器(Electro-Phoretic Display，EPD)、電漿顯示器(Plasma Display Panel，PDP)等顯示面板則逐漸地成為未來顯示器之主流。

為了精準地控制顯示面板的主動元件陣列基板與對向基板之間隙(cell gap)，一般會在兩個基板之間加入間隙物以支撐間隙。在顯示面板被彎曲或按壓時(例如進行移動光間隙物測試(moving PS test)時)會造成間隙物的錯位(或滑動)，且錯位的間隙物會導致刮傷顯示區域的主動元件陣列基板上的膜層，或者是使主動元件陣列基板上的配向層的配向效果不良，因而導致顯示面板有漏光的問題。再者，若間隙物在斜向方向上錯位，則由於間 隙物會不對稱地刮傷相鄰的兩個畫素區，因此在斜向方向上錯位的間隙物更容易放大顯示面板漏光的問題。由於間隙物的錯位會導致顯示面板漏光的問題，因此如何開發出間隙物的錯位量較小的顯示面板實為研發者所欲達成的目標之一。

本發明提供一種顯示面板，可減少在顯示面板被彎曲或按壓時所造成的間隙物的錯位量以改善顯示面板漏光的問題。

本發明提出一種顯示面板。顯示面板具有多個畫素區以及一遮光區，且遮光區圍繞畫素區設置。顯示面板包括第一基板、畫素陣列、絕緣層、第二基板、複數個間隙物以及顯示介質。畫素陣列位於第一基板上。絕緣層覆蓋畫素陣列，其中絕緣層具有多個圖案區位於遮光區中。第二基板位於第一基板的對向。間隙物位於第二基板之上，且分別對應絕緣層之圖案區設置於遮光區中，其中間隙物的面積為A1，圖案區的面積為A2，且A2/A1=1~2。顯示介質位於第一基板與第二基板之間。

基於上述，本發明的圖案區的設計可增加第二基板上的間隙物與第一基板上的絕緣層之間的摩擦力，以減少在顯示面板被彎曲或按壓時所造成的間隙物的錯位量，進而可改善顯示面板漏光的問題。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

100‧‧‧顯示面板

102‧‧‧畫素區

104‧‧‧遮光區

110‧‧‧第一基板

112‧‧‧畫素陣列

114‧‧‧絕緣層

114a、150a‧‧‧表面

114b‧‧‧凹陷部

116‧‧‧圖案區

116a、116a’、156a‧‧‧圖案

120‧‧‧第二基板

122‧‧‧間隙物

130‧‧‧顯示介質

142、144‧‧‧配向層

150‧‧‧第一摩擦層

150c‧‧‧環狀凹槽

160‧‧‧第二摩擦層

170‧‧‧遮光層

180‧‧‧介電層

216a、256a‧‧‧中心圖案

216b、256b‧‧‧環狀圖案

A1、A2、A2’、A2”‧‧‧面積

D1、D2、D3‧‧‧方向

DL‧‧‧資料線

H‧‧‧高度差

I-I’‧‧‧線

P‧‧‧畫素結構

PE‧‧‧畫素電極

R‧‧‧區域

SL‧‧‧掃描線

T‧‧‧主動元件

θ 1、θ 2‧‧‧夾角

圖1為依照本發明的第一實施例的顯示面板的上視示意圖。

圖2為圖1的區域R的放大示意圖。

圖3A及圖3B分別為圖2的區域R沿線I-I’的剖面示意圖。

圖4為依照本發明的第二實施例的區域R的放大示意圖。

圖5為依照本發明的第三實施例的區域R的放大示意圖。

圖6為依照本發明的第四實施例的區域R的放大示意圖。

圖7為依照本發明的第五實施例的區域R的放大示意圖。

圖8A及圖8B分別為圖7的區域R沿線I-I’的剖面示意圖。

圖9為依照本發明的第六實施例的區域R的放大示意圖。

圖10為依照本發明的第七實施例的區域R的放大示意圖。

圖11為依照本發明的第八實施例的區域R的放大示意圖。

圖12為依照本發明的第九實施例的區域R的放大示意圖。

圖13為依照本發明的第十實施例的區域R的放大示意圖。

圖14至圖16分別為圖13的區域R沿線I-I’的剖面示意圖。

圖17為依照本發明的第十一實施例的區域R的放大示意圖。

圖18為圖17的區域R沿線I-I’的剖面示意圖。

圖19為依照本發明的第十二實施例的區域R的放大示意圖。

圖20為依照本發明的第十三實施例的區域R的放大示意圖。

圖21為圖20的區域R沿線I-I’的剖面示意圖。

圖22為依照本發明的第十四實施例的區域R的放大示意圖。

圖23為依照本發明的第十五實施例的區域R的放大示意圖。

圖24為依照本發明的第十六實施例的區域R的放大示意圖。

圖1為依照本發明的第一實施例的顯示面板的上視示意圖，圖2為圖1的區域R的放大示意圖，而圖3A及圖3B分別為圖2的區域R沿線I-I’的剖面示意圖。圖1及圖2僅繪示出顯示面板100的部分構件，關於顯示面板100詳細的結構及其構件請參照圖3A或圖3B。

請同時參照圖1至圖3B，顯示面板100具有多個畫素區102以及一遮光區104，且遮光區104圍繞畫素區102設置。再者，顯示面板100包括第一基板110、畫素陣列112、絕緣層114、第二基板120、複數個間隙物122以及顯示介質130。顯示面板100例如是液晶顯示面板、有機發光二極體顯示面板、電泳顯示面板、電漿顯示面板或其他合適的顯示面板。

第一基板110的材料可為玻璃、石英、有機聚合物或是金屬等等。

畫素陣列112位於第一基板110上。畫素陣列112是由多個畫素結構P組成陣列形式所構成。每一畫素結構P包括掃描線SL、資料線DL、主動元件T以及畫素電極PE。在本實施例中，掃描線SL、資料線DL以及主動元件T例如是位於顯示面板100 的遮光區104中，而畫素電極PE例如是位於顯示面板100的畫素區102中。

掃描線SL與資料線DL的延伸方向不相同，較佳的是掃描線SL的延伸方向與資料線DL的延伸方向垂直。在本實施例中，掃描線SL沿D1方向延伸，而資料線DL沿D2方向延伸，且D1方向與D2方向實質上互相垂直。此外，掃描線SL與資料線DL是位於不相同的膜層，且兩者之間夾有絕緣層(未繪示)。掃描線SL與資料線DL主要用來傳遞驅動此畫素結構P的驅動訊號。掃描線SL與資料線DL一般是使用金屬材料。然而，本發明不限於此。根據其他實施例，掃描線SL與資料線DL也可以使用其他導電材料例如是包括合金、金屬材料的氧化物、金屬材料的氮化物、金屬材料的氮氧化物或是金屬材料與其它導電材料的堆疊層。

主動元件T與掃描線SL以及資料線DL電性連接。主動元件T可以是底部閘極型薄膜電晶體或是頂部閘極型薄膜電晶體，其包括閘極、通道、源極以及汲極。

畫素電極PE與主動元件T電性連接。畫素電極PE例如是透明導電層，其包括金屬氧化物，例如是銦錫氧化物、銦鋅氧化物、鋁錫氧化物、鋁鋅氧化物、銦鍺鋅氧化物、或其它合適的氧化物、或者是上述至少二者之堆疊層。

絕緣層114覆蓋畫素陣列112，其中絕緣層114具有多個圖案區116。圖案區116位於顯示面板100的遮光區104中，且圖案區116包含多個圖案116a。在本實施例中，每一圖案116a的面 積A2’為4μm²~25μm²，而每一圖案區116的面積為A2(亦即，多個圖案116a的面積A2’之總和)。如圖2所示，圖案116a的形狀例如是矩形，且多個圖案116a於圖案區116中排列成矩形陣列。再者，如圖3A所示，圖案116a例如是包括多個凸塊，且圖案116a(例如是凸塊)的高度可以相同或是不相同，但本發明不限於此。在其他實施例中，如圖3B所示，圖案116a’亦可以是包括多個凹槽，且圖案116a(例如是凹槽)的深度可以相同或是不相同。圖案區116的高度差H(或深度差)為0.2μm~1μm。

絕緣層114的材料例如是包括無機材料、有機材料或上述之組合。無機材料例如是包括氧化矽、氮化矽、氮氧化矽或上述至少二種材料的堆疊層。在本實施例中，絕緣層114又可稱為平坦層或保護層。圖案區116的圖案116a或圖案116a’(凸塊或凹槽)的形成方法例如是包括微影蝕刻製程、半調式(half-tone)光罩製程或其他合適的方法。舉例來說，可以是藉由微影蝕刻製程或半調式光罩製程在絕緣層114的圖案區116中形成圖案116a或圖案116a’，或者是先在圖案區116中形成另一圖案化膜層接著再共形地覆蓋上絕緣層114以形成圖案116a或圖案116a’。此外，這些圖案116a或圖案116a’亦可以是與圖案區116以外的絕緣層114的其他圖案於同一製程步驟中形成，或者亦可以是另外形成，本發明不特別限定。

第二基板120位於第一基板110的對向。第二基板120的材料可為玻璃、石英或有機聚合物等等。根據本發明之另一實 施例，第二基板120上可更包括設置有彩色濾光陣列層，其包括紅、綠、藍色濾光圖案。另外，第二基板120上可更包括設置遮光圖案層，其設置於彩色濾光陣列層的圖案之間。在本實施例中，遮光圖案層例如是位於顯示面板100的遮光區104中，而彩色濾光陣列層的紅、綠、藍色濾光圖案例如是位於顯示面板100的畫素區102中。

間隙物122位於第二基板120之上，且分別對應絕緣層114之圖案區116設置於遮光區104中。更詳細來說，間隙物122位於第一基板110與第二基板120之間，且間隙物122位於顯示面板100的遮光區104中並對應絕緣層114的圖案區116設置。亦即，間隙物122與絕緣層114的圖案區116在垂直投影的方向上重疊設置。在本實施例中，每一圖案區116的面積為A2(亦即，多個圖案116a的面積A2’之總和)，每一間隙物122的面積A1為28μm²~202μm²，且A2/A1=1~2。也就是說，圖案區116的面積A2例如是等於或大於間隙物122的面積A1。

值得一提的是，本實施例的絕緣層114具有表面粗糙度較大的圖案區116，且圖案區116與間隙物122重疊設置並接觸。因此，本實施例的圖案區116的設計可增加第二基板120上的間隙物122與第一基板110上的絕緣層114之間的摩擦力。如此一來，可減少在顯示面板100被彎曲或按壓時所造成的間隙物122的錯位量，進而可改善顯示面板100漏光的問題。

顯示介質130位於第一基板110與第二基板120之間。 當顯示面板100為液晶顯示面板時，顯示介質130例如是液晶分子。在其他實施例中，當顯示面板100為有機發光二極體顯示面板時，顯示介質130例如是有機發光層。當顯示面板100為電泳顯示面板時，顯示介質130例如是電泳顯示介質。當顯示面板100為電漿顯示面板時，顯示介質130例如是電漿顯示介質。

此外，在第一基板110的絕緣層114上以及第二基板120上可更包括分別設置有配向層142及配向層144，其中配向層142設置於第一基板110上的絕緣層114與顯示介質130之間，配向層144設置於第二基板120與顯示介質130之間。換句話說，配向層142及配向層144分別覆蓋第一基板110以及第二基板120的內側(亦即，鄰近於顯示介質130的一側)，以使顯示介質130呈特定的排列方向。

上述圖1至圖3B的實施例是以圖案116a或圖案116a’(凸塊或凹槽)為矩形且排列成矩形陣列為例來說明，但本發明不限於此。在其他實施例中，圖案116a或圖案116a’的形狀亦可以是包括矩形、正方形、菱形、鳶形、圓形、橢圓形、三角形、平行四邊形、多邊形、或其他合適的形狀、或上述形狀的組合。再者，在其他實施例中，圖案116a或圖案116a’於圖案區116中亦可以是排列成矩形陣列、不規則圖形、同心圓、至少一環狀圖案或其他合適的排列方式。換句話說，本發明不特別限定圖案區116的圖案的尺寸、形狀或排列方式等，只要間隙物122與圖案區116重疊設置且A2A1(例如A2/A1=1~2)即涵蓋於本發明的範疇之 中。

圖4至圖6分別為依照本發明的第二至第四實施例的區域R的放大示意圖。圖4至圖6之實施例與上述圖1至圖3B之實施例相似，因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示，且不再重複說明。圖4至圖6之實施例與上述圖1至圖3B之實施例的不同之處在於，圖案區116的圖案116a的形狀或排列方式不同。

請參照圖4，圖案116a的形狀例如是矩形，且多個圖案116a於圖案區116中排列成不規則圖形。再者，在本實施例中，圖案116a例如是包括多個凸塊，但本發明不限於此。在其他實施例中，圖案區116的圖案亦可以是包括多個凹槽。

請參照圖5，圖案116a的形狀例如是菱形，且多個圖案116a於圖案區116中排列成矩形陣列。再者，在本實施例中，圖案116a例如是包括多個凸塊，但本發明不限於此。在其他實施例中，圖案區116的圖案亦可以是包括多個凹槽。

請參照圖6，圖案116a的形狀例如是菱形，且多個圖案116a於圖案區116中排列成X形圖案。更詳細來說，D3方向與D1方向及D2方向彼此不平行，其中D3方向與D1方向及D2方向形成小於90度之夾角。亦即，D3方向與D1方向形成小於90度之夾角θ 1，且D3方向與D2方向形成小於90度之夾角θ 2。在本實施例中，由於在D3方向上的圖案116a的分布密度大於在D1方向或D2方向上的圖案116a的分布密度，因此可提高斜向方向(亦即，D3方向)的摩擦力(亦即，圖案區116在斜向方向上具有 較大的表面粗糙度)。如此一來，可減少在顯示面板100被彎曲或按壓時所造成的間隙物122在斜向方向(亦即，D3方向)上的錯位量，進而可改善顯示面板100漏光的問題。再者，在本實施例中，圖案116a例如是包括多個凸塊，但本發明不限於此。在其他實施例中，圖案區116的圖案亦可以是包括多個凹槽。

圖7為依照本發明的第五實施例的區域R的放大示意圖，而圖8A及圖8B分別為圖7的區域R沿線I-I’的剖面示意圖。圖7至圖8B之實施例與上述圖1至圖3B之實施例相似，因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示，且不再重複說明。圖7至圖8B與上述圖1至圖3B之實施例的不同之處在於，圖案區116的圖案的形狀或排列方式不同。

請參照圖7，圖案116a的形狀例如是圓形，且多個圖案116a於圖案區116中排列成六角形圖案。再者，如圖8A所示，圖案116a例如是包括具有圓弧形截面的多個凸塊，但本發明不限於此。在其他實施例中，如圖8B所示，圖案116a’亦可以是包括具有圓弧形截面的多個凹槽。換句話說，本發明亦不特別限定圖案116a的凸塊或凹槽的截面形狀，其例如是包括矩形截面(如圖3A及圖3B所示)、圓弧形截面或其他合適的截面形狀。圖案區116的高度差H(或深度差)為0.2μm~1μm。

圖9為依照本發明的第六實施例的區域R的放大示意圖。圖9之實施例與上述圖1至圖3B之實施例相似，因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示，且不再重複說明。圖9之 實施例與上述圖1至圖3B之實施例的不同之處在於，圖案區116的圖案的形狀或排列方式不同。

請參照圖9，多個圖案於圖案區116中排列成環狀圖案216b以及位於環狀圖案216b內部的中心圖案216a，且中心圖案216a及環狀圖案216b的形狀例如是矩形。再者，在本實施例中，中心圖案216a及環狀圖案216b例如是包括多個凸塊，但本發明不限於此。在其他實施例中，中心圖案216a及環狀圖案216b的圖案亦可以是包括多個凹槽。圖案區116(包括中心圖案216a或環狀圖案216b)的高度差H(或深度差)為0.2μm~1μm。

在本實施例中，每一中心圖案216a的面積A2’為4μm²~25μm²，每一環狀圖案216b的面積A2”為3μm²~105μm²，而每一圖案區116的面積為A2(亦即，中心圖案216a的面積A2’與環狀圖案216b的面積A2”之總和)。再者，在本實施例中，每一間隙物122的面積A1為28μm²~202μm²，且A2/A1=1~2。也就是說，圖案區116的面積A2例如是等於或大於間隙物122的面積A1。

上述圖9的實施例是以中心圖案216a的形狀與環狀圖案216b的形狀相同且皆為矩形為例來說明，但本發明不限於此。在其他實施例中，中心圖案216a或環狀圖案216b的形狀亦可以是包括矩形、正方形、菱形、鳶形、圓形、橢圓形、三角形、平行四邊形、多邊形、或其他合適的形狀、或上述形狀的組合。再者，在其他實施例中，中心圖案216a的形狀與環狀圖案216b的形狀亦可以是不同。換句話說，本發明不特別限定圖案區116的圖案 的尺寸、形狀或排列方式等，只要間隙物122與圖案區116重疊設置且A2A1(例如A2/A1=1~2)即涵蓋於本發明的範疇之中。

圖10至圖12分別為依照本發明的第七至第九實施例的區域R的放大示意圖。圖10至圖12之實施例與上述圖9之實施例相似，因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示，且不再重複說明。圖10至圖12之實施例與上述圖9之實施例的不同之處在於，圖案區116的中心圖案216a或環狀圖案216b的形狀或排列方式不同。

請參照圖10，中心圖案216a的形狀與環狀圖案216b的形狀例如是相同且皆為菱形。再者，在本實施例中，中心圖案216a及環狀圖案216b例如是包括多個凸塊，但本發明不限於此。在其他實施例中，中心圖案216a及環狀圖案216b的圖案亦可以是包括多個凹槽。

請參照圖11，多個圖案於圖案區116中排列成兩個環狀圖案216b以及位於環狀圖案216b內部的中心圖案216a。中心圖案216a的形狀與環狀圖案216b的形狀例如是相同且皆為圓形，即排列成同心圓圖案。換句話說，本發明亦不特別限定中心圖案216a的數量或環狀圖案216b的圈數等。舉例來說，在其他實施例中，亦可以是不包括中心圖案216a且僅包括至少一環狀圖案216b，或者是中心圖案216a的數量亦可以是複數個，或者是環狀圖案216b的圈數亦可以是複數個。再者，在本實施例中，中心圖案216a及環狀圖案216b例如是包括多個凸塊，但本發明不限於 此。在其他實施例中，中心圖案216a及環狀圖案216b的圖案亦可以是包括多個凹槽。

請參照圖12，中心圖案216a的形狀與環狀圖案216b的形狀例如是不同，其中中心圖案216a的形狀為圓形且環狀圖案216b的形狀為矩形。再者，在本實施例中，中心圖案216a及環狀圖案216b例如是包括多個凸塊，但本發明不限於此。在其他實施例中，中心圖案216a及環狀圖案216b的圖案亦可以是包括多個凹槽。

上述圖1至圖12的實施例是以絕緣層114的圖案區116具有多個圖案116a為例來說明，但本發明不限於此。在其他實施例中，亦可以是絕緣層114的圖案區116中更包括有摩擦層。

圖13為依照本發明的第十實施例的區域R的放大示意圖，而圖14至圖16分別為圖13的區域R沿線I-I’的剖面示意圖。圖13至圖16之實施例與上述圖1至圖3B之實施例相似，因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示，且不再重複說明。圖13至圖16之實施例與上述圖1至圖3B之實施例的不同之處在於，絕緣層114的圖案區116中更包括有摩擦層。

請同時參照圖13及圖14，絕緣層114更包括多個凹陷部114b，凹陷部114b分別位於圖案區116中。多個第一摩擦層150分別位於絕緣層114之凹陷部114b內，以使得絕緣層114的表面114a呈現平坦。換句話說，第一摩擦層150填滿凹陷部114b，且第一摩擦層150的表面150a與絕緣層114的表面114a齊平。再者， 多個第二摩擦層160分別位於間隙物122上，且第一摩擦層150與第二摩擦層160互相接觸。在本實施例中，每一圖案區116的面積為A2(亦即，第一摩擦層150的面積)，每一間隙物122的面積A1(亦即，第二摩擦層160的面積)為28μm²~202μm²，且A2/A1=1~2。也就是說，圖案區116的面積A2例如是等於或大於間隙物122的面積A1。

第一摩擦層150及第二摩擦層160的材料例如是靜摩擦係數大於1.0的材料。在本實施例中，第一摩擦層150的材料與第二摩擦層160的材料相同，且第一摩擦層及第二摩擦層的材料包括鋁、鈦、鑄鐵、鐵、銅、鎳、鉑、銀或其他合適的材料。然而，本發明不限於此，在其他實施例中，第一摩擦層150的材料與第二摩擦層160的材料亦可以是不同，只要是可使此兩層接觸時的靜摩擦係數大於1.0的材料並可減少間隙物122的錯位量即可。第一摩擦層150的形成方法例如是先在絕緣層114上形成摩擦材料層(未繪示)，接著再藉由化學機械研磨製程或回蝕刻製程在凹陷部114b內形成第一摩擦層150。第二摩擦層160及間隙物122的形成方法例如是先在第二基板120上依序形成間隙物材料層(未繪示)以及摩擦材料層(未繪示)，接著再藉由化學機械研磨製程或回蝕刻製程形成第二摩擦層160以及間隙物122。

值得一提的是，本實施例的絕緣層114具有摩擦力較大的圖案區116，圖案區116與間隙物122重疊設置並接觸，且間隙物122與圖案區116的接觸面亦具有較大的摩擦力。亦即，第一 摩擦層150與第二摩擦層160互相接觸。因此，本實施例的第一摩擦層150與第二摩擦層160的設計可增加第二基板120上的間隙物122與第一基板110上的絕緣層114之間的摩擦力。如此一來，可減少在顯示面板100被彎曲或按壓時所造成的間隙物122的錯位量，進而可改善顯示面板100漏光的問題。

上述圖14的實施例是以凹陷部114b內設置有第一摩擦層150為例來說明，但本發明不限於此。在其他實施例中，亦可以是凹陷部114b內更包括設置有其他膜層。

舉例來說，如圖15所示，凹陷部114b內可更包括設置有遮光層170。更詳細來說，在圖15的實施例中，多個遮光層170分別位於絕緣層114之凹陷部114b內，且遮光層170位於第一摩擦層150與絕緣層114之間。如此一來，在其他實施例中，當第一摩擦層150與主動元件T重疊設置時，遮光層170可用以避免來自背光源或外界光源的光線在第一摩擦層150上反射而照射到主動元件T，因此可避免光漏電流(photo current leakage)的問題並具有良好的顯示品質。遮光層170的材料例如是黑色樹脂或其他合適的材料。

再舉例來說，如圖16所示，凹陷部114b內可更包括設置有遮光層170及介電層180。更詳細來說，在圖16的實施例中，多個遮光層170以及多個介電層180分別位於絕緣層114之凹陷部114b內，其中遮光層170位於第一摩擦層150與介電層180之間，且介電層180位於遮光層170與絕緣層114之間。如此一來， 在其他實施例中，當第一摩擦層150與主動元件T重疊設置時，遮光層170可用以避免來自背光源或外界光源的光線在第一摩擦層150上反射而照射到主動元件T，因此可避免光漏電流的問題並具有良好的顯示品質。再者，當絕緣層114的材料為有機材料時，介電層180可用以隔絕第一摩擦層150與主動元件T，進而避免產生電容效應。在本實施例中，介電層180的材料包括氧化矽、氮化矽或其他合適的材料，而絕緣層114的材料包括有機材料或其他合適的材料。

此外，上述圖13至圖16的實施例是以第一摩擦層150的表面150a與絕緣層114的表面114a齊平(亦即，絕緣層114的表面114a呈現平坦)為例來說明，但本發明不限於此。在其他實施例中，亦可以是第一摩擦層150的表面150a與絕緣層114的表面114a不齊平。舉例來說，第一摩擦層150可自絕緣層114的表面114a凸出或凹陷，本發明不特別限定，只要對應調整間隙物122的高度以維持第一基板110與第二基板120之間隙(cell gap)即可。再者，在其他實施例中，第一摩擦層150或第二摩擦層160或兩者亦可以是包含多個圖案，詳細請參照以下實施例的描述。

圖17為依照本發明的第十一實施例的區域R的放大示意圖，而圖18為圖17的區域R沿線I-I’的剖面示意圖。圖17至圖18之實施例與上述圖13至圖14之實施例相似，因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示，且不再重複說明。圖17至圖18之實施例與上述圖13至圖14之實施例的不同之處在於，第一摩 擦層150更包含多個圖案156a。

在本實施例中，每一圖案156a的面積A2’為4μm²~25μm²。如圖17所示，圖案156a的形狀例如是矩形，且多個圖案156a於圖案區116中排列成矩形陣列。再者，如圖18所示，圖案156a例如是包括多個凸塊，但本發明不限於此。在其他實施例中，圖案156a亦可以是包括多個凹槽。圖案156a(凸塊或凹槽)的形成方法例如是包括化學機械研磨製程、回蝕刻製程或其他合適的方法。在本實施例中，每一圖案區116的面積為A2，每一間隙物122的面積A1為28μm²~202μm²，且A2/A1=1~2。也就是說，圖案區116的面積A2例如是等於或大於間隙物122的面積A1。

值得一提的是，本實施例的絕緣層114之圖案區116皆具有較大的表面粗糙度與摩擦力，圖案區116與間隙物122重疊設置並接觸，且間隙物122與圖案區116的接觸面亦具有較大的摩擦力。亦即，第一摩擦層150的圖案156a與第二摩擦層160互相接觸。因此，本實施例的第一摩擦層150與第二摩擦層160的設計可增加第二基板120上的間隙物122與第一基板110上的絕緣層114之間的摩擦力。如此一來，可減少在顯示面板100被彎曲或按壓時所造成的間隙物122的錯位量，進而可改善顯示面板100漏光的問題。

上述圖17至圖18的實施例是以圖案156a為矩形且排列成矩形陣列為例來說明，但本發明不限於此。在其他實施例中，圖案156a的形狀亦可以是包括矩形、正方形、菱形、鳶形、圓形、 橢圓形、三角形、平行四邊形、多邊形、或其他合適的形狀、或上述形狀的組合。再者，在其他實施例中，圖案156a於圖案區116中亦可以是排列成矩形陣列、不規則圖形、同心圓、至少一環狀圖案或其他合適的排列方式。換句話說，本發明不特別限定圖案區116的圖案的尺寸、形狀或排列方式等，只要間隙物122與圖案區116重疊設置且A2A1(例如A2/A1=1~2)即涵蓋於本發明的範疇之中。

圖19為依照本發明的第十二實施例的區域R的放大示意圖。圖19之實施例與上述圖17至圖18之實施例相似，因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示，且不再重複說明。圖19之實施例與上述圖17至圖18之實施例的不同之處在於，摩擦層的圖案的形狀或排列方式不同。

請參照圖19，第一摩擦層150的多個圖案於圖案區116中排列成環狀圖案256b以及位於環狀圖案256b內部的中心圖案256a，且中心圖案256a及環狀圖案256b的形狀例如是矩形。再者，在本實施例中，中心圖案256a及環狀圖案256b例如是包括多個凸塊，但本發明不限於此。在其他實施例中，中心圖案256a及環狀圖案256b的圖案亦可以是包括多個凹槽。

在本實施例中，每一中心圖案256a的面積A2’為4μm²~25μm²，每一環狀圖案256b的面積A2”為3μm²~105μm²。再者，在本實施例中，每一圖案區116的面積為A2，每一間隙物122的面積A1為28μm²~202μm²，且A2/A1=1~2。也就是說，圖案區 116的面積A2例如是等於或大於間隙物122的面積A1。

上述圖19的實施例是以中心圖案256a的形狀與環狀圖案256b的形狀相同且皆為矩形為例來說明，但本發明不限於此。在其他實施例中，中心圖案256a或環狀圖案256b的形狀亦可以是包括矩形、正方形、菱形、鳶形、圓形、橢圓形、三角形、平行四邊形、多邊形、或其他合適的形狀、或上述形狀的組合。再者，在其他實施例中，中心圖案256a的形狀與環狀圖案256b的形狀亦可以是不同。換句話說，本發明不特別限定圖案區116的圖案的尺寸、形狀或排列方式等，只要間隙物122與圖案區116重疊設置且A2A1(例如A2/A1=1~2)即涵蓋於本發明的範疇之中。

圖20為依照本發明的第十三實施例的區域R的放大示意圖，而圖21為圖20的區域R沿線I-I’的剖面示意圖。圖20至圖21之實施例與上述圖19之實施例相似，因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示，且不再重複說明。圖20至圖21之實施例與上述圖19之實施例的不同之處在於，第一摩擦層150的中心圖案256a或環狀圖案256b的形狀或排列方式不同。

請同時參照圖20及圖21，中心圖案256a的形狀與環狀圖案256b的形狀例如是相同且皆為菱形。再者，在本實施例中，中心圖案256a及環狀圖案256b例如是包括多個凸塊，但本發明不限於此。在其他實施例中，中心圖案256a及環狀圖案256b的圖案亦可以是包括多個凹槽。此外，在本實施例中，當中心圖案 256a及環狀圖案256b為凸塊時，中心圖案256a與環狀圖案256b之間會形成環狀凹槽150c，且第二摩擦層160例如可以是具有環狀凸塊的形狀，對應卡合於環狀凹槽150c中，以更進一步減少在顯示面板100被彎曲或按壓時所造成的間隙物122的錯位量。

圖22至圖24分別為依照本發明的第十四至第十六實施例的區域R的放大示意圖。圖22至圖24之實施例與上述圖17至圖18之實施例相似，因此相同或相似的元件以相同或相似的符號表示，且不再重複說明。圖22至圖24之實施例與上述圖17至圖18之實施例的不同之處在於，摩擦層的圖案的形狀或排列方式不同。

請參照圖22，圖案156a的形狀例如是矩形，且多個圖案156a於圖案區116中排列成馬賽克形狀，以均勻地增加各方向的摩擦力。再者，在本實施例中，圖案156a例如是包括多個凸塊，但本發明不限於此。在其他實施例中，圖案156a亦可以是包括多個凹槽。

請參照圖23，圖案156a的形狀例如是T形，且多個圖案156a於圖案區116中規律排列，以均勻地增加各方向的摩擦力。再者，在本實施例中，圖案156a例如是包括多個凸塊，但本發明不限於此。在其他實施例中，圖案156a亦可以是包括多個凹槽。

請參照圖24，圖案156a的形狀例如是柵欄形，以增加D1方向(例如橫向方向)的摩擦力。再者，在本實施例中，圖案156a例如是包括多個凸塊，但本發明不限於此。在其他實施例中，圖 案156a亦可以是包括多個凹槽。

綜上所述，在本發明的顯示面板中，間隙物對應絕緣層之圖案區設置於遮光區中且A2/A1=1~2。由於絕緣層具有表面粗糙度或摩擦力較大的圖案區，且圖案區與間隙物重疊設置並接觸，因此本發明的圖案區的設計可增加第二基板上的間隙物與第一基板上的絕緣層之間的摩擦力。如此一來，可減少在顯示面板被彎曲或按壓時所造成的間隙物的錯位量，進而可改善顯示面板漏光的問題。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

110‧‧‧第一基板

112‧‧‧畫素陣列

114‧‧‧絕緣層

116‧‧‧圖案區

116a‧‧‧圖案

120‧‧‧第二基板

122‧‧‧間隙物

130‧‧‧顯示介質

142、144‧‧‧配向層

H‧‧‧高度差

I-I’‧‧‧線

Claims (33)

1. 一種顯示面板，該顯示面板具有多個畫素區以及一遮光區，且該遮光區圍繞該些畫素區設置，包括：一第一基板；一畫素陣列，位於該第一基板上；一絕緣層，覆蓋該畫素陣列，其中該絕緣層具有多個圖案區位於該遮光區中；一第二基板，位於該第一基板的對向；複數個間隙物，位於該第二基板之上，且分別對應該絕緣層之該些圖案區設置於該遮光區中，其中該些圖案區與該些間隙物重疊設置並接觸，且該些間隙物的面積為A1，該些圖案區的面積為A2，且A2/A1=1~2；以及一顯示介質，位於該第一基板與該第二基板之間。
2. 如申請專利範圍第1項所述的顯示面板，其中該些間隙物的面積A1為28μm²~202μm²。
3. 如申請專利範圍第1項所述的顯示面板，其中該些圖案區包含多個圖案。
4. 如申請專利範圍第3項所述的顯示面板，其中該些圖案的面積A2’為4μm²~25μm²。
5. 如申請專利範圍第3項所述的顯示面板，其中該些圖案的高度差為0.2μm~1μm。
6. 如申請專利範圍第3項所述的顯示面板，其中該畫素陣列 包括沿一D1方向延伸的多條掃描線以及沿一D2方向延伸的多條資料線。
7. 如申請專利範圍第6項所述的顯示面板，其中更包括一D3方向與該D1方向及該D2方向彼此不平行，且在該D3方向上的該些圖案的分布密度大於在該D1方向或該D2方向上的該些圖案的分布密度。
8. 如申請專利範圍第7項所述的顯示面板，其中該D1方向與該D2方向實質上互相垂直，而該D3方向與該D1方向及該D2方向形成小於90度之夾角。
9. 如申請專利範圍第3項所述的顯示面板，其中該些圖案包括多個凸塊或多個凹槽。
10. 如申請專利範圍第3項所述的顯示面板，其中該些圖案的形狀包括矩形、正方形、菱形、鳶形、圓形、橢圓形、三角形、平行四邊形、多邊形或上述形狀的組合。
11. 如申請專利範圍第10項所述的顯示面板，其中該些圖案於該些圖案區中排列成一矩形陣列或一不規則圖形。
12. 如申請專利範圍第3項所述的顯示面板，其中該些圖案於該些圖案區中排列成一同心圓或至少一環狀圖案。
13. 如申請專利範圍第12項所述的顯示面板，更包括一中心圖案，位於該至少一環狀圖案的內部。
14. 如申請專利範圍第13項所述的顯示面板，其中該至少一環狀圖案或該中心圖案的形狀包括矩形、正方形、菱形、鳶形、 圓形、橢圓形、三角形、平行四邊形、多邊形或上述形狀的組合。
15. 如申請專利範圍第14項所述的顯示面板，其中該至少一環狀圖案的形狀與該中心圖案的形狀相同。
16. 如申請專利範圍第14項所述的顯示面板，其中該至少一環狀圖案的形狀與該中心圖案的形狀不同。
17. 如申請專利範圍第1項所述的顯示面板，更包括多個凹陷部，分別位於該絕緣層之該些圖案區中。
18. 如申請專利範圍第17項所述的顯示面板，更包括多個第一摩擦層以及多個第二摩擦層，其中該些第一摩擦層分別位於該絕緣層之該些凹陷部內，該些第二摩擦層分別位於該些間隙物上，且該些第一摩擦層與該些第二摩擦層互相接觸。
19. 如申請專利範圍第18項所述的顯示面板，其中該些第一摩擦層及該些第二摩擦層的材料為靜摩擦係數大於1.0的材料。
20. 如申請專利範圍第19項所述的顯示面板，其中該些第一摩擦層的材料與該些第二摩擦層的材料相同。
21. 如申請專利範圍第20項所述的顯示面板，其中該些第一摩擦層及該些第二摩擦層的材料包括鋁、鈦、鑄鐵、鐵、銅、鎳、鉑或銀。
22. 如申請專利範圍第18項所述的顯示面板，更包括多個遮光層，分別位於該絕緣層之該些凹陷部與該些第一摩擦層之間。
23. 如申請專利範圍第22項所述的顯示面板，更包括多個介電層，分別位於該絕緣層之該些凹陷部與該些遮光層之間。
24. 如申請專利範圍第23項所述的顯示面板，其中該些介電層的材料包括氧化矽或氮化矽，且該絕緣層的材料包括有機材料。
25. 如申請專利範圍第18項所述的顯示面板，其中該些第一摩擦層或該些第二摩擦層包含多個圖案。
26. 如申請專利範圍第25項所述的顯示面板，其中該些圖案包括多個凸塊或多個凹槽。
27. 如申請專利範圍第25項所述的顯示面板，其中該些圖案的形狀包括矩形、正方形、菱形、鳶形、圓形、橢圓形、三角形、平行四邊形、多邊形或上述形狀的組合。
28. 如申請專利範圍第27項所述的顯示面板，其中該些圖案於該些圖案區中排列成一矩形陣列或一不規則圖形。
29. 如申請專利範圍第25項所述的顯示面板，其中該些圖案於該些圖案區中排列成一同心圓或至少一環狀圖案。
30. 如申請專利範圍第29項所述的顯示面板，更包括一中心圖案，位於該至少一環狀圖案的內部。
31. 如申請專利範圍第30項所述的顯示面板，其中該至少一環狀圖案或該中心圖案的形狀包括矩形、正方形、菱形、鳶形、圓形、橢圓形、三角形、平行四邊形、多邊形或上述形狀的組合。
32. 如申請專利範圍第31項所述的顯示面板，其中該至少一環狀圖案的形狀與該中心圖案的形狀相同。
33. 如申請專利範圍第31項所述的顯示面板，其中該至少一環狀圖案的形狀與該中心圖案的形狀不同。