CN106773365B - 液晶显示面板、显示装置及制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种液晶显示面板、显示装置及制作方法，包括阵列基板，阵列基板上的各个像素电极通过开在平坦层上的对应通孔与开关元件连接，本发明在其通孔内设置有填充物，该填充物覆盖像素电极，且通孔内填充物的表面低于上述平坦层的表面，使得位于平坦层上的通孔可以做的足够大，从而可以降低平坦层的开孔工艺难度；同时，使得通孔的深度变浅，增加了间隔物站位处的平坦性，降低了液晶显示面板的因为间隔物不稳导致的挤压漏光风险；进一步的，使得间隔物的末端位于通孔内，在保持盒厚稳定性的同时，降低了间隔物因为摩擦配向等外力挤压导致的偏向透光区的风险，因此可以减小遮光区的外扩，提升开口率。

Description

液晶显示面板、显示装置及制作方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种液晶显示面板、显示装置及制作方法。

背景技术

液晶显示装置具有无辐射、轻薄和省电等优点，已广泛应用于各种信息、通讯、消费性电子产品中。液晶显示装置通常包括一液晶显示面板。液晶显示面板包括彼此相对地配置的一对基板和设置在该两个基板之间的液晶层。而且，在液晶显示面板中，利用设置在上述一对基板之间的间隔物，将上述液晶层的厚度即单元厚度保持为一定。

图1是现有的液晶显示面板100'的截面图。

如图1所示，液晶显示面板100'包括阵列基板110'、彩膜基板120'、及位于有阵列基板110'与彩膜基板120'之间的液晶层130'，液晶层130'内具有用于保持液晶显示面板100'厚度的间隔物123'，彩膜基板120'的表面具有一层配向层125'与液晶层130'接触。

阵列基板110'包括：多个像素电极117'；沿着各像素电极117'的短边以相互平行地延伸的方式设置的多条栅极线113'；沿着各像素电极117'的长边以相互平行地延伸的方式设置的多条数据线115'；和分别设置在各栅极线113'与各数据线115'的交叉的部分、并分别与各像素电极117'连接的多个薄膜晶体管(以下称为TFT)105'。而且，在作为图像的最小单位的各像素内，TFT 105'与像素电极117'经由形成在TFT 105'上的树脂膜101'的通孔106'连接。这里，间隔物123'位于栅极线113'与数据线115'交叉点附近，间隔物123'构成为：形成在彩膜基板120'上，在液晶显示面板表面被按压时与阵列基板110'的表面抵接来保持单元厚度。

由于在贴合阵列基板110'和阵列基板120'时产生偏移等，会导致彩膜基板120'上的间隔物123'的头部完全陷入通孔106'的内部，使得单元厚度变窄，且难以复原，不能够将单元厚度保持为一定，因此难以实现由间隔物123'进行的稳定的单元厚度控制。

另外，随着液晶显示面板中像素的高精细化，各数据线115'之间的间隔变得越来越窄，因此，通过将间隔物123'或通孔106'在平面视图中向透过区域突出地形成，使通孔106'与间隔物123'在平面视图中距离拉大。在这里，透过区域是由相邻的一对栅极线113'和相邻的一对数据线115'包围的区域中不与TFT105'重叠的区域，是例如使来自背光源的光透过从而对图像显示有效的区域。当间隔物123'或通孔106'在平面视图中向着透过区域突出时，向该透过区域突出的部分会抵消掉部分透过区域，减少图像显示区的面积，导致像素的开口率降低。例如，在间隔物123'向着透过区域突出地形成的情况下，在间隔物123'的附近液晶层的取向容易紊乱，因此将该区域遮蔽，导致像素的开口率降低。像这样，在现有的液晶显示面板中，难以通过通孔和间隔物的配置来保持单元厚度控制的稳定性，难以保持像素的开口率。

进一步的，随着液晶显示面板中像素的高精细化，各数据线115'之间的间隔变得越来越窄，相邻透过区域之间的非透过区域(即黑矩阵121'的覆盖区域)也变得越来越窄，在对配向层125'进行摩擦配向的过程中，容易使间隔物123'偏向透过区域，导致因间隔物123'形成的漏光在透过区域的面积增大，进一步导致对比度的下降。

本发明是鉴于上述问题而完成的，其目的在于提供一种液晶显示面板，其能够保持由间隔物进行的单元厚度控制的稳定性，抑制像素的开口率的降低。

发明内容

本发明提供一种能够避免间隔物影响显示效果的液晶显示面板。

首先，本发明提供了一种液晶显示面板，包括阵列基板，所述阵列基板包括：衬底基板；扫描线和数据线，所述扫描线和所述数据线彼此交叉以限定多个像素单元，每个所述像素单元设置有开关元件；平坦层，覆盖所述扫描线、数据线与开关元件；公共电极，位于所述平坦层上；像素电极，通过一层间绝缘层与所述公共电极绝缘间隔，并经由依次开在所述绝缘层、平坦层上的对应通孔与所述开关元件的漏极连接；在通孔内设置有填充物，该填充物覆盖上述像素电极，且通孔内填充物的表面低于上述平坦层的表面。

在本发明的一个实施例中，上述像素单元呈矩阵排列，通孔位于相邻两行所述像素单元之间；平坦层的对应于行方向上相邻通孔之间的部分的厚度，小于平坦层的其它部分的厚度，形成沟道；在该沟道内设置有填充物，行方向上相邻通孔内的所述填充物通过沟道内的填充物连接为一体。

在本发明的一个实施例中，上述通孔内填充物的表面与平坦层的表面之间的距离占通孔深度的10％-70％。

在本发明的一个实施例中，上述液晶显示面板还包括与阵列基板对向设置的彩膜基板，以及间隔物，形成于彩膜基板上，且间隔物朝向阵列基板延伸，该间隔物包括位于通孔外面的底座部与位于通孔内的凸起部。

在本发明的一个实施例中，位于通孔内的填充物的表面直径大于间隔物的凸起部的下表面直径。

在本发明的一个实施例中，上述通孔包括与间隔物对应的第一通孔，以及不与间隔物对应的第二通孔，且第一通孔的开口直径大于述第二通孔的开口直径。

在本发明的一个实施例中，上述间隔物的底座的下表面直径大于凸起部的上表面直径，且间隔物的底座的下表面直径大于通孔的开口直径。

在本发明的一个实施例中，上述间隔物包括一个凸起部，且该凸起部位于底座的下表面的中间；或者，该凸起部位于底座的下表面的一端。

在本发明的一个实施例中，上述间隔物包括两个凸起部，该两个凸起部分别位于底座的下表面的两端，且该两个凸起部分别位于行方向上两个相邻的通孔内。

在本发明的一个实施例中，上述间隔物包括两个凸起部，该两个凸起部分别位于行方向上两个相邻的通孔内；底座的下表面延行方向上的直径大于所述两个相邻通孔的最大距离。

在本发明的一个实施例中，上述间隔物包括三个凸起部，且该三个凸起部分别位于行方向上三个相邻的通孔内。

在本发明的一个实施例中，上述填充物采用负性光阻材料制成。

在本发明的一个实施例中，上述填充物与间隔物采用相同材料制成。

另外，本发明还提供一种显示装置，包括上述任一实施例提供的液晶显示面板。

再有，本发明还提供一种液晶显示面板的制造方法，包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成扫描线、数据线与开关元件，所述开关元件包括半导体层、源漏极与栅极；形成平坦层，覆盖所述扫描线、数据线与开关元件，所述平坦层设置有通孔，露出所述开关元件的漏极；沉积第一透明导电层，并图案化形成公共电极；形成一层间绝缘层，并在对应通孔部挖槽漏出所述开关元件的漏极；沉积第二透明导电层，并图案化形成像素电极，所述像素电极通过所述通孔连接至所述漏极；形成填充物，所述填充物的位于所述通孔内的部分覆盖所述像素电极，且所述填充物的位于所述通孔内的部分的表面低于所述平坦层的表面。

与现有技术相比，本发明在液晶显示面板的每个像素单元的通孔内设置有填充物，这样，位于平坦层上的通孔可以做的足够大，从而可以降低平坦层的开孔工艺难度；同时，在通孔内增加填充物，使得通孔的深度变浅，可以增加间隔物站位处的平坦性，降低了液晶显示面板的因为间隔物不稳导致的挤压漏光风险；进一步的，在通孔内增加填充物，并使得间隔物的末端位于通孔内，在保持盒厚稳定性的同时，降低了间隔物因为摩擦配向等外力挤压导致的偏向透光区的风险，因此可以减小黑矩阵对应的遮光区的外扩，提升开口率，减弱规则暗点问题。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。

图1是现有技术中液晶显示面板的截面图；

图2是本发明第一实施例提供的液晶显示面板的截面图；

图3是图2所示液晶显示面板内的间隔物的示意图；

图4是图2所示液晶显示面板的结构图；

图5是本发明第二实施例提供的液晶显示面板的结构图；

图6是图5所示液晶显示面板的延A-A'方向的截面图；

图7是本发明第三实施例提供的液晶显示面板的截面图；

图8是图7所示液晶显示面板内的间隔物的示意图；

图9是本发明第四实施例提供的液晶显示面板的截面图；

图10是本发明第五实施例提供的液晶显示面板的截面图；

图11是本发明第六实施例提供的液晶显示面板的截面图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

本发明提供了一种液晶显示面板、显示装置及制作方法，包括阵列基板，该阵列基板上的各个像素电极通过开在平坦层上的对应通孔与开关元件连接，本发明在其通孔内设置有填充物，该填充物覆盖像素电极，且通孔内填充物的表面低于上述平坦层的表面，使得位于平坦层上的通孔可以做的足够大，从而可以降低平坦层的开孔工艺难度；同时，在通孔内增加填充物，使得通孔的深度变浅，可以增加间隔物站位处的平坦性，降低了液晶显示面板的因为间隔物不稳导致的挤压漏光风险；进一步的，在通孔内增加填充物，并使得间隔物的末端位于通孔内，在保持盒厚稳定性的同时，降低了间隔物因为摩擦配向等外力挤压导致的偏向透光区的风险，因此可以减小遮光区的外扩，提升开口率。

图2-图4是表示本发明的液晶显示面板的实施方式一的示意图。具体而言，图2是本发明第一实施例提供的液晶显示面板的截面图，图3是图2所示液晶显示面板内的间隔物的示意图，图4是图2所示液晶显示面板的结构图。

参考图2-图4所示，该液晶显示面板包括：彼此相对地设置的阵列基板10和彩膜基板20；设置在阵列基板10和彩膜基板20之间的液晶层30；和用于将阵列基板10和彩膜基板20相互粘接并将液晶层30密封在阵列基板10和彩膜基板20之间的封框胶(图中未示出)。

进一步的，该液晶显示面板包括多条延行方向延伸的扫描线101和多条延列方向延伸的数据线102，扫描线101和数据线102彼此交叉设置限定形成多个像素单元P，每个像素单元P内设置有像素电极15，且每个像素单元P包括透光区P1和遮光区P2，每个像素单元P内设置有开关元件T,每个像素单元P内的像素电极15通过通孔121与开关元件T的漏极连接，每个像素P与开关元件T的部分不重叠的区域，例如使来自背光源的光透过，构成对图像显示有效的区域即为透光区P1；遮光区P2(透过区域之外的部分)被位于彩膜基板20上的黑矩阵221所覆盖。

具体的，阵列基板10包括：以玻璃等透明材料做成的衬底基板11；在衬底基板11上设置的开关元件T，该开关元件T例如可以为薄膜晶体管，包括半导体层、栅极以及源漏极。可选的，阵列基板10还可以包括一缓冲层，缓冲层位于衬底基板11与薄膜晶体管T的半导体层之间；以及，以覆盖薄膜晶体管的半导体层的方式设置的栅极绝缘层；在栅极绝缘层上以相互平行地延伸的方式设置的多条扫描线101，以及在与各扫描线101正交的方向上以相互平行地延伸的方式设置的多条数据线102，扫描线101与数据线102通过一下层间绝缘层绝缘间隔；开关元件T设置在各扫描线101与各数据线102的交叉部分，且各扫描线101与各数据线102、以及开关元件T对应于液晶显示面板的遮光区P2，开关元件T的源漏极和数据线102同层形成，扫描线101与数据线102例如可以采用不透光的有色金属制作而成。

阵列基板10还包括：以覆盖各数据线102和各开关元件T的方式设置的平坦层12，平坦层12例如可以采用树脂材料制作而成；公共电极14，位于平坦层12上；在公共电极14上呈矩阵状地设置的多个像素电极15,像素电极15通过一层间绝缘层与公共电极14绝缘间隔，并经由依次开在该层间绝缘层、平坦层12上的对应通孔121与开关元件T的漏极连接。当然，该阵列基板10还可以包括以覆盖各像素电极15的方式设置的取向层，用以给液晶层30内的液晶分子提供一个初始取向。

进一步的，阵列基板10还包括填充物13，填充物13包括位于通孔121内的部分131，且填充物13的位于通孔121内的部分131只填充了通孔121的部分深度，其表面低于平坦层12的表面。也即，填充物13的位于通孔121内的部分131只填充通孔121的部分深度，并不会完全把通孔121填满，填充物13的位于通孔121内的部分131的表面宽度L3小于通孔121的最大开口宽度L4，例如，填充物13的位于通孔121内的部分131的厚度占通孔121的深度的30％-90％，即填充物13的位于通孔121内的部分131的表面与平坦层12的表面的距离范围为10％-70％，这样，整个阵列基板制作完成之后，在阵列基板的对应通孔位置的表面会留有一个凹陷结构，相对于一个完整的通孔，该凹陷结构的深度较浅，阵列基板的表面较为平坦。在本发明中，例如，填充物可以采用负性光阻材料制成，也可以为，填充物采用与间隔物相同的材料制成。

彩膜基板20包括：以玻璃等透明材料做成的上衬底基板21；在上衬底基板21上呈格子状地设置的黑矩阵221；在黑矩阵221的各格子间设置有红色层、绿色层和蓝色层等着色层的光阻层222，当彩膜基板20与阵列基板10相对设置黏结成盒之后，黑矩阵222对应于阵列基板10上的遮光区P2，遮光区P2内例如设置有扫描线101、数据线102及开关元件T,光阻层222对应于阵列基板10上的透光区P1，用于允许光源透过面板并显示所需要的颜色，形成图像；以及，配置于黑矩阵221的位置且设置于黑矩阵221上的间隔物23，间隔物23形成于彩膜基板20上，并朝向阵列基板10的方向延伸，用于支撑阵列基板10与彩膜基板20之间的间距，形成一稳定成盒单元。

进一步的，彩膜基板20例如还可以包括覆盖在黑矩阵221与光阻层222上的上平坦层(图中未示出)，和以覆盖该上平坦层与间隔物23的方式设置的取向层。

具体的，如图2-3所示，在本发明的实施方式中，间隔物23包括靠近彩膜基板20一侧的底座231与靠近阵列基板10一侧的凸起部232。其中，凸起部232与底座231一体成型，并位于阵列基板10的通孔121内部，即凸起部232位于底座231与填充物13的位于通孔121内的部分131的表面之间；底座231位于阵列基板10与彩膜基板20之间。凸起部232的下表面232a的直径L2小于填充物13的位于通孔121内的部分131的表面直径L3，也就是说，间隔物23的凸起部232的下表面例如可以和填充物13的位于通孔121内的部分131相接触，使得间隔物23抵于彩膜基板20与阵列基板10之间。

一方面，在通孔内增加填充物，使得通孔的深度变浅，可以增加间隔物站位处的平坦性，降低了液晶显示面板的因为间隔物不稳导致的挤压漏光风险；另一方面，使得间隔物23的末端镶嵌在通孔121内，再加上间隔物23与填充物13之间的摩擦力，在保持盒厚稳定性的同时，降低了间隔物因为摩擦配向等外力挤压导致的偏向透光区的风险，因此可以减小遮光区的外扩，提升了液晶显示面板的开口率。

进一步的，如图4所示，阵列基板上的通孔包括与间隔物23对应的第一通孔121a，以及不与间隔物23对应的第二通孔121b，其中，第一通孔121a的开口直径大于第二通孔121b的开口直径，也即减小了不对应设置间隔物23处的通孔的开口，可以在允许的范围内尽可能减小通孔的开口面积，增加阵列基板表面配向的平坦度，获得更好的显示效果。

本发明实施方式提供的液晶显示面板，在阵列基板的通孔内设置有填充物，该填充物覆盖像素电极，且通孔内填充物的表面低于上述平坦层的表面，使得位于平坦层上的通孔可以做的足够大，从而可以降低平坦层的开孔工艺难度；同时，使得位于彩膜基板上的间隔物的末端位于通孔内，一方面，在通孔内增加填充物，使得通孔的深度变浅，可以增加间隔物站位处的平坦性，降低了液晶显示面板的因为间隔物不稳导致的挤压漏光风险；另一方面，由于间隔物的末端镶嵌在通孔内，再加上间隔物与填充物之间的摩擦力，在保持盒厚稳定性的同时，降低了间隔物因为摩擦配向等外力挤压导致的偏向透光区的风险，因此可以减小遮光区的外扩，提升开口率。

图5是本发明第二实施例提供的液晶显示面板的结构图，图6是图5所示液晶显示面板的延A-A'方向的截面图，如图5与图6所示，本实施例提供一种液晶显示面板，同样的，该液晶显示面板包括：彼此相对地设置的阵列基板和彩膜基板；设置在阵列基板和彩膜基板之间的液晶层；和用于将阵列基板和彩膜基板相互粘接并将液晶层密封在阵列基板和彩膜基板之间的封框胶(图中未示出)。阵列基板上的像素单元呈矩阵排列，通孔121位于相邻两行像素单元之间。进一步的，阵列基板还包括填充物13，填充物13包括位于通孔121内的部分131，且填充物13的位于通孔121内的部分131填充了通孔121的部分深度，其表面低于平坦层12的表面。也即，填充物13的位于通孔121内的部分131只填充通孔121的部分深度，并不会完全把通孔121填满，这样，整个阵列基板制作完成之后，阵列基板的对应通孔位置的表面会留有一个凹陷结构，相对于一个完整的通孔，该凹陷结构的深度较浅，阵列基板的表面较为平坦。

不同之处在于：平坦层12的对应于行方向上相邻两个通孔121之间的部分的厚度，小于平坦层12的其它部分的厚度，形成沟道122，该沟道122位于遮光区内。并且，在本实施例中，填充物13还包括位于沟道122内的部分132，行方向上填充物13的位于相邻两个通孔121内的部分131通过填充物13的位于沟道122内的部分132连接为一体，并且，填充物13的位于通孔121内的部分131的表面与填充物13的位于沟道122内的部分132的表面平齐，以使得阵列基板表面尽量的平坦化，以获得更好的配向结果。当然，在本实施例中，填充物13的表面仍然低于平坦层12的表面。

相应的，间隔物23的下表面例如可以和填充物13的位于通孔121内的部分131相接触，也可以和填充物13的位于沟道122内的部分132相接触，使得间隔物23抵于彩膜基板与阵列基板之间。一方面，使得通孔的深度变浅，可以增加间隔物站位处的平坦性，降低了液晶显示面板的因为间隔物不稳导致的挤压漏光风险；另一方面，使得间隔物的末端镶嵌在通孔内或者沟道位置，再加上间隔物与填充物之间的摩擦力，在保持盒厚稳定性的同时，降低了间隔物因为摩擦配向等外力挤压导致的偏向透光区的风险，因此可以减小遮光区的外扩，提升了液晶显示面板的开口率。

图7是本发明第三实施例提供的液晶显示面板的截面图，图8是图7所示液晶显示面板内的间隔物的示意图，如图7与图8所示，本实施例提供一种液晶显示面板，该液晶显示面板包括：彼此相对地设置的阵列基板和彩膜基板；设置在阵列基板和彩膜基板之间的液晶层；和用于将阵列基板和彩膜基板相互粘接并将液晶层密封在阵列基板和彩膜基板之间的封框胶(图中未示出)。阵列基板上的像素单元呈矩阵排列，通孔121位于相邻两行像素单元之间。进一步的，阵列基板还包括填充物13，填充物13包括位于通孔121内的部分131，且填充物13的位于通孔121内的部分131填充了通孔121的部分深度，其表面低于平坦层12的表面。也即，填充物13的位于通孔121内的部分131只填充通孔121的部分深度，并不会完全把通孔121填满，这样，整个阵列基板制作完成之后，阵列基板的对应通孔位置的表面会留有一个凹陷结构，但相对于一个完整的通孔，该凹陷结构的深度较浅，阵列基板的表面较为平坦。并且，该液晶显示面板还包括形成于彩膜基板上的间隔物23，间隔物23包括靠近彩膜基板一侧的底座231与靠近阵列基板一侧的凸起部232。其中，凸起部232与底座231一体成型，并位于通孔121内部。凸起部232的下表面232a的直径L2小于填充物13的位于通孔121内的部分131的表面直径L3，也就是说，间隔物23的凸起部232的下表面例如可以和填充物13的位于通孔121内的部分131相接触，使得间隔物23抵于彩膜基板与阵列基板之间，以保持盒厚的稳定性。

进一步的，在本实施例中，间隔物23的底座231的下表面231a的直径L1大于凸起部232的与底座231接触的上表面232b的直径L5，而且，凸起部232形成于底座231的下表面231a的中间，使得底座231的下表面231a的周边自凸起部232的上表面231b的周边延伸出，同时，底座231的下表面231a的直径L1大于通孔121的最大开口直径L4。当间隔物23的凸起部232位于通孔121内时，间隔物23的底座231卡合在通孔121的外部，能够更好地使得间隔物的末端镶嵌在通孔121内，降低了液晶显示面板的因为间隔物不稳导致的挤压漏光风险，再加上间隔物与填充物之间的摩擦力，在保持盒厚稳定性的同时，进一步降低了间隔物因为摩擦配向等外力挤压导致的偏向透光区的风险，因此可以减小遮光区的外扩，提升了液晶显示面板的开口率。

图9是本发明第四实施例提供的液晶显示面板的截面图，如图9所示，本实施例提供一种液晶显示面板，该液晶显示面板包括：彼此相对地设置的阵列基板和彩膜基板；设置在阵列基板和彩膜基板之间的液晶层；和用于将阵列基板和彩膜基板相互粘接并将液晶层密封在阵列基板和彩膜基板之间的封框胶(图中未示出)。阵列基板上的像素单元呈矩阵排列，通孔121位于相邻两行像素单元之间。进一步的，阵列基板还包括填充物，填充物包括位于通孔121内的部分131，且填充物的位于通孔121内的部分131填充了通孔121的部分深度，其表面低于平坦层12的表面。这样，整个阵列基板制作完成之后，阵列基板的对应通孔位置的表面会留有一个凹陷结构，相对于一个完整的通孔，该凹陷结构的深度较浅，阵列基板的表面较为平坦。并且，该液晶显示面板还包括形成于彩膜基板上的间隔物24，间隔物24包括靠近彩膜基板一侧的底座241与靠近阵列基板一侧的凸起部242。其中，凸起部242与底座241一体成型，并位于通孔121内部。凸起部242的下表面242a的直径小于填充物的位于通孔121内的部分131的表面直径，也就是说，间隔物24的凸起部242的下表面例如可以和填充物的位于通孔121内的部分131相接触，使得间隔物24抵于彩膜基板与阵列基板之间，以保持盒厚的稳定性。

进一步的，在本实施例中，间隔物24的底座241的下表面241a的直径大于凸起部242的与底座241接触的上表面242b的直径，而且，凸起部242形成于底座241的下表面241a的一端，使得底座241的下表面241a的一侧边自凸起部242的上表面242b的一侧延伸出。当间隔物24的凸起部242位于通孔121内时，间隔物24的底座241卡合在通孔121的外部，能够更好地使得间隔物的末端镶嵌在通孔121内，降低了液晶显示面板的因为间隔物不稳导致的挤压漏光风险，再加上间隔物与填充物之间的摩擦力，在保持盒厚稳定性的同时，进一步降低了间隔物因为摩擦配向等外力挤压导致的偏向透光区的风险，因此可以减小遮光区的外扩，提升了液晶显示面板的开口率。

图10是本发明第五实施例提供的液晶显示面板的截面图，如图10所示，本实施例提供一种液晶显示面板，该液晶显示面板包括：彼此相对地设置的阵列基板和彩膜基板；设置在阵列基板和彩膜基板之间的液晶层；和用于将阵列基板和彩膜基板相互粘接并将液晶层密封在阵列基板和彩膜基板之间的封框胶(图中未示出)。阵列基板上的像素单元呈矩阵排列，通孔121位于相邻两行像素单元之间。进一步的，阵列基板还包括填充物，填充物包括位于通孔121内的部分131，且填充物的位于通孔121内的部分131填充了通孔121的部分深度，其表面低于平坦层12的表面。这样，整个阵列基板制作完成之后，阵列基板的对应通孔位置的表面会留有一个凹陷结构，相对于一个完整的通孔，该凹陷结构的深度较浅，阵列基板的表面较为平坦。并且，该液晶显示面板还包括形成于彩膜基板上的间隔物25，间隔物25包括靠近彩膜基板一侧的底座251与靠近阵列基板一侧的凸起部252。其中，凸起部252与底座251一体成型，并位于通孔121内部。凸起部252的下表面252a的直径小于填充物的位于通孔121内的部分131的表面直径，也就是说，间隔物25的凸起部252的下表面例如可以和填充物的位于通孔121内的部分131相接触，使得间隔物25抵于彩膜基板与阵列基板之间，以保持盒厚的稳定性。

进一步的，在本实施例中，间隔物25包括分别位于底座251的下表面251a的两端的两个凸起部252，且该间隔物25延行方向的长度大于其延列方向的长度，例如，间隔物25延行方向的长度可以跨越相邻两个像素单元，其两个凸起部252分别位于该相邻两个像素单元的通孔121内。底座251的下表面251a的对应于两个凸起部252之间的部分位于两相邻通孔121之间的平坦层上，使得间隔物25的底座251卡合在通孔121的外部，能够更好地使得间隔物的末端镶嵌在通孔121内，降低了液晶显示面板的因为间隔物不稳导致的挤压漏光风险，再加上间隔物与填充物之间的摩擦力，在保持盒厚稳定性的同时，进一步降低了间隔物因为摩擦配向等外力挤压导致的偏向透光区的风险，因此可以减小遮光区的外扩，提升了液晶显示面板的开口率。

图11是本发明第六实施例提供的液晶显示面板的截面图，如图11所示，本实施例提供一种液晶显示面板，该液晶显示面板包括：彼此相对地设置的阵列基板和彩膜基板；设置在阵列基板和彩膜基板之间的液晶层；和用于将阵列基板和彩膜基板相互粘接并将液晶层密封在阵列基板和彩膜基板之间的封框胶(图中未示出)。阵列基板上的像素单元呈矩阵排列，通孔121位于相邻两行像素单元之间。进一步的，阵列基板还包括填充物，填充物包括位于通孔121内的部分131，且填充物的位于通孔121内的部分131填充了通孔121的部分深度，其表面低于平坦层12的表面。这样，整个阵列基板制作完成之后，阵列基板的对应通孔位置的表面会留有一个凹陷结构，相对于一个完整的通孔，该凹陷结构的深度较浅，阵列基板的表面较为平坦。并且，该液晶显示面板还包括形成于彩膜基板上的间隔物26，间隔物26包括靠近彩膜基板一侧的底座261与靠近阵列基板一侧的凸起部262。其中，凸起部262自底座261延伸形成，并位于通孔121内部。凸起部262的下表面262a的直径小于填充物的位于通孔121内的部分131的表面直径，也就是说，间隔物26的凸起部262的下表面例如可以和填充物的位于通孔121内的部分131相接触，使得间隔物26抵于彩膜基板与阵列基板之间，以保持盒厚的稳定性。

进一步的，在本实施例中，间隔物26包括分别位于底座261的下表面261a上的两个凸起部262，且该间隔物26延行方向的长度大于其延列方向的长度，例如，间隔物26延行方向的长度可以跨越相邻两个像素单元，其两个凸起部262分别位于该相邻两个像素单元的通孔121内。底座261的下表面261a的延行方向上的两端分别自两个凸起部262的两侧延伸出，也即，底座261的下表面261a的延行方向上的直径大于两个相邻通孔的最大距离，使得底座261的对应于两个凸起部262之间的部分及两侧延伸部卡合于两相邻通孔121附件的平坦层上，能够更好地使得间隔物的末端镶嵌在通孔121内，降低了液晶显示面板的因为间隔物不稳导致的挤压漏光风险，再加上间隔物与填充物之间的摩擦力，在保持盒厚稳定性的同时，进一步降低了间隔物因为摩擦配向等外力挤压导致的偏向透光区的风险，因此可以减小遮光区的外扩，提升了液晶显示面板的开口率。

当然在其它实施方式，例如每个间隔物也可以包括有三个或三个以上的凸起部，且间隔物延行方向的长度可以跨越相邻三个或三个以上的像素单元，其三个或三个以上的凸起部分别位于对应像素单元的通孔内。对此，本发明并不做特别限定。

接着，本发明还提供了一种液晶显示面板的制造方法。本实施方式的制造方法包括阵列基板制作工序、彩膜基板制作工序和液晶滴下贴合工序。

阵列基板制作工序：

首先，在以玻璃等透明材料做成的衬底基板上，例如使用乙硅烷(disilane)作为原料气体，通过等离子体CVD(Chemical Vapor Deposition：化学气相沉积)法将非晶硅膜成膜之后，利用激光照射等进行加热处理，变成多晶硅膜。然后，利用光刻对该多晶硅膜进行图案化来形成半导体层。另外，也可以在衬底基板与半导体层之间，通过等离子体CVD法将氧化硅或氮化硅等成膜，形成缓冲层，用于保护半导体层免受衬底基板上的杂质粒子的影响。接着，在形成有半导体层的整个基板上，通过等离子体CVD法将例如氧化硅或氮化硅成膜并形成栅极绝缘层之后，经由栅极绝缘层在半导体层掺杂磷或硼作为杂质。进一步，在栅极绝缘层上的整个基板，通过溅射法例如将钼膜和铝膜依次成膜，然后，利用光刻进行图案化来形成扫描线。接着，将扫描线作为掩膜，经由栅极绝缘层在半导体层掺杂磷或硼，由此在与扫描线的栅极重叠的部分形成沟道区域；进一步，在以覆盖栅极的方式形成岛状的光抗蚀剂之后，经由该光抗蚀剂和栅极绝缘层，在半导体层掺杂磷或硼，然后，通过进行加热处理来对掺杂的磷或硼进行活性化处理，形成源极区域和漏极区域的高浓度掺杂区域；接着，通过等离子体CVD法依次将氮化硅、氧化硅和氮化硅成膜来形成下层间绝缘层之后，将栅极绝缘层和下层间绝缘层的叠层膜的与源极区域和漏极区域(图中未示出)重叠的部分分别蚀刻除去，形成漏极接触孔。而且，在形成有具有漏极接触孔的层间绝缘层后的整个基板上，通过溅射法例如将钛、铝和钛依次成膜之后，利用光刻进行图案化来形成数据线和源漏极，其中上述半导体层、栅极及源漏极组成开关元件；

进一步，在形成有数据线和开关元件的整个基板上，例如通过旋涂法涂敷丙烯酸树脂来形成平坦层之后，将平坦层的与开关元件的漏极重叠的部分蚀刻除去，形成通孔，使得漏极暴漏在外面；

在形成有具有通孔的平坦层后的整个基板上，通过溅射法例如将ITO(Indium TinOxide：氧化铟锡)成膜，形成第一透明导电层，接着，利用光刻对该第一透明导电层进行图案化来形成公共电极；

接着，通过等离子体CVD法依次将氮化硅、氧化硅和氮化硅成膜来形成层间绝缘层之后，将层间绝缘层的与通孔重叠的部分蚀刻除去，漏出漏极；

在形成有具有通孔的层间绝缘层的整个基板上，通过溅射法例如将ITO(IndiumTin Oxide：氧化铟锡)成膜，形成第二透明导电层，接着，利用光刻进行图案化来形成像素电极，像素电极通过通孔与漏极连接；

例如在通过旋涂法涂敷一层由感光性丙烯酸树脂或光刻胶的负性感光材料形成的有机材料层之后，图案化形成填充物，填充物的位于通孔内的部分覆盖像素电极，且该填充物的位于通孔内的部分的表面低于平坦层的表面。

最后，在形成有像素电极与填充物后的整个基板上通过例如印刷法涂敷聚酰亚胺树脂之后，对其进行摩擦处理，由此形成取向层。

彩膜基板制作工序：

首先，在以玻璃等透明材料做成的上衬底基板的整个基板上，例如在将着色为黑色的感光性抗蚀剂材料成膜之后，利用光刻进行图案化来形成黑矩阵；接着，在黑矩阵的各个格子间，例如在将着色为红色、绿色或蓝色的感光性抗蚀剂材料成膜之后，利用光刻进行图案化来形成所选择的颜色的着色层(例如红色层)；然后，通过对其他两种颜色反复进行同样的工序，形成其他着色层(例如绿色层和蓝色层)，由此形成色阻层；之后，以覆盖色阻层与黑矩阵的方式形成一层上平坦层，从而提高彩膜基板的平坦性。

然后，在形成有上平坦层后的整个基板上，例如在通过旋涂法涂敷一层由感光性丙烯酸树脂或光刻胶的负性感光材料形成的有机材料层之后，图案化形成间隔物；最后，在形成有间隔物后的整个基板上通过例如印刷法涂敷聚酰亚胺树脂，之后进行摩擦处理，由此形成取向层。

液晶滴下贴合工序：

首先，例如使用分配器在由上述的彩膜基板制作工序所制作的彩膜基板上，使用可紫外线固化或热固化的树脂等构成的密封材描绘出框状。接着，向描绘有上述框状密封材的彩膜基板中密封材的内侧的区域滴下液晶材料。

进一步，在减压条件下将被滴下有上述液晶材料的彩膜基板和在上述阵列基板制作工序中制作的阵列基板贴合之后，在大气压下开放该贴合而成的贴合体，由此对贴合体的表面加压。

然后，在对由上述贴合体夹持的密封材照射UV光之后，通过将该贴合体加热使密封材固化。

如以上所述，能够制造液晶显示面板。

在本发明的实施方式中，上述液晶显示面板的制作方法还可以包括：在阵列基板制作过程中，“形成平坦层，覆盖扫描线、数据线与开关元件”的步骤还包括：

利用半色调光罩，在曝光时，使得该半色调光罩的半透光区对准平坦层的对应于行方向上相邻通孔之间的部分，光照之后蚀刻并图案化，使得平坦层的对应于行方向上相邻通孔之间的部分的厚度小于平坦层的其它部分的厚度，形成沟道；

其中填充物包括位于通孔内的部分与位于沟道内的部分。

本发明提供的液晶显示面板的制作方法以及由此方法制成的液晶显示面板，包括阵列基板与彩膜基板，以及位于阵列基板与彩膜基板之间的间隔物；阵列基板上的各个像素电极通过开在平坦层上的对应通孔与开关元件连接，本发明在其通孔内设置有填充物，该填充物覆盖像素电极，且通孔内填充物的表面低于上述平坦层的表面，使得位于平坦层上的通孔可以做的足够大，从而可以降低平坦层的开孔工艺难度；同时，使得通孔的深度变浅，增加了间隔物站位处的平坦性，降低了液晶显示面板的因为间隔物不稳导致的挤压漏光风险；进一步的，使得间隔物的末端位于通孔内，在保持盒厚稳定性的同时，降低了间隔物因为摩擦配向等外力挤压导致的偏向透光区的风险，因此可以减小遮光区的外扩，提升开口率。

另外，本发明还提供一种显示装置，该显示装置包括上述液晶显示面板，相比于现有技术，该显示装置具有如下优点：其阵列基板上的各个像素电极通过开在平坦层上的对应通孔与开关元件连接，本发明在其通孔内设置有填充物，该填充物覆盖像素电极，且通孔内填充物的表面低于上述平坦层的表面，使得位于平坦层上的通孔可以做的足够大，从而可以降低平坦层的开孔工艺难度；同时，使得通孔的深度变浅，增加了间隔物站位处的平坦性，降低了液晶显示面板的因为间隔物不稳导致的挤压漏光风险；进一步的，使得间隔物的末端位于通孔内，在保持盒厚稳定性的同时，降低了间隔物因为摩擦配向等外力挤压导致的偏向透光区的风险，因此可以减小遮光区的外扩，提升开口率。

以上对本发明所提供的液晶显示面板及其制作方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，在不脱离本发明的精神或范围的情况下，可以对本发明做出各种修改和变型，因此，本发明旨在涵盖落入所附权利要求及其等同物范围内的本发明的修改和变型。

Claims (14)

1.一种液晶显示面板，包括阵列基板，所述阵列基板包括：

衬底基板；

扫描线和数据线，所述扫描线和所述数据线彼此交叉以限定多个像素单元，每个所述像素单元设置有开关元件；

平坦层，覆盖所述扫描线、数据线与开关元件；

公共电极，位于所述平坦层上；

像素电极，通过一层间绝缘层与所述公共电极绝缘间隔，并经由依次开在所述层间绝缘层、平坦层上的对应通孔与所述开关元件的漏极连接；

其特征在于，所述通孔内设置有填充物，所述填充物覆盖所述像素电极，且所述填充物的表面低于所述平坦层的表面；

所述像素单元呈矩阵排列，所述通孔位于相邻两行所述像素单元之间；

所述平坦层的对应于行方向上相邻通孔之间的部分的厚度，小于所述平坦层的其它部分的厚度，形成沟道；

所述沟道内设置有填充物，行方向上相邻通孔内的所述填充物通过所述沟道内的填充物连接为一体。

2.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述通孔内填充物的表面与所述平坦层的表面之间的距离占所述通孔深度的10％-70％。

3.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述液晶显示面板还包括与所述阵列基板对向设置的彩膜基板，以及

间隔物，所述间隔物形成于所述彩膜基板上，且所述间隔物朝向所述阵列基板延伸，所述间隔物包括位于通孔外面的底座与位于通孔内的凸起部。

4.如权利要求3所述的液晶显示面板，其特征在于，位于所述通孔内的填充物的表面直径大于所述凸起部的下表面直径。

5.如权利要求3所述的液晶显示面板，其特征在于，所述通孔包括与所述间隔物对应的第一通孔，以及不与所述间隔物对应的第二通孔，所述第一通孔的开口直径大于所述第二通孔的开口直径。

6.如权利要求3所述的液晶显示面板，其特征在于，所述间隔物的底座的下表面直径大于所述凸起部的上表面直径，且所述间隔物的底座的下表面直径大于所述通孔的开口直径。

7.如权利要求6所述的液晶显示面板，其特征在于，所述间隔物包括一个凸起部，且所述凸起部位于所述底座的下表面的中间；

或者，所述间隔物包括一个凸起部，所述凸起部位于所述底座的下表面的一端。

8.如权利要求6所述的液晶显示面板，其特征在于，所述间隔物包括两个凸起部，所述两个凸起部分别位于所述底座的下表面的两端，且所述两个凸起部分别位于行方向上两个相邻的通孔内。

9.如权利要求6所述的液晶显示面板，其特征在于，所述间隔物包括两个凸起部，所述两个凸起部分别位于行方向上两个相邻的通孔内；

所述底座的下表面延行方向上的直径大于所述两个相邻通孔的最大距离。

10.如权利要求6所述的液晶显示面板，其特征在于，所述间隔物包括三个凸起部，且所述三个凸起部分别位于行方向上三个相邻的通孔内。

11.如权利要求3所述的液晶显示面板，其特征在于，所述填充物采用负性光阻材料制成。

12.如权利要求3所述的液晶显示面板，其特征在于，所述填充物与所述间隔物采用相同材料制成。

13.一种显示装置，包括如权利要求1-12任一项所述的液晶显示面板。

14.一种液晶显示面板的制造方法，包括阵列基板的制作方法，所述阵列基板的制作方法包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成扫描线、数据线与开关元件，所述开关元件包括半导体层、源漏极与栅极；

形成平坦层，覆盖所述扫描线、数据线与开关元件，所述平坦层上设置有通孔，露出所述开关元件的漏极；

沉积第一透明导电层，并图案化形成公共电极；

形成一层间绝缘层，并将该层间绝缘层的对应通孔的部分蚀刻除去，漏出所述开关元件的漏极；

沉积第二透明导电层，并图案化形成像素电极，所述像素电极通过所述通孔连接至所述漏极；

形成填充物，所述填充物的位于所述通孔内的部分覆盖所述像素电极，且所述填充物的位于所述通孔内的部分的表面低于所述平坦层的表面；

所述“形成平坦层，覆盖所述扫描线、数据线与开关元件”还包括：

利用半色调光罩，使得所述平坦层对应于行方向上相邻通孔之间的部分的厚度小于所述平坦层的其它部分的厚度，形成沟道；

所述填充物包括位于所述通孔内的部分与位于所述沟道内的部分。