TWI528119B - The balance sheet system and the optical etching machine shared by the work table and the mask - Google Patents

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Description

工作件台與光罩台共用的平衡品質系統及光蝕刻機
本發明有關於一種光蝕刻設備，尤其有關於一種工作件台與光罩台共用的平衡品質系統及光蝕刻機。
光蝕刻機的光蝕刻精度和產率高低直接影響晶片的集成度和製造成本，而產率和光蝕刻精度是互相矛盾的，客戶既要系統提高產率，又要改善和提高系統的曝光品質和曝光精度。而光蝕刻機整機系統中的任何微小振動都會干擾並影響到光蝕刻精度，尤其是運動台的驅動反作用力的影響。
平衡品質技術正是在這種條件下出現的。藉由平衡品質技術，運動台傳遞給基礎框架的作用力會大幅降低，這在很大程度上減少光蝕刻機系統的減振難度，避免了運動反作用力對曝光系統的干擾。
目前的運動台平衡品質系統主要有單層和雙層兩種。ASML公司的Twinscan系列光蝕刻機的工作件台採用單層平衡品質系統，具體可以參見2006年04月25日公開的美國專利US7034920，它是利用一層平衡品質框架來平衡長行程電機在X，Y，Rz三個方向上因運動加減速所產生的反作用力，並採用兩組五連桿裝置實現工作件台平衡 品質系統與基礎框架間的物理連接。兩組五連桿裝置可以完成工作件台平衡品質系統的初始化歸零，以及運動模式下對工作件台平衡品質系統進行跟蹤補償作用。不過，兩組五連桿機構擁有四個控制電機，四個電機聯合一體跟蹤控制X，Y，Rz三個自由度，系統需解耦，因此控制策略複雜。
Nikon公司的Tandem雙台系統採用雙層平衡品質系統，具體可以參見2005年04月26日公開的美國專利US6885430，它採用兩層平衡品質分別平衡長行程電機在X，Y，Rz三個方向上加減速運動時所產生的運動反作用力；頂層平衡品質本體用來平衡一個線性運動方向(X或Y)和Rz向上所產生的運動反作用力，頂層平衡品質本體與底層平衡品質本體間藉由補償電機連接，用以實現頂層和底層兩個平衡品質本體的同步運動以及糾偏和補償作用，該補償電機為一直線電機。底層平衡品質本體則用來平衡另外一個線性運動方向上(Y或X)所產生的運動反作用力。Tandem雙層平衡品質系統採用三個獨立的直線電機用來實現工作件台平衡品質系統與基礎框架間的連接作用，直線電機的定子安裝在基礎框架上，動子安裝在工作件台底層平衡品質本體上。三個直線電機聯合起來可以完成工作件台平衡品質系統的初始化歸零，以及運動模式下對工作件台平衡品質系統的跟蹤補償作用。三個直線電機可以實現X，Y，Rz三個自由度的獨立控制，由於不存在運動耦合的問題，系統無需解耦，因此控制策略簡單。但是所採用的直線電機是Nikon公司特別開發的具有側向間隙和位移的直線電機，普通直線電機不具有這種功能。
因此目前的光蝕刻機平衡品質典型代表系統分別為ASML公司的Twinscan平台和Nikon公司的Tandem平台，不管是Twinscan平台還是Tandem平台，依據這種平台的光蝕刻機的工作件台和光罩台均是使用獨立的平衡品質系統，即至少採用兩套這樣的平衡品質系統，這是這兩種平台的共同特點，均具有如下缺點：(1)整機結構不夠緊湊；(2)需要光罩台系統的外部支架，整機的體積和重量比較大；(3)兩個獨立的平衡品質本體的品質之和比較大。
因此，如何提供一種整體結構更加緊湊、體積更小的平衡品質系統及光蝕刻機是本領域技術人員亟待解決的一個技術問題。
本發明的目的在於提供一種平衡品質系統及光蝕刻機，能夠節省光罩台系統的外部支架，減小整機的體積和重量，以及減少所需平衡品質本體的品質，使得整體結構更加緊湊。
為了達到上述的目的，本發明採用如下技術方案：
一種平衡品質系統，包括一平衡品質本體以及一防漂移及補償裝置，該平衡品質本體包括用於安裝工作件台系統的第一部分、用於安裝光罩台系統的第二部分以及用於連接該第一、第二部分的第三部分，該平衡品質本體的第一部分懸浮支撐於一光蝕刻機的一基礎框架上，該平衡品質本體的第三部分藉由該防漂移及補償裝置與該基礎框架相連，該防漂移及補償裝置安裝在靠近整個該平衡品質本體的重心位置處。
較佳的，在上述的平衡品質系統中，還包括一反品質運動系統，該反品質運動系統包括一反品質支撐框架以及一反品質運動本體，該反品質支撐框架與該平衡品質本體的第三部分固定連接，該反品質運動體能夠沿著一支撐框架上下運動，用以補償該工作件台系統、光罩台系統及平衡品質系統作為整體的重心的即時變化以及補償該平衡品質系統的傾覆力矩。
較佳的，在上述的平衡品質系統中，該防漂及補償裝置設置在與該平衡品質本體的重心同一高度處。
本發明亦揭露一種光蝕刻機，包括一照明系統、一基礎框架、一主減振單元、安裝有一物鏡的一主基板、用於裝載一曝光光阻載體的一工作件台系統、用於裝載一曝光圖形載體的一光罩台系統以及如上所述的平衡品質系統，該主基板藉由該主減振單元安裝於該基礎框架上，該工作件台系統懸浮支撐於該平衡品質本體的工作件台部分上，該光罩台系統懸浮支撐於該平衡品質本體的光罩台部分上，該照明系統將該曝光圖形載體上的圖形藉由該物鏡投影到該裝載曝光光阻載體上。
較佳的，在上述的光蝕刻機中，該工作件台系統包括一工作件台粗動台氣浮、一工作件台粗動台、一工作件台長行程驅動電機以及用於支撐該曝光光阻載體的一工作件台微動台，該工作件台粗動台藉由該工作件台粗動台氣浮懸浮支撐於該平衡品質本體的工作件台部分上，該工作件台微動台設置於粗動台上，該工作件台粗動台藉由該長行程驅動電機與該平衡品質本體的工作件台部分連接。
較佳的，在上述的光蝕刻機中，該光罩台系統包括一光罩台長行程驅動電機、一光罩台粗動台、一光罩台粗動台氣浮以及用於吸附一曝光圖形載體的一光罩台微動台，該光罩台粗動台藉由該光罩台粗動台氣浮懸浮支撐於該平衡品質本體的光罩台部分上，該光罩台微動台設置於該粗動台上，該光罩台粗動台該光罩台長行程驅動電機與該平衡品質本體的光罩台部分連接。
較佳的，在上述的光蝕刻機中，還包括一工作件台位置測量系統，該工作件台位置測量系統包括一工作件台干涉儀、一工作件台垂直方向反射鏡以及一主基板垂直方向反射鏡，該工作件台干涉儀與該主基板固定連接，該主基板垂直方向反射鏡安裝於該主基板的下方，該工作件台垂直方向反射鏡安裝於該工作件台微動台的側面，該工作件台干涉儀藉由將工作件台干涉儀水平方向測量光束射在該工作件台微動台上以及工作件台干涉儀水平方向參考光束射在一物鏡上來測量該工作件台系統與該物鏡的水平方向位置關係，該工作件台干涉儀藉由將一工作件台干涉儀垂直方向測量光束射到該工作件台垂直方向反射鏡後，經反射至該主基板垂直方向反射鏡來測量該工作件台微動台與該物鏡的垂直方向位置關係。
較佳的，在上述的光蝕刻機中，還包括一光罩台位置測量系統，該光罩台位置測量系統包括一光罩台干涉儀以及用於反射光罩台干涉儀垂直方向測量光束的一光罩台垂直方向反射鏡，該光罩台干涉儀與該主基板固定連接，該光罩台垂直方向反射鏡安裝於該物鏡的上部側面，該光罩台干涉儀藉由將光罩台干涉儀水平方向測量光束 射在該光罩台微動台上以及將光罩台干涉儀水平方向參考光束射在一物鏡上來測量該光罩台系統與該物鏡的水平方向位置關係，該光罩台干涉儀藉由將光罩台干涉儀垂直方向測量光束射到光罩台反射鏡後反射至光罩台微動台來測量光罩該台微動台與該物鏡的垂直方向位置關係。
較佳的，在上述的光蝕刻機中，還包括一照明支架，該照明支架與該基礎框架固定連接，該照明系統藉由該照明支架安裝於該曝光圖形載體的上方。
較佳的，在上述的光蝕刻機中，該主基板上設有用於安裝該物鏡的通孔，該物鏡的一部分位於該主基板的一側，該物鏡的另一部分位於該主基板的另一側。
本發明的平衡品質系統包括用於安裝工作件台系統的第一部分、用於安裝光罩台系統的第二部分、連接前述兩者的第三部分、以及防漂移及補償裝置，採用上述平衡品質系統的光蝕刻機改變習知工作件台系統和光罩台系統均使用獨立的平衡品質系統的結構，而是將工作件台系統和光罩台系統共用一套平衡品質系統，因而具有以下優點：(1)整體結構更為緊湊；(2)共用的平衡品質系統可以直接支撐光罩台系統，從而節省了光罩台系統的外部支架，減小光蝕刻機整機的體積和重量；(3)工作件台系統及光罩台系統共用一套平衡品質系統及其平衡品質本體及防漂移及補償裝置，運動台的運動反作用力在一定程度上 可以相互抵消，使得共用的平衡品質本體的品質要小於工作件台系統及光罩台系統各自對應的獨立的平衡品質本體的和。
另外，藉由在平衡品質系統中配置垂直方向運動的反品質系統，可以補償運動過程中的重心變化和產生的傾覆力矩。
1‧‧‧基礎框架
2‧‧‧主減振單元
3‧‧‧主基板垂直方向反射鏡
4‧‧‧工作件台干涉儀水平方向參考光束
5‧‧‧工作件台干涉儀垂直方向測量光束
6‧‧‧工作件台干涉儀水平方向測量光束
7‧‧‧工作件台垂直方向反射鏡
9‧‧‧工作件台粗動台氣浮
10‧‧‧工作件台微動台
11‧‧‧第一部分
12‧‧‧工作件台粗動台
13‧‧‧工作件台長行程驅動電機
14‧‧‧第三部分
15‧‧‧重心位置
16‧‧‧防漂移及補償裝置
17‧‧‧反品質支撐框架
18‧‧‧反品質運動本體
19‧‧‧物鏡
20‧‧‧第二部分
21‧‧‧光罩台長行程驅動電機
22‧‧‧粗動台
23‧‧‧光罩台微動台
24‧‧‧曝光圖形載體
25‧‧‧光罩台粗動台氣浮
26‧‧‧光罩台干涉儀水平方向測量光束
27‧‧‧曝光光阻載體
28‧‧‧光罩台干涉儀水平方向參考光束
29‧‧‧光罩台干涉儀垂直方向測量光束
30‧‧‧光罩台干涉儀測量支架
31‧‧‧光罩台垂直方向反射鏡
32‧‧‧工作件台干涉儀測量支架
33‧‧‧主基板
34‧‧‧照明系統
35‧‧‧照明支架
本發明的平衡品質系統及光蝕刻機參考以下的實施例及附圖。
圖1為本發明之一實施例的光蝕刻機的結構示意圖。
下面將參照附圖對本發明進行更詳細的描述，其中表示本發明的較佳實施例，應該理解本領域技術人員可以修改在此描述的本發明而仍然實現本發明的有利效果。因此，下列描述應當被理解為對於本領域技術人員的廣泛知道，而並不作為對本發明的限制。
為了清楚，不描述實際實施例的全部特徵。在下列描述中，不詳細描述公知的功能和結構，因為它們會使發明由於不必要的細節而混亂。應當認為在任何實際實施例的開發中，必須作出大量實施細節以實現開發者的特定目標，例如按照有關系統或有關商業的限制，由一個實施例改變為另一個實施例。另外，應當認為這種開發工作可能是複雜和耗費時間的，但是對於本領域技術人員來說僅僅是常規工作。
為使本發明的目的、特徵更明顯易懂，下面結合附圖對本發明的具體實施方式作進一步的說明。需說明的是，附圖均採用非 常簡化的形式且均使用非精準的比率，僅用以方便、明晰地輔助說明本發明實施例的目的。
請參閱圖1，本發明的光蝕刻機包括照明系統34、基礎框架1、主減振單元2、安裝有物鏡19的主基板33、用於裝載曝光光阻載體27的工作件台系統、用於裝載曝光圖形載體24的光罩台系統以及一平衡品質系統。主基板33藉由主減振單元2安裝於基礎框架1上，照明系統34用於將曝光圖形載體24上的圖形藉由物鏡19投影到該裝載曝光光阻載體27上。
平衡品質系統包括平衡品質本體以及防漂移及補償裝置16，平衡品質本體包括用於安裝工作件台系統的第一部分11、用於安裝光罩台系統的第二部分20以及一第三部分14，平衡品質本體的第一部分11與平衡品質本體的第二部分20藉由平衡品質本體的第三部分14連接。工作件台系統懸浮支撐於平衡品質體的第一部分11上，平衡品質體的第一部分11懸浮支撐於基礎框架1上，光罩台系統懸浮支撐於平衡品質本體的第二部分20上，平衡品質本體的第三部分14藉由防漂移及補償裝置16與基礎框架1相連，防漂移及補償裝置16靠近整個平衡品質本體的重心位置15而設置。
本發明的光蝕刻機改變習知工作件台系統和光罩台系統均使用獨立的平衡品質系統的結構，而是將工作件台系統和光罩台系統共用一套平衡品質系統，圖中，平衡品質本體的第一部分11、平衡品質本體的第二部分20及平衡品質本體的第三部分14共同組成工作件台系統及光罩台系統的共用的平衡品質本體。一方面，可以使得 整體結構更為緊湊；另一方面，共用的平衡品質系統可以直接支撐光罩台系統，從而節省了光罩台系統的外部支架，減小整機的體積和重量；再一方面，工作件台系統及光罩台系統共用一套平衡品質體及其防漂移及補償裝置16，運動台(包括工作件台系統及光罩台系統)的運動反作用力在一定程度上可以相互抵消，使得共用的平衡品質本體的品質要小於工作件台系統及光罩台系統各自對應的獨立的平衡品質本體的和。
其中，防漂移及補償裝置16用於控制及補償平衡品質本體的第一部分11、平衡品質本體的第二部分20以及平衡品質本體的第三部分14組成的整體的水平方向位置(x,y,Rz)。
較佳的，防漂移及補償裝置16與平衡品質本體的重心位置15相對應，本實施例中，兩者處在同一垂直高度處，或者說位於同一水平面內，從而可以更好的平衡工作件台系統及光罩台系統傳遞給基礎框架1的作用力，減少光蝕刻機系統的減振難度，避免運動反作用力對曝光過程的干擾。
因工作件台長行程驅動電機13以及光罩台長行程驅動電機21高度不同、不共平面，勢必會造成傾覆力矩，同時工作件台系統及光罩台系統不同步運動時，會使整個運動台及平衡品質系統的重心發生變化，為了應對這一工作情況，在上述的平衡品質系統中引入一反品質運動系統。反品質運動系統包括反品質支撐框架17以及反品質運動本體18，反品質支撐框架17與平衡品質本體的第三部分14固定連接，反品質運動本體18能夠沿著支撐框架17上下運動，可以補 償整個運動台及平衡品質系統作為整體的重心的即時變化，同時，反品質運動本體18的加速減速運動，可以產生一個反力矩，用以補償運動台及平衡品質系統的傾覆力矩。
較佳的，工作件台系統包括工作件台粗動台氣浮9、工作件台粗動台12、工作件台長行程驅動電機13以及用於支撐曝光光阻載體27的工作件台微動台10，工作件台粗動台12藉由工作件台粗動台氣浮9懸浮支撐於平衡品質本體的第一部分11上，工作件台微動台10設置於粗動台12上，工作件台粗動台12藉由長行程驅動電機13與平衡品質本體的第一部分11連接。
較佳的，該光罩台系統包括光罩台長行程驅動電機21、光罩台粗動台22、光罩台粗動台氣浮25以及用於吸附曝光圖形載體24的光罩台微動台23，光罩台粗動台22藉由光罩台粗動台氣浮25懸浮支撐於平衡品質本體的第二部分20上，光罩台微動台23設置於粗動台22上，光罩台粗動台22藉由光罩台長行程驅動電機21與平衡品質本體的第二部分20連接。
較佳的，的光蝕刻機還包括工作件台位置測量系統，工作件台位置測量系統包括工作件台干涉儀測量支架32、設置在工作件台干涉儀測量支架32上的工作件台干涉儀(圖中未示出)、工作件台垂直方向反射鏡7以及主基板垂直方向反射鏡3，工作件台干涉儀測量支架32與主基板33固定連接，主基板垂直方向反射鏡3安裝於主基板33的下方，工作件台垂直方向反射鏡7安裝於工作件台微動台10的側面，工作件台干涉儀藉由將工作件台干涉儀水平方向測量光束6 射在工作件台微動台10上以及將工作件台干涉儀水平方向參考光束4射在物鏡19上來測量工作件台系統與物鏡19的水平方向位置關係，工作件台干涉儀藉由將工作件台干涉儀垂直方向測量光束5射至工作件台垂直方向反射鏡7上，經垂直方向反射鏡7反射至主基板垂直方向反射鏡3來測量工作件台微動台10與物鏡19的垂直方向位置關係。具體的，從工作件台干涉儀發出的工作件台干涉儀水平方向測量光束6射至工作件台微動台10並被反射回工作件台干涉儀；從工作件台干涉儀發出的工作件台干涉儀水平方向參考光束4射至物鏡並被反射回工作件台干涉儀；從工作件台干涉儀發出的工作件台干涉儀垂直方向測量光束5經工作件台垂直方向反射鏡7反射至主基板垂直方向反射鏡3後原路返回到工作件台干涉儀。
較佳的，所述的光蝕刻機還包括光罩台位置測量系統，光罩台位置測量系統包括光罩台干涉儀測量支架30、設置在光罩台干涉儀測量支架30上的光罩台干涉儀(圖中未示出)以及用於反射光罩台干涉儀垂直方向測量光束29的光罩台垂直方向反射鏡31，光罩台干涉儀測量支架30與主基板33固定連接，光罩台垂直方向反射鏡31安裝於物鏡19的上部側面，光罩台干涉儀藉由將光罩台干涉儀水平方向測量光束26射在光罩台微動台23上以及將光罩台干涉儀水平方向參考光束28射在物鏡19上來測量光罩台系統與物鏡19的水平方向位置關係，光罩台干涉儀藉由光罩台干涉儀垂直方向測量光束29來測量該光罩台微動台23與物鏡19的垂直方向位置關係。具體的，從光罩台干涉儀發出的光罩台干涉儀水平方向測量光束26射至光罩台微動台 23並被反射回光罩台干涉儀；從光罩台干涉儀發出的光罩台干涉儀水平方向參考光束28射至物鏡19並被反射回光罩台干涉儀；從光罩台干涉儀發出的光罩台干涉儀垂直方向測量光束29經光罩台垂直方向反射鏡31反射至光罩台微動台23後原路返回到光罩台干涉儀。
主基板33以及安裝於主基板33上的物鏡19、工作件台干涉儀、光罩台干涉儀以及主基板垂直方向反射鏡3均藉由主減振單元2與基礎框架1的外部環境隔離。
較佳的，所述的光蝕刻機還包括照明支架35，照明支架35與基礎框架1固定連接，照明系統34藉由照明支架35安裝於曝光圖形載體24的上方。
較佳的，主基板33上設有用於安裝物鏡19的通孔，物鏡19的一部分位於主基板33的一側(本實施例中為主基板33的下方)，物鏡19的另一部分位於主基板33的另一側(本實施例中為主基板33的上方)。
綜上所述本發明的平衡品質系統包括用於安裝工作件台系統的第一部分、用於安裝光罩台系統的第二部分、連接前述兩者的第三部分、以及防漂移及補償裝置，採用上述平衡品質系統的光蝕刻機改變習知工作件台系統和光罩台系統均使用獨立的平衡品質系統的結構，而是將工作件台系統和光罩台系統共用一套平衡品質系統，因而具有以下優點：(1)整體結構更為緊湊；(2)共用的平衡品質系統可以直接支撐光罩台系統，從而節省了光 罩台系統的外部支架，減小整機的體積和重量；(3)工作件台系統及光罩台系統共用一套平衡品質系統及其平衡品質本體及防漂移及補償裝置，運動台的運動反作用力在一定程度上可以相互抵消，使得共用的平衡品質本體的品質要小於工作件台系統及光罩台系統各自對應的獨立的平衡品質本體的和。
另外，藉由在平衡品質系統中配置垂直方向運動的反品質系統，可以補償運動過程中的重心變化和產生的傾覆力矩。
顯然，本領域的技術人員可以對本發明進行各種修改和變型而不脫離本發明的精神和範圍。這樣，倘若本發明的這些修改和變型屬於本發明申請專利範圍及其等同技術的範圍之內，則本發明也意圖包含這些修改和變型在內。
1‧‧‧基礎框架
2‧‧‧主減振單元
3‧‧‧主基板垂直方向反射鏡
4‧‧‧工作件台干涉儀水平方向參考光束
5‧‧‧工作件台干涉儀垂直方向測量光束
6‧‧‧工作件台干涉儀水平方向測量光束
7‧‧‧工作件台垂直方向反射鏡
9‧‧‧工作件台粗動台氣浮
10‧‧‧工作件台微動台
11‧‧‧第一部分
12‧‧‧工作件台粗動台
13‧‧‧工作件台長行程驅動電機
14‧‧‧第三部分
15‧‧‧重心位置
16‧‧‧防漂移及補償裝置
17‧‧‧反品質支撐框架
18‧‧‧反品質運動本體
19‧‧‧物鏡
20‧‧‧第二部分
21‧‧‧光罩台長行程驅動電機
22‧‧‧粗動台
23‧‧‧光罩台微動台
24‧‧‧曝光圖形載體
25‧‧‧光罩台粗動台氣浮
26‧‧‧光罩台干涉儀水平方向測量光束
27‧‧‧曝光光阻載體
28‧‧‧光罩台干涉儀水平方向參考光束
29‧‧‧光罩台干涉儀垂直方向測量光束
30‧‧‧光罩台干涉儀測量支架
31‧‧‧光罩台垂直方向反射鏡
32‧‧‧工作件台干涉儀測量支架
33‧‧‧主基板
34‧‧‧照明系統
35‧‧‧照明支架

Claims (12)

  1. 一種用於光蝕刻機的平衡品質系統，包括：一平衡品質本體，包含：一第一部分，懸浮設置於該光蝕刻機的一基礎框架上，用於支撐該光蝕刻機的一工作件台系統；一第二部分，用於支撐該光蝕刻機的一光罩台系統；以及一第三部分，用於連接該第一部分與該第二部分；其中，該平衡品質系統還包括一防漂移及補償裝置，靠近該平衡品質本體的重心位置而設置，用於將該平衡品質本體的第三部分連接至該基礎框架。
  2. 如申請專利範圍第1項之平衡品質系統，進一步包括一反品質運動系統，該反品質運動系統包括一反品質支撐框架以及一反品質運動本體，該反品質支撐框架與該平衡品質本體的第三部分固定連接，該反品質運動本體能夠沿著該反品質支撐框架上下運動，用以補償該工作件台系統、該光罩台系統及該平衡品質系統作為整體的重心的即時變化以及補償該平衡品質系統的傾覆力矩。
  3. 如申請專利範圍第1項之平衡品質系統，其中，該防漂移及補償裝置設置在與該平衡品質本體的重心同一高度處。
  4. 一種光蝕刻機，包括：一基礎框架；一主基板，承載有一物鏡和一干涉儀測量系統且藉由一主減振單元安裝於該基礎框架上； 一工作件台系統，用於裝載一曝光光阻載體；一光罩台系統，用於裝載一曝光圖形載體；一照明系統，用於將該曝光圖形載體上的圖形藉由該物鏡投影到該曝光光阻載體上；以及一平衡品質系統，其包括一平衡品質本體和一防漂移及補償裝置；其中該平衡品質本體包含：一第一部分，懸浮設置於該基礎框架上，用於支撐該工作件台系統；一第二部分，用於支撐該光罩台系統；以及一第三部分，用於連接該第一部分與該第二部分；其中，該防漂移及補償裝置靠近該平衡品質本體的重心位置而設置，用於將該平衡品質本體的第三部分連接至該基礎框架。
  5. 如申請專利範圍第4項之光蝕刻機，其中，該平衡品質系統進一步包括一反品質運動系統，該反品質運動系統包括一反品質支撐框架以及一反品質運動本體，該反品質支撐框架與該平衡品質本體的第三部分固定連接，該反品質運動本體能夠沿著該反品質支撐框架上下運動，用以補償該工作件台系統、該光罩台系統及該平衡品質系統作為整體的重心的即時變化以及補償該平衡品質系統的傾覆力矩。
  6. 如申請專利範圍第4項之光蝕刻機，其中，該防漂移及補償裝置設置在與該平衡品質體的重心同一高度處。
  7. 如申請專利範圍第4項之光蝕刻機，其中，該工作件台系統包括 一工作件台粗動台氣浮、一工作件台粗動台、一工作件台長行程驅動電機以及用於支撐該曝光光阻載體的一工作件台微動台，該工作件台粗動台藉由該工作件台粗動台氣浮懸浮支撐於該平衡品質本體的工作件台部分上，該工作件台微動台設置於粗動台上，該工作件台粗動台藉由該長行程驅動電機與該平衡品質本體的工作件台部分連接。
  8. 如申請專利範圍第4項之光蝕刻機，其中，該光罩台系統包括一光罩台長行程驅動電機、一光罩台粗動台、一光罩台粗動台氣浮以及用於吸附該曝光圖形載體的一光罩台微動台，該光罩台粗動台藉由該光罩台粗動台氣浮懸浮支撐於該平衡品質本體的光罩台部分上，該光罩台微動台設置於該粗動台上，該光罩台粗動台藉由該光罩台長行程驅動電機與該平衡品質本體的光罩台部分連接。
  9. 如申請專利範圍第4項之光蝕刻機，進一步包括一工作件台位置測量系統，該工作件台位置測量系統包括一工作件台干涉儀測量支架、一工作件台干涉儀、一工作件台垂直方向反射鏡以及一主基板垂直方向反射鏡，該工作件台干涉儀設置在該工作件台干涉儀支架上，該工作件台干涉儀測量支架與該主基板固定連接，該主基板垂直方向反射鏡安裝於該主基板的下方，該工作件台垂直方向反射鏡安裝於該工作件台微動台的側面，該工作件台干涉儀藉由將工作件台干涉儀水平方向測量光束射在該工作件台微動台上以及工作件台干涉儀水平方向參考光束射在該物鏡上來測量工 作件台系統與該物鏡的水平方向位置關係，該工作件台干涉儀藉由該工作件台干涉儀垂直方向測量光束來測量該工作件台微動台與該物鏡的垂直方向位置關係。
  10. 如申請專利範圍第4項之光蝕刻機，進一步包括一光罩台位置測量系統，該光罩台位置測量系統包括一光罩台干涉儀測量支架、設置在該光罩台測量支架上的一光罩台干涉儀以及用於反射光罩台干涉儀垂直方向測量光束的一光罩台垂直方向反射鏡，該光罩台干涉儀測量支架與該主基板固定連接，該光罩台垂直方向反射鏡安裝於該物鏡的上部側面，該光罩台干涉儀藉由將光罩台干涉儀水平芳向測量光束射在該光罩台微動台上以及將光罩台干涉儀水平方向參考光束射在該物鏡上來測量該光罩台系統與該物鏡的水平方向位置關係，該光罩台干涉儀藉由該光罩台干涉儀垂直方向測量光束來測量該光罩台微動台與該物鏡的垂直方向位置關係。
  11. 如申請專利範圍第4項之光蝕刻機，進一步包含包括一照明支架，該照明支架與該基礎框架固定連接，該照明系統藉由該照明支架安裝於該曝光圖形載體的上方。
  12. 如申請專利範圍第4項之光蝕刻機，其中，該主基板上設有用於安裝該物鏡的通孔，該物鏡的一部分位於該主基板的一側，該物鏡的另一部分位於該主基板的另一側。
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