TWI517964B - A manufacturing apparatus for an optical diaphragm and a method for manufacturing an optical film - Google Patents

A manufacturing apparatus for an optical diaphragm and a method for manufacturing an optical film Download PDF

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Kiyohito Hiromitsu
Kenichiro Naka
Hiroshi Hamada
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Description

光學膜片之製造裝置及光學膜片之製造方法
本發明係有關光學膜片之製造裝置及光學膜片之製造方法。
當前，常使用至少由2個光學層所構成，表面上形成有各種光學性作用的立體形狀之光學元件集合體的光學膜片，或表面形成有平坦狀光學元件的光學膜片。在光學膜片的表面上形成多數個光學元件的情形下，該光學元件例如有角隅稜鏡(cube corner prism)、線性稜鏡(linear prism)、柱狀透鏡(lenticular lens)、折射型透鏡、菲涅爾透鏡(Fresnel Lens)、線性菲涅爾透鏡(linear Fresnel lens)、正交稜鏡(cross prism)或全像(hologram)用光學元件、平面狀光學元件等。
製造此類光學膜片時，光學元件的形狀精度或表面平坦性等光學膜片的表面加工精度，會對光學膜片的性能帶來很大影響。因此，其不同於在通常的樹脂加工製品表面施以壓印(emboss)加工、咬花(texturing)加工、粗糙化加工等一般的樹脂加工，而需要非常高精度的 加工。
下述專利文獻1中，記載了在表面上形成光學元件集合體的光學膜片之製造裝置，及光學膜片之製造方法的例子。
該光學膜片之製造裝置中，於表面形成多數個光學元件成形模之第1皮帶狀模的一部分與第2皮帶狀模的一部分彼此相向，各個皮帶狀模以相同速度旋動。接著，在第1皮帶狀模與第2皮帶狀模互相推壓之區域，藉由各個皮帶狀模將樹脂膜片夾住，將樹脂膜片推壓至各個皮帶狀模。藉由此一推壓，樹脂會滲入各個皮帶狀模的表面形成之光學元件成形模，樹脂膜片的兩面會形成多數個光學元件。
此外，在專利文獻1的圖8中，記載一種層積複數個樹脂膜片而成，且兩面形成有多數個光學元件的光學膜片之製造裝置。該光學膜片之製造裝置中，於第1皮帶狀模的一部分與第2皮帶狀模的一部分互相推壓之區域，2片樹脂膜片係以重疊的狀態供應。所供應之2片樹脂膜片，會被第1皮帶狀模與第2皮帶狀模推壓，藉由熔接而層積成一體，同時如同上述般在表面形成多數個光學元件。
像這樣，在光學膜片由2層所構成的情形下，同樣會製造出在兩面形成有多數個光學元件之光學膜片。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]國際公開WO2010/021133號
上述專利文獻1記載的光學膜片之製造裝置及製造方法中，當製造由至少2個光學層構成之光學膜片的情形下，係如上述般，將複數個樹脂膜片藉由熔接層積成一體，同時在兩面形成多數個光學元件。在此情形下，必須從第1皮帶狀模與第2皮帶狀模雙方，對於重疊的樹脂膜片施加高壓、高熱。亦即，必須對樹脂膜片賦予高能量。因此，製造出的光學膜片，其表面形狀會扭曲，形成於兩面的光學元件可能會變形。尤其是，為了提高光學膜片的生產性，而以高速製造光學膜片的情形下，必須在更短期的期間內對樹脂膜片賦予高能量，故樹脂中的成分可能會汽化。一旦這類氣體殘存，製造出的光學膜片其表面會容易扭曲，光學元件容易變形，造成問題。
鑑此，本發明之目的在於提供一種抑制表面扭曲，同時能提升生產性的光學膜片之製造裝置、及光學膜片之製造方法。
為解決上述課題，本發明的一個面向為，屬 於至少具有2個光學層的光學膜片之製造裝置，其特徵為，具備：第1皮帶狀模及第2皮帶狀模，朝圓周方向旋動；第1供應部，將樹脂供應至前述第1皮帶狀模上；第1壓印部，將供應至前述第1皮帶狀模上之樹脂，壓印於前述第1皮帶狀模上，做成第1壓印膜片，成為前述光學膜片一方之面側的光學層；第2供應部，將樹脂供應至前述第2皮帶狀模上；第2壓印部，將供應至前述第2皮帶狀模上之樹脂，壓印於前述第2皮帶狀模上，做成第2壓印膜片，成為前述光學膜片另一方之面側的光學層；及層積部，將前述第1壓印膜片與前述第2壓印膜片，藉由前述第1皮帶狀模與前述第2皮帶狀模夾住而層積；將壓印於前述第1皮帶狀模上之前述第1壓印膜片，以及壓印於前述第2皮帶狀模上之前述第2壓印膜片，藉由前述第1皮帶狀模及前述第2皮帶狀模的旋動而移動至前述層積部，並層積之。
此外，本發明的另一個面向為，屬於至少具有2個光學層的光學膜片之製造方法，其特徵為，具備：樹脂供應工程，在朝圓周方向旋動之第1皮帶狀模上、及朝圓周方向旋動之第2皮帶狀模上，分別供應樹脂；壓印工程，將供應至前述第1皮帶狀模上之樹脂，壓印於前述第1皮帶狀模上，做成第1壓印膜片，成為前述光學膜片一方之面側的光學層，且將供應至前述第2皮帶狀模上之樹脂，壓印於前述第2皮帶狀模上，做成第2壓印膜片，成為前述光學膜片另一方之面側的光學層；及層積工程， 將前述第1壓印膜片與前述第2壓印膜片，藉由前述第1皮帶狀模及前述第2皮帶狀模的旋動而移動後，藉由前述第1皮帶狀模與前述第2皮帶狀模夾住而層積。
按照這樣的光學膜片之製造裝置及製造方法，將供應至第1、第2皮帶狀模上的樹脂加以壓印，並使形成後之第1、第2皮帶狀模上的第1、第2壓印膜片移動，其後藉由第1、第2皮帶狀模，將第1壓印膜片與第2壓印膜片夾住而層積。亦即，本發明的光學膜片之製造裝置中，第1、第2壓印部與層積部係互相遠離，而在光學膜片之製造方法中，壓印工程與層積工程係在互相遠離之場所進行。像這樣，由於是在壓印出第1、第2壓印膜片的表面形狀後，第1壓印膜片與第2壓印膜片才被層積，故所供應之各個壓印膜片壓印所需之能量供應、以及各個壓印膜片層積所需之能量供應，便能夠分散。此外，由於進行壓印後才進行層積，故相較於同時進行壓印及層積之情形，能夠減小進行壓印時的樹脂全體層厚。因此，即使在壓印時於樹脂內產生氣體，按照本發明，相較於同時進行壓印及層積之情形，該氣體更容易逃逸。如此一來，按照本發明，相較於同時進行壓印及層積之情形，能夠抑制生產出的光學膜片之表面扭曲。
此外，即使在為了提升生產性而以高速製造光學膜片的情形下，藉由分散施加於第1、第2壓印膜片的能量，能夠抑制各個壓印膜片的表面扭曲，故能夠提升光學膜片的生產性。
又，各個壓印膜片從壓印至層積為止，並未離開皮帶狀模，故能夠防止壓印出的各個壓印膜片表面形狀在層積時扭曲。
另，本發明中，所謂壓印，係指配合各個皮帶狀模的表面而將樹脂賦形，其包含下述兩種情形：在各個皮帶狀模表面形成有凹凸狀的成形模，而各個壓印膜片的表面被賦形成凹凸狀之情形；及在各個皮帶狀模表面形成有平坦狀的成形模，而各個壓印膜片的表面被賦形成平坦狀之情形。
此外，上述光學膜片之製造裝置中，較佳是，更具備中間供應部，將中間光學膜片供應至前述第1壓印膜片及前述第2壓印膜片的至少一方之上，該中間光學膜片係成為前述光學膜片的前述一方之面側的光學層與前述另一方之面側的光學層之間的中間光學層，在前述層積部，將前述第1壓印膜片與前述第2壓印膜片隔著前述中間光學膜片而層積。此外，上述光學膜片之製造方法中，較佳是，更具備中間供應工程，將中間光學膜片供應至前述第1壓印膜片及前述第2壓印膜片的至少一方之上，該中間光學膜片係成為前述光學膜片的前述一方之面側的光學層與前述另一方之面側的光學層之間的中間光學層，在前述層積工程，將前述第1壓印膜片與前述第2壓印膜片隔著前述中間光學膜片而層積。
像這樣，藉由供應中間光學膜片，能夠在一方之面側的光學層與另一方之面側的光學層之間形成中間 光學層。又，將中間光學膜片層積於第1壓印膜片及前述第2壓印膜片的至少一方之上，其後將第1壓印膜片與第2壓印膜片隔著中間光學膜片而層積，藉此，中間光學膜片層積所需之能量、以及將第1壓印膜片與第2壓印膜片隔著中間光學膜片而層積所需之能量，便能夠分散供應。是故，即使在供應中間光學膜片的情形下，也能抑制製造出的光學膜片表面形狀扭曲。如本發明般，藉由將壓印工程與層積工程分離，能夠如上述般在壓印後層積中間光學層。不過，在膜片層積時，雖然在膜片面內全體有承受略均一壓力的傾向，但在壓印時，於膜片面內會視乎壓印之形狀，而有在面內不同部位承受不同壓力的傾向。舉例來說，在因為壓印而樹脂被加工得較薄之部位，相較於樹脂被加工得較厚之部位，有承受較高壓力的傾向。是故，如果在皮帶狀模上的樹脂上層積有中間光學層之狀態下對該樹脂進行壓印，那麼在中間光學層的面內不同部位可能會承受不同應力。因此，如果中間光學層較無法耐受應力時，中間光學層可能會產生裂痕，或是在中間光學層的表面上會因壓印之應力而發生變形等，造成問題。但，如上述般，在壓印後才層積中間光學層，藉此，當中間光學層較無法耐受應力時，便能夠抑制中間光學層產生裂痕，或是在中間光學層的表面上因壓印之應力而發生變形等問題產生。
又，前述中間光學膜片，較佳是包含以平均粒徑5nm~300nm的微粒子作為主成分之微粒子層；在此 情形下，前述微粒子較佳為陶瓷粒子。
像這樣，當中間光學膜片含有微粒子層的情形下，前述微粒子層，可不具有用來接合各個前述陶瓷粒子之黏結劑，互相相鄰之前述陶瓷粒子彼此係互相接觸；或者是，前述微粒子層，可包含：前述陶瓷粒子、將前述陶瓷粒子的表面部位彼此接合之接合樹脂、以及在前述陶瓷粒子彼此之間形成的空隙。微粒子層含有接合樹脂的情形下，前述接合樹脂之玻璃轉移溫度，較佳是比構成前述第1壓印膜片的樹脂之玻璃轉移溫度及構成前述第2壓印膜片的樹脂之玻璃轉移溫度還低。
或者是，前述中間光學膜片包含由樹脂構成之樹脂層，構成前述樹脂層的樹脂之玻璃轉移溫度，較佳是比構成前述第1壓印膜片的樹脂之玻璃轉移溫度及構成前述第2壓印膜片的樹脂之玻璃轉移溫度還低。在此情形下，構成前述樹脂層之樹脂，在上述光學膜片之製造裝置中，於前述層積部，黏度為150000PaS以下較佳；在上述光學膜片之製造方法中，於前述層積工程，黏度為150000PaS以下較佳。
此外，上述光學膜片之製造裝置中，在前述層積部之前述第1壓印膜片及前述第2壓印膜片的溫度，較佳是比在前述第1壓印部被壓印的樹脂之溫度、及在前述第2壓印部被壓印的樹脂之溫度還低。
此外，上述光學膜片之製造方法中，在前述層積工程之前述第1壓印膜片及前述第2壓印膜片的溫度，較佳是 比在前述壓印工程被壓印之前述第1皮帶狀型上的樹脂及前述第2皮帶狀型上的樹脂之溫度還低。
第1壓印膜片及第2壓印膜片於層積時之溫度比壓印時之溫度還低，藉此，能夠進一步抑制壓印出的第1壓印膜片及第2壓印膜片表面扭曲。是故，能夠製造表面扭曲進一步獲得抑制之光學膜片。
此外，上述光學膜片之製造裝置中，較佳是，前述第1皮帶狀模係掛於第1加熱輥而在前述第1加熱輥上受到加熱，且前述第2皮帶狀模係掛於第2加熱輥而在前述第2加熱輥上受到加熱，在前述第1壓印部，自前述第1供應部供應之樹脂，係被受到加熱的第1推壓輥推壓至前述第1加熱輥上之前述第1皮帶狀模，在前述第2壓印部，自前述第2供應部供應之樹脂，係被受到加熱的第2推壓輥推壓至前述第2加熱輥上之前述第2皮帶狀模，在前述層積部，前述第1加熱輥上之前述第1皮帶狀模上的前述第1壓印膜片，以及前述第2加熱輥上之前述第2皮帶狀模上的前述第2壓印膜片，係互相推壓。
像這樣構成光學膜片之製造裝置，藉此，在第1皮帶狀模掛於第1加熱輥的狀態下，第1壓印膜片從第1壓印部移動至層積部，在第2皮帶狀模掛於第2加熱輥的狀態下，第2壓印膜片從第2壓印部移動至層積部。因此，在第1壓印部及第2壓印部，即使當供應之樹脂內產生氣體的情形下，由於各壓印膜片從各壓印部移動至層積部的期間，各皮帶狀模係藉由各加熱輥而持續受到加 熱，藉此，氣體會從各壓印膜片的與各皮帶狀模之相反側放出，故能夠避免殘存氣體導致光學膜片表面扭曲或光學元件變形。
在此情形下，較佳是，前述第1加熱輥的溫度做成比前述第1推壓輥的溫度還低，且前述第2加熱輥的溫度做成比前述第2推壓輥的溫度還低。
此外，上述光學膜片之製造裝置中，較佳是，在前述層積部施加於前述第1壓印膜片與前述第2壓印膜片之壓力，係比在前述第1壓印部施加於前述第1皮帶狀模上的樹脂之壓力、及在前述第2壓印部施加於前述第2皮帶狀模上的樹脂之壓力還來得小；光學膜片之製造方法中，較佳是，在前述層積部施加於前述第1壓印膜片與前述第2壓印膜片之壓力，係比在前述第1壓印部施加於前述第1皮帶狀模上的樹脂之壓力、及在前述第2壓印部施加於前述第2皮帶狀模上的樹脂之壓力還來得小；此外，上述光學膜片之製造裝置中，前述第1壓印部可兼做為前述第1供應部，前述第2壓印部可兼做為前述第2供應部；光學膜片之製造方法中，前述供應工程與前述壓印工程可同時進行。
此外，上述光學膜片之製造裝置中，較佳是，更具備硬化部，在前述第1壓印膜片與前述第2壓印膜片被層積後，使前述第1壓印膜片及前述第2壓印膜片硬化；前述光學膜片之製造方法中，較佳是，在前述層積工程之後，更具備硬化工程，使前述第1壓印膜片與前述 第2壓印膜片硬化。
在層積後，使各個壓印膜片的樹脂硬化，藉此，在皮帶狀模上壓印膜片會硬化收縮，而能夠從皮帶狀模上將壓印膜片適當地剝離。
如上所述，按照本發明，可提供一種抑制表面扭曲，同時能提升生產性的光學膜片之製造裝置、及光學膜片之製造方法。
1、2、3‧‧‧光學膜片之製造裝置
10‧‧‧光學膜片
11‧‧‧第1光學層
11p，12p‧‧‧光學元件
12‧‧‧第2光學層
15‧‧‧中間光學層
15a‧‧‧第1中間光學層
15b‧‧‧第2中間光學層
15c‧‧‧第3中間光學層
51，52‧‧‧冷卻部
60‧‧‧中空粒子
61‧‧‧殼
62‧‧‧空間
63‧‧‧空隙
65、65A、65B‧‧‧接合樹脂
A‧‧‧第1樹脂(膜片)
A’‧‧‧第1壓印膜片
B‧‧‧第2樹脂(膜片)
B’‧‧‧第2壓印膜片
C‧‧‧中間光學膜片
D1‧‧‧第1擠壓模具
D2‧‧‧第2擠壓模具
L1，L2‧‧‧旋轉輥
L3‧‧‧推壓輥
L4‧‧‧工程輥
L5，L6‧‧‧剝離輥
L7‧‧‧推壓輥
P1‧‧‧裝置動作工程
P2‧‧‧樹脂供應工程
P3‧‧‧壓印工程
P4‧‧‧中間供應工程
P5‧‧‧層積工程
P6‧‧‧硬化工程
P7‧‧‧第1剝離工程
P8‧‧‧第2剝離工程
R1~R5‧‧‧旋轉輥
R3’，R6~R8‧‧‧推壓輥
R9‧‧‧工程輥
R10，R11‧‧‧剝離輥
S1‧‧‧第1皮帶狀模
S2‧‧‧第2皮帶狀模
[圖1]第1實施形態中製造出之光學膜片一例示意圖。
[圖2]第1中間光學層之擴大圖，示意當第1中間光學層為功能層時之例子。
[圖3]將中空粒子擴大之圖。
[圖4]第1中間光學層之擴大圖，示意當第1中間光學層為功能層時之另一例子。
[圖5]圖1所示光學膜片之製造裝置示意圖。
[圖6]圖1所示光學膜片之製造方法的工程示意流程圖。
[圖7]本發明第2實施形態光學膜片之製造裝置示意圖。
[圖8]本發明第3實施形態光學膜片之製造裝置示意圖。
以下，參照圖面，詳細說明本發明的光學膜片之製造裝置、及光學膜片之製造方法的良好實施形態。
(第1實施形態) [光學膜片]
圖1為本實施形態中製造出之光學膜片一例示意圖。如圖1所示，本實施形態之光學膜片10，係為具有至少2個光學層之光學膜片。光學膜片10具備：第1光學層11，即一方之面側的光學層；及第2光學層12，即另一方之面側的光學層；及中間光學層15，即介於第1光學層11與第2光學層12之間的光學層；第1光學層11與中間光學層15與第2光學層12係被層積而成為一體。
第1光學層11及第2光學層12，係由光透過性樹脂所構成，在各自的一方之面，具有多數個藉由壓印成型而形成之立體形狀的光學元件11p、12p，另一方之面則形成為平坦狀。形成於第1光學層之光學元件11p與形成於第2光學層12之光學元件12p，彼此可為相同，亦可為相異。圖1所示例子中，光學元件11p與光學元件12p，形狀係彼此相異。該些光學元件11p，12p的種類並 未特別限定，例如有用來將光擴散之稜鏡、用來形成柱狀透鏡之稜鏡、線性稜鏡、折射型透鏡、菲涅爾透鏡、線性菲涅爾透鏡、正交稜鏡、全像用稜鏡等。另，雖未圖示，但第1光學層11及第2光學層12，在各自於圖1中形成光學元件11p、12p側的面，亦可藉由壓印成型而形成為平面狀。
另，所謂光透過性，係指只要可供光透過即可，可為無色透明，亦可著色，亦可為乳白色等。此外，第1光學層11、第2光學層12各自之全光線透過率，當遵照JIS K7105利用A光源來測定時，以30%以上較佳，80%以上更佳。
此外，該些第1光學層11、第2光學層12，彼此可為相同種類之樹脂，亦可為相異種類之樹脂。構成第1光學層11、第2光學層12之樹脂，凡是光透過性樹脂則並未特別限定，例如有丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚烯烴系樹脂、氟系樹脂、環烯系樹脂、矽氧樹脂、聚胺甲酸乙酯系樹脂等，或是它們的組合。此外，從耐候性或透明性等觀點看來，其中又以丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、氯乙烯系樹脂及聚胺甲酸乙酯系樹脂較佳。
中間光學層15具有第1中間光學層15a、第2中間光學層15b、及第3中間光學層15c，在第1中間光學層15a一方之面層積有第2中間光學層15b，在第1中間光學層15a另一方之面一體地層積有第3中間光學層 15c。
第1中間光學層15a例如作為功能層，具有不同於第1光學層11及第2光學層12之光學性質。舉例來說，當第1中間光學層15a相較於第1光學層11、第2光學層12而言折射率較低時，第1中間光學層15a係作為低折射率層之功能層。或者是，當第1中間光學層15a相較於第1光學層11、第2光學層12而言光擴散性較高時，第1中間光學層15a係作為光擴散層之功能層。
當第1中間光學層15a為作為低折射率層之功能層時，第1中間光學層15a例如會做成由低折射率樹脂構成之樹脂層，該樹脂層的玻璃轉移溫度(glass transition temperature)，較佳是比構成第1光學層11(後述第1壓印膜片A’)的樹脂之玻璃轉移溫度及構成第2光學層12(後述第2壓印膜片B’)的樹脂之玻璃轉移溫度還低。在此情形下，構成第1中間光學層之材料，例如可為氟系樹脂等。此外，當第1中間光學層15a為作為低折射率層或光擴散層之功能層時，構成第1中間光學層15a之材料，例如可為在樹脂中散布與該樹脂折射率相異之微粒子者、或微粒子之聚集體(aggregate)等；具體而言，例如可為散布有中空玻璃粒子或中空二氧化矽奈米粒子等陶瓷粒子之微粒子的樹脂、或散布有氣泡之樹脂、或是中空玻璃粒子或中空二氧化矽奈米粒子等陶瓷粒子之微粒子的聚集體。如上所述，當第1中間光學層15a是由散布有中空玻璃粒子或中空二氧化矽奈米粒子等陶瓷粒子 之樹脂、或是由中空玻璃粒子或中空二氧化矽奈米粒子等陶瓷粒子之聚集體所構成時，第1中間光學層15a的體積當中微粒子占了過半數，藉此，第1中間光學層15a會做成以微粒子為主成分之微粒子層。另，上述中，係例舉中空的陶瓷粒子來作為陶瓷粒子，但陶瓷粒子亦可不為中空。
第2中間光學層15b及第3中間光學層15c，例如為用來支撐第1中間光學層15a的層，當第1中間光學層15a為中空二氧化矽奈米粒子的聚集體時，係為用來使其擔持中空二氧化矽奈米粒子的層。構成第2中間光學層15b及第3中間光學層15c之樹脂，凡是光透過性樹脂則並未特別限定，例如有丙烯酸系樹脂、聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚烯烴系樹脂、氟系樹脂、環烯系樹脂、矽氧樹脂、聚胺甲酸乙酯系樹脂等，或是它們的組合。
接著，做成使第1光學層11中被壓印成型的面，與第2光學層12中被壓印成型的面彼此面向相反側，第2中間光學層15b位於第1光學層11側，第3中間光學層15c位於第2光學層12側，而在第1光學層11與第2光學層12之間一體地層積中間光學層15。像這樣，光學膜片10會被做成兩面具有壓印成型的面，而內部具有功能層之光學膜片。
圖2為第1中間光學層15之擴大圖，示意當第1中間光學層15為功能層時之例子。如圖2所示，中 間光學層15係由多數個中空粒子60所構成，且構成為折射率比第1光學層11及第2光學層12還低。
圖3為將中空粒子60擴大之圖。如圖3所示，中空粒子60具備殼61，藉由殼61而形成被殼61包圍之空間62。殼61如同第1光學層11，係由光透過性材料所構成。這類殼61之材料，例如可為與第1光學層11同樣之樹脂，或是二氧化矽或玻璃等無機材料等，其中又以二氧化矽為佳。像這樣，當殼61係由二氧化矽或玻璃等所構成時，微粒子便可說是陶瓷粒子。這類中空粒子60，例如可為日本觸媒公司製商品名EPOSTAR、SEAHOSTAR及SOLIOSTAR、日產化學工業公司製商品名OPTBEADS、根上工業公司製商品名ART-PEARL、大日精化公司製商品名DAIMICBEAZ、GANZ化成公司製商品名GANZ PEARL、積水化成品工業公司製商品名TECHPOLYMER、以及綜研化學公司製商品名CHEMISNOW。此外，作為中空粒子的中空粒子60，更佳為以二氧化矽層被覆二氧化矽微粒子集合成之微粒子集合體以使內部成為中空之中空粒子。這類中空粒子，例如可為日鐵礦業公司製之SILINAX(登錄商標)、及日揮觸媒化成公司製之SURURIA(登錄商標)。另，中空粒子的形狀並未特別限定，可為球狀亦可為不固定形狀。
此外，中空粒子60的平均粒徑並未特別限定，較佳為比射入光學膜片10的光，即在第1光學層11中傳播的光之波長還小。中空粒子60的平均粒徑比在第 1光學層11中傳播的光之波長還小，如此一來能夠抑制第1中間光學層15a中光的漫射，能夠抑制射入光的非預期光射出。又，中空粒子60的平均粒徑，較佳為比射入光學膜片10的光之1/2波長還小，比1/4還小更佳。舉例來說，對光學膜片1射入420nm~800nm的光時，中空粒子60的平均粒徑可為5nm~300nm、較佳可為30~120nm。欲測定該中空粒子60的平均粒徑，可以動態光散射法來測定。
此外，從降低第1中間光學層15a折射率的觀點看來，中空粒子60的平均空隙率愈高愈佳，但從確保中空粒子60強度的觀點看來，以10%~60%為佳。
如圖2所示，第1中間光學層15a中，這類中空粒子60彼此會直接接觸而互相接合(bonding)。亦即，第1中間光學層15a中，於中空粒子60之間並未填充用來接合中空粒子60彼此之黏結劑。該接合推測是因中空粒子60的聚集力而生，特別是當中空粒子由二氧化矽所構成，平均粒徑為30nm~120nm的情形下，推測有很強的接合性。像這樣，於中空粒子60之間並未填充用來接合中空粒子60彼此之黏結劑，中空粒子60彼此係直接接觸而互相接合，故在中空粒子60間會形成空隙63。而第1中間光學層15a，會因為中空粒子60內之空間62以及在中空粒子60彼此間形成之空隙63，而造成折射率下降。
此種構成之第1中間光學層15a的折射率， 較佳是比第1光學層11的折射率及第2光學層12的折射率還小，例如做成1.17~1.37，其與第1光學層11及第2光學層12之相對折射率，係做成0.69~0.92。第1光學層11及第2光學層12，與第1中間光學層15a之相對折射率，做成如此之相對折射率，如此一來，在第1光學層11與第1中間光學層15a之間能使光反射。舉例來說，當第1光學層11及第2光學層12為折射率1.58之聚碳酸酯，而第1中間光學層15a的折射率為1.17~1.37時，第1光學層11及第2光學層12與第1中間光學層15a之相對折射率會成為0.766~0.867。
圖4為第1中間光學層15a之擴大圖，示意當第1中間光學層15a為功能層時之另一例子。亦即，本例所示之第1中間光學層15a，係如圖4所示，其與圖2所示第1中間光學層15a不同之處在於，係由圖3所示多數個中空粒子60及接合樹脂65所構成。
如圖4所示，接合樹脂65係由接合中空粒子60表面部位彼此之接合樹脂65A、及接合第2中間光學層15b及第3中間光學層15c與中空粒子60表面部位彼此之接合樹脂65B，所構成。另，藉由接合樹脂65B接合第3中間光學層15c與中空粒子60之情形示意圖可由圖4輕易類推，故予省略。
藉由該些接合樹脂65A、65B，在中空粒子60彼此之間會形成空隙63。從增大該空隙63體積的觀點看來，中空粒子60表面部位彼此、第2中間光學層15b 與中空粒子60的表面部位彼此、以及第3中間光學層15c與中空粒子60的表面部位彼此，分別處於互相鄰近之位置關係較佳。此外，彼此之中空粒子60各者成為非接觸狀態、第2中間光學層15b與複數個中空粒子60的各者成為非接觸狀態、第3中間光學層15c與複數個中空粒子60各者成為非接觸狀態較佳。
另，接合樹脂65的玻璃轉移溫度，較佳是比構成第1光學層11(後述第1壓印膜片A’)之樹脂的玻璃轉移溫度及構成第2光學層12(後述第2壓印膜片B’)之樹脂的玻璃轉移溫度還低。這類接合樹脂65之材料，係做成具有光透過性者，例如可為丙烯酸樹脂、胺甲酸乙酯樹脂、環氧樹脂、乙烯基醚樹脂、苯乙烯樹脂、矽氧樹脂及矽烷耦合劑等，尤其是丙烯酸樹脂、乙烯基醚樹脂、及矽烷耦合劑的折射率低，故較佳。此外，從降低折射率的觀點看來，接合樹脂65的材料中含有氟較佳。舉例來說有氟化丙烯酸樹脂、氟化乙烯基醚樹脂。
接合樹脂65所使用之矽烷耦合劑並未特別限定。例如可為乙烯基三甲氧基矽烷(Vinyltrimethoxysilane)、乙烯基三乙氧基矽烷(Vinyltriethoxysilane)等之含乙烯基矽烷耦合劑；丙基三甲氧基矽烷(Glycidoxypropyltrimethoxysilane)等之含環氧基矽烷耦合劑；甲基丙烯酸氧丙基三甲氧基矽烷(Methacryloxypropyltrimethoxysilane)、丙烯酸氧丙基三甲氧基矽烷(Acryloyloxypropyltrimethoxysilane)等之含 (甲基)丙烯酸基矽烷耦合劑；異氰酸丙基三乙氧基矽烷(Isocyanatopropyltriethoxysilane)等之含異氰酸鹽基矽烷耦合劑；巰丙基三甲氧基矽烷(Mercaptopropyltrimethoxysilane)等之含巰基矽烷耦合劑；氨丙基三乙氧基矽烷(Aminopropyltriethoxysilane)等之含氨基矽烷耦合劑等。此類矽烷耦合劑，例如有信越SILICONE公司製製品名KBE系列、KBM系列。
又，假設中空粒子60的體積為(A)、中空粒子60彼此之間形成的空隙63體積為(B)、接合樹脂65的體積為(C)時，從能確保低折射率層對外力之耐性，且能降低中間光學層15折射率的觀點看來，比率(A)：(B)：(C)為50~75：10~49：1~40較佳。
接合樹脂65在中空粒子60彼此間所占的合計體積，從增大該中空粒子60彼此之間的空隙63體積的觀點看來，係愈小愈佳。從確保中間光學層15對外力之耐性，且降低中間光學層15折射率的觀點看來，比率(A)：(B)：(C)為55~75：15~44：1~30較佳，60~75：20~39：1~20特佳。
這種由多數個中空粒子60及接合樹脂65所構成之第1中間光學層15a，其折射率係做成比第1光學層11及第2光學層12還低。舉例來說，中間光學層15的折射率做成1.17~1.37，與第1光學層11及第2光學層12之相對折射率做成0.69~0.92。第1光學層11及第2光學層12，與第1中間光學層15a之相對折射率，做成 如此之相對折射率，如此一來，在第1光學層11與第1中間光學層15a之間能適當地使光反射。舉例來說，當第1光學層11及第2光學層12為折射率1.58之聚碳酸酯，而第1中間光學層15a的折射率為1.17~1.37時，第1光學層11及第2光學層12與第1中間光學層15a之相對折射率會成為0.741~0.867。
[製造裝置]
接下來，說明用來製造圖1所示光學膜片10之製造裝置。
圖5為製造圖1所示光學膜片10之製造裝置1示意圖。如圖5所示，製造裝置1的主要構成，係具備：第1旋轉輥R1；第2旋轉輥R2；掛於第1旋轉輥R1及第2旋轉輥R2之第1皮帶狀模S1；在第1皮帶狀模上一面推壓一面供應第1樹脂膜片A之推壓輥R6；一面推壓一面供應中間樹脂膜片C之推壓輥R8；在第1旋轉輥R1上掛有第1皮帶狀模S1的區域的一部分，被第1皮帶狀模S1推壓之第2皮帶狀模S2；掛有第2皮帶狀模S2之複數個第3~第5旋轉輥R3、R4、R5；以及在第2皮帶狀模上一面推壓一面供應第2樹脂膜片B之推壓輥R7。
第1旋轉輥R1呈略圓柱狀形狀，構成為以第1旋轉輥的軸為中心而旋轉。此外，第1旋轉輥R1係構成為表面受到加熱。另，第1旋轉輥R1有時亦作為第1 加熱輥。該加熱之方法，例如可為從第1旋轉輥R1內部加熱之內部加熱法、或是從第1旋轉輥R1外部進行加熱之外部加熱法。內部加熱法情況中，於第1旋轉輥R1內部，會設置藉由介電加熱方式、熱媒介循環方式等而發熱之未圖示發熱手段。此外，外部加熱法情況中，在未掛有第1皮帶狀模S1的區域，從外部加熱第1旋轉輥R1。欲像這樣從外部加熱，可使用熱風噴吹裝置、紅外燈加熱裝置等間接加熱手段。又，以上述內部加熱方式加熱第1旋轉輥R1時，亦可輔助性併用此外部加熱方式。
第2旋轉輥R2呈略圓柱狀形狀，構成為以第2旋轉輥R2的軸為中心而旋轉。又，第2旋轉輥R2係構成為，旋轉以使表面與第1旋轉輥R1的表面速度成為相同圓周速率。
在該種第1旋轉輥R1、第2旋轉輥R2上，如上述般掛有第1皮帶狀模S1。是故，隨著第1旋轉輥R1、第2旋轉輥R2的旋轉，第1皮帶狀模S1會在第1旋轉輥R1、第2旋轉輥R2周圍以規定之進行方向旋動。
又，在第1皮帶狀模S1掛於第1旋轉輥R1之區域中，第1皮帶狀模S1係被第1旋轉輥R1加熱。此時，第1皮帶狀模S1的表面溫度，係如後述般，做成為供應至第1皮帶狀模S1上的第1樹脂膜片A的流動開始溫度以上。該流動開始溫度，係指第1樹脂膜片A被加熱至玻璃轉移溫度以上之溫度而軟化，成為可層積或壓印成形之程度而流動之溫度。
此外，在該第1皮帶狀模S1外周側之面，係連續性地形成多數個成形模，其為光學膜片10的第1光學層11上形成之光學元件11p的成形模。將該光學元件11p的成形模之集合體形成於第1皮帶狀模S1外周側之面的方法，首先是作成用來形成該成形模的母模。該母模之製作方法，例如可為下述方法：藉由飛刀法(fly-cutting)、劃線法(ruling)、鑽石車削法(diamond turning)等手段，在作為母模之金屬表面從複數個方向將溝切削加工出來，而形成光學元件之形狀。將如此作成之母模的光學元件形狀，轉印至第1皮帶狀模S1。像這樣，便在第1皮帶狀模S1的表面形成光學元件11p的成形模。此外，如上述般，在圖1中，若第1光學層11中形成光學元件11p之側的面是形成為平面狀時，則第1皮帶狀模S1外周側的面會形成為平坦狀。在此情形下，第1皮帶狀模S1外周側的面可施以鏡面拋光。
推壓輥R6係做成直徑比第1旋轉輥R1還小之旋轉輥。另，推壓輥R6有時會作為第1推壓輥。此外，推壓輥R6中，在第1皮帶狀模S1掛於第1旋轉輥R1而受到加熱之區域，係與第1皮帶狀模S1的外周面之間相距大略光學膜片10的第1光學層11之厚度，且設置於第1皮帶狀模S1的旋動方向之上游側。具體來說，推壓輥R6係設置成，當掛有作為光學膜片10的第1光學層11之第1樹脂膜片A時，可與第1皮帶狀模S1夾住掛上的第1樹脂膜片A而將其供應至第1皮帶狀模S1上。因 此，推壓輥R6係作為將樹脂供應至第1皮帶狀模S1上之第1供應部。又，推壓輥R6的外周面，係藉由如同加熱第1旋轉輥R1外周面之方法而受到加熱，且溫度做成比第1旋轉輥R1的溫度還高。此外，推壓輥R6係設置成，將藉由第1皮帶狀模S1的第1旋轉輥R1之加熱以及推壓輥R6之加熱而軟化的第1樹脂膜片A，推壓至第1皮帶狀模S1上，壓印第1樹脂膜片A，使第1樹脂膜片A可在第1皮帶狀模S1上形成為第1壓印膜片A’。因此，推壓輥R6亦作為將供應至第1皮帶狀模S1上的樹脂予以壓印之第1壓印部。亦即，本實施形態中，推壓輥R6兼做第1供應部與第1壓印部之用。
推壓輥R8除了加熱程度不如推壓輥R6之外，係做成與推壓輥R6略相同之構成。此外，推壓輥R8係設置成，在第1皮帶狀模S1掛於第1旋轉輥R1之區域，係比推壓輥R6設置之位置還偏向第1皮帶狀模S1進行方向側之位置，且與第1皮帶狀模S1的外周面之間相距大略光學膜片10的第1光學層11及中間光學層15之厚度。具體來說，推壓輥R8係設置成，當掛有作為光學膜片10的中間光學層15之中間樹脂膜片C時，可與在第1皮帶狀模S1上被壓印的第1壓印膜片A’夾住掛上的中間樹脂膜片C而將其供應至第1壓印膜片A’上。是故，推壓輥R8係作為將中間光學膜片C供應至第1壓印膜片A’上之中間供應部。
此外，在推壓輥R8的第1皮帶狀模S1側之 相反側，與推壓輥R8遠離之位置，設置有工程輥R9。工程輥R9係構成為，以中間光學膜片C上貼附有工程膜片D的狀態下供應時，可與推壓輥R8之間夾住該膜片，並剝離工程膜片D。
第3、第4旋轉輥R3、R4，係在第1皮帶狀模S1掛於旋轉輥R1之區域，與第1皮帶狀模S1遠離而設置，第3旋轉輥R3是設置在比推壓輥R8還偏向第1皮帶狀模S1進行方向側之位置、第4旋轉輥R4是設置在比第3旋轉輥R3更偏向第1皮帶狀模S1進行方向側之位置。此外，第5旋轉輥R5係設置於遠離第1皮帶狀模S1之位置。像這樣，第3~第5旋轉輥R3、R4、R5係設置成呈三角形。
如上所述，第3~第5旋轉輥R3、R4、R5上掛有第2皮帶狀模S2。又，第2皮帶狀模S2係在第3~第5旋轉輥R3、R4、R5周圍旋動，且在第3旋轉輥R3與第4旋轉輥R4之間是沿著第1皮帶狀模S1的動作而移動。另，各個旋轉輥R3、R4、R5係構成為可藉由未圖示之油壓缸來調整位置，在第5旋轉輥R5上係施加力以拉扯第2皮帶狀模S2，第2皮帶狀模S2被賦予張力。
此外，設置於第2皮帶狀模S2與第1皮帶狀模S1彼此接近之場所的第3旋轉輥R3，其外周面係藉由如同加熱第1旋轉輥R1外周面之方法而受到加熱。是故，在第2皮帶狀模S2掛於第3旋轉輥R3之區域，第2皮帶狀模S2的表面會受到加熱。另，第3旋轉輥R3的表 面溫度，係做成比第1旋轉輥R1的溫度還高，如後述般，是做成供應至第2皮帶狀模S2上之第2樹脂膜片B的流動開始溫度以上。亦即，第2皮帶狀模S2的表面溫度，係做成為將第2樹脂膜片B加熱至玻璃轉移溫度以上之溫度而軟化以便可達壓印成形程度而流動之溫度以上，且做成不致使第2樹脂膜片B分解之溫度範圍內。另，第3旋轉輥R3有時亦作為第2加熱輥。
像這樣，第2皮帶狀模S2的一部分，係一面受到加熱一面沿著被加熱的第1皮帶狀模S1而旋動，故當分別在第1皮帶狀模S1上及第2皮帶狀模S2上配置樹脂膜片時，該些樹脂膜片會從第1皮帶狀模S1及第2皮帶狀模S2受熱，被第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2夾住而層積。亦即，藉由第1皮帶狀模S1掛於第1旋轉輥R1之區域的一部分，以及藉由第2皮帶狀模S2沿著第1皮帶狀模S1而旋動之區域的至少一部分，來構成層積部。
此外，設置於第2皮帶狀模S2從第1皮帶狀模S1脫離之場所的第4旋轉輥R4，係構成為表面受到冷卻。此一冷卻方法，例如可為從第4旋轉輥R4內部冷卻之內部冷卻方式。將第4旋轉輥R4內部冷卻之冷卻手段，例如可為在第4旋轉輥R4內部使水或冷卻油等冷媒循環以冷卻之循環式冷卻手段。是故，藉由第1旋轉輥R1或第3旋轉輥R3的熱而軟化，且被第1皮帶狀模S1及第2皮帶狀模S2夾住而移動之樹脂，會因第4旋轉輥 R4而至少一部分受到冷卻並硬化。是故，第4旋轉輥R4、以及第2皮帶狀模S2掛於第4旋轉輥R4之區域的一部分，係作為硬化部。
在像這樣掛於第3~第5旋轉輥R3、R4、R5的第2皮帶狀模S2的外周側之面，係連續性地形成多數個成形模，其為光學膜片10的第2光學層12上形成之光學元件12p的成形模。將該光學元件12p的成形模之集合體形成於第2皮帶狀模S2一方的表面上之方法，可如同在第1皮帶狀模外周側之面形成成形模之方法來進行。此外，如上述般，在圖1中，若第2光學層12中形成光學元件12p之側的面是形成為平面狀時，則第2皮帶狀模S2外周側的面會形成為平坦狀。在此情形下，如同第1皮帶狀模S1外周側之面形成為平坦狀之情形般，將第2皮帶狀模S2外周側之面做成平坦狀即可。
推壓輥R7係做成與推壓輥R6略相同之構成，且被加熱至比旋轉輥R3還高之溫度。另，推壓輥R7有時會作為第2推壓輥。此外，推壓輥R7係設置成，在第2皮帶狀模S2掛於第3旋轉輥R3而受到加熱之區域，與第2皮帶狀模S2的外周面之間相距大略光學膜片10的第2光學層12之厚度。具體來說，推壓輥R7係設置成，當掛有作為光學膜片10的第2光學層12之第2樹脂膜片B時，可與第2皮帶狀模S2夾住掛上的第2樹脂膜片B而將其供應至第2皮帶狀模S2上。因此，推壓輥R7係作為將樹脂供應至第2皮帶狀模S2上之第2供應部。此 外，推壓輥R7係設置成，將藉由第2皮帶狀模S2的第3旋轉輥R3之加熱以及推壓輥R7之加熱而軟化的第2樹脂膜片B，推壓至第2皮帶狀模S2上，壓印第2樹脂膜片B，使第2樹脂膜片B可在第2皮帶狀模S2上形成為第2壓印膜片B’。因此，推壓輥R7亦作為將供應至第2皮帶狀模S2上的樹脂予以壓印之第2壓印部。亦即，本實施形態中，推壓輥R7兼做第2供應部與第2壓印部之用。
此外，在從第2皮帶狀模S2與第1皮帶狀模S1脫離之場所至朝第1皮帶狀模S1進行方向移動之場所，作為剝離部的一組剝離輥R10、R11，係設置成夾住第1皮帶狀模S1。具體來說，剝離輥R10是設置成與第1皮帶狀模S1的外周面之間相距光學膜片10的厚度，剝離輥R11是設置成與第1皮帶狀模S1的內周面接觸。
[製造方法]
接下來，說明利用該種光學膜片之製造裝置1進行之光學膜片之製造方法。
圖6為圖1所示光學膜片之製造方法示意流程圖。如圖6所示，本實施形態之光學膜片之製造方法，主要工程係具備：裝置動作工程P1、樹脂供應工程P2、壓印工程P3、中間供應工程P4、層積工程P5、硬化工程P6、第1剝離工程P7、及第2剝離工程P8。
<裝置動作工程P1>
首先，使圖5所示第1、第2旋轉輥R1、R2旋轉。藉由該第1、第2旋轉輥R1、R2之旋轉，第1皮帶狀模S1會在第1旋轉輥R1及第2旋轉輥R2的周圍旋動。另，第1皮帶狀模S1的旋動速度，是視乎構成欲製造之光學膜片10的各光學層厚度或樹脂種類等來適當調整，故並未特別限制，但以1~30m/min較佳，2~20m/min更佳。
此時，第1旋轉輥R1依藉由上述加熱方法而表面受到加熱。像這樣，藉由加熱第1旋轉輥R1表面，第1皮帶狀模S1中掛於第1旋轉輥R1之區域會受到加熱。
此外，使第3~第5旋轉輥旋轉，令第2皮帶狀模S2旋動。此時，在第3旋轉輥R3及第4旋轉輥R4之間，使第2皮帶狀模S2配合第1皮帶狀模S1的旋動而旋動。
又，第3旋轉輥R3依藉由上述加熱方法而表面受到加熱。像這樣，藉由加熱第3旋轉輥R3表面，第2皮帶狀模S2中掛於第3旋轉輥R3之區域會受到加熱。又，設置於第2皮帶狀模S2從第1皮帶狀模S1脫離之場所的第4旋轉輥R4，係受到冷卻。是故，第2皮帶狀模S2中，掛於第4旋轉輥R4之區域會受到冷卻。
像這樣，第2皮帶狀模S2係在受加熱的狀態下接近第1皮帶狀模S1，沿著第1皮帶狀模S1移動，且 在受冷卻的狀態下從第1皮帶狀模S1脫離。
此外，推壓輥R6被加熱至比第1旋轉輥R1還高之溫度，且推壓輥R7被加熱至比第2旋轉輥R3還高之溫度。
<樹脂供應工程P2>
藉由裝置動作工程P1，當第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2旋動，則從未圖示之捲盤送出，且掛於受加熱的推壓輥R6之第1樹脂膜片A，會被夾在推壓輥R6與第1皮帶狀模S1之間，供應至第1皮帶狀模S1上。另，本實施形態中，如上述般，推壓輥R6係設置成在第1皮帶狀模S1受到加熱之區域與第1皮帶狀模S1接近，故第1樹脂膜片A會直接供應至第1皮帶狀模S1上受到加熱之區域。此時，由於第1樹脂膜片A是被推壓輥R6推壓而供應至第1皮帶狀模S1上，故會抑制第1樹脂膜片A產生皺褶，或氣泡等混入。
此外，從未圖示之捲盤送出，且掛於受加熱的推壓輥R7之第2樹脂膜片B，會被夾在推壓輥R7與第2皮帶狀模S2之間，供應至第2皮帶狀模S2上。另，本實施形態中，如上述般，推壓輥R7係設置成在第2皮帶狀模S2受到加熱之區域與第2皮帶狀模S2接近，故第2樹脂膜片B會直接供應至第2皮帶狀模S2上受到加熱之區域。此時，由於第2樹脂膜片B是被推壓輥R7推壓而供應至第2皮帶狀模S2上，故會抑制第2樹脂膜片B產 生皺褶，或氣泡等混入。
像這樣，在朝圓周方向旋動之第1皮帶狀模S1上、及朝圓周方向旋動之第2皮帶狀模S2上，分別供應樹脂。
<壓印工程P3>
供應至被推壓輥R6加熱的第1皮帶狀模S1上之第1樹脂膜片A，在供應後會立即因第1皮帶狀模S1的熱而受到加熱，被加熱至第1樹脂膜片A的流動開始溫度以上而軟化。接著，軟化後之第1樹脂膜片A，會藉由來自推壓輥R6的推壓力，被壓印至第1皮帶狀模S1上。另，推壓輥R6的推壓力，依與構成第1樹脂膜片A的樹脂種類或黏度、第1皮帶狀模S1形狀等有關，並適當設定。像這樣，被壓印至第1皮帶狀模S1上的第1樹脂膜片A，會被做成第1壓印膜片A’，藉由第1皮帶狀模S1的旋動而移動。
此外，供應至被推壓輥R7加熱的第2皮帶狀模S2上之第2樹脂膜片B，在供應後會立即因第2皮帶狀模S2的熱而受到加熱，被加熱至第2樹脂膜片B的流動開始溫度以上而軟化。軟化後之第2樹脂膜片B的黏度，例如做成如同在第1皮帶狀模S1上軟化之第1樹脂膜片A的黏度。接著，軟化後之第2樹脂膜片B，會藉由來自推壓輥R7的推壓力，被壓印至第2皮帶狀模S2上。另，推壓輥R2的推壓力，係與構成第2樹脂膜片B的樹 脂種類、第2皮帶狀模S2形狀等有關，並未特別限定，但例如可設成與推壓輥R6的推壓力相同。像這樣，被壓印至第2皮帶狀模S2上的第2樹脂膜片B，會被做成第2壓印膜片B’，藉由第2皮帶狀模S2的旋動而移動。
另，本實施形態中，第1樹脂膜片A是供應至第1皮帶狀模S1上同時被壓印，第2樹脂膜片B是供應至第2皮帶狀模S2上同時被壓印。亦即，本實施形態中，樹脂供應工程P2與壓印工程P3係同時進行。
<中間供應工程P4>
本實施形態之中間光學膜片C，係為用作圖1所示光學膜片10的中間光學層15之膜片。具體來說，例如為，在作為由上述中空二氧化矽奈米粒子的聚集體所構成之功能層之第1中間光學層15a的兩方之面，分別一體地層積作為中空二氧化矽奈米粒子的擔持層之第2中間光學層15b與第3中間光學層15c而成之膜片。這樣的中間光學膜片C，係在第2中間光學層15b上貼附有工程膜片D的狀態下，捲繞在未圖示之捲盤上。接著，中間光學膜片C與工程膜片D係從該捲盤送出而掛於工程輥R9。接著，所供應之中間光學膜片C及工程膜片D當中，僅有中間光學膜片C會掛於推壓輥R8上，工程膜片D會從中間光學膜片剝離，再從工程輥R9上回收。此時，中間光學膜片C會以第3中間光學層15c側之面面向推壓輥R8側，而掛於推壓輥R8。掛於推壓輥R8之中間光學膜片C，會 被夾在推壓輥R8以及隨第1皮帶狀模S1一起移動的第1壓印膜片A’之間，而供應至第1壓印膜片A’上。此時，由於作為黏著層的第2中間光學層15b係面向第1壓印膜片A’側，故中間光學膜片C會貼附在第1壓印膜片A’上，而防止在第1壓印膜片A’上偏位。接著，第1皮帶狀模S1上的第1壓印膜片A’及第1壓印膜片上的中間光學膜片C，會藉由第1皮帶狀模S1的旋動而繼續移動。
<層積工程P5>
移動後之第1壓印膜片A’及中間光學膜片C的層積體，以及第2壓印膜片B’，會隨著第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2的接近而互相接近，其後被第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2夾住，而互相壓接。接著，藉由第1皮帶狀模S1及第2皮帶狀模S2的熱，中間光學層C與第2壓印膜片B’會層積。像這樣，第1壓印膜片A’及第2壓印膜片B’，會隔著中間光學膜片C而一體地層積。此時，施加於第1壓印膜片A’與第2壓印膜片B’之壓力，較佳是比在第1壓印部施於第1皮帶狀模S1上的樹脂之壓力、及在第2壓印部施於第2皮帶狀模S2上的樹脂之壓力還來得小。另，由於作為第1加熱輥的第1旋轉輥R1之溫度比作為第1推壓輥的推壓輥R6還低、作為第2加熱輥的第3旋轉輥R3之溫度比作為第2推壓輥的推壓輥R7還低，故在此時間點，第1壓印膜片A’、第2壓印膜片B’之溫度，會比壓印時的樹脂溫度還低，但至少第1 壓印膜片A’及第2壓印膜片B’仍維持在軟化的狀態，並未硬化。此外，該層積工程中，構成中間光學膜片之樹脂的黏度，較佳為在150000PaS以下。
<硬化工程P6>
被第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2夾住並層積之第1壓印膜片A’、中間光學膜片C、第2壓印膜片B’，會藉由第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2的旋動而繼續移動。接著，在第2皮帶狀模S2的第3旋轉輥R3與第4旋轉輥R4之間的區域，第2皮帶狀模S2的溫度會開始下降，隨著該第2皮帶狀模S2的溫度降低，第2壓印膜片B’側的溫度會開始逐漸下降，層積之第1壓印膜片A’、中間光學膜片C、第2壓印膜片B’，會從第2壓印膜片B’側開始硬化。又，當層積之第1壓印膜片A’、中間光學膜片C、第2壓印膜片B’移動，接近至第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2脫離之場所時，如上述般，由於第2皮帶狀模S2掛於第4旋轉輥R4之區域，會因第4旋轉輥R4而受到冷卻，故層積之第1壓印膜片A’、中間光學膜片C、第2壓印膜片B’，會從第2壓印膜片B’側冷卻而進一步硬化。
<第1剝離工程P7>
接著，第2皮帶狀模S2會像被推壓輥R5捲繞般，改變方向而從第1皮帶狀模S1脫離。此時，層積之第1壓 印膜片A’、中間光學膜片C、第2壓印膜片B’，會與第1皮帶狀模S1的表面密合，而從第2皮帶狀模S2剝離。此時，藉由作為硬化部的第4旋轉輥R4等，第2壓印膜片B’的至少表面側會硬化。是故，第2壓印膜片B’會適當地從第2皮帶狀模S2剝離。接著，繼續移動之後，第1皮帶狀模S1會遠離旋轉輥R1，第1皮帶狀模S1的溫度隨之下降。當第1皮帶狀模S1的溫度下降，層積之第1壓印膜片A’、中間光學膜片C、第2壓印膜片B’，也會從第1壓印膜片A’側冷卻，而從第1壓印膜片A’側進一步硬化。像這樣，硬化工程P6是接在層積工程P5之後，而在第1剝離工程P7的前後持續地進行。此外，如上述般，雖然將第4旋轉輥作為硬化部，但在第3旋轉輥R3與第4旋轉輥R4之間的第2皮帶狀模S2、或是與第1旋轉輥R1脫離後的第1皮帶狀模S1，也能視為是硬化部。
<第2剝離工程P8>
接著，伴隨第1皮帶狀模S1的旋動而移動之層積之第1壓印膜片A’、中間光學膜片C、第2壓印膜片B’，會被剝離輥R10以及隔著皮帶狀模S1的剝離輥R11夾住。接著，層積之第1壓印膜片A’、中間光學膜片C、第2壓印膜片B’，會像被剝離輥R10捲繞般，改變其方向而從第1皮帶狀模S1剝離。此時，藉由作為硬化部之，從第1旋轉輥R1脫離後的第1皮帶狀模S1，第1壓印膜片A’的至少表面側會硬化。是故，第1壓印膜片A’會適當 地從第1皮帶狀模S1剝離。像這樣，便會得到第1壓印膜片A成為第1光學層11、第2壓印膜片B成為第2光學層12、中間光學膜片C成為中間光學層15之光學膜片10。接著，光學膜片10會被未圖示之捲盤捲繞。
如以上說明般，按照本實施形態的光學膜片10之製造裝置1及製造方法，分別將供應至第1皮帶狀模S1上之第1樹脂膜片A、及供應至第2皮帶狀模上之第2樹脂膜片B加以壓印，並於第1壓印膜片A’上供應中間光學膜片C後，藉由第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2，將第1壓印膜片A’與中間光學膜片C與第2壓印膜片B’包夾而層積。像這樣，由於是在壓印出第1、第2壓印膜片A’、B’的表面形狀後，第1壓印膜片A’與中間光學膜片C與第2壓印膜片B’才被層積，故各個壓印膜片A’、B’壓印所需之能量供應、以及第1壓印膜片A’與中間光學膜片C與第2壓印膜片B’層積所需之能量供應，便能夠分散。此外，由於進行壓印工程後才進行層積工程，故相較於同時進行壓印及層積之情形，能夠減小進行壓印時的樹脂全體層厚。因此，即使在壓印時於樹脂內產生氣體，按照本實施形態的光學膜片之製造裝置、製造方法，相較於同時進行壓印及層積之情形，該氣體更容易逃逸。是故，相較於同時進行壓印各個壓印膜片A’、B’及層積各個壓印膜片A’、B’之情形，能夠抑制生產出之光學膜片10的表面扭曲。
此外，即使在為了提升生產性而以高速製造 光學膜片10的情形下，藉由分散施加於第1、第2壓印膜片A’、B’的能量，能夠抑制各個壓印膜片A’、B’的表面扭曲，故能夠提升光學膜片10的生產性。
又，各個壓印膜片A’、B’從壓印至層積為止，並未離開各個皮帶狀模S1、S2，故能夠防止壓印出的各個壓印膜片表面形狀在層積時扭曲。
另，本實施形態中，推壓輥R6、R7、R8既可加熱亦可不加熱，但較佳為加熱至比第1旋轉輥R1或第3旋轉輥R3還低的溫度。又，從更適當地將光學膜片10從第1皮帶狀模S1上剝離的觀點看來，剝離輥R10、R11受到冷卻較佳。
此外，本實施形態中，推壓輥R6係構成為兼做第1供應部與第1壓印部，但亦可個別設置第1供應部與第1壓印部。在此情形下，例如亦可在第1皮帶狀模S1掛於第2旋轉輥R2之區域中，使另外一個與推壓輥R6相同構成的供應輥接近第1皮帶狀模S1來設置，而第1樹脂膜片A係被該另外設置的供應輥與第1皮帶狀模S1夾住，並供應至第1皮帶狀模S1上。在此情形下，另外設置的供應輥便成為第1供應部。接著，藉由第1皮帶狀模S1的旋動，第1樹脂膜片A會移動至推壓輥R6，被推壓輥R6推壓至第1皮帶狀模S1而壓印。在此情形下，推壓輥R6便成為第1壓印部。
同樣地，本實施形態中，推壓輥R7係構成為兼做第2供應部與第2壓印部，但亦可個別設置第2供應 部與第2壓印部。在此情形下，例如亦可在第2皮帶狀模S2掛於第5旋轉輥R5之區域中，使另外一個與推壓輥R7相同構成的供應輥接近第2皮帶狀模S2來設置，而第2樹脂膜片B係被該另外設置的供應輥與第2皮帶狀模S2夾住，並供應至第2皮帶狀模S2上。在此情形下，另外設置的供應輥便成為第2供應部。接著，藉由第2皮帶狀模S2的旋動，第2樹脂膜片B會移動至推壓輥R7，被推壓輥R7推壓至第2皮帶狀模S2而壓印。在此情形下，推壓輥R7便成為第2壓印部。
此外，上述實施形態中，從第1旋轉輥R1至剝離輥R11、R10，亦可設置冷卻部，以冷卻在第1皮帶狀模S1上層積之第1壓印膜片A’、中間光學膜片C、第2壓印膜片B’。在此情形下，該冷卻部係至少使第1壓印膜片A’硬化，故作為硬化部。藉由設置這樣的硬化部，能夠更適當地將第1壓印膜片A’從第1皮帶狀模S1上剝離。
此外，亦可使第1旋轉輥R1具有熱分布(heat distribution)。具體來說，可使在作為層積部的第1皮帶狀模S1及第2皮帶狀模S2沿著彼此旋動之區域中的第1旋轉輥R1溫度，比作為第1壓印部的推壓輥R6的附近之第1旋轉輥R1溫度還低。同樣地，亦可使第3旋轉輥R3具有熱分布。具體來說，可使在第1皮帶狀模S1及第2皮帶狀模S2沿著彼此旋動之區域中的第3旋轉輥R3溫度，比作為第2壓印部的推壓輥R7的附近之第3 旋轉輥R3溫度還低。如此一來，第1壓印膜片A’及第2壓印膜片B’在層積時之溫度，便會比壓印時之溫度還低。是故，能夠進一步抑制壓印出的第1壓印膜片A’及第2壓印膜片B’的表面扭曲。是故，能夠製造表面扭曲進一步獲得抑制之光學膜片10。
此外，亦可預先加熱供應至第1皮帶狀模S1上、第2皮帶狀模S2上之樹脂膜片，在此情形下，只有具有將供應前之樹脂膜片加以預熱之手段便可。
(第2實施形態)
接下來，參照圖7，詳細說明本發明之第2實施形態。另，本實施形態中製造出的光學膜片，係與第1實施形態中製造出的光學膜片10為同樣之光學膜片。是故，有關光學膜片之說明予以省略。
[製造裝置]
圖7為本發明第2實施形態光學膜片之製造裝置2示意圖。如圖7所示，製造裝置2主要構成係具備：左側第1旋轉輥L1；左側第2旋轉輥L2；掛於左側第1旋轉輥L1及左側第2旋轉輥L2之第1皮帶狀模S1；在第1皮帶狀模S1掛於左側第1旋轉輥L1之區域，將第1樹脂A一面推壓一面供應至第1皮帶狀模S1上之第1擠壓模具(Extrusion Die)D1；將中間樹脂膜片C一面推壓一面供應至第1皮帶狀模S1上之推壓輥L3；右側第1旋轉輥 R1；右側第2旋轉輥R2；掛於右側第1旋轉輥R1及右側第2旋轉輥R2之第2皮帶狀模S2；以及在第2皮帶狀模S2掛於左側第1旋轉輥R1之區域，將第2樹脂B一面推壓一面供應至第2皮帶狀模S2上之第2擠壓模具D2。
左側第1旋轉輥L1及左側第2旋轉輥L2，係做成與第1實施形態之第1旋轉輥R1相同構成，左側第1旋轉輥L1及左側第2旋轉輥L2皆受到加熱。但，左側第2旋轉輥L2的溫度及左側第1旋轉輥L1的溫度，係視乎供應至第1皮帶狀模S1上之樹脂種類等而適當訂定，未必要彼此相同。
掛於左側第1旋轉輥L1及左側第2旋轉輥L2之皮帶狀模S1，係做成與第1實施形態之皮帶狀模S1相同構成，藉由左側第1旋轉輥L1及左側第2旋轉輥L2的旋轉，而在左側第1旋轉輥L1及左側第2旋轉輥L2的周圍旋動。
第1擠壓模具D1，係做成將軟化狀態的第1樹脂A擠出之構成。第1擠壓模具D1，在第1皮帶狀模S1掛於左側第1旋轉輥L1之區域，係與第1皮帶狀模S1的外周面之間相距大略光學膜片10的第1光學層11之厚度，且設置於將擠出之第1樹脂A供應至第1皮帶狀模S1上之位置。亦即，第1擠壓模具D1係作為將樹脂供應至第1皮帶狀模S1上之第1供應部。作為第1擠壓模具D1，例如可為安裝於單軸式擠壓成形機之衣架型(coat-hanger type)擠壓模具。此外，亦可視乎欲擠壓的第1樹 脂A之特性，而併用真空排氣(vacuum venting)、齒輪泵供應裝置等。此外，第1擠壓模具D1係構成為，以很強的壓力將軟化狀態之第1樹脂A擠出，藉此將第1樹脂A澆鑄於第1皮帶狀模S1上並壓印，而能夠做成第1壓印膜片A’。因此，第1擠壓模具D1亦作為將供應至第1皮帶狀模S1上的樹脂予以壓印之第1壓印部。亦即，本實施形態中，第1擠壓模具D1兼做第1供應部與第1壓印部之用。另，從防止皺褶或氣泡混入澆鑄之第1樹脂A的觀點看來，較佳是使第1擠壓模具D1與第1皮帶狀模S1之間的間隔接近至0.05~1mm程度。
推壓輥L3係做成與第1實施形態之推壓輥R8相同構成。此外，推壓輥L3係設置成，在第1皮帶狀模S1掛於左側第2旋轉輥L2之區域，係設置於第1皮帶狀模S1的旋動方向上游側，且與第1皮帶狀模S1的外周面之間相距大略光學膜片10的第1光學層11及中間光學層15之厚度。具體來說，推壓輥L3係設置成，當掛有作為光學膜片10的中間光學層15之中間樹脂膜片C時，可與在第1皮帶狀模S1上被壓印的第1壓印膜片A’夾住掛上的中間樹脂膜片C而將其供應至第1壓印膜片A’上。是故，推壓輥R8係作為將中間光學膜片C供應至第1壓印膜片A’上之中間供應部。
此外，在推壓輥L3的第1皮帶狀模S1側之相反側，與推壓輥L3隔離之位置，設置有工程輥L4。工程輥L4係構成為，以中間光學膜片C上貼附有工程膜片 D的狀態下供應時，可與推壓輥L3之間夾住該膜片，並剝離工程膜片D。
右側第1旋轉輥R1，除與左側第1旋轉輥L1呈反向旋轉以外，係做成與左側第1旋轉輥L1相同構成。此外，右側第2旋轉輥R2，除與左側第2旋轉輥L2呈反向旋轉以外，係做成與左側第2旋轉輥L2相同構成。
此外，掛於右側第1旋轉輥R1及右側第2旋轉輥R2之第2皮帶狀模S2，除了在外周面側連續性地形成多數個成形模以外，係做成與第1皮帶狀模S1相同構成；而該成形模是光學膜片10的第2光學層12上形成之光學元件12p的成形模。又，第2皮帶狀模S2會藉由右側第1旋轉輥R1及右側第2旋轉輥R2之旋轉，而在右側第1旋轉輥R1及右側第2旋轉輥R2的周圍旋動。
第2擠壓模具D2，係做成為與第1擠壓模具D1相同，且將軟化狀態的第2樹脂B擠出之構成。第2擠壓模具D2，在第2皮帶狀模S2掛於右側第1旋轉輥R1之區域，係與第2皮帶狀模S2的外周面之間相距大略光學膜片10的第2光學層12之厚度，且設置於將擠出之第2樹脂B供應至第2皮帶狀模S2上之位置。亦即，第2擠壓模具D2係作為將樹脂供應至第2皮帶狀模S2上之第2供應部。此外，第2擠壓模具D2係構成為，以很強的壓力將軟化狀態之第2樹脂B擠出，藉此將第2樹脂B澆鑄於第2皮帶狀模S2上並壓印，而能夠做成第2壓印 膜片B’。因此，第2擠壓模具D2亦作為將供應至第2皮帶狀模S2上的樹脂予以壓印之第2壓印部。亦即，本實施形態中，第2擠壓模具D2兼做第2供應部與第2壓印部之用。另，從防止皺褶或氣泡混入澆鑄之第1樹脂A的觀點看來，較佳是使第2擠壓模具D2與第2皮帶狀模S2之間的間隔接近至0.05~1mm程度。
另，本實施形態中，如圖7所示，由左側第1旋轉輥L1、左側第2旋轉輥L2、第1皮帶狀模S1、第1擠壓模具D1所構成之系統、以及由右側第2旋轉輥R1、右側第2旋轉輥R2、第2皮帶狀模S2、第2擠壓模具D2所構成之系統，係做成略左右對稱之構成。此外，第1皮帶狀模S1中掛於左側第2旋轉輥L2之區域、以及第2皮帶狀模S2中掛於右側第2旋轉輥R2之區域，係相距大略光學膜片10的厚度而彼此相向。又，由於第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2彼此係朝相反方向旋動，故在第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2最接近的部分，第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2會朝相同方向行進。
如上所述，由於左側第2旋轉輥L2及右側第2旋轉輥R2係受到加熱，故當在第1旋轉皮帶S1上及第2皮帶狀模S2上分別配置樹脂膜片的情形下，該些樹脂膜片會從第1皮帶狀模S1及第2皮帶狀模S2受熱，而在第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2最接近之部分，會被第1皮帶狀模S1及第2皮帶狀模S2夾住而層積。亦即，藉由第1皮帶狀模S1掛於左側第2旋轉輥L2之區域的一 部分，以及藉由第2皮帶狀模S2掛於右側第2旋轉輥R2之區域的一部分，來構成層積部。
此外，在從第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2相向之部分繼續朝第1皮帶狀模S1的進行方向移動之場所，係設置有冷卻部51、52，冷卻第1皮帶狀模S1上之樹脂。冷卻部51設置於第1皮帶狀模S1的內周側，冷卻部52設置於第1皮帶狀模S2的外周側。被冷卻部51、52冷卻之第1皮帶狀模S1上的樹脂會硬化，故冷卻部51、52係作為硬化部。
此外，在從冷卻部51、52繼續朝第1皮帶狀模S1進行方向移動之場所，作為剝離部的一組剝離輥L5、L6，係設置成夾住第1皮帶狀模S1。具體來說，剝離輥L5是設置成與第1皮帶狀模S1的外周面之間相距光學膜片10的厚度，剝離輥L6是設置成與第1皮帶狀模S1的內周面接觸。
[製造方法]
接下來，說明利用該種光學膜片之製造裝置2進行之光學膜片之製造方法。
藉由本實施形態的光學膜片之製造裝置2而進行之光學膜片10之製造方法中，與第1實施形態的光學膜片之製造方法相異之處在於，第1剝離工程P7係比硬化工程P6還先進行。
<裝置動作工程P1>
首先，使圖7所示之左側第1旋轉輥L1、左側第2旋轉輥L2、右側第1旋轉輥R1、右側第2旋轉輥R2旋轉。藉由該些旋轉輥的旋轉，第1皮帶狀模S1會在左側第1旋轉輥L1及左側第2旋轉輥L2的周圍旋動，且第2皮帶狀模S2會在右側第1旋轉輥R1及右側第2旋轉輥R2的周圍旋動。又，如上述般，第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2的旋動方向係彼此相反，在第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2最接近的部分，第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2會彼此朝相同方向行進。此外，各個皮帶狀模的旋動速度，是視乎構成欲製造之光學膜片10的各光學層厚度或樹脂種類等來適當調整，故並未特別限制，但以1~30m/min較佳，2~20m/min更佳。
此時，左側第1旋轉輥L1、左側第2旋轉輥L2、右側第1旋轉輥R1、右側第2旋轉輥R2係分別受到加熱，故第1皮帶狀模S1掛於左側第1旋轉輥L1及左側第2旋轉輥L2之區域會受到加熱，又，第2皮帶狀模S2掛於右側第1旋轉輥R1及右側第2旋轉輥R2之區域會受到加熱。另，本實施形態中，左側第2旋轉輥L2，以比左側第1旋轉輥L1還低的溫度加熱較佳。此外，右側第2旋轉輥R2，以比右側第1旋轉輥R1還低的溫度加熱較佳。
<樹脂供應工程P2>
當藉由裝置動作工程P1而第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2旋動時，軟化之第1樹脂A會從第1擠壓模具D1供應至第1皮帶狀模S1上，且軟化之第2樹脂B會從第2擠壓模具D2供應至第2皮帶狀模S2上。另，本實施形態中，第1樹脂A供應至第1皮帶狀模S1上之場所，及第2樹脂B供應至第2皮帶狀模S2上之場所，係如上述般受到加熱，故第1樹脂A、第2樹脂B會分別直接供應至受加熱之場所。另，所供應之第1樹脂A及第2樹脂B的黏度，較佳為50~10000PaS，而以300~3000PaS為佳。
<壓印工程P3>
供應至第1皮帶狀模S1上之第1樹脂A，在供應後會立即因來自第1擠壓模具D1的推壓力，而壓印至第1皮帶狀模S1上；供應至第2皮帶狀模S2上之第2樹脂B，在供應後會立即因來自第2擠壓模具D2的推壓力，而壓印至第2皮帶狀模S2上。另，第1、第2擠壓模具D1、D2之推壓力，係與構成第1樹脂A、第2樹脂B之樹脂種類或黏度、第1皮帶狀模S1、第2皮帶狀模S2形狀等有關，並適當設定。像這樣壓印至第1皮帶狀模S1上之第1樹脂A，係作成第1壓印膜片A’，藉由第1皮帶狀模S1的旋動而移動；壓印至第2皮帶狀模S2上之第2樹脂B，係做成第2壓印膜片B’，藉由第2皮帶狀模S2的旋動而移動。
另，本實施形態中，第1樹脂A是供應至第1皮帶狀模S1上同時被壓印，第2樹脂B是供應至第2皮帶狀模S2上同時被壓印。亦即，本實施形態中，樹脂供應工程P2與壓印工程P3係同時進行。
<中間供應工程P4>
本實施形態之中間光學膜片C，係做成與第1實施形態之中間光學膜片C相同，與第1實施形態之中間光學膜片C同樣地捲繞於未圖示之捲盤。接著，本實施形態之中間光學膜片C，如同第1中間光學膜片C被送出並掛於工程輥R9般，會被送出並掛於工程輥L4。接著，所供應之中間光學膜片C及工程膜片D當中，僅有中間光學膜片C會掛於推壓輥L3上，工程膜片D會從中間光學膜片C剝離，再從工程輥L4上回收。此外，中間光學膜片C會以第3中間光學層15c側之面面向推壓輥L3側，而掛於推壓輥L3。掛於推壓輥L3之中間光學膜片C，會被夾在推壓輥L3以及隨第1皮帶狀模S1一起移動的第1壓印膜片A’之間，而供應至第1壓印膜片A’上。此時，由於作為黏著層的第2中間光學層15b係面向第1壓印膜片A’側，故中間光學膜片C會貼附在第1壓印膜片A’上，而防止在第1壓印膜片A’上偏位。接著，如同第1實施形態般，第1皮帶狀模S1上的第1壓印膜片A’及第1壓印膜片上的中間光學膜片C，會藉由第1皮帶狀模S1的旋動而繼續移動。
<層積工程P5>
移動後之第1壓印膜片A’及中間光學膜片C的層積體，以及第2壓印膜片B’，會隨著第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2的接近而接近，其後被第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2夾住，而互相壓接。接著，藉由第1皮帶狀模S1及第2皮帶狀模S2的熱，中間光學層C與第2壓印膜片B’會一體地層積。像這樣，第1壓印膜片A’及第2壓印膜片B’，會隔著中間光學膜片C而一體地層積。此時，如上述般，當左側第2旋轉輥L2是以比左側第1旋轉輥L1還低的溫度受到加熱，而右側第2旋轉輥R2是以比右側第1旋轉輥R1還低的溫度受到加熱之情形下，第1壓印膜片A’及第2壓印膜片B’於層積時之溫度，會比壓印時之溫度還低。是故，能夠進一步抑制壓印出的第1壓印膜片A’及第2壓印膜片B’的表面扭曲。此外，從進一步抑制第1壓印膜片A’及第2壓印膜片B’表面扭曲的觀點看來，施加於第1壓印膜片A’與第2壓印膜片B’之壓力，較佳是比在第1壓印部施於第1皮帶狀模S1上的樹脂之壓力、及在第2壓印部施於第2皮帶狀模S2上的樹脂之壓力還來得小。如此一來，能夠製造表面扭曲進一步獲得抑制之光學膜片10。
<第1剝離工程P7>
第1壓印膜片A’及中間壓印膜片C及第2壓印膜片 B’層積後，第2皮帶狀模S2立即從第1皮帶狀模S1脫離，第2壓印膜片B’從第2皮帶狀模S2剝離。另，為使第2壓印膜片B’從第2皮帶狀模S2剝離，較佳是右側第2旋轉輥R2的溫度係做成比左側第2旋轉輥L2的溫度還低，在第1皮帶狀模S1與第2皮帶狀模S2相向之部分，第2皮帶狀模S2比第1皮帶狀模S1的溫度還低。
<硬化工程P5>
當第2壓印膜片B’從第2皮帶狀模S2剝離，層積之第1壓印膜片A’、中間光學膜片C、第2壓印膜片B’，會從第2壓印膜片B’側開始逐漸降低溫度，而從第2壓印膜片B’側開始硬化。接著，第1皮帶狀模S1繼續移動之後，第1皮帶狀模S1會遠離旋轉輥R1，第1皮帶狀模S1的溫度隨之下降。當第1皮帶狀模S1的溫度下降，層積之第1壓印膜片A’、中間光學膜片C、第2壓印膜片B’，也會從第1壓印膜片A’側冷卻，而從第1壓印膜片A’側進一步硬化。又，當第1皮帶狀模S1通過冷卻部51、52之間時，層積之第1壓印膜片A’、中間光學膜片C、第2壓印膜片B’會進一步受到冷卻，而更加硬化。另，本實施形態中，至少可將從第1旋轉輥R1脫離後之第1皮帶狀模S1視為硬化部。
<第2剝離工程P8>
接著，伴隨第1皮帶狀模S1的旋動而移動之層積之 第1壓印膜片A’、中間光學膜片C、第2壓印膜片B’，會被剝離輥L5以及隔著皮帶狀模S1的剝離輥L6夾住。接著，層積之第1壓印膜片A’、中間光學膜片C、第2壓印膜片B’，會像被剝離輥L5捲繞般，改變其方向而從第1皮帶狀模S1剝離。像這樣，便會得到第1壓印膜片A成為第1光學層11、第2壓印膜片B成為第2光學層12、中間光學膜片C成為中間光學層15之光學膜片10。接著，光學膜片10會被未圖示之捲盤捲繞。
如以上說明般，按照本實施形態的光學膜片10之製造裝置1及製造方法，第1、第2樹脂A、B係在軟化狀態下供應且同時被壓印，故藉由控制第1、第2擠壓模具D1、D2供應之第1、第2樹脂A、B的溫度，便能以最佳狀態壓印第1、第2樹脂A、B。
此外，由於第1、第2擠壓模具D1、D2係將第1、第2樹脂A、B以軟化狀態供應，故相較於第1實施形態般樹脂未軟化而供應之情形，能夠降低左側第1旋轉輥L1及右側第1旋轉輥R1的設定溫度，而能夠第1、第2皮帶狀模S1、S2的耐久性。此外，由於第1、第2樹脂A、B是以軟化狀態供應，故能夠提升加工速度，而能進一步提升生產性。
另，本實施形態中，推壓輥L3既可加熱亦可不加熱，但較佳為加熱至比左側第2旋轉輥L2還低的溫度。又，從更適當地將光學膜片10從第1皮帶狀模S1上剝離的觀點看來，剝離輥R10、R11受到冷卻較佳。
此外，本實施形態中，第1擠壓模具D1係構成為兼做第1供應部與第1壓印部，但亦可個別設置第1供應部與第1壓印部。在此情形下，例如，減弱第1擠壓模具D1的推壓力，而在第1皮帶狀模S1掛於左側第1旋轉輥L1之區域中比第1擠壓模具D1還下游側，另外設置一個與第1皮帶狀模S1鄰近，且與第1實施形態之推壓輥R6相同構成的推壓輥。接著，可使供應至第1皮帶狀模S1上的第1樹脂A，被該另外設置之推壓輥及第1皮帶狀模夾住，而壓印至第1皮帶狀模上。在此情形下，第1擠壓模具D1會成為第1供應部，另外設置之推壓輥則成為第1壓印部。
同樣地，第2擠壓模具D2係構成為兼做第2供應部與第2壓印部，但亦可個別設置第2供應部與第2壓印部。在此情形下，例如，減弱第2擠壓模具D2的推壓力，而在第2皮帶狀模S2掛於右側第1旋轉輥R1之部分中比第2擠壓模具D2還下游側，另外設置一個與第2皮帶狀模S2鄰近，且與第1實施形態之推壓輥R7相同構成的推壓輥。接著，可使供應至第2皮帶狀模S2上的第2樹脂B，被該另外設置之推壓輥及第2皮帶狀模夾住，而壓印至第2皮帶狀模上。在此情形下，第2擠壓模具D2會成為第2供應部，另外設置之推壓輥則成為第2壓印部。
此外，上述實施形態中，亦可設置塗布噴頭等溶液澆鑄裝置，來取代第1擠壓模具D1及第2擠壓模 具D2。在此情形下，供應至第1皮帶狀模S1上或第2皮帶狀模S2上之樹脂，可為樹脂溶液或樹脂分散溶液。此外，在此情形下，所供應之樹脂，在壓印前或層積前，可藉由乾燥或紫外線硬化等，將其增黏至成為膜片狀程度。
(第3實施形態)
接下來，參照圖8，詳細說明本發明之第3實施形態。另，遇有與第2實施形態同一或同等之構成要素，則標記同一參照符號，並省略重複說明。另，本實施形態中同樣地，製造出的光學膜片，係與第1實施形態中製造出的圖1所示光學膜片10為同樣之光學膜片。
[製造裝置]
圖8為本發明第3實施形態光學膜片之製造裝置示意圖。如圖8所示，本實施形態的光學膜片之製造裝置3中，與第1實施形態之推壓輥R6相同的推壓輥L7，係取代第2實施形態之第1擠壓模具D1，而設置於與第1擠壓模具D1之設置位置略相同的位置；與推壓輥L7相同的推壓輥R3，係取代第2實施形態之第2擠壓模具D2，而設置於與第2擠壓模具D2之設置位置略相同的位置，這些地方和第2實施形態的光學膜片之製造裝置2相異。
推壓輥L7係設置成與第1實施形態之推壓輥R6為大略相同之構成，在第1皮帶狀模S1掛於左側第1旋轉輥L1而受到加熱之區域，與第1皮帶狀模S1的外周 面之間相距大略光學膜片10的第1光學層11之厚度。具體來說，推壓輥L7係設置成，當掛有作為光學膜片10的第1光學層11之第1樹脂膜片A時，可與第1皮帶狀模S1夾住掛上的第1樹脂膜片A而將其供應至第1皮帶狀模S1上。因此，推壓輥L7係作為將樹脂供應至第1皮帶狀模S1上之第1供應部。又，推壓輥L7係設置成受到加熱，且將藉由第1皮帶狀模S1的左側第1旋轉輥L1之加熱以及推壓輥L7之加熱而軟化的第1樹脂膜片A，推壓至第1皮帶狀模S1上，壓印第1樹脂膜片A，使第1樹脂膜片A可在第1皮帶狀模S1上形成為第1壓印膜片A’。因此，推壓輥L7亦作為將供應至第1皮帶狀模S1上的樹脂予以壓印之第1壓印部。亦即，本實施形態中，推壓輥L7兼做第1供應部與第1壓印部之用。
此外，推壓輥R3'係設置成與推壓輥L7為大略相同之構成，在第2皮帶狀模S2掛於右側第1旋轉輥R1而受到加熱之區域，與第2皮帶狀模S2的外周面之間相距大略光學膜片10的第2光學層12之厚度。具體來說，推壓輥R3'係設置成，當掛有作為光學膜片10的第2光學層12之第2樹脂膜片B時，可與第2皮帶狀模S2夾住掛上的第2樹脂膜片B而將其供應至第2皮帶狀模S2上。因此，推壓輥R3'係作為將樹脂供應至第2皮帶狀模S2上之第2供應部。又，推壓輥R3'係設置成受到加熱，且將藉由第2皮帶狀模S2的右側第1旋轉輥R1之加熱以及推壓輥R3'之加熱而軟化的第2樹脂膜片B，推壓至第 2皮帶狀模S2上，壓印第2樹脂膜片B，使第2樹脂膜片B可在第2皮帶狀模S2上形成為第2壓印膜片B’。因此，推壓輥R3'亦作為將供應至第2皮帶狀模S2上的樹脂予以壓印之第2壓印部。亦即，本實施形態中，推壓輥R3'兼做第2供應部與第2壓印部之用。
[製造方法]
藉由本實施形態的光學膜片之製造裝置3而進行之光學膜片10之製造方法中，與第2實施形態的光學膜片之製造方法相異之處在於，於樹脂供應工程中，是將膜片狀的樹脂供應至第1皮帶狀型S1上及第2皮帶狀型S2上。
首先，如同第2實施形態般進行裝置動作工程P1，將第1皮帶狀模S1及第2皮帶狀模S2各自的一部分加熱同時旋動。
接下來進行樹脂供應工程P2。本實施形態的本工程中，從未圖示之捲盤送出，且掛於受加熱的推壓輥L7之第1樹脂膜片A，會一面受到加熱一面被夾在推壓輥L7與第1皮帶狀模S1之間，而供應至第1皮帶狀模S1上。另，本實施形態中，第1樹脂膜片A係直接供應至第1皮帶狀模S1受到加熱的部分上。
此外，從未圖示之捲盤送出，且掛於受加熱的推壓輥R3'之第2樹脂膜片B，會一面受到加熱一面被夾在推壓輥R3'與第2皮帶狀模S2之間，而供應至第2皮帶狀模S2上。另，本實施形態中，第2樹脂膜片B係直 接供應至第2皮帶狀模S2受到加熱的部分上。
另，由於第1、第2樹脂膜片A、B是被推壓輥L7、R3'推壓而供應至第1、第2皮帶狀模S1、S2上，故會抑制第1、第2樹脂膜片A、B產生皺褶，或氣泡等混入。
像這樣，在朝圓周方向旋動之第1皮帶狀模S1上、及朝圓周方向旋動之第2皮帶狀模S2上，分別供應樹脂。
接下來進行壓印工程。供應至第1皮帶狀模S1上之第1樹脂膜片A，在供應後會立即因第1皮帶狀模S1的熱，而被加熱至第1樹脂膜片A的流動開始溫度以上而軟化。軟化後之第1樹脂膜片A的黏度，可與第1實施形態中軟化之第1樹脂膜片A的黏度相同。接著，軟化後之第1樹脂膜片A，會藉由來自推壓輥L7的推壓力，被壓印至第1皮帶狀模S1上。另，推壓輥L7的推壓力，可與第1實施形態之推壓輥R6的推壓力相同。像這樣，被壓印至第1皮帶狀模S1上的第1樹脂膜片A，會被做成第1壓印膜片A’，藉由第1皮帶狀模S1的旋動而移動。
另，本實施形態中，第1樹脂膜片A是供應至第1皮帶狀模S1上同時被壓印，第2樹脂膜片B是供應至第2皮帶狀模S2上同時被壓印。亦即，本實施形態中，樹脂供應工程P2與壓印工程P3係同時進行。
此外，供應至第2皮帶狀模S2上之第2樹脂 膜片B，在供應後會立即因第2皮帶狀模S2的熱，而被加熱至第2樹脂膜片B的流動開始溫度以上而軟化。軟化後之第2樹脂膜片B的黏度，可與第1實施形態中軟化之第2樹脂膜片B的黏度相同。接著，軟化後之第2樹脂膜片B，會藉由來自推壓輥R3'的推壓力，被壓印至第2皮帶狀模S2上。另，推壓輥R3'的推壓力，可與第1實施形態之推壓輥R7的推壓力相同。像這樣，被壓印至第2皮帶狀模S2上的第2樹脂膜片B，會被做成第2壓印膜片B’，藉由第2皮帶狀模S2的旋動而移動。
接著，如同第2實施形態般，進行中間供應工程P4~第2剝離工程P8，得到光學膜片10。
以上，針對本發明，已舉出第1~第3實施形態為例做說明，但本發明並非限定於此。
舉例來說，圖1所示光學膜片10的中間光學層15的至少一方之面，亦可在常溫下具有黏著性。在此情形下，圖1所示光學膜片10的第2中間光學層15b及第3中間光學層15c的至少一方，可以常溫下具有黏著性之材料來構成。當中間光學層15的僅一方之面在常溫下具有黏著性時，可在中間光學膜片C具有黏著性的面貼附工程膜片D，並如同上述實施形態般剝離該工程膜片D。此外，當中間光學層15的兩面均在常溫下具有黏著性時，在各個實施形態中，可供應兩面均貼附有工程膜片之中間光學膜片，而欲黏著至第1壓印膜片A’之黏著層上所貼附的工程膜片被剝離，再如同各個實施形態供應中間 光學膜片C般，將中間光學膜片供應至第1壓印膜片A’上，其後剝離另一方的工程膜片。在此情形下，中間光學膜片與第2壓印膜片B’係藉由黏著層而黏著，故不需以熱壓接來層積。是故，例如在第2、第3實施形態中，左側第2旋轉輥L2或右側第2旋轉輥R2可不必受到加熱。
此外，亦可省略光學膜片10的中間光學層15之第2中間光學層15b及第3中間光學層15c的至少一方。
此外，上述實施形態中，係使中間光學膜片C供應至第1壓印膜片A’上，但本發明不限於此，中間光學膜片C亦可供應至第2壓印膜片B’上，或在第1壓印膜片A’及第2壓印膜片B’層積時，直接供應至第1壓印膜片A’與第2壓印膜片B’之間。
此外，上述實施形態中，係製造出具有圖1所示中間光學層15的光學膜片10。但，本發明並不限於此，亦能適用於製造不具有中間光學層15，而是第1光學層11與第2光學層12直接層積而成之光學膜片。在此情形下，便不需要光學膜片之製造裝置的中間供應部，又，不需要光學裝置之製造方法的中間供應工程。是故，便不需要第1實施形態之推壓輥R8或工程輥R9，也不需要第2、第3實施形態之推壓輥L3或工程輥L4。
或者是，本發明亦能適用於製造具有複數個中間光學層15之光學膜片。在此情形下，可設置複數個 光學膜片之製造裝置的中間供應部，又，可進行複數次光學裝置之製造方法的中間供應工程。
此外，上述實施形態中，供應至第1皮帶狀模S1上、第2皮帶狀模S2上的樹脂係為熱可塑性樹脂，將藉由加熱而軟化之樹脂壓印至第1皮帶狀模、第2皮帶狀模。接著，將第1壓印膜片A’與第2壓印膜片B’層積後之物加以冷卻，使其硬化。但，本發明並不限於此，供應至第1皮帶狀模S1上、第2皮帶狀模S2上的樹脂亦可為紫外線硬化性樹脂等其他樹脂，在該情形下，可具有對供應之樹脂照射紫外線以使其硬化之手段。
[產業利用性]
如以上說明般，按照本發明，係提供一種抑制表面扭曲，同時能提升生產性之光學膜片之製造裝置、及光學膜片之製造方法，對於反射膜片、導光膜片、光擴散膜片、全射膜片、以及其他光學膜片之製造十分有用。
10‧‧‧光學膜片
A‧‧‧第1樹脂(膜片)
A’‧‧‧第1壓印膜片
B‧‧‧第2樹脂(膜片)
B’‧‧‧第2壓印膜片
C‧‧‧中間光學膜片
D‧‧‧工程膜片
R1~R5‧‧‧旋轉輥
R6~R8‧‧‧推壓輥
R9‧‧‧工程輥
R10，R11‧‧‧剝離輥
S1‧‧‧第1皮帶狀模
S2‧‧‧第2皮帶狀模

Claims (28)

  1. 一種光學膜片之製造裝置，屬於至少具有2個光學層的光學膜片之製造裝置，其特徵為，具備：第1皮帶狀模及第2皮帶狀模，朝圓周方向旋動；第1供應部，將樹脂供應至前述第1皮帶狀模上；第1壓印部，將供應至前述第1皮帶狀模上之樹脂，壓印於前述第1皮帶狀模上，做成第1壓印膜片，成為前述光學膜片一方之面側的光學層；第2供應部，將樹脂供應至前述第2皮帶狀模上；第2壓印部，將供應至前述第2皮帶狀模上之樹脂，壓印於前述第2皮帶狀模上，做成第2壓印膜片，成為前述光學膜片另一方之面側的光學層；及層積部，將前述第1壓印膜片與前述第2壓印膜片，藉由前述第1皮帶狀模與前述第2皮帶狀模夾住而層積；將壓印於前述第1皮帶狀模上之前述第1壓印膜片，以及壓印於前述第2皮帶狀模上之前述第2壓印膜片，藉由前述第1皮帶狀模及前述第2皮帶狀模的旋動而移動至前述層積部，並層積之。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學膜片之製造裝置，其中，更具備中間供應部，將中間光學膜片供應至前述第1壓印膜片及前述第2壓印膜片的至少一方之上，該中間光學膜片係成為前述光學膜片的前述一方之面側的光學層與前述另一方之面側的光學層之間的中間光學層， 在前述層積部，將前述第1壓印膜片與前述第2壓印膜片隔著前述中間光學膜片而層積。
  3. 如申請專利範圍第2項之光學膜片之製造裝置，其中，前述中間光學膜片，含有以平均粒徑5nm~300nm的微粒子作為主成分之微粒子層。
  4. 如申請專利範圍第3項之光學膜片之製造裝置，其中，前述微粒子為陶瓷粒子。
  5. 如申請專利範圍第4項之光學膜片之製造裝置，其中，前述微粒子層，不具有用來接合(bonding)各個前述陶瓷粒子之黏結劑，互相相鄰之前述陶瓷粒子彼此係互相接觸。
  6. 如申請專利範圍第4項之光學膜片之製造裝置，其中，前述微粒子層，包含：前述陶瓷粒子、將前述陶瓷粒子的表面部位彼此接合之接合樹脂、以及在前述陶瓷粒子彼此之間形成的空隙。
  7. 如申請專利範圍第6項之光學膜片之製造裝置，其中，前述接合樹脂之玻璃轉移溫度，係比構成前述第1壓印膜片的樹脂之玻璃轉移溫度及構成前述第2壓印膜片的樹脂之玻璃轉移溫度還低。
  8. 如申請專利範圍第2項之光學膜片之製造裝置，其中，前述中間光學膜片，包含由樹脂構成之樹脂層，構成前述樹脂層的樹脂之玻璃轉移溫度，係比構成前述第1壓印膜片的樹脂之玻璃轉移溫度及構成前述第2壓印膜片的樹脂之玻璃轉移溫度還低。
  9. 如申請專利範圍第8項之光學膜片之製造裝置，其中，構成前述樹脂層的樹脂，於前述層積部，黏度為150000PaS以下。
  10. 如申請專利範圍第1至9項任一項之光學膜片之製造裝置，其中，在前述層積部之前述第1壓印膜片及前述第2壓印膜片的溫度，係做成比在前述第1壓印部被壓印的樹脂之溫度、及在前述第2壓印部被壓印的樹脂之溫度還低。
  11. 如申請專利範圍第1至9項任一項之光學膜片之製造裝置，其中，前述第1皮帶狀模係掛於第1加熱輥而在前述第1加熱輥上受到加熱，且前述第2皮帶狀模係掛於第2加熱輥而在前述第2加熱輥上受到加熱，在前述第1壓印部，自前述第1供應部供應之樹脂，係被受到加熱的第1推壓輥推壓至前述第1加熱輥上之前述第1皮帶狀模，在前述第2壓印部，自前述第2供應部供應之樹脂， 係被受到加熱的第2推壓輥推壓至前述第2加熱輥上之前述第2皮帶狀模，在前述層積部，前述第1加熱輥上之前述第1皮帶狀模上的前述第1壓印膜片，以及前述第2加熱輥上之前述第2皮帶狀模上的前述第2壓印膜片，係互相推壓。
  12. 如申請專利範圍第11項之光學膜片之製造裝置，其中，前述第1加熱輥的溫度做成比前述第1推壓輥的溫度還低，且前述第2加熱輥的溫度做成比前述第2推壓輥的溫度還低。
  13. 如申請專利範圍第1至9項任一項之光學膜片之製造裝置，其中，在前述層積部施加於前述第1壓印膜片與前述第2壓印膜片之壓力，係比在前述第1壓印部施加於前述第1皮帶狀模上的樹脂之壓力、及在前述第2壓印部施加於前述第2皮帶狀模上的樹脂之壓力還來得小。
  14. 如申請專利範圍第1至9項任一項之光學膜片之製造裝置，其中，前述第1壓印部兼做為前述第1供應部，前述第2壓印部兼做為前述第2供應部。
  15. 如申請專利範圍第1至9項任一項之光學膜片之製造裝置，其中，更具備硬化部，在前述第1壓印膜片與前述第2壓印膜片被層積後，使前述第1壓印膜片及前述第2壓印膜片 硬化。
  16. 一種光學膜片之製造方法，屬於至少具有2個光學層的光學膜片之製造方法，其特徵為，具備：樹脂供應工程，在朝圓周方向旋動之第1皮帶狀模上、及朝圓周方向旋動之第2皮帶狀模上，分別供應樹脂；壓印工程，將供應至前述第1皮帶狀模上之樹脂，壓印於前述第1皮帶狀模上，做成第1壓印膜片，成為前述光學膜片一方之面側的光學層，且將供應至前述第2皮帶狀模上之樹脂，壓印於前述第2皮帶狀模上，做成第2壓印膜片，成為前述光學膜片另一方之面側的光學層；及層積工程，將前述第1壓印膜片與前述第2壓印膜片，藉由前述第1皮帶狀模及前述第2皮帶狀模的旋動而移動後，藉由前述第1皮帶狀模與前述第2皮帶狀模夾住而層積。
  17. 如申請專利範圍第16項之光學膜片之製造方法，其中，更具備中間供應工程，將中間光學膜片供應至前述第1壓印膜片及前述第2壓印膜片的至少一方之上，該中間光學膜片係成為前述光學膜片的前述一方之面側的光學層與前述另一方之面側的光學層之間的中間光學層，在前述層積工程，將前述第1壓印膜片與前述第2壓印膜片隔著前述中間光學膜片而層積。
  18. 如申請專利範圍第17項之光學膜片之製造方 法，其中，前述中間光學膜片，含有以平均粒徑5nm~300nm的微粒子作為主成分之微粒子層。
  19. 如申請專利範圍第18項之光學膜片之製造方法，其中，前述微粒子為陶瓷粒子。
  20. 如申請專利範圍第19項之光學膜片之製造方法，其中，前述微粒子層，不具有用來接合各個前述陶瓷粒子之黏結劑，互相相鄰之前述陶瓷粒子彼此係互相接觸。
  21. 如申請專利範圍第19項之光學膜片之製造方法，其中，前述微粒子層，包含：前述陶瓷粒子、將前述陶瓷粒子的表面部位彼此接合之接合樹脂、以及在前述陶瓷粒子彼此之間形成的空隙。
  22. 如申請專利範圍第21項之光學膜片之製造方法，其中，前述接合樹脂之玻璃轉移溫度，係比構成前述第1壓印膜片的樹脂之玻璃轉移溫度及構成前述第2壓印膜片的樹脂之玻璃轉移溫度還低。
  23. 如申請專利範圍第17項之光學膜片之製造方法，其中，前述中間光學膜片，包含由樹脂構成之樹脂層， 構成前述樹脂層的樹脂之玻璃轉移溫度，係比構成前述第1壓印膜片的樹脂之玻璃轉移溫度及構成前述第2壓印膜片的樹脂之玻璃轉移溫度還低。
  24. 如申請專利範圍第23項之光學膜片之製造方法，其中，構成前述樹脂層的樹脂，於前述層積工程，黏度為150000PaS以下。
  25. 如申請專利範圍第16至24項任一項之光學膜片之製造方法，其中，在前述層積工程之前述第1壓印膜片及前述第2壓印膜片的溫度，係比在前述壓印工程被壓印之前述第1皮帶狀型上的樹脂及前述第2皮帶狀型上的樹脂之溫度還低。
  26. 如申請專利範圍第16至24項任一項之光學膜片之製造方法，其中，在前述層積工程施加於前述第1壓印膜片與前述第2壓印膜片之壓力，係比在前述壓印工程施加於前述第1皮帶狀模上的樹脂之壓力、及施加於前述第2皮帶狀模上的樹脂之壓力還來得小。
  27. 如申請專利範圍第16至24項任一項之光學膜片之製造方法，其中，前述供應工程與前述壓印工程係同時進行。
  28. 如申請專利範圍第16至24項任一項之光學膜片之製造方法，其中，在前述層積工程之後，更具備硬化工程，使前述第1壓印膜片與前述第2壓印膜片硬化。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103737913A (zh) * 2013-12-31 2014-04-23 常州丰盛光电科技股份有限公司 一种片材三辊涨紧压花装置及其转印片材的方法
JP2017504837A (ja) * 2014-01-20 2017-02-09 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 凹入構造を形成するための積層転写フィルム
US9946094B2 (en) * 2015-10-13 2018-04-17 Elwha Llc Light steering optical assembly with chromatic correction
JP1570387S (zh) * 2016-08-18 2017-02-27
JP1570388S (zh) * 2016-08-18 2017-02-27
CA3064832C (en) * 2017-05-25 2024-04-09 Magic Leap, Inc. Double-sided imprinting
US11327205B2 (en) * 2019-07-29 2022-05-10 Viavi Solutions Inc. Encapsulated diffuser

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56159039A (en) * 1980-05-09 1981-12-08 Dainippon Printing Co Ltd Manufacture of transparent television screen
US8226880B2 (en) * 2003-07-07 2012-07-24 10X Technology, Llc Process for fabricating precise microstructures
JP2005266232A (ja) * 2004-03-18 2005-09-29 Konica Minolta Opto Inc 光学フィルム、偏光板及び画像表示装置
JP4847329B2 (ja) * 2004-08-10 2011-12-28 株式会社きもと 透過型スクリーン
KR101213122B1 (ko) * 2004-09-30 2012-12-17 도레이 카부시키가이샤 적층 시트의 제조 장치 및 제조 방법
CN101021396B (zh) * 2006-12-08 2011-01-19 华中科技大学 一种电磁轨道炮
WO2009096261A1 (ja) * 2008-02-01 2009-08-06 Sumitomo Chemical Company, Limited 光拡散性積層樹脂フィルムおよびその製造方法、ならびに防眩フィルム、防眩性偏光板および画像表示装置
EP2324990A1 (en) * 2008-08-20 2011-05-25 Nippon Carbide Industries Co., Inc. Optical sheet manufacturing device and optical sheet manufacturing method
DE102009028882A1 (de) * 2008-08-29 2010-04-08 Samsung Corning Precision Glass Co., Ltd., Gumi Hybrider optischer Film, Anzeigevorrichgung mit demselben und Verfahren zur Herstellung desselben
JP2011215352A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Sony Corp 光学シート積層体、照明装置および表示装置
KR101512917B1 (ko) * 2011-02-02 2015-04-16 닛뽕 카바이도 고교 가부시키가이샤 광학 복합 시트

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