TWI512344B - 導光板及使用其之背光模組 - Google Patents

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TWI512344B TW102122750A TW102122750A TWI512344B TW I512344 B TWI512344 B TW I512344B TW 102122750 A TW102122750 A TW 102122750A TW 102122750 A TW102122750 A TW 102122750A TW I512344 B TWI512344 B TW I512344B
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導光板及使用其之背光模組
本發明是有關於一種光學元件,且特別是有關於一種導光板及使用其之背光模組。
圖1是習知一種背光模組的俯視示意圖。請參照圖1,習知背光模組100包括導光板110及多個發光二極體120,其中發光二極體120配置於導光板110的入光面112旁。發光二極體120提供的光束經由入光面112進入導光板110內,導光板110用以將光束轉換成從其出光面114出射的面光源。出光面114具有主動區115,此處的主動區115是指出光面114對應顯示面板之顯示區的部分。換言之,從主動區115輸出的面光源可有效被顯示面板利用。
由於發光二極體120間隔排列於入光面112,且發光二極體120有特定的出光角度,當光束由光疏介質的空氣往光密介質的導光板110傳遞時,造成發光二極體120在導光板110中的發光角度θ變小,導致導光板110內接近入光面112的區塊容易產生明顯的暗區DA。當暗區DA與導光板110的主動區115重疊時,將會影響顯示面板的顯示品質,因此需要設法解決暗區DA與主動區115重疊的問題。
圖2與圖3分別為習知另一種背光模組的局部俯視示意圖與側視示意圖。請參照圖2與圖3,為了解決上述問題,習知技術 提出了一種在導光板110a的入光面112a形成柱狀微結構116的方法。然而,由於發光二極體120與柱狀微結構116之間有空氣間隙G,導致發光二極體120所提供的部分出射角度較大且朝向導光板110a之出光面114與底面118的光束122無法進入導光板110a內,產生漏光的問題,因而降低光利用效率。此外,以射出成型的方式製造導光板110a時,為了製作柱狀微結構116,射出模具需於入光面112a側增加具有柱狀微結構的滑塊機構,所以模具的入料口需設計在入光面112a以外的其餘側面。如此,將使模具設計的自由度受限。
除了上述的柱狀微結構116以外,中華人民共和國專利第201396703Y號、101718417B號、102122012A號、100437290C號等專利也揭示了利用不同類型的微結構來改善圖1之背光模組100的問題。
本發明提供一種導光板,其藉由有別於習知技術的微結構來改善上述之暗區與漏光問題。
本發明另提供一種背光模組,以提供均勻度較佳的面光源。
為達上述優點至少其中之一或其他優點,本發明一實施例提出一種導光板,此導光板具有入光面、第一表面、與入光面相對的第二表面與多個第一凹陷結構。第一表面連接於入光面與第二表面,且每一第一凹陷結構從入光面朝第二表面沿第一方向延伸。其中第一凹陷結構設置於第一表面,每一第一凹陷結構具有暴露於第一表面的開口,且每一開口在垂直第一方向且平行第一表面的第二方向上的寬度從入光面朝第二表面逐漸變寬。
在本發明之一實施例中,上述之每一第一凹陷結構更具 有底部與二側面,底部與開口相對,這些側面彼此相對且位於開口與底部之間。
在本發明之一實施例中,上述之二側面之間有夾角,且夾角從入光面朝第二表面逐漸變大。
在本發明之一實施例中,上述之夾角大於0度且小於等於180度。
在本發明之一實施例中,上述之二側面相對第一表面傾斜,且這些側面相對於第一表面的斜率之絕對值從入光面朝第二表面逐漸變小。
在本發明之一實施例中,上述之每一第一凹陷結構之底部是連接於側面之間的曲面。
在本發明之一實施例中,上述之每一第一凹陷結構更具有二曲面,分別連接於側面與第一表面之間。
在本發明之一實施例中,上述之每一第一凹陷結構的在第三方向上深度從入光面朝第二表面逐漸變化。
在本發明之一實施例中,上述之第一表面為導光板的出光面。
在本發明之一實施例中,上述之第一表面為導光板的底面,此底面相對於導光板的出光面。此外,在另一實施例中,導光板還包括多個第二凹陷結構,第二凹陷結構設置於出光面,每一第二凹陷結構從入光面朝第二表面沿第一方向延伸,每一第二凹陷結構具有暴露於出光面的開口,且每一開口在第二方向上的寬度從入光面朝第二表面逐漸變寬。
在本發明之一實施例中,上述之導光板為平板形導光板、楔形導光板或具有楔形部與平板部的導光板。楔形部連接於平板部,入光面位於楔形部,且楔形部在第三方向上的厚度從入光面朝平 板部逐漸變薄。
在本發明之一實施例中,上述之每一開口在第二方向上的寬度從入光面朝第二表面逐漸變寬後再逐漸變窄。
為達上述優點至少其中之一或其他優點,本發明一實施例提出一種背光模組,其包括上述任一實施例的導光板以及多個發光元件。這些發光元件配置於導光板的入光面旁,且這些發光元件分別對應導光板的第一凹陷結構。
在本發明之一實施例中,上述之每一發光元件包括至少一發光晶片及封裝結構,發光元件具有出光部,出光部未與第一凹陷結構的開口重疊。
本發明實施例之導光板採用凹陷結構,由於凹陷結構的開口在第二方向上的寬度從入光面朝第二表面逐漸變寬,所以不僅能反射發光元件所提供的光束還可使光束發散,如此能改善習知技術所述的漏光問題及暗區問題。此外,本發明之背光模組因使用上述能改善漏光問題及暗區問題的導光板,所以不僅具有較佳的光利用效率,還能提供均勻度較佳的面光源。
100‧‧‧背光模組
110、110a‧‧‧導光板
112、112a‧‧‧入光面
114‧‧‧出光面
115‧‧‧主動區
116‧‧‧柱狀微結構
118‧‧‧底面
120‧‧‧發光二極體
122‧‧‧光束
200、200a、200b、200c、200d‧‧‧背光模組
210、210’、210”‧‧‧發光元件
212‧‧‧出光部
213‧‧‧光束
214、214a、214a’、214a”、214b、214b’、214c、214c’、214c”‧‧‧晶片
300、300a、300b、300c、300d‧‧‧導光板
302‧‧‧楔形部
304‧‧‧平板部
310、310c、310d‧‧‧入光面
320、320a、320b、320c、320d‧‧‧第一表面
321‧‧‧底面
322‧‧‧主動區
324‧‧‧周邊區
330、330c、330d‧‧‧第二表面
340、340c、340d‧‧‧第一凹陷結構
340’‧‧‧第二凹陷結構
341、341’、342、342’、342d‧‧‧開口
343、343’、343d‧‧‧底部
344‧‧‧側面
345‧‧‧曲面
350‧‧‧出光面
360‧‧‧表面
C1‧‧‧最低點
DA‧‧‧暗區
D1、D2、D3‧‧‧深度
G‧‧‧空氣間隙
W1、W2、W3‧‧‧寬度
θ‧‧‧出光角度
θ1、θ2、θ3‧‧‧夾角
X、Y、Z‧‧‧方向
圖1是習知一種背光模組的俯視示意圖。
圖2與圖3分別為習知另一種背光模組的局部俯視示意圖與側視示意圖。
圖4是本發明一實施例之一種背光模組的俯視示意圖。
圖5是沿圖4之A-A線的剖面示意圖。
圖6A是圖4中單一第一凹陷結構的等高線示意立體圖。
圖6B是圖4中單一第一凹陷結構的等高線俯視示意圖。
圖7A、圖7B、圖7C分別是沿圖4中B-B線、C-C線與D-D線的剖面示意圖以及發光元件與第一凹陷結構的相對位置示意圖。
圖7D、圖7E、圖7F是本發明另三實施例之發光元件與第一凹陷結構的相對位置示意圖。
圖8是本發明另一實施例之背光模組的局部剖面示意圖。
圖9是本發明另一實施例之背光模組的局部剖面示意圖。
圖10A-10Q是本發明不同第一凹陷或第二凹陷結構的局部剖面示意圖。
圖11是本發明另一實施例之背光模組的局部剖面示意圖。
圖12是本發明另一實施例之背光模組的局部剖面示意圖。
有關本發明之前述及其他技術內容、特點與功效,在以下配合參考圖式之一較佳實施例的詳細說明中,將可清楚的呈現。以下實施例中所提到的方向用語,例如:上、下、左、右、前或後等,僅是參考附加圖式的方向。因此,使用的方向用語是用來說明並非用來限制本發明。
圖4是本發明一實施例之一種背光模組的俯視示意圖,圖5是沿圖4之A-A線的剖面示意圖,而圖6A是圖4中單一第一凹陷結構的等高線示意立體圖,圖6B是圖4中單一第一凹陷結構的等高線俯視示意圖,圖7A、圖7B與圖7C分別是沿圖4中B-B線、C-C線與D-D線的剖面示意圖以及發光元件與第一凹陷結構的相對位置示意圖。請參照圖4至圖7C,本實施例之背光模組200可用以提供面光源至顯示面板(圖未示),此背光模組200包括多個發光元件210及導光板300。導光板300具有入光面310、第一表面320、與入光面310相對的第二表面330與多個第一凹陷結構340。第二表面330與入光面310分別面向相反兩側,第一表面320連接入光面310與第二表面 330,且每一第一凹陷結構340從入光面310朝第二表面330沿第一方向Y延伸,第一方向Y實質上垂直於入光面310。第一凹陷結構340設置於第一表面320。每一第一凹陷結構340具有暴露於第一表面320的開口341,每一開口341在第二方向X上的寬度從入光面310朝第二表面330逐漸變寬,其中第二方向X垂直於第一方向Y且實質上平行於入光面310,第三方向Z與第一方向Y、第二方向X互相垂直,上述方向僅是參考附加圖式的座標,用來說明並非用來限制本發明。舉例來說,沿C-C線的剖面較沿B-B線的剖面靠近第二表面330,所以圖7B中的寬度W2大於圖7A中的寬度W1。在本實施例中,每一開口341在第二方向X上的寬度從入光面310朝第二表面330逐漸變寬後會再逐漸變窄,例如沿D-D線的剖面較沿C-C線的剖面靠近第二表面330,圖7C中的寬度W3小於圖7B中的寬度W2,但本發明並不限定開口341的寬度需逐漸變寬後再逐漸變窄,也可僅逐漸變寬而沒有再逐漸變窄。此外,第一表面320例如是作為導光板300的出光面,但本發明的第一表面320不限於此,第一表面320也可以是與出光面相對的底面。
發光元件210配置於導光板300的入光面310旁,且發光元件210例如是沿第二方向X排列於入光面310旁,且這些發光元件210分別一一對應導光板300的這些第一凹陷結構340。在本實施例中,每一第一凹陷結構340例如更具有另一位於入光面310的開口342(如圖5、6所示),而每一發光元件210的出光部212例如是未與第一凹陷結構340的開口342重疊,因此發光元件210所發出的光束213均經由入光面310進入導光板300被利用,如此可避免光束213通過開口342後被第一凹陷結構340的表面反射而造成亮點。
此外,發光元件210例如是發光二極體封裝結構或雷射二極體封裝結構等,但本發明不以此為限。如圖7A至圖7C所示,每 一發光元件210可包括至少一片發光晶片214。但本發明不以此為限,請參照圖7D至圖7F,繪示出不同的發光元件210、210’、210”作為舉例說明。請參照圖7D,發光元件210內例如包括三片晶片214a、214b、214c,三片晶片214a、214b、214c例如沿第二方向X以一直線排列,晶片214b在第二方向X上大致與第一凹陷結構340的最低點C1重疊。請參照圖7E,發光元件210’例如包括三片晶片214a’、214b’、214c’,三片晶片214a’、214b’、214c’例如以三角形排列,晶片214b’在第二方向X上大致與第一凹陷結構340的最低點C1重疊。請參照圖7F,發光元件210”例如包括二片晶片214a”、214c”,二片晶片214a”、214c”例如沿第二方向X以一直線排列,因此第一凹陷結構340的開口342的低點C1與二片晶片214a”、214c”的中間位置重疊。
請參照圖4,以第一表面320為導光板300的出光面為 例。第一表面320例如具有主動區322(圖4中虛線框內的區域)與位於主動區322周邊的周邊區324。此處的主動區322是指第一表面320對應顯示面板之顯示區的部分。另外,上述之第一凹陷結構340是用以改善習知技術中的暗區問題,為了避免透過顯示面板之顯示區直接觀察到第一凹陷結構340的設置而影響顯示面板的顯示品質,本實施例之第一凹陷結構340例如是設置於周邊區324,並未延伸到主動區322。
請繼續參照圖6A、6B、圖7A至圖7C,上述之每一第一凹陷結構340例如更具有底部343與二側面344,底部343與開口341相對,換言之,由圖6B的俯視圖即可透過開口341看到底部343,此二側面344彼此相對且位於開口341與底部343之間。此二側面344之間形成漸變的夾角,且夾角從入光面310朝第二表面330逐漸變大。舉例來說,沿C-C線的剖面較沿B-B線的剖面靠近第二表面330,所以圖7B中二側面344之間的夾角θ2大於圖7A中二側面344之間的 夾角θ1,沿D-D線的剖面較沿B-B線與C-C線的剖面靠近第二表面330,所以圖7C中二側面344之間的夾角θ3大於圖7A與圖7B中二側面344之間的夾角θ1與θ2。在本實施例中,上述之夾角例如是大於0度且小於等於180度,其中愈接近入光面310的剖面,二側面344之間的夾角愈接近0度,而愈接近第二表面330的剖面,二側面344之間的夾角愈接近180度。另外,上述之二側面344例如是相對第一表面320傾斜的斜面,且此二側面344相對於第一表面320的斜率之絕對值從入光面310朝第二表面330逐漸變小。舉例來說,沿C-C線的剖面較沿B-B線的剖面靠近第二表面330,所以圖7B中二側面344的斜率之絕對值小於圖7A中二側面344的斜率之絕對值,沿D-D線的剖面較沿B-B線與C-C線的剖面靠近第二表面330,所以圖7C中二側面344的斜率之絕對值小於圖7A與圖7B中二側面344的斜率之絕對值。
承上述,每一第一凹陷結構340之底部343例如是連接於此二側面344之間的曲面,但本發明並不限於此。舉例來說,底部343也可以是此二側面344相連而形成的尖端、直線、或任意曲線。此外,本實施例之每一第一凹陷結構340可更具有二曲面345,分別連接於此二側面344與第一表面320之間。在其他實施例中,此二側面344可直接與第一表面320相連,亦即,曲面345可省略。另外,每一第一凹陷結構340在第三方向Z上的深度從入光面310朝第二表面330逐漸變化,換言之,第一凹陷結構340在第三方向Z上的深度,即第一凹陷結構340的底部343與第一表面320在第三方向Z上的距離,從入光面310朝第二表面330逐漸變化。在本實施例中,每一第一凹陷結構340在第三方向Z上的深度例如是從入光面310朝第二表面330逐漸變小。舉例來說,沿C-C線的剖面較沿B-B線的剖面靠近第二表面330,所以圖7B中第一凹陷結構340的深度D2小於圖7A 中第一凹陷結構340的深度D1,沿D-D線的剖面較沿B-B線與C-C線的剖面靠近第二表面330,所以圖7C中第一凹陷結構340的深度D3小於圖7A與圖7B中第一凹陷結構340的深度D1與D2。進一步而言,第一凹陷結構340在第三方向Z上的深度從入光面310朝第二表面330沿第一方向Y逐漸變小,即底部343與第一表面320在第三方向Z上的距離逐漸變小,直到底部343與第一表面320之間的距離為零而直接相連,且底部343與第一表面320相連處位於周邊區324,並未延伸到主動區322,因此不會影響顯示面板的顯示品質。
請再參照圖4至圖7C,發光元件210所提供的光束213 從入光面310進入導光板300內後,傳遞至第一凹陷結構340的光束213會產生全反射而改變傳遞方向。進一步來說,第一凹陷結構340接近入光面310處,二側面344之間的夾角接近0度,所以第一凹陷結構340在入光面310的開口342很小,另外,發光元件210的出光部212例如未與第一凹陷結構340的開口342重疊,因此發光元件210所發出的光束213均可經由入光面310進入導光板300,因此,發光元件210所提供的光束213幾乎都可從入光面310進入導光板300而被利用。第一凹陷結構340的二側面344之間的夾角從入光面310朝第二表面330逐漸變大,愈接近第二表面330,二側面344之間的夾角愈接近180度,因此光束213傳遞至夾角逐漸變大的二側面344時,因光束213入射在側面344的入射角大於全反射的臨界角,所以光束213在側面344會一次或一次以上的全反射(參照圖6A與圖6B),經過多次反射,以達到擴散光束213的效果,如此產生全反射的光束213會朝相鄰兩第一凹陷結構340之間的區域傳遞,所以能防止相鄰兩第一凹陷結構340之間的區域出現明顯的暗區。進一步而言,第一凹陷結構340在第三方向Z上的深度從入光面310朝第二表面330沿第一方向Y逐漸變小,即底部343與第一表面320在第三方向Z上的距離 逐漸變小,直到底部343與第一表面320之間的距離為零而直接相連,可使出射角度較大且朝向導光板300的第一表面320(出光面)或底面321的光束213在第一凹陷結構340處被全反射,避免光束213從周邊區324漏光,因此,本實施例之導光板300能改善習知技術中的漏光問題及暗區問題,進而提升背光模組200的光利用效率以及其所提供的面光源之均勻度。此外,由於第一凹陷結構340設置於導光板300的出光面或底面,所以以射出成型的方式來製作導光板300時,射出模具中不需有設置在入光面310側的滑塊機構。如此,模具的入料口可設計在入光面310或其他側面,所以模具設計的自由度較不受限。且模具的入料口設計在入光面310可提高導光板300在入光面的結構精度,提高其光學效果與品質。
圖8是本發明另一實施例之背光模組的局部剖面示意圖。請參照圖8,本實施例之背光模組200a與上述之背光模組200相似,差異處在於本實施例中導光板300a的第一表面320a為導光板300a的底面。此第一表面320a相對於導光板300a的出光面350,亦即第一表面320a與導光板300a的出光面350分別面向相反兩側。換言之,本實施例之導光板300a的第一凹陷結構340是設置於導光板300a的底面(即第一表面320a),而圖5之導光板300的第一凹陷結構340是設置於導光板300的出光面(即第一表面320)。在圖9所示的另一實施例之背光模組200b中,導光板300b的第一表面320b(底面)設置第一凹陷結構340,導光板300b的出光面350也設置了第二凹陷結構340’,第二凹陷結構340’的特徵與第一凹陷結構340類似,於此不再重述。第二凹陷結構340’可與第一凹陷結構340相對設置。導光板300b可採用與第一凹陷結構340特徵相同的第二凹陷結構340’,或是採用與第一凹陷結構340特徵不同的第二凹陷結構340’,本發明不限於此。
需說明的是,雖然在圖5、8、9所示的實施例中,第一 凹陷結構340及第二凹陷結構340’在第三方向Z上的深度變化是以從入光面310朝第二表面330逐漸變小為例,但在其他實施例中,第一凹陷結構340或第二凹陷結構340’的深度也可以是從入光面310朝第二表面330逐漸變大後再逐漸變小,或逐漸變小後再逐漸變大,或是逐漸變大。請參照圖5與圖10A至圖10Q,圖10A至圖10Q繪示第一凹陷結構340或第二凹陷結構340’的各種實施例的部分剖面示意圖。圖10A至圖10Q的每一張圖可為第一凹陷結構340也可為第二凹陷結構340’,其中標號341、342為第一凹陷結構340的開口,標號341’、342’為第二凹陷結構340’的開口,標號343為第一凹陷結構340的底部,標號343’為第二凹陷結構340’的底部。圖10A、10B、10C、10D、10E為平板型導光板的第一凹陷結構340或第二凹陷結構340’的各種變化實施例,深度是從入光面310朝第二表面330逐漸變小,或逐漸變大,或先變大後變小,或先變小後變大,或是任意曲線變化等。圖10F、10G、10H、10I、10J為楔型導光板的第一凹陷結構340或第二凹陷結構340’的各種變化實施例,深度是從入光面310朝第二表面330逐漸變小,或逐漸變大,或先變大後變小,或先變小後變大,或是任意曲線變化等。圖10K、10L、10M為另一種從窄端入光的楔型導光板的第一凹陷結構340或第二凹陷結構340’的各種變化實施例,深度是從入光面310朝第二表面330逐漸變化。圖10N、10O、10P、10Q為第一表面320為曲面的導光板的第一凹陷結構340或第二凹陷結構340’的各種變化實施例,深度是從入光面310朝第二表面330逐漸變化。因此,第一凹陷結構340或第二凹陷結構340’的深度變化方式可視實際的需求而定,本發明並不限定。而且,依據不同第一凹陷結構340或第二凹陷結構340’的具體實施方式可適當設計出不同種類的導光板。舉例來說,雖然上述圖4至圖9的實施例的導光板300、300a、300b皆以平板形導光板為例,但本發明的導光板亦可為楔形導光板(如 圖10F至10M及圖11所示)或具有楔形部與平板部的導光板(如圖12所示)。
承上述,在圖11中,第一凹陷結構340c在第三方向Z 上的深度是從入光面310c朝第二表面330c逐漸變小,導光板300c的入光面310c在第三方向Z上的厚度較第二表面330c大,亦即,導光板300c可為楔形導光板,第一表面320c為導光板300c的出光面或底面。
在圖12中,第一凹陷結構340d在第三方向Z上的深度是從入光面310d朝第二表面330d逐漸變小,導光板300d在第三方向Z上的厚度從入光面310d朝第二表面330d逐漸變小。在此實施例中的導光板300d為具有楔形部302與平板部304的導光板300d,其中楔形部302連接於平板部304,入光面310d位於楔形部302,且楔形部302在第三方向Z上的厚度從入光面310d朝平板部304逐漸變薄。第一表面320d是楔形部302的表面,其與平板部304的一表面360相連。此外,發光元件210的出光部212例如是未與第一凹陷結構340d的開口342d重疊,如先前所述,發光元件210所提供的光束幾乎都可從入光面310d進入導光板300d而被利用,而不會有漏光問題。另外,發光元件210的出光部212的高度小於或等於入光面310d的高度,且發光元件210的出光部212的高度大於平板部304的厚度,藉此,發光元件210所提供的光束幾乎都可從入光面310d進入導光板300d,且平板部304的厚度較薄,因此可降低整體的厚度。
綜上所述,本發明實施例之導光板採用凹陷結構,由於凹陷結構的開口在第二方向上的寬度從入光面朝第二表面逐漸變寬,所以不僅能全反射發光元件所提供的光束還可使光束發散,如此能改善習知技術所述的漏光問題及暗區問題。此外,本發明之背光模組因使用上能改善漏光問題與暗區問題的導光板,所以不僅具有較佳的光 利用效率,還能提供均勻度較佳的面光源。
雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作些許之更動與潤飾,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。另外本發明的任一實施例或申請專利範圍不須達成本發明所揭露之全部目的或優點或特點。此外,摘要部分和標題僅是用來輔助專利文件搜尋之用,並非用來限制本發明之權利範圍。此外,本說明書或申請專利範圍中提及的“第一”、“第二”等用語僅用以命名元件(element)的名稱或區別不同實施例或範圍,而並非用來限制元件數量上的上限或下限。
213‧‧‧光束
300‧‧‧導光板
310‧‧‧入光面
320‧‧‧第一表面
321‧‧‧底面
340‧‧‧第一凹陷結構
341、342‧‧‧開口
344‧‧‧側面
X、Y、Z‧‧‧方向

Claims (13)

  1. 一種導光板,具有一入光面、一第一表面、一與該入光面相對的第二表面與多個第一凹陷結構,該第一表面連接該入光面與該第二表面,且該第一表面具有一主動區與一位於該主動區周邊的周邊區,每一該第一凹陷結構從該入光面朝該第二表面沿一第一方向延伸,該些第一凹陷結構設置於該第一表面且位於該周邊區,每一該第一凹陷結構具有一暴露於該第一表面的開口,且每一該開口在一垂直該第一方向且平行該第一表面的第二方向上的寬度從該入光面朝該第二表面逐漸變寬,其中每一該第一凹陷結構更具有一底部與二側面,該底部與該開口相對,該些側面彼此相對且位於該開口與該底部之間,且該些側面之間有一夾角,且該夾角從該入光面朝該第二表面逐漸變大。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之導光板,其中該夾角大於0度且小於等於180度。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之導光板,其中該些側面相對該第一表面傾斜,且該些側面相對於該第一表面的斜率之絕對值從該入光面朝該第二表面逐漸變小。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之導光板,其中每一該第一凹陷結構之該底部是連接於該些側面之間的曲面。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之導光板,其中每一該第一凹陷結構更具有二曲面,分別連接於該些側面與該第一表面之間。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之導光板,其中每一該第一凹陷結構在一第三方向上的深度從該入光面朝該第二表面逐漸變化。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之導光板,其中該第一表面為該導光板的一出光面。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之導光板,其中該第一表面為該導光板的一底面,且該底面相對於該導光板的一出光面。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之導光板,更包括多個第二凹陷結構,其中該些第二凹陷結構設置於該出光面,每一該第二凹陷結構從該入光面朝該第二表面沿該第一方向延伸,每一該第二凹陷結構具有一暴露於該出光面的一開口,且每一該開口在該第二方向上的寬度從該入光面朝該第二表面逐漸變寬。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之導光板,為一平板形導光板、一楔形導光板或一具有一楔形部與一平板部的導光板,其中該楔形部連接於該平板部,該入光面位於該楔形部,且該楔形部在一第三方向上的厚度從該入光面朝該平板部逐漸變薄。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之導光板,其中每一該開口在該第二方向上的寬度從該入光面朝該第二表面逐漸變寬再逐漸變窄。
  12. 一種背光模組,包括:一導光板,具有一入光面、一第一表面、一與該入光面相對的第二表面與多個第一凹陷結構,該第一表面連接該入光面與該第二表 面,且該第一表面具有一主動區與一位於該主動區周邊的周邊區,每一該第一凹陷結構從該入光面朝該第二表面沿一第一方向延伸,該些第一凹陷結構設置於該第一表面且位於周邊區,每一該第一凹陷結構具有一暴露於該第一表面的一開口,且每一該開口在一垂直該第一方向且平行該第一表面的第二方向上的寬度從該入光面朝該第二表面逐漸變寬,其中每一該第一凹陷結構更具有一底部與二側面,該底部與該開口相對,該些側面彼此相對且位於該開口與該底部之間,且該些側面之間有一夾角,且該夾角從該入光面朝該第二表面逐漸變大;以及多個發光元件,配置於該導光板的該入光面旁,且該些發光元件分別對應該些第一凹陷結構。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之背光模組,其中每一該發光元件包括至少一發光晶片及一封裝結構,該發光元件具有一出光部,該出光部未與該第一凹陷結構的該開口重疊。
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