TWI412840B - 光源模組 - Google Patents

Description

光源模組

本發明是有關於一種光源模組，且特別是有關於一種具有較佳之出光效益的光源模組。

隨著平面顯示技術的蓬勃發展，液晶顯示器(liquid crystal display，LCD)已逐漸成為顯示技術的主流，其普遍地被使用於日常生活當中，並取代了傳統陰極射線管(cathode ray tube，CRT)。由於液晶顯示器中的液晶面板不會自行發光，因此需採用光源模組來提供背光源。光源模組依照發光元件的擺設位置可分為直下式光源模組與側邊入光式光源模組，其中側邊入光式光源模組能夠把來自側面的光導向正面而形成面光源之關鍵因素，是在於其具有導光板。

圖1A為習知一種側邊入光式光源模組的俯視圖，而圖1B為沿圖1A之AA’線所繪示的光源模組的剖示圖。請同時參考圖1A與圖1B，光源模組100包括一光源110、一導光板120、一反射片130以及一光學擴散片140。導光板120具有一上表面122、一相對於出光面122的下表面124，以及一連接上表面122與下表面124的入光面126，其中上表面122與下表面124例如皆垂直於入光面126。

在光源模組100中，導光板120的入光面126旁通常設置有光源110，其中光源110可以是發光二極體或冷陰 極螢光燈管。而導光板120的下表面124具有多個凸起部121，其中每一凸起部121可具有相同高度。來自光源110的光束112通過入光面126並進入導光板120後，因上述凸起部121而破壞光束112在導光板120內的全反射現象，使導光板120內的光束112得以被導引，並可均勻地由上表面122出射而離開導光板120。

一般而言，光源模組100通常會配置一反射片130於導光板120的下表面124，以使部分通過下表面124而離開的光束112得以被反射而再傳遞回導光板120內，藉以提升光源模組100的背光亮度。另外，為了提升光源模組100整體的光均勻度，光源模組100更可設置有一光學擴散片140於導光板120的上表面122，以提升背光均勻度。

然而，光源模組100採用如圖1所繪示的導光板之光反射結構(即凸起部121)，對於其整體的背光亮度增益仍有所限制，因此，如何設計一種導光板上的微結構以更進一步地提升光源模組的背光亮度實為各家廠商所努力的目標。

本發明提供一種光源模組，具有較佳的出光效益。

本發明提出一種光源模組，其包括一導光板及一光源裝置。導光板具有一出光面、與出光面相對的一光反射面，以及連接於出光面與光反射面之間的至少一入光面，且導光板具有多個光反射結構在光反射面上。每一光反射結構 包括一封閉的光作用區以及位於光作用區內的多個凸起，其中光作用區與光反射面不共面，而這些凸起朝向導光板外延伸。光源裝置對應於入光面設置。光源裝置提供一光線由入光面進入導光板，並且被光反射面上的其中一個凸起改變方向(redirect)後，再由出光面射出導光板。

在本發明之一實施例中，每一光反射結構是由多個點狀圖案所構成，且任兩相鄰的點狀圖案局部重疊。

在本發明之一實施例中，每一點狀圖案為位於光反射面上的一凹陷部，且每一點狀圖案的邊緣凸出於光反射面。這些點狀圖案的聯集區域形成光作用區，而這些點狀圖案的交集區域的邊緣形成這些凸起。

在本發明之一實施例中，每一點狀圖案為位於光反射面上的一凸出部，且每一點狀圖案的邊緣凹陷於光反射面。這些點狀圖案的聯集區域形成光作用區，而這些點狀圖案的交集區域的邊緣形成分離這些凸起的多個溝槽。

在本發明之一實施例中，組成每一光反射結構的這些點狀圖案沿一直線排列，且直線的延伸方向實質上垂直於光線的行進方向。

在本發明之一實施例中，各點狀圖案為圓形。

在本發明之一實施例中，每一光反射結構更包括多個內部圖案，分別位於這些點狀圖案內，每一內部圖案的邊緣凸出或凹陷於光反射面。

在本發明之一實施例中，各內部圖案為圓形。

在本發明之一實施例中，每一光反射結構內的這些點 狀圖案的數量是沿遠離光源裝置的方向逐漸增加。

在本發明之一實施例中，任兩相鄰的光反射結構的間距是沿遠離光源裝置的方向逐漸變小。

在本發明之一實施例中，每一光反射結構的這些凸起是由位於光作用區內的多個點狀圖案所構成，每一點狀圖案為位於光反射面上的一凹陷部，且每一點狀圖案的邊緣凸出於光反射面。

在本發明之一實施例中，任兩相鄰的點狀圖案局部重疊，且這些點狀圖案的聯集區域與交集區域的邊緣形成這些凸起。

在本發明之一實施例中，每一光反射結構更包括多個內部圖案，分別位於這些點狀圖案內，且每一內部圖案的邊緣凸出或凹陷於光反射面。

在本發明之一實施例中，任兩點狀圖案相鄰且不相交。

在本發明之一實施例中，每一光反射結構內的這些點狀圖案沿一直線排列，且直線的延伸方向實質上垂直於光線的行進方向。

在本發明之一實施例中，每一光反射結構內的這些點狀圖案呈陣列排列。

在本發明之一實施例中，每一光反射結構的這些凸起是由位於光作用區內的多個點狀圖案所構成，每一點狀圖案為位於光反射面上的一凸出部，且每一點狀圖案的邊緣凹陷於光反射面。

在本發明之一實施例中，任兩相鄰的點狀圖案局部重疊，且這些點狀圖案的聯集區域與交集區域的邊緣形成分離這些凸起的多個溝槽。

在本發明之一實施例中，每一光反射結構更包括多個內部圖案，分別位於這些點狀圖案內，每一內部圖案的邊緣凸出或凹陷於光反射面。

在本發明之一實施例中，任兩點狀圖案相鄰且不相交。

在本發明之一實施例中，每一光反射結構內的這些點狀圖案沿一直線排列，且直線的延伸方向實質上垂直於光線的行進方向。

在本發明之一實施例中，每一光反射結構內的這些點狀圖案呈陣列排列。

本發明另提出一種光源模組，其包括一導光板以及一光源裝置。導光板具有一出光面、與出光面相對的一光反射面，以及連接於出光面與光反射面之間的至少一入光面，且導光板的光反射面形成有多個光反射結構。每一光反射結構包括相交或相切的兩個以上的封閉的子圖案，且各子圖案凹陷或凸出於出光面。光源裝置對應於入光面設置。光源裝置提供一光線由入光面進入導光板，並且被光反射面上的其中一個光反射結構改變方向(redirect)後，再由出光面射出導光板。

在本發明之一實施例中，每一子圖案為點狀圖案，且任兩相鄰的點狀圖案相交或相切。

在本發明之一實施例中，每一點狀圖案為位於光反射面上的凹洞，且每一點狀圖案的邊緣凸出於光反射面。

在本發明之一實施例中，每一點狀圖案為位於光反射面上的一凸起，且每一點狀圖案的邊緣凹陷於光反射面。

在本發明之一實施例中，組成每一光反射結構的這些點狀圖案沿一直線排列，且直線的延伸方向實質上垂直於光線的行進方向。

在本發明之一實施例中，每一光反射結構的這些點狀圖案呈陣列排列。

在本發明之一實施例中，各點狀圖案為圓形。

在本發明之一實施例中，每一光反射結構更包括多個內部圖案，分別位於這些子圖案內，每一內部圖案凸出或凹陷於光反射面。

在本發明之一實施例中，各內部圖案為圓形。

在本發明之一實施例中，每一光反射結構內的這些子圖案的數量是沿遠離光源裝置的方向逐漸增加。

在本發明之一實施例中，任兩相鄰的光反射結構的間距是沿遠離光源裝置的方向逐漸變小。

在本發明之一實施例中，每一光反射結構更包括一封閉的基底圖案，基底圖案凹陷或凸出於光反射面，並且涵蓋所述光反射結構內的這些子圖案的聯集區域。

在本發明之一實施例中，基底圖案為矩形。

基於上述，本發明之光源裝置利用導光板上具有多個光反射結構，且每一光反射結構包括一封閉的光作用區以 及位於光作用區內的多個凸起，因此當光線於導光板內傳遞至位於光反射面上的光反射結構時，光線會被凸起反射而經由出光面射出導光板，從而可提高出光效益。

為讓本發明之上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

圖2A為本發明一實施例之光源模組的俯視示意圖，圖2B為沿圖2A之BB’線所繪示之光源模組的剖面示意圖，而圖2C為沿圖2A之CC’線所繪示的光源模組的剖面示意圖，其中為了方便說明，圖2A僅繪示光源裝置與導光板而省略位於導光板上下可能的光學構件。請同時參考圖2A、圖2B與圖2C，本實施例之光源模組200包括一導光板210及一光源裝置220。

導光板210具有一出光面212、與出光面212相對的一光反射面214，以及連接於出光面212與光反射面214之間的至少一入光面216，且導光板210具有多個光反射結構213在光反射面214上。每一光反射結構213包括一封閉的光作用區213a以及位於光作用區213a內的多個凸起213b，其中光作用區213a與光反射面214不共面，而這些凸起213b朝向導光板210外延伸。在本實施例中，每一光反射結構213是由多個點狀圖案215所構成，且兩相鄰的點狀圖案215可以是局部重疊或是相切，如圖2A所示。由另一角度來說，每一光反射結構213可以是包括有 相交或相切的兩個以上的封閉的子圖案，其中各子圖案可視為上述的各點狀圖案215。換言之，每一光反射結構213中的子圖案可以是凹陷或凸出於出光面212，端視其形成方法而定，其中相關描述可參考後續段落中的說明。另外，本實施例所述之各點狀圖案215可等效視為上述各子圖案，其相關描述可參考以下說明。

在圖2B的實施形態中，每一點狀圖案215例如是位於光反射面214上的一凸起，且每一點狀圖案215可包括有凸出部215a以及邊緣215b。詳細而言，凸出部215a係位於光反射面214上且朝向導光板210外延伸而凸出於光反射面214，因此，凸出部215a並未與光反射面214共面，其中所謂的共面係指共平面。由於每一點狀圖案215是凸起結構，因此每一點狀圖案215的邊緣215b便會凹陷於光反射面214。此外，在每一光反射結構213中，這些局部重疊或相切的點狀圖案215的聯集區域M1(亦可參考圖4繪示之外圍區域M1)可形成光反射結構213的光作用區213a，而這些點狀圖案215的交集區域M2的邊緣215b則可形成分離這些凸起213b的多個溝槽217，如圖2C所示。

詳細而言，形成上述凸出部215a結構的方式可以是先使用一雷射光束(未繪示)打點於一鋼板(未繪示)上，其中每一雷射光點的位置同於圖2A所繪示之分佈，也就是說打點於鋼板上的雷射光點會互相局部重疊或相切。接著，再將鋼板模印於一導光基材後便可形成如圖2B與圖2C所繪示的導光板210。這裡需要說明的是，由於打在鋼板上 的雷射光束是採用雷射燒蝕的方式，因此，形成於鋼板上的圖樣便會有類似火山口的構造，如此一來，當鋼板模印於導光基材後，便會形成圖2B中點狀圖案215的邊緣215b凹陷於光反射面214之結構。

然而，於其他實施形態中，導光板210的製作方式也可以是在一導光基材上直接地使用雷射光束進行前述的打點製程，如此一來，導光板210上所形成的點狀圖案215便會是位於光反射面214上的一凹陷部215c，而每一點狀圖案215的邊緣215b則會凸出於光反射面214，如圖3A與圖3B所示，其中圖3A為沿圖2A之BB’線所繪示之另一實施形態之光源模組的剖面示意圖，而圖3B為沿圖2A之CC’線所繪示之另一實施形態之光源模組的剖面示意圖。

在圖3A與圖3B之實施形態中，由於是使用雷射光束直接地打點於導光基板之光反射面214上，因此其所形成的每一光反射結構213中的點狀圖案215便可視為位於光反射面214上的凹洞，且每一點狀圖案215的邊緣可凸出於光反射面214。此外，每一光反射結構213中局部重疊或相切的點狀圖案215之聯集區域M1可形成前述的光作用區213a，而這些局部重疊或相切的點狀圖案215之交集區域M2(亦可參考圖4繪示之區域M2)的邊緣215b可形成有多個凸起213b結構。

同樣地，由於直接打在導光基材上的雷射光束是採用雷射燒蝕的方式，因此，形成於導光板210上的圖樣便會 有類似火山口的構造，如圖3A中點狀圖案215的邊緣215b會凸出於光反射面214之結構。需要注意的是，形成本實施例光反射結構213的方式並不一定要採用雷射燒蝕的方式，其也可以採用一般雷射製程、一般蝕刻製程或是其他適當的製程，如此一來，便不會形成圖2B中之點狀圖案215的邊緣215b會凹陷於光反射面214之結構，或者是形成如圖3A中之點狀圖案215的邊緣215b會凸出於光反射面214之結構。

另外，光源裝置220對應於導光板210的入光面216設置，如圖2A、圖2B與圖3A所示。光源裝置220提供一光線L1由入光面216進入導光板210，並且被光反射面214上的其中一個光反射結構213(如：凸起213b)改變方向後，再由出光面212射出導光板210，如圖2B與圖3B所示。詳細而言，由於導光板210上的每一光反射結構213是由多個點狀圖案215局部重疊或相切所構成，因此當光線L1於導光板210內傳遞至位於光反射面214上的光反射結構213時，光線L1便很容易地會被凸起213b全反射而經由出光面212射出導光板210，從而可提高出光效益。另外，部分的光線L1若穿透光反射面214而射出導光板210時，光源模組200可設置一反射片230於光反射面214上，以將光線L1傳遞回導光板210中，藉以提高光線的利用率。舉例而言，若光源模組200採用上述的導光板210後，將可提升其整體的閉口率外，亦可提升其整體的出光亮度，其中在實驗數據中顯示出若光源模組200若採用上 述具有多個點狀圖案215重疊之導光板210結構時，其整體出光亮度相較傳統如圖1A所繪示的導光板120將可提升至少10.8%以上。

換言之，由於光線L1會被點狀圖案215局部重疊或相切所構成的凸起213b改變方向並經由出光面212射出導光板210，因此，採用本實施例之導光板210將可提高光源模組200整體的出光效益。在本實施例中，光源裝置220以多個陣列排列的發光二極體222作為舉例說明，但不限於此。於其他實施例中，光源裝置220也可以是採用冷陰極螢光燈管或是其他適當的光源。

在本實施例中，上述組成每一光反射結構213的這些點狀圖案215是沿一直線排列，且直線的延伸方向P1實質上垂直於光線L1的行進方向，意即延伸方向P1例如為X軸方向，如圖2A所示。

另外，光反射結構213中的點狀圖案215局部重疊的程度將會對光源模組200所提供的出光增益有所影響。以下將以圖4為舉例說明，在本實施例中，若點狀圖案215是以圓形為舉例並具有一半徑r，且相鄰的點狀圖案215所重疊的徑長定義為d，其中徑長定義為兩相鄰點狀圖案215半徑重疊的最大長度。若任兩相鄰之點狀圖案215局部重疊是落在r/3<d<2r的範圍內，則導光板210所能提升光源模組200整體的出光效益便可具有較佳的表現，反之若重疊量是小於r/3以下時，則導光板210所能提升之光源模組200的出光效益相對來說便會較小。

在本實施例中，除了光反射結構213中的點狀圖案215的重疊程度會對光源模組200的出光效益產生影響外，各光反射結構213之間沿X軸方向上的間距d1或沿Y軸方向上的間距d2也會對光源模組200的出光效益有所影響。舉例而言，在圖2A中，各光反射結構213之間沿Y軸方向上的間距d2例如是隨著遠離光源裝置220的方向而漸小，如此，可使得離光源裝置220較遠的出光面212仍可提供足夠的亮度。換言之，導光板210若是採用如圖2A所繪示之光反射結構213的分佈時，將可使光源模組200具有較佳的整體出光效益以及較佳的出光均勻度。

在另一實施形態中，導光板210上的光反射結構213的排列方式也可以是採用如圖5所繪示的排列。在圖5中，各光反射結構213沿X軸方向上的間距d2也可以是沿Y軸方向漸小，意即遠離光源裝置220的方向。採用如圖5之光反射結構213的排列同樣也可使光源模組200具有較佳的整體出光效益以及較佳的出光均勻度。

另外，在圖2與圖5中，各光反射結構213的點狀圖案215的數量皆為相同，而其變化形態僅是改變各光反射結構之間的間距d1、d2。在又一實施形態中，光反射結構213中的點狀圖案215的數量亦可隨著遠離光源模組的方向而改變，如圖6與圖7所示。在圖6中，各光反射結構213中的點狀圖案215的數量是隨著遠離光源模組220的方向逐漸增加，且各光反射結構213沿Y軸方向上的間距d2是沿遠離光源裝置220的方向逐漸變小，而各光反射結 構213沿X軸方向上的間距d1則是沿遠離光源裝置220的方向逐漸變小。圖7與圖6之光反射結構213的排列方式相似，惟二者不同處在於，圖7中的各光反射結構213沿Y軸方向上的間距d2是固定。同樣地，光源模組200中的導光板210無論是採用如圖6或圖7之光反射結構213的排列，皆可使光源模組200具有較佳的整體出光效益以及較佳的出光均勻度。

在本實施例中，位於導光板210之光反射面214上的光反射結構213除了可以採用如圖2A、圖5、圖6以及圖7所繪示之點狀圖案215的設計外，其也可採用如圖8A~圖8E所繪示的光反射結構213，其中圖8A~圖8E中的光反射結構213的製作方式可採用前述的雷射燒蝕的方式，或者是採用一般雷射製程或蝕刻製程。以下將分別詳細說明圖8A~圖8E中的光反射結構213之結構。

在圖8A中，每一光反射結構213更可包括多個內部圖案219，其中每一內部圖案219分別位於點狀圖案215內，且每一內部圖案219的邊緣可凸出或凹陷於光反射面214。需要說明的是，內部圖案219是凸出或凹陷於光反射面214可取決於或使用前述形成點狀圖案215的方式。舉例而言，若點狀圖案215是採用前述鋼板模印的方式形成，則內部圖案219亦可同於方式，又或者是採用其他雷射製程或蝕刻製程。在本實施例中，前述的內部圖案219的圖樣可以是一圓形，但不限於此。

在圖8B中，每一光反射結構213更可包括一封閉的 基底圖案218，其中基底圖案218可以凹陷或凸出於光反射面214，並且涵蓋所述光反射結構213內的點狀圖案215的聯集區域M1。同樣地，基底圖案218是凸出或凹陷於光反射面214可取決於或使用前述形成點狀圖案215的方式，在此不再贅述。在本實施例中，基底圖案218的圖樣可以是一矩形，但不限於此。

由另一角度來說，圖8B的每一光反射結構213的這些凸起213b可以由位於光作用區213a內的多個點狀圖案215所構成。舉例而言，若圖8B之光反射結構213是採用圖3A所繪示的製作方式時，則每一點狀圖案215是位於光反射面214上的一凹陷部215c，且每一點狀圖案215的邊緣215b凸出於光反射面214；反之，若圖8B之光反射結構213是採用圖2B所繪示的製作方式時，每一點狀圖案215則是位於光反射面214上的一凸出部215a，且每一點狀圖案215的邊緣215b凹陷於光反射面214。此外，若於圖8B中的光反射結構213中加入圖8A所提及的內部圖案219的設計，則可形成如圖8C所繪示的光反射結構213。

另外，圖8D的光反射結構213與圖8B的光反射結構213相似，惟二者不同處在於，圖8D中的任兩點狀圖案215相鄰且相切。而圖8E的光反射結構213則是與圖8D的光反射結構213相似，惟圖8E的點狀圖案215是呈現陣列排列。在光源模組200中，導光板210上的光反射結構213除了採用如圖2A、圖5、圖6以及圖7所繪示之點狀圖案215的設計而可具有前述所提及的優點外，光反射 結構213若是採用圖8A~圖8E之結構，也可提供光源模組整體的出光效益。

在本實施例中，光源模組200亦可包括有一光學擴散片240，配置於導光板210的出光面212上，如此，將可進一步地均勻化光源模組200所提供的光線。

綜上所述，本發明之光源模組至少具有下列優點。首先，導光板具有多個光反射結構在光反射面上，且每一光反射結構包括一封閉的光作用區以及位於光作用區內的多個凸起，因此當光線於導光板內傳遞至位於光反射面上的光反射結構時，光線會被凸起反射而經由出光面射出導光板，從而可提高出光效益。由另一角度來說，由於每一光反射結構包括相交或相切的兩個以上的封閉的子圖案，且各子圖案可凹陷或凸出於出光面，因此光線在被光反射結構改變方向而經由出光面射出導光板後，可提高導光板整體的出光效益。

另外，藉由設計各光反射結構之間的間距除了可進一步地提升導光板的出光增益外，亦可使得出射於導光板的光線更為均勻化。此外，適當地設計各光反射結構中的點狀圖案的數量變化，如：遠離光源裝置的方向逐漸變多，亦可達到提升出光增益及均勻化出射光線的效果。

再者，光反射結構亦可以是採用其他適當的圖樣以於光作用區內形成多個凸起，如此亦可有助於出光效益的提升。另外，光源模組可設置一反射片於光反射面上，以將穿透光反射面而射出導光板的光線傳遞回導光板中，藉以 提高光線的利用率。

惟以上所述者，僅為本發明之較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。另外本發明的任一實施例或申請專利範圍不須達成本發明所揭露之全部目的或優點或特點。此外，摘要部分和標題僅是用來輔助專利文件搜尋之用，並非用來限制本發明之權利範圍。

100、200‧‧‧光源模組

110‧‧‧光源

112‧‧‧光束

120、210‧‧‧導光板

121‧‧‧凸起部

122‧‧‧上表面

124‧‧‧下表面

126‧‧‧入光面

130、230‧‧‧反射片

140、240‧‧‧光學擴散片

220‧‧‧光源裝置

212‧‧‧出光面

214‧‧‧光反射面

216‧‧‧入光面

213‧‧‧光反射結構

213a‧‧‧光作用區

213b‧‧‧凸起

215‧‧‧點狀圖案

215a‧‧‧凸出部

215b‧‧‧邊緣

217‧‧‧溝槽

219‧‧‧內部圖案

215c‧‧‧凹陷部

222‧‧‧發光二極體

M1‧‧‧聯集區域

M2‧‧‧交集區域

L1‧‧‧光線

P1‧‧‧延伸方向

X、Y‧‧‧軸

R‧‧‧半徑

d‧‧‧徑長

d1、d2‧‧‧間距

圖1A為習知一種側邊入光式光源模組的俯視圖。

圖1B為沿圖1A之AA’線所繪示的光源模組的剖示圖。

圖2A為本發明一實施例之光源模組的俯視示意圖。

圖2B為沿圖2A之BB’線所繪示之光源模組的剖面示意圖。

圖2C為沿圖2A之CC’線所繪示的光源模組的剖面示意圖。

圖3A為沿圖2A之BB’線所繪示之另一實施形態之光源模組的剖面示意圖。

圖3B為沿圖2A之CC’線所繪示之另一實施形態之光源模組的剖面示意圖。

圖4為圖2A中光反射結構之點狀圖案局部重疊的示意圖。

圖5~圖7分別繪示光源模組中光反射結構的排列與點狀圖案的數量採用不同實施形態的俯視示意圖。

圖8A~圖8E分別繪示圖2A中光反射結構採用不同實施形態的示意圖。

200‧‧‧光源模組

210‧‧‧導光板

213‧‧‧光反射結構

213a‧‧‧光作用區

215‧‧‧點狀圖案

216‧‧‧入光面

220‧‧‧光源裝置

222‧‧‧發光二極體

L1‧‧‧光線

P1‧‧‧延伸方向

X、Y‧‧‧軸

d1、d2‧‧‧間距

Claims (34)

1. 一種光源模組，包括：一導光板，具有一出光面、與該出光面相對的一光反射面，以及連接於該出光面與該光反射面之間的至少一入光面，且該導光板具有多個光反射結構在該光反射面上，每一光反射結構是由多個點狀圖案所構成，且任兩相鄰的點狀圖案局部重疊，每一光反射結構包括一封閉的光作用區以及位於該光作用區內的多個凸起，其中該光作用區與該光反射面不共面，而該些凸起朝向該導光板外延伸；以及一光源裝置，對應於該入光面設置，該光源裝置提供一光線由該入光面進入該導光板，並且被該光反射面上的其中一個凸起改變方向(redirect)後，再由該出光面射出該導光板。
2. 如申請專利範圍第1項所述之光源模組，其中每一點狀圖案為位於該光反射面上的一凹陷部，且每一點狀圖案的邊緣凸出於該光反射面，該些點狀圖案的聯集區域形成該光作用區，而該些點狀圖案的交集區域的邊緣形成該些凸起。
3. 如申請專利範圍第1項所述之光源模組，其中每一點狀圖案為位於該光反射面上的一凸出部，且每一點狀圖案的邊緣凹陷於該光反射面，該些點狀圖案的聯集區域形成該光作用區，而該些點狀圖案的交集區域的邊緣形成分離該些凸起的多個溝槽。
4. 如申請專利範圍第1項所述之光源模組，其中組成每一光反射結構的該些點狀圖案沿一直線排列，且該直線的延伸方向實質上垂直於該光線的行進方向。
5. 如申請專利範圍第1項所述之光源模組，其中各該點狀圖案為圓形。
6. 如申請專利範圍第1項所述之光源模組，其中每一光反射結構更包括多個內部圖案，分別位於該些點狀圖案內，每一內部圖案的邊緣凸出或凹陷於該光反射面。
7. 如申請專利範圍第6項所述之光源模組，其中各該內部圖案為圓形。
8. 如申請專利範圍第1項所述之光源模組，其中每一光反射結構內的該些點狀圖案的數量是沿遠離該光源裝置的方向逐漸增加。
9. 如申請專利範圍第8項所述之光源模組，其中任兩相鄰的光反射結構的間距是沿遠離該光源裝置的方向逐漸變小。
10. 如申請專利範圍第1項所述之光源模組，其中每一光反射結構的該些凸起是由位於該光作用區內的多個點狀圖案所構成，每一點狀圖案為位於該光反射面上的一凹陷部，且每一點狀圖案的邊緣凸出於該光反射面。
11. 如申請專利範圍第10項所述之光源模組，其中任兩相鄰的點狀圖案局部重疊，且該些點狀圖案的聯集區域與交集區域的邊緣形成該些凸起。
12. 如申請專利範圍第10項所述之光源模組，其中每 一光反射結構更包括多個內部圖案，分別位於該些點狀圖案內，每一內部圖案的邊緣凸出或凹陷於該光反射面。
13. 如申請專利範圍第10項所述之光源模組，其中任兩點狀圖案相鄰且不相交。
14. 如申請專利範圍第10項所述之光源模組，其中每一光反射結構內的該些點狀圖案沿一直線排列，且該直線的延伸方向實質上垂直於該光線的行進方向。
15. 如申請專利範圍第10項所述之光源模組，其中每一光反射結構內的該些點狀圖案呈陣列排列。
16. 如申請專利範圍第1項所述之光源模組，其中每一光反射結構的該些凸起是由位於該光作用區內的多個點狀圖案所構成，每一點狀圖案為位於該光反射面上的一凸出部，且每一點狀圖案的邊緣凹陷於該光反射面。
17. 如申請專利範圍第16項所述之光源模組，其中任兩相鄰的點狀圖案局部重疊，且該些點狀圖案的聯集區域與交集區域的邊緣形成分離該些凸起的多個溝槽。
18. 如申請專利範圍第16項所述之光源模組，其中每一光反射結構更包括多個內部圖案，分別位於該些點狀圖案內，每一內部圖案的邊緣凸出或凹陷於該光反射面。
19. 如申請專利範圍第16項所述之光源模組，其中任兩點狀圖案相鄰且不相交。
20. 如申請專利範圍第16項所述之光源模組，其中每一光反射結構內的該些點狀圖案沿一直線排列，且該直線的延伸方向實質上垂直於該光線的行進方向。
21. 如申請專利範圍第16項所述之光源模組，其中每一光反射結構內的該些點狀圖案呈陣列排列。
22. 一種光源模組，包括：一導光板，具有一出光面、與該出光面相對的一光反射面，以及連接於該出光面與該光反射面之間的至少一入光面，且該導光板的該光反射面形成有多個光反射結構，每一光反射結構包括相交的兩個以上的封閉的子圖案，且各該子圖案凹陷或凸出於該出光面；以及一光源裝置，對應於該入光面設置，該光源裝置提供一光線由該入光面進入該導光板，並且被該光反射面上的其中一個光反射結構改變方向(redirect)後，再由該出光面射出該導光板。
23. 如申請專利範圍第22項所述之光源模組，其中每一子圖案為點狀圖案，且任兩相鄰的點狀圖案相交或相切。
24. 如申請專利範圍第23項所述之光源模組，其中每一點狀圖案為位於該光反射面上的凹洞，且每一點狀圖案的邊緣凸出於該光反射面。
25. 如申請專利範圍第23項所述之光源模組，其中每一點狀圖案為位於該光反射面上的一凸起，且每一點狀圖案的邊緣凹陷於該光反射面。
26. 如申請專利範圍第23項所述之光源模組，其中組成每一光反射結構的該些點狀圖案沿一直線排列，且該直線的延伸方向實質上垂直於該光線的行進方向。
27. 如申請專利範圍第23項所述之光源模組，其中每 一光反射結構的該些點狀圖案呈陣列排列。
28. 如申請專利範圍第23項所述之光源模組，其中各該點狀圖案為圓形。
29. 如申請專利範圍第22項所述之光源模組，其中每一光反射結構更包括多個內部圖案，分別位於該些子圖案內，每一內部圖案凸出或凹陷於該光反射面。
30. 如申請專利範圍第29項所述之光源模組，其中各該內部圖案為圓形。
31. 如申請專利範圍第22項所述之光源模組，其中每一光反射結構內的該些子圖案的數量是沿遠離該光源裝置的方向逐漸增加。
32. 如申請專利範圍第31項所述之光源模組，其中任兩相鄰的光反射結構的間距是沿遠離該光源裝置的方向逐漸變小。
33. 如申請專利範圍第22項所述之光源模組，其中每一光反射結構更包括一封閉的基底圖案，該基底圖案凹陷或凸出於該光反射面，並且涵蓋所述光反射結構內的該些子圖案的聯集區域。
34. 如申請專利範圍第33項所述之光源模組，其中該基底圖案為矩形。