TWI506519B - 導電膜、其製造方法以及包含該導電膜之觸控屏 - Google Patents

Description

導電膜、其製造方法以及包含該導電膜之觸控屏

本發明關於電子技術，特別是關於一種導電膜及其製造方法以及包含該導電膜之觸控屏。

在日常生活中，電容式觸控屏已廣泛應用於各種電子產品，給人們的生活帶來極大方便。隨著人們對用戶體驗的進一步提高，電子產品越來越向輕薄化的方向發展。觸控屏是決定電子設備是否做薄的重要因素。因此，隨著對電子產品的輕薄化需要，觸控屏也逐步向輕薄化發展。OGS(One Glass Solution，即一體化觸控)是觸控屏向輕薄化發展的重要途徑。OGS的主要思路在保護玻璃上直接形成ITO導電膜及感測器，使一塊玻璃同時起到保護玻璃和觸摸感測器的雙重作用。

生產觸控屏時需先製造導電膜，再將顯示模組貼附於導電膜上以得到觸控屏。在一般的OGS工藝中，大多是直接在保護玻璃表面形成導電層(一般為ITO層)，從而得到用於製造觸控屏的導電膜。故在傳統工藝得到的導電膜中，導電層突出於玻璃表面。而由於導電材料，如ITO的質地一般較軟，故突出於玻璃表面的導電層容易被劃傷。因此，在貼合顯示模組時可能會劃傷導電層而導致電膜報廢傳統，進而使得產品良率不高。

基於此，有必要提供一種可提高產品良率的導電膜及其製造 方法以及包含該導電膜的觸控屏。

一種導電膜，包括：基底，包括第一表面及與該第一表面相 對設置的第二表面；第一基質層，附著於該第一表面，該第一基質層由膠狀物塗層固化形成，該第一基質層遠離該基底的一側開設有第一網格凹槽，該第一網格凹槽內填充導電材料，形成第一導電層；第二基質層，附著於該第一基質層上遠離該基底的一側，該第二基質層由膠狀物塗層固化形成，該第二基質層的長度小於該第一基質層的長度，以使該第一基質層的一端形成未被該第二基質層附著的空白區域，該第二基質層遠離該第一基質層的一側開設有第二網格凹槽，該第二網格凹槽內填充導電材料，形成第二導電層；及遮光層，附著於該第二基質層的邊緣及該空白區域，該第二基質層附著該遮光層的區域形成第二非可視區域，附著該遮光層的空白區域形成第一非可視區域，該第一網格凹槽延伸至該第一非可視區域，該第二網格凹槽延伸至該第二非可視區域；該遮光層上開設第一通孔，該第一通孔貫穿該遮光層及並與該第一網格凹槽連通，該第一通孔內填充導電材料，以形成與該第一導電層電性連接的第一引線電極；該遮光層表面還具有第二引線電極，該第二引線電極與該第二導電層電性連接。

在其中一個實施例中，該第二引線電極通過蝕刻方式形成引 線，且使該引線導電材料與該第二導電層的導電材料電性連接；或在該遮光層上開設第二通孔，該第二通孔貫穿該遮光層並與該第二網格凹槽連通，該第二通孔內填充導電材料，並與該第二導電層的導電材料電性連接。

在其中一個實施例中，該第一導電層的厚度不大於該第一網格凹槽的深度，該第二導電層的厚度不大於該第二網格凹槽的深度。

在其中一個實施例中，該導電材料為銀。

在其中一個實施例中，該第一網格凹槽及該第二網格凹槽的寬度介於1~5微米，深度介於2~6微米，且深寬比大於1，該第一導電層及該第二導電層的透過率大於85%。

在其中一個實施例中，該遮光層的厚度為1~10微米。

在其中一個實施例中，該遮光層為油墨層或黑色光阻層。

在其中一個實施例中，該基底為玻璃。

在其中一個實施例中，該第一網格凹槽及該第二網格凹槽的網格為隨機網格。

一種觸控屏，包括：如上述優選實施例中任一項該的導電膜；顯示模組，通過光學膠貼附於該第二基質層遠離該第一基質層的一側。

一種導電膜的製造方法，包括以下步驟：提供一基底，該基底包括第一表面及與該第一表面相對設置的第二表面；在該基底的第一表面塗覆膠狀物，並使該膠狀物固化以形成第一基質層，在該第一基質層上遠離該基底的一側開設第一網格凹槽；向該第一網格凹槽內填充導電材料，以形成第一導電層；在該第一基質層上遠離該基底的一側的中部塗覆膠狀物，並使該膠狀物固化以形成第二基質層，該第一基質層的兩端形成未被該第二基質層附著的空白區域，在該第二基質層上開設第二網格凹槽；向該第二網格凹槽中填充導電材料，以形成第二導電層；在該第二基質層遠離該第一基質層的一側邊緣及該空白區域塗覆遮光材料，以形成環 形的遮光層；在該遮光層上開設第一通孔及第二通孔，該第一通孔與該第一網格凹槽連通，該第二通孔與該第二網格凹槽連通；該第一通孔及該第二通孔內填充導電材料，以分別形成與該第一導電層電性連接的第一引線電極及與該第二導電層電性連接的第二引線電極。

與傳統的導電膜相比，上述導電膜具有至少如下優點： 1.由於第一導電層及第二導電層分別位於第一網格凹槽及第二網格凹槽內，第一導電層及第二導電層分別被第一基質層及第二基質層包覆。因此，第一基質層和第二基質層可對第一導電層及第二導電層提供保護，從而防止在製造觸控屏時對第一導電層及第二導電層造成刮傷，進而可提高產品的良率；2.基底的邊緣設有遮光層，第一引線電極及第二引線電極可設置於由遮光層投影形成的第一非可視區域及第二非可視區域內。因此，在組裝成觸控屏時，從螢幕正面觀察不到第一引線電極及第二引線電極的佈線，從而可改善產品的外觀。

10‧‧‧觸控屏

100‧‧‧基底

110‧‧‧導電膜

120‧‧‧第一基質層

121‧‧‧第一網格凹槽

123‧‧‧空白區域

130‧‧‧第一導電層

140‧‧‧第二基質層

141‧‧‧第二網格凹槽

150‧‧‧第二導電層

160‧‧‧遮光層

170‧‧‧第一引線電極

180‧‧‧第二引線電極

200‧‧‧顯示模組

第1圖為本發明較佳實施例中觸控屏的層狀結構示意圖；第2圖為第1圖所示觸控屏中導電膜的縱向介面示意圖；第3圖為第2圖所示導電膜的橫向介面示意圖；第4圖為第2圖所示導電膜立體結構圖；第5圖為第2圖所示導電膜中第一導電層及第二導電層的網格形狀示意圖； 第6圖為另一實施例中第一導電層及第二導電層的網格形狀示意圖；第7圖為一個實施例中導電膜的製造方法的流程圖。

為了便於理解本發明，下面將參照相關圖式對本發明進行更全面的描述。圖式中給出了本發明的較佳實施例。但是，本發明可以以許多不同的形式來實現，並不限於本文所描述的實施例。相反地，提供這些實施例的目的是使對本發明的公開內容的理解更加透徹全面。

需要說明的是，當元件被稱為“固定於”另一個元件，它可以直接在另一個元件上或者也可以存在居中的元件。當一個元件被認為是“連接”另一個元件，它可以是直接連接到另一個元件或者可能同時存在居中元件。

除非另有定義，本文所使用的所有的技術和科學術語與屬於本發明的技術領域的技術人員通常理解的含義相同。本文中在本發明的說明書中所使用的術語只是為了描述具體的實施例的目的，不是旨在于限制本發明。本文所使用的術語“及/或”包括一個或多個相關的所列項目的任意的和所有的組合。

請參閱第1圖，本發明較佳實施例中的觸控屏10包括導電膜100及顯示模組200。其中，顯示模組200通過光學膠貼附於導電膜100上。

請一併參閱第2圖、第3圖及第4圖，導電膜100包括基底110、第一基質層120、第一導電層130、第二基質層140、第二導電層150、遮光層160、第一引線電極170、及第二引線電極180。

基底110為板狀結構，包括第一表面(圖未標)及第二表面 (圖未標)，其中第一表面與第二表面相對設置。在本實施例中，基底110為玻璃基底，且用於製造基底110的玻璃經過強化處理，故得到基底110強度高，可很好的起到保護作用。需要指出的是，在其他的實施例中，基底110還可為其他材質的薄膜，如聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯塑膠(PC)以及對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜等。當導電膜100應用於觸控屏製造時，製造基底110的材料優選為透明絕緣材料。

第一基質層120附著於基底110的第一表面。第一基質層120由塗覆於基底110上的膠狀物固化形成，因此，其厚度小於基底110的厚度。此外，第一基質層120由透明絕緣材料製成，且該材料異於基底110的材料。

此外，第一基質層120遠離基底110的一側開設有第一網格凹槽121。導電材料填充於第一網格凹槽121內，以形成第一導電層130。由於第一導電層130位於第一網格凹槽121內，故第一基質層120可包覆第一導電層130。因此，第一基質層120可對第一導電層130形成保護，從而防止該第一導電層130在後續的貼合程式中被刮傷。

具體的，導電材料填充於第一網格凹槽121以形成第一導電層130，第一導電層130為由導電細線交叉構成的導電網格。由於ITO在做大尺寸的導電膜時電阻比較大，故傳統的利用包含ITO導電層的導電膜所製造的觸控屏的靈敏度不好。而網格狀的結構可有效的減小電阻，從而使第一導電層130的電阻較小，進而可提高產品的靈敏度。

第二基質層140附著於第一基質層120上遠離基底110的一側。第二基質層140由塗覆於第一基質層120上的膠狀物固化形成，其厚度 小於基底110的厚度。其中，第二基質層140的長度小於第一基質層120的長度(第4圖中a為第一基質層的長度，b為第二基質層的長度)。而且，第二基質層140的一端第一基質層120的一端對齊，以使第一基質層120的一端形成未被第二基質層140附著的空白區域123。具體的，第二基質層140遠離第一基質層120的一側與顯示模組200貼合，以使顯示模組200貼附於導電膜100上。

此外，第二基質層140遠離第一基質層120的一側開設有第二 網格凹槽141。導電材料填充於第二網格凹槽141內，以形成第二導電層150。由於第二導電層150位於第二網格凹槽141內，故第二基質層140可包覆第二導電層150。因此，第二基質層140對第二導電層150形成保護，防止該第二導電層150在後續貼合程式中被刮傷。

具體的，導電材料填充於第二網格凹槽141以形成第二導電 層150，第二導電層150為由導電細線交叉構成的導電網格。由於ITO在做大尺寸的導電膜時電阻比較大，故傳統的利用ITO導電層的導電膜所製造的觸控屏的靈敏度不好。而網格狀的結構可有效的減小電阻，從而使第二導電層150的電阻較小，進而提高產品的靈敏度。

遮光層160附著於第二基質層140的邊緣以及空白區域123。 遮光層160由塗覆於第二基質層140表面邊緣及空白區域123的遮光材料形成，所形成的遮光層160為環形層狀結構。遮光層160由不透光的材料製成，故可在第一基質層120及第二基質層140的邊緣形成陰影。第二基質層140附著遮光層160的區域形成第二非可視區域(圖未標)，空白區域123附著遮光層160，從而形成第一非可視區域(圖未示)。其中，第一網格凹槽121延伸 至第一非可視區域，第二網格凹槽141延伸至第二非可視區域。

在本實施例中，遮光層160為油墨層或黑色光阻層，其厚度 介於1~10微米。遮光層160為油墨層時，遮光層160的厚度可為6微米，而遮光層160為黑色光阻層時，遮光層160的厚度可為1微米，從而達到更薄的厚度。

遮光層160上開設有第一通孔(圖未示)。第一通孔貫穿遮光 層160並與第一網格凹槽121連通。

第一通孔內填充導電材料，形成第一引線電極170。由於第 一通孔與第一網格凹槽121連通。因此，可使第一通孔內形成的第一引線電極170與第一導電層130電性連接。第一引線電極170將第一導電層130引到遮光層160的表面，從而便於第一導電層130與電子設備的控制器電性連接。

第二引線電極180形成於遮光層160的表面，第二引線電極180與第二導電層150電性連接。

在本實施例中，第二引線電極180通過蝕刻方式形成引線，且使該引線導電材料與第二導電層150的導電材料電性連接。此外，在其他實施例中，還可在遮光層上開設第二通孔(圖未示)，第二通孔貫穿遮光層160並與第二網格凹槽141連通。第二通孔內填充導電材料，以形成第二引線電極180。由於第二通孔與第二網格凹槽141連通。因此，可使第二通孔內形成的第二引線電極180與第二導電層150電性連接。第二引線電極180將第二導電層150引到遮光層160的表面，從而便於第二導電層150與電子設備的控制器電性連接。

導電膜100用於製造電子設備的觸控屏時，第一引線電極170 及第二引線電極180用於將第一導電層130及第二導電層150與電子設備的控制器電性連接，從而使控制器感測到觸控屏上的操作。由於第一引線電極170及第二引線電極180均位於遮光層160的表面。因此，在製造的電子設備上觀測不到第一引線電極170及第二引線電極180的佈線，從而有助於提升產品外觀。

在本實施例中，形成第一導電層130、第二導電層150、第一 引線電極170及第二引線電極180的導電材料為銀。銀為良導體，電阻率小，從而可進一步提高產品的靈敏度。需要指出的是，在其他實施例中，導線材料還可為高分子導電材料、石墨烯、碳納米管以及氧化銦錫(ITO)等。

請一併參閱第5圖，在本實施例中，第一網格凹槽121及第二 網格凹槽141的網格為隨機網格。因此，形成的第一導電層130及第二導電層150的網格形狀也為隨機網格。由於隨機網格的中心隨機分佈，從而使得第一導電層130與第二導電層150之間不會產生干涉現象，進而避免產生莫爾條紋，提升包含導電膜100的顯示幕的顯示效果。需要指出的是，如第6圖所示，在其他實施例中，第一網格凹槽121及第二網格凹槽141的網格形狀還可為正多邊形，而第一導電層130與第二導電層150的網格中心錯開，以避免產生莫爾條紋。

在本實施例中，第一導電層130的厚度不大於第一網格凹槽 121的深度，第二導電層150的厚度不大於第二網格凹槽141的深度。因此，第一導電層130與第二導電層150可通過第一基質層120及第二基質層140絕緣，從而在第一導電層130與第二導電層150之間形成電容結構。需要指出的是，在其他實施例中，還可通過在第一基質層120與第二基質層140鋪設 絕緣層的方式使第一導電層130與第二導電層150絕緣。

在本實施例中，第一網格凹槽121及第二網格凹槽141的寬度介於1~5微米，高度介於2~6微米，且深寬比大於1。因此，形成的第一導電層130及第二導電層150的透過率大於85%，光線從導電層穿過使不會有太多損耗，從而可使包含導電膜100的顯示幕具有更佳的顯示效果。

與傳統的導電膜相比，導電膜100具有至少如下優點：1.由於第一導電層130及第二導電層150分別位於第一網格凹槽121及第二網格凹槽141內，第一導電層130及第二導電層150分別被第一基質層120及第二基質層140包覆。因此，第一基質層120和第二基質層140可對第一導電層130及第二導電層150提供保護，從而防止在製造觸控屏時對第一導電層130及第二導電層150造成刮傷，進而可提高產品的良率；2.基底110的邊緣設有遮光層160，第一引線電極170及第二引線電極180可設置於由遮光層160投影形成的第一非可視區域及第二非可視區域內。因此，在組裝成觸控屏10時，從螢幕正面觀察不到第一引線電極170及第二引線電極180的佈線，從而可改善產品的外觀。

此外，本發明還提供一種導電膜的製造方法。

請參閱第7圖，在一個實施例中，導電膜的製造方法包括步驟S110~S180：步驟S110，提供一基底，基底包括第一表面及與第一表面相對設置的第二表面。本實施例中，基底的材質為玻璃。而且，玻璃經過強化處理，使得基底能很好的起到保護作用。需要指出的是，在其他的實施 例中，基底還可為其他材質，如聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯塑膠(PC)以及對苯二甲酸乙二酯(PET)等。

步驟S120，在基底的第一表面塗覆膠狀物，並使膠狀物固 化以形成第一基質層，在第一基質層上遠離基底的一側開設第一網格凹槽。具體的，形成的第一基質層附著於基底的第一表面。進一步的，在本實施例中，可採用壓印的方式在第一基質層遠離基底的一側形成第一網格凹槽，且第一網格凹槽的深度小於第一基質層的厚度。

步驟S130，向第一網格凹槽內填充導電材料，以形成第一 導電層。在本實施例中，導電材料形成在第一網格凹槽內形成相互交錯的導電細線，該導電細線組成導電網格。具體地，可先向第一網格凹槽中填充導電銀漿，再使導電銀漿燒結固化，形成導電網格。

進一步的，第一導電層的厚度小於第一網格凹槽的深度。因 此，第一導電層包覆於第一基質層內，第一基質層可對第一導電層起到保護作用，從而可避免第一導電層在後續的貼合過程中被劃傷。

步驟S140，在第一基質層上遠離基底的一側的中部塗覆膠 狀物，並使膠狀物固化以形成第二基質層，第一基質層的兩端形成未被第二基質層附著的空白區域，在第二基質層上開設第二網格凹槽。具體的，形成第二基質層的材料與形成第一基質層的材料相同。在第一基質層的表面並未完全進行塗覆，膠狀物從第一基質層的中部向兩端延伸，並在第一基質層的兩端形成未塗覆膠狀物的空白區域。進一步的，在本實施例中，可採用壓印的方式在第二基質層遠離第一基質層的一側形成第二網格凹槽，且第二凹槽的深度小於第二基質層的厚度。

步驟S150，向第二網格凹槽中填充導電材料，以形成第二 導電層。在本實施例中，導電材料形成在第二網格凹槽內形成相互交錯的金屬導電細線，該金屬導電細線組成導電網格。具體地，可先向第二網格凹槽中填充導電銀漿，再使導電銀漿燒結固化，形成導電網格。

步驟S160，在第二基質層遠離該第一基質層的一側邊緣及 空白區域塗覆遮光材料，以形成環形的遮光層。具體的，遮光層由不透光的材料製成，故可在第一基質層及第二基質層的邊緣形成陰影。在第一基質層上附著遮光層的區域(即空白區域)形成第一非可視區域，而第二基質層上附著遮光層的區域形成第二非可視區域。在本實施例中，形成遮光層的材料可為油墨或黑色光阻，其厚度介於1~10微米。當採用油墨形成遮光層時，遮光層的厚度可為6微米，而當採用黑色光阻形成遮光層時，遮光層的厚度可為1微米。因此，採用黑色光阻形成遮光層能進一步降低導電膜的厚度。

步驟S170，在遮光層上開設第一通孔及第二通孔，第一通 孔與第一網格凹槽連通，第二通孔與第二網格凹槽連通。具體的，可通過曝光顯影方法在遮光層上形成第一通孔及第二通孔。其中，第一通孔貫穿遮光層而與第一網格凹槽連通。第二通孔貫穿遮光層與第二網格凹槽連通。

步驟S180，向第一通孔及二通孔內填充導電材料，以分別 形成與第一導電層電性連接的第一引線電極及與第二導電層電性連接的第二引線電極。具體的，可向第一通孔及二通孔內填充導電銀漿，並使銀漿固化，以分別形成第一引線電極及第二引線電極。由於第一通孔與第一網格凹槽連通。因此，形成于第一通孔內的第一引線電極與第一導電層電性 連接。同理，第二引線電極與第二導電層也電性連接。

通過第一通孔及第二通孔，第一引線電極及第二引線電極引 至遮光層的表面。當將導電膜100用於製造觸控屏使，第一引線電極及第二引線電極可在遮光層的表面進行佈線，從而與柔性電路板電性連接。而由於第一引線電極及第二引線電極均位於遮光層的表面，故從觸控屏的正面不能觀察到引線的佈線，從而有助於提升產品的外觀。

與傳統的導電膜製造方法相比，通過上述導電膜的製造方法 得到的導電膜的第一導電層及第二導電層分別包覆於第一基質層及第二基質層內。因此，第一基質層和第二基質層可對第一導電層及第二導電層提供保護，從而防止在製造觸控屏時對第一導電層及第二導電層造成刮傷，進而可提高產品的良率。此外，第二基質層的邊緣設有遮光層，第一引線電極及第二引線電極均可引至遮光層的表面。因此，在組裝成觸控屏時，從螢幕正面觀察不到第一引線電極及第二引線電極的佈線，從而可改善產品的外觀。

以上該實施例僅表達了本發明的幾種實施方式，其描述較為 具體和詳細，但並不能因此而理解為對本發明專利範圍的限制。應當指出的是，對於本領域的普通技術人員來說，在不脫離本發明構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬於本發明的保護範圍。因此，本發 明專利的保護範圍應以所附申請專利範圍為準。

110‧‧‧導電膜

120‧‧‧第一基質層

121‧‧‧第一網格凹槽

123‧‧‧空白區域

130‧‧‧第一導電層

140‧‧‧第二基質層

141‧‧‧第二網格凹槽

150‧‧‧第二導電層

160‧‧‧遮光層

170‧‧‧第一引線電極

Claims (10)

1. 一種導電膜，包括：一基底，包括一第一表面及與該第一表面相對設置之一第二表面；一第一基質層，附著於該第一表面，該第一基質層由一膠狀物塗層固化形成，該第一基質層遠離該基底的一側開設有一第一網格凹槽，該第一網格凹槽內填充一導電材料，形成一第一導電層；一第二基質層，附著於該第一基質層上遠離該基底的一側，該第二基質層由一膠狀物塗層固化形成，該第二基質層的長度小於該第一基質層的長度，以使該第一基質層的一端形成未被該第二基質層附著的一空白區域，該第二基質層遠離該第一基質層的一側開設有一第二網格凹槽，該第二網格凹槽內填充一導電材料，形成一第二導電層；及一遮光層，附著於該第二基質層的邊緣及該空白區域，該第二基質層附著該遮光層的區域形成一第二非可視區域，附著該遮光層之該空白區域形成一第一非可視區域，該第一網格凹槽延伸至該第一非可視區域，該第二網格凹槽延伸至該第二非可視區域；該遮光層上開設一第一通孔，該第一通孔貫穿該遮光層及並與該第一網格凹槽連通，該第一通孔內填充一導電材料，以形成與該第一導電層電性連接的一第一引線電極；該遮光層表面還具有一第二引線電極，該第二引線電極與該第二導電層電性連接；在該遮光層上開設一第二通孔，該第二通孔貫穿該遮光層並與該第二網格凹槽連通，該第二通孔內填充一導電材料，並與該第二導電層之該導電材料電性連接。
2. 如請求項1所述的導電膜，其中，該第一導電層的厚度不大於該第一網 格凹槽的深度，該第二導電層的厚度不大於該第二網格凹槽的深度。
3. 如請求項1所述的導電膜，其中，該導電材料為銀。
4. 如請求項1~3任一該的導電膜，其中，該第一網格凹槽及該第二網格凹槽的寬度介於1~5微米，深度介於2~6微米，且深寬比大於1，該第一導電層及該第二導電層的透過率大於85%。
5. 如請求項1所述的導電膜，其中，該遮光層的厚度為1~10微米。
6. 如請求項5所述的導電膜，其中，該遮光層為一油墨層或一黑色光阻層。
7. 如請求項1所述的導電膜，其中，該基底為玻璃。
8. 如請求項1所述的導電膜，其中，該第一網格凹槽及該第二網格凹槽的網格為隨機網格。
9. 一種觸控屏，包括：如上述請求項1~8任一項之該導電膜；顯示模組，通過光學膠貼附於該第二基質層遠離該第一基質層的一側。
10. 一種導電膜的製造方法，包括下列步驟：提供一基底，該基底包括一第一表面及與該第一表面相對設置的一第二表面；在該基底之該第一表面塗覆一膠狀物，並使該膠狀物固化以形成一第一基質層，在該第一基質層上遠離該基底的一側開設一第一網格凹槽；向該第一網格凹槽內填充一導電材料，以形成一第一導電層；在該第一基質層上遠離該基底的一側的中部塗覆一膠狀物，並使該膠狀物固化以形成一第二基質層，該第一基質層的兩端形成未被該第二基質層附著的一空白區域，在該第二基質層上開設一第二網格凹槽； 向該第二網格凹槽中填充一導電材料，以形成一第二導電層；在該第二基質層遠離該第一基質層的一側邊緣及該空白區域塗覆一遮光材料，以形成環形的一遮光層；在該遮光層上開設一第一通孔及一第二通孔，該第一通孔與該第一網格凹槽連通，該第二通孔與該第二網格凹槽連通；該第一通孔及該第二通孔內填充一導電材料，以分別形成與該第一導電層電性連接之一第一引線電極及與該第二導電層電性連接之一第二引線電極。