CN103208326A - 导电膜及其制备方法以及包含该导电膜的触摸屏 - Google Patents

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Abstract

一种导电膜，包括基片、第一基质层、第一导电层、第二基质层、第二导电层、遮光层、第一引线电极及第二引线电极。第一基质层及第二基质层上分别开设有第一网格凹槽及第二网格凹槽，且在第一网格凹槽及第二网格凹槽中填充导电材料以分别形成第一导电层及第二导电层。由于第一导电层及第二导电层分别位于第一网格凹槽及第二网格凹槽内，故第一基质层及第二基质层分别包覆第一导电层及第二导电层。因此，第一基质层和第二基质层可对第一导电层及第二导电层提供保护，从而防止在制造触摸屏时对第一导电层及第二导电层造成刮伤，进而可提高产品的良率。此外，本发明还提供一种导电膜的制备方法及触摸屏。

Description

导电膜及其制备方法以及包含该导电膜的触摸屏
技术领域
本发明涉及电子技术，特别是涉及一种导电膜及其制备方法以及包含该导电膜的触摸屏。
背景技术
在日常生活中，电容式触摸屏已广泛应用于各种电子产品，给人们的生活带来极大方便。随着人们对用户体验的进一步提高，电子产品越来越向轻薄化的方向发展。触摸屏是决定电子设备是否做薄的重要因素。因此，随着对电子产品的轻薄化需要，触摸屏也逐步向轻薄化发展。OGS(One Glass Solution，即一体化触控)是触摸屏向轻薄化发展的重要途径。OGS的主要思路在保护玻璃上直接形成ITO导电膜及传感器，使一块玻璃同时起到保护玻璃和触摸传感器的双重作用。
生产触摸屏时需先制备导电膜，再将显示模组贴附于导电膜上以得到触摸屏。在一般的OGS工艺中，大多是直接在保护玻璃表面形成导电层（一般为ITO层），从而得到用于制备触摸屏的导电膜。故在传统工艺得到的导电膜中，导电层突出于玻璃表面。而由于导电材料，如ITO的质地一般较软，故突出于玻璃表面的导电层容易被划伤。因此，在贴合显示模组时可能会划伤导电层而导致电膜报废传统，进而使得产品良率不高。
发明内容
基于此，有必要提供一种可提高产品良率的导电膜及其制备方法以及包含该导电膜的触摸屏。
一种导电膜，包括：
基片，包括第一表面及与所述第一表面相对设置的第二表面；
第一基质层，附着于所述第一表面，所述第一基质层由胶状物涂层固化形成，所述第一基质层远离所述基片的一侧开设有第一网格凹槽，所述第一网格凹槽内填充导电材料，形成第一导电层；
第二基质层，附着于所述第一基质层上远离所述基片的一侧，所述第二基质层由胶状物涂层固化形成，所述第二基质层的长度小于所述第一基质层的长度，以使所述第一基质层的一端形成未被所述第二基质层附着的空白区域，所述第二基质层远离所述第一基质层的一侧开设有第二网格凹槽，所述第二网格凹槽内填充导电材料，形成第二导电层；及
遮光层，附着于所述第二基质层的边缘及所述空白区域，所述第二基质层附着所述遮光层的区域形成第二非可视区域，附着所述遮光层的空白区域形成第一非可视区域，所述第一网格凹槽延伸至所述第一非可视区域，所述第二网格凹槽延伸至所述第二非可视区域；
所述遮光层上开设第一通孔，所述第一通孔贯穿所述遮光层及并与所述第一网格凹槽连通，所述第一通孔内填充导电材料，以形成与所述第一导电层电连接的第一引线电极；所述遮光层表面还具有第二引线电极，所述第二引线电极与所述第二导电层电连接。
在其中一个实施例中，所述第二引线电极通过蚀刻方式形成引线，且使所述引线导电材料与所述第二导电层的导电材料电连接；或在所述遮光层上开设第二通孔，所述第二通孔贯穿所述遮光层并与所述第二网格凹槽连通，所述第二通孔内填充导电材料，并与所述第二导电层的导电材料电连接。
在其中一个实施例中，所述第一导电层的厚度不大于所述第一网格凹槽的深度，所述第二导电层的厚度不大于所述第二网格凹槽的深度。
在其中一个实施例中，所述导电材料为银。
在其中一个实施例中，所述第一网格凹槽及所述第二网格凹槽的宽度介于1～5微米，深度介于2～6微米，且深宽比大于1，所述第一导电层及所述第二导电层的透过率大于85%。
在其中一个实施例中，所述遮光层的厚度为1～10微米。
在其中一个实施例中，为油墨层或黑色光阻层。
在其中一个实施例中，所述基片为玻璃。
在其中一个实施例中，所述第一网格凹槽及所述第二网格凹槽的网格为随机网格。
一种触摸屏，包括：
如上述优选实施例中任一项所述的导电膜；
显示模组，通过光学胶贴附于所述第二基质层远离所述第一基质层的一侧。
一种导电膜的制备方法，包括以下步骤：
提供一基片，所述基片包括第一表面及与所述第一表面相对设置的第二表面；
在所述基片的第一表面涂覆胶状物，并使所述胶状物固化以形成第一基质层，在所述第一基质层上远离所述基片的一侧开设第一网格凹槽；
向所述第一网格凹槽内填充导电材料，以形成第一导电层；
在所述第一基质层上远离所述基片的一侧的中部涂覆胶状物，并使所述胶状物固化以形成第二基质层，所述第一基质层的两端形成未被所述第二基质层附着的空白区域，在所述第二基质层上开设第二网格凹槽；
向所述第二网格凹槽中填充导电材料，以形成第二导电层；
在所述第二基质层远离所述第一基质层的一侧边缘及所述空白区域涂覆遮光材料，以形成环形的遮光层；
在所述遮光层上开设第一通孔及第二通孔，所述第一通孔与所述第一网格凹槽连通，所述第二通孔与所述第二网格凹槽连通；
所述第一通孔及所述第二通孔内填充导电材料，以分别形成与所述第一导电层电连接的第一引线电极及与所述第二导电层点电连接的第二引线电极。
与传统的导电膜相比，上述导电膜具有至少如下优点：
1、由于第一导电层及第二导电层分别位于第一网格凹槽及第二网格凹槽内，第一导电层及第二导电层分别被第一基质层及第二基质层包覆。因此，第一基质层和第二基质层可对第一导电层及第二导电层提供保护，从而防止在制造触摸屏时对第一导电层及第二导电层造成刮伤，进而可提高产品的良率；
2、基片的边缘设有遮光层，第一引线电极及第二引线电极可设置于由遮光层投影形成的第一非可视区域及第二非可视区域内。因此，在组装成触摸屏时，从屏幕正面观察不到第一引线电极及第二引线电极的布线，从而可改善产品的外观。
附图说明
图1为本发明较佳实施例中触摸屏的层状结构示意图；
图2图1所示触摸屏中导电膜的纵向界面示意图；
图3为图2所示导电膜的横向界面示意图；
图4为图2所示导电膜立体结构图；
图5为图2所示导电膜中第一导电层及第二导电层的网格形状示意图；
图6为另一实施例中第一导电层及第二导电层的网格形状示意图；
图7为一个实施例中导电膜的制备方法的流程示意图。
具体实施方式
为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及／或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
请参阅图1，本发明较佳实施例中的触摸屏10包括导电膜100及显示模组200。其中，显示模组200通过光学胶贴附于导电膜100上。
请一并参阅2、及图3及图4，导电膜100包括基片110、第一基质层120、第一导电层130、第二基质层140、第二导电层150、遮光层160、第一引线电极170、及第二引线电极180。
基片110为板状结构，包括第一表面（图未标）及第二表面（图未标），其中第一表面与第二表面相对设置。在本实施例中，基片110为玻璃基片，且用于制造基片110的玻璃经过强化处理，故得到基片110强度高，可很好的起到保护作用。需要指出的是，在其他的实施例中，基片110还可为其他材质的薄膜，如聚对苯二甲酸丁二酯（PBT）、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）、聚碳酸酯塑料（PC）以及对苯二甲酸乙二酯（PET）薄膜等。当导电膜100应用于触摸屏制备时，制备基片110的材料优选为透明绝缘材料。
第一基质层120附着于基片110的第一表面。第一基质层120由涂覆于基片110上的胶状物固化形成，因此，其厚度小于基片110的厚度。此外，第一基质层120由透明绝缘材料制成，且该材料异于基片110的材料。
此外，第一基质层120远离基片110的一侧开设有第一网格凹槽121。导电材料填充于第一网格凹槽121内，以形成第一导电层130。由于第一导电层130位于第一网格凹槽121内，故第一基质层120可包覆第一导电层130。因此，第一基质层120可对第一导电层130形成保护，从而防止该第一导电层130在后续的贴合程序中被刮伤。
具体的，导电材料填充于第一网格凹槽121以形成第一导电层130，第一导电层130为由导电细线交叉构成的导电网格。由于ITO在做大尺寸的导电膜时电阻比较大，故传统的利用包含ITO导电层的导电膜所制备的触摸屏的灵敏度不好。而网格状的结构可有效的减小电阻，从而使第一导电层130的电阻较小，进而可提高产品的灵敏度。
第二基质层140附着于第一基质层120上远离基片110的一侧。第二基质层140由涂覆于第一基质层120上的胶状物固化形成，其厚度小于基片110的厚度。其中，第二基质层140的长度小于第一基质层120的长度（图4中a为第一基质层的长度，b为第二基质层的长度）。而且，第二基质层140的一端第一基质层120的一端对齐，以使第一基质层120的一端形成未被第二基质层140附着的空白区域123。具体的，第二基质层140远离第一基质层120的一侧与显示模组200贴合，以使显示模组200贴附于导电膜100上。
此外，第二基质层140远离第一基质层120的一侧开设有第二网格凹槽141。导电材料填充于第二网格凹槽141内，以形成第二导电层150。由于第二导电层150位于第二网格凹槽141内，故第二基质层140可包覆第二导电层150。因此，第二基质层140对第二导电层150形成保护，防止该第二导电层150在后续贴合程序中被刮伤。
具体的，导电材料填充于第二网格凹槽141以形成第二导电层150，第二导电层150为由导电细线交叉构成的导电网格。由于ITO在做大尺寸的导电膜时电阻比较大，故传统的利用ITO导电层的导电膜所制备的触摸屏的灵敏度不好。而网格状的结构可有效的减小电阻，从而使第二导电层150的电阻较小，进而提高产品的灵敏度。
遮光层160附着于第二基质层140的边缘以及空白区域123。遮光层160由涂覆于第二基质层140表面边缘及空白区域123的遮光材料形成，所形成的遮光层160为环形层状结构。遮光层160由不透光的材料制成，故可在第一基质层120及第二基质层140的边缘形成阴影。第二基质层140附着遮光层160的区域形成第二非可视区域（图未标），空白区域123附着遮光层160，从而形成第一非可视区域（图未示）。其中，第一网格凹槽121延伸至第一非可视区域，第二网格凹槽141延伸至第二非可视区域。
在本实施例中，遮光层160为油墨层或黑色光阻层，其厚度介于1～10微米。遮光层160为油墨层时，遮光层160的厚度可为6微米，而遮光层160为黑色光阻层时，遮光层160的厚度可为1微米，从而达到更薄的厚度。
遮光层160上开设有第一通孔（图未示）。第一通孔贯穿遮光层160并与第一网格凹槽121连通。
第一通孔内填充导电材料，形成第一引线电极170。由于第一通孔与第一网格凹槽131连通。因此，可使第一通孔内形成的第一引线电极170与第一导电层130电连接。第一引线电极170将第一导电层130引到遮光层160的表面，从而便于第一导电层130与电子设备的控制器电连接。
第二引线电极180形成于遮光层160的表面，第二引线电极180与第二导电层电连接150。
在本实施例中，第二引线电极180通过蚀刻方式形成引线，且使该引线导电材料与第二导电层150的导电材料电连接。此外，在其他实施例中，还可在遮光层上开设第二通孔（图未示），第二通孔贯穿遮光层160并与第二网格凹槽141连通。第二通孔内填充导电材料，以形成第二引线电极180。由于第二通孔与第二网格凹槽141连通。因此，可使第二通孔内形成的第二引线电极180与第二导电层150电连接。所述第二导电层点电连接的第二引线电极。第二引线电极180将第二导电层150引到遮光层160的表面，从而便于第二导电层150与电子设备的控制器电连接。
导电膜100用于制备电子设备的触摸屏时，第一引线电极170及第二引线电极用于将第一导电层130及第二导电层150与电子设备的控制器电连接，从而使控制器感测到触摸屏上的操作。由于第一引线电极170及第二引线电极180均位于遮光层160的表面。因此，在制备的电子设备上观测不到第一引线电极170及第二引线电极180的布线，从而有助于提升产品外观。
在本实施例中，形成第一导电层130、第二导电层150、第一引线电极170及第二引线电极180的导电材料为银。银为良导体，电阻率小，从而可进一步提高产品的灵敏度。需要指出的是，在其他实施例中，导线材料还可为高分子导电材料、石墨烯、碳纳米管以及氧化铟锡（ITO）等。
请一并参阅图5，在本实施例中，第一网格凹槽121及第二网格凹槽141的网格为随机网格。因此，形成的第一导电层130及第二导电层150的网格形状也为随机网格。由于随机网格的中心随机分布，从而使得第一导电层130与第二导电层150之间不会产生干涉现象，进而避免产生莫尔条纹，提升包含导电膜100的显示屏的显示效果。需要指出的是，如图6所示，在其他实施例中，第一网格凹槽121及第二网格凹槽141的网格形状还可为正多边形，而第一导电层130与第二导电层150的网格中心错开，以避免产生莫尔条纹。
在本实施例中，第一导电层130的厚度不大于第一网格凹槽121的深度，第二导电层150的厚度不大于第二网格凹槽141的深度。因此，第一导电层130与第二导电层150可通过第一基质层120及第二基质层140绝缘，从而在第一导电层130与第二导电层150之间形成电容结构。需要指出的是，在其他实施例中，还可通过在第一基质层120与第二基质层140铺设绝缘层的方式使第一导电层130与第二导电层150绝缘。
在本实施例中，第一网格凹槽121及第二网格凹槽141的宽度介于1～5微米，高度介于2～6微米，且深宽比大于1。因此，形成的第一导电层130及第二导电层150的透过率大于85%，光线从导电层穿过使不会有太多损耗，从而可使包含导电膜100的显示屏具有更佳的显示效果。
与传统的导电膜相比，导电膜100具有至少如下优点：
1、由于第一导电层130及第二导电层150分别位于第一网格凹槽121及第二网格凹槽141内，第一导电层130及第二导电层150分别被第一基质层120及第二基质层140包覆。因此，第一基质层120和第二基质层140可对第一导电层130及第二导电层150提供保护，从而防止在制造触摸屏时对第一导电层130及第二导电层150造成刮伤，进而可提高产品的良率；
2、基片110的边缘设有遮光层160，第一引线电极170及第二引线电极180可设置于由遮光层160投影形成的第一非可视区域及第二非可视区域内。因此，在组装成触摸屏10时，从屏幕正面观察不到第一引线电极170及第二引线电极180的布线，从而可改善产品的外观。
此外，本发明还提供一种导电膜的制备方法。
请参阅图7，在一个实施例中，导电膜的制备方法包括步骤S110～S180：
步骤S110，提供一基片，基片包括第一表面及与第一表面相对设置的第二表面。
本实施例中，基片的材质为玻璃。而且，玻璃经过强化处理，使得基片能很好的起到保护作用。需要指出的是，在其他的实施例中，基片还可为其他材质，如聚对苯二甲酸丁二酯（PBT）、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）、聚碳酸酯塑料（PC）以及对苯二甲酸乙二酯（PET）等。
步骤S120，在基片的第一表面涂覆胶状物，并使胶状物固化以形成第一基质层，在第一基质层上远离基片的一侧开设第一网格凹槽。
具体的，形成的第一基质层附着于基片的第一表面。进一步的，在本实施例中，可采用压印的方式在第一基质层远离基片的一侧形成第一网格凹槽，且第一网格凹槽的深度小于第一基质层的厚度。
步骤S130，向第一网格凹槽内填充导电材料，以形成第一导电层。
在本实施例中，导电材料形成在第一网格凹槽内形成相互交错的导电细线，该导电细线组成导电网格。具体地，可先向第一网格凹槽中填充导电银浆，再使导电银浆烧结固化，形成导电网格。
进一步的，第一导电层的厚度小于第一网格凹槽的深度。因此，第一导电层包覆于第一基质层内，第一基质层可对第一导电层起到保护作用，从而可避免第一导电层在后续的贴合过程中被划伤。
步骤S140，在第一基质层上远离基片的一侧的中部涂覆胶状物，并使胶状物固化以形成第二基质层，第一基质层的两端形成未被第二基质层附着的空白区域，在第二基质层上开设第二网格凹槽。
具体的，形成第二基质层的材料与形成第一基质层的材料相同。在第一基质层的表面并未完全进行涂覆，胶状物从第一基质层的中部向两端延伸，并在第一基质层的两端形成未涂覆胶状物的空白区域。进一步的，在本实施例中，可采用压印的方式在第二基质层远离第一基质层的一侧形成第二网格凹槽，且第二凹槽的深度小于第二基质层的厚度。
步骤S150，向第二网格凹槽中填充导电材料，以形成第二导电层。
在本实施例中，导电材料形成在第二网格凹槽内形成相互交错的金属导电细线，该金属导电细线组成导电网格。具体地，可先向第一网格凹槽中填充导电银浆，再使导电银浆烧结固化，形成导电网格。
步骤S160，在第二基质层远离所述第一基质层的一侧边缘及空白区域涂覆遮光材料，以形成环形的遮光层。
具体的，遮光层由不透光的材料制成，故可在第一基质层及第二基质层的边缘形成阴影。在第一基质层上附着遮光层的区域（即空白区域）形成第一非可视区域，而第二基质层上附着遮光层的区域形成第二非可视区域。在本实施例中，形成遮光层的材料可为油墨或黑色光阻，其厚度介于1～10微米。当采用油墨形成遮光层时，遮光层的厚度可为6微米，而当采用黑色光阻形成遮光层时，遮光层的厚度可为1微米。因此，采用黑色光阻形成遮光层能进一步降低导电膜的厚度。
步骤S170，在遮光层上开设第一通孔及第二通孔，第一通孔与第一网格凹槽连通，第二通孔与第二网格凹槽连通。
具体的，可通过曝光显影方法在遮光层上形成第一通孔及第二通孔。其中，第一通孔贯穿遮光层而与第一网格凹槽连通。第二通孔贯穿遮光层与第二网格凹槽连通。
步骤S180，向第一通孔及二通孔内填充导电材料，以分别形成与第一导电层电连接的第一引线电极及与第二导电层点电连接的第二引线电极。
具体的，可向第一通孔及二通孔内填充导电银浆，并使银浆固化，以分别形成第一引线电极及第二引线电极。由于第一通孔与第一网格凹槽连通。因此，形成于第一通孔内的第一引线电极与第一导电层电连接。同理，第二引线电极与第二导电层也电连接。
通过第一通孔及第二通孔，第一引线电极及第二引线电极引至遮光层的表面。当将导电膜100用于制备触摸屏使，第一引线电极及第二引线电极可在遮光层的表面进行布线，从而与柔性电路板电连接。而由于第一引线电极及第二引线电极均位于遮光层的表面，故从触摸屏的正面不能观察到引线的布线，从而有助于提升产品的外观。
与传统的导电膜制备方法相比，通过上述导电膜的制备方法得到的导电膜的第一导电层及第二导电层分别包覆于第一基质层及第二基质层内。因此，第一基质层和第二基质层可对第一导电层及第二导电层提供保护，从而防止在制造触摸屏时对第一导电层及第二导电层造成刮伤，进而可提高产品的良率。此外，第二基质层的边缘设有遮光层，第一引线电极及第二引线电极均可引至遮光层的表面。因此，在组装成触摸屏时，从屏幕正面观察不到第一引线电极及第二引线电极的布线，从而可改善产品的外观。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (11)

1.一种导电膜，其特征在于，包括：
基片，包括第一表面及与所述第一表面相对设置的第二表面；
第一基质层，附着于所述第一表面，所述第一基质层由胶状物涂层固化形成，所述第一基质层远离所述基片的一侧开设有第一网格凹槽，所述第一网格凹槽内填充导电材料，形成第一导电层；
第二基质层，附着于所述第一基质层上远离所述基片的一侧，所述第二基质层由胶状物涂层固化形成，所述第二基质层的长度小于所述第一基质层的长度，以使所述第一基质层的一端形成未被所述第二基质层附着的空白区域，所述第二基质层远离所述第一基质层的一侧开设有第二网格凹槽，所述第二网格凹槽内填充导电材料，形成第二导电层；及
遮光层，附着于所述第二基质层的边缘及所述空白区域，所述第二基质层附着所述遮光层的区域形成第二非可视区域，附着所述遮光层的空白区域形成第一非可视区域，所述第一网格凹槽延伸至所述第一非可视区域，所述第二网格凹槽延伸至所述第二非可视区域；
所述遮光层上开设第一通孔，所述第一通孔贯穿所述遮光层及并与所述第一网格凹槽连通，所述第一通孔内填充导电材料，以形成与所述第一导电层电连接的第一引线电极；所述遮光层表面还具有第二引线电极，所述第二引线电极与所述第二导电层电连接。
2.根据权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述第二引线电极通过蚀刻方式形成引线，且使所述引线导电材料与所述第二导电层的导电材料电连接；或在所述遮光层上开设第二通孔，所述第二通孔贯穿所述遮光层并与所述第二网格凹槽连通，所述第二通孔内填充导电材料，并与所述第二导电层的导电材料电连接。
3.根据权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述第一导电层的厚度不大于所述第一网格凹槽的深度，所述第二导电层的厚度不大于所述第二网格凹槽的深度。
4.根据权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述导电材料为银。
5.根据权利要求1～4任一所述的导电膜，其特征在于，所述第一网格凹槽及所述第二网格凹槽的宽度介于1～5微米，深度介于2～6微米，且深宽比大于1，所述第一导电层及所述第二导电层的透过率大于85%。
6.根据权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述遮光层的厚度为1～10微米。
7.根据权利要求6所述的导电膜，其特征在于，为油墨层或黑色光阻层。
8.根据权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述基片为玻璃。
9.根据权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述第一网格凹槽及所述第二网格凹槽的网格为随机网格。
10.一种触摸屏，其特征在于，包括：
如上述权利要求1～9任一项所述的导电膜；
显示模组，通过光学胶贴附于所述第二基质层远离所述第一基质层的一侧。
11.一种导电膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供一基片，所述基片包括第一表面及与所述第一表面相对设置的第二表面；
在所述基片的第一表面涂覆胶状物，并使所述胶状物固化以形成第一基质层，在所述第一基质层上远离所述基片的一侧开设第一网格凹槽；
向所述第一网格凹槽内填充导电材料，以形成第一导电层；
在所述第一基质层上远离所述基片的一侧的中部涂覆胶状物，并使所述胶状物固化以形成第二基质层，所述第一基质层的两端形成未被所述第二基质层附着的空白区域，在所述第二基质层上开设第二网格凹槽；
向所述第二网格凹槽中填充导电材料，以形成第二导电层；
在所述第二基质层远离所述第一基质层的一侧边缘及所述空白区域涂覆遮光材料，以形成环形的遮光层；
在所述遮光层上开设第一通孔及第二通孔，所述第一通孔与所述第一网格凹槽连通，所述第二通孔与所述第二网格凹槽连通；
所述第一通孔及所述第二通孔内填充导电材料，以分别形成与所述第一导电层电连接的第一引线电极及与所述第二导电层点电连接的第二引线电极。
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US13/968,340 US9089061B2 (en) 2013-03-30 2013-08-15 Conductive film, method for making the same, and touch screen including the same
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107870688A (zh) * 2016-09-23 2018-04-03 现代自动车株式会社 触摸输入装置及其制造方法
CN110032285A (zh) * 2018-01-11 2019-07-19 南昌欧菲显示科技有限公司 触控模组及其制造方法
CN110032284A (zh) * 2018-01-11 2019-07-19 南昌欧菲显示科技有限公司 触控模组及其制造方法
CN110544552A (zh) * 2018-05-29 2019-12-06 昇印光电（昆山）股份有限公司 一种导电膜
WO2021047009A1 (zh) * 2019-09-09 2021-03-18 苏州维业达触控科技有限公司 多层导电膜及其制作方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9089061B2 (en) 2013-03-30 2015-07-21 Shenzhen O-Film Tech Co., Ltd. Conductive film, method for making the same, and touch screen including the same

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59141116A (ja) * 1983-02-01 1984-08-13 アルプス電気株式会社 電極の製造方法
TW201207524A (en) * 2010-07-30 2012-02-16 Iljin Display Co Ltd Electrode line structure and capacitive touch sensor using same
CN102449582A (zh) * 2009-05-28 2012-05-09 凸版印刷株式会社 静电容量方式输入装置
CN102707522A (zh) * 2011-03-28 2012-10-03 海蒂斯技术有限公司 触摸传感器内置型的液晶显示装置及其制造方法
CN102903423A (zh) * 2012-10-25 2013-01-30 南昌欧菲光科技有限公司 透明导电膜中的导电结构、透明导电膜及制作方法
CN203179572U (zh) * 2013-03-30 2013-09-04 深圳欧菲光科技股份有限公司 导电膜以及包含该导电膜的触摸屏

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009205379A (ja) * 2008-02-27 2009-09-10 Seiko Instruments Inc タッチパネル付き表示装置
CN107272978B (zh) * 2008-02-28 2020-09-15 3M创新有限公司 触屏传感器
JP5113773B2 (ja) * 2009-01-20 2013-01-09 株式会社ジャパンディスプレイイースト 表示装置
JP2011186717A (ja) * 2010-03-08 2011-09-22 Daiwa Sangyo:Kk 静電容量型タッチパネルとその製造方法
US20140191771A1 (en) * 2010-06-16 2014-07-10 Samwon St Touch panel sensor
KR101380102B1 (ko) * 2010-10-19 2014-04-02 주식회사 엘지화학 도전성 패턴을 포함하는 터치패널 및 이의 제조방법
JP2012138017A (ja) * 2010-12-27 2012-07-19 Dainippon Printing Co Ltd タッチパネル、及びこのタッチパネルを備えた表示装置
KR101907484B1 (ko) * 2011-07-21 2018-12-05 미래나노텍(주) 터치 스크린 패널 제조 장치 및 제조 방법
CN102929454A (zh) * 2011-08-12 2013-02-13 宸鸿科技(厦门)有限公司 电容式触控面板及降低其金属导体可见度的方法
CN103197784B (zh) * 2012-01-06 2016-05-25 宸鸿科技(厦门)有限公司 触控面板及其制作方法
CN102830851B (zh) * 2012-09-25 2015-05-13 信利光电股份有限公司 触摸屏及其制作方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59141116A (ja) * 1983-02-01 1984-08-13 アルプス電気株式会社 電極の製造方法
CN102449582A (zh) * 2009-05-28 2012-05-09 凸版印刷株式会社 静电容量方式输入装置
TW201207524A (en) * 2010-07-30 2012-02-16 Iljin Display Co Ltd Electrode line structure and capacitive touch sensor using same
CN102707522A (zh) * 2011-03-28 2012-10-03 海蒂斯技术有限公司 触摸传感器内置型的液晶显示装置及其制造方法
CN102903423A (zh) * 2012-10-25 2013-01-30 南昌欧菲光科技有限公司 透明导电膜中的导电结构、透明导电膜及制作方法
CN203179572U (zh) * 2013-03-30 2013-09-04 深圳欧菲光科技股份有限公司 导电膜以及包含该导电膜的触摸屏

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107870688A (zh) * 2016-09-23 2018-04-03 现代自动车株式会社 触摸输入装置及其制造方法
CN107870688B (zh) * 2016-09-23 2021-09-28 现代自动车株式会社 触摸输入装置及其制造方法
US11294520B2 (en) 2016-09-23 2022-04-05 Hyundai Motor Company Touch input device and manufacturing method thereof
CN110032285A (zh) * 2018-01-11 2019-07-19 南昌欧菲显示科技有限公司 触控模组及其制造方法
CN110032284A (zh) * 2018-01-11 2019-07-19 南昌欧菲显示科技有限公司 触控模组及其制造方法
CN110544552A (zh) * 2018-05-29 2019-12-06 昇印光电（昆山）股份有限公司 一种导电膜
CN110544552B (zh) * 2018-05-29 2022-10-04 昇印光电（昆山）股份有限公司 一种导电膜
WO2021047009A1 (zh) * 2019-09-09 2021-03-18 苏州维业达触控科技有限公司 多层导电膜及其制作方法

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